JP2006047437A - Optical filter and plasma display panel - Google Patents

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JP2006047437A
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Takayuki Shibata
隆之 柴田
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Dai Nippon Printing Co Ltd
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Abstract

<P>PROBLEM TO BE SOLVED: To provide an optical filter which has sufficient impact resistance and high transparency even when a plasma display panel using the optical filter provided with an impact resistant layer containing ethylene vinyl acetate is subjected to heat load and humidification heat load, and to provide a plasma display panel using the optical filter. <P>SOLUTION: The optical filter is an optical filter having (1) the impact resistant layer and (2) has the impact resistant layer of <90 in Shore A hardness and (3) the impact resistant layer is formed of a resin composition having the ethylene vinyl acetate containing vinyl acetate and is suppressed in the crystallization of the ethylene vinyl acetate. The optical filter has the property that the internal haze of the impact resistant layer after heat load and/or wet heat load can maintain ≤3.0%. The content of the vinyl acetate in the ethylene vinyl acetate is preferably 25 to 35mass%. <P>COPYRIGHT: (C)2006,JPO&NCIPI

Description

本発明は、プラズマディスプレイパネルに直接貼付することができ、プラズマディスプレイパネルに耐衝撃性を付与することができる光学フィルタ、該光学フィルタを貼付したプラズマディスプレイパネルに関する。   The present invention relates to an optical filter that can be directly attached to a plasma display panel and can impart impact resistance to the plasma display panel, and a plasma display panel having the optical filter attached thereto.

近年、大型の薄型テレビ、薄型ディスプレイ用途等にプラズマディスプレイ装置の開発、製品化が行われている。このプラズマディスプレイ装置はその構造上、他の機器に誤動作を与えたり、リモートコントロールの操作に影響を与える近赤外線や、色調に影響を与えるネオン光がディスプレイ内部から放出されるため、これらを遮断する必要がある。また、プラズマディスプレイ装置から電磁波が発生するため、人体への影響を考慮して、電磁波の放出の強さを規格内に低減化することが要求されている。   In recent years, plasma display devices have been developed and commercialized for use in large thin televisions, thin display applications, and the like. Due to the structure of this plasma display device, near-infrared rays that cause malfunctions to other devices and affect the operation of remote control, and neon light that affects color tone are emitted from the inside of the display, thus blocking them. There is a need. Further, since electromagnetic waves are generated from the plasma display device, it is required to reduce the intensity of electromagnetic wave emission within the standard in consideration of the influence on the human body.

これらの要求に鑑みて、既にプラズマディスプレイパネルに貼付するための各種フィルタが開発されており、例えば、特開２０００−５９０８３号公報（特許文献１）には電磁波遮蔽効果と近赤外線カット、色補正、反射防止の各層を蓄積した光学フィルタが開示されている。このような光学フィルタは、透明性に優れていることが基本的要件である。   In view of these requirements, various filters have already been developed for application to plasma display panels. For example, Japanese Patent Application Laid-Open No. 2000-59083 (Patent Document 1) discloses an electromagnetic wave shielding effect, near-infrared cut, and color correction. An optical filter in which antireflection layers are accumulated is disclosed. Such an optical filter is basically required to have excellent transparency.

一方、プラズマディスプレイ装置は、大型化が進む中、軽量化・薄肉化が求められ、光学フィルタを設けた状態でのプラズマディスプレイパネルの耐衝撃性の向上がますます必要となっている。   On the other hand, the plasma display device is required to be lighter and thinner as the size of the device increases, and the impact resistance of the plasma display panel with an optical filter is increasingly required.

特開２００２−２６０５３９号公報（特許文献２）には、プラズマディスプレイ前面に反射防止膜を有する光学フィルタを粘着剤層を介して貼付したディスプレイパネルが示されている。特許文献２のディスプレイパネルに貼着されている光学フィルタは、粘着剤層に耐衝撃性の改善を与えているため、耐衝撃性と接着性が必要となっている。特許文献２の実施例１では、アクリル酸共重合体を溶融してシート状に成形した粘着シートを光学フィルタに貼りつけ、次にプラズマディスプレイに貼りつけている。また、特許文献２の実施例２では、プラズマディスプレイの前面にフィルタを貼り付けるため、ディスプレイとフィルタの間隔を１ｍｍに保って透明熱硬化性シリコーンを用いて、熱処理を行って貼り合わせている。   Japanese Unexamined Patent Application Publication No. 2002-260539 (Patent Document 2) discloses a display panel in which an optical filter having an antireflection film is attached to the front surface of a plasma display via an adhesive layer. Since the optical filter attached to the display panel of Patent Document 2 gives impact resistance to the pressure-sensitive adhesive layer, impact resistance and adhesiveness are required. In Example 1 of Patent Document 2, an adhesive sheet formed by melting an acrylic acid copolymer into a sheet shape is attached to an optical filter, and then attached to a plasma display. Moreover, in Example 2 of Patent Document 2, in order to attach a filter to the front surface of the plasma display, transparent thermosetting silicone is used and bonded together by keeping the distance between the display and the filter at 1 mm.

特開２００２−２３６４９号公報（特許文献３）には、衝撃緩和積層体を構成するために、飛散防止層と２種類の割れ防止層と、透明粘着層とからなる複雑な多層構造を必要としている。   Japanese Patent Laid-Open No. 2002-23649 (Patent Document 3) requires a complicated multilayer structure including a scattering prevention layer, two types of crack prevention layers, and a transparent adhesive layer in order to constitute an impact relaxation laminate. Yes.

特開２０００−５９０８３号公報JP 2000-59083 A 特開２００２−２６０５３９号公報JP 2002-260539 A 特開２００２−２３６４９号公報JP 2002-23649 A

本発明者らは、プラズマディスプレイパネルに耐衝撃性を与えることを目的として、プラズマディスプレイパネルの表示面に直接貼付されるための光学フィルタを構成する積層体の一部にエチレンビニルアセテートを含む耐衝撃層を設けると耐衝撃性に優れた効果を発揮することに着目している。   For the purpose of giving impact resistance to the plasma display panel, the present inventors have included ethylene vinyl acetate in a part of a laminate constituting an optical filter to be directly attached to the display surface of the plasma display panel. We pay attention to the fact that providing an impact layer exhibits an excellent impact resistance.

しかしながら、プラズマディスプレイパネルは製造過程において、８０℃絶乾、１０００時間の加熱試験や、６０℃、９５％湿度、１０００時間の加湿熱試験を行うことが当業界では一般的である。８０℃絶乾による加熱試験においては、プラズマディプレイパネルの表面温度は、色（特に白色）によって、また電源を入れている時間によって、最高で１００℃に達することもある。また、耐衝撃層を積層成形する際に、例えば、樹脂を押出ラミネート成形する際に、樹脂が２５０℃位に溶融される。本発明者は、これらの加熱負荷及び湿熱負荷を受けたエチレンビニルアセテートを含む耐衝撃層を設けた光学フィルタは、白濁化し、透明性が低下するという問題点を見出した。   However, it is common in the industry that plasma display panels are subjected to an 80 ° C. absolutely dry, 1000 hour heating test and a 60 ° C., 95% humidity, 1000 hour humidifying heat test during the manufacturing process. In the heating test by completely drying at 80 ° C., the surface temperature of the plasma display panel may reach a maximum of 100 ° C. depending on the color (particularly white) and depending on the time when the power is turned on. Further, when the impact-resistant layer is laminated and molded, for example, when the resin is extrusion-laminated, the resin is melted at about 250 ° C. The present inventor has found that the optical filter provided with the impact resistant layer containing ethylene vinyl acetate subjected to these heating loads and moist heat loads becomes cloudy and the transparency is lowered.

そこで、本発明は、エチレンビニルアセテートを含む耐衝撃層を設けた光学フィルタを用いたプラズマディスプレイパネルが熱負荷および湿熱負荷を受けても、十分な耐衝撃性を有し、且つ白濁化が抑制された透明性が高い光学フィルタを提供し、該光学フィルタを用いたプラズマディスプレイパネルを提供することを目的とする。   Therefore, the present invention has sufficient impact resistance and suppresses white turbidity even when a plasma display panel using an optical filter provided with an impact resistant layer containing ethylene vinyl acetate is subjected to heat load and wet heat load. It is an object of the present invention to provide an optical filter having high transparency and to provide a plasma display panel using the optical filter.

さらに本発明の付随的な目的は、上記性質を有する光学フィルタに加えて、反射防止性を付与した光学フィルタを提供することを目的とする。   A further object of the present invention is to provide an optical filter having antireflection properties in addition to the optical filter having the above properties.

さらに本発明の付随的な目的は、上記性質を有する光学フィルタに加えて、近赤外線吸収性の樹脂層を備えた光学フィルタを提供することを目的とする。   A further object of the present invention is to provide an optical filter provided with a near-infrared absorbing resin layer in addition to the optical filter having the above properties.

さらに本発明の付随的な目的は、上記性質を有する光学フィルタに加えて、ネオン光吸収性の樹脂層を備えた光学フィルタを提供することを目的とする。   A further object of the present invention is to provide an optical filter provided with a neon light absorbing resin layer in addition to the optical filter having the above properties.

さらに本発明の付随的な目的は、上記性質を有する光学フィルタに加えて、透明性の高い光学フィルタを提供することを目的とする。   Furthermore, an additional object of the present invention is to provide an optical filter having high transparency in addition to the optical filter having the above properties.

さらに本発明の付随的な目的は、上記性質を有する光学フィルタに加えて、静電気及び／又は電磁波ノイズが抑制された光学フィルタを提供することを目的とする。   A further object of the present invention is to provide an optical filter in which static electricity and / or electromagnetic wave noise is suppressed in addition to the optical filter having the above properties.

さらに本発明の付随的な目的は、上記性質を有する光学フィルタが表示面に貼着されたプラズマディスプレイパネルを提供することを目的とする。   A further object of the present invention is to provide a plasma display panel in which an optical filter having the above properties is attached to a display surface.

本発明の光学フィルタは、（１）耐衝撃層を有する光学フィルタであって、（２）該光学フィルタにおいて、ショワーＡ硬度が９０未満である耐衝撃層を有し、（３）該耐衝撃層は、ビニルアセテートを含有するエチレンビニルアセテート及び結晶化核剤を有する樹脂組成物で形成されたものであって、エチレンビニルアセテートの結晶化が抑制されたものであり、熱負荷後及び／又は湿熱負荷後の該耐衝撃層の内部ヘーズが３．０％以下を維持できる性質を有することを特徴とする白濁化が抑制された光学フィルタである。   The optical filter of the present invention is (1) an optical filter having an impact resistant layer, (2) the optical filter having an impact resistant layer having a Shore A hardness of less than 90, and (3) the impact resistant layer. The layer is formed of a resin composition having vinyl acetate containing ethylene vinyl acetate and a crystallization nucleating agent, wherein crystallization of ethylene vinyl acetate is suppressed, and / or after heat load and / or It is an optical filter with suppressed white turbidity, characterized in that the internal haze of the impact resistant layer after wet heat load can be maintained at 3.0% or less.

本発明の光学フィルタの耐衝撃層を形成するための樹脂組成物中には、結晶化核剤が５００ｐｐｍ−１００，０００ｐｐｍ含有されているので、生成されるエチレンビニルアセテートの結晶が光の波長以上の粒径に成長せず、光の波長未満の粒径となるため、耐衝撃層の白濁化が抑制され透明性が失われない。   In the resin composition for forming the impact-resistant layer of the optical filter of the present invention, the crystallization nucleating agent is contained at 500 ppm to 100,000 ppm, so that the produced ethylene vinyl acetate crystals are longer than the wavelength of light. Therefore, the impact resistance layer is prevented from becoming clouded and transparency is not lost.

本発明の光学フィルタは耐衝撃層を成形するのに樹脂組成物が熔融成形される際に、或いは、製造された光学フィルタに対して加熱試験（約８０℃絶乾、約１０００時間程度）および加湿熱試験（約６０℃、約湿度９５％、約１０００時間程度）を行う際に、エチレンビニルアセテートの結晶が生成されるが、樹脂組成物中あるいは耐衝撃層中に結晶化核剤が５００ｐｐｍ−１００，０００ｐｐｍ含有されているので、加熱後冷却時に樹脂組成物あるいは耐衝撃層の結晶セグメントにより粘度が上昇し、結晶セグメントの集合化が抑制されるため、光の波長以下の微細な粒径の結晶段階で結晶化が終わる。そのため、耐衝撃層は白濁化が防止され透明な膜となる。   The optical filter of the present invention can be used when a resin composition is melt-molded to form an impact-resistant layer, or a heating test (about 80 ° C., absolutely dry, about 1000 hours) and the manufactured optical filter. When performing a humidification heat test (about 60 ° C., about 95% humidity, about 1000 hours), ethylene vinyl acetate crystals are formed, but the crystallization nucleating agent is 500 ppm in the resin composition or in the impact resistant layer. Since it is contained at −100,000 ppm, the viscosity increases due to the crystal segment of the resin composition or the impact-resistant layer during cooling after heating, and the aggregation of the crystal segment is suppressed. Crystallization ends at the crystallization stage. Therefore, the impact resistant layer is prevented from becoming clouded and becomes a transparent film.

本発明において耐衝撃層の硬度を規定するショワーＡ硬度はＪＩＳ−Ｋ７３１１−１９９５による方法に測定した。   In the present invention, the Shore A hardness that defines the hardness of the impact resistant layer was measured by a method according to JIS-K7311-1995.

本発明において内部ヘーズは、耐衝撃層のみのヘーズを意味し、ＪＩＳ−Ｋ７１０５による方法により測定した。   In the present invention, the internal haze means the haze of only the impact resistant layer, and was measured by a method according to JIS-K7105.

本発明の光学フィルタは、前記光学フィルタをプラズマディスプレイパネルに貼付したときのプラズマディスプレイパネルに対する衝撃試験による破壊エネルギーが、加熱試験前および加湿熱試験前において０．６Ｊ以上であり、８０℃、１０００時間の加熱試験後において０．５Ｊ以上であり、６０℃、湿度９５％、１０００時間後の加湿熱試験後において０．５Ｊ以上であることが必要である。   In the optical filter of the present invention, when the optical filter is affixed to the plasma display panel, the breaking energy due to the impact test on the plasma display panel is 0.6 J or more before the heating test and before the humidifying heat test. It is 0.5 J or more after the time heating test, and it is necessary to be 0.5 J or more after the humidification heat test after 1000 hours at 60 ° C. and humidity.

衝撃試験は、図５に示す衝撃試験装置を用いて行い、高さ９．６ｃｍから直径５０．８ｍｍの鋼球１２（質量５３４ｇ）（ＪＩＳ Ｂ１５０１ 玉軸受用鋼球に規定されたもの）を落下させたときの、破壊エネルギーを測定して行った。試験台８としてＳＵＳ製土台９と、厚さ１０ｍｍのガラス板１０を貼り合わせたものを用いた。該試験台８上に、プラズマディスプレイ用のプラズマディスプレイパネル１１として旭硝子社製の高歪点ガラス板（ＰＤ−２００：商品名、厚み２．８ｍｍ）を載置した。なお、ＰＤ−２００は、プラズマディスプレイメーカー各社が一般的に使用しているプラズマディスプレイ用の前面ガラス板１１である。試験台８上に前面ガラス板１１を直接載置した理由は、プラズマディスプレイの筐体によるクッション性を排除するためである。   The impact test is performed using the impact test apparatus shown in FIG. 5 and a steel ball 12 (mass 534 g) having a diameter of 9.6 cm to a diameter of 50.8 mm (specified in JIS B1501 ball bearing steel ball) is dropped. This was done by measuring the breaking energy at the time. As the test stand 8, a SUS base 9 and a 10 mm thick glass plate 10 bonded together were used. A high strain point glass plate (PD-200: trade name, thickness 2.8 mm) manufactured by Asahi Glass Co., Ltd. was placed on the test bench 8 as a plasma display panel 11 for plasma display. PD-200 is a front glass plate 11 for plasma display that is generally used by plasma display manufacturers. The reason why the front glass plate 11 is directly placed on the test table 8 is to eliminate the cushioning property by the casing of the plasma display.

本発明の光学フィルタにおける耐衝撃層を作製するのに用いる樹脂は、ビニルアセテートの含有量が２５〜３５質量％のエチレンビニルアセテートを有することが好ましく、且つ結晶化核剤を５００ｐｐｍ−１００，０００ｐｐｍ、好ましくは１０００ｐｐｍ〜５００００ｐｐｍ、最も好ましくは、１０００ｐｐｍ〜５０００ｐｐｍである。   The resin used for producing the impact-resistant layer in the optical filter of the present invention preferably has ethylene vinyl acetate having a vinyl acetate content of 25 to 35% by mass, and the crystallization nucleating agent is 500 ppm to 100,000 ppm. , Preferably 1000 ppm to 50000 ppm, most preferably 1000 ppm to 5000 ppm.

ビニルアセテートの含有量が低いエチレンビニルアセテート、例えば、５質量％未満のビニルアセテート含有量のエチレンビニルアセテートだと、側鎖となるアセトキシ基の量が少ないため、エチレンビニルアセテートの結晶が発生しやすく、光の波長よりも大きい結晶となるため耐衝撃層の透明度が下がり、硬度も高いため耐衝撃性が発現しない。ビニルアセテートの含有量が５質量％−２５質量％未満のエチレンビニルアセテートだと、透明性に優れているが、硬度は高く、耐衝撃性が発現しない。一方、ビニルアセテートの含有量が高くなると、例えば２５重量％以上だと、エチレンビニルアセテートの結晶化温度が低くなるため、樹脂の熔融押出時に冷却されるときにセグメントが集合する時間が長くなることで、結晶化が進むことになり、透明性が下がるが、硬度が低く、耐衝撃性は高い。また、ビニルアセテートの含有量が３５質量％を超えるエチレンビニルアセテートだと、樹脂粘度が高く（ＭＦＲが５０〜１０００程度）となり、押出し時のスクリュートルクが高くなり、押出せなかったり、膜厚がばらついたりする。膜厚のばらつきは、耐衝撃性のばらつきに直結するので好ましくない。   Ethylene vinyl acetate with a low vinyl acetate content, such as ethylene vinyl acetate with a vinyl acetate content of less than 5% by mass, tends to generate crystals of ethylene vinyl acetate because the amount of acetoxy groups in the side chain is small. Since the crystals are larger than the wavelength of light, the impact resistant layer is less transparent and the hardness is high, so that the impact resistance is not exhibited. An ethylene vinyl acetate having a vinyl acetate content of less than 5% by mass to less than 25% by mass is excellent in transparency but has high hardness and does not exhibit impact resistance. On the other hand, if the content of vinyl acetate is high, for example, if it is 25% by weight or more, the crystallization temperature of ethylene vinyl acetate will be low, so that the time for assembly of the segments will increase when cooled during melt extrusion of the resin. Thus, crystallization proceeds and transparency decreases, but hardness is low and impact resistance is high. Further, when the vinyl acetate content exceeds 35% by mass, the resin viscosity is high (MFR is about 50 to 1000), the screw torque at the time of extrusion is high, and the film cannot be extruded, It varies. Variation in film thickness is not preferable because it directly affects variation in impact resistance.

ところで、ビニルアセテートの含有量が２５質量％−３５質量％のエチレンビニルアセテートであっても、結晶化核剤を５００ｐｐｍ−１００，０００ｐｐｍ、好ましくは１０００ｐｐｍ〜５００００ｐｐｍ、最も好ましくは、１０００ｐｐｍ〜５０００ｐｐｍを含有させると、前記に説明したように耐衝撃層は白濁化が防止され透明となり、しかも、耐衝撃性に優れたものとなることを本発明者は見いだした。結晶化核剤が５００ｐｐｍ未満だと、微細な結晶を造くるための結晶化核剤の量が不十分であり、少ない量の結晶化核剤からは大きな結晶が生ずることになるので、光の波長よりも大きい粒径の結晶が出現して耐衝撃層が白濁化する。また、結晶化核剤が１００，０００ｐｐｍを超えると、結晶粒子の数が多くなりすぎて、結晶化核剤自体が不透明なため耐衝撃層が白濁化する。   By the way, even if it is ethylene vinyl acetate whose content of vinyl acetate is 25% by mass to 35% by mass, the crystallization nucleating agent contains 500 ppm to 100,000 ppm, preferably 1000 ppm to 50000 ppm, and most preferably 1000 ppm to 5000 ppm. Then, as described above, the present inventor has found that the impact resistant layer is prevented from becoming clouded and becomes transparent, and has excellent impact resistance. If the crystallization nucleating agent is less than 500 ppm, the amount of the crystallization nucleating agent for producing fine crystals is insufficient, and a large amount of crystals are produced from a small amount of the crystallization nucleating agent. Crystals having a grain size larger than the wavelength appear and the impact resistant layer becomes clouded. On the other hand, if the crystallization nucleating agent exceeds 100,000 ppm, the number of crystal particles becomes too large, and the crystallization nucleating agent itself is opaque, so that the impact resistant layer becomes cloudy.

本発明の光学フィルタは、層構成中において、８００〜１０００ｎｍの波長範囲の透過率が２０％以下となるような、近赤外線吸収化合物を含む樹脂層を有することが好ましい。   The optical filter of the present invention preferably has a resin layer containing a near-infrared absorbing compound such that the transmittance in the wavelength range of 800 to 1000 nm is 20% or less in the layer configuration.

本発明の光学フィルタは、層構成中において、ネオン光５６０〜６３０ｎｍの波長範囲に最大吸収波長を持つネオン光吸収化合物を含む樹脂層を有し、該波長範囲における最大吸収波長の透過率が４０％以下となることが好ましい。   The optical filter of the present invention has a resin layer containing a neon light absorbing compound having a maximum absorption wavelength in the wavelength range of neon light 560 to 630 nm in the layer configuration, and the transmittance of the maximum absorption wavelength in the wavelength range is 40. % Or less is preferable.

本発明の光学フィルタは、可視光３８０〜７８０ｎｍの波長範囲の透過率が４０％以上であることが好ましい。   The optical filter of the present invention preferably has a transmittance in the wavelength range of 380 to 780 nm of visible light of 40% or more.

本発明の光学フィルタは、層構成中において、プラズマディスプレイ装置から発生する静電気及び／又は電磁波ノイズをシールドするための電磁波遮蔽層を有することが好ましい。   The optical filter of the present invention preferably has an electromagnetic wave shielding layer for shielding static electricity and / or electromagnetic wave noise generated from the plasma display device in the layer structure.

本発明の光学フィルタは、プラズマディスプレイパネルに貼着するための粘着剤層を設けることができる。   The optical filter of the present invention can be provided with an adhesive layer for adhering to a plasma display panel.

本発明のプラズマディスプレイパネルは、前記した形態の光学フィルタを粘着剤層を介して表示面に貼付して構成することができる。   The plasma display panel of the present invention can be configured by attaching the optical filter of the above-described form to a display surface through an adhesive layer.

本発明のエチレンビニルアセテートを含む耐衝撃層を設けた光学フィルタは、熱負荷および湿熱負荷を受けても、白濁化が抑制されており、且つ透明性が高い。さらに本発明の光学フィルタは前記性質に加えて、熱負荷および湿熱負荷後においても十分な耐衝撃性を維持している。したがって、本発明の光学フィルタを組み込んだプラズマディスプレイパネルは熱負荷および湿熱負荷後においても耐衝撃性に優れると共に透明性にも優れる。   The optical filter provided with the impact-resistant layer containing ethylene vinyl acetate of the present invention is suppressed in white turbidity and has high transparency even when subjected to heat load and wet heat load. Furthermore, in addition to the above properties, the optical filter of the present invention maintains sufficient impact resistance even after heat load and wet heat load. Therefore, the plasma display panel incorporating the optical filter of the present invention is excellent in impact resistance and transparency even after heat load and wet heat load.

図１は本発明の耐衝撃層を設けた実施態様１の光学フィルタをプラズマディスプレイパネルの前面に貼付した場合の積層構造の一例を示す図である。１は反射防止層であり、色素含有粘着剤層２を介して耐衝撃層５に積層されている。さらに耐衝撃層５は粘着剤層４を介して近赤外線吸収層３に積層されている。さらに、近赤外線吸収層３は粘着剤層４を介して電磁波遮蔽層６に積層されている。近赤外線吸収層３と電磁波遮蔽層６との間に介在する粘着剤層４は、電磁波遮蔽層６のメッシュ構造の凹凸内部にも充填され、電磁波遮蔽層６上の平坦化に寄与している。該電磁波遮蔽層６における金属メッシュ表面の黒化処理により形成された皮膜（黒のベタ塗りにて示す）は、プラズマディスプレイパネル７貼付側に設けられている。さらに電磁波遮蔽層６の一側には粘着剤層４が積層されており、これらの各層からなる積層体は、実施態様１の光学フィルタを構成している。該光学フィルタは、さらにプラズマディスプレイパネル７の表面に粘着剤層４を介して接合されている。   FIG. 1 is a view showing an example of a laminated structure when the optical filter of Embodiment 1 provided with an impact resistant layer of the present invention is attached to the front surface of a plasma display panel. Reference numeral 1 denotes an antireflection layer, which is laminated on the impact resistant layer 5 with the dye-containing pressure-sensitive adhesive layer 2 interposed therebetween. Further, the impact resistant layer 5 is laminated on the near-infrared absorbing layer 3 via the pressure-sensitive adhesive layer 4. Further, the near-infrared absorbing layer 3 is laminated on the electromagnetic wave shielding layer 6 via the pressure-sensitive adhesive layer 4. The pressure-sensitive adhesive layer 4 interposed between the near-infrared absorbing layer 3 and the electromagnetic wave shielding layer 6 is also filled in the irregularities of the mesh structure of the electromagnetic wave shielding layer 6 and contributes to flattening on the electromagnetic wave shielding layer 6. . A film (shown by black solid coating) formed by blackening the metal mesh surface in the electromagnetic wave shielding layer 6 is provided on the side where the plasma display panel 7 is applied. Furthermore, the pressure-sensitive adhesive layer 4 is laminated on one side of the electromagnetic wave shielding layer 6, and the laminate composed of these layers constitutes the optical filter of the first embodiment. The optical filter is further bonded to the surface of the plasma display panel 7 via an adhesive layer 4.

図２は本発明の耐衝撃層を設けた実施態様２の光学フィルタをプラズマディスプレイパネルの前面に貼付した場合の積層構造の一例を示す図である。１は反射防止層であり、粘着剤層４を介して耐衝撃層５に積層されている。さらに耐衝撃層５は色素含有粘着剤層２を介して近赤外線吸収層３に積層されている。さらに、近赤外線吸収層３は粘着剤層４を介して電磁波遮蔽層６に積層されている。近赤外線吸収層３と電磁波遮蔽層６との間に介在する粘着剤層４は、電磁波遮蔽層６のメッシュ構造の凹凸内部にも充填され、電磁波遮蔽層６上の平坦化に寄与している。該電磁波遮蔽層６における金属メッシュ表面の黒化処理により形成された皮膜（黒のベタ塗りにて示す）は、プラズマディスプレイパネル７貼付側に設けられている。さらに電磁波遮蔽層６の一側には粘着剤層４が積層されており、これらの各層からなる積層体は、実施態様１の光学フィルタを構成している。該光学フィルタは、さらにプラズマディスプレイパネル７の表面に粘着剤層４を介して接合されている。   FIG. 2 is a view showing an example of a laminated structure when the optical filter of Embodiment 2 provided with the impact resistant layer of the present invention is attached to the front surface of the plasma display panel. Reference numeral 1 denotes an antireflection layer, which is laminated on an impact resistant layer 5 with an adhesive layer 4 interposed therebetween. Further, the impact-resistant layer 5 is laminated on the near-infrared absorbing layer 3 through the dye-containing pressure-sensitive adhesive layer 2. Further, the near-infrared absorbing layer 3 is laminated on the electromagnetic wave shielding layer 6 via the pressure-sensitive adhesive layer 4. The pressure-sensitive adhesive layer 4 interposed between the near-infrared absorbing layer 3 and the electromagnetic wave shielding layer 6 is also filled in the irregularities of the mesh structure of the electromagnetic wave shielding layer 6 and contributes to flattening on the electromagnetic wave shielding layer 6. . A film (shown by black solid coating) formed by blackening the metal mesh surface in the electromagnetic wave shielding layer 6 is provided on the side where the plasma display panel 7 is applied. Furthermore, the pressure-sensitive adhesive layer 4 is laminated on one side of the electromagnetic wave shielding layer 6, and the laminate composed of these layers constitutes the optical filter of the first embodiment. The optical filter is further bonded to the surface of the plasma display panel 7 via an adhesive layer 4.

