JP2006048905A - 光記録媒体 - Google Patents

Abstract

【課題】 高速記録用途で良好な記録再生特性が得られる光記録媒体を提供する。
【解決手段】 基板（１）１０１上に反射層（１）１０２及び記録層（１）１０３を積層したディスク基板（逆積層体１１）と、透明な基板（２）１０９上に記録層（２）１０８及び反射層（２）１０７を順次積層したディスク基板（正積層体１２）とを、透明樹脂層１０５を介して貼り合わせた２層型の光記録媒体１００は、透明樹脂層１０５の２５±５℃における弾性率（Ｅ）と厚さ（ｔ）との積（Ｅ×ｔ）が２.０×１０^４ＭＰａ・μｍ以上３０．０×１０^４ＭＰａ・μｍ以下の範囲に調製されることにより、逆積層体１１の記録層（１）１０３に光情報を記録する際に、隣接するトラック部におよぶ過度の変形が抑制されてクロストークが低減し、高速記録用途で良好な記録再生特性が得られる。
【選択図】 図１

Description

本発明は光記録媒体に関し、より詳しくは、高速記録が可能で、且つ良好な記録再生特性が得られる光記録媒体に関する。

近年、ＣＤ−Ｒ、ＣＤ−ＲＷ、ＭＯ等の各種光記録媒体は、大容量の情報を記憶することができ、また、ＤＶＤ−ＲＡＭのように、ランダムアクセスが容易な媒体も開発され、コンピュータ等の情報処理装置における外部記憶装置として広く認知されている。例えば、有機色素含有記録層を有する代表的なＣＤ−Ｒ等は、透明ディスク基板上に色素記録層と反射層とをこの順に有し、これらの記録層や反射層を覆う保護層を有する積層構造であり、基板を通してレーザ光にて記録・再生が行われる。また、これら光記録媒体の記録容量をさらに大容量化するために、１枚の媒体に複数の記録層を設けた多層型光記録媒体が開発され、例えば、ディスク状の透明な第１の基板上に、紫外線硬化性樹脂からなる中間層を挟んで２個の色素記録層を有する２層型光記録媒体が報告されている（特許文献１参照）。

このような、２層型光記録媒体は、透明スタンパを用いる２Ｐ（Ｐｈｏｔｏ Ｐｏｌｙｍｅｒｉｚａｔｉｏｎ）法と、記録層及び反射層を積層したディスク基板を２枚形成し、光硬化性樹脂層を介して貼着する方法とが知られている。例えば、２Ｐ法では、第１の記録層及び第１の反射層が設けられた第１の基板上に、光硬化性樹脂原料を塗布し、この塗布面上に凹凸形状を有する透明スタンパを載置した後、光硬化性樹脂原料を硬化させ、次に透明スタンパを剥離して光硬化性樹脂の表面に凹凸を転写させ、さらにこの凹凸表面に、第２の記録層と第２の反射層とを順次に形成し、最後に第２の基板を接着することにより製造する。２個の記録層には、第１の基板側から入射する記録再生光を用いて光情報を記録・再生する。

記録層及び反射層を積層したディスク基板を２枚貼着する方法では、記録トラック用の案内溝が形成された基板上に記録層と反射層とをこの順に積層（以下、「順積層体」ということがある。）した第１のディスク基板と、これに対して、基板上に反射層と記録層とをこの順に積層（以下、「逆積層体」ということがある。）した第２ディスク基板と、を形成し、それぞれのディスク基板に光硬化性樹脂を塗布した後、この塗布面同士を合わせて光硬化性樹脂を硬化させることにより製造する。２個の記録層には、第１のディスク基板側から入射する記録再生光を用いて光情報が記録・再生される。このようなディスク基板を２枚貼着する方法は、２Ｐ法のように、透明スタンパの凹凸形状を転写する工程が不要であり、生産性に優れ、低コスト化が図れると考えられる。

特開２０００−３１１３８４号公報（（０００８）欄〜（００１９）欄等参照）

ところで、有機色素を含有する記録層を備えた光記録媒体においては、高速記録用途におけるクロストークの発生をより抑制したいという課題がある。
即ち、有機色素を含有する記録層は、通常、集光された記録用レーザ光を吸収した色素が分解し、その部分の膜厚が減少すると共に圧力が高まり、高温に曝された記録層周辺が変形して記録部が形成される。この場合、変形した記録部が隣接トラック部に拡大し、また、複数トラックに記録が行われるとクロストークが増大する傾向があり、良好なジッターが得られにくくなるという現象が生じる。
ここで、複数トラックに情報を記録し、隣接する両側のトラックに記録された信号を再生したときのジッターをＭＴ（％）と称する。また、隣接するトラックに記録がない状態で１つのトラックのみに記録した部分を再生して得られるジッターをＳＴ（％）と称する。ＭＴ（％）には、クロストークの影響が含まれるのに対し、ＳＴ（％）にはクロストークの影響は含まれない。
さらに、高速記録の場合、記録パルスが短小化するため、低速記録の場合より高パワーの記録用レーザ光を用いて色素を分解する必要がある。その結果、記録層が低速記録の場合より高温にさらされるため、クロストークの増大が顕著となりやすい。

このようなクロストークの発生は、特に、２枚のディスク基板を貼着する方法により形成される２層型光記録媒体において、記録再生光の入射面から奥側の第２層目の記録層において顕著に見られる。前述したように、２枚のディスク基板を貼着する方法により形成される２層型光記録媒体の第２層目の記録層は、基板上に反射層と記録層とを積層した逆積層体のディスク基板に設けられている。このような逆積層体において、基板の溝間部に光情報を記録をする場合は、記録変調度を確保するために、溝間部の記録層の膜厚を厚くする必要がある。その場合、記録部の隣接トラックは基板の溝部であるために、溝間部よりも記録層膜厚が厚くなりやすい。このために、溝部の記録層膜厚が厚くなる分、記録マークが横に広がり、クロストークが増大しやすくなる。このような溝部と溝間部との記録膜厚の差は、有機色素溶液を塗布する場合に発生しやすい。

また、２層型光記録媒体における記録再生光の入射面から奥側に設けた第２の基板は、記録再生光の反射率を確保するために、案内溝の深さが従来よりも浅く設定されている。このため、案内溝の物理的障壁効果が小さくなり、記録時に基板の樹脂の流動変形等による過度の変形が生じ、クロストークが増大しやすい。

本発明は、このような課題を解決するためになされたものである。
即ち、本発明の目的は、高速記録用途において良好な記録再生特性が得られる光記録媒体を提供することにある。

かかる課題を解決するために、本発明においては、逆積層体に接する透明樹脂層の弾性率（Ｅ）と厚さ（ｔ）との積（Ｅ×ｔ）を、特定の範囲に調節している。
即ち、本発明によれば、基板と、反射層と記録層とをこの順に有する逆積層体と、逆積層体の記録層側に設けられる透明樹脂層と、を具え、透明樹脂層の厚さ（ｔ）と２５±５℃における弾性率（Ｅ）との積（Ｅ×ｔ）が２．０×１０^４ＭＰａ・μｍ以上である光記録媒体が提供される。

ここで、透明樹脂層の厚さ（ｔ）と２５±５℃における弾性率（Ｅ）との積（Ｅ×ｔ）は、３０．０×１０^４ＭＰａ・μｍ以下であることが好ましい。
また、透明樹脂層を構成する樹脂の２５±５℃における弾性率（Ｅ）が、３.０×１０^３ＭＰａ以上６.０×１０^３ＭＰａ以下であることが好ましい。

さらに、本発明が適用される光記録媒体において、逆積層体を構成する記録層が、有機色素を含有するものであることが好ましい。特に、後述する図１に示すような２層型の光記録媒体において、基板、反射層及び記録層からなる逆積層体に記録したときのクロスストークが低減し、ＭＴ（％）が改善される。尚、基板と反射層との間、または反射層と記録層との間に、適宜他の層を設けてもよい。

また、本発明が適用される光記録媒体において、逆積層体を構成する記録層と接する透明樹脂層との間に、中間層をさらに設けることが好ましい。中間層を設けることにより、透明樹脂層からしみ出る成分が、透明樹脂層と接する記録層を汚濁または溶解することを防止することができる。

さらに、本発明が適用される光記録媒体において、逆積層体と接する透明樹脂層の、逆積層体側とは反対側に、第２の反射層と第２の記録層と透明基板とを順番に設けることにより、多層型の光記録媒体に展開することができる。

一方、本発明は、光照射により光情報の記録・再生が行われる記録層と、記録層の光入射面側に設けられた透明樹脂層と、記録層の光入射面とは反対側に設けられた反射層と、を有し、透明樹脂層の厚さ（ｔ）と２５±５℃における弾性率（Ｅ）との積（Ｅ×ｔ）が２．０×１０^４ＭＰａ・μｍ以上である光記録媒体として把握することができる。
即ち、光入射面とは反対側に反射層を有する記録層の光入射面側に、特定の（Ｅ×ｔ）の数値を示す透明樹脂層を設けた構成を有する光記録媒体において、隣接するトラック部に及ぶ過度の変形が抑制され、高速記録でのクロストークが低減し、さらにジッターを改善することが可能である。このような性能の改善は、膜面入射型の光記録媒体に限らず、多層型の光記録媒体において、光入射面から奥側に設けられた記録層において顕著である。
ここで、透明樹脂層が、ガラス転移温度１５０℃以上を有する透明樹脂から構成されることが好ましい。このような透明樹脂を用いて透明樹脂層を構成することにより、透明樹脂層の硬さを増大させ、ジッターを改善すると考えられる。

また、本発明によれば、基板、反射層、記録層及び透明樹脂層をこの順番に有する光記録媒体であって、反射層は、銀（Ａｇ）を主成分とする金属を含み、且つ、膜厚が３０ｎｍ以上８０ｎｍ以下であることを特徴とする光記録媒体が提供される。
即ち、本発明が適用される光記録媒体は、基板、反射層、記録層及び透明樹脂層をこの順番に有する逆積層体構造を有し、銀を主成分とする金属を含む反射層の膜厚を３０ｎｍ以上８０ｎｍ以下とすると、記録層側から反射層に入射した光ビームの一部を透過させることができる。そうすると、記録層に情報を記録する際のエネルギーが拡散するため、例えば、有機色素を含む記録層に記録マークが形成される追記型光記録媒体の場合、隣接トラックに記録マークがはみ出す（クロストーク）現象が抑制され、その結果、ジッターを改善することが可能である。
ここで、反射層が、Ａｇを５０％以上含むことが好ましく、さらに、Ａｇを主成分とし、Ｔｉ、Ｂｉ、Ｚｎ、Ｃｕ、Ｐｄ及び希土類金属のうち１種以上の元素を０．１原子％〜１５原子％含有することが好ましい。

かくして本発明によれば、高速記録用途において良好な記録再生特性が得られる光記録媒体が得られる。

以下、本発明を実施するための最良の形態（以下、発明の実施の形態）について説明する。尚、本発明は、以下の実施の形態に限定されるものではなく、その要旨の範囲内で種々変形して実施することが出来る。
（第１の実施形態）
図１は、本実施の形態が適用される光記録媒体の第１の実施形態（この例では、片側入射２層型ＤＶＤ）を説明する図である。図１には、透明基板上に反射層及び記録層を積層したディスク基板（逆積層体１１）と、透明基板上に記録層及び反射層を順次積層したディスク基板（正積層体１２）と、からなる２層型の光記録媒体１００が示されている。

