JP2006075357A - Athlete's foot treating apparatus - Google Patents
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Abstract
Description
本発明は、水虫を治療するのに好適な水虫の治療装置に関する。 The present invention relates to a athlete's foot treatment apparatus suitable for treating athlete's foot.
従来から水虫の治療方法は種々知られているが、一般的な方法は薬物を患部に塗布したり、抗生物質を服用する等の化学的な療法が大部分である。
また、炭酸ガスレーザやＹＡＧレーザを患部に照射して水虫を、代表的には白癬菌を加熱殺菌する方法（特許文献１）や、患部を湯や赤外線ランプで熱する等の方法（特許文献２）も知られている。
Further, the affected part is irradiated with a carbon dioxide laser or a YAG laser to sterilize athlete's foot, typically ringworm bacteria (Patent Document 1), or the affected part is heated with hot water or an infrared lamp (
薬物を患部に塗布する方法は即効性が無く、また抗生物質を服用する方法では副作用が懸念される。
特に爪の内部に白癬菌が感染する爪白癬の場合には、薬物をその患部に塗布することができなかった。すなわち、爪は皮膚が変化して硬くなった皮膚の一部で、ケラチンという物質からできており、表面側の「爪甲」とその裏側にあって皮膚との境界となる「爪床」とから構成されている。そして白癬菌は、先ず爪の裏側の「爪床」に寄生し、そこから「爪甲」側に移ることが知られている。したがって、「爪床」に寄生している白癬菌については、薬物が爪を浸透できず薬物を直接作用させることはできなかった。また抗生物質を服用する方法では、特に爪白癬では長期間の服用を余儀なくされるので、副作用の懸念が増大していた。
他方、炭酸ガスレーザやＹＡＧレーザを用いたり、湯や赤外線ランプで熱する加熱方法では、皮膚の表面からその内部に向けて加熱する必要があるため、効率が悪く、患者に苦痛を与える危険性が高い。特に爪白癬の場合には、爪の内部ないし裏側を直接加熱することができないため、爪の表面より内部に向けて加熱する必要があり、患者に苦痛を与える危険性が高くなるとともに、爪の表面にダメージを与える結果となっていた。
本発明はこのような問題に鑑み、従来の加熱方法に比較してより直接的に白癬菌を加熱して殺菌することにより、患者への苦痛を低減することが可能な水虫の治療装置を提供するものである。
The method of applying the drug to the affected area has no immediate effect, and the method of taking antibiotics has a side effect.
In particular, in the case of onychomycosis, which is infected with ringworm bacteria inside the nail, the drug could not be applied to the affected area. In other words, the nail is a part of the skin that has become harder due to changes in the skin, and is made of a substance called keratin. The nail plate on the front side and the nail bed on the back side, which is the boundary between the skin and It is composed of It is known that ringworm bacteria first infest the “nail bed” on the back side of the nail and then move to the “nail plate” side. Therefore, for ringworm fungus parasitic on the “nail bed”, the drug could not penetrate the nail and the drug could not act directly. Moreover, in the method of taking antibiotics, especially for onychomycosis, since it is forced to take a long period of time, the concern about side effects has increased.
On the other hand, a heating method using a carbon dioxide laser or a YAG laser, or heated with hot water or an infrared lamp, requires heating from the surface of the skin toward the inside, so that the efficiency is low and there is a risk of causing pain to the patient. high. In particular, in the case of onychomycosis, the inside or back side of the nail cannot be directly heated, so it is necessary to heat the nail from the surface of the nail toward the inside, which increases the risk of causing pain to the patient, The result was damage to the surface.
In view of such problems, the present invention provides an athlete's foot treatment apparatus capable of reducing pain to patients by heating and sterilizing ringworm bacteria more directly than conventional heating methods. To do.