図３は本発明の耐衝撃層を設けた実施態様３の光学フィルタをプラズマディスプレイパネルの前面に貼付した場合の積層構造の一例を示す図である。１は反射防止層であり、粘着剤層４を介して耐衝撃層５に積層されている。さらに耐衝撃層５は粘着剤層４を介して近赤外線吸収層３に積層されている。さらに、近赤外線吸収層３は色素含有粘着剤層２を介して電磁波遮蔽層６に積層されている。近赤外線吸収層３と電磁波遮蔽層６との間に介在する色素含有粘着剤層２は、電磁波遮蔽層６のメッシュ構造の凹凸内部にも充填され、電磁波遮蔽層６上の平坦化に寄与している。該電磁波遮蔽層６における金属メッシュ表面の黒化処理により形成された皮膜（黒のベタ塗りにて示す）は、プラズマディスプレイパネル７貼付側に設けられている。さらに電磁波遮蔽層６の一側には粘着剤層４が積層されており、これらの各層からなる積層体は、実施態様１の光学フィルタを構成している。該光学フィルタはさらにプラズマディスプレイパネル７の表面に粘着剤層４を介して接合されている。   FIG. 3 is a view showing an example of a laminated structure when the optical filter of Embodiment 3 provided with the impact resistant layer of the present invention is attached to the front surface of the plasma display panel. Reference numeral 1 denotes an antireflection layer, which is laminated on an impact resistant layer 5 with an adhesive layer 4 interposed therebetween. Further, the impact resistant layer 5 is laminated on the near-infrared absorbing layer 3 via the pressure-sensitive adhesive layer 4. Further, the near-infrared absorbing layer 3 is laminated on the electromagnetic wave shielding layer 6 via the dye-containing pressure-sensitive adhesive layer 2. The dye-containing pressure-sensitive adhesive layer 2 interposed between the near-infrared absorbing layer 3 and the electromagnetic wave shielding layer 6 is also filled in the irregularities of the mesh structure of the electromagnetic wave shielding layer 6 and contributes to flattening on the electromagnetic wave shielding layer 6. ing. A film (shown by black solid coating) formed by blackening the metal mesh surface in the electromagnetic wave shielding layer 6 is provided on the side where the plasma display panel 7 is applied. Furthermore, the pressure-sensitive adhesive layer 4 is laminated on one side of the electromagnetic wave shielding layer 6, and the laminate composed of these layers constitutes the optical filter of the first embodiment. The optical filter is further bonded to the surface of the plasma display panel 7 via an adhesive layer 4.

図４は本発明の耐衝撃層を設けた実施態様４の光学フィルタをプラズマディスプレイパネルの前面に貼付した場合の積層構造の一例を示す図である。１は反射防止層であり、粘着剤層４を介して耐衝撃層５に積層されている。さらに耐衝撃層５は粘着剤層４を介して近赤外線吸収層３に積層されている。さらに、近赤外線吸収層３は粘着剤層４を介して電磁波遮蔽層６に積層されている。近赤外線吸収層３と電磁波遮蔽層６との間に介在する粘着剤層４は、電磁波遮蔽層６のメッシュ構造の凹凸内部にも充填され、電磁波遮蔽層６上の平坦化に寄与している。該電磁波遮蔽層６における金属メッシュ表面の黒化処理により形成された皮膜（黒のベタ塗りにて示す）は、プラズマディスプレイパネル７貼付側に設けられている。さらに電磁波遮蔽層６の一側には色素含有粘着剤層２が積層されており、これらの各層からなる積層体は、実施態様１の光学フィルタを構成している。該光学フィルタはさらにプラズマディスプレイパネル７の表面に色素含有粘着剤層２を介して接合されている。   FIG. 4 is a view showing an example of a laminated structure when the optical filter of Embodiment 4 provided with the impact resistant layer of the present invention is attached to the front surface of the plasma display panel. Reference numeral 1 denotes an antireflection layer, which is laminated on an impact resistant layer 5 with an adhesive layer 4 interposed therebetween. Further, the impact resistant layer 5 is laminated on the near-infrared absorbing layer 3 via the pressure-sensitive adhesive layer 4. Further, the near-infrared absorbing layer 3 is laminated on the electromagnetic wave shielding layer 6 via the pressure-sensitive adhesive layer 4. The pressure-sensitive adhesive layer 4 interposed between the near-infrared absorbing layer 3 and the electromagnetic wave shielding layer 6 is also filled in the irregularities of the mesh structure of the electromagnetic wave shielding layer 6 and contributes to flattening on the electromagnetic wave shielding layer 6. . A film (shown by black solid coating) formed by blackening the metal mesh surface in the electromagnetic wave shielding layer 6 is provided on the side where the plasma display panel 7 is applied. Further, the dye-containing pressure-sensitive adhesive layer 2 is laminated on one side of the electromagnetic wave shielding layer 6, and the laminate composed of these layers constitutes the optical filter of Embodiment 1. The optical filter is further bonded to the surface of the plasma display panel 7 via the dye-containing pressure-sensitive adhesive layer 2.

図５は本発明の耐衝撃層を設けた実施態様５の光学フィルタをプラズマディスプレイパネルの前面に貼付した場合の積層構造の一例を示す図である。図５の光学フィルタは、図１の光学フィルタにおいて、電磁波遮蔽層６における金属メッシュ表面の黒化処理が、プラズマディスプレイパネル７の貼付側ではなく、反射防止層１側であり、且つ、電磁波遮蔽層６の金属メッシュ構造の凹凸内部にも充填される粘着剤層４は、プラズマディスプレイパネルと電磁波遮蔽層との間に介在する粘着剤層４であることが、図１と異なるだけであり、その外は図１と同じ層構成である。   FIG. 5 is a view showing an example of a laminated structure when the optical filter of Embodiment 5 provided with the impact resistant layer of the present invention is attached to the front surface of the plasma display panel. The optical filter of FIG. 5 is the same as the optical filter of FIG. 1, but the blackening treatment on the surface of the metal mesh in the electromagnetic wave shielding layer 6 is on the antireflection layer 1 side, not the application side of the plasma display panel 7. The pressure-sensitive adhesive layer 4 filled in the metal mesh structure unevenness of the layer 6 is only the pressure-sensitive adhesive layer 4 interposed between the plasma display panel and the electromagnetic wave shielding layer, which is different from FIG. The other layers are the same as those in FIG.

図６は本発明の耐衝撃層を設けた実施態様６の光学フィルタをプラズマディスプレイパネルの前面に貼付した場合の積層構造の一例を示す図である。図６の光学フィルタは、図２の光学フィルタにおいて、電磁波遮蔽層６における金属メッシュ表面の黒化処理が、プラズマディスプレイパネル７の貼付側ではなく、反射防止層１側であり、且つ、電磁波遮蔽層６の金属メッシュ構造の凹凸内部にも充填される粘着剤層４は、プラズマディスプレイパネルと電磁波遮蔽層との間に介在する粘着剤層４であることが、図２と異なるだけであり、その外は図２と同じ層構成である。   FIG. 6 is a view showing an example of a laminated structure in the case where the optical filter of Embodiment 6 provided with the impact resistant layer of the present invention is attached to the front surface of the plasma display panel. The optical filter of FIG. 6 is the same as the optical filter of FIG. 2, but the blackening treatment on the surface of the metal mesh in the electromagnetic wave shielding layer 6 is not on the attachment side of the plasma display panel 7 but on the antireflection layer 1 side. The pressure-sensitive adhesive layer 4 filled in the metal mesh structure unevenness of the layer 6 is only the pressure-sensitive adhesive layer 4 interposed between the plasma display panel and the electromagnetic wave shielding layer, which is different from FIG. The rest is the same layer structure as FIG.

図７は本発明の耐衝撃層を設けた実施態様７の光学フィルタをプラズマディスプレイパネルの前面に貼付した場合の積層構造の一例を示す図である。図７の光学フィルタは、図３の光学フィルタにおいて、電磁波遮蔽層６における金属メッシュ表面の黒化処理が、プラズマディスプレイパネル７の貼付側ではなく、反射防止層１側であり、且つ、電磁波遮蔽層６の金属メッシュ構造の凹凸内部にも充填される粘着剤層４は、プラズマディスプレイパネルと電磁波遮蔽層との間に介在する粘着剤層４であることが、図３と異なるだけであり、その外は図３と同じ層構成である。   FIG. 7 is a view showing an example of a laminated structure when the optical filter of Embodiment 7 provided with the impact resistant layer of the present invention is attached to the front surface of the plasma display panel. The optical filter of FIG. 7 is the same as the optical filter of FIG. 3, but the blackening treatment on the surface of the metal mesh in the electromagnetic wave shielding layer 6 is not on the attachment side of the plasma display panel 7 but on the antireflection layer 1 side. The pressure-sensitive adhesive layer 4 filled in the metal mesh structure unevenness of the layer 6 is only the pressure-sensitive adhesive layer 4 interposed between the plasma display panel and the electromagnetic wave shielding layer, which is different from FIG. The other layers are the same as those in FIG.

図８は本発明の耐衝撃層を設けた実施態様８の光学フィルタをプラズマディスプレイパネルの前面に貼付した場合の積層構造の一例を示す図である。図８の光学フィルタは、図４の光学フィルタにおいて、電磁波遮蔽層６における金属メッシュ表面の黒化処理が、プラズマディスプレイパネル７の貼付側ではなく、反射防止層１側であり、且つ、電磁波遮蔽層６の金属メッシュ構造の凹凸内部にも充填される粘着剤層４は、プラズマディスプレイパネルと電磁波遮蔽層との間に介在する色素含有粘着剤層２であることが、図４と異なるだけであり、その外は図４と同じ層構成である。   FIG. 8 is a view showing an example of a laminated structure when the optical filter of Embodiment 8 provided with the impact resistant layer of the present invention is attached to the front surface of the plasma display panel. The optical filter in FIG. 8 is the same as the optical filter in FIG. 4, but the blackening treatment on the surface of the metal mesh in the electromagnetic wave shielding layer 6 is not on the application side of the plasma display panel 7 but on the antireflection layer 1 side. The pressure-sensitive adhesive layer 4 filled in the metal mesh structure irregularities of the layer 6 is a dye-containing pressure-sensitive adhesive layer 2 interposed between the plasma display panel and the electromagnetic wave shielding layer, only different from FIG. There is the same layer structure as FIG.

図９は本発明の耐衝撃層を設けた実施態様９の光学フィルタをプラズマディスプレイパネルの前面に貼付した場合の積層構造の一例を示す図である。１は反射防止層であり、色素含有粘着剤層２を介して近赤外線吸収層３に積層されている。さらに近赤外線吸収層３は粘着剤層４を介して耐衝撃層５に積層されている。さらに、耐衝撃層５は粘着剤層４を介して電磁波遮蔽層６に積層されている。さらに電磁波遮蔽層６のプラズマディスプレイパネル７側には粘着剤層４が積層されており、これらの各層からなる積層体は、実施態様９の光学フィルタを構成している。該光学フィルタはさらにプラズマディスプレイパネル７の表面に粘着剤層４を介して接合されている。該電磁波遮蔽層６における金属メッシュ表面の黒化処理により形成された皮膜（黒のベタ塗りにて示す）は、プラズマディスプレイパネル７貼付側に設けられている。耐衝撃層５と電磁波遮蔽層６の間に介在する粘着剤層４は、電磁波遮蔽層６のメッシュ構造の凹凸内部にも充填され、電磁波遮蔽層６上の平坦化に寄与している。   FIG. 9 is a view showing an example of a laminated structure in the case where the optical filter of Embodiment 9 provided with the impact resistant layer of the present invention is attached to the front surface of the plasma display panel. Reference numeral 1 denotes an antireflection layer, which is laminated on the near-infrared absorbing layer 3 through the dye-containing pressure-sensitive adhesive layer 2. Further, the near-infrared absorbing layer 3 is laminated on the impact resistant layer 5 with the pressure-sensitive adhesive layer 4 interposed therebetween. Further, the impact resistant layer 5 is laminated on the electromagnetic wave shielding layer 6 via the pressure-sensitive adhesive layer 4. Further, the pressure-sensitive adhesive layer 4 is laminated on the plasma display panel 7 side of the electromagnetic wave shielding layer 6, and the laminate composed of these layers constitutes the optical filter of the ninth embodiment. The optical filter is further bonded to the surface of the plasma display panel 7 via an adhesive layer 4. A film (shown by black solid coating) formed by blackening the metal mesh surface in the electromagnetic wave shielding layer 6 is provided on the side where the plasma display panel 7 is applied. The pressure-sensitive adhesive layer 4 interposed between the impact resistant layer 5 and the electromagnetic wave shielding layer 6 is also filled in the irregularities of the mesh structure of the electromagnetic wave shielding layer 6 and contributes to flattening on the electromagnetic wave shielding layer 6.

図１０は本発明の耐衝撃層を設けた実施態様１０の光学フィルタをプラズマディスプレイパネルの前面に貼付した場合の積層構造の一例を示す図である。図１０の光学フィルタは、図９の光学フィルタにおいて、反射防止層１と近赤外線吸収層３の間に介在する色素含有粘着剤層２を、近赤外線吸収層３と耐衝撃層５の間に介在する粘着剤層４と入れ換えたものである。その他の層構成は、全て図９と同じである。   FIG. 10 is a view showing an example of a laminated structure in the case where the optical filter of Embodiment 10 provided with the impact resistant layer of the present invention is attached to the front surface of the plasma display panel. The optical filter of FIG. 10 is different from the optical filter of FIG. 9 in that the dye-containing pressure-sensitive adhesive layer 2 interposed between the antireflection layer 1 and the near-infrared absorbing layer 3 is interposed between the near-infrared absorbing layer 3 and the impact-resistant layer 5. The adhesive layer 4 intervening is replaced. The other layer configurations are all the same as in FIG.

図１１は本発明の耐衝撃層を設けた実施態様１１の光学フィルタをプラズマディスプレイパネルの前面に貼付した場合の積層構造の一例を示す図である。図１１の光学フィルタは、図９の光学フィルタにおいて、反射防止層１と近赤外線吸収層３の間に介在する色素含有粘着剤層２を、耐衝撃層５と電磁波遮蔽層６の間に介在する粘着剤層４と入れ換えたものである。その他の層構成は、全て図９と同じである。   FIG. 11 is a view showing an example of a laminated structure when the optical filter of Embodiment 11 provided with the impact resistant layer of the present invention is attached to the front surface of the plasma display panel. The optical filter of FIG. 11 is different from the optical filter of FIG. 9 in that the dye-containing pressure-sensitive adhesive layer 2 interposed between the antireflection layer 1 and the near-infrared absorbing layer 3 is interposed between the impact resistant layer 5 and the electromagnetic wave shielding layer 6. The pressure-sensitive adhesive layer 4 is replaced. The other layer configurations are all the same as in FIG.

図１２は本発明の耐衝撃層を設けた実施態様１２の光学フィルタをプラズマディスプレイパネルの前面に貼付した場合の積層構造の一例を示す図である。図１２の光学フィルタは、図９の光学フィルタにおいて、反射防止層１と近赤外線吸収層３の間に介在する色素含有粘着剤層２を、電磁波遮蔽層６のプラズマディスプレイパネル７側に設けられた粘着剤層４と入れ換えたものである。その他の層構成は、全て図９と同じである。   FIG. 12 is a view showing an example of a laminated structure when the optical filter according to the twelfth embodiment provided with the impact resistant layer of the present invention is attached to the front surface of the plasma display panel. The optical filter of FIG. 12 is provided with a dye-containing pressure-sensitive adhesive layer 2 interposed between the antireflection layer 1 and the near-infrared absorbing layer 3 on the plasma display panel 7 side of the electromagnetic wave shielding layer 6 in the optical filter of FIG. The adhesive layer 4 is replaced. The other layer configurations are all the same as in FIG.

図１３は本発明の耐衝撃層を設けた実施態様１３の光学フィルタをプラズマディスプレイパネルの前面に貼付した場合の積層構造の一例を示す図である。１は反射防止層であり、色素含有粘着剤層２を介して近赤外線吸収層３に積層されている。さらに近赤外線吸収層３は粘着剤層４を介して耐衝撃層５に積層されている。さらに、耐衝撃層５は粘着剤層４を介して電磁波遮蔽層６に積層されている。該電磁波遮蔽層６における金属メッシュ表面の黒化処理は、プラズマディスプレイパネル７の貼付側ではなく、反射防止層１側に設けられている。さらに電磁波遮蔽層６のプラズマディスプレイパネル側には粘着剤層４が積層されており、該電磁波遮蔽層６における金属メッシュ構造の凹凸内部にも充填され、電磁波遮蔽層６上の平坦化に寄与している。これらの各層からなる積層体は、実施態様１３の光学フィルタを構成している。該光学フィルタはさらにプラズマディスプレイパネル７の表面に粘着剤層４を介して接合されている。   FIG. 13 is a view showing an example of a laminated structure in the case where the optical filter of Embodiment 13 provided with the impact resistant layer of the present invention is attached to the front surface of the plasma display panel. Reference numeral 1 denotes an antireflection layer, which is laminated on the near-infrared absorbing layer 3 through the dye-containing pressure-sensitive adhesive layer 2. Further, the near-infrared absorbing layer 3 is laminated on the impact resistant layer 5 with the pressure-sensitive adhesive layer 4 interposed therebetween. Further, the impact resistant layer 5 is laminated on the electromagnetic wave shielding layer 6 via the pressure-sensitive adhesive layer 4. The blackening treatment on the surface of the metal mesh in the electromagnetic wave shielding layer 6 is provided not on the attaching side of the plasma display panel 7 but on the antireflection layer 1 side. Further, the pressure-sensitive adhesive layer 4 is laminated on the plasma display panel side of the electromagnetic wave shielding layer 6 and is filled also in the irregularities of the metal mesh structure in the electromagnetic wave shielding layer 6 and contributes to flattening on the electromagnetic wave shielding layer 6. ing. The laminate composed of these layers constitutes the optical filter of Embodiment 13. The optical filter is further bonded to the surface of the plasma display panel 7 via an adhesive layer 4.

図１４は本発明の耐衝撃層を設けた実施態様１４の光学フィルタをプラズマディスプレイパネルの前面に貼付した場合の積層構造の一例を示す図である。１は反射防止層であり、粘着剤層４を介して近赤外線吸収層３に積層されている。さらに近赤外線吸収層３は色素含有粘着剤層２を介して耐衝撃層５に積層されている。さらに、耐衝撃層５は粘着剤層４を介して電磁波遮蔽層６に積層されている。該電磁波遮蔽層６における金属メッシュ表面の黒化処理は、プラズマディスプレイパネル７の貼付側ではなく、反射防止層１側に設けられている。さらに電磁波遮蔽層６のプラズマディスプレイパネル７側には粘着剤層４が積層されており、該電磁波遮蔽層６における金属メッシュ構造の凹凸内部にも粘着剤層４が充填され、電磁波遮蔽層６上の平坦化に寄与している。これらの各層からなる積層体は、実施態様１４の光学フィルタを構成している。これらの各層からなる積層体は、実施態様１３の光学フィルタを構成している。該光学フィルタはさらにプラズマディスプレイパネル７の表面に粘着剤層４を介して接合されている。   FIG. 14 is a view showing an example of a laminated structure when the optical filter according to the fourteenth embodiment provided with the impact resistant layer of the present invention is attached to the front surface of the plasma display panel. Reference numeral 1 denotes an antireflection layer, which is laminated on the near-infrared absorbing layer 3 with an adhesive layer 4 interposed therebetween. Further, the near-infrared absorbing layer 3 is laminated on the impact resistant layer 5 via the dye-containing pressure-sensitive adhesive layer 2. Further, the impact resistant layer 5 is laminated on the electromagnetic wave shielding layer 6 via the pressure-sensitive adhesive layer 4. The blackening treatment on the surface of the metal mesh in the electromagnetic wave shielding layer 6 is provided not on the attaching side of the plasma display panel 7 but on the antireflection layer 1 side. Further, the pressure-sensitive adhesive layer 4 is laminated on the electromagnetic wave shielding layer 6 on the plasma display panel 7 side, and the pressure-sensitive adhesive layer 4 is also filled inside the unevenness of the metal mesh structure in the electromagnetic wave shielding layer 6. Contributes to the flattening of The laminate composed of these layers constitutes the optical filter of the fourteenth embodiment. The laminate composed of these layers constitutes the optical filter of Embodiment 13. The optical filter is further bonded to the surface of the plasma display panel 7 via an adhesive layer 4.

図１５は本発明の耐衝撃層を設けた実施態様１５の光学フィルタをプラズマディスプレイパネルの前面に貼付した場合の積層構造の一例を示す図である。１は反射防止層であり、粘着剤層４を介して近赤外線吸収層３に積層されている。さらに近赤外線吸収層３は粘着剤層４を介して耐衝撃層５に積層されている。さらに、耐衝撃層５は色素含有粘着剤層２を介して電磁波遮蔽層６に積層されている。該電磁波遮蔽層６における金属メッシュ表面の黒化処理は、プラズマディスプレイパネル７の貼付側ではなく、反射防止層１側に設けられている。さらに電磁波遮蔽層６のプラズマディスプレイパネル７側には粘着剤層４が積層されており、該電磁波遮蔽層６における金属メッシュ構造の凹凸内部にも粘着剤層４が充填され、電磁波遮蔽層６上の平坦化に寄与している。これらの各層からなる積層体は、実施態様１５の光学フィルタを構成している。該光学フィルタはさらにプラズマディスプレイパネル７の表面に粘着剤層４を介して接合されている。   FIG. 15 is a view showing an example of a laminated structure when the optical filter according to the fifteenth embodiment provided with the impact resistant layer of the present invention is attached to the front surface of the plasma display panel. Reference numeral 1 denotes an antireflection layer, which is laminated on the near-infrared absorbing layer 3 with an adhesive layer 4 interposed therebetween. Further, the near-infrared absorbing layer 3 is laminated on the impact resistant layer 5 with the pressure-sensitive adhesive layer 4 interposed therebetween. Further, the impact resistant layer 5 is laminated on the electromagnetic wave shielding layer 6 through the dye-containing pressure-sensitive adhesive layer 2. The blackening treatment on the surface of the metal mesh in the electromagnetic wave shielding layer 6 is provided not on the attaching side of the plasma display panel 7 but on the antireflection layer 1 side. Further, the pressure-sensitive adhesive layer 4 is laminated on the electromagnetic wave shielding layer 6 on the plasma display panel 7 side, and the pressure-sensitive adhesive layer 4 is also filled inside the unevenness of the metal mesh structure in the electromagnetic wave shielding layer 6. Contributes to the flattening of The laminate composed of these layers constitutes the optical filter of the fifteenth embodiment. The optical filter is further bonded to the surface of the plasma display panel 7 via an adhesive layer 4.

図１６は本発明の耐衝撃層を設けた実施態様１６の光学フィルタをプラズマディスプレイパネルの前面に貼付した場合の積層構造の一例を示す図である。１は反射防止層であり、粘着剤層４を介して近赤外線吸収層３に積層されている。さらに近赤外線吸収層３は粘着剤層４を介して耐衝撃層５に積層されている。さらに、耐衝撃層５は粘着剤層４を介して電磁波遮蔽層６に積層されている。該電磁波遮蔽層６における金属メッシュ表面の黒化処理は、プラズマディスプレイパネル７の貼付側ではなく、反射防止層１側に設けられている。さらに電磁波遮蔽層６のプラズマディスプレイパネル７側には色素含有粘着剤層２が積層されており、該電磁波遮蔽層６における金属メッシュ構造の凹凸内部にも色素含有粘着剤層２が充填され、電磁波遮蔽層６上の平坦化に寄与している。これらの各層からなる積層体は、実施態様１６の光学フィルタを構成している。該光学フィルタはさらにプラズマディスプレイパネル７の表面に色素含有粘着剤層２を介して接合されている。   FIG. 16 is a view showing an example of a laminated structure when the optical filter according to the sixteenth embodiment provided with the impact resistant layer of the present invention is attached to the front surface of the plasma display panel. Reference numeral 1 denotes an antireflection layer, which is laminated on the near-infrared absorbing layer 3 with an adhesive layer 4 interposed therebetween. Further, the near-infrared absorbing layer 3 is laminated on the impact resistant layer 5 with the pressure-sensitive adhesive layer 4 interposed therebetween. Further, the impact resistant layer 5 is laminated on the electromagnetic wave shielding layer 6 via the pressure-sensitive adhesive layer 4. The blackening treatment on the surface of the metal mesh in the electromagnetic wave shielding layer 6 is provided not on the attaching side of the plasma display panel 7 but on the antireflection layer 1 side. Further, a dye-containing pressure-sensitive adhesive layer 2 is laminated on the plasma display panel 7 side of the electromagnetic wave shielding layer 6, and the dye-containing pressure-sensitive adhesive layer 2 is also filled in the unevenness of the metal mesh structure in the electromagnetic wave shielding layer 6, This contributes to planarization on the shielding layer 6. The laminate composed of these layers constitutes the optical filter of Embodiment 16. The optical filter is further bonded to the surface of the plasma display panel 7 via the dye-containing pressure-sensitive adhesive layer 2.

図１７は本発明の耐衝撃層を設けた実施態様１７の光学フィルタをプラズマディスプレイパネルの前面に貼付した場合の積層構造の一例を示す図である。１は反射防止層であり、色素含有粘着剤層２を介して近赤外線吸収層３に積層されている。さらに近赤外線吸収層３は粘着剤層４を介して電磁波遮蔽層６に積層されている。該電磁波遮蔽層６における金属メッシュ表面の黒化処理により形成された皮膜（黒のベタ塗りにて示す）は、プラズマディスプレイパネル７貼付側に設けられている。また、近赤外線吸収層３と電磁波遮蔽層６との間に介在する粘着剤層４は電磁波遮蔽層６における金属メッシュ構造の凹凸内部にも充填され、電磁波遮蔽層６上の平坦化に寄与している。さらに電磁波遮蔽層６は粘着剤層４を介して耐衝撃層５に積層されている。さらに、耐衝撃層５のプラズマディスプレイパネル側７には粘着剤層４が積層されている。これらの各層からなる積層体は、実施態様１７の光学フィルタを構成している。該光学フィルタはさらにプラズマディスプレイパネル７の表面に粘着剤層４を介して接合されている。   FIG. 17 is a view showing an example of a laminated structure in the case where the optical filter of the embodiment 17 provided with the impact resistant layer of the present invention is attached to the front surface of the plasma display panel. Reference numeral 1 denotes an antireflection layer, which is laminated on the near-infrared absorbing layer 3 through the dye-containing pressure-sensitive adhesive layer 2. Further, the near-infrared absorbing layer 3 is laminated on the electromagnetic wave shielding layer 6 via the pressure-sensitive adhesive layer 4. A film (shown by black solid coating) formed by blackening the metal mesh surface in the electromagnetic wave shielding layer 6 is provided on the side where the plasma display panel 7 is applied. In addition, the pressure-sensitive adhesive layer 4 interposed between the near-infrared absorbing layer 3 and the electromagnetic wave shielding layer 6 is also filled in the irregularities of the metal mesh structure in the electromagnetic wave shielding layer 6, contributing to flattening on the electromagnetic wave shielding layer 6. ing. Further, the electromagnetic wave shielding layer 6 is laminated on the impact resistant layer 5 with the pressure-sensitive adhesive layer 4 interposed therebetween. Further, an adhesive layer 4 is laminated on the plasma display panel side 7 of the impact resistant layer 5. The laminate composed of these layers constitutes the optical filter of Embodiment 17. The optical filter is further bonded to the surface of the plasma display panel 7 via an adhesive layer 4.