図１に示すように、光記録媒体１００は、逆積層体１１として、溝及びランド又はプリピットが形成されたディスク状の光透過性の基板（１）１０１と、この基板（１）１０１のレーザ光１１０の入射面側に設けられた反射層（１）１０２と、色素を含む記録層（１）１０３と、中間層１０４と、を有している。また、正積層体１２として、溝及びランド又はプリピットが形成されたディスク状の光透過性の基板（２）１０９と、基板（２）１０９上に設けられた色素を含む記録層（２）１０８と、基板（２）１０９側から入射したレーザ光１１０のパワーを振り分ける半透明の反射層（２）１０７と、反射層（２）１０７上に設けられた保護コート層１０６と、を有する。そして、逆積層体１１と正積層体１２とは、中間層１０４と保護コート層１０６とが対向するように、透明樹脂層１０５を介して積層され、２層型の光記録媒体１００を構成している。また、記録層（１）１０３及び記録層（２）１０８は、正積層体１２の基板（２）１０９側から入射したレーザ光１１０により、光情報の記録再生が行われる。

（逆積層体）
次に、光記録媒体１００を構成する逆積層体１１の各層について説明する。図１に示すように、逆積層体１１は、基板（１）１０１と、基板（１）１０１上に積層された反射層（１）１０２、記録層（１）１０３及び中間層１０４（以下、Ｌ１層ということがある。）とから構成される。

（基板（１））
基板（１）１０１を構成する材料は、光透過性を有し、複屈折率が小さい等光学特性に優れることが望ましい。また射出成形が容易である等成形性に優れることが望ましい。さらに、吸湿性が小さいことが望ましい。さらに、光記録媒体１００がある程度の剛性を有するよう、形状安定性を備えるのが望ましい。このような材料としては、特に限定されないが、例えば、アクリル系樹脂、メタクリル系樹脂、ポリカーボネート樹脂、ポリオレフィン系樹脂（特に非晶質ポリオレフィン）、ポリエステル系樹脂、ポリスチレン樹脂、エポキシ樹脂、ガラス等が挙げられる。また、ガラス等の基体上に、光硬化性樹脂等の放射線硬化樹脂からなる樹脂層を設けたもの等も使用できる。これらの中でも、光学特性、成形性等の高生産性、コスト、低吸湿性、形状安定性等の点からはポリカーボネートが好ましい。また、耐薬品性、低吸湿性等の点からは、非晶質ポリオレフィンが好ましい。また、高速応答性等の点からは、ガラス基板が好ましい。

また、基板（１）１０１は、必ずしも光透過性が必要ではないので、機械的安定性を高め、剛性を大きくするために、適当な材料からなる裏打ちを設けることができる。このような材料としては、例えば、Ａｌを主成分としたＡｌ−Ｍｇ合金等のＡｌ合金基板；Ｍｇを主成分としたＭｇ−Ｚｎ合金等のＭｇ合金基板；シリコン、チタン、セラミックス、紙等の基板またはこれらの組み合わせが挙げられる。

逆積層体１１を構成する基板（１）１０１の案内溝部の溝深さは、記録再生波長をλとして、通常、λ／１００以上、好ましくは、２λ／１００以上、さらに好ましくは、３λ／１００以上であり、但し、λ／６以下が好ましい。例えば、記録再生光の波長（記録再生波長）がλ＝６６０ｎｍの場合、基板（１）１０１の溝深さは、通常、６．６ｎｍ以上、好ましくは１３ｎｍ以上、さらに好ましくは、２０ｎｍ以上である。

また、基板（１）１０１の溝深さの上限は、この例の場合には、１１０ｎｍ以下とすることが好ましい。特に、本実施の形態が適用される光記録媒体１００の場合、基板（２）１０９及び透明樹脂層１０５を介して記録層（１）１０３に入射するレーザ光１１０の光量及び反射光量は、記録層（２）１０８及び反射層（２）１０７により減衰され、反射率が低くなるために、７λ／１００以下が好ましい溝深さの上限となる。例えば記録再生波長をλ＝６６０ｎｍとすると、基板（１）１０１の溝深さは、４６．２ｎｍ以下とするのが好ましい。より好ましくは６λ／１００以下である。

逆積層体１１における基板（１）１０１の溝幅は、トラックピッチをＴとして、通常、Ｔ／１０以上、好ましくは、２Ｔ／１０以上、さらに好ましくは、３Ｔ／１０以上である。但し、通常、８Ｔ／１０以下、好ましくは７Ｔ／１０以下、さらに好ましくは６Ｔ／１０以下である。基板（１）１０１の溝幅がこの範囲であれば、トラッキングを良好に行うことができ、十分な反射率を得ることができる。例えば、トラックピッチを７４０ｎｍとすると、基板（１）１０１の溝幅は、通常、７４ｎｍ以上、好ましくは１４８ｎｍ以上、さらに好ましくは２２２ｎｍ以上とする。また、上限は、この例の場合には、通常、５９２ｎｍ以下、より好ましくは５１８ｎｍ以下、さらに好ましくは４４４ｎｍ以下とする。基板（１）１０１はある程度厚いことが好ましく、基板（１）１０１の厚さは、通常、０．３ｍｍ以上が好ましい。但し、３ｍｍ以下、好ましくは１．５ｍｍ以下である。

（反射層（１））
逆積層体１１の反射層（１）１０２を構成する材料としては、特に限定されないが、例えば、Ａｕ、Ａｌ、Ａｇ、Ｃｕ、Ｔｉ、Ｃｒ、Ｎｉ、Ｐｔ、Ｔａ、Ｐｄ、Ｍｇ、Ｓｅ、Ｈｆ、Ｖ、Ｎｂ、Ｒｕ、Ｗ、Ｍｎ、Ｒｅ、Ｆｅ、Ｃｏ、Ｒｈ、Ｉｒ、Ｚｎ、Ｃｄ、Ｇａ、Ｉｎ、Ｓｉ、Ｇｅ、Ｔｅ、Ｐｂ、Ｐｏ、Ｓｎ、Ｂｉ、希土類金属等の金属及び半金属を単独または合金にして用いることが可能である。これらの中でも、Ａｕ、Ａｌ、Ａｇが好ましく、特に、Ａｇを５０％以上含有する金属材料はコストが安い点、反射率が高い点から好ましい。

また、Ａｇを主成分とし、Ｔｉ、Ｚｎ、Ｃｕ、Ｐｄ、Ａｕ及び希土類金属よりなる群から選ばれる少なくとも１種の元素を０．１原子％〜１５原子％含有することが好ましい。Ｔｉ、Ｂｉ、Ｚｎ、Ｃｕ、Ｐｄ、Ａｕ及び希土類金属のうち２種以上の元素を含む場合は、各々の含有量を０．１〜１５原子％としてもかまわないが、それらの合計含有量が０．１原子％〜１５原子％であることが好ましい。

さらに好ましい合金組成は、Ａｇを主成分とし、Ｔｉ、Ｂｉ、Ｚｎ、Ｃｕ、Ｐｄ、Ａｕよりなる群から選ばれる少なくとも１種の元素を０．１原子％〜１５原子％含有し、必要に応じ、少なくとも１種の希土類元素を０．１原子％〜１５原子％含有するものである。希土類金属の中では、ネオジウムが特に好ましい。具体的には、ＡｇＰｄＣｕ、ＡｇＣｕＡｕ、ＡｇＣｕＡｕＮｄ、ＡｇＣｕＮｄ、ＡｇＢｉ、ＡｇＢｉＮｄ等である。尚、本実施の形態において使用される合金の組成比は上述した範囲のものである。
尚、「Ａｇを主成分とする」とは、合金組成中のＡｇが、通常５０％以上、好ましくは７０％以上、より好ましくは８０％以上のことをいう。また、純Ａｇを用いることも可能である。

反射層（１）１０２としては、Ａｕのみからなる層は結晶粒が小さく、耐食性に優れ好適である。また、反射層（１）１０２としてＳｉからなる層を用いることも可能である。さらに、金属以外の材料で低屈折率薄膜と高屈折率薄膜を交互に積み重ねて多層膜を形成し、反射層として用いることも可能である。
反射層（１）１０２を形成する方法としては、例えば、スパッタ法、イオンプレーティング法、化学蒸着法、真空蒸着法等が挙げられる。
逆積層体１１における反射層（１）１０２は、高反射率、かつ高耐久性であることが望ましい。高反射率を確保するために、反射層（１）１０２の厚さは、通常、３０ｎｍ以上、好ましくは、４０ｎｍ以上、さらに好ましくは５０ｎｍ以上である。但し、生産上のタクトタイムを短縮しコストを低減するためには、通常、４００ｎｍ以下、好ましくは３００ｎｍ以下である。

ここで、本実施の形態が適用される光記録媒体１００において、逆積層体１１の反射層（１）１０２が銀を主成分とする金属を含む場合は、反射層（１）１０２の膜厚は、３０ｎｍから８０ｎｍの範囲とすることがさらに好ましい。特に、銀を主成分とする反射層（１）１０２の膜厚が３０ｎｍから８０ｎｍの範囲の場合は、反射層（１）１０２の反射率の低下と透過率の上昇とがバランスすることによりエネルギー拡散が生じ、その結果、クロストークが改善できる傾向にある。
逆積層体１１において、反射層（１）１０２が銀を主成分とする金属を含み、且つ、膜厚が上述した特定の範囲の場合に、クロストークが改善できる傾向にある理由は、以下のように考えられる。即ち、反射層（１）１０２の膜厚を薄くするほど、反射層（１）１０２の反射率（Ｒ）は低下し、一方、反射層（１）１０２の透過率（Ｔ）は上昇する。ここで、図５は、反射層の膜厚と透過率（Ｔ）、反射層の膜厚と反射率（Ｒ）との関係を説明する図である。図５（ａ）は反射層の膜厚と透過率（Ｔ）との関係を示し、図５（ｂ）は反射層の膜厚と反射率（Ｒ）との関係を示す。図５（ａ）に示すように、反射層の膜厚が８０ｎｍ付近より薄くなると透過率（Ｔ）が上昇し、膜厚が３０ｎｍより薄くなると透過率（Ｔ）は５％を超える。また、図５（ｂ）に示すように、反射層の膜厚が８０ｎｍ付近より薄くなると反射率（Ｒ）が低下し、膜厚が３０ｎｍより薄くなると反射率（Ｒ）は８５％未満となる。尚、図５において、反射率（Ｒ）及び透過率（Ｔ）は、波長６５０ｎｍの光の場合に、単層の銀反射層（但し、屈折率ｎ＝０．０５、消衰係数ｋ＝４．２５）について計算したものである。
このように、反射層（１）１０２の透過率（Ｔ）が上昇するに伴いエネルギー拡散が生じる。そうすると、記録層（１）１０３における記録時の記録マーク内や記録マーク間の熱干渉が低減し、その結果、記録層（１）１０３における過度の蓄熱や変化が抑制され、クロストークが低減されると考えられる。
また、反射層（１）１０２の膜厚を従来よりも薄く形成することにより、その反射層（１）１０２が基板の溝の形状をより厳密にカバーする（トレースする）傾向がある。そのため、トラックピッチを狭くした場合においても、溝部と溝間部とが明確に分けられるため、クロストークが低減される可能性がある。
尤も、反射層（１）１０２の膜厚が過度に薄いと、反射率（Ｒ）が急激に低下するため好ましくない。そのため、記録層（１）１０３の膜厚は３０ｎｍ以上であることが好ましく、より好ましくは４０ｎｍ以上である。また、通常、銀を主成分とする金属を含む反射層の膜厚は１００ｎｍ以上であるが、この場合は、透過率（Ｔ）が低いのでエネルギー拡散がほとんど生じない。このため、記録層（１）１０３の膜厚は８０ｎｍ以下であることが好ましい。
また、反射層（１）１０２を、通常の１００ｎｍより薄い膜厚で形成する場合は、スパッタ時間が短縮できるとともに、スパッタの際に、基板（１）１０１の温度上昇が低減される。このため、スパッタされる原子の凝集（ｍｉｇｒａｔｉｏｎ）が緩和されるために、粒径が小さく、良質で表面粗さの小さい反射層（１）１０２が形成できる可能性があり、コストパフォーマンスも改善される。

