JP2006073938A

JP2006073938A - Substrate processing device

Info

Publication number: JP2006073938A
Application number: JP2004258509A
Authority: JP
Inventors: Masaki Shinohara; 正樹篠原
Original assignee: Dainippon Screen Manufacturing Co Ltd
Current assignee: Dainippon Screen Manufacturing Co Ltd
Priority date: 2004-09-06
Filing date: 2004-09-06
Publication date: 2006-03-16
Anticipated expiration: 2024-09-06
Also published as: JP4455237B2

Abstract

<P>PROBLEM TO BE SOLVED: To provide a substrate processing device which prevents leakage of mist-like cleaning liquid to an outside and does not cause entering of particles from the outside. <P>SOLUTION: A fan 9 which rotates integrally with a rotating shaft 4 is fixed to the rotating shaft 4, and air flow in an area near a through hole 5a outside a cover 5 is generated in a direction perpendicular to an extension direction of the rotating shaft 4 in a direction toward a circumferential direction of the rotating shaft 4. Consequently, the mist-like cleaning liquid existing in an area near the through hole 5a outside the cover 5 is guided along the inner wall of a casing 6, and the mist-like cleaning liquid is prevented from leaking outside from the through hole 6a of the casing 6. Furthermore, air which is about to enter from an outside toward the through hole 5a of the cover 5 is also guided toward the circumferential direction of the rotating shaft 4, and prevents particles from entering inside the cover 5. <P>COPYRIGHT: (C)2006,JPO&NCIPI

Description

本発明は、半導体ウエハ、液晶表示装置用ガラス基板及びＰＤＰ（プラズマディスプレイ）用ガラス基板などの各種基板に対して処理を行う基板処理装置に関する。 The present invention relates to a substrate processing apparatus that performs processing on various substrates such as a semiconductor wafer, a glass substrate for a liquid crystal display device, and a glass substrate for a PDP (plasma display).

液晶ガラス基板等の基板に塵埃などの異物が付着すると、製造工程において液晶分子の配向ムラやシール不良等が発生するため、従来から、液晶表示板の各製造工程の前後で必要に応じて液晶ガラス基板を洗浄するようにしている。この基板洗浄は、基板にシャワー室で洗浄液を吹き付けた後、ブラシ洗浄室において回転ブラシで払拭洗浄し、液切り室で液晶ガラス基板に付着した処理液の液切りを行うようになっている。 If foreign matter such as dust adheres to a substrate such as a liquid crystal glass substrate, liquid crystal molecule alignment unevenness or poor sealing will occur in the manufacturing process. The glass substrate is cleaned. In this substrate cleaning, after a cleaning liquid is sprayed on the substrate in a shower chamber, the substrate is cleaned by wiping with a rotating brush in the brush cleaning chamber, and the processing liquid adhering to the liquid crystal glass substrate is drained in the liquid draining chamber.

このような基板洗浄では、ブラシ洗浄室において、回転ブラシの駆動部（モータ等）は洗浄槽の外部に配設されており、ブラシ回転軸は洗浄槽に設けられた貫通孔から洗浄槽の外部に出され、上記駆動部に連結されているが、ブラシ回転軸を伝って洗浄液が洗浄槽から外部に漏れることを防止するために、例えば、特許文献１に示されるブラシ洗浄装置のように、洗浄槽に設けられた貫通孔の近傍において、回転軸に水切り円板を取り付け、この水切り円板によって、外部への洗浄液の漏れの防止を図っている。
実用新案登録公報第２６０１６６３号公報 In such a substrate cleaning, in the brush cleaning chamber, the drive unit (motor, etc.) of the rotating brush is disposed outside the cleaning tank, and the brush rotation shaft is connected to the outside of the cleaning tank through a through hole provided in the cleaning tank. In order to prevent the cleaning liquid from leaking out of the cleaning tank through the brush rotation shaft, for example, as in the brush cleaning device shown in Patent Document 1, In the vicinity of the through hole provided in the cleaning tank, a draining disk is attached to the rotating shaft, and this draining disk prevents leakage of the cleaning liquid to the outside.
Utility Model Registration Gazette No. 2606663

しかしながら、上記のブラシ洗浄装置では、ブラシ回転軸を伝って外部へ流れ出す洗浄液を水切り円板で食い止めることはできるが、洗浄槽内でミスト状となった洗浄液が外部に漏れることまでは防止できない。ここで、ミスト状の洗浄液の外部への漏れを防止する方法として、洗浄槽内から外部への排気量を大きくして、洗浄槽に設けられた上記貫通孔を通して外部から洗浄槽内に向かう気流を作ることが考えられるが、洗浄槽内から外部への排気量を大きくするには、用力コストが高くなるという問題がある。また、このように洗浄槽の貫通孔から洗浄槽内に向かう気流を作ると、外部から洗浄槽内へのパーティクルの浸入を招くことになるため、基板製造の歩留まりが低下する虞がある。 However, in the above brush cleaning apparatus, the cleaning liquid flowing out to the outside through the brush rotation shaft can be stopped by the draining disk, but it cannot be prevented until the cleaning liquid in the mist state leaks to the outside. Here, as a method of preventing leakage of the mist-like cleaning liquid to the outside, an air flow from the outside to the inside of the washing tank through the through hole provided in the washing tank by increasing the exhaust amount from the inside of the washing tank to the outside. However, in order to increase the exhaust amount from the inside of the cleaning tank to the outside, there is a problem that the utility cost becomes high. In addition, when the air flow from the through hole of the cleaning tank into the cleaning tank is generated in this way, particles may enter from the outside into the cleaning tank, which may reduce the yield of manufacturing the substrate.

本発明は、上記の問題を解決するためになされたもので、ミスト状となった洗浄液の外部への漏れを防止でき、しかも、外部からのパーティクルの浸入を招くことがない基板処理装置を提供することを目的とするものである。 The present invention has been made to solve the above-described problem, and provides a substrate processing apparatus that can prevent the mist-like cleaning liquid from leaking to the outside and that does not cause intrusion of particles from the outside. It is intended to do.