図１８は本発明の耐衝撃層を設けた実施態様１８の光学フィルタをプラズマディスプレイパネルの前面に貼付した場合の積層構造の一例を示す図である。１は反射防止層であり、粘着剤層４を介して近赤外線吸収層３に積層されている。さらに近赤外線吸収層３は色素含有粘着剤層２を介して電磁波遮蔽層６に積層されている。近赤外線吸収層３と電磁波遮蔽層６の間に介在する粘着剤層は、電磁波遮蔽層６における金属メッシュ構造の凹凸内部にも充填され、電磁波遮蔽層６上の平坦化に寄与している。該電磁波遮蔽層６における金属メッシュ表面の黒化処理により形成された皮膜（黒のベタ塗りにて示す）は、プラズマディスプレイパネル７貼付側に設けられている。さらに、電磁波遮蔽層６は粘着剤層４を介して耐衝撃層５に積層されている。さらに、耐衝撃層５の一側には粘着剤層４が積層されている。これらの各層からなる積層体は、実施態様１８の光学フィルタを構成している。該光学フィルタはさらにプラズマディスプレイパネル７の表面に粘着剤層４を介して接合されている。   FIG. 18 is a view showing an example of a laminated structure when the optical filter of the embodiment 18 provided with the impact resistant layer of the present invention is attached to the front surface of the plasma display panel. Reference numeral 1 denotes an antireflection layer, which is laminated on the near-infrared absorbing layer 3 with an adhesive layer 4 interposed therebetween. Further, the near-infrared absorbing layer 3 is laminated on the electromagnetic wave shielding layer 6 via the dye-containing pressure-sensitive adhesive layer 2. The pressure-sensitive adhesive layer interposed between the near-infrared absorbing layer 3 and the electromagnetic wave shielding layer 6 is also filled in the irregularities of the metal mesh structure in the electromagnetic wave shielding layer 6 and contributes to flattening on the electromagnetic wave shielding layer 6. A film (shown by black solid coating) formed by blackening the metal mesh surface in the electromagnetic wave shielding layer 6 is provided on the side where the plasma display panel 7 is applied. Further, the electromagnetic wave shielding layer 6 is laminated on the impact resistant layer 5 via the pressure-sensitive adhesive layer 4. Further, an adhesive layer 4 is laminated on one side of the impact resistant layer 5. The laminate composed of these layers constitutes the optical filter of Embodiment 18. The optical filter is further bonded to the surface of the plasma display panel 7 via an adhesive layer 4.

図１９は本発明の耐衝撃層を設けた実施態様１９の光学フィルタをプラズマディスプレイパネルの前面に貼付した場合の積層構造の一例を示す図である。１は反射防止層であり、粘着剤層４を介して近赤外線吸収層３に積層されている。さらに近赤外線吸収層３は粘着剤層４を介して電磁波遮蔽層６に積層されている。該電磁波遮蔽層６における金属メッシュ表面の黒化処理により形成された皮膜（黒のベタ塗りにて示す）は、プラズマディスプレイパネル７貼付側に設けられている。また、近赤外線吸収層３と電磁波遮蔽層６との間に介在する粘着剤層４は電磁波遮蔽層６における金属メッシュ構造の凹凸内部にも充填され、電磁波遮蔽層６上の平坦化に寄与している。さらに、電磁波遮蔽層６は、色素含有粘着剤層２を介して耐衝撃層５に積層されている。さらに、耐衝撃層５のプラズマディスプレイパネル７側には粘着剤層４が積層されており、これらの各層からなる積層体は、実施態様１９の光学フィルタを構成している。該光学フィルタはさらにプラズマディスプレイパネル７の表面に粘着剤層４を介して接合されている。   FIG. 19 is a view showing an example of a laminated structure when the optical filter of Embodiment 19 provided with an impact resistant layer of the present invention is attached to the front surface of the plasma display panel. Reference numeral 1 denotes an antireflection layer, which is laminated on the near-infrared absorbing layer 3 with an adhesive layer 4 interposed therebetween. Further, the near-infrared absorbing layer 3 is laminated on the electromagnetic wave shielding layer 6 via the pressure-sensitive adhesive layer 4. A film (shown by black solid coating) formed by blackening the metal mesh surface in the electromagnetic wave shielding layer 6 is provided on the side where the plasma display panel 7 is applied. In addition, the pressure-sensitive adhesive layer 4 interposed between the near-infrared absorbing layer 3 and the electromagnetic wave shielding layer 6 is also filled in the irregularities of the metal mesh structure in the electromagnetic wave shielding layer 6, contributing to flattening on the electromagnetic wave shielding layer 6. ing. Furthermore, the electromagnetic wave shielding layer 6 is laminated on the impact resistant layer 5 with the dye-containing pressure-sensitive adhesive layer 2 interposed therebetween. Furthermore, the pressure-sensitive adhesive layer 4 is laminated on the impact-resistant layer 5 on the plasma display panel 7 side, and the laminate composed of these layers constitutes the optical filter of the nineteenth embodiment. The optical filter is further bonded to the surface of the plasma display panel 7 via an adhesive layer 4.

図２０は本発明の耐衝撃層を設けた実施態様２０の光学フィルタをプラズマディスプレイパネルの前面に貼付した場合の積層構造の一例を示す図である。１は反射防止層であり、粘着剤層４を介して近赤外線吸収層３に積層されている。さらに近赤外線吸収層３は粘着剤層４を介して電磁波遮蔽層６に積層されている。該電磁波遮蔽層６における金属メッシュ表面の黒化処理により形成された皮膜（黒のベタ塗りにて示す）は、プラズマディスプレイパネル７貼付側に設けられている。また、近赤外線吸収層３と電磁波遮蔽層６との間に介在する粘着剤層４は電磁波遮蔽層６における金属メッシュ構造の凹凸内部にも充填され、電磁波遮蔽層６上の平坦化に寄与している。さらに、電磁波遮蔽層６は、粘着剤層４を介して耐衝撃層５に積層されている。さらに、耐衝撃層５の一側には色素含有粘着剤層２が積層されており、これらの各層からなる積層体は、実施態様２０の光学フィルタを構成している。該光学フィルタはさらにプラズマディスプレイパネル７の表面に色素含有粘着剤層２を介して接合されている。   FIG. 20 is a view showing an example of a laminated structure when the optical filter of the embodiment 20 provided with the impact resistant layer of the present invention is attached to the front surface of the plasma display panel. Reference numeral 1 denotes an antireflection layer, which is laminated on the near-infrared absorbing layer 3 with an adhesive layer 4 interposed therebetween. Further, the near-infrared absorbing layer 3 is laminated on the electromagnetic wave shielding layer 6 via the pressure-sensitive adhesive layer 4. A film (shown by black solid coating) formed by blackening the metal mesh surface in the electromagnetic wave shielding layer 6 is provided on the side where the plasma display panel 7 is applied. In addition, the pressure-sensitive adhesive layer 4 interposed between the near-infrared absorbing layer 3 and the electromagnetic wave shielding layer 6 is also filled in the irregularities of the metal mesh structure in the electromagnetic wave shielding layer 6, contributing to flattening on the electromagnetic wave shielding layer 6. ing. Further, the electromagnetic wave shielding layer 6 is laminated on the impact resistant layer 5 with the adhesive layer 4 interposed therebetween. Further, the dye-containing pressure-sensitive adhesive layer 2 is laminated on one side of the impact resistant layer 5, and the laminate composed of these layers constitutes the optical filter of the embodiment 20. The optical filter is further bonded to the surface of the plasma display panel 7 via the dye-containing pressure-sensitive adhesive layer 2.

図２１は本発明の耐衝撃層を設けた実施態様２１の光学フィルタをプラズマディスプレイパネルの前面に貼付した場合の積層構造の一例を示す図である。１は反射防止層であり、色素含有粘着剤層２を介して近赤外線吸収層３に積層されている。さらに近赤外線吸収層３は粘着剤層４を介して電磁波遮蔽層６に積層されている。該電磁波遮蔽層６における金属メッシュ表面の黒化処理により形成された皮膜（黒のベタ塗りにて示す）は、反射防止層１側に設けられている。さらに、電磁波遮蔽層６は、粘着剤層４を介して耐衝撃層５に積層されている。電磁波遮蔽層６と耐衝撃層５との間に設けられた粘着剤層４は、電磁波遮蔽層６における金属メッシュ構造の凹凸内部にも充填され、電磁波遮蔽層６上の平坦化に寄与している。さらに、耐衝撃層５のプラズマディスプレイパネル７側には粘着剤層４が積層されており、これらの各層からなる積層体は、実施態様２１の光学フィルタを構成している。該光学フィルタはさらにプラズマディスプレイパネル７の表面に粘着剤層４を介して接合されている。   FIG. 21 is a view showing an example of a laminated structure when the optical filter of the embodiment 21 provided with the impact resistant layer of the present invention is attached to the front surface of the plasma display panel. Reference numeral 1 denotes an antireflection layer, which is laminated on the near-infrared absorbing layer 3 through the dye-containing pressure-sensitive adhesive layer 2. Further, the near-infrared absorbing layer 3 is laminated on the electromagnetic wave shielding layer 6 via the pressure-sensitive adhesive layer 4. A film (shown by solid black coating) formed by blackening the metal mesh surface in the electromagnetic wave shielding layer 6 is provided on the antireflection layer 1 side. Further, the electromagnetic wave shielding layer 6 is laminated on the impact resistant layer 5 with the adhesive layer 4 interposed therebetween. The pressure-sensitive adhesive layer 4 provided between the electromagnetic wave shielding layer 6 and the impact resistant layer 5 is also filled in the irregularities of the metal mesh structure in the electromagnetic wave shielding layer 6, contributing to the flattening on the electromagnetic wave shielding layer 6. Yes. Further, the pressure-sensitive adhesive layer 4 is laminated on the impact-resistant layer 5 on the plasma display panel 7 side, and the laminate composed of these layers constitutes the optical filter of the embodiment 21. The optical filter is further bonded to the surface of the plasma display panel 7 via an adhesive layer 4.

図２２は本発明の耐衝撃層を設けた実施態様２２の光学フィルタをプラズマディスプレイパネルの前面に貼付した場合の積層構造の一例を示す図である。１は反射防止層であり、粘着剤層４を介して近赤外線吸収層３に積層されている。さらに近赤外線吸収層３は色素含有粘着剤層２を介して電磁波遮蔽層６に積層されている。該電磁波遮蔽層６における金属メッシュ表面の黒化処理により形成された皮膜（黒のベタ塗りにて示す）は、反射防止層１側に設けられている。さらに、電磁波遮蔽層６は、粘着剤層４を介して耐衝撃層５に積層されている。電磁波遮蔽層６と耐衝撃層５との間に設けられた粘着剤層４は、電磁波遮蔽層６における金属メッシュ構造の凹凸内部にも充填され、電磁波遮蔽層６上の平坦化に寄与している。さらに、耐衝撃層５のプラズマディスプレイパネル７側には粘着剤層４が積層されており、これらの各層からなる積層体は、実施態様２２の光学フィルタを構成している。該光学フィルタはさらにプラズマディスプレイパネル７の表面に粘着剤層４を介して接合されている。   FIG. 22 is a view showing an example of a laminated structure when the optical filter of the embodiment 22 provided with the impact resistant layer of the present invention is attached to the front surface of the plasma display panel. Reference numeral 1 denotes an antireflection layer, which is laminated on the near-infrared absorbing layer 3 with an adhesive layer 4 interposed therebetween. Further, the near-infrared absorbing layer 3 is laminated on the electromagnetic wave shielding layer 6 via the dye-containing pressure-sensitive adhesive layer 2. A film (shown by solid black coating) formed by blackening the metal mesh surface in the electromagnetic wave shielding layer 6 is provided on the antireflection layer 1 side. Further, the electromagnetic wave shielding layer 6 is laminated on the impact resistant layer 5 with the adhesive layer 4 interposed therebetween. The pressure-sensitive adhesive layer 4 provided between the electromagnetic wave shielding layer 6 and the impact resistant layer 5 is also filled in the irregularities of the metal mesh structure in the electromagnetic wave shielding layer 6, contributing to the flattening on the electromagnetic wave shielding layer 6. Yes. Furthermore, the pressure-sensitive adhesive layer 4 is laminated on the impact-resistant layer 5 on the plasma display panel 7 side, and the laminate composed of these layers constitutes the optical filter of the embodiment 22. The optical filter is further bonded to the surface of the plasma display panel 7 via an adhesive layer 4.

図２３は本発明の耐衝撃層を設けた実施態様２３の光学フィルタをプラズマディスプレイパネルの前面に貼付した場合の積層構造の一例を示す図である。１は反射防止層であり、粘着剤層４を介して近赤外線吸収層３に積層されている。さらに近赤外線吸収層３は粘着剤層４を介して電磁波遮蔽層６に積層されている。該電磁波遮蔽層６における金属メッシュ表面の黒化処理により形成された皮膜（黒のベタ塗りにて示す）は、反射防止層１側に設けられている。さらに、電磁波遮蔽層６は、色素含有粘着剤層２を介して耐衝撃層５に積層されている。電磁波遮蔽層６と耐衝撃層５との間に設けられた色素含有粘着剤層２は、電磁波遮蔽層６における金属メッシュ構造の凹凸内部にも充填され、電磁波遮蔽層６上の平坦化に寄与している。さらに、耐衝撃層５のプラズマディスプレイパネル７側には粘着剤層４が積層されており、これらの各層からなる積層体は、実施態様２３の光学フィルタを構成している。該光学フィルタはさらにプラズマディスプレイパネル７の表面に粘着剤層４を介して接合されている。   FIG. 23 is a view showing an example of a laminated structure when the optical filter of the embodiment 23 provided with the impact resistant layer of the present invention is attached to the front surface of the plasma display panel. Reference numeral 1 denotes an antireflection layer, which is laminated on the near-infrared absorbing layer 3 with an adhesive layer 4 interposed therebetween. Further, the near-infrared absorbing layer 3 is laminated on the electromagnetic wave shielding layer 6 via the pressure-sensitive adhesive layer 4. A film (shown by solid black coating) formed by blackening the metal mesh surface in the electromagnetic wave shielding layer 6 is provided on the antireflection layer 1 side. Furthermore, the electromagnetic wave shielding layer 6 is laminated on the impact resistant layer 5 with the dye-containing pressure-sensitive adhesive layer 2 interposed therebetween. The dye-containing pressure-sensitive adhesive layer 2 provided between the electromagnetic wave shielding layer 6 and the impact resistant layer 5 is also filled in the irregularities of the metal mesh structure in the electromagnetic wave shielding layer 6 and contributes to flattening on the electromagnetic wave shielding layer 6. is doing. Further, the pressure-sensitive adhesive layer 4 is laminated on the impact-resistant layer 5 on the plasma display panel 7 side, and the laminate composed of these layers constitutes the optical filter of the embodiment 23. The optical filter is further bonded to the surface of the plasma display panel 7 via an adhesive layer 4.

図２４は本発明の耐衝撃層を設けた実施態様２４の光学フィルタをプラズマディスプレイパネルの前面に貼付した場合の積層構造の一例を示す図である。１は反射防止層であり、粘着剤層４を介して近赤外線吸収層３に積層されている。さらに近赤外線吸収層３は粘着剤層４を介して電磁波遮蔽層６に積層されている。該電磁波遮蔽層６における金属メッシュ表面の黒化処理により形成された皮膜（黒のベタ塗りにて示す）は、反射防止層１側に設けられている。さらに、電磁波遮蔽層６は、粘着剤層４を介して耐衝撃層５に積層されている。電磁波遮蔽層６と耐衝撃層５との間に設けられた粘着剤層４は、電磁波遮蔽層６における金属メッシュ構造の凹凸内部にも充填され、電磁波遮蔽層６上の平坦化に寄与している。さらに、耐衝撃層５のプラズマディスプレイパネル７側には色素含有粘着剤層２が積層されており、これらの各層からなる積層体は、実施態様２４の光学フィルタを構成している。該光学フィルタはさらにプラズマディスプレイパネル７の表面に色素含有粘着剤層２を介して接合されている。   FIG. 24 is a view showing an example of a laminated structure when the optical filter of the embodiment 24 provided with the impact resistant layer of the present invention is attached to the front surface of the plasma display panel. Reference numeral 1 denotes an antireflection layer, which is laminated on the near-infrared absorbing layer 3 with an adhesive layer 4 interposed therebetween. Further, the near-infrared absorbing layer 3 is laminated on the electromagnetic wave shielding layer 6 via the pressure-sensitive adhesive layer 4. A film (shown by solid black coating) formed by blackening the metal mesh surface in the electromagnetic wave shielding layer 6 is provided on the antireflection layer 1 side. Further, the electromagnetic wave shielding layer 6 is laminated on the impact resistant layer 5 with the adhesive layer 4 interposed therebetween. The pressure-sensitive adhesive layer 4 provided between the electromagnetic wave shielding layer 6 and the impact resistant layer 5 is also filled in the irregularities of the metal mesh structure in the electromagnetic wave shielding layer 6, contributing to the flattening on the electromagnetic wave shielding layer 6. Yes. Further, the dye-containing pressure-sensitive adhesive layer 2 is laminated on the impact-resistant layer 5 on the plasma display panel 7 side, and the laminate composed of these layers constitutes the optical filter of Embodiment 24. The optical filter is further bonded to the surface of the plasma display panel 7 via the dye-containing pressure-sensitive adhesive layer 2.

図１〜図２４において、近赤外線吸収色素、および／又は、ネオン光吸収色素等の色素を色素含有粘着剤層２中に含有しているが、光学フィルタを構成するいかなる層にも含有させることが可能である。   1 to 24, a dye such as a near-infrared absorbing dye and / or a neon light absorbing dye is contained in the dye-containing pressure-sensitive adhesive layer 2, but it may be contained in any layer constituting the optical filter. Is possible.

以下、本発明の光学フィルタをプラズマディスプレイに適用する場合の光学フィルタの層構成に用いられる各層を例示して説明する。   Hereinafter, each layer used for the layer structure of the optical filter when the optical filter of the present invention is applied to a plasma display will be described as an example.

耐衝撃層：
本発明の光学フィルタにおける耐衝撃層の形成に使用される樹脂には、ビニルアセテートが２５〜３５質量％のエチレンビニルアセテートを含有している樹脂を用いることが好ましい。ビニルアセテートが５質量％未満だと、耐衝撃層が白濁し、透明性が損なわれる。さらにビニルアセテートが５−２５質量％未満だと透明性に優れているが、硬度は高く、耐衝撃性が発現しない。逆に、３５質量％を超えると樹脂粘度が高く（ＭＦＲが５０〜１０００程度）となり、押出し時のスクリュートルクが高くなり、押出せなかったり、膜厚がばらついたりする。膜厚のばらつきは、耐衝撃性のばらつきに直結する。また、該樹脂は、加熱時密着性があるので、加熱加圧して他の層と積層するのに適している。 Impact resistant layer :
As the resin used for forming the impact resistant layer in the optical filter of the present invention, it is preferable to use a resin containing ethylene vinyl acetate whose vinyl acetate is 25 to 35 mass%. When the vinyl acetate is less than 5% by mass, the impact resistant layer becomes cloudy and the transparency is impaired. Further, if the vinyl acetate is less than 5-25% by mass, the transparency is excellent, but the hardness is high and the impact resistance is not exhibited. On the contrary, when it exceeds 35 mass%, the resin viscosity becomes high (MFR is about 50 to 1000), the screw torque at the time of extrusion becomes high, the extrusion cannot be performed, and the film thickness varies. Variations in film thickness are directly linked to variations in impact resistance. Moreover, since this resin has adhesiveness at the time of a heating, it is suitable for heating and pressurizing and laminating | stacking with another layer.

耐衝撃層の形成に使用される樹脂組成物中に、結晶化核剤を５００ｐｐｍ−１００，０００ｐｐｍを含有させることの意義は前記に説明したとおりである。本発明に使用される結晶化核剤は、造核剤とも呼ばれ、リン酸金属塩類等のリン酸系化合物、カルボン酸金属塩類、ベンジリデンソルビトール類等のソルビトール系化合物等の一般的に使用されている市販の造核剤が使用できる。   The significance of containing 500 ppm to 100,000 ppm of the crystallization nucleating agent in the resin composition used for forming the impact resistant layer is as described above. The crystallization nucleating agent used in the present invention is also called a nucleating agent, and is generally used as a phosphoric acid compound such as a metal phosphate, a carboxylic acid metal salt, a sorbitol compound such as a benzylidene sorbitol, and the like. Commercially available nucleating agents can be used.

ソルビトール系化合物には、例えば、ジパラメチルジベンジリデンソルビトール（IRGACLEA DM ：商品名、チバ・スペシャルティ・ケミカルズ株式会社製）、ベンジリデンソルビトール（IRGACLEA D：商品名、チバ・スペシャルティ・ケミカルズ株式会社製）、ベンジリデンソルビトール（ＥＣ−１：商品名、ＥＣ化学株式会社製）、ベンジリデンソルビトール（Ｇｅｌａｌｌ ＭＤ：商品名、新日本捏化株式会社製）、ベンジリデンソルビトール（ＮＣ−４：商品名、三井化学株式会社製）、ベンジリデンソルビトール（Ｍｉｌｌａｒｄ３９８８：商品名、Ｍｉｌｌｋｅｎ社製）が挙げられる。カルボン酸金属塩類には、例えば、安息香酸金属塩、ｔ−ブチル安息香酸アルミニウム塩が挙げられる。リン酸系化合物には、例えば、ＡＤＳ ＳＴＡＢ ＮＡ−１１（商品名、旭電化工業株式会社製）が挙げられる。   Examples of the sorbitol compound include diparamethyldibenzylidene sorbitol (IRGACLEA DM: trade name, manufactured by Ciba Specialty Chemicals), benzylidene sorbitol (IRGACLEA D: trade name, manufactured by Ciba Specialty Chemicals), Benzylidene sorbitol (EC-1: trade name, manufactured by EC Chemical Co., Ltd.), benzylidene sorbitol (Gellall MD: trade name, manufactured by Nippon Kayaku Co., Ltd.), benzylidene sorbitol (NC-4: trade name, manufactured by Mitsui Chemicals, Inc.) ), Benzylidene sorbitol (Millard 3988: trade name, manufactured by Millken). Examples of the carboxylic acid metal salts include benzoic acid metal salts and t-butyl benzoic acid aluminum salts. Examples of the phosphoric acid compound include ADS STAB NA-11 (trade name, manufactured by Asahi Denka Kogyo Co., Ltd.).

電磁波遮蔽層：
電磁波遮蔽層は、プラズマディスプレイ等から発生した電磁波を遮蔽する機能を有するものであり、透明基材、接着剤層又は粘着剤層（図示していない）、金属メッシュ層がこの順に積層された積層構造を有するものである。 Electromagnetic wave shielding layer :
The electromagnetic wave shielding layer has a function of shielding electromagnetic waves generated from a plasma display or the like, and is a laminate in which a transparent base material, an adhesive layer or an adhesive layer (not shown), and a metal mesh layer are laminated in this order. It has a structure.

（金属メッシュ層）
金属メッシュ層は、積層構造の電磁波遮蔽層を構成する一部の層である。電磁波遮蔽層を構成する各層のうち、金属メッシュ層は、特に、プラズマディスプレイ等から発生した電磁波を遮蔽する機能を有する。このような金属メッシュ層は、後述する透明基材上に、接着剤層（又は粘着剤層）により金属箔が貼り合わせられ、その金属箔がメッシュ状にエッチングされることにより形成される。本発明においては、この金属メッシュ層は、電磁波遮蔽性を有するものであれば、その金属の種類等は特に限定されるものではなく、例えば銅、鉄、ニッケル、クロム、アルミニウム、金、銀、ステンレス、タングステン、チタン等を用いることができる。本発明においては、上記の中でも銅が、電磁波のシールド性、エッチング処理適性や取扱い性の面から好ましい。また用いられる銅箔の種類としては、圧延銅箔、電解銅箔等が挙げられるが、特に、電解銅箔であることが好ましい。これにより、厚さが１０μｍ以下の均一性のよい金属メッシュ層とすることができ、また、金属メッシュ層の表面に黒化処理が施された際に、酸化クロム等との密着性を良好なものとすることができるからである。 (Metal mesh layer)
The metal mesh layer is a part of a layer constituting the electromagnetic wave shielding layer having a laminated structure. Among the layers constituting the electromagnetic wave shielding layer, the metal mesh layer particularly has a function of shielding electromagnetic waves generated from a plasma display or the like. Such a metal mesh layer is formed by laminating a metal foil on a transparent base material, which will be described later, with an adhesive layer (or an adhesive layer) and etching the metal foil into a mesh shape. In the present invention, the metal mesh layer is not particularly limited as long as it has electromagnetic wave shielding properties. For example, copper, iron, nickel, chromium, aluminum, gold, silver, Stainless steel, tungsten, titanium, or the like can be used. In the present invention, among the above, copper is preferable from the viewpoints of electromagnetic shielding properties, etching processing suitability, and handling properties. Moreover, as a kind of copper foil used, although rolled copper foil, electrolytic copper foil, etc. are mentioned, it is especially preferable that it is electrolytic copper foil. As a result, a uniform metal mesh layer having a thickness of 10 μm or less can be obtained, and when the surface of the metal mesh layer is blackened, the adhesion with chromium oxide and the like is good. Because it can be.

ここで、本発明においては、上記金属箔の一方の面または両面に黒化処理されていることが好ましい。黒化処理とは、酸化クロム等により金属メッシュ層の表面を黒化する処理であり、光学フィルタにおいて、この酸化処理面は、観察者側の面、或いは観察者側とは反対の面となるように配置される。図１〜図２４の電磁波遮蔽層において、黒ベタに塗り潰されている箇所は黒化処理により形成された皮膜を示している。この黒化処理により金属メッシュ層表面に形成された酸化クロム等により、光学フィルタ表面の外光が吸収されることから、光学フィルタ表面で光が散乱することを防止することができ、良好な透過性を得ることが可能な光学フィルタとすることができるのである。光の散乱を防止する観点からは、酸化処理面は、観察者側の面にある方が好ましい。このような黒化処理は、上記金属箔に黒化処理液を塗布することにより行なうことができる。   Here, in the present invention, it is preferable that one side or both sides of the metal foil is blackened. The blackening process is a process of blackening the surface of the metal mesh layer with chromium oxide or the like. In the optical filter, this oxidation-treated surface is the surface on the viewer side or the surface opposite to the viewer side. Are arranged as follows. In the electromagnetic wave shielding layer shown in FIGS. 1 to 24, the solid black portions indicate the coating formed by the blackening process. The external light on the surface of the optical filter is absorbed by chromium oxide or the like formed on the surface of the metal mesh layer by this blackening treatment, so that it is possible to prevent light from being scattered on the surface of the optical filter and to achieve good transmission. Therefore, the optical filter can be obtained. From the viewpoint of preventing light scattering, the oxidized surface is preferably on the surface on the viewer side. Such a blackening treatment can be performed by applying a blackening treatment liquid to the metal foil.

黒化処理の方法としては、ＣｒＯ2 水溶液や、無水クロム酸水溶液に酒石酸、マロン酸、クエン酸、乳酸等の異なるオキシカルボン酸化合物を添加して、６価クロムの一部を３価クロムに還元した溶液等を、ロールコート法、エアーカーテン法、静電霧化法、スクイズロールコート法、浸漬法等により塗布し、乾燥させることにより行なうことができる。なお、この黒化処理は、透明基材上に、接着剤層（又は粘着剤層）により金属箔が貼り合わせられ、メッシュ状にエッチングされた後に行なわれるものであってもよい。 As a blackening treatment method, different oxycarboxylic acid compounds such as tartaric acid, malonic acid, citric acid, and lactic acid are added to a CrO 2 aqueous solution or a chromic anhydride aqueous solution to convert a part of hexavalent chromium into trivalent chromium. The reduced solution or the like can be applied by a roll coating method, an air curtain method, an electrostatic atomization method, a squeeze roll coating method, a dipping method or the like and dried. In addition, this blackening process may be performed after a metal foil is bonded to a transparent substrate with an adhesive layer (or an adhesive layer) and etched into a mesh shape.

この黒化処理された金属箔の表面の黒濃度が０．６以上であることが好ましい。これにより、より非視認性を良好なものとすることができるからである。ここで、黒濃度は、ＣＯＬＯＲ ＣＯＮＴＲＯＬ ＳＹＳＴＥＭのＧＲＥＴＡＧ ＳＰＭ１００−１１（（株）ＫＩＭＯＴＯ製）を用いて、観測視野角１０°、観測光源Ｄ５０、照明タイプとして濃度標準ＡＮＳＩ Ｔに設定し、白色キャリブレイション後に測定した値である。   The black density on the surface of the blackened metal foil is preferably 0.6 or more. This is because the non-visibility can be further improved. Here, the black density is set to an observation viewing angle of 10 °, an observation light source D50, and a density standard ANSI T as an illumination type using GRETAG SPM100-11 (manufactured by KIMOTO) of COLOR CONTROL SYSTEM. It is a value measured later.

