JP2006018985A - 垂直磁気記録用磁気ヘッドおよびその製造方法 - Google Patents
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Abstract
【解決手段】媒体対向面に配置された磁極層16の端部は、基板1に近い第1の辺A1と、第1の辺A1とは反対側の第2の辺A2と、第1の辺A1の一端と第2の辺A2の一端とを結ぶ第3の辺A3と、第1の辺A1の他端と第2の辺A2の他端とを結ぶ第4の辺A4とを有している。第2の辺A2は、トラック幅を規定する。媒体対向面に配置された磁極層16の端部の幅は、第1の辺A1に近づくに従って小さくなっている。磁極層16は、非磁性絶縁材料よりなる磁極層収容層12の溝部12a内に、非磁性導電膜13を介して配置されている。磁極層16は、溝部12aの表面に近い位置に配置された第1層161と、溝部12aの表面から遠い位置に配置された第2層162とを有している。
【選択図】図1
Description
非磁性材料よりなり、磁極層を収容する溝部を有する磁極層収容層を形成する工程と、
溝部内に、非磁性絶縁材料または非磁性半導体材料よりなる非磁性膜を形成する工程と、
非磁性膜を形成した後、磁極層収容層と磁極層との間に非磁性膜が配置されるように、溝部内に磁極層を形成する工程と、
コイルを形成する工程とを備えている。
非磁性導電材料よりなり、磁極層を収容する溝部を有する磁極層収容層を形成する工程と、
溝部内に非磁性膜を形成する工程と、
非磁性膜を形成した後、磁極層収容層と磁極層との間に非磁性膜が配置されるように、溝部内に磁極層を形成する工程と、
コイルを形成する工程とを備えている。
非磁性絶縁材料よりなり、磁極層を収容する溝部を有する磁極層収容層を形成する工程と、
溝部内に非磁性導電膜を形成する工程と、
非磁性導電膜を形成した後、磁極層収容層と磁極層との間に非磁性導電膜が配置されるように、溝部内に磁極層を形成する工程と、
コイルを形成する工程とを備え、
磁極層は、溝部の表面に近い位置に配置された第1層と、溝部の表面から遠い位置に配置された第2層とを有し、
磁極層を形成する工程は、第1層を形成する工程と、第2層を形成する工程とを含むものである。
非磁性材料よりなり、磁極層を収容する溝部を有する磁極層収容層を形成する工程と、
溝部内および磁極層収容層の上面の上に非磁性導電膜を形成する工程と、
非磁性導電膜を形成した後、磁極層収容層と磁極層との間に非磁性導電膜が配置されるように、溝部内および磁極層収容層の上面の上に、磁極層となる磁性層を形成する工程と、
磁性層が磁極層となるように、非磁性導電膜が露出するまで磁性層を研磨する工程と、
コイルを形成する工程とを備えている。
非磁性導電材料よりなり、磁極層を収容する溝部を有する磁極層収容層を形成する工程と、
溝部内に磁極層を形成する工程と、
コイルを形成する工程とを備えている。
非磁性絶縁材料よりなり、磁極層を収容する溝部を有する磁極層収容層を形成する工程と、
化学的気相成長法によって、溝部内に非磁性導電膜を形成する工程と、
非磁性導電膜を形成した後、磁極層収容層と磁極層との間に非磁性導電膜が配置されるように、溝部内に磁極層を形成する工程と、
コイルを形成する工程とを備えている。
以下、本発明の実施の形態について図面を参照して詳細に説明する。始めに、図1および図2を参照して、本発明の第1の実施の形態に係る垂直磁気記録用磁気ヘッドの構成について説明する。図1は、本実施の形態に係る垂直磁気記録用磁気ヘッドの媒体対向面を示す正面図である。図2は本実施の形態に係る垂直磁気記録用磁気ヘッドの構成を示す断面図である。なお、図2は媒体対向面および基板の面に垂直な断面を示している。また、図2において記号Tで示す矢印は、記録媒体の進行方向を表している。