本発明の請求項１に記載の発明は、基板の表面に回転体を作用させて基板を処理する基板処理装置であって、
前記回転体の駆動源に連結される前記回転体の回転軸と、
前記回転体及び当該回転体による処理中の基板が内部に配置され、前記回転軸が貫通する貫通孔を有するカバー部材と、
前記回転軸と一体的に回転駆動され、前記カバー部材の外側における前記貫通孔近傍の気流を、前記回転軸の延びる方向に直交する方向であって、前記回転軸の周囲方向に向かう方向に発生させる気流発生部材と
を備えたものである。 Invention of Claim 1 of this invention is a substrate processing apparatus which processes a board | substrate by making a rotary body act on the surface of a board | substrate,
A rotating shaft of the rotating body coupled to a drive source of the rotating body;
A cover member having a through hole in which the rotating body and the substrate being processed by the rotating body are disposed, and through which the rotating shaft passes;
The rotary shaft is driven to rotate integrally with the rotary shaft, and an air flow near the through hole on the outside of the cover member is generated in a direction perpendicular to the extending direction of the rotary shaft and toward the circumferential direction of the rotary shaft. An airflow generating member to be made.

この構成では、気流発生部材が回転軸と一体的に回転し、カバー部材の外側であって貫通孔近傍における気流を、回転軸の延びる方向に直交する方向であって、回転軸の周囲方向に向かう方向に発生させるので、例えば、当該基板処理装置を基板洗浄装置として用いた場合、カバー部材外側の貫通孔近傍に存在するミスト状の洗浄液を、回転軸の延びる方向に直交する方向であって、回転軸の周囲方向に向かう方向へ案内することができ、ミスト状の洗浄液が気流発生部材よりも外側に漏れることを防止できる。また、気流発生部材によって発生される上記気流によって、外部からカバー部材の貫通孔に向かって流入しようとする空気も、上記回転軸の周囲方向に向けて案内することができるので、気流発生部材よりも内側（カバー部材側）にパーティクルが浸入することを防止できる。 In this configuration, the airflow generating member rotates integrally with the rotation shaft, and the airflow outside the cover member and in the vicinity of the through hole is in a direction orthogonal to the direction in which the rotation shaft extends and in the circumferential direction of the rotation shaft. For example, when the substrate processing apparatus is used as a substrate cleaning apparatus, the mist-like cleaning liquid existing in the vicinity of the through hole outside the cover member is in a direction orthogonal to the direction in which the rotation shaft extends. Further, it is possible to guide in a direction toward the circumferential direction of the rotation shaft, and it is possible to prevent the mist-like cleaning liquid from leaking outside the airflow generating member. In addition, since the air generated by the air flow generating member can also guide the air from the outside toward the through hole of the cover member toward the circumferential direction of the rotating shaft, the air flow generating member Also, particles can be prevented from entering the inner side (the cover member side).

また、請求項２に記載の発明は、請求項１に記載の基板処理装置であって、前記カバー部材から突出された前記回転軸を貫通させる貫通孔が設けられ、前記カバー部材を覆うケース部材を備え、
前記気流発生部材は、前記ケース部材の内側であって、前記ケース部材の貫通孔近傍に配設され、前記ケース部材の内壁に沿って流れる気流を発生させるものである。 Further, the invention according to claim 2 is the substrate processing apparatus according to claim 1, wherein a through-hole that penetrates the rotating shaft protruding from the cover member is provided and covers the cover member. With
The airflow generating member is disposed inside the case member and in the vicinity of the through hole of the case member, and generates an airflow flowing along the inner wall of the case member.

この構成では、気流発生部材がケース部材の内側で回転軸と一体的に回転し、カバー部材の貫通孔から出てくる空気を、ケース部材の内壁に沿って案内する気流を発生させるので、例えば、当該基板処理装置を基板洗浄装置として用いた場合、カバー部材の内側から貫通孔を通って漏れてくるミスト状の洗浄液を、ケース部材の内壁に沿わせて案内して、ミスト状の洗浄液がケース部材の貫通孔から外部に漏れることを防止できる。また、気流発生部材によってケース部材の内壁に沿って発生される上記気流によって、ケース部材の外部から浸入してくるパーティクルも、ケース部材の内壁に沿わせて案内できるので、ケース部材の貫通孔からケース部材の内部にパーティクルが浸入することを防止できる。 In this configuration, the airflow generating member rotates integrally with the rotation shaft inside the case member, and generates airflow that guides the air coming out from the through hole of the cover member along the inner wall of the case member. When the substrate processing apparatus is used as a substrate cleaning apparatus, the mist-like cleaning liquid leaking from the inside of the cover member through the through hole is guided along the inner wall of the case member, and the mist-like cleaning liquid is It is possible to prevent leakage from the through hole of the case member to the outside. In addition, particles entering from the outside of the case member due to the airflow generated along the inner wall of the case member by the airflow generating member can be guided along the inner wall of the case member, so that the through hole of the case member Particles can be prevented from entering the case member.

また、請求項３に記載の発明は、請求項１に記載の基板処理装置であって、前記カバー部材から突出された前記回転軸を貫通させる貫通孔が設けられ、前記カバー部材を覆うケース部材を備え、
前記気流発生部材は、前記ケース部材の外側に配設され、前記ケース部材の貫通孔近傍における気流を前記ケース部材の外壁に沿って発生させるものである。 The invention according to claim 3 is the substrate processing apparatus according to claim 1, wherein a through-hole that penetrates the rotating shaft protruding from the cover member is provided and covers the cover member. With
The airflow generating member is disposed outside the case member, and generates an airflow in the vicinity of the through hole of the case member along the outer wall of the case member.

この構成では、気流発生部材がケース部材の外側で回転軸と一体的に回転し、ケース部材の貫通孔近傍における気流をケース部材の外壁に沿って発生させるので、ケース部材の外側における貫通孔近傍において、ケース部材の外壁に沿ったエアカーテンが生成される。そのため、例えば、当該基板処理装置を基板洗浄装置として用いた場合、このエアカーテンにより、ケース部材の貫通孔を通ってケース部材の外部に向かおうとするミスト状の洗浄液の流れを食い止めることができる。また、上記エアカーテンによって、ケース部材の貫通孔を通って外部からケース部材内に向かおうとする空気を、ケース部材の外壁に沿って案内することによって、当該空気がケース部材内部に入り込む量を低減できるので、この空気と共にケース部材内に入り込むパーティクルの浸入を低減できる。 In this configuration, the airflow generating member rotates integrally with the rotating shaft outside the case member and generates an airflow in the vicinity of the through hole of the case member along the outer wall of the case member. The air curtain along the outer wall of the case member is generated. Therefore, for example, when the substrate processing apparatus is used as a substrate cleaning apparatus, the air curtain can stop the flow of a mist-like cleaning liquid that goes through the through-hole of the case member to the outside of the case member. . Further, the air curtain guides the air that is going from the outside into the case member through the through hole of the case member along the outer wall of the case member, so that the amount of the air entering the case member is reduced. Since it can reduce, the penetration | invasion of the particle which enters in a case member with this air can be reduced.