また、上記金属箔の膜厚は、１μｍ〜１００μｍの範囲内、中でも５μｍ〜２０μｍの範囲内であることが好ましい。上記範囲より膜厚が厚いと、エッチングによりパターン線幅を細かく高精細化することが困難となり、また上記範囲より膜厚が薄い場合には、十分な電磁波シールド性が得られないからである。   The film thickness of the metal foil is preferably in the range of 1 μm to 100 μm, more preferably in the range of 5 μm to 20 μm. If the film thickness is thicker than the above range, it is difficult to make the pattern line width fine and fine by etching, and if the film thickness is thinner than the above range, sufficient electromagnetic shielding properties cannot be obtained.

さらに、上記金属箔は、ＪＩＳ Ｂ０６０１に準拠する十点平均粗さが０．５μｍ〜１０μｍの範囲内であることが好ましい。上記範囲より小さい場合には、上記黒化処理をした場合であっても、光学フィルタ表面の外光が鏡面反射することから、視認性が劣化し、また上記範囲より大きい場合には、接着剤やレジスト等を塗布することが困難となるからである。   Furthermore, it is preferable that the said metal foil has the 10-point average roughness based on JISB0601 in the range of 0.5 micrometer-10 micrometers. When it is smaller than the above range, even when the blackening treatment is performed, the external light on the surface of the optical filter is specularly reflected, so that the visibility is deteriorated. This is because it becomes difficult to apply the resist or the resist.

ここで、金属箔のエッチングは、後述する透明基材上に、接着剤層（又は粘着剤層）を介して金属箔が貼り合わせられた後に行なわれるものである。このエッチングは、通常のフォトリソグラフィー法により行なうことができ、例えば金属箔の表面にレジストを塗布し、乾燥した後、レジストをパターン版で密着露光し、現像処理を行なうことにより得ることができる。   Here, the etching of the metal foil is performed after the metal foil is bonded to the transparent base material to be described later via the adhesive layer (or the pressure-sensitive adhesive layer). This etching can be performed by an ordinary photolithography method. For example, the resist can be applied to the surface of the metal foil, dried, and then exposed to light with a pattern plate and developed.

本発明に用いられる上述したような金属メッシュ層は、表面抵抗が１０-6Ω／□〜５Ω／□の範囲内、中でも１０-4Ω／□〜３Ω／□の範囲内であることが好ましい。一般的に、電磁波遮蔽性は、表面抵抗により測定することができ、この表面抵抗が低いほど、電磁波遮蔽性が良好なものということができる。ここで、上記表面抵抗の値は、表面抵抗測定装置ロレスターＧＰ、（株）ダイヤインスツルメンツ製にてＪＩＳ Ｋ７１９４「導電性プラスチックの４探針法による抵抗率試験法」に記載される方法にて測定された値である。 The above-described metal mesh layer used in the present invention preferably has a surface resistance in the range of 10 −6 Ω / □ to 5Ω / □, and more preferably in the range of 10 −4 Ω / □ to 3Ω / □. . In general, the electromagnetic wave shielding property can be measured by surface resistance. It can be said that the lower the surface resistance, the better the electromagnetic wave shielding property. Here, the value of the surface resistance is measured by the method described in JIS K7194 “Resistivity test method using 4-probe method of conductive plastic” by a surface resistance measuring device Lorester GP, manufactured by Dia Instruments Co., Ltd. Value.

このエッチング処理された後の金属メッシュ層は、５０μｍ□〜５００μｍ□の範囲内、中でも１００μｍ□〜４００μｍ□の範囲内、特に２００μｍ□〜３００μｍ□の範囲内であることが好ましく、またメッシュ線幅が５μｍ〜２０μｍの範囲内であることが好ましい。メッシュ線幅が上記範囲より細かい場合には、断線が起こる場合があり、電磁波遮蔽性の面から好ましくなく、またメッシュ線幅が上記範囲より太い場合には、可視光の透過率が低く、例えばプラズマディスプレイの輝度が低くなる等という面から好ましくないからである。   The metal mesh layer after the etching treatment is preferably in the range of 50 μm □ to 500 μm □, more preferably in the range of 100 μm □ to 400 μm □, and particularly preferably in the range of 200 μm □ to 300 μm □. Is preferably in the range of 5 μm to 20 μm. When the mesh line width is finer than the above range, disconnection may occur, which is not preferable from the aspect of electromagnetic shielding properties, and when the mesh line width is thicker than the above range, the visible light transmittance is low, for example, This is because the brightness of the plasma display is not preferable.

（透明基材）
透明基材は電磁波遮蔽層を構成する一部の層であり、接着剤層（又は粘着剤層）を介して金属メッシュ層を積層するための基材となる層である。本発明に用いられる透明基材は透明性を有し、かつ接着剤層（又は粘着剤層）が形成可能であれば、その種類等は特に限定されるものではなく、例えばポリエチレンテレフタレート（ＰＥＴ）、ポリエチレンナフタレート（ＰＥＮ）等のポリエステル類、環状ポリオレフィン、ポリエチレン、ポリプロピレン、ポリスチレン等のポリオレフィン類、ポリ塩化ビニル、ポリ塩化ビニリデンなどのビニル系樹脂、ポリカーボネート、アクリル樹脂、トリアセチルセルロース（ＴＡＣ）、ポリエーテルサルホン、ポリエーテルケトンからなるフィルムで可視領域の光線透過率が８０％以上のフィルムが挙げられる。 (Transparent substrate)
The transparent substrate is a part of the layer that constitutes the electromagnetic wave shielding layer, and is a layer that serves as a substrate for laminating the metal mesh layer via the adhesive layer (or pressure-sensitive adhesive layer). If the transparent base material used for this invention has transparency and an adhesive bond layer (or adhesive layer) can be formed, the kind etc. will not be specifically limited, For example, a polyethylene terephthalate (PET) , Polyesters such as polyethylene naphthalate (PEN), polyolefins such as cyclic polyolefin, polyethylene, polypropylene and polystyrene, vinyl resins such as polyvinyl chloride and polyvinylidene chloride, polycarbonate, acrylic resin, triacetyl cellulose (TAC), A film made of polyethersulfone or polyetherketone, which has a light transmittance in the visible region of 80% or more.

これらのフィルムは本発明の目的を妨げない程度であれば着色していてもよく、さらに単層で使うこともできるが、２層以上組み合わせた多層フィルムとして使ってもよい。中でも透明性、耐熱性、コストや取扱い性の面等から、ＰＥＴが最も好ましい。可視領域の光線透過率はできる限り高いことが望ましいが、これは最終製品としては５０％以上の光線透過率が必要なことから最低２枚を積層する場合でも透明基材としては８０％を有すれば目的に適うからである。透過率が高ければ高いほど透明基材を複数枚積層できるため、光線透過率は好ましくは８５％以上、最も好ましくは９０％以上であり、このために厚さを薄化するのも有効な手段である。この透明基材の厚さは、透明性さえ満足すれば特に制限されるものではないが、加工性上からは１２μｍ〜３００μｍの範囲内であることが好ましい。厚さ１２μｍ未満の場合はフィルムが柔軟過ぎ、導電層である金属メッシュ層の成膜や加工する際の張力により伸張やシワが発生しやすく、そのため金属メッシュ層の亀裂や剥離が生じやすく適さない。３００μｍを超えるとフィルムの可撓性が減少し、各工程での連続巻き取りが困難で適さない。さらに複数枚を積層する際は加工性が大幅に劣るといった問題もある。   These films may be colored as long as they do not interfere with the object of the present invention, and can be used as a single layer, but may be used as a multilayer film in which two or more layers are combined. Among these, PET is most preferable from the viewpoints of transparency, heat resistance, cost, and handleability. It is desirable that the light transmittance in the visible region is as high as possible. However, since the light transmittance of 50% or more is required for the final product, even when at least two sheets are laminated, the transparent substrate has 80%. This is because it suits the purpose. Since the higher the transmittance, the more transparent substrates can be laminated, the light transmittance is preferably 85% or more, and most preferably 90% or more. Therefore, it is also an effective means to reduce the thickness. It is. The thickness of the transparent substrate is not particularly limited as long as the transparency is satisfied, but is preferably in the range of 12 μm to 300 μm from the viewpoint of workability. If the thickness is less than 12 μm, the film is too flexible, and the metal mesh layer, which is a conductive layer, is easily stretched and wrinkled due to the tension during film formation and processing. . If it exceeds 300 μm, the flexibility of the film decreases, and continuous winding in each step is difficult and unsuitable. Furthermore, when laminating a plurality of sheets, there is a problem that workability is greatly deteriorated.

（接着剤層又は粘着剤層）
接着剤層（又は粘着剤層）は図１〜図２４の電磁波遮蔽層において図示していないが、透明基材と金属メッシュ層とを接着するのに用いられる層である。接着剤層（又は粘着剤層）は、金属メッシュ層および透明基材とを接着することが可能な層であれば、その種類等は特に限定されるものではないが、本発明においては、上記金属メッシュ層を構成する金属箔および透明基材を接着剤層（又は粘着剤層）を介して貼り合わせた後、金属箔をエッチングによりメッシュ状とすることから、接着剤層（又は粘着剤層）も耐エッチング性を有することが好ましい。具体的には、アクリル樹脂、ポリエステル樹脂、ポリウレタン樹脂、ポリビニルアルコール単独もしくはその部分ケン化品、塩化ビニル−酢酸ビニル共重合体、エチレン−酢酸ビニル共重合体、ポリイミド樹脂、エポキシ樹脂、ポリウレタンエステル樹脂等が挙げられる。また、本発明に用いられる接着剤層（又は粘着剤層）は、紫外線硬化型であってもよく、また熱硬化型であってもよい。特に、透明基材との密着性や、近赤外線吸収色素、および／または、ネオン光吸収色素との相溶性、分散性などの観点からアクリル樹脂もしくはポリエステル樹脂が好ましい。 (Adhesive layer or adhesive layer)
Although the adhesive layer (or the pressure-sensitive adhesive layer) is not shown in the electromagnetic wave shielding layer of FIGS. 1 to 24, it is a layer used to bond the transparent substrate and the metal mesh layer. The adhesive layer (or pressure-sensitive adhesive layer) is not particularly limited as long as it is a layer capable of bonding the metal mesh layer and the transparent base material. After the metal foil and the transparent base material constituting the metal mesh layer are bonded together via the adhesive layer (or pressure-sensitive adhesive layer), the metal foil is formed into a mesh shape by etching, so that the adhesive layer (or pressure-sensitive adhesive layer) ) Also preferably has etching resistance. Specifically, acrylic resin, polyester resin, polyurethane resin, polyvinyl alcohol alone or partially saponified product thereof, vinyl chloride-vinyl acetate copolymer, ethylene-vinyl acetate copolymer, polyimide resin, epoxy resin, polyurethane ester resin Etc. The adhesive layer (or pressure-sensitive adhesive layer) used in the present invention may be an ultraviolet curable type or a thermosetting type. In particular, an acrylic resin or a polyester resin is preferable from the viewpoints of adhesion to a transparent substrate, compatibility with near-infrared absorbing dyes and / or neon light absorbing dyes, dispersibility, and the like.

また、接着剤層（又は粘着剤層）中に、近赤外線吸収色素、および／または、ネオン光吸収色素を１種以上含有させてもよい。その場合、近赤外領域の光線透過率が、２０％以下、中でも１０％以下、５７０−６００ｎｍにおける光線透過率が３０％以下、中でも２５％以下、であることが好ましい。さらに樹脂の水酸基価および酸価が各々１０以下でなければならない。これにより、上記樹脂に含まれる水酸基および酸により近赤外線吸収色素、および／または、ネオン光吸収色素が樹脂中の反応基と反応すること等を防ぐことができ、安定に近赤外線吸収、および／または、ネオン光吸収機能を発揮することが可能なものとすることができる。   Further, the adhesive layer (or pressure-sensitive adhesive layer) may contain one or more near-infrared absorbing dyes and / or neon light absorbing dyes. In that case, it is preferable that the light transmittance in the near infrared region is 20% or less, particularly 10% or less, and the light transmittance at 570 to 600 nm is 30% or less, especially 25% or less. Furthermore, the hydroxyl value and acid value of the resin must each be 10 or less. Thereby, it is possible to prevent the near-infrared absorbing dye and / or the neon light-absorbing dye from reacting with the reactive group in the resin due to the hydroxyl group and acid contained in the resin, stably absorbing near-infrared light, and / or Alternatively, the neon light absorbing function can be exhibited.

接着剤層（又は粘着剤層）を介してドライラミネーション法等により透明基材および金属メッシュ層を形成するための金属箔とを接着することができる。また、この接着剤層（又は粘着剤層）の膜厚が０．５μｍ〜５０μｍの範囲内、中でも１μｍ〜２０μｍであることが好ましい。これにより、透明基材および金属メッシュ層とを強固に接着することができ、また、金属メッシュ層を形成するエッチングの際に透明基材が酸化鉄等のエッチング液の影響を受けること等を防ぐことができるからである。   A transparent substrate and a metal foil for forming a metal mesh layer can be bonded by a dry lamination method or the like through an adhesive layer (or a pressure-sensitive adhesive layer). Moreover, it is preferable that the film thickness of this adhesive bond layer (or adhesive layer) is in the range of 0.5 μm to 50 μm, especially 1 μm to 20 μm. Thereby, a transparent base material and a metal mesh layer can be firmly bonded, and the transparent base material is prevented from being affected by an etching solution such as iron oxide during etching to form the metal mesh layer. Because it can.

色素含有粘着剤層：
図１〜図２４に示すように、本発明の光学フィルタに用いられる色素含有粘着剤層は、色素含有粘着剤層中に、近赤外線吸収色素、および／または、ネオン光吸収色素を１種以上を含有させたものが使用される。その場合、近赤外線領域の光線透過率が、２０％以下、中でも１０％以下、５７０−６００ｎｍにおける光線透過率が３０％以下、中でも２５％以下、であることが好ましい。さらに樹脂の水酸基価、および／または、酸価が各々１０以下でなければならない。これにより、上記樹脂に含まれる水酸基および酸基により近赤外線吸収色素、および／または、ネオン光吸収色素が反応すること等を防ぐことができ、安定に近赤外線吸収、および／または、ネオン光吸収機能を発揮することが可能なものとすることができる。 Dye-containing adhesive layer :
As shown in FIGS. 1 to 24, the dye-containing pressure-sensitive adhesive layer used in the optical filter of the present invention includes at least one near-infrared absorbing dye and / or neon light-absorbing dye in the dye-containing pressure-sensitive adhesive layer. The one containing is used. In that case, it is preferable that the light transmittance in the near infrared region is 20% or less, particularly 10% or less, and the light transmittance at 570 to 600 nm is 30% or less, especially 25% or less. Furthermore, the hydroxyl value and / or acid value of the resin must be 10 or less, respectively. As a result, it is possible to prevent the near-infrared absorbing dye and / or neon light-absorbing dye from reacting with the hydroxyl group and acid group contained in the resin, and stably absorb near-infrared and / or neon light absorption. The function can be exhibited.

本発明では色素含有粘着剤層に用いる樹脂のガラス転移点温度（Ｔｇ）が３０℃〜１５０℃の範囲内、中でも４０℃〜１２０℃の範囲内であることが好ましい。これにより、樹脂を溶剤等に溶解させて、塗布後、溶剤を揮発させて乾燥する際に、表面の凹凸を、透明基材のＴｇ以上の温度で、例えば、ミラーロール等を用いて圧力をかけることにより、透明性の高い平坦な高品質な光学フィルタとすることができるからである。この色素含有粘着剤層を平坦化する工程における温度および圧力は、その透明樹脂の種類により適宜選択されるものであるが、通常５０℃〜１７０℃の範囲内であり、また圧力は線圧０．１ｋｇ／ｃｍ2 〜１０ｋｇ／ｃｍ2 の範囲内であることが好ましい。 In this invention, it is preferable that the glass transition point temperature (Tg) of resin used for a pigment | dye containing adhesive layer exists in the range of 30 degreeC-150 degreeC, especially in the range of 40 degreeC-120 degreeC. As a result, when the resin is dissolved in a solvent and the like, and the solvent is volatilized and dried after application, the surface irregularities are raised at a temperature equal to or higher than the Tg of the transparent substrate, for example, using a mirror roll or the like. It is because it can be set as a flat and high quality optical filter with high transparency by applying. The temperature and pressure in the step of flattening the dye-containing pressure-sensitive adhesive layer are appropriately selected depending on the type of the transparent resin, but are usually in the range of 50 ° C. to 170 ° C., and the pressure is a linear pressure of 0. It is preferably within the range of 1 kg / cm 2 to 10 kg / cm 2 .

上述したような性質を有する樹脂としては、具体的には、アクリル系樹脂、エステル系樹脂、ポリカーボネート系樹脂、ウレタン系樹脂、環状ポリオレフィン系樹脂、ポリスチレン系樹脂、ポリイミド系樹脂、またはポリテトラフルオロエチレン（ＰＴＦＥ）、テトラフルオロエチレンとペルフルオロアルキルビニルエーテルとの共重合体からなるペルフルオロアルコキシ樹脂（ＰＦＡ）、テトラフルオロエチレンとヘキサフルオロプロピレンコポリマー（ＦＥＰ）、テトラフルオロエチレンとペルフルオロアルキルビニルエーテルとヘキサフルオロプロピレンコポリマー（ＥＰＥ）、テトラフルオロエチレンとエチレンまたはプロピレンとのコポリマー（ＥＴＦＥ）、ポリクロロトリフルオロエチレン樹脂（ＰＣＴＦＥ）、エチレンとクロロトリフルオロエチレンとのコポリマー（ＥＣＴＦＥ）、フッ化ビニリデン系樹脂（ＰＶＤＦ）、フッ化ビニル系樹脂（ＰＶＦ）等のフッ素系樹脂を挙げることができ、中でも透明性の観点からアクリル系樹脂、エステル系樹脂、ポリカーボネート系樹脂であることが好ましい。また、上記樹脂の平均分子量は、５００〜６００，０００の範囲内、中でも１万〜４０万であることが好ましい。これにより、上記のような性質を有する透明樹脂とすることができるからである。   Specific examples of the resin having the above-described properties include acrylic resins, ester resins, polycarbonate resins, urethane resins, cyclic polyolefin resins, polystyrene resins, polyimide resins, or polytetrafluoroethylene. (PTFE), perfluoroalkoxy resin (PFA) made of a copolymer of tetrafluoroethylene and perfluoroalkyl vinyl ether, tetrafluoroethylene and hexafluoropropylene copolymer (FEP), tetrafluoroethylene, perfluoroalkyl vinyl ether and hexafluoropropylene copolymer ( EPE), copolymers of tetrafluoroethylene and ethylene or propylene (ETFE), polychlorotrifluoroethylene resin (PCTFE), ethylene and chlorine Fluoropolymers such as copolymer with trifluoroethylene (ECTFE), vinylidene fluoride resin (PVDF), and vinyl fluoride resin (PVF) can be mentioned. Among them, acrylic resins and ester resins are preferred from the viewpoint of transparency. A resin or a polycarbonate-based resin is preferable. The average molecular weight of the resin is preferably in the range of 500 to 600,000, particularly 10,000 to 400,000. This is because a transparent resin having the above properties can be obtained.

本発明において、このような色素含有粘着剤層の膜厚は、１０μｍ〜５０μｍの範囲内であることが好ましい。この範囲にすることにより、特に、金属メッシュ層の凹凸に色素含有粘着剤層が形成される場合には、金属メッシュ層を平坦化することが可能となるからである。   In this invention, it is preferable that the film thickness of such a pigment | dye containing adhesive layer exists in the range of 10 micrometers-50 micrometers. This is because by setting the amount within this range, the metal mesh layer can be flattened particularly when the dye-containing pressure-sensitive adhesive layer is formed on the unevenness of the metal mesh layer.

反射防止層：
反射防止層は、本発明の光学フィルタの最上層に配置され、磨りガラスのように、光を散乱もしくは拡散させて像をボカス手法、及び／又は、屈折率の高い層と低い層を組み合わせてなる表面の光の反射を防止する手法により形成された層である。 Antireflection layer :
The antireflection layer is disposed on the uppermost layer of the optical filter of the present invention, and scatters or diffuses the light to scatter the image, such as frosted glass, and / or a combination of a high refractive index layer and a low refractive index layer. A layer formed by a technique for preventing reflection of light on the surface.

すなわち、前者の手法において光を散乱もしくは拡散させるためには、光の入射面を粗面化することが基本であり、この粗面化処理には、サンドブラスト法やエンボス法等により基体表面を直接粗面化する方法、基体表面に放射線、熱の何れかもしくは組み合わせにより硬化する樹脂中にシリカなどの無機フィラーや、樹脂粒子などの有機フィラーを含有させた粗面化層を設ける方法、および基体表面に海島構造による多孔質膜を形成する方法を挙げることができる。   That is, in order to scatter or diffuse light in the former method, it is fundamental to roughen the light incident surface. In this roughening treatment, the surface of the substrate is directly applied by sandblasting or embossing. A method for roughening, a method for providing a roughening layer containing an inorganic filler such as silica or an organic filler such as resin particles in a resin that is cured by radiation or heat or a combination on the surface of the substrate, and a substrate A method of forming a porous film with a sea-island structure on the surface can be mentioned.

また、後者の表面の光の反射を防止する方法としては、屈折率の高い材料と低い材料を交互に積層し、多層化（マルチコート）することで、表面の反射が抑えられ、良好な反射防止効果を得ることができる。通常、この反射防止層は、ＳｉＯ2 に代表される低屈折率材料と、ＴｉＯ2 、ＺｒＯ2 等の高屈折率材料とを交互に蒸着等により成膜する気相法等によって形成される。 In addition, as a method of preventing the reflection of light on the latter surface, the reflection of the surface can be suppressed and the reflection can be improved by laminating a material having a high refractive index and a material having a low refractive index alternately and forming a multilayer (multi-coating). The prevention effect can be obtained. Usually, the antireflection layer is formed by a vapor phase method or the like in which a low refractive index material typified by SiO 2 and a high refractive index material such as TiO 2 or ZrO 2 are alternately formed by vapor deposition.

反射防止効果を向上させるためには、低屈折率層の屈折率は、１．４５以下であることが好ましい。これらの特徴を有する材料としては、例えばＬｉＦ（屈折率ｎ＝１．４）、ＭｇＦ2 （屈折率ｎ＝１．４）、３ＮａＦ・ＡｌＦ3 （屈折率ｎ＝１．４）、ＡｌＦ3 （屈折率ｎ＝１．４）、Ｎａ3 ＡｌＦ6 （屈折率ｎ＝１．３３）、ＳｉＯ2 （屈折率ｎ＝１．４５）等の無機材料を微粒子化し、アクリル系樹脂やエポキシ系樹脂等に含有させた無機系低反射材料、フッ素系・シリコーン系の有機化合物、熱可塑性樹脂、熱硬化型樹脂、放射線硬化型樹脂等の有機低反射材料を挙げることができる。 In order to improve the antireflection effect, the refractive index of the low refractive index layer is preferably 1.45 or less. Examples of the material having these characteristics include LiF (refractive index n = 1.4), MgF 2 (refractive index n = 1.4), 3NaF · AlF 3 (refractive index n = 1.4), AlF 3 ( Inorganic materials such as refractive index n = 1.4), Na 3 AlF 6 (refractive index n = 1.33), SiO 2 (refractive index n = 1.45) are made into fine particles, and acrylic resin, epoxy resin, etc. Inorganic low-reflective materials, fluorine-based / silicone-based organic compounds, thermoplastic resins, thermosetting resins, radiation-curable resins, and the like can be used.

さらに、５〜３０ｎｍのシリカ超微粒子を水もしくは有機溶剤に分散したゾルとフッ素系の皮膜形成剤を混合した材料を使用することもできる。該５〜３０ｎｍのシリカ超微粒子を水もしくは有機溶剤に分散したゾルは、ケイ酸アルカリ塩中のアルカリ金属イオンをイオン交換等で脱アルカリする方法や、ケイ酸アルカリ塩を鉱酸で中和する方法等で知られた活性ケイ酸を縮合して得られる公知のシリカゾル、アルコキシシランを有機溶媒中で塩基性触媒の存在下に加水分解と縮合することにより得られる公知のシリカゾル、さらには上記の水性シリカゾル中の水を蒸留法等により有機溶剤に置換することにより得られる有機溶剤系のシリカゾル（オルガノシリカゾル）が用いられる。これらのシリカゾルは水系および有機溶剤系のどちらでも使用することができる。有機溶剤系シリカゾルの製造に際し、完全に水を有機溶剤に置換する必要はない。前記シリカゾルはＳｉＯ2 として０．５〜５０質量％濃度の固形分を含有する。シリカゾル中のシリカ超微粒子の構造は球状、針状、板状等様々なものが使用可能である。また、皮膜形成剤としては、アルコキシシラン、金属アルコキシドや金属塩の加水分解物や、ポリシロキサンをフッ素変性したものなどを用いることができる。 Furthermore, a material in which a sol obtained by dispersing ultrafine silica particles of 5 to 30 nm in water or an organic solvent and a fluorine-based film forming agent can be used. The sol in which the ultrafine silica particles of 5 to 30 nm are dispersed in water or an organic solvent is obtained by a method of dealkalizing alkali metal ions in alkali silicate salt by ion exchange or the like, or neutralizing alkali silicate salt with mineral acid. A known silica sol obtained by condensing active silicic acid known by the method, etc., a known silica sol obtained by condensing alkoxysilane with hydrolysis in an organic solvent in the presence of a basic catalyst, and the above-mentioned An organic solvent-based silica sol (organosilica sol) obtained by substituting water in the aqueous silica sol with an organic solvent by a distillation method or the like is used. These silica sols can be used in both aqueous and organic solvent systems. In producing the organic solvent-based silica sol, it is not necessary to completely replace water with the organic solvent. The silica sol contains solids 0.5 to 50 wt% concentration as SiO 2. Various structures such as a spherical shape, a needle shape, and a plate shape can be used for the structure of the ultrafine silica particles in the silica sol. As the film forming agent, alkoxysilane, metal alkoxide, hydrolyzate of metal salt, or fluorine-modified polysiloxane can be used.

低屈折率層は、上記で述べた材料を例えば溶剤に希釈し、スピンコーティング、ロールコーティングや印刷等によるウェットコーティング法や、真空蒸着、スパッタリング、プラズマＣＶＤ、イオンプレーティング等による気相法で、高屈折率層上に設けて乾燥後、熱や放射線（紫外線の場合は上述の光重合開始剤を使用する）等により硬化させることによって得ることができる。   The low refractive index layer is obtained by diluting the above-described material into a solvent, for example, a wet coating method such as spin coating, roll coating or printing, or a vapor phase method such as vacuum deposition, sputtering, plasma CVD, or ion plating. After being provided on the high refractive index layer and dried, it can be obtained by curing with heat or radiation (in the case of ultraviolet rays, the above-mentioned photopolymerization initiator is used).

高屈折率層の形成は、屈折率を高くするために高屈折率のバインダ樹脂を使用するか、高い屈折率を有する超微粒子をバインダ樹脂に添加することによって行なうか、あるいはこれらを併用することによって行なう。高屈折率層の屈折率は１．５５〜２．７０の範囲にあることが好ましい。   The high refractive index layer is formed by using a binder resin having a high refractive index in order to increase the refractive index, adding ultrafine particles having a high refractive index to the binder resin, or using these in combination. To do. The refractive index of the high refractive index layer is preferably in the range of 1.55 to 2.70.