次に、本発明の第2の実施の形態に係る磁気ヘッドおよびその製造方法について説明する。まず、図14ないし図17を参照して、本実施の形態に係る磁気ヘッドの製造方法について説明する。図14ないし図17において、(a)は、磁気ヘッドの製造過程における積層体の、媒体対向面および基板に垂直な断面を示し、(b)は、積層体の、媒体対向面の近傍における媒体対向面に平行な断面を示している。なお、図14ないし図17では、磁極層収容層12よりも基板1側の部分を省略している。
次に、本発明の第3の実施の形態に係る磁気ヘッドおよびその製造方法について説明する。まず、図18ないし図25を参照して、本実施の形態に係る磁気ヘッドの製造方法について説明する。図18ないし図25において、(a)は、磁気ヘッドの製造過程における積層体の、媒体対向面および基板に垂直な断面を示し、(b)は、積層体の、媒体対向面の近傍における媒体対向面に平行な断面を示している。なお、図18ないし図25では、磁極層収容層12よりも基板1側の部分を省略している。
次に、本発明の第4の実施の形態に係る磁気ヘッドおよびその製造方法について説明する。まず、図26ないし図30を参照して、本実施の形態に係る磁気ヘッドの製造方法について説明する。図26ないし図30において、(a)は、磁気ヘッドの製造過程における積層体の、媒体対向面および基板に垂直な断面を示し、(b)は、積層体の、媒体対向面の近傍における媒体対向面に平行な断面を示している。なお、図26ないし図30では、コイル9、絶縁層10,11およびこれらよりも基板1側の部分を省略している。
次に、本発明の第5の実施の形態に係る磁気ヘッドおよびその製造方法について説明する。まず、図32ないし図35を参照して、本実施の形態に係る磁気ヘッドの製造方法について説明する。図32ないし図35において、(a)は、磁気ヘッドの製造過程における積層体の、媒体対向面および基板に垂直な断面を示し、(b)は、積層体の、媒体対向面の近傍における媒体対向面に平行な断面を示している。なお、図32ないし図35では、コイル9、絶縁層10,11およびこれらよりも基板1側の部分を省略している。
次に、本発明の第6の実施の形態に係る磁気ヘッドおよびその製造方法について説明する。まず、図36ないし図40を参照して、本実施の形態に係る磁気ヘッドの製造方法について説明する。図36ないし図40において、(a)は、磁気ヘッドの製造過程における積層体の、媒体対向面および基板に垂直な断面を示し、(b)は、積層体の、媒体対向面の近傍における媒体対向面に平行な断面を示している。なお、図36ないし図40では、コイル9、絶縁層10,11およびこれらよりも基板1側の部分を省略している。
次に、本発明の第7の実施の形態に係る磁気ヘッドおよびその製造方法について説明する。まず、図41ないし図45を参照して、本実施の形態に係る磁気ヘッドの製造方法について説明する。図41ないし図45において、(a)は、磁気ヘッドの製造過程における積層体の、媒体対向面および基板に垂直な断面を示し、(b)は、積層体の、媒体対向面の近傍における媒体対向面に平行な断面を示している。なお、図41ないし図45では、コイル9、絶縁層10,11およびこれらよりも基板1側の部分を省略している。
次に、本発明の第8の実施の形態に係る磁気ヘッドおよびその製造方法について説明する。図47は、本実施の形態に係る磁気ヘッドの主要部を示す断面図である。なお、図47では、コイル9、絶縁層10,11およびこれらよりも基板1側の部分を省略している。
次に、本発明の第9の実施の形態に係る磁気ヘッドおよびその製造方法について説明する。まず、図48ないし図51を参照して、本実施の形態に係る磁気ヘッドの製造方法について説明する。図48ないし図51において、(a)は、磁気ヘッドの製造過程における積層体の、媒体対向面および基板に垂直な断面を示し、(b)は、積層体の、媒体対向面の近傍における媒体対向面に平行な断面を示している。なお、図48ないし図51では、コイル9、絶縁層10,11およびこれらよりも基板1側の部分を省略している。