（記録層（１））
逆積層体１１における記録層（１）１０３は、通常、例えば、ＣＤ−Ｒ、ＤＶＤ−Ｒ、ＤＶＤ＋Ｒ等の片面型記録媒体に用いられる記録層と同程度の感度の色素を含有する。このような色素は、３５０ｎｍ〜９００ｎｍ程度の可視光〜近赤外域に最大吸収波長λｍａｘを有し、青色〜近マイクロ波レーザでの記録に適する色素化合物が好ましい。中でも、通常ＣＤ−Ｒに用いられるような波長７７０ｎｍ〜８３０ｎｍ程度の近赤外レーザ（例えば、７８０ｎｍ、８３０ｎｍ）、ＤＶＤ−Ｒに用いられるような波長６２０ｎｍ〜６９０ｎｍ程度の赤色レーザ（例えば、６３５ｎｍ、６６０ｎｍ、６８０ｎｍ）、波長４１０ｎｍ又は５１５ｎｍ等のいわゆるブルーレーザ等による記録に適する色素がより好ましい。尚、相変化型材料を使用することも可能である。

記録層（１）１０３に使用される色素としては、特に限定されないが、通常、有機色素材料が使用される。有機色素材料としては、例えば、大環状アザアヌレン系色素（フタロシアニン色素、ナフタロシアニン色素、ポルフィリン色素等）、ピロメテン系色素、ポリメチン系色素（シアニン色素、メロシアニン色素、スクワリリウム色素等）、アントラキノン系色素、アズレニウム系色素、含金属アゾ系色素、含金属インドアニリン系色素等が挙げられる。これらの中でも、含金属アゾ系色素は、記録感度に優れ、かつ耐久性、耐光性に優れるため好ましい。これらの色素は１種又は２種以上混合して用いても良い。

また、記録層（１）１０３には、記録層の安定や耐光性向上のために、一重項酸素クエンチャーとして遷移金属キレート化合物（例えば、アセチルアセトナートキレート、ビスフェニルジチオール、サリチルアルデヒドオキシム、ビスジチオーαージケトン等）等や、記録感度向上のために金属系化合物等の記録感度向上剤を含有していても良い。ここで金属系化合物とは、遷移金属等の金属が原子、イオン、クラスター等の形で化合物に含まれるものを言い、例えば、エチレンジアミン系錯体、アゾメチン系錯体、フェニルヒドロキシアミン系錯体、フェナントロリン系錯体、ジヒドロキシアゾベンゼン系錯体、ジオキシム系錯体、ニトロソアミノフェノール系錯体、ピリジルトリアジン系錯体、アセチルアセトナート系錯体、メタロセン系錯体、ポルフィリン系錯体のような有機金属化合物が挙げられる。金属原子としては特に限定されないが、遷移金属であることが好ましい。

さらに、記録層（１）１０３には、必要に応じて、バインダー、レベリング剤、消泡剤等を併用することもできる。好ましいバインダーとしては、ポリビニルアルコール、ポリビニルピロリドン、ニトロセルロース、酢酸セルロース、ケトン系樹脂、アクリル系樹脂、ポリスチレン系樹脂、ウレタン系樹脂、ポリビニルブチラール、ポリカーボネート、ポリオレフィン等が挙げられる。

記録層（１）１０３の成膜方法としては、特に限定されないが、通常、真空蒸着法、スパッタリング法、ドクターブレード法、キャスト法、スピンコート法、浸漬法等一般に行われている薄膜形成法が挙げられるが、量産性、コスト面からはスピンコート法等の湿式製膜法が好ましい。また、均一な記録層が得られるという点から、真空蒸着法が好ましい。

スピンコート法による成膜の場合、回転数は１０ｒｐｍ〜１５０００ｒｐｍが好ましく、スピンコートの後、一般的に加熱処理を行い、溶媒を除去する。ドクターブレード法、キャスト法、スピンコート法、浸漬法等の塗布方法により記録層を形成する場合の塗布溶媒としては、基板を侵さない溶媒であればよく、特に限定されない。例えば、ジアセトンアルコール、３−ヒドロキシ−３−メチル−２−ブタノン等のケトンアルコール系溶媒；メチルセロソルブ、エチルセロソルブ等のセロソルブ系溶媒；ｎ−ヘキサン、ｎ−オクタン等の鎖状炭化水素系溶媒；シクロヘキサン、メチルシクロヘキサン、エチルシクロヘキサン、ジメチルシクロヘキサン、ｎ−ブチルシクロヘキサン、ｔｅｒｔ−ブチルシクロヘキサン、シクロオクタン等の環状炭化水素系溶媒；テトラフルオロプロパノール、オクタフルオロペンタノール、ヘキサフルオロブタノール等のパーフルオロアルキルアルコール系溶媒；乳酸メチル、乳酸エチル、２−ヒドロキシイソ酪酸メチル等のヒドロキシカルボン酸エステル系溶媒等が挙げられる。

これらの溶媒を除去するための加熱処理は、溶媒を除去し、且つ、簡便な設備により行うという観点から、通常、使用する溶媒の沸点よりやや低い温度で行われ、通常、６０℃〜１００℃の範囲で行われる。また、加熱処理の方法は、特に限定されないが、例えば、基板（１）１０１上に記録層（１）１０３を形成するために色素を含有する溶液を塗布して成膜した後、所定の温度で所定時間（通常、５分間以上、好ましくは１０分間以上、但し、通常、３０分間以内、好ましくは２０分間以内）保持する方法が挙げられる。また、赤外線、遠赤外線を短時間（例えば、５秒間〜５分間）照射し、基板（１）１０１を加熱する方法も可能である。

真空蒸着法の場合は、例えば、有機色素と、必要に応じて各種添加剤等の記録層成分を、真空容器内に設置されたるつぼに入れ、真空容器内を適当な真空ポンプで１０^−２〜１０^−５Ｐａ程度にまで排気した後、るつぼを加熱して記録層成分を蒸発させ、るつぼと向き合って置かれた基板上に蒸着させることにより行われる。

逆積層体１１の記録層（１）１０３の厚さは、通常、５０ｎｍ以上、好ましくは、６０ｎｍ以上であり、但し、通常、１５０ｎｍ以下、好ましくは、１００ｎｍ以下である。記録層（１）１０３の厚さがこの範囲とすれば、充分な記録信号振幅を確保しつつ、感度の低下を抑制することができる。また、記録層（１）１０３の厚さが過度に大きいと、感度が低下する場合がある。

（中間層）
中間層１０４は、必要に応じて、逆積層体１１に設けられる。一般的に、中間層１０４は、透明樹脂層１０５からしみ出る成分が記録層（１）１０３を汚濁または溶解することを防止するため、記録層（１）１０３と透明樹脂層１０５の間に設けられる。中間層１０４の厚さは、通常、１ｎｍ以上、好ましくは、２ｎｍ以上である。中間層１０４の厚さがこの範囲とすれば、透明樹脂層の１０５からしみ出る成分を効果的に抑制できる。但し、中間層１０４の厚さは、２０００ｎｍ以下が好ましく、より好ましくは５００ｎｍ以下である。中間層１０４の厚さがこの範囲とすれば、光の透過率の低下を防止できる。また、中間層１０４を無機物からなる層とする場合には、成膜に時間を要する場合があるので、生産性の低下を抑制し、膜応力が高くなることを良好な範囲にするために、２００ｎｍ以下とすることが好ましい。特に、中間層１０４に金属を用いる場合は、光の透過率が過度に低下することを防止するために、中間層１０４の厚さを２０ｎｍ以下とすることが好ましい。

中間層１０４を構成する材料としては、例えば、金属薄膜、酸化ケイ素、窒化ケイ素、ＭｇＦ_２、ＳｎＯ_２、ＺｎＳ−ＳｎＯ_２等の誘電体が挙げられる。
尚、基板（１）１０１と記録層（１）１０３との間、基板（２）１０９と記録層（２）１０８との間、記録層（２）１０８と反射層（２）１０７との間等に、それぞれ中間層１０４と同様な材料からなる層を設けても良い。

（透明樹脂層）
次に、逆積層体１１のレーザ光１１０の入射面側に接して設けられた透明樹脂層１０５について説明する。
本実施の形態が適用される２層型の光記録媒体１００における透明樹脂層１０５は、基板（２）１０９側から入射するレーザ光１１０が記録層（１）１０３に到達する程度の光透過性材料から構成される。特に、逆積層体１１との関係においては、透明樹脂層１０５の弾性率（Ｅ）（単位：ＭＰａ）と透明樹脂層１０５の厚さ（ｔ）（単位：μｍ）との積（Ｅ×ｔ）（単位：ＭＰａ・μｍ）が、所定の数値以上の大きさを有することにより、逆積層体１１の記録層（１）１０３の光情報の記録において、隣接するトラック部におよび過度の変形を抑制することができる。その結果、光記録媒体１００は、Ｌ１層の高速記録におけるクロストークが低減し、ジッターが改善される。ここで、透明樹脂層１０５の「透明」とは、光記録媒体１００に入射するレーザ光１１０を散乱する構造を有しない、という意味である。ここで、「散乱」は、光記録媒体１００の記録再生特性に大きな影響を与える程度の散乱をいう。

本実施の形態が適用される２層型の光記録媒体１００において、透明樹脂層１０５の弾性率（Ｅ）（単位：ＭＰａ、但し、温度２５±５℃における測定値。）と透明樹脂層１０５の厚さ（ｔ）（単位：μｍ）との積（Ｅ×ｔ）（単位：ＭＰａ・μｍ）は、２．０×１０^４ＭＰａ・μｍ以上、好ましくは、２．５×１０^４ＭＰａ・μｍ以上、より好ましくは４．０×１０^４ＭＰａ・μｍ以上、さらに好ましくは５．０×１０^４ＭＰａ・μｍ以上、特に好ましくは７．０×１０^４ＭＰａ・μｍ以上であり、より特に好ましくは９．０×１０^４ＭＰａ・μｍ以上であり、最も好ましくは１０．０×１０^４ＭＰａ・μｍ以上である。（Ｅ×ｔ）が２．０×１０^４ＭＰａ・μｍ以上の場合は、透明樹脂層１０５の機械強度（剛直性）を確保することができ、Ｌ１層（図１）の記録層（１）１０３の光情報の記録において、隣接するトラック部におよび過度の変形を抑制することができる。