すなわち請求項１の発明は、ギガヘルツ帯電磁波を発振する電磁波発振器と、上記ギガヘルツ帯電磁波を出射する出射部とを備え、該出射部を患部に向けてギガヘルツ帯電磁波を照射し、角質層内の白癬菌を加熱殺菌することを特徴とする水虫の治療装置を提供するものである。
また請求項２の発明は、ギガヘルツ帯電磁波を発振する電磁波発振器と、上記ギガヘルツ帯電磁波を出射する出射部とを備え、該出射部を爪に向けてギガヘルツ帯電磁波を照射し、爪の内部および裏側の白癬菌を加熱殺菌することを特徴とする水虫の治療装置を提供するものである。
さらに請求項３の発明は、ギガヘルツ帯電磁波を連続して放射する電磁波発振器と、上記ギガヘルツ帯電磁波をパルス状に変換するパルス化手段とを備え、患部にギガヘルツ帯電磁波をパルス照射して白癬菌を加熱殺菌することを特徴とする水虫の治療装置を提供するものである。
That is, the invention of claim 1 includes an electromagnetic wave oscillator that oscillates a gigahertz band electromagnetic wave, and an emission part that emits the gigahertz band electromagnetic wave, irradiates the gigahertz band electromagnetic wave toward the affected part, The present invention provides an athlete's foot treatment apparatus characterized by heat-sterilizing ringworm.
The invention of
Further, the invention of claim 3 comprises an electromagnetic wave oscillator that continuously emits a gigahertz band electromagnetic wave and a pulsing means that converts the gigahertz band electromagnetic wave into a pulse shape, and irradiates the affected area with pulses of the gigahertz band electromagnetic wave. An apparatus for treating athlete's foot, which is characterized by heat sterilization.
請求項１の発明によれば、電磁波発振器によって発振されたギガヘルツ帯電磁波は、これを出射する出射部から患部に向けて照射されるようになり、それによって角質層内の白癬菌を加熱殺菌することができる。特に、ギガヘルツ帯電磁波は皮膚に含まれる水分に吸収されてこれを加熱するので、皮膚の表面からその内部に向けて加熱していた従来方法に比較して、患者への苦痛を低減しながら白癬菌を効果的に加熱殺菌することが可能となる。
また請求項２の発明によれば、電磁波発振器によって発振されたギガヘルツ帯電磁波は、これを出射する出射部から爪に向けて照射されるようになり、それによって爪の内部および裏側の白癬菌を加熱殺菌することができる。特に、ギガヘルツ帯電磁波は爪に含まれる１０％前後の水分に吸収されて該爪自体を加熱するとともに、上記ギガヘルツ帯電磁波の一部は爪を透過してその裏側に到達することができるので、その部位の水分を加熱して爪の内部および裏側の白癬菌を良好に加熱殺菌することができる。
さらに請求項３の発明によれば、電磁波発振器から連続して放射されたギガヘルツ帯電磁波をパルス化手段によってパルス状に変換し、これを患部にパルス照射することができるので、患部の皮膚の厚みなどの条件に応じてギガヘルツ帯電磁波の照射量を、したがって患部の加熱量を調整することが容易となり、これによって患者の苦痛をより低減することが可能となる。
According to the first aspect of the present invention, the gigahertz band electromagnetic wave oscillated by the electromagnetic wave oscillator is irradiated from the emitting part that emits the electromagnetic wave toward the affected part, thereby heat-sterilizing the ringworm bacteria in the stratum corneum. be able to. In particular, gigahertz electromagnetic waves are absorbed by the moisture contained in the skin and heat it, so ringworm while reducing pain to the patient compared to conventional methods that heat from the surface of the skin toward the inside. It becomes possible to heat-sterilize bacteria effectively.
Further, according to the invention of
Furthermore, according to the invention of claim 3, since the gigahertz band electromagnetic wave continuously emitted from the electromagnetic wave oscillator is converted into a pulse shape by the pulsing means, and this can be pulsed to the affected area, the thickness of the skin of the affected area It becomes easy to adjust the irradiation amount of the gigahertz band electromagnetic wave, and thus the heating amount of the affected part, depending on the conditions such as the above, thereby making it possible to further reduce the patient's pain.