Claims (60)
- 記録媒体に対向する媒体対向面と、
前記記録媒体に記録する情報に応じた磁界を発生するコイルと、
前記媒体対向面に配置された端部を有し、前記コイルによって発生された磁界に対応する磁束を通過させると共に、垂直磁気記録方式によって前記情報を前記記録媒体に記録するための記録磁界を発生する磁極層と、
前記磁極層およびコイルが積層される基板とを備えた垂直磁気記録用磁気ヘッドであって、
前記媒体対向面に配置された前記磁極層の端部は、前記基板に近い第1の辺と、第1の辺とは反対側の第2の辺と、第1の辺の一端と第2の辺の一端とを結ぶ第3の辺と、第1の辺の他端と第2の辺の他端とを結ぶ第4の辺とを有し、
前記第2の辺は、トラック幅を規定し、
前記端部の幅は、前記第1の辺に近づくに従って小さくなり、
前記磁気ヘッドは、更に、
非磁性材料よりなり、前記磁極層を収容する溝部を有する磁極層収容層と、
非磁性絶縁材料または非磁性半導体材料よりなり、前記溝部内において、前記磁極層収容層と前記磁極層との間に配置された非磁性膜とを備えたことを特徴とする垂直磁気記録用磁気ヘッド。 - 前記磁極層収容層は、非磁性絶縁材料よりなることを特徴とする請求項1記載の垂直磁気記録用磁気ヘッド。
- 前記磁極層収容層は、非磁性導電材料よりなることを特徴とする請求項1記載の垂直磁気記録用磁気ヘッド。
- 前記非磁性膜は、アルミナ、シリコン酸化物、シリコン酸窒化物、多結晶シリコン、アモルファスシリコンのいずれかよりなることを特徴とする請求項1ないし3のいずれかに記載の垂直磁気記録用磁気ヘッド。
- 前記磁極層は、前記溝部の表面に近い位置に配置された第1層と、前記溝部の表面から遠い位置に配置された第2層とを有することを特徴とする請求項1ないし4のいずれかに記載の垂直磁気記録用磁気ヘッド。
- 更に、前記非磁性膜と前記磁極層との間に配置された非磁性導電膜を備えたことを特徴とする請求項1ないし5のいずれかに記載の垂直磁気記録用磁気ヘッド。
- 更に、前記溝部の表面と前記非磁性膜との間に配置された非磁性導電膜を備えたことを特徴とする請求項1ないし5のいずれかに記載の垂直磁気記録用磁気ヘッド。
- 更に、前記非磁性膜と前記磁極層との間に配置された第2の非磁性導電膜を備えたことを特徴とする請求項7記載の垂直磁気記録用磁気ヘッド。
- 記録媒体に対向する媒体対向面と、
前記記録媒体に記録する情報に応じた磁界を発生するコイルと、
前記媒体対向面に配置された端部を有し、前記コイルによって発生された磁界に対応する磁束を通過させると共に、垂直磁気記録方式によって前記情報を前記記録媒体に記録するための記録磁界を発生する磁極層と、
前記磁極層およびコイルが積層される基板とを備えた垂直磁気記録用磁気ヘッドであって、
前記媒体対向面に配置された前記磁極層の端部は、前記基板に近い第1の辺と、第1の辺とは反対側の第2の辺と、第1の辺の一端と第2の辺の一端とを結ぶ第3の辺と、第1の辺の他端と第2の辺の他端とを結ぶ第4の辺とを有し、
前記第2の辺は、トラック幅を規定し、
前記端部の幅は、前記第1の辺に近づくに従って小さくなり、
前記磁気ヘッドは、更に、
非磁性導電材料よりなり、前記磁極層を収容する溝部を有する磁極層収容層と、
前記溝部内において、前記磁極層収容層と前記磁極層との間に配置された非磁性膜とを備えたことを特徴とする垂直磁気記録用磁気ヘッド。 - 前記非磁性膜は、非磁性導電材料よりなることを特徴とする請求項9記載の垂直磁気記録用磁気ヘッド。
- 前記磁極層は、前記溝部の表面に近い位置に配置された第1層と、前記溝部の表面から遠い位置に配置された第2層とを有することを特徴とする請求項9または10記載の垂直磁気記録用磁気ヘッド。
- 記録媒体に対向する媒体対向面と、