但し、透明樹脂層１０５の弾性率（Ｅ）（単位：ＭＰａ）と透明樹脂層１０５の厚さ（ｔ）（単位：μｍ）との積（Ｅ×ｔ）（単位：ＭＰａ・μｍ）の上限は、通常、３０．０×１０^４ＭＰａ・μｍ以下、好ましくは２１．０×１０^４ＭＰａ・μｍ以下、より好ましくは１７．５×１０^４ＭＰａ・μｍ以下、さらに好ましくは１３．５×１０^４ＭＰａ・μｍ以下である。（Ｅ×ｔ）の上限が３０．０×１０^４ＭＰａ・μｍ以下の場合、２層型の光記録媒体１００のＬ１層（図１）に対してフォーカスを良好にかけることが可能となり、記録層（１）１０３を適切に記録再生できる。また、例えば、膜面入射型の光記録媒体の場合に、対物レンズの焦点距離を小さくでき、高密度記録を良好に行うことができる。

透明樹脂層１０５を構成する樹脂として、通常、弾性率（Ｅ）が、１．０×１０^３ＭＰａ以上、好ましくは、２．０×１０^３ＭＰａ以上、より好ましくは、３．０×１０^３ＭＰａ以上、さらに好ましくは、４．０×１０^３ＭＰａ以上とする。弾性率（Ｅ）が１．０×１０^３ＭＰａ以上の樹脂を用いて（Ｅ×ｔ）が２．０×１０^４ＭＰａ・μｍ以上となるように透明樹脂層１０５を構成することにより、Ｌ１層（図１）の記録・再生において、いわゆる閉じこめ効果がより高められる。但し、弾性率（Ｅ）の上限は、通常、６．０×１０^３ＭＰａ以下である。弾性率（Ｅ）が６．０×１０^３ＭＰａ以下の樹脂を用いることにより、例えば、塗布等の溶液法により透明樹脂層１０５を製膜することが可能となり、工業的に有利である。

次に、透明樹脂層１０５の厚さ（ｔ）について説明する。図３は、透明樹脂層の厚さ（ｔ）について説明する図である。図３（ａ）は、透明樹脂層が単一樹脂で構成されている場合であり、図３（ｂ）は、透明樹脂層が複数の樹脂層から構成されている場合である。即ち、透明樹脂層１０５の厚さ（ｔ）は、透明樹脂層１０５が単一樹脂で構成されている場合（ケースａ）と、透明樹脂層１０５が複数の樹脂層から構成されている場合（ケースｂ）とで、以下のように説明される。

（ケースａ）
図３（ａ）に示すように、逆積層体に接する透明樹脂層が単一樹脂で構成されている場合は、透明樹脂層の膜厚（ｈ）の２分の１（ｈ／２）であって、逆積層体に接する側の部分の膜厚を透明樹脂層の厚さ（ｔ）とする。
透明樹脂層１０５が単一の樹脂から構成される場合、逆積層体１１のＬ１層のクロストークに大きな影響をもたらすのは、透明樹脂層１０５の逆積層体１１に接している部分であると考えられる。即ち、透明樹脂層１０５の逆積層体１１に接していない側の部分は、Ｌ１層の記録層（１）１０３に光情報を記録する場合に、隣接トラック方向への拡大を抑制する局所的な拘束力を与える働きに乏しいと考えられる。従って、透明樹脂層１０５が単一樹脂で構成されている場合は、Ｌ１層とＬ０層（図１参照）との間隔の２分の１であって、逆積層体１１に接する側の部分の膜厚を透明樹脂層１０５の厚さ（ｔ）とする。

図１に示す２層型の光記録媒体１００の場合、透明樹脂層１０５の膜厚（ｈ）は、通常、２００μｍ以下、好ましくは１００μｍ、より好ましくは８０μｍ以下である。特に、ＤＶＤ２層ディスク規格においては、Ｌ１層とＬ０層との間隔は４０μｍ〜７０μｍが好ましいとされているため、この場合、透明樹脂層１０５の膜厚（ｈ）は、７０μｍ以下が好ましい。例えば、（ケースａ）の場合の透明樹脂層１０５の厚さ（ｔ）は、通常、２０μｍ以上である。尚、もし、透明樹脂層１０５の膜厚（ｈ）が５μｍ以下の場合は、透明樹脂層１０５の厚さ（ｔ）は、５μｍとする。また、透明樹脂層１０５の膜厚（ｈ）が３５μｍ以上の場合は、透明樹脂層１０５の厚さ（ｔ）は３５μｍとする。

（ケースａ）の場合において、透明樹脂層１０５の厚さ（ｔ）が、この範囲の場合は、２層型の光記録媒体１００のＬ１層に良好にフォーカスをかけることが可能となり、Ｌ０層とＬ１層を光学的に分けて良好に再生することができ、且つ、記録層（１）１０３を適切に記録再生できる。また、例えば、後述するように、図２に示すような、膜面入射型の光記録媒体の場合に、対物レンズの焦点距離を小さくでき、高密度記録を良好に行うことができる。特に、２層型の光記録媒体１００において、（ケースａ）の場合の透明樹脂層１０５の厚さ（ｔ）は、２０μｍ〜２８μｍであることが最も好ましい。（ケースａ）の場合の透明樹脂層１０５の厚さ（ｔ）がこのような範囲である場合に、透明樹脂層１０５の弾性率（Ｅ）と透明樹脂層１０５の厚さ（ｔ）との積（Ｅ×ｔ）を２．０×１０^４（ＭＰａ・μｍ）以上とすれば、安定なＬ１層記録が可能となる。

（ケースｂ）
次に、図３（ｂ）に示すように、透明樹脂層が複数の樹脂層（透明樹脂層（１）、透明樹脂層（２）・・・透明樹脂層（ｎ））から構成される場合は、これら複数の樹脂層の中、逆積層体に接する樹脂層の膜厚を透明樹脂層の厚さ（ｔ）とする。但し、逆積層体に接する透明樹脂層（１）の膜厚が３５μｍ以上の場合には、透明樹脂層の厚さ（ｔ）は３５μｍとする。

２層型の光記録媒体１００を製造方法として、例えば、Ｌ１層を有する逆積層体１１の上に、光透過性の樹脂Ａを塗布し、一方、Ｌ０層を有する正積層体１２の上に樹脂Ｂを塗布し、樹脂Ａと樹脂Ｂとを接触させて硬化し、２層ディスクを調製する方法が挙げられる。この場合、前述したように、透明樹脂層１０５の逆積層体１１に接していない側の樹脂層（樹脂Ｂから構成される樹脂層）は、Ｌ１層の記録層（１）１０３に光情報を記録する場合に、隣接トラック方向への拡大を抑制する局所的な拘束力を与える働きに乏しいと考えられる。従って、Ｌ０層を有する正積層体１２側の樹脂層には、逆積層体１１に接する側の樹脂層とは異なる紫外線硬化樹脂、紫外線硬化接着剤等を使用することができる。また、透明樹脂層１０５は、全体の応力を緩和できるような柔軟な樹脂層と（Ｅ×ｔ）が所定の数値以上である樹脂層とを積層することが好ましい。

また、（ケースｂ）の場合、２層型の光記録媒体１００の透明樹脂層１０５の全体の膜厚は、通常、２００μｍ以下、好ましくは１００μｍ以下、より好ましくは８０μｍ以下である。特に、ＤＶＤ２層ディスク規格においては、Ｌ１層とＬ０層との間隔は４０μｍ〜７０μｍである。また、複数の樹脂層から構成される透明樹脂層１０５の中、逆積層体１１に接する樹脂層（図３（ｂ）透明樹脂層（１））の膜厚が３５μｍ以上の場合は、透明樹脂層１０５の厚さ（ｔ）は３５μｍとする。逆積層体１１に接する樹脂層（図３（ｂ）透明樹脂層（１））の膜厚は、通常、３μｍ以上が好ましく、より好ましくは４μｍ以上、さらに好ましくは１０μｍ、特に好ましくは１５μｍ以上である。透明樹脂層１０５の厚さ（ｔ）が過度に小さい場合は、クロストークの低減効果が十分に発揮されないおそれがある。

尚、複数の樹脂層から構成される透明樹脂層１０５の中、逆積層体１１に接する樹脂層（図３（ｂ）透明樹脂層（１））の膜厚が５μｍ以下の場合には、厚さ（ｔ）を５μｍとして、以下の方法により（Ｅ×ｔ）を計算する。即ち、透明樹脂層１０５の弾性率（Ｅ）と透明樹脂層１０５の厚さ（ｔ）との積（Ｅ×ｔ）は、厚さ（ｔ）５μｍに相当する樹脂層の複合体として透明樹脂層（１）と透明樹脂層（２）とから計算する。即ち、例えば、逆積層体１１に接する樹脂層（図３（ｂ）透明樹脂層（１））の弾性率をＥ１、膜厚が１μｍ、逆積層体１１に接する樹脂層（図３（ｂ）透明樹脂層（１））に隣接する樹脂層（図３（ｂ）透明樹脂層（２））の弾性率Ｅ２とすると、（Ｅ×ｔ）は、Ｅ１×１＋Ｅ２×４と計算される。尚、この例は、透明樹脂層（１）と透明樹脂層（２）との合計膜厚が５μｍ以上となる例である。例えば、透明樹脂層（１）、透明樹脂層（２）、透明樹脂層（３）が５μｍとなる場合も上述した計算例に準じて（Ｅ×ｔ）を計算すればよい。

次に、透明樹脂層１０５を構成する材料の具体例について説明する。
透明樹脂層１０５を構成する材料としては、例えば、熱可塑性樹脂、熱硬化性樹脂、電子線硬化性樹脂、紫外線硬化性樹脂（遅延硬化型を含む）等を挙げることができる。透明樹脂層１０５を構成する材料は、これらの中から適宜選択される。熱可塑性樹脂、熱硬化性樹脂等は、必要に応じて適当な溶剤に溶解して塗布液を調製し、これを塗布し、乾燥（加熱）することによって形成することができる。紫外線硬化性樹脂は、そのままもしくは適当な溶剤に溶解して塗布液を調製した後にこの塗布液を塗布し、紫外光を照射して硬化させることによって形成することができる。これらの材料は単独または混合して用いても良い。

塗布方法としては、スピンコート法やキャスト法等の塗布法等の方法が用いられ、この中でもスピンコート法が好ましい。高粘度の樹脂はスクリーン印刷等によっても塗布形成できる。紫外線硬化性樹脂は、２０℃〜４０℃において液状であるものを用いることが好ましい。これは、溶媒を用いることなく塗布できるため生産性が良好となるからである。また、塗布液の粘度は２０ｍＰａ・ｓ〜１．０×１０^３ｍＰａ・ｓとなるように調製するのが好ましい。

透明樹脂層１０５を構成する材料の中でも、紫外線硬化性樹脂は、透明度が高く、硬化時間が短く製造上有利な点で好ましい。紫外線硬化性樹脂としては、ラジカル系紫外線硬化性樹脂とカチオン系紫外線硬化性樹脂が挙げられ、いずれも使用することができる。ラジカル系紫外線硬化性樹脂は、紫外線硬化性化合物と光重合開始剤を必須成分として含む組成物が用いられる。紫外線硬化性化合物としては、単官能（メタ）アクリレート及び多官能（メタ）アクリレートを重合性モノマー成分として用いることができる。これらは、各々、単独または２種類以上併用して用いることができる。ここで、アクリレートとメタアクリレートとを併せて（メタ）アクリレートと称する。