以下図示実施例について本発明を説明すると、図１において、１はギガヘルツ帯の電磁波を発振する電磁波発振器としてのミリ波発振器で、従来公知のようにクライストロン管や進行波管等の電子管や、ＭＥＳ ＦＥＴ（Ｍｅｔａｌ ｓｅｍｉｃｏｎｄｏｃｔｏｒ ＦＥＴ）やＨＥＭＴ（Ｈｉｇｈ Ｅｌｅｃｔｒｏｎ Ｍｏｂｉｌｉｔｙ Ｔｒａｎｓｉｓｔｏｒ）等の半導体を用いて構成されている。図示実施例のミリ波発振器１は、半導体を用いることにより小型に構成されている。
上記ミリ波発振器１は、厳密に言えば波長が１〜１０ｍｍの範囲となる３３０〜３３ＧＨｚの電波を発振することができるようになっているものであるが、一般的にはその範囲の波長に限定されているものではなく、その範囲を若干超えるものまでミリ波発振器の範囲に含められている。
The present invention will be described below with reference to the illustrated embodiment. In FIG. 1, reference numeral 1 denotes a millimeter wave oscillator as an electromagnetic wave oscillator that oscillates an electromagnetic wave in the gigahertz band, as conventionally known, an electron tube such as a klystron tube or a traveling wave tube; It is configured using a semiconductor such as a FET (Metal Semiconductor FET) or a HEMT (High Electron Mobility Transistor). The millimeter wave oscillator 1 of the illustrated embodiment is configured to be small by using a semiconductor.
Strictly speaking, the millimeter wave oscillator 1 is capable of oscillating radio waves of 330 to 33 GHz whose wavelength is in the range of 1 to 10 mm. The range of millimeter wave oscillators is not limited and is slightly beyond that range.
上記ミリ波発振器１は制御装置２から電力が供給されるとともに該制御装置２によってその発振のＯＮ／ＯＦＦが制御されるようになっている。上記ミリ波発振器１は断面矩形の導波管３を一体的に備えており、上記制御装置２に電源をＯＮ／ＯＦＦするパワースイッチが設けられ、また導波管３に押しボタン式の発振スイッチＳＷが設けられている。
上記発振スイッチＳＷの信号は制御装置２に入力され、この制御装置２の上記パワースイッチがＯＮとなっている状態で発振スイッチＳＷが押された際に、上記制御装置２を介してミリ波発振器１を発振させることができるようになっている。そしてミリ波発振器１によって発振されたミリ波は該ミリ波発振器１に設けた矩形の発振口１ａから導波管３内の一端に放射され、この導波管３によってガイドされるとともにその他端の出射部３ａから水虫の患部４に、すなわち白癬菌が存在する部位に照射されるようになっている。
図示実施例では、患部４は爪４ａの内部に白癬菌が感染する爪白癬であり、したがって導波管３からのミリ波は、爪４ａの内部の白癬菌を加熱殺菌する目的で、該爪４ａに向けて照射されるようになっている。
上記導波管３の内部にはミリ波の拡散を防止する光学部材として１枚又は複数枚のレンズ５を設けてあり、このレンズ５により光の性質を有するミリ波が拡散するのを防止して、例えば直径１０ｍｍ程度の範囲で患部４に照射することができるようにしてある。
The millimeter-wave oscillator 1 is supplied with electric power from the
The signal of the oscillation switch SW is input to the
In the illustrated embodiment, the affected part 4 is nail ringworm in which the inside of the
The waveguide 3 is provided with one or a plurality of lenses 5 as an optical member for preventing the diffusion of millimeter waves. This lens 5 prevents the millimeter waves having the property of light from diffusing. For example, the affected part 4 can be irradiated within a range of about 10 mm in diameter.