高屈折率層に用いる樹脂については、透明なものであれば任意の樹脂が使用可能であり、熱硬化型樹脂、熱可塑性樹脂、放射線（紫外線を含む）硬化型樹脂などを用いることができる。熱硬化型樹脂としては、フェノール樹脂、メラミン樹脂、ポリウレタン樹脂、尿素樹脂、ジアリルフタレート樹脂、グアナミン樹脂、不飽和ポリエステル樹脂、アミノアルキッド樹脂、メラミン−尿素共縮合樹脂、珪素樹脂、ポリシロキサン樹脂等を用いることができ、これらの樹脂に、必要に応じて架橋剤、重合開始剤等の硬化剤、重合促進剤、溶剤、粘度調整剤等を加えることができる。   As the resin used for the high refractive index layer, any resin can be used as long as it is transparent, and a thermosetting resin, a thermoplastic resin, a radiation (including ultraviolet) curable resin, or the like can be used. Thermosetting resins include phenolic resin, melamine resin, polyurethane resin, urea resin, diallyl phthalate resin, guanamine resin, unsaturated polyester resin, aminoalkyd resin, melamine-urea cocondensation resin, silicon resin, polysiloxane resin, etc. A curing agent such as a crosslinking agent and a polymerization initiator, a polymerization accelerator, a solvent, a viscosity modifier and the like can be added to these resins as necessary.

高い屈折率を有する超微粒子としては、例えば、紫外線遮蔽の効果をも得ることができる、ＺｎＯ（屈折率ｎ＝１．９）、ＴｉＯ2 （屈折率ｎ＝２．３〜２．７）、ＣｅＯ2 （屈折率ｎ＝１．９５）の微粒子、また、帯電防止効果が付与されて埃の付着を防止することもできる、アンチモンがドープされたＳｎＯ2 （屈折率ｎ＝１．９５）またはＩＴＯ（屈折率ｎ＝１．９５）の微粒子が挙げられる。その他の微粒子としては、Ａｌ2 Ｏ 3（屈折率ｎ＝１．６３）、Ｌａ2 Ｏ 3（屈折率ｎ＝１．９５）、ＺｒＯ2 （屈折率ｎ＝２．０５）、Ｙ2 Ｏ 3（屈折率ｎ＝１．８７）等を挙げることができる。これらの微粒子は単独または混合して使用され、有機溶剤または水に分散したコロイド状になったものが分散性の点において良好であり、その粒径としては、１〜１００ｎｍ、塗膜の透明性から好ましくは、５〜２０ｎｍであることが望ましい。 As ultrafine particles having a high refractive index, for example, ZnO (refractive index n = 1.9), TiO 2 (refractive index n = 2.3 to 2.7), which can also have an ultraviolet shielding effect, Fine particles of CeO 2 (refractive index n = 1.95), antimony-doped SnO 2 (refractive index n = 1.95) or antistatic effect, which can prevent dust adhesion. Examples thereof include fine particles of ITO (refractive index n = 1.95). Other fine particles include Al 2 O 3 (refractive index n = 1.63), La 2 O 3 (refractive index n = 1.95), ZrO 2 (refractive index n = 2.05), Y 2 O 3. (Refractive index n = 1.87). These fine particles are used alone or in combination, and those in the form of a colloid dispersed in an organic solvent or water are good in terms of dispersibility. The particle diameter is 1 to 100 nm, the transparency of the coating film To preferably 5 to 20 nm.

高屈折率層を設けるには、上記で述べた材料を例えば溶剤に希釈し、スピンコーティング、ロールコーティング、印刷等の方法で基体上に設けて乾燥後、熱や放射線（紫外線の場合は上述の光重合開始剤を使用する）等により硬化させればよい。   In order to provide the high refractive index layer, the material described above is diluted with a solvent, for example, provided on a substrate by a method such as spin coating, roll coating, or printing, dried, and then subjected to heat or radiation (in the case of ultraviolet rays, the above-mentioned It may be cured by using a photopolymerization initiator).

また反射防止層中に、近赤外線吸収色素、および／または、ネオン光吸収色素を１種以上含有させてもよい。その場合、近赤外線領域の光線透過率が２０％以下、中でも１０％以下、５７０−６００ｎｍにおける光線透過率が３０％以下、中でも２５％以下、であることが好ましい。さらに樹脂が水酸基価および酸価が所定の値以下でなければならない。これにより、上記樹脂に含まれる水酸基および酸価により近赤外線吸収色素、および／または、ネオン光吸収色素が反応すること等を防ぐことができ、安定に近赤外線吸収能、および／または、ネオン光吸収機能を発揮することが可能なものとなる。   Further, the antireflection layer may contain one or more near infrared absorbing dyes and / or neon light absorbing dyes. In that case, the light transmittance in the near-infrared region is 20% or less, particularly 10% or less, and the light transmittance at 570 to 600 nm is preferably 30% or less, particularly 25% or less. Further, the resin must have a hydroxyl value and an acid value that are not more than predetermined values. As a result, it is possible to prevent the near-infrared absorbing dye and / or neon light-absorbing dye from reacting due to the hydroxyl group and acid value contained in the resin, and the near-infrared absorbing ability and / or neon light can be stably stabilized. An absorption function can be exhibited.

近赤外線吸収層
近赤外線吸収層は、基本的には、透明バインダ樹脂中に、近赤外線を吸収する近赤外線吸収色素を有するものである。 Near-infrared absorbing layer The near-infrared absorbing layer basically has a near-infrared absorbing dye that absorbs near-infrared rays in a transparent binder resin.

近赤外線吸収色素としては、光学フィルタが代表的な用途であるプラズマディスプレイパネルの前面に適用される場合、プラズマディスプレイパネル７はキセノンガス放電を利用して発光する際に生じる近赤外線領域、即ち、８００ｎｍ〜１１００ｎｍの波長域を吸収するもの、該帯域の近赤外線の透過率が２０％以下、好ましくは１５％以下であることが好ましい。同時に近赤外線吸収層は、可視光領域、即ち、３８０ｎｍ〜７８０ｎｍの波長域で、十分な光線透過率を有することが望ましい。   As the near-infrared absorbing dye, when an optical filter is applied to the front surface of a plasma display panel, which is a typical application, the plasma display panel 7 generates a near-infrared region generated when light is emitted using xenon gas discharge, that is, Those that absorb a wavelength region of 800 nm to 1100 nm and the near infrared transmittance of the band are 20% or less, preferably 15% or less. At the same time, it is desirable that the near-infrared absorbing layer has a sufficient light transmittance in the visible light region, that is, in the wavelength region of 380 nm to 780 nm.

近赤外線吸収色素としては、具体的には、ポリメチン系化合物、シアニン系化合物、フタロシアニン系化合物、ナフタロシアニン系化合物、ナフトキノン系化合物、アントラキノン系化合物、ジチオール系化合物、イモニウム系化合物、ジイモニウム系化合物、アミニウム系化合物、ピリリウム系化合物、セリリウム系化合物、スクワリリウム系化合物、銅錯体類、ニッケル錯体類、ジチオール系金属錯体類の有機系近赤外線吸収色素、酸化スズ、酸化インジウム、酸化マグネシウム、酸化チタン、酸化クロム、酸化ジルコニウム、酸化ニッケル、酸化アルミニウム、酸化亜鉛、酸化鉄、酸化アンモン、酸化鉛、酸化ビスマス、酸化ランタン等の無機系近赤外線吸収色素、を１種、または２種以上を併用することができる。   Specific examples of near-infrared absorbing dyes include polymethine compounds, cyanine compounds, phthalocyanine compounds, naphthalocyanine compounds, naphthoquinone compounds, anthraquinone compounds, dithiol compounds, imonium compounds, diimonium compounds, and aminium. Compounds, pyrylium compounds, cerium compounds, squarylium compounds, copper complexes, nickel complexes, dithiol metal complexes organic near infrared absorbing dyes, tin oxide, indium oxide, magnesium oxide, titanium oxide, chromium oxide Zirconium oxide, nickel oxide, aluminum oxide, zinc oxide, iron oxide, ammonium oxide, lead oxide, bismuth oxide, inorganic near-infrared absorbing dyes such as lanthanum oxide, etc. can be used alone or in combination of two or more. .

種類や添加量は、近赤外線吸収色素の吸収波長や吸収係数や、色調及びディスプレイ用前面板に要求される透過率などによって適宜選択すればよい。例えば、近赤外線吸収剤の添加量は、層中に０．１〜１５質量％程度添加し、それらの近赤外線吸収剤を紫外線から保護するために、層中にベンゾフェノン系、ベンゾトリアゾール系などの紫外線吸収剤を含ませてもよく、紫外線吸収剤の添加量は、層中に０．１〜１０質量％程度である。   The type and amount of addition may be appropriately selected according to the absorption wavelength and absorption coefficient of the near-infrared absorbing dye, the color tone, the transmittance required for the display front plate, and the like. For example, the addition amount of the near-infrared absorber is about 0.1 to 15% by mass in the layer, and in order to protect these near-infrared absorbers from ultraviolet rays, benzophenone-based, benzotriazole-based, etc. An ultraviolet absorber may be included, and the addition amount of the ultraviolet absorber is about 0.1 to 10% by mass in the layer.

上記の近赤外線吸収剤は熱可塑性樹脂が好ましく、さらに好ましくは、極性の高い官能基を持たない合成樹脂や、また極性の高い官能基を持っている官能基数の少ない合成樹脂である。好ましい熱可塑性樹脂としては、アクリル系樹脂、アクリロニトリル系樹脂、ウレタン系樹脂、又はポリエステル樹脂である。該熱可塑性樹脂は色素の溶解性や安定維持性、及び着色剤の機能耐久性の点で良好である。   The near-infrared absorber is preferably a thermoplastic resin, more preferably a synthetic resin having no highly polar functional group or a synthetic resin having a highly polar functional group and a small number of functional groups. Preferred thermoplastic resins are acrylic resins, acrylonitrile resins, urethane resins, or polyester resins. The thermoplastic resin is good in terms of the solubility and stability maintenance of the dye and the functional durability of the colorant.

近赤外線吸収層の製造方法は、ＰＥＴフィルム等の離型フィルム上に近赤外線吸収色素含有インクをグラビアリバース法等により塗工（例えば１０ｇ／ｍ2 ）することにより、離型フィルム／近赤外線吸収色素／離型フィルムからなる積層シートを得る。 The production method of the near infrared ray absorbing layer is such that a release film / near infrared ray absorption is achieved by applying a near infrared absorbing dye-containing ink on a release film such as a PET film by a gravure reverse method or the like (for example, 10 g / m 2 ). A laminated sheet composed of a dye / release film is obtained.

粘着剤層：
図１〜図２４に示す光学フィルタの粘着剤層は、光学フィルタにおける各層を接着するための層であり、例えば、市販の両面接着テープ（例、ＣＳ−９６１１：商品名、日東電工（株）製）が使用できる。 Adhesive layer :
The adhesive layer of the optical filter shown in FIGS. 1-24 is a layer for adhere | attaching each layer in an optical filter, for example, a commercially available double-sided adhesive tape (for example, CS-9611: a brand name, Nitto Denko Corporation). Can be used.

光学フィルタの製造
本発明の光学フィルタの製造方法の一例を次に示す。次の例は、図１に示す層構成の光学フィルタの製造例である。下記の製造例において、押出ラミネートは図２６の押出ラミネート機を用い、ラミネートは図２７のラミネート機を用いることができる。 Production of optical filter An example of the production method of the optical filter of the present invention will be described below. The following example is a manufacturing example of the optical filter having the layer structure shown in FIG. In the following production example, the extrusion laminating machine of FIG. 26 can be used for extrusion laminating, and the laminating machine of FIG. 27 can be used for laminating.

ｉ) 離型フィルム／耐衝撃層５／離型フィルムからなる積層シートの製造
本発明の光学フィルタにおける耐衝撃層５の形成は、押出ラミネート法、加熱プレス法、及び厚塗りコート法のどのような方法でもよいが、好ましくは、次に説明する押出ラミネート法が挙げられる。 i) Manufacture of Laminated Sheet Consisting of Release Film / Impact Resistant Layer 5 / Release Film The formation of the impact resistant layer 5 in the optical filter of the present invention is performed by any of an extrusion laminating method, a hot press method, and a thick coating method. However, the extrusion lamination method described below is preferable.

図２６は、本発明の光学フィルタにおける好ましい耐衝撃層５を形成するための押出ラミネート機の１例を示す図である。本発明の光学フィルタにおける耐衝撃層５を形成するには、第１フィルム供給部３５、及び第２フィルム供給部３９の両方に、離型フィルム［離型性のあるポリエチレンテレフタレート（ＰＥＴ）フィルム（例えば、東洋紡株式会社製、Ｅ−７００２：商品名）］を配置しておく。この状態で、押出ラミネート機のダイス４２より、前記した特定組成からなるエチレンビニルアセテートを離型フィルム上に押し出して、離型フィルム／耐衝撃層５／離型フィルムからなる積層シートとし、排紙部４１に巻き取る。   FIG. 26 is a view showing an example of an extrusion laminating machine for forming a preferable impact resistant layer 5 in the optical filter of the present invention. In order to form the impact-resistant layer 5 in the optical filter of the present invention, a release film [polyethylene terephthalate (PET) film having releasability (PET) film) is formed on both the first film supply unit 35 and the second film supply unit 39. For example, Toyobo Co., Ltd., E-7002: trade name)] is arranged. In this state, the ethylene vinyl acetate having the above-mentioned specific composition is extruded onto the release film from the die 42 of the extrusion laminating machine to form a laminated sheet made of the release film / impact resistant layer 5 / release film, and discharged. Winding on part 41.

次いで、ラミネート機を用いて以下の工程ii）〜viii) により順次、他の層を形成する。図２７は、本発明の光学フィルタを構成する各層をラミネートするためのラミネート機の１例を示す図である。   Next, other layers are formed in sequence by the following steps ii) to viii) using a laminating machine. FIG. 27 is a diagram showing an example of a laminating machine for laminating each layer constituting the optical filter of the present invention.

ii) 反射防止層１／色素含有粘着剤層２／離型フィルムからなる積層シートの製造
図２７のラミネート機の第１給紙部２１に反射防止層１を巻き取ったもの配置し、且つ第２給紙部２２に離型フィルム／色素含有粘着剤層２／離型フィルムからなる積層シートを巻き取ったものを配置する。次いで、第１給紙部２１から、反射防止層１を繰り出しながら、一方、第２給紙部２２から離型フィルム／色素含有粘着剤層２／離型フィルムからなる積層シートを繰り出すと同時に一側の第２離型フィルム巻取りロール２４に巻取り、反射防止層１と、色素含有粘着剤層２／離型フィルムからなるシートを第１ラミネートニユット２５で約３ｋｇｆ／ｍのラミネート圧でラミネートし、次いで、第２ラミネートユニット２６で約５ｋｇｈ／ｍのラミネート圧でラミネートして、巻取りロール２７に巻き取って、反射防止層１／色素含有粘着剤層２／離型フィルムからなる積層シートを得る。このとき、第１離型フィルム巻取りロール２３は、巻き取る離型フィルムが存在しないので使用しない。 ii) Production of laminated sheet consisting of antireflection layer 1 / dye-containing pressure-sensitive adhesive layer 2 / release film The antireflection layer 1 is wound around the first paper feeder 21 of the laminating machine of FIG. 2 A sheet obtained by winding up a laminated sheet composed of a release film / pigment-containing pressure-sensitive adhesive layer 2 / a release film is disposed in the paper feeding unit 22. Next, while feeding out the antireflection layer 1 from the first paper feed unit 21, on the other hand, a laminated sheet composed of a release film / dye-containing pressure-sensitive adhesive layer 2 / release film is fed out from the second paper feed unit 22 at the same time. The sheet comprising the anti-reflection layer 1 and the dye-containing pressure-sensitive adhesive layer 2 / release film is wound on the first release unit 25 at a laminating pressure of about 3 kgf / m. Lamination, then laminating at a laminating pressure of about 5 kgh / m in the second laminating unit 26, winding up on a take-up roll 27, and laminating comprising antireflection layer 1 / dye-containing pressure-sensitive adhesive layer 2 / release film Get a sheet. At this time, the first release film winding roll 23 is not used because there is no release film to be wound.

iii) 反射防止層１／色素含有粘着剤層２／耐衝撃層５／離型フィルムからなる積層シートの製造
前記ii）工程で得られた反射防止層１／色素含有粘着剤層２／離型フィルムからなる積層シートを第１給紙部２１に配置する。一方、第２給紙部２２に前記工程ｉ）で得られた離型フィルム／耐衝撃層５／離型フィルムからなる積層シートを巻き取ったものを配置する。次いで、第１給紙部から、反射防止層１／色素含有粘着剤層２／離型フィルムからなる積層シートを繰り出しながら、同時に離型フィルムを第１離型フィルム巻取りロール２３に巻き取る。一方、第２給紙部２２から離型フィルム／耐衝撃層５／離型フィルムからなる積層シートを繰り出すと同時に一側の離型フィルムを巻取りロール２４に巻取り、第１ラミネートユニット２５において、第１給紙部２１及び第２給紙部２２から繰り出された各シートを約３ｋｇｆ／ｍのラミネート圧でラミネートし、次いで、第２ラミネートユニット２６で約５ｋｇｈ／ｍのラミネート圧でラミネートして、巻取りロール２７に巻き取って、反射防止層１／色素含有粘着剤層２／耐衝撃層５／離型フィルムからなる積層シートを得る。 iii) Production of laminated sheet comprising antireflection layer 1 / dye-containing pressure-sensitive adhesive layer 2 / impact-resistant layer 5 / release film Antireflection layer 1 / dye-containing pressure-sensitive adhesive layer 2 / mold release obtained in step ii) A laminated sheet made of a film is arranged in the first paper feeding unit 21. On the other hand, a roll obtained by winding a laminated sheet made of the release film / impact resistant layer 5 / release film obtained in the step i) is disposed in the second paper feed unit 22. Subsequently, the release film is wound around the first release film winding roll 23 at the same time while the laminated sheet composed of the antireflection layer 1 / dye-containing pressure-sensitive adhesive layer 2 / release film is fed out from the first sheet feeding unit. On the other hand, a laminate sheet composed of a release film / impact resistant layer 5 / release film is fed out from the second paper feed unit 22 and at the same time the release film on one side is taken up on a take-up roll 24. Each sheet fed from the first sheet feeding unit 21 and the second sheet feeding unit 22 is laminated with a lamination pressure of about 3 kgf / m, and then laminated with a lamination pressure of about 5 kgh / m in the second laminating unit 26. Then, it is wound up on a winding roll 27 to obtain a laminated sheet comprising antireflection layer 1 / dye-containing pressure-sensitive adhesive layer 2 / impact resistant layer 5 / release film.

iv) 反射防止層１／色素含有粘着剤層２／耐衝撃層５／粘着剤層４／離型フィルムからなる積層シートの製造
前記iii)工程で得られた反射防止層１／色素含有粘着剤層２／耐衝撃層５／離型フィルムからなる積層シートを第１給紙部２１に配置する。一方、第２給紙部２２に離型フィルム／粘着剤層４／離型フィルムからなる積層シートを巻き取ったものを配置する。次いで、第１給紙部２１から、反射防止層１／色素含有粘着剤層２／耐衝撃層５／離型フィルムからなる積層シートを繰り出しながら、同時に離型フィルムを第１離型フィルム巻取りロール２３に巻き取る。一方、第２給紙部２２から離型フィルム／粘着剤層４／離型フィルムからなる積層シートを繰り出すと同時に一側の離型フィルムを巻取りロール２４に巻取り、第１ラミネートユニット２５において、第１給紙部２１及び第２給紙部２２から繰り出された各シートを約３ｋｇｆ／ｍのラミネート圧でラミネートし、次いで、第２ラミネートユニット２６で約５ｋｇｈ／ｍのラミネート圧でラミネートして、巻取りロール２７に巻き取って、反射防止層１／色素含有粘着剤層２／耐衝撃層５／粘着剤層４／離型フィルムからなる積層シートを得る。 iv) Production of laminated sheet comprising antireflection layer 1 / dye-containing pressure-sensitive adhesive layer 2 / impact resistant layer 5 / pressure-sensitive adhesive layer 4 / release film Antireflection layer 1 / dye-containing pressure-sensitive adhesive obtained in step iii) A laminated sheet composed of layer 2 / impact resistant layer 5 / release film is disposed in the first paper feeding unit 21. On the other hand, what wound up the lamination sheet which consists of a release film / adhesive layer 4 / release film in the 2nd paper supply part 22 is arrange | positioned. Next, the first release film is taken up simultaneously while the laminated sheet composed of the antireflection layer 1 / dye-containing pressure-sensitive adhesive layer 2 / impact resistant layer 5 / release film is fed out from the first sheet feeding unit 21. It is wound on a roll 23. On the other hand, a laminate sheet composed of the release film / adhesive layer 4 / release film is fed out from the second paper feed unit 22 and at the same time, the release film on one side is taken up on a take-up roll 24. Each sheet fed from the first sheet feeding unit 21 and the second sheet feeding unit 22 is laminated with a lamination pressure of about 3 kgf / m, and then laminated with a lamination pressure of about 5 kgh / m in the second laminating unit 26. Then, it is wound up on a winding roll 27 to obtain a laminated sheet comprising antireflection layer 1 / dye-containing pressure-sensitive adhesive layer 2 / impact resistant layer 5 / pressure-sensitive adhesive layer 4 / release film.

ｖ) 反射防止層１／色素含有粘着剤層２／耐衝撃層５／粘着剤層４／近赤外線吸収層３／離型フィルムからなる積層シートの製造
前記iv) 工程で得られた反射防止層１／色素含有粘着剤層２／耐衝撃層５／粘着剤層４／離型フィルムからなる積層シートを第１給紙部２１に配置する。一方、第２給紙部２２に離型フィルム／近赤外線吸収層３／離型フィルムからなる積層シートを巻き取ったものを配置する。次いで、第１給紙部２１から、反射防止層１／色素含有粘着剤層２／耐衝撃層５／粘着剤層４／離型フィルムからなる積層シートを繰り出しながら、同時に離型フィルムを第１離型フィルム巻取りロール２３に巻き取る。一方、第２給紙部２２から離型フィルム／近赤外線吸収層３／離型フィルムからなる積層シートを繰り出すと同時に一側の離型フィルムを巻取りロール２４に巻取り、第１ラミネートユニット２５において、第１給紙部２１及び第２給紙部２２から繰り出された各シートを約３ｋｇｆ／ｍのラミネート圧でラミネートし、次いで、第２ラミネートユニット２６で約５ｋｇｈ／ｍのラミネート圧でラミネートして、巻取りロール２７に巻き取って、反射防止層１／色素含有粘着剤層２／耐衝撃層５／粘着剤層４／近赤外線吸収層３／離型フィルムからなる積層シートを得る。 v) Antireflection layer 1 / pigment-containing pressure-sensitive adhesive layer 2 / impact resistant layer 5 / pressure-sensitive adhesive layer 4 / near-infrared absorbing layer 3 / manufacture of laminated sheet comprising release film Anti-reflection layer obtained in step iv) A laminated sheet composed of 1 / dye-containing pressure-sensitive adhesive layer 2 / impact resistant layer 5 / pressure-sensitive adhesive layer 4 / release film is disposed in the first paper feeding unit 21. On the other hand, what wound up the lamination sheet which consists of a release film / near-infrared absorption layer 3 / release film in the 2nd paper supply part 22 is arrange | positioned. Next, while feeding a laminated sheet composed of the antireflection layer 1 / dye-containing pressure-sensitive adhesive layer 2 / impact resistant layer 5 / pressure-sensitive adhesive layer 4 / release film from the first paper supply unit 21, the first release film is simultaneously removed. The film is wound on a release film winding roll 23. On the other hand, the laminated sheet composed of the release film / near infrared absorption layer 3 / release film is fed out from the second paper feed unit 22 and at the same time, the release film on one side is taken up on the take-up roll 24 and the first laminate unit 25 is taken up. 1, the sheets fed from the first sheet feeding unit 21 and the second sheet feeding unit 22 are laminated at a laminating pressure of about 3 kgf / m, and then laminated by the second laminating unit 26 at a laminating pressure of about 5 kgh / m. And it winds up by the winding roll 27, and obtains the lamination sheet which consists of an antireflection layer 1 / dye containing adhesive layer 2 / impact-resistant layer 5 / adhesive layer 4 / near infrared absorption layer 3 / release film.

vi) 反射防止層１／色素含有粘着剤層２／耐衝撃層５／粘着剤層４／近赤外線吸収層３／粘着剤層４／離型フィルムからなる積層シートの製造
前記ｖ) 工程で得られた反射防止層１／色素含有粘着剤層２／耐衝撃層５／粘着剤層４／近赤外線吸収層３／離型フィルムからなる積層シートを第１給紙部２１に配置する。一方、第２給紙部２２に離型フィルム／粘着剤層４／離型フィルムからなる積層シートを巻き取ったものを配置する。次いで、第１給紙部２１から、反射防止層１／色素含有粘着剤層２／耐衝撃層５／粘着剤層４／近赤外線吸収層３／離型フィルムからなる積層シートを繰り出しながら、同時に離型フィルムを第１離型フィルム巻取りロール２３に巻き取る。一方、第２給紙部２２から離型フィルム／粘着剤層４／離型フィルムからなる積層シートを繰り出すと同時に一側の離型フィルムを巻取りロール２４に巻取り、第１ラミネートユニット２５において、第１給紙部２１及び第２給紙部２２から繰り出された各シートを約３ｋｇｆ／ｍのラミネート圧でラミネートし、次いで、第２ラミネートユニット２６で約５ｋｇｈ／ｍのラミネート圧でラミネートして、巻取りロール２７に巻き取って、反射防止層１／色素含有粘着剤層２／耐衝撃層５／粘着剤層４／近赤外線吸収層３／粘着剤層４／離型フィルムからなる積層シートを得る。 vi) Manufacture of laminated sheet consisting of antireflection layer 1 / dye-containing adhesive layer 2 / impact resistant layer 5 / adhesive layer 4 / near infrared absorbing layer 3 / adhesive layer 4 / release film obtained in step v) The laminated sheet composed of the antireflection layer 1 / dye-containing pressure-sensitive adhesive layer 2 / impact resistant layer 5 / pressure-sensitive adhesive layer 4 / near infrared absorbing layer 3 / release film is disposed in the first paper feeding unit 21. On the other hand, what wound up the lamination sheet which consists of a release film / adhesive layer 4 / release film in the 2nd paper supply part 22 is arrange | positioned. Next, while feeding the laminated sheet composed of the antireflection layer 1 / dye-containing adhesive layer 2 / impact resistant layer 5 / adhesive layer 4 / near infrared absorbing layer 3 / release film from the first paper feeding unit 21, The release film is wound around the first release film winding roll 23. On the other hand, a laminate sheet composed of the release film / adhesive layer 4 / release film is fed out from the second paper feed unit 22 and at the same time, the release film on one side is taken up on a take-up roll 24. Each sheet fed from the first sheet feeding unit 21 and the second sheet feeding unit 22 is laminated with a lamination pressure of about 3 kgf / m, and then laminated with a lamination pressure of about 5 kgh / m in the second laminating unit 26. Then, the film is wound on a take-up roll 27 and is composed of an antireflection layer 1 / dye-containing pressure-sensitive adhesive layer 2 / impact resistant layer 5 / pressure-sensitive adhesive layer 4 / near infrared absorption layer 3 / pressure-sensitive adhesive layer 4 / release film. Get a sheet.