単官能（メタ）アクリレートとしては、例えば、置換基としてメチル、エチル、プロピル、ブチル、アミル、２−エチルヘキシル、オクチル、ノニル、ドデシル、ヘキサデシル、オクタデシル、シクロヘキシル、ベンジル、メトキシエチル、ブトキシエチル、フェノキシエチル、ノニルフェノキシエチル、テトラヒドロフルフリル、グリシジル、２−ヒドロキシエチル、２−ヒドロキシプロピル、３−クロロ−２−ヒドロキシプロピル、ジメチルアミノエチル、ジエチルアミノエチル、ノニルフェノキシエチルテトラヒドロフルフリル、カプロラクトン変性テトラヒドロフルフリル、イソボルニル、ジシクロペンタニル、ジシクロペンテニル、ジシクロペンテニロキシエチル等の基を有する（メタ）アクリレート等が挙げられる。

多官能（メタ）アクリレートとしては例えば、１、３−ブチレングリコール、１、４−ブタンジオール、１、５−ペンタンジオール、３−メチル−１、５ーペンタンジオール、１、６−ヘキサンジオール、ネオペンチルグリコール、１、８ーオクタンジオール、１、９−ノナンジオール、トリシクロデカンジメタノール、エチレングリコール、ポリエチレングリコール、プロピレングリコール、ジプロピレングリコール、トリプロピレングリコール、ポリプロピレングリコール等のジ（メタ）アクリレート、トリス（２−ヒドロキシエチル）イソシアヌレートのジ（メタ）アクリレート等が挙げられる。

また、ネオペンチルグリコール１モルに４モル以上のエチレンオキサイドもしくはプロピレンオキサイドを付加して得たジオールのジ（メタ）アクリレート、ビスフェノールＡ１モルに２モルのエチレンオキサイドもしくはプロピレンオキサイドを付加して得たジオールのジ（メタ）アクリレート、トリメチロールプロパン１モルに３モル以上のエチレンオキサイドもしくはプロピレンオキサイドを付加して得たトリオールのジまたはトリ（メタ）アクリレート、ビスフェノールＡ１モルに４モル以上のエチレンオキサイドもしくはプロピレンオキサイドを付加して得たジオールのジ（メタ）アクリレート、トリメチロールプロパントリ（メタ）アクリレート、ペンタエリスリトールトリ（メタ）アクリレート、ジペンタエリスリトールのポリ（メタ）アクリレート、エチレンオキサイド変性リン酸（メタ）アクリレート、エチレンオキサイド変性アルキル化リン酸（メタ）アクリレート等が挙げられる。

また、これらの重合性モノマーと同時に併用できるものとしては、重合性オリゴマーとして、ポリエステル（メタ）アクリレート、ポリエーテル（メタ）アクリレート、エポキシ（メタ）アクリレート、ウレタン（メタ）アクリレート等が挙げられる。

さらに、ラジカル系紫外線硬化性樹脂には、通常、光重合開始剤を配合する。光重合開始剤としては、分子開裂型または水素引き抜き型のものが好ましい。このような光重合開始剤として、分子開裂型としては、例えば、ベンゾインイソブチルエーテル、２、４−ジエチルチオキサントン、２−イソプロピルチオキサントン、ベンジル、２、４、６−トリメチルベンゾイルジフェニルフォスフィンオキシド、２−ベンジル−２−ジメチルアミノ−１−（４−モルフォリノフェニル）−ブタン−１−オン、ビス（２、６−ジメトキシベンゾイル）−２、４、４−トリメチルペンチルフォスフィンオキシド等が挙げられる。

さらに、１−ヒドロキシシクロヘキシルフェニルケトン、ベンゾインエチルエーテル、ベンジルジメチルケタール、２−ヒドロキシ−２−メチル−１−フェニルプロパン−１−オン、１−（４−イソプロピルフェニル）−２−ヒドロキシ−２−メチルプロパン−１−オンおよび２−メチル−１−（４−メチルチオフェニル）−２−モルフォリノプロパン−１−オン等を併用しても良い。水素引き抜き型光重合開始剤としては、例えば、ベンゾフェノン、４−フェニルベンゾフェノン、イソフタルフェノン、４−ベンゾイル−４’−メチル−ジフェニルスルフィド等が挙げられる。

また、これらの光重合開始剤とともに、増感剤を併用することができる。増感剤としては、例えば、トリメチルアミン、メチルジメタノールアミン、トリエタノールアミン、ｐ−ジエチルアミノアセトフェノン、ｐ−ジメチルアミノ安息香酸エチル、ｐ−ジメチルアミノ安息香酸イソアミル、Ｎ、Ｎ−ジメチルベンジルアミンおよび４、４’−ビス（ジエチルアミノ）ベンゾフェノン等が挙げられる。

カチオン系紫外線硬化性樹脂としては、例えば、カチオン重合型の光開始剤を含むエポキシ樹脂が挙げられる。エポキシ樹脂としては、例えば、ビスフェノールＡ−エピクロールヒドリン型、脂環式エポキシ、長鎖脂肪族型、臭素化エポキシ樹脂、グリシジルエステル型、グリシジルエーテル型、複素環式系等が挙げられる。エポキシ樹脂としては、遊離した塩素および塩素イオン含有率が少ないものを用いるのが好ましい。塩素の量が１重量％以下が好ましく、より好ましくは０．５重量％以下である。

カチオン重合型の光開始剤としては、スルホニウム塩、ヨードニウム塩、ジアゾニウム塩等が挙げられる。ヨードニウム塩としては、例えば、ジフェニルヨードニウムヘキサフルオロホスフェード、ジフェニルヨードニウムヘキサフルオロアンチモネート、ジフェニルヨードニウムテトラフルオロボレート、ジフェニルヨードニウムテトラキス（ペンタフルオロフェニル）ボレート、ビス（ドデシルフェニル）ヨードニウムヘキサフルオロホスフェート、ビス（ドデシルフェニル）ヨードニウムヘキサフルオロアンチモネート、ビス（ドデシルフェニル）ヨードニウムテトラフルオロボレート、ビス（ドデシルフェニル）ヨードニウムテトラキス（ペンタフルオロフェニル）ボレート等が挙げられる。

さらに、４−メチルフェニル−４−（１−メチルエチル）フェニルヨードニウムヘキサフルオロホスフェート、４−メチルフェニル−４−（１−メチルエチル）フェニルヨードニウムヘキサフルオロアンチモネート、４−メチルフェニル−４−（１−メチルエチル）フェニルヨードニウムテトラフルオロボレート、４−メチルフェニル−４−（１−メチルエチル）フェニルヨードニウムテトラキス（ペンタフルオロフェニル）ボレート等が挙げられる。

カチオン型紫外線硬化性樹脂１００重量部当たりのカチオン重合型光開始剤の割合は通常、０．１重量部〜２０重量部であり、好ましくは０．２重量部〜５重量部である。なお、紫外線光源の波長域の近紫外領域や可視領域の波長をより有効に利用するため、公知の光増感剤を併用することができる。この際の光増感剤としては、例えばアントラセン、フェノチアジン、ベンジルメチルケタール、ベンゾフェノン、アセトフェノン等が挙げられる。

また、紫外線硬化性樹脂には、必要に応じてさらにその他の添加剤として、熱重合禁止剤、ヒンダードフェノール、ヒンダードアミン、ホスファイト等に代表される酸化防止剤、可塑剤およびエポキシシラン、メルカプトシラン、（メタ）アクリルシラン等に代表されるシランカップリング剤等を、各種特性を改良する目的で配合することもできる。これらは、紫外線硬化性化合物への溶解性に優れたもの、紫外線透過性を阻害しないものを選択して用いる。

本実施の形態が適用される光記録媒体１００において、透明樹脂層１０５の弾性率（Ｅ）と厚さ（ｔ）との積（Ｅ×ｔ）が、２．０×１０^４ＭＰａ・μｍ以上とするための具体的な手段は、特に限定されないが、適度な硬さの樹脂を最適な膜厚範囲に調製する中で、膜厚の調整範囲を拡げるためには、以下の方法が挙げられる。例えば、上述した紫外線硬化性樹脂として、分子内にメタアクリロイル基を２個以上、好ましくは３個以上有するモノマー成分の組成を増大する方法；直鎖高分子ジオールと混合するポリエステルジオール等の側鎖含有高分子ジオール成分の組成を増大する方法；主鎖がハードセグメントであるオリゴマー成分の側鎖を低分子量とし、分子内結合を増大させる方法；ポリイソシアネート化合物、アミノ樹脂、エポキシ化合物、シラン化合物、金属キレート化合物等の架橋剤を所定量添加する方法等が挙げられる。このような手段により、透明樹脂層１０５自体の弾性率を増大し、透明樹脂層１０５を構成する樹脂のガラス転移温度（Ｔｇ）を、例えば、１５０℃を超える程度迄に高くすることができる。

また、紫外線硬化性樹脂の中でも、低光散乱性且つ低粘度であることにより、スピンコートにより塗布可能なカチオン型紫外線硬化性樹脂が好ましい。さらに、透明樹脂層１０５の厚さが１０μｍ以上の場合は、酸素による硬化阻害を考慮する必要がないため、種類が多く、配合比、組成の自由度が大きいことにより、ラジカル系紫外線硬化樹脂を使用することが好ましい。
尚、光記録媒体（商品）からも、以下の方法により透明樹脂層を検出することが可能である。
（１）光ディスクを破壊し、取り出したディスク断面を、２次電子顕微鏡（ＳＥＭ）で観察し、透明樹脂層の微細構造（組織）を観察する。もし、透明樹脂層の前記微細構造の違いが、厚さ方向の透明樹脂層間で観察されれば、その透明樹脂層が異なる樹脂の積層であることがわかる。
（２）透明樹脂層の断面を、顕微ＦＴ−ＩＲ法により測定し、透明樹脂層の赤外吸収スペクトルを得る。参照サンプルとなる樹脂の上記方法による赤外吸収スペクトルと比較すれば、樹脂の組成を、その参照スペクトルと関連させて、ある程度特定することができる。厚さ方向の透明樹脂層間で、前記赤外吸収スペクトルに差が見られれば、異なる樹脂の積層であることがわかる。それらの組成も、上記の参照サンプルとの比較により、ある程度特定することができる。
（３）透明樹脂層を熱分解ＧＣ−ＭＳ法で分析し、樹脂の組成を知ることができる。
（４）透明樹脂層を剥離して取り出し、そのＴｇ、弾性率を、動的粘弾性率測定装置により直接測定することができる。

（正積層体）
次に、本実施の形態が適用される光記録媒体１００を構成する正積層体１２について説明する。図１に示すように、正積層体１２は、記録再生光としてのレーザ光１１０の入射面を有する基板（２）１０９と、基板（２）１０９上に、記録層（２）１０８、反射層（２）１０７及び保護コート層１０６とが順次積層（以下、Ｌ０層ということがある。）されている。