本実施例では、上記ミリ波発振器１と導波管３との間に、ミリ波の出力状態を検出するモニタ手段６を設けてある。すなわち本実施例では、上記ミリ波発振器１と導波管３とはモニタ手段６を介して相互に一体的に連結されており、治療者がこれを手に容易に保持することができるようにコンパクトな可般型に構成してある。しかしながらこれに限定されるものではなく、据え置き型として出射部３ａに患部４を近づけるようにしてもよいことは勿論である。
上記モニタ手段６としては、例えば従来公知の六面体からなるサーキュレータとパワーメータ７とを用いることができ、このモニタ手段６では、上記サーキュレータを通過して患部４に照射されるとともに、該患部４よって反射されたミリ波の反射成分をサーキュレータの周囲に設けたパワーメータ７によって検出することにより、ミリ波の出力状態を検出することができるようになっている。
このパワーメータ７の出力は上記制御装置２に入力されるようになっており、制御装置２は適正な出力が得られないときに警告灯又は警報器を作動させることができるようになっている。
In this embodiment, monitoring means 6 for detecting the output state of the millimeter wave is provided between the millimeter wave oscillator 1 and the waveguide 3. That is, in the present embodiment, the millimeter wave oscillator 1 and the waveguide 3 are integrally connected to each other via the monitor means 6 so that the therapist can easily hold it in the hand. It is configured in a compact and portable type. However, the present invention is not limited to this, and it goes without saying that the affected part 4 may be brought close to the emitting part 3a as a stationary type.
As the monitoring means 6, for example, a conventionally known hexahedral circulator and a power meter 7 can be used. In this monitoring means 6, the affected part 4 is irradiated through the circulator and is irradiated by the affected part 4. By detecting the reflected component of the millimeter wave reflected by the power meter 7 provided around the circulator, the output state of the millimeter wave can be detected.
The output of the power meter 7 is input to the
さらに、上記導波管３の出射部３ａには、ミリ波の照射を緊急停止させるための照射停止手段として接触センサ８を設けてあり、この接触センサ８の出力は上記制御装置２に入力されて、該接触センサ８が患部４に接触している状態のときに、上記ミリ波発振器１からミリ波を発振させることができるようになっている。
Further, a contact sensor 8 is provided as an irradiation stop means for urgently stopping the millimeter wave irradiation at the emitting portion 3a of the waveguide 3, and an output of the contact sensor 8 is input to the
爪白癬を治療する際には、先ず上記制御装置２のパワースイッチをＯＮとしてミリ波発振器１に電源を供給する。この状態では、発振スイッチＳＷは押されておらず、しかも導波管３の出射部３ａに設けた接触センサ８は患部４に接触されていないので、ミリ波発振器１がミリ波を発振することはない。
この状態で導波管３の出射部３ａを患部４の爪４ａに押し当てれば、接触センサ８も患部４に接触されるのでこれによってミリ波発振器１が発振可能な状態となり、この状態で発振スイッチＳＷを押すことによりミリ波発振器１はミリ波を連続して放射して、上記爪４ａに向けて照射する。そしてミリ波の爪４ａへの照射は、発振スイッチＳＷを離すことによって停止することができる。
上記発振スイッチＳＷが押されてミリ波発振器１がミリ波を連続して放射している状態では、上記モニタ手段６はミリ波の出力状態を検出しており、上述したように適正な出力が得られないときには、制御装置２は警告灯又は警報器を作動させるようになる。
また、万一、導波管３の出射部３ａが患部４の爪４ａから離れてしまった場合には、上記接触センサ８も患部４から離れることになるので、発振スイッチＳＷが継続して押されていても、ミリ波発振器１によるミリ波の照射が緊急停止されることになる。
When treating onychomycosis, first, the power switch of the
If the emitting part 3a of the waveguide 3 is pressed against the
In a state where the oscillation switch SW is pressed and the millimeter wave oscillator 1 continuously emits millimeter waves, the monitor means 6 detects the output state of millimeter waves, and an appropriate output is obtained as described above. When it cannot be obtained, the