また、請求項４に記載の発明は、請求項１乃至請求項３のいずれかに記載の基板処理装置であって、前記気流発生部材は、前記回転軸の外周に直交する姿勢で当該外周面に取り付けられる環状部材と、前記回転軸の長さ方向に延びる形状とされると共に、前記環状部材に直交させて取り付けられ、前記回転軸の延びる方向に直交する方向であって、前記回転軸からその周囲方向に向かう空気流を発生させる羽根部材とを備えるものである。 The invention according to claim 4 is the substrate processing apparatus according to any one of claims 1 to 3, wherein the airflow generating member is in a posture orthogonal to the outer periphery of the rotating shaft. An annular member attached to the rotary member, and a shape extending in a length direction of the rotary shaft, and attached in a direction orthogonal to the annular member, and a direction perpendicular to the extending direction of the rotary shaft, from the rotary shaft And a blade member that generates an air flow in the peripheral direction.

この構成では、環状部材が回転軸と一体的に回転すると、羽根部材が、回転軸の延びる方向に直交する方向であって、回転軸からその周囲方向に向かう空気流を発生させるようになっている。これにより、簡単な構成で、気流発生部材を組み立てることが可能となり、また、回転軸への気流発生部材の取り付けも容易に行うことができる。 In this configuration, when the annular member rotates integrally with the rotating shaft, the blade member generates an air flow in a direction orthogonal to the extending direction of the rotating shaft and from the rotating shaft toward the peripheral direction. Yes. Thereby, it becomes possible to assemble the airflow generating member with a simple configuration, and the airflow generating member can be easily attached to the rotating shaft.

また、請求項５に記載の発明は、請求項１乃至請求項４のいずれかに記載の基板処理装置であって、前記回転体及び基板が傾斜姿勢とされたものである。 According to a fifth aspect of the present invention, there is provided the substrate processing apparatus according to any one of the first to fourth aspects, wherein the rotating body and the substrate are inclined.

この構成では、回転体及び基板が傾斜姿勢とされているので、例えば、当該基板処理装置を基板洗浄装置として用いた場合、基板に対して供給された洗浄液を上記傾斜によって一定方向に流れていくように案内できるので、基板表面全域における均一な洗浄液の供給、及び円滑な洗浄液の排除が可能となる。 In this configuration, since the rotating body and the substrate are inclined, for example, when the substrate processing apparatus is used as a substrate cleaning apparatus, the cleaning liquid supplied to the substrate flows in a certain direction due to the inclination. Therefore, it is possible to supply the cleaning liquid uniformly over the entire surface of the substrate and to eliminate the cleaning liquid smoothly.

請求項１に記載の発明によれば、例えば、当該基板処理装置を基板洗浄装置として用いた場合、ミスト状の洗浄液が気流発生部材よりも外側に漏れることを防止できる。また、気流発生部材よりも内側（カバー部材側）にパーティクルが浸入することを防止できる。 According to the first aspect of the present invention, for example, when the substrate processing apparatus is used as a substrate cleaning apparatus, it is possible to prevent the mist-like cleaning liquid from leaking outside the airflow generating member. Further, it is possible to prevent particles from entering inside (the cover member side) from the airflow generating member.

請求項２に記載の発明によれば、例えば、当該基板処理装置を基板洗浄装置として用いた場合、ミスト状の洗浄液がケース部材の貫通孔から外部に漏れることを防止できる。また、ケース部材の貫通孔からケース部材の内部にパーティクルが浸入することを防止できる。 According to the second aspect of the present invention, for example, when the substrate processing apparatus is used as a substrate cleaning apparatus, it is possible to prevent the mist-like cleaning liquid from leaking outside through the through hole of the case member. Further, it is possible to prevent particles from entering the inside of the case member from the through hole of the case member.

請求項３に記載の発明によれば、ケース部材の外側における貫通孔近傍において、ケース部材の外壁に沿ったエアカーテンが生成されるので、例えば、当該基板処理装置を基板洗浄装置として用いた場合、このエアカーテンにより、ケース部材の貫通孔を通ってケース部材の外部に向かおうとするミスト状の洗浄液の流れを食い止めることができる。また、上記エアカーテンによって、ケース部材の貫通孔を通って外部からケース部材内に向かおうとする空気を、ケース部材の外壁に沿って案内することによって、当該空気がケース部材内部に入り込む量を低減できるので、この空気共にケース部材内に入り込むパーティクルの浸入を低減できる。 According to the invention described in claim 3, since the air curtain is generated along the outer wall of the case member in the vicinity of the through hole on the outside of the case member, for example, when the substrate processing apparatus is used as a substrate cleaning apparatus By this air curtain, it is possible to stop the flow of the mist-like cleaning liquid that tries to go to the outside of the case member through the through hole of the case member. Further, the air curtain guides the air that is going from the outside into the case member through the through hole of the case member along the outer wall of the case member, so that the amount of the air entering the case member is reduced. Since it can reduce, the penetration | invasion of the particle | grains which enter this case member with this air can be reduced.

請求項４に記載の発明によれば、簡単な構成で、気流発生部材を組み立てることが可能となり、また、回転軸への気流発生部材の取り付けも容易に行うことができる。 According to the fourth aspect of the present invention, it is possible to assemble the airflow generating member with a simple configuration, and it is possible to easily attach the airflow generating member to the rotating shaft.

請求項５に記載の発明によれば、例えば、当該基板処理装置を基板洗浄装置として用いた場合に、基板に対して供給された洗浄液を、上記回転体及び基板の傾斜によって、一定方向に流れていくように案内できるので、基板表面全域における均一な洗浄液の供給、及び円滑な洗浄液の排除が可能となる。 According to the fifth aspect of the present invention, for example, when the substrate processing apparatus is used as a substrate cleaning apparatus, the cleaning liquid supplied to the substrate flows in a certain direction due to the inclination of the rotating body and the substrate. Therefore, it is possible to supply the cleaning liquid uniformly over the entire surface of the substrate and to eliminate the cleaning liquid smoothly.