正積層体１２の基板（２）１０９は、逆積層体１１の基板（１）１０１と同様な材料により構成される。但し、基板（２）１０９は、光透過性であることが必要である。基板（２）１０９の溝幅（半値幅）は、トラックピッチをＴとして、通常、２Ｔ／１０以上、好ましくは３Ｔ／９以上である。この範囲であれば反射率を十分に確保できる。例えば、トラックピッチを７４０ｎｍとすると、基板（２）１０９の溝幅は、通常、１４８ｎｍ以上、好ましくは２４６ｎｍ以上とする。但し、基板（２）１０９の溝幅は、通常、７Ｔ／１０以下、好ましくは、６Ｔ／１０以下である。例えば、トラックピッチを７４０ｎｍとすると、光透過性の基板（２）１０９の溝幅は、通常、５１８ｎｍ以下、好ましくは４４４ｎｍ以下とすると、溝形状の転写性を良好にできるので好ましい。

基板（２）１０９の溝深さは、記録再生光波長をλとした場合、通常、λ／１０以上とするのが、反射率を十分確保できるので好ましい。より好ましくは、λ／８以上、さらに好ましくはλ／６以上である。例えば、記録再生光の波長（記録再生波長）がλ＝６６０ｎｍの場合、基板（２）１０９の溝深さは、通常、６６ｎｍ以上、好ましくは８３ｎｍ以上、さらに好ましくは、１１０ｎｍ以上である。ただし、基板（２）１０９の溝深さの上限は、通常、２λ／５以下とするのが溝形状の転写性を良好にできるため好ましく、より好ましくは２λ／７以下である。例えば、記録再生波長が６６０ｎｍの場合、通常、２６４ｎｍ以下、好ましくは１８９ｎｍ以下である。

（記録層（２））
正積層体１２の記録層（２）１０８には、逆積層体１１の記録層（１）１０３と同様な色素が含有されている。正積層体１２の記録層（２）１０８の厚さは、記録方法等により適した膜厚が異なるため、特に限定されないが、十分な変調度を得るために、通常、２０ｎｍ以上、好ましくは３０ｎｍ以上であり、特に好ましくは４０ｎｍ以上である。但し、光を透過させる必要があるため、通常、２００ｎｍ以下であり、好ましくは１８０ｎｍ以下、より好ましくは１５０ｎｍ以下である。尚、記録層（２）１０８の厚さは、厚膜部の膜厚（基板（２）１０９の溝部の記録層（２）１０８の厚さ）を示す。

（反射層（２））
正積層体１２の反射層（２）１０７は、逆積層体１１の反射層（１）１０２と同様な材料から構成されている。正積層体１２の反射層（２）１０７は、基板（２）１０９側から入射する記録再生光であるレーザ光１１０の吸収が小さく、光透過率が、通常、４０％以上あり、且つ、通常、３０％以上の適度な光反射率を有する必要がある。例えば、反射率の高い金属を薄く設けることにより適度な透過率を持たせることができる。また、ある程度の耐食性があることが望ましい。さらに、反射層（２）１０７の上層（ここでは、透明樹脂層１０５）からしみ出る他の成分により、反射層（２）１０７の下層に位置する記録層（２）１０８が影響されないような遮断性を持つことが望ましい。

反射層（２）１０７の厚さは、光透過率が通常４０％以上を確保するために、通常、５０ｎｍ以下、好ましくは３０ｎｍ以下、さらに好ましくは２５ｎｍ以下である。但し、記録層（２）１０８が反射層（２）１０７の上層からしみ出る成分により影響されないために、通常３ｎｍ以上、好ましくは５ｎｍ以上である。

（保護コート層）
正積層体１２の保護コート層１０６は、反射層（２）１０７の酸化の防止、防塵又は防傷等を目的として、反射層（２）１０７の透明樹脂層１０５側に設けられている。保護コート層１０６の材料としては、反射層（２）１０７を保護するものであれば特に限定されない。有機物質の材料としては、熱可塑性樹脂、熱硬化性樹脂、電子線硬化性樹脂、紫外線硬化性樹脂等を挙げることができる。また、無機物質としては、酸化ケイ素、窒化ケイ素、ＭｇＦ_２、ＳｎＯ_２等の誘電体が挙げられる。なかでも、紫外線硬化樹脂層を積層することが好ましい。尚、保護コート層１０６は、必ずしも設ける必要はなく、反射層（２）１０７に、直接透明樹脂層１０５を形成してもよい。

（第２の実施形態）
次に、図２は、本実施の形態が適用される光記録媒体の第２の実施形態を説明する図である。図２には、基板側とは反対側から入射する記録再生光により光情報の記録再生が行われる膜面入射型の光記録媒体２００が示されている。図２に示されたように、光記録媒体２００は、基板２０１と、基板２０１上に設けられた反射層２０２と、反射層２０２上に積層された記録層２０３と、記録層２０３を保護するために設けられた中間層２０４と、からなる逆積層体に、さらにレーザ光２１０の入射面側に透明樹脂層２０５が積層されている。光記録媒体２００は、透明樹脂層２０５側から記録層２０３に照射されるレーザ光２１０により、情報の記録・再生が行われる。尚、中間層２０４は、必要に応じて設けられ、必ずしも必須ではない。

逆積層体を構成する基板２０１は、第１の実施形態の光記録媒体１００における逆積層体１１の基板（１）１０１と同様な材料を用いて形成される。また、同様に、反射層２０２、記録層２０３及び中間層２０４を構成する材料は、それぞれ、第１の実施形態の光記録媒体１００の逆積層体１１の、反射層（１）１０２、記録層（１）１０３及び中間層１０４において説明した材料と同様なものを使用することができる。また、各層の厚さ等は、前述した光記録媒体１００において説明した範囲と同様な範囲である。
さらに、透明樹脂層２０５は、前述した光記録媒体１００における透明樹脂層１０５と同様な材料を用いて構成され、また、透明樹脂層２０５の弾性率（Ｅ）及び厚さ（ｔ）との積（Ｅ×ｔ）は、第１の実施形態の光記録媒体１００における透明樹脂層１０５と同様な範囲に調製されている。即ち、透明樹脂層２０５の厚さ（ｔ）は、第１の実施形態の光記録媒体１００における透明樹脂層１０５と同様に、透明樹脂層２０５が単一樹脂で構成されている場合は、透明樹脂層２０５の膜厚（ｈ）の２分の１（ｈ／２）であって、逆積層体に接する側の部分の膜厚を透明樹脂層の厚さ（ｔ）とする。透明樹脂層２０５が複数の樹脂層から構成される場合は、これらの複数の樹脂層の中、逆積層体に接する樹脂層の膜厚を透明樹脂層２０５の厚さ（ｔ）とする。但し、逆積層体に接する樹脂層の膜厚が３５μｍ以上の場合には、透明樹脂層２０５の厚さ（ｔ）は３５μｍとする。

以下、実施例に基づき本実施の形態をさらに具体的に説明する。尚、本実施の形態は、その要旨を超えない限り以下の実施例に限定されるものではない。
（実施例１〜実施例７）
以下の通り、逆積層体を有する２層型の光記録媒体を調製し、逆積層体を構成する記録層（１）に記録された光情報のＭＴ（％）及びＳＴ（％）を測定した。

（光記録媒体の調製）
（１）（逆積層体の調製）
先ず、表面に溝が形成されたＮｉスタンパを用いて、ポリカーボネートを射出成形することにより、ピッチ０．７４μｍ、幅３３０ｎｍ、深さ３０ｎｍの溝が形成された直径１２０ｍｍ、厚さ０．６０ｍｍの基板（１）を形成した。次に、基板（１）の上に、Ａｇ−Ｂｉ−Ｎｄ合金を８０ｎｍスパッタして反射層（１）を形成した。次いで、有機色素化合物として、下記化学式で表される含金属アゾ色素の色素Ａと色素Ｂとの混合物（Ａ：Ｂ＝６０：４０重量％）のテトラフルオロプロパノール溶液（濃度２重量％）を調製し、反射層（１）上に滴下し、スピンコートした後、７０℃で３０分間乾燥し記録層（１）を形成した。記録層（１）の厚さは、溝部の膜厚（図１における逆積層体の溝部の記録層膜厚）と溝間部の膜厚（図１における逆積層体の溝間部の記録層膜厚）とも、約８０ｎｍであった。

続いて、記録層（１）上に、ＺｎＳ−ＳｉＯ_２（組成比は、８０：２０原子％）を１３０ｎｍスパッタし中間層を形成し、逆積層体のディスク１を調製した。

（２）（正積層体の調製）
深さ１６０ｎｍ、幅３００ｎｍ、トラックピッチ７４０ｎｍの案内溝を形成したポリカーボネート製の基板（２）を調製し、この基板（２）の案内溝を形成した面上に、前述した含金属アゾ色素の色素Ａと色素Ｂとの混合物（Ａ：Ｂ＝６０：４０重量％）のテトラフルオロプロパノール溶液（濃度１重量％〜２重量％）を滴下し、スピンコートした後、７０℃で３０分間乾燥し、記録層（２）を形成した。記録層（２）の厚さ（図１：正積層体の溝部の記録層膜厚）は約１００ｎｍであった。次いで、記録層（２）上に、Ａｇ−Ｂｉ合金（Ｂｉ：１．０原子％）を１７ｎｍスパッタして反射層（２）を形成し、さらに、反射層（２）上に紫外線硬化樹脂（ＳＤ３４７）をスピンコートして硬化させ、膜厚３μｍの保護コート層を形成し、正積層体のディスク２を調製した。

（３）（２層型光記録媒体の調製）
上述した方法で調製した逆積層体であるディスク１の中間層の上に、樹脂Ａ（大日本インキ（株）製ラジカル系紫外線硬化樹脂：弾性率（Ｅ）＝４．０×１０^３ＭＰａ、ガラス転移温度（Ｔｇ）＝１７４℃）を、膜厚２３μｍになるようにスピンコート回転数を調節して塗布した。また、正積層体であるディスク２の保護コート層の上に、樹脂Ｆ（大日本インキ（株）製ラジカル系紫外線硬化樹脂ＳＤ−６０３６：弾性率（Ｅ）＝６８０ＭＰａ、ガラス転移温度（Ｔｇ）＝５０℃）を、同様に膜厚２３μｍになるようにスピンコート回転数を調節して塗布した。次に、それぞれ樹脂を塗布したディスク１とディスク２とを、樹脂が塗布された面が対向するように重ね合わせ、続いて、ディスク２（正積層体）の基板（２）側から紫外線を照射して、樹脂Ａ及び樹脂Ｆを硬化させ、樹脂Ａからなる透明樹脂層及び樹脂Ｆからなる透明樹脂層をそれぞれ形成して２層型の光記録媒体を調製した（サンプル１）。

続いて、サンプル１と同様に、正積層体であるディスク２の保護コート層上に樹脂Ｆを膜厚２３μｍになるように塗布した。一方、逆積層体であるディスク１については、表１に示すように、所定の弾性率（Ｅ）を有する樹脂Ｂ、樹脂Ｃ、樹脂Ｄを、それぞれ逆積層体の中間層上に、表１に示す所定の厚さ（ｔ）になるように塗布し、これらの樹脂を塗布したディスク１と、樹脂Ｆを塗布したディスク２とを、サンプル１と同様に、樹脂が塗布された面が対向するように重ね合わせ、続いて、ディスク２（正積層体）の基板（２）側から紫外線を照射して、それぞれ塗布された樹脂を硬化させ、２種類の樹脂からなる透明樹脂層を形成して２層型の光記録媒体を調製した（サンプル３、サンプル５、サンプル６、サンプル７）。