前記記録媒体に記録する情報に応じた磁界を発生するコイルと、
前記媒体対向面に配置された端部を有し、前記コイルによって発生された磁界に対応する磁束を通過させると共に、垂直磁気記録方式によって前記情報を前記記録媒体に記録するための記録磁界を発生する磁極層と、
前記磁極層およびコイルが積層される基板とを備えた垂直磁気記録用磁気ヘッドであって、
前記媒体対向面に配置された前記磁極層の端部は、前記基板に近い第1の辺と、第1の辺とは反対側の第2の辺と、第1の辺の一端と第2の辺の一端とを結ぶ第3の辺と、第1の辺の他端と第2の辺の他端とを結ぶ第4の辺とを有し、
前記第2の辺は、トラック幅を規定し、
前記端部の幅は、前記第1の辺に近づくに従って小さくなり、
前記磁気ヘッドは、更に、
非磁性絶縁材料よりなり、前記磁極層を収容する溝部を有する磁極層収容層と、
前記溝部内において、前記磁極層収容層と前記磁極層との間に配置された非磁性導電膜とを備え、
前記磁極層は、前記溝部の表面に近い位置に配置された第1層と、前記溝部の表面から遠い位置に配置された第2層とを有することを特徴とする垂直磁気記録用磁気ヘッド。 - 記録媒体に対向する媒体対向面と、
前記記録媒体に記録する情報に応じた磁界を発生するコイルと、
前記媒体対向面に配置された端部を有し、前記コイルによって発生された磁界に対応する磁束を通過させると共に、垂直磁気記録方式によって前記情報を前記記録媒体に記録するための記録磁界を発生する磁極層と、
前記磁極層およびコイルが積層される基板とを備えた垂直磁気記録用磁気ヘッドであって、
前記媒体対向面に配置された前記磁極層の端部は、前記基板に近い第1の辺と、第1の辺とは反対側の第2の辺と、第1の辺の一端と第2の辺の一端とを結ぶ第3の辺と、第1の辺の他端と第2の辺の他端とを結ぶ第4の辺とを有し、
前記第2の辺は、トラック幅を規定し、
前記端部の幅は、前記第1の辺に近づくに従って小さくなり、
前記磁気ヘッドは、更に、
非磁性導電材料よりなり、前記磁極層を収容する溝部を有する磁極層収容層を備えたことを特徴とする垂直磁気記録用磁気ヘッド。 - 前記磁極層は、前記溝部の表面に近い位置に配置された第1層と、前記溝部の表面から遠い位置に配置された第2層とを有することを特徴とする請求項13記載の垂直磁気記録用磁気ヘッド。
- 記録媒体に対向する媒体対向面と、
前記記録媒体に記録する情報に応じた磁界を発生するコイルと、
前記媒体対向面に配置された端部を有し、前記コイルによって発生された磁界に対応する磁束を通過させると共に、垂直磁気記録方式によって前記情報を前記記録媒体に記録するための記録磁界を発生する磁極層と、
前記磁極層およびコイルが積層される基板とを備え、
前記媒体対向面に配置された前記磁極層の端部は、前記基板に近い第1の辺と、第1の辺とは反対側の第2の辺と、第1の辺の一端と第2の辺の一端とを結ぶ第3の辺と、第1の辺の他端と第2の辺の他端とを結ぶ第4の辺とを有し、
前記第2の辺は、トラック幅を規定し、
前記端部の幅は、前記第1の辺に近づくに従って小さくなる垂直磁気記録用磁気ヘッドの製造方法であって、
非磁性材料よりなり、前記磁極層を収容する溝部を有する磁極層収容層を形成する工程と、
前記溝部内に、非磁性絶縁材料または非磁性半導体材料よりなる非磁性膜を形成する工程と、
前記非磁性膜を形成した後、前記磁極層収容層と前記磁極層との間に前記非磁性膜が配置されるように、前記溝部内に前記磁極層を形成する工程と、
前記コイルを形成する工程と
を備えたことを特徴とする垂直磁気記録用磁気ヘッドの製造方法。 - 前記磁極層収容層は、非磁性絶縁材料よりなることを特徴とする請求項15記載の垂直磁気記録用磁気ヘッドの製造方法。
- 前記磁極層収容層は、非磁性導電材料よりなることを特徴とする請求項15記載の垂直磁気記録用磁気ヘッドの製造方法。