本発明の実施形態について図面を用いて説明する。図１は、本発明に係る基板処理装置の第１実施形態である基板洗浄装置の概略構成を示す側面図である。本発明に係る基板処理装置の第１実施形態である基板洗浄装置１は、半導体ウェハ、液晶表示装置用ガラス基板及びＰＤＰ（プラズマディスプレイ）用ガラス基板などの基板Ｗに付着した塵埃などの異物を除去するために洗浄を行うものである。基板洗浄装置１は、基板を搬送させつつブラシ洗浄するものであり、基板に洗浄液を供給しながらブラシ洗浄したり、又は洗浄液が付着している基板をブラシ洗浄するものである。 Embodiments of the present invention will be described with reference to the drawings. FIG. 1 is a side view showing a schematic configuration of a substrate cleaning apparatus which is a first embodiment of a substrate processing apparatus according to the present invention. A substrate cleaning apparatus 1 which is a first embodiment of a substrate processing apparatus according to the present invention removes foreign matters such as dust attached to a substrate W such as a semiconductor wafer, a glass substrate for a liquid crystal display device and a glass substrate for a PDP (plasma display). Cleaning is performed to remove. The substrate cleaning apparatus 1 performs brush cleaning while transporting a substrate, and performs brush cleaning while supplying a cleaning liquid to the substrate or brush cleaning a substrate to which the cleaning liquid is attached.

基板洗浄装置１は、回転しながら基板Ｗの表面に接触し、基板Ｗの表面上に付着している異物を除去するロール状のブラシ（回転体）２を有する。なお、このブラシ２による基板Ｗの洗浄は、ブラシ２が基板Ｗの表面に接触せず、僅かに離間した状態で高速に回転して、ブラシ２の表面と、基板Ｗの表面との間に介在する純水や薬液等の洗浄液によって、いわゆるハイドロプレーン現象を利用して行うものであってもよい。 The substrate cleaning apparatus 1 has a roll-shaped brush (rotary body) 2 that contacts the surface of the substrate W while rotating and removes foreign matters adhering to the surface of the substrate W. The cleaning of the substrate W by the brush 2 is performed at a high speed in a state where the brush 2 is not slightly in contact with the surface of the substrate W and is slightly separated, so that the surface of the brush 2 and the surface of the substrate W are between each other. It may be carried out by utilizing a so-called hydroplane phenomenon with an intervening cleaning liquid such as pure water or chemical liquid.

ブラシ２は、ブラシ２を回転させるための駆動源であるモータ３に連結された回転軸４に取り付けられている。ブラシ２及び基板Ｗは、洗浄時における洗浄液の周囲への飛散を防止するためにカバー（カバー部材）５に覆われている。回転軸４は、カバー５の両側部に設けられている貫通孔５ａを貫通してカバー５の外側まで突出され、軸受部４１が図略の支持部材に支持されている。 The brush 2 is attached to a rotating shaft 4 connected to a motor 3 that is a drive source for rotating the brush 2. The brush 2 and the substrate W are covered with a cover (cover member) 5 in order to prevent the cleaning liquid from scattering around the cleaning. The rotary shaft 4 passes through through holes 5a provided on both sides of the cover 5 and protrudes to the outside of the cover 5, and the bearing portion 41 is supported by a support member (not shown).

カバー５の外側は、更にケーシング（ケース部材）６で覆われている。このケーシング６の両側部には、カバー５から突出している回転軸４を貫通させる貫通孔６ａが設けられている。このケーシング６の外側における貫通孔６ａの周囲は、外部カバー７によって更に覆われている。この外部カバー７の両側部にも、ケーシング６から突出される回転軸４を貫通させる貫通孔７ａが設けられている。この外部カバー７の外側において、外部カバー７から突出された回転軸４とモータ３とが連結されている。また、ケーシング６側面の上部には、ケーシング６内の空気を外部に排出するための排気口６ｂが設けられている。 The outside of the cover 5 is further covered with a casing (case member) 6. On both sides of the casing 6, there are provided through holes 6 a through which the rotating shaft 4 protruding from the cover 5 passes. The periphery of the through hole 6 a outside the casing 6 is further covered with an external cover 7. Both sides of the outer cover 7 are also provided with through holes 7 a through which the rotary shaft 4 protruding from the casing 6 passes. On the outside of the outer cover 7, the rotating shaft 4 protruding from the outer cover 7 and the motor 3 are connected. Further, an exhaust port 6b for discharging the air in the casing 6 to the outside is provided at the upper part of the side surface of the casing 6.

カバー５の外側における各貫通孔５ａの近傍には、貫通孔５ａを通して回転軸４を伝ってカバー５内部から洗浄液が外部に漏れることを防止するための水切板８が、回転軸４の周面に取り付けられている。この水切板８は、回転軸４と一体的に回転する。さらに、この水切板８よりも外部寄りであって、ケーシング６の内部領域の貫通孔６ａ近傍には、回転軸４の周面に、回転軸４と一体的に回転するファン（気流発生部材）９が取り付けられている。ファン９は、カバー５の両側部の回転軸４にそれぞれ取り付けられている。 In the vicinity of each through-hole 5 a on the outside of the cover 5, a draining plate 8 for preventing the cleaning liquid from leaking from the inside of the cover 5 through the rotary shaft 4 through the through-hole 5 a is provided on the peripheral surface of the rotary shaft 4. Is attached. The draining plate 8 rotates integrally with the rotating shaft 4. Furthermore, a fan (airflow generating member) that rotates integrally with the rotating shaft 4 on the peripheral surface of the rotating shaft 4 in the vicinity of the through hole 6a in the inner region of the casing 6 and closer to the outside than the draining plate 8. 9 is attached. The fans 9 are respectively attached to the rotary shafts 4 on both sides of the cover 5.