In the unlikely event that the emitting part 3a of the waveguide 3 is separated from the
上記ミリ波を含むギガヘルツ帯電磁波はその波長が極めて短く、光に近い性質を有しているため、直進性が強く、物体に遮られ易いという性質を有していることが知られているが、爪４ａに対しては大部分が透過することができるため、その爪４ａの裏側まで到達することができる。
そしてギガヘルツ帯電磁波は分子の振動の影響を受け易く、水や酸素があると吸収されてしまうことが知られており、上記爪４ａに照射されたミリ波は爪４ａに含まれる１０％前後の水分に吸収されて該爪４ａ自体を加熱することができる。また、爪４ａを透過した大部分のギガヘルツ帯電磁波はその裏側に到達してその部分に存在する上記爪４ａ自体よりも多い水分に急激に吸収されてここを効果的に加熱するようになる。
水分を含んだ領域には白癬菌が多数生息するが、上記ギガヘルツ帯電磁波によって白癬菌が集中する部位を選択的に加熱することができるので、患者への苦痛を低減しながら爪４ａの内部および裏側の白癬菌を効果的に加熱殺菌することができる。
It is known that the gigahertz band electromagnetic wave including the millimeter wave has a property that the wavelength is extremely short and it is close to light, so that it is highly straight and easily blocked by an object. Since most of the
Gigahertz band electromagnetic waves are easily affected by molecular vibrations and are known to be absorbed when water or oxygen is present. Millimeter waves irradiated to the
A lot of ringworms inhabit the moisture-containing area, but the area where the ringworm bacteria concentrate can be selectively heated by the above-mentioned gigahertz electromagnetic wave, so that the inside of the
上述した説明から理解されるように、ミリ波を含むギガヘルツ帯電磁波は皮膚に含まれる水分に吸収されてこれを加熱することができるので、爪の内部の白癬菌に対して効果的なだけではなく、一般の水虫として知られている患部にギガヘルツ帯電磁波を直接照射して、角質層内の白癬菌を加熱殺菌することができる。
すなわち、角質層は核の無い死んだ細胞として皮膚の一番外側にあるが、角質層の内部下層は５〜１５％程度の水を含む保湿効果があり、白癬菌はその水分を含んだ領域に多く生息して該角質層のケラチンと呼ばれるタンパク質を栄養源として増殖する。
上記ギガヘルツ帯電磁波は、角質層の表面側の乾燥した部位を透過して上記角質層の内部下層の水を含む領域に到達し、そこの水分に急激に吸収されてここを効果的に加熱するようになる。これにより、白癬菌が集中する部位を選択的に加熱することができるので、患者に熱による苦痛を与える可能性を低減しながら、白癬菌を効果的に加熱殺菌することができる。
As can be understood from the above description, gigahertz electromagnetic waves including millimeter waves can be absorbed by the moisture contained in the skin and heated, so that it is not effective only against ringworms in the nail. In addition, it is possible to directly sterilize the ringworm bacteria in the stratum corneum by directly irradiating the affected part known as a common athlete's foot with a gigahertz electromagnetic wave.
That is, the stratum corneum is on the outermost side of the skin as dead cells without nuclei, but the inner lower layer of the stratum corneum has a moisturizing effect containing about 5 to 15% of water, and ringworm fungus is a region containing the water. It grows in large numbers in the stratum corneum and uses a protein called keratin in the stratum corneum as a nutrient source.
The gigahertz band electromagnetic wave penetrates the dry part on the surface side of the stratum corneum, reaches the region containing water in the inner lower layer of the stratum corneum, and is rapidly absorbed by the water there to effectively heat it. It becomes like this. Thereby, since the site | part to which ringworm fungus concentrates can be selectively heated, ringworm fungus can be effectively heat-sterilized, reducing the possibility of giving pain to a patient.