また、正積層体であるディスク２の上には樹脂を塗布せず、一方、逆積層体であるディスク１については、ディスク１の中間層上に、表１に示すように、樹脂Ｂ、樹脂Ｃを、表１に示す所定の厚さ（ｔ）になるように塗布し、樹脂を塗布したディスク１と、樹脂を塗布しないディスク２とを重ね合わせ、続いて、ディスク２（正積層体）の基板（２）側から紫外線を照射して、それぞれ塗布された樹脂を硬化させ、単一樹脂からなる透明樹脂層を形成して２層型の光記録媒体を調製した（サンプル２、サンプル４）。

尚、表１に示した透明樹脂層の厚さ（ｔ）は、２種類の樹脂からなる透明樹脂層を有するサンプル１、サンプル３、サンプル５、サンプル６及びサンプル７の光記録媒体については、逆積層体に接する樹脂層の厚さ（ケースｂ）であり、単一樹脂からなる透明樹脂層を有するサンプル２及びサンプル４の光記録媒体については、透明樹脂層全体の膜厚の２分の１の厚さである（ケースａ）。また、サンプル１〜サンプル７の光記録媒体における透明樹脂層の全体の膜厚は４６μｍである。
このように調製した光記録媒体（サンプル１〜サンプル７）における逆積層体を構成する記録層（１）に、以下の高速記録条件で光情報を記録し、記録された光情報を再生し、ＭＴ（％）及びＳＴ（％）を測定した。結果を表１に示す。

尚、光情報の高速記録条件は以下の通りである。
評価機：パルステック製ＤＤＵ−１０００（波長６６２ｎｍ、ＮＡ＝０．６５）
記録速度：ＤＶＤの４倍速（線測度１５．３ｍ／ｓ）
記録パルスストラテジー：ＤＶＤ−Ｒの規格書Ｖｅｒ．２．１の記載に準拠した。
記録パワー：２６ｍＷ〜２７．５ｍＷ
記録パワーマージン：３ｍＷ以上
ジッター測定：１倍速にて再生した。

（参考例１〜参考例３）
以下の通り、逆積層体を有する２層型の光記録媒体を調製し、実施例１と同様に、光情報のＭＴ（％）及びＳＴ（％）を測定した。
実施例１で用いたサンプル１と同様に、正積層体であるディスク２の保護コート層上に樹脂Ｆを膜厚２３μｍになるように塗布した。一方、逆積層体であるディスク１については、表１に示すように、所定の弾性率（Ｅ）を有する樹脂Ｅと樹脂Ｃとを、それぞれ逆積層体の中間層上に、表１に示す所定の厚さ（ｔ）になるように塗布し、これらの樹脂を塗布したディスク１と、樹脂Ｆを塗布したディスク２とを、サンプル１と同様に、樹脂が塗布された面が対向するように重ね合わせ、続いて、ディスク２（正積層体）の基板（２）側から紫外線を照射して、それぞれ塗布された樹脂を硬化させ、２種類の樹脂からなる透明樹脂層を形成して２層型の光記録媒体を調製した（サンプル８、サンプル９）。

また、正積層体であるディスク２の上には樹脂を塗布せず、一方、逆積層体であるディスク１については、ディスク１の中間層上に、表１に示すように、樹脂Ｆを表１に示す所定の厚さ（ｔ）になるように塗布し、樹脂Ｆを塗布したディスク１と、樹脂を塗布しないディスク２とを重ね合わせ、続いて、ディスク２（正積層体）の基板（２）側から紫外線を照射して塗布された樹脂を硬化させ、単一樹脂からなる透明樹脂層を形成して２層型の光記録媒体を調製した（サンプル１０）。

また、サンプル８〜サンプル１０の透明樹脂層の厚さ（ｔ）は、２種類の樹脂からなる透明樹脂層を有するサンプル８及びサンプル９の光記録媒体については、逆積層体に接する樹脂層の厚さ（ケースｂ）であり、単一樹脂からなる透明樹脂層を有するサンプル１０の光記録媒体については、透明樹脂層全体の膜厚の２分の１の厚さである（ケースａ）。また、サンプル８〜サンプル１０の光記録媒体における透明樹脂層の全体の膜厚は４６μｍである。
このように調製した光記録媒体（サンプル８〜サンプル１０）について、実施例１と同様に、逆積層体を構成する記録層（１）に高速記録条件で光情報を記録し、記録された光情報を再生し、ＭＴ（％）及びＳＴ（％）を測定した。結果を表１に示す。

尚、表１には、サンプル１〜サンプル１０における透明樹脂層の調製に使用した樹脂の弾性率（Ｅ（単位：ＭＰａ））、透明樹脂層の厚さ（ｔ（単位：μｍ））、ガラス転移温度（Ｔｇ（単位：℃））を併せて示した。尚、弾性率（Ｅ）は、動的粘弾性試験機（レオバイブロン社製：ＤＤＶシリーズ）を使用し、測定周波数３．５Ｈｚ、昇温速度３℃／ｍｉｎの条件で測定した。

また、透明樹脂層の厚さは、走査型電子顕微鏡による２次電子線観察像（ＳＥＭ像）、又は透過電子顕微鏡による断面像に基づき測定した。厚さ（ｔ）は５ポイント測定結果の平均値である。

尚、表１中、透明樹脂層を調製するために使用した樹脂は以下のとおりである。
樹脂Ａ：大日本インキ（株）製ラジカル系紫外線硬化樹脂（弾性率：１．４×１０^３ＭＰａ／（１５０℃））
樹脂Ｂ：大日本インキ（株）製ラジカル系紫外線硬化樹脂（弾性率：１．０５×１０^３ＭＰａ／（１５０℃））
樹脂Ｃ：大日本インキ（株）製ラジカル系紫外線硬化樹脂ＳＤー３４７（弾性率：３４０ＭＰａ／（１５０℃））
樹脂Ｄ：大日本インキ（株）製ラジカル系紫外線硬化樹脂ＳＤー３９４（弾性率：６６ＭＰａ／（１５０℃））
樹脂Ｅ：大日本インキ（株）製ラジカル系紫外線硬化樹脂ＳＤー３１８（弾性率：２８０ＭＰａ／（１５０℃））
樹脂Ｆ：大日本インキ（株）製ラジカル系紫外線硬化樹脂ＳＤー６０３６（弾性率：０ＭＰａ／（１５０℃））
特に、樹脂Ａ及び樹脂Ｂにおいては、前述した方法により、架橋密度が高くなるようなアクリルモノマーと架橋構造に剛直な構造を有するアクリルモノマーとを組み合わせて所定の弾性率（Ｅ）、ガラス転移温度（Ｔｇ）を制御した。

次に、表１に示した結果について説明する。
図４は、サンプル１〜サンプル１０の、（Ｅ×ｔ）とＭＴ（％）との関係を説明する図である。図４には、表１に示した結果に基づき、サンプル１〜サンプル１０において、逆積層体に接する透明樹脂層の弾性率（Ｅ）と透明樹脂層の厚さ（ｔ）との積（Ｅ×ｔ）（横軸）に対して、逆積層体の記録層（１）に記録された光情報の再生信号に基づくＭＴ（％）の数値をプロットしたものである。

図４に示すように、（Ｅ×ｔ）が２．０×１０^４ＭＰａ・μｍ以上で、ＭＴ（％）が８％以下となり、４．０×１０^４ＭＰａ・μｍを超えると７．５％、６．０×１０^４ＭＰａ・μｍで７％前後となる。さらに、６．９×１０^４Ｐａ・μｍを超えるとＭＴ（％）が６．５％前後となり、９．０×１０^４ＭＰａ・μｍ以上で、ＭＴ（％）は安定に６．５％前後という良好な値が得られる。さらに、１０．０×１０^４ＭＰａ・μｍ以上では、ほぼＭＴ（％）が最小値を保持する理想的な状態になることが示されている。

また、表１に示された樹脂のガラス転移温度を考慮すると、逆積層体に接する透明樹脂層のガラス転移温度は、１５０℃以上が好ましい。ガラス転移温度が高い樹脂ほど、硬い透明樹脂層が形成され得ると考えられる。
尚、評価方法の好ましい条件は、評価機として、波長６６２ｎｍの半導体レーザを搭載し、対物レンズの開口数（ＮＡ）０．６５の評価機を使用し、記録は、ＤＶＤの４倍速で記録（記録線速度：１５．３ｍ／ｓ）し、再生は、同じ評価機を用いて、ＤＶＤの１倍速で再生する。また、記録の最短マーク長は０．４４μｍである。

図４に示す結果から、逆積層体に接する透明樹脂層の弾性率（Ｅ）と厚さ（ｔ）との積（Ｅ×ｔ）が、一定の数値以上の場合、逆積層体における記録層（１）に高速で記録をした場合に、隣接トラックに記録しない単一トラック記録の場合のＳＴ（％）に比べ、トラックを空かさずに連続トラック記録をした場合のＭＴ（％）が悪化するという問題を回避することができる。

即ち、逆積層体に接する透明樹脂層の弾性率（Ｅ）と厚さ（ｔ）との積（Ｅ×ｔ）で指標されるバルクとしての硬さ、強度を、特定の範囲に調節することにより、逆積層体の構造において、隣接するトラック部に及ぶ過度の変形を抑制し、高速記録でのクロストークが小さい、良好なジッターを有する光記録媒体を提供することが可能である。高密度記録が可能となる例としては、たとえば記録最短マーク長０．４４μｍ以下の記録条件において、良好な記録特性を確保できることがある。

通常の光ディスク製品は、トラックを空かさず記録されるので、ＭＴ（％）が、その光ディスクの信号品質を反映する値となる。ＭＴ（％）は、一般的には１０％未満である必要があり、８％以下が好ましく、さらに好ましくは７％以下である。１０％を超えると、エラーが増大する傾向となる。

サンプル１〜サンプル１０を評価したように、民生機器とは異なり、ピックアップに搭載された半導体レーザの個体差等変動要因を含まない評価機で記録再生する場合には、ＭＴ（％）は、通常、８％以下、好ましくは７．５％以下、さらに好ましくは７％以下とする。ＭＴ（％）が８％を超えると、製造マージンが十分に保証できなくなる場合がある。
同様に、上記評価機で記録再生した場合のＳＴ（％）は、通常、７％以下とすることが必要である。この値を超える場合には、連続記録でＭＴ（％）が８％以上になりやすい。

尚、ＭＴ（％）のパワーマージンは広いほど良い。例えば、ＭＴ（％）９％以下が得られるパワーマージンは、２．５ｍＷ以上が好ましく、より好ましくは、３ｍＷ以上、さらに好ましくは、４ｍＷ以上である。パワーマージンが過度に小さい場合は、温度変化等に伴うレーザ光源の光量変動がパワーマージンよりも大きくなり、良好な記録特性が得られないおそれがある。尚、サンプル１〜サンプル１０は、いずれも記録パワーマージンが３ｍＷ以上と良好であった。