vii) 反射防止層１／色素含有粘着剤層２／耐衝撃層５／粘着剤層４／近赤外線吸収層３／粘着剤層４／電磁波遮蔽層６からなる積層シートの製造
前記ｖi)工程で得られた反射防止層１／色素含有粘着剤層２／耐衝撃層５／粘着剤層 ４／近赤外線吸収層３／粘着剤層４／離型フィルムからなる積層シートを第１給紙部２１に配置する。一方、第２給紙部２２に電磁波遮蔽層６のシートを巻き取ったものを配置する。次いで、第１給紙部２１から、反射防止層１／色素含有粘着剤層２／耐衝撃層５／粘着剤層４／近赤外線吸収層３／粘着剤層４／離型フィルムからなる積層シートを繰り出しながら、同時に離型フィルムを第１離型フィルム巻取りロール２３に巻き取る。一方、第２給紙部２２から電磁波遮蔽層６のシートを繰り出し、第１ラミネートユニット２５において、第１給紙部２１及び第２給紙部２２から繰り出された各シートを約３ｋｇｆ／ｍのラミネート圧でラミネートし、次いで、第２ラミネートユニット２６で約５ｋｇｈ／ｍのラミネート圧でラミネートして、巻取りロール２７に巻き取って、反射防止層１／色素含有粘着剤層２／耐衝撃層５／粘着剤層４／近赤外線吸収層３／粘着剤層４／電磁波遮蔽層６からなる積層シートを得る。 vii) Production of laminated sheet comprising antireflection layer 1 / dye-containing adhesive layer 2 / impact resistant layer 5 / adhesive layer 4 / near infrared absorbing layer 3 / adhesive layer 4 / electromagnetic wave shielding layer 6 In the step vi) The obtained antireflection layer 1 / dye-containing pressure-sensitive adhesive layer 2 / impact resistant layer 5 / pressure-sensitive adhesive layer 4 / near-infrared absorbing layer 3 / pressure-sensitive adhesive layer 4 / release film is laminated sheet 1 To place. On the other hand, a sheet in which the electromagnetic wave shielding layer 6 is wound is disposed on the second sheet feeding unit 22. Next, a laminated sheet comprising an antireflection layer 1 / dye-containing adhesive layer 2 / impact resistant layer 5 / adhesive layer 4 / near infrared absorbing layer 3 / adhesive layer 4 / release film from the first paper feeding unit 21 At the same time, the release film is wound around the first release film take-up roll 23. On the other hand, the sheet of the electromagnetic wave shielding layer 6 is fed out from the second paper feeding unit 22, and in the first laminating unit 25, each sheet fed out from the first paper feeding unit 21 and the second paper feeding unit 22 is about 3 kgf / m. Lamination is performed at a laminating pressure, and then the second laminating unit 26 is laminated at a laminating pressure of about 5 kgh / m, and is wound around a take-up roll 27 to be anti-reflective layer 1 / dye-containing pressure-sensitive adhesive layer 2 / impact resistant layer. A laminated sheet composed of 5 / adhesive layer 4 / near infrared absorption layer 3 / adhesive layer 4 / electromagnetic wave shielding layer 6 is obtained.

viii) 反射防止層１／色素含有粘着剤層２／耐衝撃層５／粘着剤層４／近赤外線吸収層３／粘着剤層４／電磁波遮蔽層６／粘着剤層４／離型フィルムからなる積層シートの製造
前記ｖii) 工程で得られた反射防止層１／色素含有粘着剤層２／耐衝撃層５／粘着剤層４／近赤外線吸収層３／粘着剤層４／電磁波遮蔽層６からなる積層シートを第１給紙部２１に配置する。一方、第２給紙部２２に離型フィルム／粘着剤層４／離型フィルムからなる積層シートを巻き取ったものを配置する。次いで、第１給紙部２１から、反射防止層１／色素含有粘着剤層２／耐衝撃層５／粘着剤層４／近赤外線吸収層３／粘着剤層４／電磁波遮蔽層６からなる積層シートを繰り出す。一方、第２給紙部２２から離型フィルム／粘着剤層４／離型フィルムからなる積層シートを繰り出すと同時に一側の離型フィルムを巻取りロール２４に巻取り、第１ラミネートユニット２５において、第１給紙部２１及び第２給紙部２２から繰り出された各シートを約３ｋｇｆ／ｍのラミネート圧でラミネートし、次いで、第２ラミネートユニット２６で約５ｋｇｈ／ｍのラミネート圧でラミネートして、巻取りロール２７に巻き取って、反射防止層１／色素含有粘着剤層２／耐衝撃層５／粘着剤層４／近赤外線吸収層３／粘着剤層４／電磁波遮蔽層６／粘着剤層４／離型フィルムからなる積層シートを得る。 viii) Antireflection layer 1 / dye-containing pressure-sensitive adhesive layer 2 / impact resistant layer 5 / pressure-sensitive adhesive layer 4 / near-infrared absorbing layer 3 / pressure-sensitive adhesive layer 4 / electromagnetic wave shielding layer 6 / pressure-sensitive adhesive layer 4 / release film Production of laminated sheet From the antireflection layer 1 / dye-containing adhesive layer 2 / impact resistant layer 5 / adhesive layer 4 / near infrared absorbing layer 3 / adhesive layer 4 / electromagnetic wave shielding layer 6 obtained in the step vii) The laminated sheet is arranged in the first paper feed unit 21. On the other hand, what wound up the lamination sheet which consists of a release film / adhesive layer 4 / release film in the 2nd paper supply part 22 is arrange | positioned. Next, from the first paper feeding unit 21, a laminate composed of an antireflection layer 1 / dye-containing pressure-sensitive adhesive layer 2 / impact resistant layer 5 / pressure-sensitive adhesive layer 4 / near infrared absorption layer 3 / pressure-sensitive adhesive layer 4 / electromagnetic wave shielding layer 6. Feed out the sheet. On the other hand, a laminate sheet composed of the release film / adhesive layer 4 / release film is fed out from the second paper feed unit 22 and at the same time, the release film on one side is taken up on a take-up roll 24. Each sheet fed from the first sheet feeding unit 21 and the second sheet feeding unit 22 is laminated with a lamination pressure of about 3 kgf / m, and then laminated with a lamination pressure of about 5 kgh / m in the second laminating unit 26. The anti-reflection layer 1 / the dye-containing pressure-sensitive adhesive layer 2 / the impact resistant layer 5 / the pressure-sensitive adhesive layer 4 / the near-infrared absorbing layer 3 / the pressure-sensitive adhesive layer 4 / the electromagnetic wave shielding layer 6 / the pressure-sensitive adhesive A laminated sheet consisting of the agent layer 4 / release film is obtained.

上記工程で得られた光学フィルタの残りのもう一方の離型フィルムを剥がし、露出した粘着剤層４側をプラズマディスプレイパネル７の表面に貼付する。   The remaining other release film of the optical filter obtained in the above process is peeled off, and the exposed adhesive layer 4 side is attached to the surface of the plasma display panel 7.

ｉ) 離型フィルム／耐衝撃層／離型フィルムからなる積層シートの製造
図２６の押出ラミネート機を用いて、離型性のあるＰＥＴフィルムとして東洋紡Ｅ−７００２（商品名、東洋紡株式会社製）の間に、ビニルアセテート（ＶＡ：略語）含有率が２８質量％のエチレンビニルアセテート（Ｕｌｔｒｈｅｎｅ７１０：商品名、東ソー（株）製）に、結晶化核剤としてソルビトール系化合物（IRGACLEA DM ：商品名、チバ・スペシャルティ・ケミカルズ株式会社製、ジパラメチルジベンジリデンソルビトール）を耐衝撃層として挟み込んで積層して耐衝撃層の厚みを１．５ｍｍにした。これとは別に、結晶化核剤としてリン酸系化合物（ADK STAB NA-11：商品名、旭電化工業株式会社製）を使用して、上記製造と同様にして耐衝撃層を形成した。また、これとは別に、結晶化核剤を使用しないで、上記製造と同様にして耐衝撃層を形成し、対照の積層体とした。このようにして３種類の積層体を得た。 i) Production of laminated sheet composed of release film / impact resistant layer / release film Toyobo E-7002 (trade name, manufactured by Toyobo Co., Ltd.) as a PET film having releasability using the extrusion laminator of FIG. In between, ethylene vinyl acetate having a vinyl acetate (VA: abbreviation) content of 28% by mass (Ultrhene 710: trade name, manufactured by Tosoh Corporation), a sorbitol compound (IRGACLEA DM: trade name, Ciba Specialty Chemicals Co., Ltd., diparamethyldibenzylidene sorbitol) was sandwiched and laminated as an impact resistant layer, and the thickness of the impact resistant layer was 1.5 mm. Separately, an impact resistant layer was formed in the same manner as in the above production using a phosphoric acid compound (ADK STAB NA-11: trade name, manufactured by Asahi Denka Kogyo Co., Ltd.) as a crystallization nucleating agent. Separately from this, an impact resistant layer was formed in the same manner as in the above production without using a crystallization nucleating agent, and a control laminate was obtained. In this way, three types of laminates were obtained.

ii) 反射防止層／色素含有粘着剤層／離型フィルムからなる積層シートの製造
図２７のラミネート機を用い、第１給紙部２１に、反射防止フィルムとしてリアルック８２００ＵＶ（商品名、日本油脂製、膜厚８０μｍのトリアセチルセルロースフィルム／厚み５μｍのＡＲ層／厚み４０μｍの保護フィルムからなる積層フィルム）を巻き出し可能に配置した。 ii) Manufacture of laminated sheet consisting of antireflection layer / dye-containing pressure-sensitive adhesive layer / release film Using the laminating machine shown in FIG. 27, the first paper feeding unit 21 is coated with Realak 8200UV (trade name, manufactured by NOF Corporation). 80 μm thick triacetyl cellulose film / 5 μm thick AR layer / laminated film composed of 40 μm thick protective film) were arranged so as to be unwound.

離型フィルム／色素含有粘着剤層／離型フィルムからなる積層シートを次のようにして作製した。色素含有粘着剤層を形成するための色素含有粘着剤には、ｎ−ブチルアクリレート７８．４質量％、２エチルヘキシルアクリレート１９．６質量％、およびアクリル酸２．０質量％を共重合させて得たアクリル酸エステル共重合体を熔融撹拌した後、染料（三井化学（株）製 商品名”ＰＳブルーＢＮ”０．０００１質量％、ネオン吸収化合剤（旭電化（株）製 商品名 ＴＹ−１０２）０．００１３質量％を加えたものを用いた。該色素含有粘着剤を、離型性のあるＰＥＴフィルムの東洋紡Ｅ−７００２（商品名、東洋紡株式会社製）上にダイコート法にて塗工した。この後、塗工面に離型性のあるフィルムの東洋紡Ｅ−７００２（商品名、東洋紡株式会社製）をラミネートすることにより、離型フィルム／色素含有粘着剤層／離型フィルムからなる積層シートを得た。   A laminated sheet comprising a release film / dye-containing pressure-sensitive adhesive layer / release film was prepared as follows. The dye-containing pressure-sensitive adhesive for forming the dye-containing pressure-sensitive adhesive layer is obtained by copolymerizing 78.4% by mass of n-butyl acrylate, 19.6% by mass of 2-ethylhexyl acrylate, and 2.0% by mass of acrylic acid. After the acrylic ester copolymer was melted and stirred, the dye (trade name “PS Blue BN” manufactured by Mitsui Chemicals Co., Ltd.) 0.0001% by mass, neon absorption compound (trade name TY-102 manufactured by Asahi Denka Co., Ltd.) The pigment-containing pressure-sensitive adhesive was coated on a Toyobo E-7002 (trade name, manufactured by Toyobo Co., Ltd.), a releasable PET film, by a die coating method. Thereafter, a release film / dye-containing pressure-sensitive adhesive layer / release film is laminated by laminating a release film Toyobo E-7002 (trade name, manufactured by Toyobo Co., Ltd.) on the coated surface. Was obtained Ranaru laminated sheet.

図２７のラミネート機の第２給紙部２２に前記工程で得られた離型フィルム／色素含有粘着剤層／離型フィルムからなる積層シートを巻き取ったものを巻きだし可能に配置した。   In the second paper feeding section 22 of the laminating machine shown in FIG. 27, the laminated sheet made up of the release film / dye-containing pressure-sensitive adhesive layer / release film obtained in the above-described step was disposed so as to be unwound.

次いで、第１給紙部２１から、反射防止層１を繰り出しながら、一方、第２給紙部２２から離型フィルム／色素含有粘着剤層／離型フィルムからなる積層シートを繰り出すと同時に一側の離型フィルム巻取りロール２４に巻取り、反射防止層と、色素含有粘着剤層／離型フィルムからなるシートを第１ラミネートニユット２５で約３ｋｇｆ／ｍのラミネート圧でラミネートし、次いで、第２ラミネートユニット２６で約５ｋｇｈ／ｍのラミネート圧でラミネートして、巻取りロール２７に巻き取って、反射防止層／色素含有粘着剤層／離型フィルムからなる積層シートを得た。   Next, while feeding out the antireflection layer 1 from the first paper feed unit 21, on the other hand, a laminated sheet composed of a release film / dye-containing pressure-sensitive adhesive layer / release film is fed out from the second paper feed unit 22 at the same time. The release film winding roll 24 is wound up, the antireflection layer and the sheet comprising the dye-containing pressure-sensitive adhesive layer / release film are laminated in the first laminate unit 25 at a lamination pressure of about 3 kgf / m, Lamination was performed at a lamination pressure of about 5 kgh / m in the second laminating unit 26, and the film was taken up on a take-up roll 27 to obtain a laminated sheet composed of an antireflection layer / dye-containing pressure-sensitive adhesive layer / release film.

iii) 反射防止層／色素含有粘着剤層／耐衝撃層／離型フィルムからなる積層シートの製造
前記ii）工程で得られた反射防止層／色素含有粘着剤層／離型フィルムからなる積層シートを第１給紙部２１に配置した。一方、第２給紙部２２に前記工程ｉ）で得られた離型フィルム／耐衝撃層／離型フィルムからなる積層シートを巻き取ったものを配置した。次いで、第１給紙部から、反射防止層／色素含有粘着剤層／離型フィルムからなる積層シートを繰り出しながら、同時に離型フィルムを第１離型フィルム巻取りロール２３に巻き取った。一方、第２給紙部２２から離型フィルム／耐衝撃層／離型フィルムからなる積層シートを繰り出すと同時に一側の離型フィルムを巻取りロール２４に巻取り、第１ラミネートユニット２５において、第１給紙部２１及び第２給紙部２２から繰り出された各シートを約３ｋｇｆ／ｍのラミネート圧でラミネートし、次いで、第２ラミネートユニット２６で約５ｋｇｈ／ｍのラミネート圧でラミネートして、巻取りロール２７に巻き取って、反射防止層／色素含有粘着剤層／耐衝撃層／離型フィルムからなる積層シートを得た。 iii) Production of laminated sheet comprising antireflection layer / dye-containing pressure-sensitive adhesive layer / impact resistant layer / release film Laminated sheet comprising anti-reflective layer / dye-containing pressure-sensitive adhesive layer / release film obtained in step ii) Is disposed in the first paper feed unit 21. On the other hand, what wound up the lamination sheet which consists of a release film / impact-resistant layer / release film obtained at the said process i) to the 2nd paper supply part 22 was arrange | positioned. Next, the release film was wound around the first release film take-up roll 23 at the same time while the laminated sheet consisting of the antireflection layer / dye-containing pressure-sensitive adhesive layer / release film was fed out from the first paper feed unit. On the other hand, the laminated sheet composed of the release film / impact-resistant layer / release film is fed out from the second paper feeding unit 22 and at the same time the release film on one side is taken up on the take-up roll 24. Each sheet fed from the first sheet feeding unit 21 and the second sheet feeding unit 22 is laminated at a laminating pressure of about 3 kgf / m, and then laminated by the second laminating unit 26 at a laminating pressure of about 5 kgh / m. Then, the film was wound on a winding roll 27 to obtain a laminated sheet composed of an antireflection layer / dye-containing pressure-sensitive adhesive layer / impact resistant layer / release film.

iv) 反射防止層／色素含有粘着剤層／耐衝撃層／粘着剤層／離型フィルムからなる積層シートの製造
前記iii)工程で得られた反射防止層／色素含有粘着剤層／耐衝撃層／離型フィルムからなる積層シートを第１給紙部２１に配置した。一方、第２給紙部２２に離型フィルム／粘着剤層／離型フィルムからなる積層シートを巻き取ったものを配置した。離型フィルム／粘着剤層／離型フィルムからなる積層シートには、ＰＥＴフィルム製セパレータ（Ｕ４２６：商品名、東レ（株）製、厚み８０μｍ）／粘着剤層（ＣＳ−９６１１：商品名、日東電工（株）製）／ＰＥＴフィルム製セパレータ（Ｕ４２６：商品名、東レ（株）製、厚み８０μｍ）からなる粘着シートを用いた。 iv) Production of laminated sheet consisting of antireflection layer / dye-containing pressure-sensitive adhesive layer / impact-resistant layer / pressure-sensitive adhesive layer / release film Antireflection layer / dye-containing pressure-sensitive adhesive layer / impact-resistant layer obtained in step iii) / A laminated sheet made of a release film was placed in the first paper feed unit 21. On the other hand, what wound up the lamination sheet which consists of a release film / adhesive layer / release film in the 2nd paper supply part 22 was arrange | positioned. The laminated sheet consisting of a release film / adhesive layer / release film has a PET film separator (U426: trade name, manufactured by Toray Industries, Inc., thickness 80 μm) / adhesive layer (CS-9611: trade name, Nitto). A pressure-sensitive adhesive sheet made of a separator manufactured by Denko Co., Ltd./PET film separator (U426: trade name, manufactured by Toray Industries, Inc., thickness 80 μm) was used.

次いで、第１給紙部２１から、反射防止層／色素含有粘着剤層／耐衝撃層／離型フィルムからなる積層シートを繰り出しながら、同時に離型フィルムを第１離型フィルム巻取りロール２３に巻き取った。一方、第２給紙部２２から離型フィルム／粘着剤層／離型フィルムからなる積層シートを繰り出すと同時に一側の離型フィルムを巻取りロール２４に巻取り、第１ラミネートユニット２５において、第１給紙部２１及び第２給紙部２２から繰り出された各シートを約３ｋｇｆ／ｍのラミネート圧でラミネートし、次いで、第２ラミネートユニット２６で約５ｋｇｈ／ｍのラミネート圧でラミネートして、巻取りロール２７に巻き取って、反射防止層／色素含有粘着剤層／耐衝撃層／粘着剤層／離型フィルムからなる積層シートを得た。   Next, while feeding the laminated sheet composed of the antireflection layer / dye-containing pressure-sensitive adhesive layer / impact resistant layer / release film from the first paper feeding unit 21, the release film is simultaneously applied to the first release film take-up roll 23. Winded up. On the other hand, the laminate sheet composed of the release film / adhesive layer / release film is fed out from the second paper supply unit 22 and simultaneously the one-side release film is taken up on the take-up roll 24. Each sheet fed from the first sheet feeding unit 21 and the second sheet feeding unit 22 is laminated at a laminating pressure of about 3 kgf / m, and then laminated by the second laminating unit 26 at a laminating pressure of about 5 kgh / m. Then, the film was wound on a winding roll 27 to obtain a laminated sheet composed of an antireflection layer / dye-containing pressure-sensitive adhesive layer / impact resistant layer / pressure-sensitive adhesive layer / release film.

ｖ) 反射防止層／色素含有粘着剤層／耐衝撃層／粘着剤層／近赤外線吸収層／離型フィルムからなる積層シートの製造
前記iv) 工程で得られた反射防止層／色素含有粘着剤層／耐衝撃層／粘着剤層／離型フィルムからなる積層シートを第１給紙部２１に配置した。一方、第２給紙部２２に離型フィルム／近赤外線吸収層／離型フィルムからなる積層シートを巻き取ったものを配置した。離型フィルム／近赤外線吸収層／離型フィルムからなる積層シートは、次のようにして作製した。近赤外線吸収層を形成するための組成物には、近赤外線吸収剤０．０１５質量％（日本触媒（株）製 商品名”イーエクスカラー”ＴＸ−ＥＸ−８０５Ｋ）をメチルエチルケトン：トルエンが１：１の混合溶液に溶解させ、この後、アクリル系バインダーであるＢＲ−８０（商品名、三菱レーヨン（株）製）を２０質量％となるように溶解させたものを用い、該近赤外線吸収層形成用組成物を離型性のあるＰＥＴフィルムの東洋紡Ｅ−７００２（商品名、東洋紡株式会社製）上にダイコート法にて塗工した。この後、塗工面に離型性のあるフィルムの東洋紡Ｅ−７００２（商品名、東洋紡株式会社製）をラミネートすることにより、離型フィルム／近赤外線吸収層／離型フィルムからなる積層シートを得た。 v) Production of laminated sheet comprising antireflection layer / dye-containing adhesive layer / impact resistant layer / adhesive layer / near infrared absorbing layer / release film Antireflection layer / dye-containing adhesive obtained in step iv) A laminated sheet composed of a layer / impact resistant layer / adhesive layer / release film was disposed in the first paper feeding unit 21. On the other hand, what wound up the lamination sheet which consists of a release film / near-infrared absorption layer / release film in the 2nd paper supply part 22 was arrange | positioned. A laminated sheet comprising a release film / near infrared absorption layer / release film was prepared as follows. The composition for forming the near-infrared absorption layer includes 0.015% by mass of a near-infrared absorber (trade name “EEX Color” TX-EX-805K, manufactured by Nippon Shokubai Co., Ltd.) and methyl ethyl ketone: toluene 1: 1 and then dissolved in BR-80 (trade name, manufactured by Mitsubishi Rayon Co., Ltd.) as an acrylic binder so as to be 20% by mass. The forming composition was coated on a Toyobo E-7002 (trade name, manufactured by Toyobo Co., Ltd.), a PET film having releasability, by a die coating method. Thereafter, a laminate sheet composed of a release film / near-infrared absorbing layer / release film is obtained by laminating a release film Toyobo E-7002 (trade name, manufactured by Toyobo Co., Ltd.) on the coated surface. It was.

次いで、第１給紙部２１から、反射防止層／色素含有粘着剤層／耐衝撃層／粘着剤層／離型フィルムからなる積層シートを繰り出しながら、同時に離型フィルムを第１離型フィルム巻取りロール２３に巻き取った。一方、第２給紙部２２から離型フィルム／近赤外線吸収層／離型フィルムからなる積層シートを繰り出すと同時に一側の離型フィルムを巻取りロール２４に巻取り、第１ラミネートユニット２５において、第１給紙部２１及び第２給紙部２２から繰り出された各シートを約３ｋｇｆ／ｍのラミネート圧でラミネートし、次いで、第２ラミネートユニット２６で約５ｋｇｈ／ｍのラミネート圧でラミネートして、巻取りロール２７に巻き取って、反射防止層／色素含有粘着剤層／耐衝撃層／粘着剤層／近赤外線吸収層／離型フィルムからなる積層シートを得た。   Next, while a laminated sheet composed of an antireflection layer / dye-containing pressure-sensitive adhesive layer / impact resistant layer / pressure-sensitive adhesive layer / release film is fed out from the first paper feeding unit 21, the release film is simultaneously wound on the first release film roll. It was wound up on a take-up roll 23. On the other hand, a laminate sheet composed of a release film / near-infrared absorbing layer / release film is fed out from the second paper feed unit 22 and at the same time, the release film on one side is taken up on a take-up roll 24. Each sheet fed from the first sheet feeding unit 21 and the second sheet feeding unit 22 is laminated with a lamination pressure of about 3 kgf / m, and then laminated with a lamination pressure of about 5 kgh / m in the second laminating unit 26. Then, the film was wound on a winding roll 27 to obtain a laminated sheet comprising an antireflection layer / dye-containing pressure-sensitive adhesive layer / impact resistant layer / pressure-sensitive adhesive layer / near infrared absorbing layer / release film.

vi) 反射防止層／色素含有粘着剤層／耐衝撃層／粘着剤層／近赤外線吸収層／粘着剤層／離型フィルムからなる積層シートの製造
前記ｖ) 工程で得られた反射防止層／色素含有粘着剤層／耐衝撃層／粘着剤層／近赤外線吸収層／離型フィルムからなる積層シートを第１給紙部２１に配置した。一方、第２給紙部２２に離型フィルム／粘着剤層／離型フィルムからなる積層シートを巻き取ったものを配置した。該離型フィルム／粘着剤層／離型フィルムからなる積層シートは、前記工程iv）で用いたものと同じものを用いた。次いで、第１給紙部２１から、反射防止層／色素含有粘着剤層／耐衝撃層／粘着剤層／近赤外線吸収層／離型フィルムからなる積層シートを繰り出しながら、同時に離型フィルムを第１離型フィルム巻取りロール２３に巻き取った。一方、第２給紙部２２から離型フィルム／粘着剤層／離型フィルムからなる積層シートを繰り出すと同時に一側の離型フィルムを巻取りロール２４に巻取り、第１ラミネートユニット２５において、第１給紙部２１及び第２給紙部２２から繰り出された各シートを約３ｋｇｆ／ｍのラミネート圧でラミネートし、次いで、第２ラミネートユニット２６で約５ｋｇｈ／ｍのラミネート圧でラミネートして、巻取りロール２７に巻き取って、反射防止層／色素含有粘着剤層／耐衝撃層／粘着剤層／近赤外線吸収層／粘着剤層／離型フィルムからなる積層シートを得た。 vi) Production of laminated sheet consisting of antireflection layer / dye-containing adhesive layer / impact resistant layer / adhesive layer / near infrared absorbing layer / adhesive layer / release film Antireflection layer obtained in step v) / A laminated sheet composed of a dye-containing pressure-sensitive adhesive layer / impact resistant layer / pressure-sensitive adhesive layer / near infrared absorption layer / release film was disposed in the first paper feeding unit 21. On the other hand, what wound up the lamination sheet which consists of a release film / adhesive layer / release film in the 2nd paper supply part 22 was arrange | positioned. The laminated sheet consisting of the release film / adhesive layer / release film was the same as that used in step iv). Next, while releasing a laminated sheet consisting of an antireflection layer / dye-containing pressure-sensitive adhesive layer / impact resistant layer / pressure-sensitive adhesive layer / near infrared absorbing layer / release film from the first paper feeding unit 21, the release film is The film was wound on a 1 release film winding roll 23. On the other hand, the laminate sheet composed of the release film / adhesive layer / release film is fed out from the second paper supply unit 22 and simultaneously the one-side release film is taken up on the take-up roll 24. Each sheet fed from the first sheet feeding unit 21 and the second sheet feeding unit 22 is laminated at a laminating pressure of about 3 kgf / m, and then laminated by the second laminating unit 26 at a laminating pressure of about 5 kgh / m. Then, the film was wound on a winding roll 27 to obtain a laminated sheet composed of an antireflection layer / dye-containing pressure-sensitive adhesive layer / impact resistant layer / pressure-sensitive adhesive layer / near infrared absorbing layer / pressure-sensitive adhesive layer / release film.

vii) 反射防止層／色素含有粘着剤層／耐衝撃層／粘着剤層／近赤外線吸収層／粘着剤層／電磁波遮蔽層／離型フィルムからなる積層シートの製造
前記vi) 工程で得られた反射防止層／色素含有粘着剤層／耐衝撃層／粘着剤層／近赤外線吸収層／粘着剤層／離型フィルムからなる積層シートを第１給紙部２１に配置した。一方、第２給紙部２２に電磁波遮蔽層のシートを巻き取ったものを配置した。 vii) Production of laminated sheet comprising antireflection layer / dye-containing adhesive layer / impact resistant layer / adhesive layer / near infrared absorbing layer / adhesive layer / electromagnetic wave shielding layer / release film obtained in step vi) A laminated sheet composed of an antireflection layer / dye-containing pressure-sensitive adhesive layer / impact resistant layer / pressure-sensitive adhesive layer / near infrared absorption layer / pressure-sensitive adhesive layer / release film was disposed in the first paper feeding unit 21. On the other hand, what wound up the sheet | seat of the electromagnetic wave shielding layer in the 2nd paper supply part 22 was arrange | positioned.

片面がクロメート処理により黒化処理されている、銅箔（古川サーキットフォイール製、ＥＸＰ−ＷＳ：商品名、厚さ９μｍ）と、ポリエチレンテレフタレートフィルム（東洋紡績製 Ａ４３００ 厚み１００μｍ）とを、ウレタン系接着剤（Ｔｇ２０℃、平均分子量３万、酸価１、水酸基価９）にてドライラミネーション加工し貼り合わせた後、上記銅箔上にレジストを塗布後、露光、現像、エッチング、レジスト除去を行なうことにより３００μｍ□、線幅１０μｍの金属メッシュを形成することにより電磁波遮蔽フィルムを得た。なお、この際黒化処理面はプラズマディスプレイパネルが製造された場合、見る側（人間側）になるように設置するため、非貼り合わせ面側とした。   Copper foil (manufactured by Furukawa Circuit Foil, EXP-WS: product name, thickness 9 μm) and polyethylene terephthalate film (Toyobo A4300 thickness 100 μm), one side of which is blackened by chromate treatment, are urethane-based After dry lamination and bonding with an adhesive (Tg 20 ° C., average molecular weight 30,000, acid value 1, hydroxyl value 9), after applying a resist on the copper foil, exposure, development, etching, and resist removal are performed. Thus, an electromagnetic wave shielding film was obtained by forming a metal mesh of 300 μm □ and a line width of 10 μm. In this case, when the plasma display panel is manufactured, the blackened surface is set to be the viewing side (human side), and thus is set to the non-bonding surface side.