図２ないし図４は本発明の第２実施例を示したもので、本実施例では図２に示すように、上述したミリ波発振器１と導波管３との間に、患部に対するミリ波の照射量を調整するために、上記ミリ波発振器１から連続して放射されるミリ波をパルス化するパルス化手段１１を設けてある。なお、本実施例ではモニタ手段６を省略してあるが、パルス化手段１１と導波管３との間にモニタ手段６を設けてもよいことは勿論である。
上記パルス化手段１１は、図３に示すように、円板状のシャッタ１２とこれを回転させるステッピングモータ１３とを備えており、上記シャッタ１２には、図示実施例では円周方向等間隔位置２箇所にスリット１４を形成してある。
上記ミリ波発振器１から連続して放射されるミリ波は、回転するシャッタ１２のスリット１４を通過することによって患部４に照射されるようになっており、他方、シャッタ１２のスリット１４以外の部分では該シャッタ１２によってその通過が阻止されるようになっている。
2 to 4 show a second embodiment of the present invention. In this embodiment, as shown in FIG. 2, a millimeter wave with respect to the affected part is interposed between the above-described millimeter wave oscillator 1 and the waveguide 3. In order to adjust the amount of irradiation, pulsing means 11 for pulsing the millimeter wave continuously emitted from the millimeter wave oscillator 1 is provided. Although the monitoring means 6 is omitted in this embodiment, it is needless to say that the monitoring means 6 may be provided between the pulsing means 11 and the waveguide 3.
As shown in FIG. 3, the pulsing means 11 includes a disc-shaped shutter 12 and a stepping motor 13 that rotates the shutter 12. The shutter 12 has circumferentially equidistant positions in the illustrated embodiment.
The millimeter wave continuously emitted from the millimeter wave oscillator 1 passes through the
したがって、上記シャッタ１２をステッピングモータ１３によって回転させることにより、図４に示すように、上記ミリ波発振器１から連続して放射されるミリ波はパルス化されて、図４の「ＯＮ」の際に患部４に照射され、「ＯＦＦ」の際には患部４への照射が中断されるようになる。これにより、患部４へのミリ波の照射量を調整して、ミリ波による患部４の加熱量を調整することができる。
つまりミリ波を患部４に照射する際には、上記ステッピングモータ１３によるシャッタ１２の回転数やスリット１４の数を予め最適となるように設定しておけば、熱による苦痛を患者に与える危険性を低減しながら、効果的に角質層内の白癬菌や爪の内部の白癬菌を加熱殺菌することができる。
患部４へのミリ波の照射量は、その患部の厚さなどに応じて１０ｍＷ〜１０Ｗを１μｓ〜１０ｍｓのパルスで与えることが好ましい。
Accordingly, when the shutter 12 is rotated by the stepping motor 13, the millimeter wave continuously emitted from the millimeter wave oscillator 1 is pulsed as shown in FIG. The affected area 4 is irradiated to the affected area 4 and when it is “OFF”, the irradiation to the affected area 4 is interrupted. Thereby, the irradiation amount of the millimeter wave to the affected part 4 can be adjusted, and the heating amount of the affected part 4 by the millimeter wave can be adjusted.
In other words, when the affected area 4 is irradiated with millimeter waves, if the number of rotations of the shutter 12 and the number of
It is preferable that the irradiation amount of the millimeter wave to the affected part 4 is 10 mW to 10 W with a pulse of 1 μs to 10 ms depending on the thickness of the affected part.
図５はパルス化手段の他の実施例を示したもので、このパルス化手段２１はミリ波の放射方向に２枚のシャッタ２２Ａ、２２Ｂを配設してあり、各シャッタ２２Ａ、２２Ｂはそれぞれステッピングモータ２３Ａ、２３Ｂによって別個に同方向に回転駆動されるようになっている。
一方のシャッタ２２Ａには円周方向等間隔位置に多数のスリット２４Ａを形成してあり、他方のシャッタ２２Ｂには図示実施例では円周方向等間隔位置に２つのスリット２４Ｂを形成してある。
したがって本実施例では、シャッタ２２Ａのスリット２４Ａとシャッタ２２Ｂのスリット２４Ｂとが重なり合った際だけミリ波がそれらスリット２４Ａ、２４Ｂを通過することができるので、図６における上下のパルスの双方が共に立ち上がって「ＯＮ」となった部分だけが患部４に照射されるようになり、したがって上述の実施例に比較してより細かくパルス化したミリ波を患部に照射することができる。
これにより、例えば数ＫＨｚのパルスを数Ｈｚのパルス群とすることができるので、ミリ波による患部４の加熱量をより高精度に調整することが可能となる。
FIG. 5 shows another embodiment of the pulsing means. The pulsing means 21 has two
One
Therefore, in this embodiment, since the millimeter wave can pass through the
Thereby, for example, a pulse of several KHz can be made into a pulse group of several Hz, so that the heating amount of the affected part 4 by the millimeter wave can be adjusted with higher accuracy.