（実施例８）
以下の通り、逆積層体を有する２層型の光記録媒体を調製し、逆積層体を構成する記録層（１）に記録された光情報のＭＴ（％）及びＳＴ（％）を測定した。
先ず、表面に溝が形成されたＮｉスタンパを用いて、ポリカーボネートを射出成形することにより、トラックピッチ０．７４μｍ、溝幅３３０ｎｍ、溝深さ３０ｎｍの溝が形成された直径１２０ｍｍ、厚さ０．６０ｍｍの基板（１）を形成した。次に、基板（１）の上に、Ａｇ−Ｂｉ（０．３５原子％）−Ｎｄ（０．２原子％）合金を、８０ｎｍスパッタして反射層（１）を形成した。次いで、実施例１のアゾ色素と類似の色素の混合物（重量配合比５０：５０）のテトラフルオロプロパノール溶液（濃度２重量％）を調製し、反射層（１）上に滴下し、スピンコートした後、７０℃で３０分間乾燥し記録層（１）を形成した。記録層（１）の厚さは、溝部の膜厚（図１において、逆積層体１１の溝部の記録層膜厚）と溝間部の膜厚（図１において、逆積層体１１の溝間部の記録層膜厚）とも、約８０ｎｍであった。続いて、記録層（１）上に、無機物からなる中間層を形成し、逆積層体のディスク１を調製した。
また、実施例１と同様にして正積層体の調製を行った。
上述した方法で調製した逆積層体であるディスク１の中間層の上に、樹脂Ｂ（大日本インキ株式会社製ラジカル系紫外線硬化樹脂：弾性率（Ｅ）＝３．０×１０^３ＭＰａ、ガラス転移温度（Ｔｇ）＝１８１℃）を、膜厚２５μｍになるようにスピンコート回転数を調節して塗布した。また、正積層体であるディスク２の膜面上に、前記樹脂Ｂを、ディスク１と同様に膜厚２５μｍになるようにスピンコート回転数を調節して塗布した。次に、それぞれ樹脂を塗布したディスク１とディスク２とを、樹脂が塗布された面が対向するように重ね合わせ、続いて、ディスク２（正積層体）の基板（２）側から紫外線を照射して、樹脂Ｂを硬化させ、透明樹脂層を形成して２層型の光記録媒体を調製した。
このように調製した光記録媒体における逆積層体を構成する記録層（１）に、以下の記録条件で光情報を記録し、記録された光情報を再生し、ＭＴ（％）及びＳＴ（％）を測定した。尚、光情報の記録条件は以下の通りである。
評価機：２，４Ｘ記録／パルステック製ＤＤＵ−１０００（波長６６２ｎｍ、ＮＡ＝０．６５）
８Ｘ記録／パルステック製ＯＤＵ−１０００Ｔ５（波長６５８．５ｎｍ、ＮＡ＝０．６５）
記録速度：ＤＶＤの２．４倍速（線速度９．２２ｍ／ｓ：以下で２．４Ｘと記載される。尚、１倍速は線速度３．８４ｍ／ｓとする。）と８倍速（線速度３０．７２ｍ／ｓ：以下で、８Ｘと記載される。）
記録パルスストラテジー：ＤＶＤ＋Ｒの規格書Ｖｅｒ．２．１の記載に準拠した。
ジッター測定：１倍速にて再生した。
尚、記録パワーは、２．４Ｘ記録が２１．６ｍＷ、８Ｘ記録がＰ０＝５０ｍＷ、Ｐｍ＝２９．５ｍＷであった。結果を、以下の比較例１及び比較例２の結果とともに表２に示す。

（比較例１、比較例２）
実施例８において、反射層（１）の膜厚を、それぞれ１００ｎｍ（比較例１）と１２０ｎｍ（比較例２）とし、それ以外は同様の条件で２層の光記録媒体（比較例１と比較例２の２つのサンプル）を調製し、実施例８と同様に、２．４Ｘ記録と８Ｘ記録を行った。結果を表２に示す。
尚、記録パワーは、比較例１は、２．４Ｘ記録で２１．６ｍＷ、８Ｘ記録でＰ０＝５０ｍＷ、Ｐ０＝２９．５ｍＷである。比較例２は、２．４Ｘ記録で２２．２ｍＷ、８Ｘ記録でＰ０＝５２ｍＷ、Ｐ０＝３０．５ｍＷである。

図６は、表２に示した結果に基づき、反射層（１）の膜厚に対して、（ＭＴ（％）−ＳＴ（％））の値をプロットした図である。図６に示すように、反射層（１）の膜厚が厚くなるほど（ＭＴ（％）−ＳＴ（％））の値が増大し、クロストークが低下する傾向があることが分かる。（ＭＴ（％）−ＳＴ（％））の値は、膜厚１００ｎｍ以上でほぼ飽和するが、膜厚８０ｎｍの場合よりクロストークが低下している。
図６に示す結果から、反射層（１）の膜厚を、従来の反射層の膜厚（通常、１００ｎｍ以上）を下回る厚さにすることにより、クロストーク（ＭＴ（％）−ＳＴ（％））が改善される傾向が見られる。
尚、既に図５（ｂ）を用いて説明したように、反射層の膜厚が４０ｎｍ以下の場合は反射率が低下する傾向が見られ、さらに膜厚が３０ｎｍ以下では、反射率が大きく低下する傾向にある。そのため、反射層（１）の膜厚は３０ｎｍを下回るほど薄くすることは好ましくない。

尚、本実施の形態においては、２枚のディスク基板を貼着して２層型の光記録媒体の製造方法について説明したが、透明スタンパを用いる２Ｐ法により２層型の光記録媒体を製造することも可能である。
２Ｐ法の場合は、例えば、正積層体の反射層（２）の上に紫外線硬化性樹脂層をスピンコート等により塗布して形成し、さらにその樹脂層に透明樹脂スタンパを載置し、この状態で透明樹脂スタンパ側から紫外線を照射する等して紫外線硬化性樹脂層を硬化させ、十分硬化したところで樹脂スタンパを剥離し、表面に案内溝やプリピット等を有する透明樹脂層を形成する。このようにして形成された透明樹脂層の上に、スピンコート法等により有機色素を含む記録層（１）を形成し乾燥し、その記録層（１）の上に、金属からなる反射層（１）を成膜し、さらにその反射層（１）上に接着層を設け、接着剤を介して基板（１）を貼り合わせることにより２層型光記録媒体を調製する。

以上、説明したように、本実施の形態が適用される光記録媒体１００は、透明樹脂層１０５を設け、逆積層体１１の基板（１）１０１の溝間部（ランド部）に記録マークを形成する場合に、溝間部に隣接する溝部にある色素厚膜部に記録マークがはみ出ることによるクロストークの増大を抑制することができる。

さらに、本発明者らは、本検討において、反射層（１）１０２を特定の膜厚の範囲で薄くすることにより、熱伝導性とは異なるパラメータにより、クロストークを低減する可能性があることを見出した。

尚、本出願は、２００４年７月６日付きで出願された日本出願（特願２００４−１９９７７０）に基づいており、その全体が引用により援用される。

本実施の形態が適用される光記録媒体の第１の実施形態を説明する図である。 本実施の形態が適用される光記録媒体の第２の実施形態を説明する図である。 透明樹脂層の厚さ（ｔ）について説明する図である。図３（ａ）は、透明樹脂層が単一樹脂で構成されている場合であり、図３（ｂ）は、複数の樹脂層から構成されている場合である。 サンプル１〜サンプル１０の、（Ｅ×ｔ）とＭＴ（％）との関係を説明する図である。 反射層の膜厚と透過率（Ｔ）、反射層の膜厚と反射率（Ｒ）との関係を説明する図である。 表２に示した結果に基づき、反射層（１）の膜厚に対して、（ＭＴ（％）−ＳＴ（％））の値をプロットした図である。

符号の説明

１１…逆積層体、１２…正積層体、１００，２００…光記録媒体、１０１…基板（１）、１０２…反射層（１）、１０３…記録層（１）、１０４，２０４…中間層、１０５，２０５…透明樹脂層、１０６…保護コート層、１０７…反射層（２）、１０８…記録層（２）、１０９…基板（２）、１１０，２１０…レーザ光、２０１…基板、２０２…反射層、２０３…記録層

Claims (14)

1. 基板と、反射層と、記録層とをこの順に有する逆積層体と、
   前記逆積層体の前記記録層側に設けられる透明樹脂層と、を備え、
   前記透明樹脂層の厚さ（ｔ）と２５±５℃における弾性率（Ｅ）との積（Ｅ×ｔ）が２.０×１０^４ＭＰａ・μｍ以上であることを特徴とする光記録媒体。
2. 前記透明樹脂層の厚さ（ｔ）と２５±５℃における前記弾性率（Ｅ）との積（Ｅ×ｔ）が３０．０×１０^４ＭＰａ・μｍ以下であることを特徴とする請求項１記載の光記録媒体。
3. 前記透明樹脂層を構成する樹脂の２５±５℃における前記弾性率（Ｅ）が、３.０×１０^３ＭＰａ以上６.０×１０^３ＭＰａ以下であることを特徴とする請求項１記載の光記録媒体。
4. 前記透明樹脂層の膜厚（ｈ）が２０μｍ以上２００μｍ以下であることを特徴とする請求項１記載の光記録媒体。
5. 前記記録層が、有機色素含有記録層であることを特徴とする請求項１記載の光記録媒体。
6. 前記記録層と前記透明樹脂層との間に中間層をさらに有することを特徴とする請求項１記載の光記録媒体。
7. 前記透明樹脂層の前記逆積層体側とは反対側に、第２の反射層と第２の記録層と透明基板とを順番に更に設けたことを特徴とする請求項１記載の光記録媒体。
8. 光照射により情報の記録及び／または再生が行われる記録層と、
   前記記録層の光入射面側に設けられた透明樹脂層と、
   前記記録層の前記光入射面とは反対側に設けられた反射層と、を有し、
   前記透明樹脂層の厚さ（ｔ）と２５±５℃における弾性率（Ｅ）との積（Ｅ×ｔ）が２.０×１０^４ＭＰａ・μｍ以上であることを特徴とする光記録媒体。
9. 前記透明樹脂層が、ガラス転移温度１５０℃以上を有する透明樹脂から構成されることを特徴とする請求項８記載の光記録媒体。
10. さらに、前記透明樹脂層の前記光入射面側に直接または他の層を介して第２の反射層と第２の記録層とをこの順番に有し、前記記録層と当該第２の記録層との間隔が４０μｍ〜７０μｍであることを特徴とする請求項８記載の光記録媒体。
11. 基板、反射層、記録層及び透明樹脂層をこの順番に有する光記録媒体であって、
    前記反射層は、銀（Ａｇ）を主成分とする金属を含み、且つ、膜厚が３０ｎｍ以上８０ｎｍ以下であることを特徴とする光記録媒体。
12. 前記反射層が、Ａｇを５０％以上含むことを特徴とする請求項１１記載の光記録媒体。
13. 前記記録層が、有機色素材料を含むことを特徴とする請求項１１記載の光記録媒体。
14. 前記透明樹脂層は、２５±５℃における弾性率（Ｅ）が、３．０×１０^３ＭＰａ以上６．０×１０^３ＭＰａ以下の樹脂から構成されることを特徴とする請求項１１記載の光記録媒体。

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