次いで、第１給紙部２１から、反射防止層／色素含有粘着剤層／耐衝撃層／粘着剤層／近赤外線吸収層／粘着剤層／離型フィルムからなる積層シートを繰り出しながら、同時に離型フィルムを第１離型フィルム巻取りロール２３に巻き取った。一方、第２給紙部２２から電磁波遮蔽層のシートを繰り出し、第１ラミネートユニット２５において、第１給紙部２１及び第２給紙部２２から繰り出された各シートを約３ｋｇｆ／ｍのラミネート圧でラミネートし、次いで、第２ラミネートユニット２６で約５ｋｇｈ／ｍのラミネート圧でラミネートし、巻取りロール２７に巻き取って、反射防止層／色素含有粘着剤層／耐衝撃層／粘着剤層／近赤外線吸収層／粘着剤層／電磁波遮蔽層からなる積層シートを得た。   Next, the first sheet feeding unit 21 is simultaneously released while feeding a laminated sheet composed of an antireflection layer / dye-containing adhesive layer / impact resistant layer / adhesive layer / near infrared absorption layer / adhesive layer / release film. The mold film was wound around the first release film winding roll 23. On the other hand, the sheet of the electromagnetic wave shielding layer is fed out from the second paper feeding unit 22, and in the first laminating unit 25, each sheet fed out from the first paper feeding unit 21 and the second paper feeding unit 22 is laminated by about 3 kgf / m. Laminating with pressure, then laminating with a laminating pressure of about 5 kgh / m in the second laminating unit 26, winding on a take-up roll 27, antireflection layer / dye-containing pressure-sensitive adhesive layer / impact resistant layer / pressure-sensitive adhesive layer A laminated sheet consisting of / near infrared absorbing layer / adhesive layer / electromagnetic wave shielding layer was obtained.

viii) 反射防止層／色素含有粘着剤層／耐衝撃層／粘着剤層／近赤外線吸収層／粘着剤層／電磁波遮蔽層／粘着剤層／離型フィルムからなる積層シートの製造
前記ｖii) 工程で得られた反射防止層／色素含有粘着剤層／耐衝撃層／粘着剤層／近赤外線吸収層／粘着剤層／電磁波遮蔽層からなる積層シートを第１給紙部２１に配置した。一方、第２給紙部２２に離型フィルム／粘着剤層／離型フィルムからなる積層シートを巻き取ったものを配置した。該離型フィルム／粘着剤層／離型フィルムからなる積層シートは、前記工程iv）で用いたものと同じものを用いた。次いで、第１給紙部２１から、反射防止層／色素含有粘着剤層／耐衝撃層／粘着剤層／近赤外線吸収層／粘着剤層／電磁波遮蔽層からなる積層シートを繰り出した。一方、第２給紙部２２から離型フィルム／粘着剤層／離型フィルムからなる積層シートを繰り出すと同時に一側の離型フィルムを巻取りロール２４に巻取り、第１ラミネートユニット２５において、第１給紙部２１及び第２給紙部２２から繰り出された各シートを約３ｋｇｆ／ｍのラミネート圧でラミネートし、次いで、第２ラミネートユニット２６で約５ｋｇｈ／ｍのラミネート圧でラミネートして、巻取りロール２７に巻き取って、反射防止層／色素含有粘着剤層／耐衝撃層／粘着剤層／近赤外線吸収層／粘着剤層／電磁波遮蔽層／粘着剤層／離型フィルムからなる各耐衝撃層の種類の異なる本実施例１の光学フィルタ２種と対照の光学フィルタ１種を得た。 viii) Production of Laminated Sheet Consisting of Antireflection Layer / Dye-Containing Adhesive Layer / Impact Resistant Layer / Adhesive Layer / Near Infrared Absorbing Layer / Adhesive Layer / Electromagnetic Wave Shielding Layer / Adhesive Layer / Releasing Film vii) Step The laminated sheet composed of the antireflection layer / dye-containing pressure-sensitive adhesive layer / impact resistant layer / pressure-sensitive adhesive layer / near-infrared absorbing layer / pressure-sensitive adhesive layer / electromagnetic wave shielding layer obtained in 1 above was disposed in the first paper feeding unit 21. On the other hand, what wound up the lamination sheet which consists of a release film / adhesive layer / release film in the 2nd paper supply part 22 was arrange | positioned. The laminated sheet consisting of the release film / adhesive layer / release film was the same as that used in step iv). Next, a laminated sheet composed of an antireflection layer / dye-containing pressure-sensitive adhesive layer / impact resistant layer / pressure-sensitive adhesive layer / near infrared absorption layer / pressure-sensitive adhesive layer / electromagnetic wave shielding layer was fed out from the first paper feeding unit 21. On the other hand, the laminate sheet composed of the release film / adhesive layer / release film is fed out from the second paper supply unit 22 and simultaneously the one-side release film is taken up on the take-up roll 24. Each sheet fed from the first sheet feeding unit 21 and the second sheet feeding unit 22 is laminated at a laminating pressure of about 3 kgf / m, and then laminated by the second laminating unit 26 at a laminating pressure of about 5 kgh / m. The film is wound on a take-up roll 27 and consists of an antireflection layer / dye-containing pressure-sensitive adhesive layer / impact resistant layer / pressure-sensitive adhesive layer / near-infrared absorbing layer / pressure-sensitive adhesive layer / electromagnetic wave shielding layer / pressure-sensitive adhesive layer / release film. Two types of optical filters of Example 1 and one type of control optical filter were obtained, each having a different type of impact-resistant layer.

内部ヘーズの変化
得られた３種類の耐衝撃層付光学フィルタの耐衝撃層のヘーズ（内部ヘーズ）は、５．４％（結晶化核剤を用いないもの）、２．６％（ソルビトール系結晶化核剤を用いたもの）、２．７％（リン酸系結晶化核剤を用いたもの）であった。内部ヘーズとは耐衝撃層のみのヘーズをいう。また、８０℃絶乾、１０００時間後の内部ヘーズ値は、１０．１％（結晶化核剤を用いないもの）、３．０％（ソルビトール系結晶化核剤を用いたもの）、３．０％（リン酸系結晶化核剤を用いたもの）であった。また、６０℃、湿度９５％、１０００時間後の内部ヘーズ値は、６．２％（結晶化核剤を用いないもの）、２．９％（ソルビトール系結晶化核剤を用いたもの）、２．８％（リン酸系結晶化核剤を用いたもの）であった。その結果を下記の表１に示す。 Changes in internal haze The haze (internal haze) of the impact resistant layer of the three types of optical filters with impact resistant layers obtained was 5.4% (without using a crystallization nucleating agent), 2.6% (sorbitol-based) 2.7% (one using a crystallization nucleating agent). The internal haze refers to a haze having only an impact resistant layer. Further, the internal haze value after absolutely dry at 80 ° C. and 1000 hours is 10.1% (one not using a crystallization nucleating agent), 3.0% (one using a sorbitol crystallization nucleating agent); 0% (using a phosphoric acid crystallization nucleating agent). In addition, the internal haze value after 1000 hours at 60 ° C., humidity 95% is 6.2% (without using a crystallization nucleating agent), 2.9% (using a sorbitol crystallization nucleating agent), It was 2.8% (using a phosphoric acid crystallization nucleating agent). The results are shown in Table 1 below.

ショワーＡ硬度
前記工程で得られた積層体の耐衝撃層のショワーＡ硬度は、何れも９０未満であった。その結果を下記の表１に示す。 Shower A hardness The Shore A hardness of the impact-resistant layer of the laminate obtained in the above step was less than 90. The results are shown in Table 1 below.

プラズマディスプレイパネルの製造
次に、プラズマディスプレイパネルの前面に上記工程で得られた耐衝撃層付光学フィルタを貼付け、３種類のプラズマディスプレイパネルを得た。 Manufacture of Plasma Display Panel Next, the optical filter with an impact-resistant layer obtained in the above process was attached to the front surface of the plasma display panel to obtain three types of plasma display panels.

プラズマディスプレイパネルの性状
本実施例１で得られた耐衝撃層付光学フィルタの視感度平均反射率は、０．８％であった。また、本実施例１で得られたプラズマディスプレイパネルは気泡の発生や、フィルタの剥離は無かった。本実施例１の耐衝撃層付光学フィルタの近赤外線遮蔽性能は、８００〜１２００ｎｍの波長において８５％以上であり、また、ネオン光遮断性能は、５８７ｎｍの波長において４０％以下であった。 Properties of Plasma Display Panel The visual sensitivity average reflectance of the optical filter with an impact-resistant layer obtained in Example 1 was 0.8%. In addition, the plasma display panel obtained in Example 1 did not generate bubbles or peel off the filter. The near-infrared shielding performance of the optical filter with an impact resistant layer of Example 1 was 85% or more at a wavelength of 800 to 1200 nm, and the neon light shielding performance was 40% or less at a wavelength of 587 nm.

衝撃試験
本実施例１で得られたプラズマディスプレイパネルについて、衝撃試験として図５に示す衝撃試験装置を用いて行い、高さ９．６ｃｍから直径５０．８ｍｍの鋼球１２（質量５３４ｇ）（ＪＩＳ Ｂ１５０１ 玉軸受用鋼球に規定されたもの）を落下させたときの、破壊エネルギーを測定した。 Impact Test The plasma display panel obtained in Example 1 was subjected to an impact test using the impact test apparatus shown in FIG. 5, and a steel ball 12 having a height of 9.6 cm to a diameter of 50.8 mm (mass 534 g) (JIS) B1501 was measured for breaking energy when dropped.

１）加熱試験及び加湿熱試験前
加熱試験及び加湿熱試験前のプラズマディスプレイパネルについて、結晶化核剤を用いない耐衝撃層の場合、衝撃試験による破壊エネルギーが０．６Ｊではプラズマディスプレイパネルが割れず、０．７Ｊで割れた。ソルビトール系結晶化核剤を用いた耐衝撃層の場合、０．５Ｊではプラズマディスプレイパネルが割れず、０．６Ｊで割れた。リン酸系結晶化核剤を用いた耐衝撃層の場合、０．８Ｊではプラズマディスプレイパネルが割れず、０．９Ｊで割れた。その結果を下記の表１に示す。 1) Before heating test and humidifying heat test For plasma display panels before heating test and humidifying heat test, in the case of an impact resistant layer that does not use a crystallization nucleating agent, the plasma display panel cracks when the fracture energy by the impact test is 0.6 J It cracked at 0.7J. In the case of an impact resistant layer using a sorbitol-based crystallization nucleating agent, the plasma display panel was not cracked at 0.5 J, but was cracked at 0.6 J. In the case of an impact resistant layer using a phosphoric acid-based crystallization nucleating agent, the plasma display panel was not cracked at 0.8 J, but was cracked at 0.9 J. The results are shown in Table 1 below.

２）加熱試験後
８０℃絶乾、１０００時間経過してなる加熱試験後のプラズマディスプレイパネルについて、結晶化核剤を用いない耐衝撃層の場合、ソルビトール系結晶化核剤を用いた耐衝撃層の場合、及びリン酸系結晶化核剤を用いた耐衝撃層の場合のいずれの場合も、衝撃試験による破壊エネルギーが０．５Ｊではプラズマディスプレイパネルが割れず、０．６Ｊで割れた。その結果を下記の表１に示す。 2) After the heat test For the plasma display panel after the heat test, which was completely dried at 80 ° C. for 1000 hours, in the case of an impact resistant layer without using a crystallization nucleating agent, an impact resistant layer using a sorbitol crystallization nucleating agent. In both cases, and in the case of an impact-resistant layer using a phosphoric acid-based crystallization nucleating agent, the plasma display panel was not cracked at a fracture energy of 0.5 J, but cracked at 0.6 J. The results are shown in Table 1 below.

３）加湿熱試験後
６０℃、湿度９５％、１０００時間経過してなる加湿熱試験後のプラズマディスプレイパネルについて、結晶化核剤を用いない耐衝撃層の場合、ソルビトール系結晶化核剤を用いた耐衝撃層の場合、及びリン酸系結晶化核剤を用いた耐衝撃層の場合のいずれの場合も、衝撃試験による破壊エネルギーが０．５Ｊではプラズマディスプレイパネルが割れず、０．６Ｊで割れた。その結果を下記の表１に示す。 3) After the humidification heat test 60 ° C, humidity 95%, plasma display panel after the humidification heat test after 1000 hours, in the case of an impact resistant layer that does not use a crystallization nucleating agent, use a sorbitol crystallization nucleating agent. In both the case of the impact-resistant layer and the case of the impact-resistant layer using a phosphoric acid-based crystallization nucleating agent, the plasma display panel does not break when the fracture energy by the impact test is 0.5 J, and 0.6 J cracked. The results are shown in Table 1 below.

前記実施例１の方法において、耐衝撃層を形成するための樹脂としてビニルアセテート含有率が３２質量％、エチレンビニルアセテート（Ｕｌｔｒｈｅｎｅ７５０：商品名、東ソー（株）製）を用いた以外は全て前記実施例１と同様にして、３種類の積層体、及び該積層体から製造した３種類の光学フィルタ及び、該光学フィルタを用いた３種類のプラズマディスプレイパネルを得た。   In the method of Example 1, all the above operations were performed except that vinyl acetate content was 32% by mass and ethylene vinyl acetate (Ultrhene 750: trade name, manufactured by Tosoh Corporation) was used as the resin for forming the impact resistant layer. In the same manner as in Example 1, three types of laminates, three types of optical filters manufactured from the laminates, and three types of plasma display panels using the optical filters were obtained.

得られた各積層体について、内部ヘーズを測定したところ、加熱試験及び加湿熱試験前の積層体の内部ヘーズは、結晶化核剤を用いない耐衝撃層の場合（対照）については６．４％と高く好ましくなかった。これに対して、ソルビトール系結晶化核剤を用いた耐衝撃層のヘーズ値２．６％、リン酸系結晶化核剤を用いた耐衝撃層のヘーズ値は２．８％であった。また、８０℃絶乾、１０００時間後の内部ヘーズ値は、結晶化核剤を用いない耐衝撃層については１１．２％と高くなり好ましくなかった。これに対して、ソルビトール系結晶化核剤を用いた耐衝撃層のヘーズ値は２．７％、リン酸系結晶化核剤を用いたものは２．９％と好ましい範囲であった。また、６０℃、湿度９５％、１０００時間後の内部ヘーズ値については、結晶化核剤を用いないものは７．４％と好ましくなく、一方、ソルビトール系結晶化核剤を用いたものは２．７％、リン酸系結晶化核剤を用いたものは２．９％と好ましい範囲であった。その結果を表１に示す。   When the internal haze was measured for each of the obtained laminates, the internal haze of the laminate before the heating test and the humidifying heat test was 6.4 in the case of the impact resistant layer not using a crystallization nucleating agent (control). %, Which is not preferable. In contrast, the haze value of the impact resistant layer using the sorbitol-based crystallization nucleating agent was 2.6%, and the haze value of the impact-resistant layer using the phosphoric acid-based crystallization nucleating agent was 2.8%. Further, the internal haze value after 1000 hours of absolutely dry at 80 ° C. was not preferable because it was as high as 11.2% for the impact resistant layer not using the crystallization nucleating agent. On the other hand, the haze value of the impact-resistant layer using the sorbitol crystallization nucleating agent was 2.7%, and that using the phosphoric acid crystallization nucleating agent was 2.9%, which was a preferable range. Also, the internal haze value after 1000 hours at 60 ° C., 95% humidity is not preferable at 7.4% without using a crystallization nucleating agent. Those using a phosphoric acid-based crystallization nucleating agent were 2.7%, which was a preferable range. The results are shown in Table 1.

得られた前記積層体の耐衝撃層のショワーＡ硬度は、何れも９０未満であった。その結果を下記の表１に示す。   The Shore A hardness of the impact resistant layer of the obtained laminate was less than 90. The results are shown in Table 1 below.

得られた各プラズマディスプレイパネルについて、衝撃試験を前記実施例１と同様にして行い、次の結果が得られた。   About each obtained plasma display panel, the impact test was done like the said Example 1, and the following result was obtained.

１）加熱試験及び加湿熱試験前
加熱試験及び加湿熱試験前のプラズマディスプレイパネルについて、結晶化核剤を用いない耐衝撃層の場合（対照）、ソルビトール系結晶化核剤を用いた耐衝撃層の場合、及びリン酸系結晶化核剤を用いた耐衝撃層の場合のいずれの場合も、衝撃試験による破壊エネルギーが０．６Ｊではプラズマディスプレイパネルが割れず、０．７Ｊで割れた。その結果を下記の表１に示す。 1) Before heating test and humidifying heat test For plasma display panels before heating test and humidifying heat test, in the case of an impact resistant layer that does not use a crystallization nucleating agent (control), an impact resistant layer that uses a sorbitol crystallization nucleating agent In both cases, and in the case of an impact-resistant layer using a phosphoric acid-based crystallization nucleating agent, the plasma display panel was not cracked at a fracture energy of 0.6 J, but cracked at 0.7 J. The results are shown in Table 1 below.

２）加熱試験後
８０℃絶乾、１０００時間経過してなる加熱試験後のプラズマディスプレイパネルについて、結晶化核剤を用いない耐衝撃層の場合（対照）、ソルビトール系結晶化核剤を用いた耐衝撃層の場合、及びリン酸系結晶化核剤を用いた耐衝撃層の場合のいずれの場合も、衝撃試験による破壊エネルギーが０．６Ｊではプラズマディスプレイパネルが割れず、０．７Ｊで割れた。その結果を下記の表１に示す。 2) After the heating test For the plasma display panel after the heating test, which was completely dried at 80 ° C. and after 1000 hours, in the case of an impact resistant layer not using a crystallization nucleating agent (control), a sorbitol crystallization nucleating agent was used. In both the impact-resistant layer and the impact-resistant layer using a phosphoric acid-based crystallization nucleating agent, the plasma display panel does not crack when the fracture energy by the impact test is 0.6 J, and cracks at 0.7 J. It was. The results are shown in Table 1 below.

３）加湿熱試験後
６０℃、湿度９５％、１０００時間経過してなる加湿熱試験後のプラズマディスプレイパネルについて、結晶化核剤を用いない耐衝撃層の場合（対照）、ソルビトール系結晶化核剤を用いた耐衝撃層の場合、及びリン酸系結晶化核剤を用いた耐衝撃層の場合のいずれの場合も、衝撃試験による破壊エネルギーが０．６Ｊではプラズマディスプレイパネルが割れず、０．７Ｊで割れた。その結果を下記の表１に示す。 3) After the humidification heat test For the plasma display panel after the humidification heat test after 1000 hours at 60 ° C. and humidity of 95%, in the case of an impact resistant layer that does not use a crystallization nucleating agent (control), a sorbitol-based crystallization nucleus In both the case of the impact-resistant layer using the agent and the case of the impact-resistant layer using the phosphoric acid-based crystallization nucleating agent, the plasma display panel does not break when the fracture energy by the impact test is 0.6 J. Cracked at 7J. The results are shown in Table 1 below.

本実施例２で得られた耐衝撃層付光学フィルタの反射防止性能は、０．５％であった。また、本実施例２で得られたプラズマディスプレイパネルは気泡の発生や、フィルタの剥離は無かった。本実施例２の耐衝撃層付光学フィルタの近赤外線遮蔽性能は、８００〜１２００ｎｍの波長において８５％以上であり、また、ネオン光遮断性能は、５８７ｎｍの波長において４０％以下であった。   The antireflection performance of the optical filter with an impact resistant layer obtained in Example 2 was 0.5%. The plasma display panel obtained in Example 2 did not generate bubbles or peel off the filter. The near-infrared shielding performance of the optical filter with an impact resistant layer of Example 2 was 85% or more at a wavelength of 800 to 1200 nm, and the neon light shielding performance was 40% or less at a wavelength of 587 nm.

［比較例１］
前記実施例１の方法において、耐衝撃層を形成するための樹脂としてビニルアセテート含有率が１０質量％のエチレンビニルアセテート（Ｕｌｔｒｈｅｎｅ５４１：商品名、東ソー（株）製）を用いた以外は全て前記実施例１と同様にして、３種類の積層体、及び該積層体から製造した３種類の光学フィルタ及び、該光学フィルタを用いた３種類のプラズマディスプレイパネルを得た。 [Comparative Example 1]
In the method of Example 1, all of the above were performed except that ethylene vinyl acetate having a vinyl acetate content of 10% by mass (Ultrene 541: trade name, manufactured by Tosoh Corporation) was used as the resin for forming the impact resistant layer. In the same manner as in Example 1, three types of laminates, three types of optical filters manufactured from the laminates, and three types of plasma display panels using the optical filters were obtained.

得られた各積層体について、内部ヘーズを測定したところ、加熱試験及び加湿熱試験前の積層体の内部ヘーズは、結晶化核剤を用いない耐衝撃層の場合（対照）については７．２％、ソルビトール系結晶化核剤を用いた耐衝撃層のヘーズ値５．１％、リン酸系結晶化核剤を用いた耐衝撃層のヘーズ値は５．６％と全ての場合において高く好ましくなかった。また、８０℃絶乾、１０００時間後の内部ヘーズ値は、結晶化核剤を用いない耐衝撃層の場合（対照）については８．９％、ソルビトール系結晶化核剤を用いた耐衝撃層のヘーズ値は５．８％、リン酸系結晶化核剤を用いたものは６．１％と全ての場合において好ましくなかった。また、６０℃、湿度９５％、１０００時間後の内部ヘーズ値については、結晶化核剤を用いないもの（対照）は８．４％、ソルビトール系結晶化核剤を用いたものは５．６％、リン酸系結晶化核剤を用いたものは５．９％と全ての場合において好ましくなかった。その結果を下記の表１に示す。   When the internal haze was measured for each of the obtained laminates, the internal haze of the laminate before the heating test and the humidifying heat test was 7.2 in the case of an impact-resistant layer without using a crystallization nucleating agent (control). %, The haze value of the impact-resistant layer using the sorbitol-based crystallization nucleating agent is 5.1%, and the haze value of the impact-resistant layer using the phosphoric acid-based crystallization nucleating agent is 5.6%, which is preferable in all cases. There wasn't. In addition, the internal haze value after 1000 hours of absolutely dry at 80 ° C. is 8.9% in the case of the impact resistant layer not using the crystallization nucleating agent (control), and the impact resistant layer using the sorbitol crystallization nucleating agent. The haze value was 5.8%, and that using a phosphoric acid crystallization nucleating agent was 6.1%, which was not preferable in all cases. As for the internal haze value after 1000 hours at 60 ° C. and humidity of 95%, 8.4% is obtained without using the crystallization nucleating agent (control), and 5.6 is obtained using the sorbitol crystallization nucleating agent. %, And 5.9% using a phosphoric acid crystallization nucleating agent was not preferable in all cases. The results are shown in Table 1 below.

前記工程で得られた積層体の耐衝撃層のショワーＡ硬度は、何れも９０を超えていた。その結果を下記の表１に示す。   The Shore A hardness of the impact-resistant layer of the laminate obtained in the above process exceeded 90 in all cases. The results are shown in Table 1 below.

得られた各プラズマディスプレイパネルについて、衝撃試験を前記実施例１と同様にして行い、次の結果が得られた。   About each obtained plasma display panel, the impact test was done like the said Example 1, and the following result was obtained.

１）加熱試験及び加湿熱試験前
加熱試験及び加湿熱試験前のプラズマディスプレイパネルについて、結晶化核剤を用いない耐衝撃層の場合（対照）、ソルビトール系結晶化核剤を用いた耐衝撃層の場合、及びリン酸系結晶化核剤を用いた耐衝撃層の場合のいずれの場合も、衝撃試験による破壊エネルギーが０．４Ｊではプラズマディスプレイパネルが割れず、０．５Ｊで割れた。その結果を下記の表１に示す。 1) Before heating test and humidifying heat test For plasma display panels before heating test and humidifying heat test, in the case of an impact resistant layer that does not use a crystallization nucleating agent (control), an impact resistant layer that uses a sorbitol crystallization nucleating agent In both cases, and in the case of an impact-resistant layer using a phosphoric acid-based crystallization nucleating agent, the plasma display panel was not cracked at a fracture energy of 0.4 J, but cracked at 0.5 J. The results are shown in Table 1 below.

２）加熱試験後
８０℃絶乾、１０００時間経過してなる加熱試験後のプラズマディスプレイパネルについて、結晶化核剤を用いない耐衝撃層の場合（対照）、ソルビトール系結晶化核剤を用いた耐衝撃層の場合、及びリン酸系結晶化核剤を用いた耐衝撃層の場合のいずれの場合も、衝撃試験による破壊エネルギーが０．３Ｊではプラズマディスプレイパネルが割れず、０．４Ｊで割れたことから熱履歴を受けると耐衝撃性が劣る。その結果を下記の表１に示す。 2) After the heating test For the plasma display panel after the heating test, which was completely dried at 80 ° C. and after 1000 hours, in the case of an impact resistant layer not using a crystallization nucleating agent (control), a sorbitol crystallization nucleating agent was used. In both the impact-resistant layer and the impact-resistant layer using a phosphoric acid-based crystallization nucleating agent, the plasma display panel does not crack when the fracture energy by the impact test is 0.3 J, and cracks at 0.4 J. Therefore, when it receives a thermal history, it has poor impact resistance. The results are shown in Table 1 below.

３）加湿熱試験後
６０℃、湿度９５％、１０００時間経過してなる加湿熱試験後のプラズマディスプレイパネルについて、結晶化核剤を用いない耐衝撃層の場合（対照）、ソルビトール系結晶化核剤を用いた耐衝撃層の場合、及びリン酸系結晶化核剤を用いた耐衝撃層の場合のいずれの場合も、衝撃試験による破壊エネルギーが０．４Ｊではプラズマディスプレイパネルが割れず、０．５Ｊで割れたことから湿熱履歴を受けると耐衝撃性が劣る。その結果を下記の表１に示す。 3) After the humidification heat test For the plasma display panel after the humidification heat test after 1000 hours at 60 ° C. and humidity of 95%, in the case of an impact resistant layer that does not use a crystallization nucleating agent (control), a sorbitol-based crystallization nucleus In both the case of the impact-resistant layer using the agent and the case of the impact-resistant layer using the phosphoric acid-based crystallization nucleating agent, the plasma display panel does not break when the fracture energy by the impact test is 0.4 J, and 0 When it receives a wet heat history due to cracking at 5J, its impact resistance is poor. The results are shown in Table 1 below.

［比較例２］
前記実施例１の方法において、耐衝撃層を形成するための樹脂としてビニルアセテート含有率が２０質量％のエチレンビニルアセテート（Ｕｌｔｒｈｅｎｅ６３３：商品名、東ソー（株）製）を用いた以外は全て前記実施例１と同様にして、３種類の積層体、及び該積層体から製造した３種類の光学フィルタ及び、該光学フィルタを用いた３種類のプラズマディスプレイパネルを得た。 [Comparative Example 2]
In the method of Example 1, all of the above were carried out except that ethylene vinyl acetate having a vinyl acetate content of 20% by mass (Ultrhene 633: trade name, manufactured by Tosoh Corporation) was used as the resin for forming the impact resistant layer. In the same manner as in Example 1, three types of laminates, three types of optical filters manufactured from the laminates, and three types of plasma display panels using the optical filters were obtained.