図７はパルス化手段の更に他の実施例を示したもので、このパルス化手段３１はシャッタ３２を回転ではなく、アクチュエータ３３によって往復作動させることができるようにしたものである。
上記シャッタ３２には、図示実施例では１つのスリット３４を形成してあり、上記アクチュエータ３３によってシャッタ３２が前進端に移動された際に、ミリ波発振器１から放射されたミリ波がシャッタ３２のスリット３４を通過することができるようになっている。他方、上記アクチュエータ３３によってシャッタ３２が後退端に移動された際には、シャッタ３２の上記スリット３４以外の部分でミリ波の通過を阻止することができるようになっている。
FIG. 7 shows still another embodiment of the pulsing means. The pulsing means 31 is configured such that the
In the illustrated embodiment, one slit 34 is formed in the
なお、上記実施例では、爪４ａへのミリ波の照射量は、発振スイッチＳＷを押している時間に応じて適宜調整することができるが、必要に応じて、発振スイッチＳＷが継続して押されていても、制御装置２に予め所要の時間をセットすることにより、その時間が経過した時点でミリ波の照射を停止させるようにすることができる。或いは、上記モニタ手段６によって出力を計測し、予め定めた最適な出力が得られたら、照射を停止することも可能である。
また、上記導波管３は省略してもよく、この場合、ミリ波発振器１に設けた矩形の発振口１ａがミリ波を出射する出射部となる。
さらに、上記実施例ではミリ波の照射を緊急停止させるための照射停止手段として接触センサ８を用いているので、導波管３の出射部３ａを患部４の爪４ａに接触させて状態でミリ波を爪４ａに照射することになり、したがって爪４ａを出射部３ａから離して照射する場合のように両者の間からミリ波が漏れてエネルギーをロスすることがないという利点があるが、照射停止手段としては接触センサ８に限定されるものではない。また、照射のＯＮ／ＯＦＦはミリ波発振器１の発振のＯＮ／ＯＦＦに限られるものではなく、図７のパルス化手段３１を設けたものにあっては、シャッタ３２を閉じることによって照射をＯＦＦすることができる。
さらにまた、上記実施例ではいずれもギガヘルツ帯の電磁波を発振する電磁波発振器としてミリ波発振器１を用いているが、ミリ波発振器１に限定されるものではない。治療に当たっては、個々の患者の病状等に応じて最適な周波数を選択して照射することが望ましく、白癬菌を効果的に加熱殺菌することができる範囲において、ギガヘルツ帯の電磁波を発振する電磁波発振器を用いてもよいことは勿論である。
In the above embodiment, the irradiation amount of the millimeter wave to the
Further, the waveguide 3 may be omitted, and in this case, the
Further, in the above embodiment, the contact sensor 8 is used as an irradiation stopping means for urgently stopping the irradiation of millimeter waves, so that the emitting portion 3a of the waveguide 3 is in contact with the
Furthermore, in the above-described embodiments, the millimeter wave oscillator 1 is used as an electromagnetic wave oscillator that oscillates a gigahertz band electromagnetic wave, but is not limited to the millimeter wave oscillator 1. In the treatment, it is desirable to select and irradiate the optimal frequency according to the pathology of each individual patient, and an electromagnetic wave oscillator that oscillates gigahertz band within a range that can effectively sterilize ringworm bacteria. Of course, may be used.
１ ミリ波発振器（電磁波発振器） ２ 制御装置
３ 導波管 ３ａ 出射部
４ 患部 ４ａ 爪
５ レンズ（光学部材） ６ モニタ手段
８ 接触センサ（照射停止手段） １１、２１、３１ パルス化手段
DESCRIPTION OF SYMBOLS 1 Millimeter wave oscillator (electromagnetic wave oscillator) 2 Control apparatus 3 Waveguide 3a Output part 4
Claims (7)
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