ファン９の構成を説明する。図２はファン９の正面図、図３はファン９の側面図、図４はファン９の斜視図である。図２、図３に示すように、ファン９は、正面視で中心部に開口部９１を有する。開口部９１の内側には、回転軸４が貫通し、内壁が回転軸４の周面に当接して状態で固定される固定部９２が設けられている。また、ファン９は、２つの環状部材９３１，９３２を有している。この環状部材９３１，９３２は、回転軸４の外周面に直交する姿勢とされている。 The configuration of the fan 9 will be described. 2 is a front view of the fan 9, FIG. 3 is a side view of the fan 9, and FIG. 4 is a perspective view of the fan 9. As shown in FIGS. 2 and 3, the fan 9 has an opening 91 at the center thereof when viewed from the front. Inside the opening 91, there is provided a fixing portion 92 through which the rotating shaft 4 passes and the inner wall is fixed in contact with the peripheral surface of the rotating shaft 4. The fan 9 has two annular members 931 and 932. The annular members 931 and 932 are in a posture orthogonal to the outer peripheral surface of the rotating shaft 4.

固定部９２及び環状部材９３１，９３２は、その一部が切断された形状とされ、図２の矢印ｂ方向に若干拡げることが可能とされている。固定部９２には、ネジ締結部９２１が設けられており、このネジ締結部９２１のネジ９２２を締め付けることによって、ファン９を回転軸４に対して移動不可能な状態で固定することができ、また、ネジ９２２の締め付けを緩めることによって、ファン９を回転軸４に対して移動可能な状態とすることができるようになっている。 The fixed portion 92 and the annular members 931 and 932 are partially cut off, and can be slightly expanded in the direction of the arrow b in FIG. The fixing portion 92 is provided with a screw fastening portion 921, and by fastening the screw 922 of the screw fastening portion 921, the fan 9 can be fixed in a state where it cannot move with respect to the rotating shaft 4, In addition, the fan 9 can be moved with respect to the rotating shaft 4 by loosening the screw 922.

環状部材９３１の開口部９１は、回転軸４の径よりも大きい径とされている。これにより、回転軸４（固定部９２）の周面と開口部９１の内縁との間の隙間から、回転軸４の長さ方向におけるファン９の中心部に向かって（固定部９２方向）、空気を入り込ませるようになっている。一方、環状部材９３２には、固定部９２のみが設けられ、この固定部９２の内壁が回転軸４の周面に密着するようになっている。環状部材９３２は、回転軸４を貫通させるための孔を有しているが、開口部９１は有していない。回転軸４にファン９を取り付けた状態（ネジ締結部９２１のネジ９２２を締め付けた状態）では、環状部材９３１は開口部９１により回転軸４の周面との間に隙間が生じ、環状部材９３２及び固定部９２の内壁は回転軸４の周面に密着する。 The opening 91 of the annular member 931 has a diameter larger than the diameter of the rotating shaft 4. Thereby, from the gap between the peripheral surface of the rotating shaft 4 (fixed portion 92) and the inner edge of the opening 91 toward the central portion of the fan 9 in the length direction of the rotating shaft 4 (fixed portion 92 direction), It is designed to let air in. On the other hand, the annular member 932 is provided with only the fixing portion 92, and the inner wall of the fixing portion 92 is in close contact with the peripheral surface of the rotating shaft 4. The annular member 932 has a hole for allowing the rotary shaft 4 to pass therethrough, but does not have the opening 91. In a state where the fan 9 is attached to the rotating shaft 4 (a state where the screw 922 of the screw fastening portion 921 is tightened), a gap is generated between the annular member 931 and the peripheral surface of the rotating shaft 4 by the opening 91, and the annular member 932 is formed. The inner wall of the fixed portion 92 is in close contact with the peripheral surface of the rotating shaft 4.

環状部材９３１，９３２の間には、複数の羽根部材９４が設けられている。羽根部材９４は、回転軸４の長さ方向における各端部が環状部材９３１又は環状部材９３２に取り付けられ、また、図２に示すように環状部材９３１，９３２の縁部から固定部の外縁にかけて設けられている。この羽根部材９４は、図２に示すように、環状部材９３１，９３２に対する取り付け角度αが、ファン９が回転軸４と共に図２に示す矢印ａ方向に回転した場合に、回転軸４の周面に直交する方向であって、回転軸４からその周囲方向に向かう空気流を発生させることが可能な角度に設定されている。 A plurality of blade members 94 are provided between the annular members 931 and 932. Each end of the blade member 94 in the length direction of the rotary shaft 4 is attached to the annular member 931 or the annular member 932, and from the edge of the annular members 931 and 932 to the outer edge of the fixed portion as shown in FIG. Is provided. As shown in FIG. 2, the blade member 94 has a peripheral surface of the rotating shaft 4 when the mounting angle α with respect to the annular members 931 and 932 rotates in the direction of arrow a shown in FIG. The angle is set to an angle at which the airflow from the rotating shaft 4 toward the peripheral direction can be generated.

かかる構成でなるファン９は、開口部９１を有する環状部材９３１側を、カバー５に対向させた状態で、回転軸４に取り付けられている。このファン９が回転軸４と一体的に回転駆動されることによって、カバー５の外側における貫通孔５ａ近傍の気流を、回転軸４の延びる方向に直交する方向であって、回転軸４の周囲方向に向かう方向に発生するようになっている。 The fan 9 having such a configuration is attached to the rotary shaft 4 with the annular member 931 side having the opening 91 facing the cover 5. When the fan 9 is rotationally driven integrally with the rotary shaft 4, the airflow in the vicinity of the through hole 5 a on the outside of the cover 5 is in a direction orthogonal to the direction in which the rotary shaft 4 extends, and around the rotary shaft 4. It is generated in the direction toward the direction.

上記構成でなる基板洗浄装置１におけるファン９の作用を、従来の基板洗浄装置と比較して説明する。図５は、従来の基板洗浄装置の概略構成を示す側面図である。図５に示す従来の基板洗浄装置１００には、ファン９は配設されておらず、カバー５の外側における貫通孔５ａ近傍、及びケーシング６の外側における貫通孔６ａ近傍に水切板８が設けられた構成である。 The operation of the fan 9 in the substrate cleaning apparatus 1 configured as described above will be described in comparison with a conventional substrate cleaning apparatus. FIG. 5 is a side view showing a schematic configuration of a conventional substrate cleaning apparatus. In the conventional substrate cleaning apparatus 100 shown in FIG. 5, the fan 9 is not provided, and a draining plate 8 is provided in the vicinity of the through hole 5 a on the outside of the cover 5 and in the vicinity of the through hole 6 a on the outside of the casing 6. It is a configuration.