- 前記非磁性膜は、アルミナ、シリコン酸化物、シリコン酸窒化物、多結晶シリコン、アモルファスシリコンのいずれかよりなることを特徴とする請求項15ないし17のいずれかに記載の垂直磁気記録用磁気ヘッドの製造方法。
- 前記非磁性膜は、化学的気相成長法を用いて形成されることを特徴とする請求項15ないし18のいずれかに記載の垂直磁気記録用磁気ヘッドの製造方法。
- 前記非磁性膜は、1原子層毎の成膜を繰り返す化学的気相成長法を用いて形成されることを特徴とする請求項15ないし18のいずれかに記載の垂直磁気記録用磁気ヘッドの製造方法。
- 前記磁極層は、前記溝部の表面に近い位置に配置された第1層と、前記溝部の表面から遠い位置に配置された第2層とを有し、
前記磁極層を形成する工程は、前記第1層を形成する工程と、前記第2層を形成する工程とを含むことを特徴とする請求項15ないし20のいずれかに記載の垂直磁気記録用磁気ヘッドの製造方法。 - 前記第1層は、スパッタ法またはイオンビームデポジション法によって形成されることを特徴とする請求項21記載の垂直磁気記録用磁気ヘッドの製造方法。
- 前記第2層は、めっき法によって形成されることを特徴とする請求項21または22記載の垂直磁気記録用磁気ヘッドの製造方法。
- 更に、前記非磁性膜の形成後、前記磁極層の形成前に、前記非磁性膜と前記磁極層との間に配置される非磁性導電膜を形成する工程を備えたことを特徴とする請求項15ないし23のいずれかに記載の垂直磁気記録用磁気ヘッドの製造方法。
- 前記非磁性導電膜は、化学的気相成長法、スパッタ法またはイオンビームデポジション法によって形成されることを特徴とする請求項24記載の垂直磁気記録用磁気ヘッドの製造方法。
- 更に、前記磁極層収容層の形成後、前記非磁性膜の形成前に、前記溝部の表面と前記非磁性膜との間に配置される非磁性導電膜を形成する工程を備えたことを特徴とする請求項15ないし25のいずれかに記載の垂直磁気記録用磁気ヘッドの製造方法。
- 前記非磁性導電膜は、化学的気相成長法、スパッタ法またはイオンビームデポジション法によって形成されることを特徴とする請求項26記載の垂直磁気記録用磁気ヘッドの製造方法。
- 更に、前記非磁性膜の形成後、前記磁極層の形成前に、前記非磁性膜と前記磁極層との間に配置される第2の非磁性導電膜を形成する工程を備えたことを特徴とする請求項26または27記載の垂直磁気記録用磁気ヘッドの製造方法。
- 前記第2の非磁性導電膜は、化学的気相成長法、スパッタ法またはイオンビームデポジション法によって形成されることを特徴とする請求項28記載の垂直磁気記録用磁気ヘッドの製造方法。
- 記録媒体に対向する媒体対向面と、
前記記録媒体に記録する情報に応じた磁界を発生するコイルと、
前記媒体対向面に配置された端部を有し、前記コイルによって発生された磁界に対応する磁束を通過させると共に、垂直磁気記録方式によって前記情報を前記記録媒体に記録するための記録磁界を発生する磁極層と、
前記磁極層およびコイルが積層される基板とを備え、
前記媒体対向面に配置された前記磁極層の端部は、前記基板に近い第1の辺と、第1の辺とは反対側の第2の辺と、第1の辺の一端と第2の辺の一端とを結ぶ第3の辺と、第1の辺の他端と第2の辺の他端とを結ぶ第4の辺とを有し、
前記第2の辺は、トラック幅を規定し、
前記端部の幅は、前記第1の辺に近づくに従って小さくなる垂直磁気記録用磁気ヘッドの製造方法であって、
非磁性導電材料よりなり、前記磁極層を収容する溝部を有する磁極層収容層を形成する工程と、
前記溝部内に非磁性膜を形成する工程と、
前記非磁性膜を形成した後、前記磁極層収容層と前記磁極層との間に前記非磁性膜が配置されるように、前記溝部内に前記磁極層を形成する工程と、
前記コイルを形成する工程と
を備えたことを特徴とする垂直磁気記録用磁気ヘッドの製造方法。 - 前記非磁性膜は、非磁性導電材料よりなることを特徴とする請求項30記載の垂直磁気記録用磁気ヘッドの製造方法。