得られた各積層体について、内部ヘーズを測定したところ、加熱試験及び加湿熱試験前の積層体の内部ヘーズは、結晶化核剤を用いない耐衝撃層（対照）については２．１％、ソルビトール系結晶化核剤を用いた耐衝撃層のヘーズ値１．８％、リン酸系結晶化核剤を用いた耐衝撃層のヘーズ値は２．０％であった。また、８０℃絶乾、１０００時間後の内部ヘーズ値は、結晶化核剤を用いない耐衝撃層（対照）については３．０％、ソルビトール系結晶化核剤を用いた耐衝撃層のヘーズ値は２．１％、リン酸系結晶化核剤を用いたものは２．５％であった。また、６０℃、湿度９５％、１０００時間後の内部ヘーズ値については、結晶化核剤を用いないものは３．０％、ソルビトール系結晶化核剤を用いたものは２．０％、リン酸系結晶化核剤を用いたものは２．４％であった。その結果を下記の表１に示す。   When the internal haze was measured for each of the obtained laminates, the internal haze of the laminate before the heating test and the humidifying heat test was 2.1% for the impact-resistant layer (control) not using the crystallization nucleating agent, The haze value of the impact resistant layer using the sorbitol crystallization nucleating agent was 1.8%, and the haze value of the impact resistant layer using the phosphoric acid crystallization nucleating agent was 2.0%. Moreover, the internal haze value after 1000 hours of absolutely dry at 80 ° C. is 3.0% for the impact resistant layer (control) not using the crystallization nucleating agent, and the haze of the impact resistant layer using the sorbitol crystallization nucleating agent. The value was 2.1%, and that using a phosphoric acid crystallization nucleating agent was 2.5%. As for the internal haze value after 1000 hours at 60 ° C. and humidity of 95%, 3.0% is obtained without using a crystallization nucleating agent, 2.0% is obtained with using a sorbitol crystallization nucleating agent, phosphorus The percentage using the acid crystallization nucleating agent was 2.4%. The results are shown in Table 1 below.

前記工程で得られた積層体の耐衝撃層のショワーＡ硬度は、何れも９０を超えていた。その結果を下記の表１に示す。   The Shore A hardness of the impact-resistant layer of the laminate obtained in the above process exceeded 90 in all cases. The results are shown in Table 1 below.

得られた各プラズマディスプレイパネルについて、衝撃試験を前記実施例１と同様にして行い、次の結果が得られた。   About each obtained plasma display panel, the impact test was done like the said Example 1, and the following result was obtained.

１）加熱試験及び加湿熱試験前
加熱試験及び加湿熱試験前のプラズマディスプレイパネルについて、結晶化核剤を用いない耐衝撃層の場合（対照）、衝撃試験による破壊エネルギーが０．５Ｊではプラズマディスプレイパネルが割れず、０．６Ｊで割れた。ソルビトール系結晶化核剤を用いた耐衝撃層の場合、及びリン酸系結晶化核剤を用いた耐衝撃層の場合のいずれの場合も、０．４Ｊではプラズマディスプレイパネルが割れず、０．５Ｊで割れたことから、結晶化核剤を添加すると耐衝撃性が劣る。その結果を下記の表１に示す。 1) Before heating test and humidifying heat test For plasma display panels before heating test and humidifying heat test, in the case of an impact-resistant layer that does not use a crystallization nucleating agent (control), when the breaking energy by impact test is 0.5 J The panel did not break and cracked at 0.6J. In both cases of the impact-resistant layer using the sorbitol-based crystallization nucleating agent and the impact-resistant layer using the phosphoric acid-based crystallization nucleating agent, the plasma display panel is not cracked at 0.4 J. Since it cracked at 5J, the impact resistance is poor when a crystallization nucleating agent is added. The results are shown in Table 1 below.

２）加熱試験後
８０℃絶乾、１０００時間経過してなる加熱試験後のプラズマディスプレイパネルについて、結晶化核剤を用いない耐衝撃層の場合（対照）及びソルビトール系結晶化核剤を用いた耐衝撃層の場合、いずれも衝撃試験による破壊エネルギーが０．４Ｊではプラズマディスプレイパネルが割れず、０．５Ｊで割れたことから、耐衝撃性が劣る。また、リン酸系結晶化核剤を用いた耐衝撃層の場合、０．３Ｊではプラズマディスプレイパネルが割れず、０．４Ｊで割れたことから、耐衝撃性が劣る。その結果を下記の表１に示す。 2) After the heating test For the plasma display panel after the heating test, which was completely dried at 80 ° C. for 1000 hours, in the case of the impact-resistant layer not using the crystallization nucleating agent (control) and using the sorbitol crystallization nucleating agent. In the case of the impact resistant layer, the plasma display panel was not cracked when the fracture energy by the impact test was 0.4 J, and it was cracked at 0.5 J, so the impact resistance was inferior. Further, in the case of an impact resistant layer using a phosphoric acid-based crystallization nucleating agent, the plasma display panel is not cracked at 0.3 J and cracked at 0.4 J, so the impact resistance is inferior. The results are shown in Table 1 below.

３）加湿熱試験後
６０℃、湿度９５％、１０００時間経過してなる加湿熱試験後のプラズマディスプレイパネルについて、結晶化核剤を用いない耐衝撃層の場合（対照）、衝撃試験による破壊エネルギーが０．５Ｊではプラズマディスプレイパネルが割れず、０．６Ｊで割れた。ソルビトール系結晶化核剤を用いた耐衝撃層の場合、０．４Ｊではプラズマディスプレイパネルが割れず、０．５Ｊで割れたことから、耐衝撃性が劣る。。また、リン酸系結晶化核剤を用いた耐衝撃層の場合、０．３Ｊではプラズマディスプレイパネルが割れず、０．４Ｊで割れたことから、耐衝撃性が劣る。その結果を下記の表１に示す。 3) After the humidification heat test For the plasma display panel after the humidification heat test after 1000 hours at 60 ° C and humidity of 95%, in the case of an impact resistant layer that does not use a crystallization nucleating agent (control), the fracture energy by the impact test However, at 0.5J, the plasma display panel was not cracked and cracked at 0.6J. In the case of an impact-resistant layer using a sorbitol-based crystallization nucleating agent, the plasma display panel is not cracked at 0.4 J, and the impact resistance is inferior because it is cracked at 0.5 J. . Further, in the case of an impact resistant layer using a phosphoric acid-based crystallization nucleating agent, the plasma display panel is not cracked at 0.3 J and cracked at 0.4 J, so the impact resistance is inferior. The results are shown in Table 1 below.

［比較例３］
前記実施例１の方法において、耐衝撃層を形成するための樹脂としてビニルアセテート含有率が４２質量％のエチレンビニルアセテート（Ｕｌｔｒｈｅｎｅ７６０：商品名、東ソー（株）製）を用いた以外は全て前記実施例１と同様にして、３種類の積層体、及び該積層体から製造した３種類の光学フィルタ及び、該光学フィルタを用いた３種類のプラズマディスプレイパネルを得た。 [Comparative Example 3]
In the method of Example 1 described above, all the steps were performed except that ethylene vinyl acetate having a vinyl acetate content of 42% by mass (Ultrhene 760: trade name, manufactured by Tosoh Corporation) was used as the resin for forming the impact resistant layer. In the same manner as in Example 1, three types of laminates, three types of optical filters manufactured from the laminates, and three types of plasma display panels using the optical filters were obtained.

得られた各積層体について、内部ヘーズを測定したところ、加熱試験及び加湿熱試験前の積層体の内部ヘーズは、結晶化核剤を用いない耐衝撃層（対照）については８．９％、ソルビトール系結晶化核剤を用いた耐衝撃層のヘーズ値４．３％、リン酸系結晶化核剤を用いた耐衝撃層のヘーズ値は５．６％と全ての場合において高く好ましくなかった。また、８０℃絶乾、１０００時間後の内部ヘーズ値は、結晶化核剤を用いない耐衝撃層（対照）については１４．８％、ソルビトール系結晶化核剤を用いた耐衝撃層のヘーズ値は６．７％、リン酸系結晶化核剤を用いたものは６．９％と全ての場合において好ましくなかった。また、６０℃、湿度９５％、１０００時間後の内部ヘーズ値については、結晶化核剤を用いないもの（対照）は１２．２％、ソルビトール系結晶化核剤を用いたものは７．９％、リン酸系結晶化核剤を用いたものは８．４％と全ての場合において好ましくなかった。その結果を下記の表１に示す。   When the internal haze was measured for each of the obtained laminates, the internal haze of the laminate before the heating test and the humidifying heat test was 8.9% for the impact resistant layer (control) not using the crystallization nucleating agent, The haze value of the impact-resistant layer using the sorbitol-based crystallization nucleating agent was 4.3%, and the haze value of the impact-resistant layer using the phosphoric acid-based crystallization nucleating agent was 5.6%. . Also, the internal haze value after 1000 hours of absolutely dry at 80 ° C. is 14.8% for the impact resistant layer (control) not using the crystallization nucleating agent, and the haze of the impact resistant layer using the sorbitol crystallization nucleating agent. The value was 6.7%, and that using a phosphate crystallization nucleating agent was 6.9%, which was not preferable in all cases. As for the internal haze value after 1000 hours at 60 ° C. and humidity of 95%, 12.2% was obtained without using the crystallization nucleating agent (control), and 7.9 was obtained with the sorbitol crystallization nucleating agent. % And that using a phosphoric acid-based crystallization nucleating agent were 8.4%, which was not preferable in all cases. The results are shown in Table 1 below.

前記工程で得られた積層体の耐衝撃層のショワーＡ硬度は、何れも９０未満であった。その結果を下記の表１に示す。   The Shore A hardness of the impact resistant layer of the laminate obtained in the above process was less than 90. The results are shown in Table 1 below.

得られた各プラズマディスプレイパネルについて、衝撃試験を前記実施例１と同様にして行い、次の結果が得られた。   About each obtained plasma display panel, the impact test was done like the said Example 1, and the following result was obtained.

１）加熱試験及び加湿熱試験前
加熱試験及び加湿熱試験前のプラズマディスプレイパネルについて、結晶化核剤を用いない耐衝撃層の場合（対照）、ソルビトール系結晶化核剤を用いた耐衝撃層の場合、及びリン酸系結晶化核剤を用いた耐衝撃層の場合のいずれの場合も、衝撃試験による破壊エネルギーが０．６Ｊではプラズマディスプレイパネルが割れず、０．７Ｊで割れた。その結果を下記の表１に示す。 1) Before heating test and humidifying heat test For plasma display panels before heating test and humidifying heat test, in the case of an impact resistant layer that does not use a crystallization nucleating agent (control), an impact resistant layer that uses a sorbitol crystallization nucleating agent In both cases, and in the case of an impact-resistant layer using a phosphoric acid-based crystallization nucleating agent, the plasma display panel was not cracked at a fracture energy of 0.6 J, but cracked at 0.7 J. The results are shown in Table 1 below.

２）加熱試験後
８０℃絶乾、１０００時間経過してなる加熱試験後のプラズマディスプレイパネルについて、結晶化核剤を用いない耐衝撃層の場合（対照）、ソルビトール系結晶化核剤を用いた耐衝撃層の場合、及びリン酸系結晶化核剤を用いた耐衝撃層の場合のいずれの場合も、衝撃試験による破壊エネルギーが０．６Ｊではプラズマディスプレイパネルが割れず、０．７Ｊで割れた。その結果を下記の表１に示す。 2) After the heating test For the plasma display panel after the heating test, which was completely dried at 80 ° C. and after 1000 hours, in the case of an impact resistant layer not using a crystallization nucleating agent (control), a sorbitol crystallization nucleating agent was used. In both the impact-resistant layer and the impact-resistant layer using a phosphoric acid-based crystallization nucleating agent, the plasma display panel does not crack when the fracture energy by the impact test is 0.6 J, and cracks at 0.7 J. It was. The results are shown in Table 1 below.

３）加湿熱試験後
６０℃、湿度９５％、１０００時間経過してなる加湿熱試験後のプラズマディスプレイパネルについて、結晶化核剤を用いない耐衝撃層の場合（対照）、ソルビトール系結晶化核剤を用いた耐衝撃層の場合、及びリン酸系結晶化核剤を用いた耐衝撃層の場合のいずれの場合も、衝撃試験による破壊エネルギーが０．６Ｊではプラズマディスプレイパネルが割れず、０．７Ｊで割れた。その結果を下記の表１に示す。 3) After the humidification heat test For the plasma display panel after the humidification heat test after 1000 hours at 60 ° C. and humidity of 95%, in the case of an impact resistant layer that does not use a crystallization nucleating agent (control), a sorbitol-based crystallization nucleus In both the case of the impact-resistant layer using the agent and the case of the impact-resistant layer using the phosphoric acid-based crystallization nucleating agent, the plasma display panel does not break when the fracture energy by the impact test is 0.6 J. Cracked at 7J. The results are shown in Table 1 below.

表１において、Ａはソルビトール系化合物、Ｂはリン酸系化合物を示す。○○は２回の衝撃試験において２回ともプラズマディプレイパネルが割れなかったことを示し、●●は、２回の衝撃試験において２回ともプラズマディプレイパネルが割れたことを示す。   In Table 1, A represents a sorbitol compound and B represents a phosphate compound. ◯ indicates that the plasma display panel was not cracked twice in the two impact tests, and ●● indicates that the plasma display panel was cracked twice in the two impact tests.

本発明の光学フィルタは、プラズマディスプレイの前面に貼付した場合に、プラズマディスプレイパネルに耐衝撃性を付与することができる。   The optical filter of the present invention can impart impact resistance to a plasma display panel when attached to the front surface of the plasma display.

本発明の耐衝撃層を設けた実施態様１の光学フィルタをプラズマディスプレイパネルの前面に貼付した場合の積層構造の一例を示す図である。It is a figure which shows an example of the laminated structure at the time of sticking the optical filter of Embodiment 1 which provided the impact-resistant layer of this invention on the front surface of the plasma display panel. 本発明の耐衝撃層を設けた実施態様２の光学フィルタをプラズマディスプレイパネルの前面に貼付した場合の積層構造の一例を示す図である。It is a figure which shows an example of the laminated structure at the time of sticking the optical filter of Embodiment 2 which provided the impact-resistant layer of this invention on the front surface of the plasma display panel. 本発明の耐衝撃層を設けた実施態様３の光学フィルタをプラズマディスプレイパネルの前面に貼付した場合の積層構造の一例を示す図である。It is a figure which shows an example of the laminated structure at the time of sticking the optical filter of Embodiment 3 which provided the impact-resistant layer of this invention on the front surface of the plasma display panel. 本発明の耐衝撃層を設けた実施態様４の光学フィルタをプラズマディスプレイパネルの前面に貼付した場合の積層構造の一例を示す図である。It is a figure which shows an example of the laminated structure at the time of sticking the optical filter of Embodiment 4 which provided the impact-resistant layer of this invention on the front surface of the plasma display panel. 本発明の耐衝撃層を設けた実施態様５の光学フィルタをプラズマディスプレイパネルの前面に貼付した場合の積層構造の一例を示す図である。It is a figure which shows an example of the laminated structure at the time of sticking the optical filter of Embodiment 5 which provided the impact-resistant layer of this invention on the front surface of the plasma display panel. 本発明の耐衝撃層を設けた実施態様６の光学フィルタをプラズマディスプレイパネルの前面に貼付した場合の積層構造の一例を示す図である。It is a figure which shows an example of the laminated structure at the time of sticking the optical filter of Embodiment 6 which provided the impact-resistant layer of this invention on the front surface of the plasma display panel. 本発明の耐衝撃層を設けた実施態様７の光学フィルタをプラズマディスプレイパネルの前面に貼付した場合の積層構造の一例を示す図である。It is a figure which shows an example of the laminated structure at the time of sticking the optical filter of Embodiment 7 which provided the impact-resistant layer of this invention on the front surface of the plasma display panel. 本発明の耐衝撃層を設けた実施態様８の光学フィルタをプラズマディスプレイパネルの前面に貼付した場合の積層構造の一例を示す図である。It is a figure which shows an example of the laminated structure at the time of sticking the optical filter of Embodiment 8 which provided the impact-resistant layer of this invention on the front surface of the plasma display panel. 本発明の耐衝撃層を設けた実施態様９の光学フィルタをプラズマディスプレイパネルの前面に貼付した場合の積層構造の一例を示す図である。It is a figure which shows an example of the laminated structure at the time of sticking the optical filter of Embodiment 9 which provided the impact-resistant layer of this invention on the front surface of the plasma display panel. 本発明の耐衝撃層を設けた実施態様１０の光学フィルタをプラズマディスプレイパネルの前面に貼付した場合の積層構造の一例を示す図である。It is a figure which shows an example of the laminated structure at the time of sticking the optical filter of Embodiment 10 which provided the impact-resistant layer of this invention on the front surface of the plasma display panel. 本発明の耐衝撃層を設けた実施態様１１の光学フィルタをプラズマディスプレイパネルの前面に貼付した場合の積層構造の一例を示す図である。It is a figure which shows an example of the laminated structure at the time of sticking the optical filter of Embodiment 11 which provided the impact-resistant layer of this invention on the front surface of the plasma display panel. 本発明の耐衝撃層を設けた実施態様１２の光学フィルタをプラズマディスプレイパネルの前面に貼付した場合の積層構造の一例を示す図である。It is a figure which shows an example of the laminated structure at the time of sticking the optical filter of Embodiment 12 which provided the impact-resistant layer of this invention on the front surface of the plasma display panel. 本発明の耐衝撃層を設けた実施態様１３の光学フィルタをプラズマディスプレイパネルの前面に貼付した場合の積層構造の一例を示す図である。It is a figure which shows an example of the laminated structure at the time of sticking the optical filter of Embodiment 13 which provided the impact-resistant layer of this invention on the front surface of the plasma display panel. 本発明の耐衝撃層を設けた実施態様１４の光学フィルタをプラズマディスプレイパネルの前面に貼付した場合の積層構造の一例を示す図である。It is a figure which shows an example of the laminated structure at the time of sticking the optical filter of Embodiment 14 which provided the impact-resistant layer of this invention on the front surface of the plasma display panel. 本発明の耐衝撃層を設けた実施態様１５の光学フィルタをプラズマディスプレイパネルの前面に貼付した場合の積層構造の一例を示す図である。It is a figure which shows an example of the laminated structure at the time of sticking the optical filter of Embodiment 15 which provided the impact-resistant layer of this invention on the front surface of the plasma display panel. 本発明の耐衝撃層を設けた実施態様１６の光学フィルタをプラズマディスプレイパネルの前面に貼付した場合の積層構造の一例を示す図である。It is a figure which shows an example of the laminated structure at the time of sticking the optical filter of Embodiment 16 which provided the impact-resistant layer of this invention on the front surface of the plasma display panel. 本発明の耐衝撃層を設けた実施態様１７の光学フィルタをプラズマディスプレイパネルの前面に貼付した場合の積層構造の一例を示す図である。It is a figure which shows an example of the laminated structure at the time of sticking the optical filter of Embodiment 17 which provided the impact-resistant layer of this invention on the front surface of the plasma display panel. 本発明の耐衝撃層を設けた実施態様１８の光学フィルタをプラズマディスプレイパネルの前面に貼付した場合の積層構造の一例を示す図である。It is a figure which shows an example of the laminated structure at the time of sticking the optical filter of Embodiment 18 which provided the impact-resistant layer of this invention on the front surface of the plasma display panel. 本発明の耐衝撃層を設けた実施態様１９の光学フィルタをプラズマディスプレイパネルの前面に貼付した場合の積層構造の一例を示す図である。It is a figure which shows an example of the laminated structure at the time of sticking the optical filter of Embodiment 19 which provided the impact-resistant layer of this invention on the front surface of the plasma display panel. 本発明の耐衝撃層を設けた実施態様２０の光学フィルタをプラズマディスプレイパネルの前面に貼付した場合の積層構造の一例を示す図である。It is a figure which shows an example of the laminated structure at the time of sticking the optical filter of Embodiment 20 which provided the impact-resistant layer of this invention on the front surface of the plasma display panel. 本発明の耐衝撃層を設けた実施態様２１の光学フィルタをプラズマディスプレイパネルの前面に貼付した場合の積層構造の一例を示す図である。It is a figure which shows an example of the laminated structure at the time of sticking the optical filter of Embodiment 21 which provided the impact-resistant layer of this invention on the front surface of the plasma display panel. 本発明の耐衝撃層を設けた実施態様２２の光学フィルタをプラズマディスプレイパネルの前面に貼付した場合の積層構造の一例を示す図である。It is a figure which shows an example of the laminated structure at the time of sticking the optical filter of Embodiment 22 which provided the impact-resistant layer of this invention on the front surface of the plasma display panel. 本発明の耐衝撃層を設けた実施態様２３の光学フィルタをプラズマディスプレイパネルの前面に貼付した場合の積層構造の一例を示す図である。It is a figure which shows an example of the laminated structure at the time of sticking the optical filter of Embodiment 23 which provided the impact-resistant layer of this invention on the front surface of the plasma display panel. 本発明の耐衝撃層を設けた実施態様２４の光学フィルタをプラズマディスプレイパネルの前面に貼付した場合の積層構造の一例を示す図である。It is a figure which shows an example of the laminated structure at the time of sticking the optical filter of Embodiment 24 which provided the impact-resistant layer of this invention on the front surface of the plasma display panel. 衝撃試験装置を示す図である。It is a figure which shows an impact test apparatus. 本発明の光学フィルタにおける耐衝撃層として、エチレンビニルアセテートを含有する耐衝撃層を形成するのに適した、押出ラミネート機の１例を示す概略図である。It is the schematic which shows an example of the extrusion laminating machine suitable for forming the impact resistant layer containing ethylene vinyl acetate as an impact resistant layer in the optical filter of this invention. 本発明の光学フィルタを構成する各層をラミネートするためのラミネート機の１例を示す図である。It is a figure which shows one example of the laminating machine for laminating each layer which comprises the optical filter of this invention.

符号の説明Explanation of symbols

１ 反射防止層
２ 粘着剤層
３ 耐衝撃層
４ 色素含有粘着剤層
５ 電磁波遮蔽層
６ 粘着剤層
７ プラズマディスプレイパネル
８ 試験台
９ 土台
１０ ガラス板
１１ 前面ガラス板
１２ 鋼球
２１ 第１給紙部２１
２２ 第２給紙部
２３ 第１離型フィルム巻取りロール
２４ 第２離型フィルム巻取りロール
２５ 第１ラミネートニユット
２６ 第２ラミネートニユット
２７ 巻取りロール
３５ 第１フィルム供給部
３７ 冷却ロール
３８ ニップロール
３９ 第２フィルム供給部
４１ 排紙部
４２ ダイス DESCRIPTION OF SYMBOLS 1 Antireflection layer 2 Adhesive layer 3 Impact-resistant layer 4 Dye containing adhesive layer 5 Electromagnetic wave shielding layer 6 Adhesive layer 7 Plasma display panel 8 Test stand 9 Base 10 Glass plate 11 Front glass plate 12 Steel ball 21 First paper feed Part 21
22 Second paper feeding section 23 First release film winding roll 24 Second release film winding roll 25 First laminate unit 26 Second laminate unit 27 Winding roll 35 First film supply unit 37 Cooling roll 38 Nip roll 39 Second film supply unit 41 Paper discharge unit 42 Dice

Claims (12)

（１）耐衝撃層を有する光学フィルタであって、
（２）該光学フィルタにおいて、ショワーＡ硬度が９０未満である耐衝撃層を有し、
（３）該耐衝撃層は、ビニルアセテートを含有するエチレンビニルアセテート及び結晶化核剤を有する樹脂組成物で形成されたものであって、エチレンビニルアセテートの結晶化が抑制されたものであり、熱負荷後及び／又は湿熱負荷後の該耐衝撃層の内部ヘーズが３．０％以下を維持できる性質を有することを特徴とする白濁化が抑制された光学フィルタ。 (1) An optical filter having an impact resistant layer,
(2) The optical filter has an impact resistant layer having a Shower A hardness of less than 90,
(3) The impact resistant layer is formed of a resin composition having ethylene vinyl acetate containing vinyl acetate and a crystallization nucleating agent, and crystallization of ethylene vinyl acetate is suppressed; An optical filter with suppressed white turbidity, wherein the internal haze of the impact-resistant layer after thermal load and / or after wet heat load can maintain 3.0% or less. 前記耐衝撃層は、該耐衝撃層内に結晶化核剤が５００ｐｐｍ−１００，０００ｐｐｍ含有されることによりエチレンビニルアセテートの結晶の成長が抑制されていることを特徴とする請求項１記載の白濁化が抑制された光学フィルタ。   2. The cloudiness according to claim 1, wherein the impact resistant layer contains a crystallizing nucleating agent in the impact resistant layer in an amount of 500 ppm to 100,000 ppm to suppress the growth of ethylene vinyl acetate crystals. An optical filter that has been suppressed. 前記耐衝撃層は、該耐衝撃層内に結晶化核剤が１０００ｐｐｍ−５０００ｐｐｍ含有されることによりエチレンビニルアセテートの結晶の成長が抑制されていることを特徴とする請求項１記載の白濁化が抑制された光学フィルタ。   2. The clouding according to claim 1, wherein the impact-resistant layer has a crystallizing nucleating agent contained in the impact-resistant layer in an amount of 1000 ppm to 5000 ppm, whereby ethylene vinyl acetate crystal growth is suppressed. Suppressed optical filter. 前記光学フィルタをプラズマディスプレイパネルに貼付したときのプラズマディスプレイパネルに対する衝撃試験による破壊エネルギーが、耐熱試験前および耐湿熱試験前において０．６Ｊ以上であり、８０℃、１０００時間の耐熱試験後及び／又は６０℃、湿度９５％、１０００時間後の耐湿熱試験後において０．５Ｊ以上であることを特徴とする請求項１乃至３の何れか１項記載の白濁化が抑制された光学フィルタ。   When the optical filter is attached to the plasma display panel, the breaking energy by the impact test on the plasma display panel is 0.6 J or more before the heat resistance test and before the heat resistance test, and after the heat resistance test at 80 ° C. for 1000 hours and / or The optical filter with suppressed white turbidity according to any one of claims 1 to 3, wherein the optical filter is 0.5 J or more after a moist heat test after 1000 hours at 60 ° C, humidity 95%. 前記エチレンビニルアセテート中のビニルアセテートの含有量が２５〜３５質量％である請求項１乃至４のいずれか１項記載の白濁化が抑制された光学フィルタ。   The optical filter with suppressed white turbidity according to any one of claims 1 to 4, wherein the content of vinyl acetate in the ethylene vinyl acetate is 25 to 35 mass%. 前記結晶化核剤は、ソルビトール系化合物またはリン酸系化合物である請求項１乃至５の何れか１項記載の白濁化が抑制された光学フィルタ。   The optical filter with suppressed white turbidity according to any one of claims 1 to 5, wherein the crystallization nucleating agent is a sorbitol compound or a phosphoric acid compound. 近赤外線吸収化合物を含む樹脂層を有し、８００〜１０００ｎｍの波長範囲の透過率が２０％以下である請求項１乃至６の何れか１項記載の白濁化が抑制された光学フィルタ。   The optical filter with suppressed white turbidity according to any one of claims 1 to 6, which has a resin layer containing a near-infrared absorbing compound and has a transmittance in the wavelength range of 800 to 1000 nm of 20% or less. ネオン光５６０〜６３０ｎｍの波長範囲に最大吸収波長を持つネオン光吸収化合物を含む樹脂層を有し、該波長範囲における最大吸収波長の透過率が４０％以下である請求項１乃至７の何れか１項記載の白濁化が抑制された光学フィルタ。   The neon light has a resin layer containing a neon light absorbing compound having a maximum absorption wavelength in a wavelength range of 560 to 630 nm, and the transmittance of the maximum absorption wavelength in the wavelength range is 40% or less. 1. An optical filter in which white turbidity is suppressed. 可視光３８０〜７８０ｎｍの波長範囲の透過率が４０％以上となる請求項１乃至８の何れか１項記載の白濁化が抑制された光学フィルタ。   The optical filter with suppressed white turbidity according to any one of claims 1 to 8, wherein transmittance in a wavelength range of visible light of 380 to 780 nm is 40% or more. プラズマディスプレイ装置から発生する静電気及び／又は電磁波ノイズをシールドする電磁波遮蔽層を有する請求項１乃至９の何れか１項記載の白濁化が抑制された光学フィルタ。   The optical filter with suppressed white turbidity according to any one of claims 1 to 9, further comprising an electromagnetic wave shielding layer for shielding static electricity and / or electromagnetic noise generated from the plasma display device. プラズマディスプレイに貼着するための粘着剤層が設けられた請求項１乃至１０の何れか１項記載の白濁化が抑制された光学フィルタ。   The optical filter with which white turbidity was suppressed in any one of Claims 1 thru | or 10 with which the adhesive layer for sticking to a plasma display was provided. 請求項１乃至１１の何れか１項記載の光学フィルタを粘着剤層を介して表示面に貼付されてなるプラズマディスプレイパネル。   A plasma display panel comprising the optical filter according to claim 1 attached to a display surface through an adhesive layer.
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