本発明に係る基板洗浄装置１によって、ブラシ２及び回転軸４を回転させて基板Ｗを洗浄する場合、まず、この基板Ｗの洗浄時にカバー５内から回転軸４を伝って漏れ出す洗浄液は、水切板８によって、それよりも外側への漏れが食い止められる。 When cleaning the substrate W by rotating the brush 2 and the rotary shaft 4 by the substrate cleaning apparatus 1 according to the present invention, first, the cleaning liquid leaking from the cover 5 through the rotary shaft 4 when cleaning the substrate W is: The drain plate 8 prevents leakage to the outside.

また、ブラシ２の回転時にミスト状となった洗浄液は、カバー５の貫通孔５ａを通ってカバー５の外部に漏れ出すが、ファン９が回転軸４と共に回転しているので、ケーシング６内部におけるファン９の周囲では、回転軸４からその周囲方向に向かう空気流、すなわち、ケーシング６の内壁に沿って流れる空気流が発生している。そのため、ミスト状の洗浄液は、環状部材９３１の開口部９１からファン９の内部に入り込み、羽根部材９４により、ケーシング６の内壁に沿って、回転軸４及びケーシング６の貫通孔６ａの周囲に向かう方向（図１の矢印ｆ方向）に案内される。 Further, the cleaning liquid that has become mist during the rotation of the brush 2 leaks to the outside of the cover 5 through the through-hole 5a of the cover 5, but the fan 9 rotates together with the rotating shaft 4, so Around the fan 9, an air flow from the rotating shaft 4 toward the peripheral direction, that is, an air flow flowing along the inner wall of the casing 6 is generated. Therefore, the mist-like cleaning liquid enters the inside of the fan 9 from the opening 91 of the annular member 931, and moves toward the periphery of the rotary shaft 4 and the through hole 6 a of the casing 6 along the inner wall of the casing 6 by the blade member 94. It is guided in the direction (arrow f direction in FIG. 1).

これにより、カバー５の貫通孔５ａから漏れ出してきたミスト状の洗浄液は、ケーシング６の貫通孔６ａに向かうことなく、ケーシング６の内壁に沿って貫通孔６ａの上方又は下方に向かうことになる。そのため、ケーシング６内部から排気口６ｂを通って外部に空気を排出する排気量が小さくても、当該ミスト状の洗浄液を排気口６ｂから効率よくケーシング６の外部に排出でき、また、貫通孔６ａから外部に漏れ出すことも防止できる。 As a result, the mist-like cleaning liquid that has leaked from the through-hole 5a of the cover 5 does not go to the through-hole 6a of the casing 6 but goes to the upper or lower side of the through-hole 6a along the inner wall of the casing 6. . For this reason, even if the exhaust amount of the air discharged from the inside of the casing 6 through the exhaust port 6b to the outside is small, the mist-like cleaning liquid can be efficiently discharged from the exhaust port 6b to the outside of the casing 6, and the through hole 6a. Leakage from the outside can also be prevented.

また、排気口６ｂからの排気量が少ないと、ケーシング６の貫通孔６ａから流入する空気量ｇが少なくなり、外部からパーティクルが浸入し難くなる。さらに、ファン９によって生成される上記空気流によって、この貫通孔６ａを通って外部から浸入してきた空気は、図１に示す矢印ｆ方向に案内されるため、外部から流入してきたパーティクルを、カバー５の貫通孔５ａからカバー５内に浸入することを防止することができる。 In addition, when the exhaust amount from the exhaust port 6b is small, the amount of air g flowing from the through hole 6a of the casing 6 is small, and it is difficult for particles to enter from the outside. Furthermore, since the air that has entered from the outside through the through-hole 6a by the air flow generated by the fan 9 is guided in the direction of the arrow f shown in FIG. 1, the particles flowing from the outside are covered. 5 can be prevented from entering the cover 5 from the through hole 5a.

これに対して、従来の基板洗浄装置１００は、図５に示すように、ファン９が無いため、ケーシング６内において、本発明に係る基板洗浄装置１のような上記空気流の生成ができない。そのため、カバー５から漏れ出してきたミスト状の洗浄液が、ケーシング６の貫通孔６ａから外部に漏れることを防止するには、ケーシング６の排気口６ｂから外部に排出する排気量を大きくして、貫通孔６ａケーシング６内に流入する外部からの空気流ｈの流量を大きくしてやらなければならないが、この場合、排気口６ｂからの排気量を大きくするための用力コストが大きくなってしまう。また、上記空気流ｈにより、外部からパーティクルが浸入しやすい環境を作ってしまうことになる。本発明に係る基板洗浄装置１は、このような大きな用力コストを要しない点、及び、外部からパーティクルが浸入しやすい環境を作らない点において、従来の基板洗浄装置１００に対して有利な効果を奏する。 On the other hand, as shown in FIG. 5, the conventional substrate cleaning apparatus 100 does not have the fan 9, and thus cannot generate the air flow in the casing 6 like the substrate cleaning apparatus 1 according to the present invention. Therefore, in order to prevent the mist-like cleaning liquid leaking from the cover 5 from leaking to the outside through the through hole 6a of the casing 6, the exhaust amount discharged to the outside from the exhaust port 6b of the casing 6 is increased, Although the flow rate of the external air flow h flowing into the through hole 6a casing 6 has to be increased, in this case, the cost of utility for increasing the exhaust amount from the exhaust port 6b increases. Further, the air flow h creates an environment in which particles are likely to enter from the outside. The substrate cleaning apparatus 1 according to the present invention has advantageous effects over the conventional substrate cleaning apparatus 100 in that it does not require such a large utility cost and does not create an environment in which particles are likely to enter from the outside. Play.