- 前記非磁性膜は、化学的気相成長法、スパッタ法またはイオンビームデポジション法によって形成されることを特徴とする請求項31記載の垂直磁気記録用磁気ヘッドの製造方法。
- 前記磁極層は、前記溝部の表面に近い位置に配置された第1層と、前記溝部の表面から遠い位置に配置された第2層とを有し、
前記磁極層を形成する工程は、前記第1層を形成する工程と、前記第2層を形成する工程とを含むことを特徴とする請求項30ないし32のいずれかに記載の垂直磁気記録用磁気ヘッドの製造方法。 - 前記第1層は、スパッタ法またはイオンビームデポジション法によって形成されることを特徴とする請求項33記載の垂直磁気記録用磁気ヘッドの製造方法。
- 前記第2層は、めっき法によって形成されることを特徴とする請求項33または34記載の垂直磁気記録用磁気ヘッドの製造方法。
- 記録媒体に対向する媒体対向面と、
前記記録媒体に記録する情報に応じた磁界を発生するコイルと、
前記媒体対向面に配置された端部を有し、前記コイルによって発生された磁界に対応する磁束を通過させると共に、垂直磁気記録方式によって前記情報を前記記録媒体に記録するための記録磁界を発生する磁極層と、
前記磁極層およびコイルが積層される基板とを備え、
前記媒体対向面に配置された前記磁極層の端部は、前記基板に近い第1の辺と、第1の辺とは反対側の第2の辺と、第1の辺の一端と第2の辺の一端とを結ぶ第3の辺と、第1の辺の他端と第2の辺の他端とを結ぶ第4の辺とを有し、
前記第2の辺は、トラック幅を規定し、
前記端部の幅は、前記第1の辺に近づくに従って小さくなる垂直磁気記録用磁気ヘッドの製造方法であって、
非磁性絶縁材料よりなり、前記磁極層を収容する溝部を有する磁極層収容層を形成する工程と、
前記溝部内に非磁性導電膜を形成する工程と、
前記非磁性導電膜を形成した後、前記磁極層収容層と前記磁極層との間に前記非磁性導電膜が配置されるように、前記溝部内に前記磁極層を形成する工程と、
前記コイルを形成する工程と
を備え、
前記磁極層は、前記溝部の表面に近い位置に配置された第1層と、前記溝部の表面から遠い位置に配置された第2層とを有し、
前記磁極層を形成する工程は、前記第1層を形成する工程と、前記第2層を形成する工程とを含むことを特徴とする垂直磁気記録用磁気ヘッドの製造方法。 - 前記非磁性導電膜は、化学的気相成長法、スパッタ法またはイオンビームデポジション法によって形成されることを特徴とする請求項36記載の垂直磁気記録用磁気ヘッドの製造方法。
- 前記第1層は、スパッタ法またはイオンビームデポジション法によって形成されることを特徴とする請求項36または37記載の垂直磁気記録用磁気ヘッドの製造方法。
- 前記第2層は、めっき法によって形成されることを特徴とする請求項36ないし38のいずれかに記載の垂直磁気記録用磁気ヘッドの製造方法。
- 記録媒体に対向する媒体対向面と、
前記記録媒体に記録する情報に応じた磁界を発生するコイルと、
前記媒体対向面に配置された端部を有し、前記コイルによって発生された磁界に対応する磁束を通過させると共に、垂直磁気記録方式によって前記情報を前記記録媒体に記録するための記録磁界を発生する磁極層と、
前記磁極層およびコイルが積層される基板とを備え、
前記媒体対向面に配置された前記磁極層の端部は、前記基板に近い第1の辺と、第1の辺とは反対側の第2の辺と、第1の辺の一端と第2の辺の一端とを結ぶ第3の辺と、第1の辺の他端と第2の辺の他端とを結ぶ第4の辺とを有し、
前記第2の辺は、トラック幅を規定し、
前記端部の幅は、前記第1の辺に近づくに従って小さくなる垂直磁気記録用磁気ヘッドの製造方法であって、
非磁性材料よりなり、前記磁極層を収容する溝部を有する磁極層収容層を形成する工程と、
前記溝部内および前記磁極層収容層の上面の上に非磁性導電膜を形成する工程と、
前記非磁性導電膜を形成した後、前記磁極層収容層と前記磁極層との間に前記非磁性導電膜が配置されるように、前記溝部内および前記磁極層収容層の上面の上に、前記磁極層となる磁性層を形成する工程と、
前記磁性層が前記磁極層となるように、前記非磁性導電膜が露出するまで前記磁性層を研磨する工程と、
前記コイルを形成する工程と
を備えたことを特徴とする垂直磁気記録用磁気ヘッドの製造方法。 - 前記磁性層は、化学機械研磨によって研磨されることを特徴とする請求項40記載の垂直磁気記録用磁気ヘッドの製造方法。
- 前記非磁性導電膜は、化学的気相成長法、スパッタ法またはイオンビームデポジション法によって形成されることを特徴とする請求項40または41記載の垂直磁気記録用磁気ヘッドの製造方法。
- 前記磁極層は、前記溝部の表面に近い位置に配置された第1層と、前記溝部の表面から遠い位置に配置された第2層とを有し、
前記磁性層を形成する工程は、前記第1層となる第1の磁性層を形成する工程と、前記第1の磁性層の上に、前記第2層となる第2の磁性層を形成する工程とを含むことを特徴とする請求項40ないし42のいずれかに記載の垂直磁気記録用磁気ヘッドの製造方法。 - 前記第1の磁性層は、スパッタ法またはイオンビームデポジション法によって形成されることを特徴とする請求項43記載の垂直磁気記録用磁気ヘッドの製造方法。
- 前記第2の磁性層は、めっき法によって形成されることを特徴とする請求項43または44記載の垂直磁気記録用磁気ヘッドの製造方法。
- 更に、前記非磁性導電膜の形成後、前記磁性層の形成前に、非磁性絶縁材料または非磁性半導体材料よりなり、前記非磁性導電膜と前記磁性層との間に配置される非磁性膜を形成する工程を備えたことを特徴とする請求項40ないし45のいずれかに記載の垂直磁気記録用磁気ヘッドの製造方法。
- 前記非磁性膜は、アルミナ、シリコン酸化物、シリコン酸窒化物、多結晶シリコン、アモルファスシリコンのいずれかよりなることを特徴とする請求項46記載の垂直磁気記録用磁気ヘッドの製造方法。
- 前記非磁性膜は、化学的気相成長法を用いて形成されることを特徴とする請求項46または47記載の垂直磁気記録用磁気ヘッドの製造方法。
- 前記非磁性膜は、1原子層毎の成膜を繰り返す化学的気相成長法を用いて形成されることを特徴とする請求項46または47記載の垂直磁気記録用磁気ヘッドの製造方法。
- 更に、前記非磁性膜の形成後、前記磁性層の形成前に、前記非磁性膜と前記磁性層との間に配置される第2の非磁性導電膜を形成する工程を備え、
前記磁性層を研磨する工程は、前記第2の非磁性導電膜が露出するまで前記磁性層を研磨する第1の研磨工程と、前記磁極層収容層の上面の上に形成された最初の前記非磁性導電膜が露出するまで前記磁性層を研磨する第2の研磨工程とを含むことを特徴とする請求項46ないし49のいずれかに記載の垂直磁気記録用磁気ヘッドの製造方法。 - 前記第2の非磁性導電膜は、化学的気相成長法、スパッタ法またはイオンビームデポジション法によって形成されることを特徴とする請求項50記載の垂直磁気記録用磁気ヘッドの製造方法。
- 記録媒体に対向する媒体対向面と、
前記記録媒体に記録する情報に応じた磁界を発生するコイルと、
前記媒体対向面に配置された端部を有し、前記コイルによって発生された磁界に対応する磁束を通過させると共に、垂直磁気記録方式によって前記情報を前記記録媒体に記録するための記録磁界を発生する磁極層と、
前記磁極層およびコイルが積層される基板とを備え、
前記媒体対向面に配置された前記磁極層の端部は、前記基板に近い第1の辺と、第1の辺とは反対側の第2の辺と、第1の辺の一端と第2の辺の一端とを結ぶ第3の辺と、第1の辺の他端と第2の辺の他端とを結ぶ第4の辺とを有し、
前記第2の辺は、トラック幅を規定し、
前記端部の幅は、前記第1の辺に近づくに従って小さくなる垂直磁気記録用磁気ヘッドの製造方法であって、