図６は、ファン９と円盤状部材の排気静圧を比較するグラフを示した図である。上記基板洗浄装置１のように、回転軸４にファン９を設けた場合は、単に円盤状部材（羽根部材９４を有しない部材、例えば、上記水切板８等）を回転軸４に設けた場合と比較すると、図６に示すように、ファン９又は円盤状部材とカバー５の外壁との距離が所定距離（例えば、15mm）以内であれば、ファン９を回転軸４に取り付けた方が、円盤状部材を取り付けた場合よりも排気静圧が高くなり、ファン９によって生成される気流の影響で排気抵抗が大きくなる。これにより、ファン９を回転軸４に取り付けることによって、ケーシング６内から排気口６ｂを通して外部に排出する排気量を低減することが可能となる。ファン９の回転軸４への取り付け位置を、カバー５の外壁に近い位置に設定すれば、静圧向上に効果的である。また、カバー５の組み立て誤差や設計上の都合等により、カバー５の外壁とファン９との距離を小さくすることができない場合であっても、上記構成でなるファン９を用いることで、若干は静圧を向上させることが可能となる。 FIG. 6 is a diagram showing a graph comparing the exhaust static pressure of the fan 9 and the disk-shaped member. When the fan 9 is provided on the rotating shaft 4 as in the substrate cleaning apparatus 1, a disk-like member (a member not having the blade member 94 such as the draining plate 8) is simply provided on the rotating shaft 4. 6, if the distance between the fan 9 or the disk-shaped member and the outer wall of the cover 5 is within a predetermined distance (for example, 15 mm), as shown in FIG. The exhaust static pressure becomes higher than when a disk-shaped member is attached, and the exhaust resistance increases due to the influence of the airflow generated by the fan 9. Thereby, by attaching the fan 9 to the rotating shaft 4, it becomes possible to reduce the exhaust amount discharged | emitted outside from the inside of the casing 6 through the exhaust port 6b. Setting the attachment position of the fan 9 to the rotating shaft 4 to a position close to the outer wall of the cover 5 is effective in improving the static pressure. Further, even if the distance between the outer wall of the cover 5 and the fan 9 cannot be reduced due to the assembly error of the cover 5 or the design convenience, the use of the fan 9 having the above-described configuration slightly increases It becomes possible to improve static pressure.

本発明に係る基板洗浄装置１の第２実施形態を説明する。図７は、本発明に係る基板処理装置の第２実施形態に係る基板洗浄装置の概略構成を示す側面図である。この第２実施形態に係る基板洗浄装置１０は、ファン９が、ケーシング６の外側における貫通孔６ａの近傍であって外部カバー７の内部に回転軸４に取り付けられている。この第２実施形態に係る基板洗浄装置１０のファン９は、開口部９１を有する環状部材９３１を外側方向（カバー５及びケーシング６とは反対側方向）に向けて取り付けられる。すなわち、環状部材９３１の開口部９１が外部カバー７の貫通孔７ａに対向する状態で、ファン９が回転軸４に取り付けられている。 A second embodiment of the substrate cleaning apparatus 1 according to the present invention will be described. FIG. 7 is a side view showing a schematic configuration of the substrate cleaning apparatus according to the second embodiment of the substrate processing apparatus of the present invention. In the substrate cleaning apparatus 10 according to the second embodiment, the fan 9 is attached to the rotary shaft 4 in the vicinity of the through hole 6 a on the outside of the casing 6 and inside the outer cover 7. The fan 9 of the substrate cleaning apparatus 10 according to the second embodiment is attached with an annular member 931 having an opening 91 facing outward (a direction opposite to the cover 5 and the casing 6). That is, the fan 9 is attached to the rotating shaft 4 with the opening 91 of the annular member 931 facing the through hole 7 a of the outer cover 7.

上記のようにして回転軸４に取り付けられたファン９は、外部カバー７の貫通孔７ａから外部空気が浸入してくると、図７に示す方向に向かう空気流ｉを発生させる。この基板洗浄装置１０の場合、ファン９がケーシング６の外側で回転軸４と一体的に回転し、ケーシング６外側における貫通孔６ａ近傍の空気を、ケーシング６の外壁に沿って回転軸４の周囲に向かわせる気流を発生させるので、ケーシング６の外側における貫通孔６ａ近傍において、ケーシング６の外壁に沿って流れるエアカーテンが生成される。そのため、外部カバー７の貫通孔７ａを通って浸入してきた外部空気を、上記エアカーテンによって、空気流ｉとしてケーシング６の外壁に沿って案内できるので、ケーシング６内部に入り込む外部空気流ｊの量を低減でき、ケーシング６内に入り込むパーティクルの量を低減できる。また、ケーシング６の貫通孔６ａを通ってケーシング６の外部に向かおうとするミスト状の洗浄液は、その進行が上記エアカーテンに遮られるため、ケーシング６から外部へのミスト状洗浄液の漏れを低減することができる。 The fan 9 attached to the rotating shaft 4 as described above generates an air flow i in the direction shown in FIG. 7 when external air enters from the through hole 7a of the external cover 7. In the case of this substrate cleaning apparatus 10, the fan 9 rotates integrally with the rotary shaft 4 outside the casing 6, and the air in the vicinity of the through hole 6 a outside the casing 6 is moved around the rotary shaft 4 along the outer wall of the casing 6. An air curtain that flows along the outer wall of the casing 6 is generated in the vicinity of the through hole 6 a on the outside of the casing 6. Therefore, since the external air that has entered through the through hole 7a of the external cover 7 can be guided along the outer wall of the casing 6 as the air flow i by the air curtain, the amount of the external air flow j that enters the inside of the casing 6 And the amount of particles entering the casing 6 can be reduced. In addition, the mist-like cleaning liquid that is going to the outside of the casing 6 through the through-hole 6a of the casing 6 is blocked by the air curtain so that the leakage of the mist-like cleaning liquid from the casing 6 to the outside is reduced. can do.

なお、本発明は上記実施の形態の構成に限られず種々の変形が可能である。例えば、上記各実施形態では、回転軸４及びブラシ２が水平方向に延びるようにして設けられているが、回転軸４及びブラシ２を傾斜させた姿勢で設けるようにしてもよい。すなわち、回転軸４の一方端側の高さと、他方端側の高さとを異ならせてもよい。これによれば、基板Ｗに対して供給された洗浄液を、上記傾斜によって一定方向（基板Ｗの低い方）に流れるように案内できるので、基板Ｗの表面全域における均一な洗浄液の供給、及び円滑な洗浄液の排除が可能となる。この場合、傾斜姿勢となっている回転軸４及びブラシ２の下方側となる端部付近にミスト状洗浄液が集まりやすくなるが、上述したファン９による空気流の案内により、外部へのミスト状洗浄液の漏れを低減できるため、シール性を向上させることができる。 The present invention is not limited to the configuration of the above embodiment, and various modifications can be made. For example, in each of the above embodiments, the rotation shaft 4 and the brush 2 are provided so as to extend in the horizontal direction, but the rotation shaft 4 and the brush 2 may be provided in an inclined posture. That is, the height on the one end side of the rotation shaft 4 may be different from the height on the other end side. According to this, the cleaning liquid supplied to the substrate W can be guided so as to flow in a certain direction (the lower side of the substrate W) by the inclination, so that the cleaning liquid can be supplied uniformly over the entire surface of the substrate W and smoothly Can be eliminated. In this case, the mist-like cleaning liquid tends to gather near the rotating shaft 4 and the lower end of the brush 2 in the inclined posture, but the mist-like cleaning liquid to the outside is guided by the air flow guidance by the fan 9 described above. Therefore, sealing performance can be improved.