非磁性導電材料よりなり、前記磁極層を収容する溝部を有する磁極層収容層を形成する工程と、
前記溝部内に前記磁極層を形成する工程と、
前記コイルを形成する工程と
を備えたことを特徴とする垂直磁気記録用磁気ヘッドの製造方法。 - 前記磁極層は、前記溝部の表面に近い位置に配置された第1層と、前記溝部の表面から遠い位置に配置された第2層とを有することを特徴とする請求項52記載の垂直磁気記録用磁気ヘッドの製造方法。
- 前記第1層は、スパッタ法またはイオンビームデポジション法によって形成されることを特徴とする請求項53記載の垂直磁気記録用磁気ヘッドの製造方法。
- 前記第2層は、めっき法によって形成されることを特徴とする請求項53または54記載の垂直磁気記録用磁気ヘッドの製造方法。
- 前記磁極層を形成する工程は、前記溝部内および前記磁極層収容層の上面の上に、前記第1層となる第1の磁性層を形成する工程と、前記第1の磁性層の上に、前記第2層となるパターン化された第2の磁性層を形成する工程と、前記第2の磁性層をマスクとして、前記第1の磁性層および前記磁極層収容層を選択的にエッチングする工程と、前記第1の磁性層および第2の磁性層のうち、前記磁極層収容層の上面の上に配置された部分が除去されて、前記第1の磁性層および第2の磁性層によって前記磁極層が形成されるように、前記第1の磁性層および第2の磁性層を研磨する工程とを含むことを特徴とする請求項53ないし55のいずれかに記載の垂直磁気記録用磁気ヘッドの製造方法。
- 前記第1の磁性層および第2の磁性層は、化学機械研磨によって研磨されることを特徴とする請求項56記載の垂直磁気記録用磁気ヘッドの製造方法。
- 前記磁極層を形成する工程は、前記溝部内および前記磁極層収容層の上面の上に、前記第1層となる第1の磁性層を形成する工程と、前記第1の磁性層の上に、前記第2層となる第2の磁性層を形成する工程と、前記第1の磁性層および第2の磁性層のうち、前記磁極層収容層の上面の上に配置された部分が除去されて、前記第1の磁性層および第2の磁性層によって前記磁極層が形成されるように、前記磁極層収容層が露出するまで、前記第1の磁性層および第2の磁性層を研磨する工程とを含むことを特徴とする請求項53ないし55のいずれかに記載の垂直磁気記録用磁気ヘッドの製造方法。
- 前記第1の磁性層および第2の磁性層は、化学機械研磨によって研磨されることを特徴とする請求項58記載の垂直磁気記録用磁気ヘッドの製造方法。
- 記録媒体に対向する媒体対向面と、
前記記録媒体に記録する情報に応じた磁界を発生するコイルと、
前記媒体対向面に配置された端部を有し、前記コイルによって発生された磁界に対応する磁束を通過させると共に、垂直磁気記録方式によって前記情報を前記記録媒体に記録するための記録磁界を発生する磁極層と、
前記磁極層およびコイルが積層される基板とを備え、
前記媒体対向面に配置された前記磁極層の端部は、前記基板に近い第1の辺と、第1の辺とは反対側の第2の辺と、第1の辺の一端と第2の辺の一端とを結ぶ第3の辺と、第1の辺の他端と第2の辺の他端とを結ぶ第4の辺とを有し、
前記第2の辺は、トラック幅を規定し、
前記端部の幅は、前記第1の辺に近づくに従って小さくなる垂直磁気記録用磁気ヘッドの製造方法であって、
非磁性絶縁材料よりなり、前記磁極層を収容する溝部を有する磁極層収容層を形成する工程と、
化学的気相成長法によって、前記溝部内に非磁性導電膜を形成する工程と、
前記非磁性導電膜を形成した後、前記磁極層収容層と前記磁極層との間に前記非磁性導電膜が配置されるように、前記溝部内に前記磁極層を形成する工程と、
前記コイルを形成する工程と
を備えたことを特徴とする垂直磁気記録用磁気ヘッドの製造方法。
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