また、上記実施形態では、ブラシ２をロールブラシとしているが、ブラシ２を片持ちのディスクブラシからなるものとしてもよい。 In the above embodiment, the brush 2 is a roll brush, but the brush 2 may be a cantilever disk brush.

本発明に係る基板処理装置の第１実施形態である基板洗浄装置の概略構成を示す側面図である。It is a side view showing a schematic structure of a substrate cleaning device which is a 1st embodiment of a substrate processing device concerning the present invention. ファンの正面図である。It is a front view of a fan. ファンの側面図である。It is a side view of a fan. ファンの斜視図である。It is a perspective view of a fan. 従来の基板洗浄装置の概略構成を示す側面図である。It is a side view which shows schematic structure of the conventional board | substrate cleaning apparatus. ファンと円盤状部材の排気静圧を比較するグラフを示した図である。It is the figure which showed the graph which compares the exhaust air static pressure of a fan and a disk shaped member. 本発明に係る基板処理装置の第２実施形態に係る基板洗浄装置の概略構成を示す側面図である。It is a side view which shows schematic structure of the substrate cleaning apparatus which concerns on 2nd Embodiment of the substrate processing apparatus which concerns on this invention.

符号の説明Explanation of symbols

１，１０基板洗浄装置
２ブラシ
３モータ
４回転軸
５カバー
５ａ貫通孔
６ケーシング
６ａ貫通孔
６ｂ排気口
７外部カバー
７ａ貫通孔
８水切板
９ファン
９１開口部
９２固定部
９２１ネジ締結部
９２２ネジ
９３１，９３２環状部材
９４羽根部材
１００従来の基板洗浄装置
Ｗ基板 DESCRIPTION OF SYMBOLS 1,10 Board | substrate washing | cleaning apparatus 2 Brush 3 Motor 4 Rotating shaft 5 Cover 5a Through-hole 6 Casing 6a Through-hole 6b Exhaust port 7 External cover 7a Through-hole 8 Drain plate 9 Fan 91 Opening part 92 Fixing part 921 Screw fastening part 922 Screw 931 932 Ring member 94 Blade member 100 Conventional substrate cleaning device W substrate

Claims

基板の表面に回転体を作用させて基板を処理する基板処理装置であって、
前記回転体の駆動源に連結される前記回転体の回転軸と、
前記回転体及び当該回転体による処理中の基板が内部に配置され、前記回転軸が貫通する貫通孔を有するカバー部材と、
前記回転軸と一体的に回転駆動され、前記カバー部材の外側における前記貫通孔近傍の気流を、前記回転軸の延びる方向に直交する方向であって、前記回転軸の周囲方向に向かう方向に発生させる気流発生部材と
を備えた基板処理装置。 A substrate processing apparatus for processing a substrate by causing a rotating body to act on the surface of the substrate,
A rotating shaft of the rotating body coupled to a drive source of the rotating body;
A cover member having a through hole in which the rotating body and the substrate being processed by the rotating body are disposed, and through which the rotating shaft passes;
The rotary shaft is driven to rotate integrally with the rotary shaft, and an airflow near the through hole on the outside of the cover member is generated in a direction perpendicular to the extending direction of the rotary shaft and toward the circumferential direction of the rotary shaft. A substrate processing apparatus comprising an airflow generating member.

前記カバー部材から突出された前記回転軸を貫通させる貫通孔が設けられ、前記カバー部材を覆うケース部材を備え、
前記気流発生部材は、前記ケース部材の内側であって、前記ケース部材の貫通孔近傍に配設され、前記ケース部材の内壁に沿って流れる気流を発生させる請求項１に記載の基板処理装置。 A through-hole that penetrates the rotating shaft protruding from the cover member is provided, and includes a case member that covers the cover member;
The substrate processing apparatus according to claim 1, wherein the airflow generating member is disposed inside the case member and in the vicinity of the through hole of the case member, and generates an airflow that flows along an inner wall of the case member.

前記カバー部材から突出された前記回転軸を貫通させる貫通孔が設けられ、前記カバー部材を覆うケース部材を備え、
前記気流発生部材は、前記ケース部材の外側に配設され、前記ケース部材の貫通孔近傍における気流を前記ケース部材の外壁に沿って発生させる請求項１に記載の基板処理装置。 A through-hole that penetrates the rotating shaft that protrudes from the cover member is provided, and includes a case member that covers the cover member;
The substrate processing apparatus according to claim 1, wherein the airflow generating member is disposed outside the case member and generates an airflow in the vicinity of the through hole of the case member along the outer wall of the case member.

前記気流発生部材は、前記回転軸の外周に直交する姿勢で当該外周面に取り付けられる環状部材と、前記回転軸の長さ方向に延びる形状とされると共に、前記環状部材に直交させて取り付けられ、前記回転軸の延びる方向に直交する方向であって、前記回転軸からその周囲方向に向かう空気流を発生させる羽根部材とを備える請求項１乃至請求項３のいずれかに記載の基板処理装置。 The air flow generating member is formed in an annular member attached to the outer peripheral surface in a posture orthogonal to the outer periphery of the rotating shaft, and in a shape extending in the length direction of the rotating shaft, and is attached perpendicular to the annular member. 4. The substrate processing apparatus according to claim 1, further comprising: a blade member that generates an air flow in a direction orthogonal to a direction in which the rotation shaft extends and toward the peripheral direction from the rotation shaft. .

前記回転体及び基板が傾斜姿勢とされた請求項１乃至請求項４のいずれかに記載の基板処理装置。 The substrate processing apparatus according to claim 1, wherein the rotating body and the substrate are inclined.