JP2005527867A - アルミニウム塩化合物と不斉アクリレート化合物を含むホログラフィックデータ記録媒体 - Google Patents
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Abstract
Description
重合および結果として得られた濃度傾斜は、屈折率の変化を生成して、データを表現するホログラムを形成する。残念ながら、光画像化(photoimageable)システムを含むプリフォームされたマトリクス材料についての基板への成膜は、溶媒の使用を必要とする。それ故、材料の厚さは、溶媒の充分な蒸発を可能とし、安定な材料を達成して空隙(void)形成を低減するためには、例えば、たった約150μmに制限される。上述のような媒体の3次元空間を利用するホログラフィックプロセスでは、記録容量が媒体の厚さに比例する。このように溶媒除去の必要性が媒体の記録容量を抑制している。(このタイプのホログラフィーは、1より大きいクライン−クック(Klein-Cook)のQパラメータが抑制されるため、一般に体積ホログラフィーと称される(W. Klein, B. Cook, "Unified approach to ultrasonic light diffraction," IEEE Transaction on Sonics and Ultrasonics, SU-14, 1967, at 123-134)を参照のこと)。体積ホログラフィーでは、媒体厚さは一般にフリンジ間隔(spacing)より大きくなる。)
但し、X=H,CH3,OCH3,F,Cl,CF3またはSOCH3で、Rは、好ましくは1〜18個の炭素原子を持つ脂肪族(aliphatic)、脂環式(alicyclic)または芳香族(aromatic)化合物であり、n=0〜5で、M2は、水素、I族〜III族の金属、VIIIB族の金属、または置換もしくは未置換のNH4基である。好ましくは、n=3のとき、M2はAl3+であり、n=0のとき、M2はNH4 +である。驚異なことに、このアルミニウム塩化合物は、媒体の高いM/#、高い感度および低い収縮性などの他の高性能な特性を維持しつつ、禁止時間を排除していた。
但し、Rはフェニル基、一置換または多置換されたフェニル基、ブロモフェニル基、またはナフタレン基で、R1およびR3はメチレン基、エチレン基、プロピレン基、またはブチレン基で、R2はHまたはアルキル基で、R3はCOCH=CH2、COCCH3=CH2、またはCH=CH2である。上記化合物の合成、特性および応用を以下に説明する。
[詳細な説明]
但し、Rはフェニル基、一置換または多置換されたフェニル基、ブロモフェニル基、またはナフタレン基で、R1およびR3はメチレン基、エチレン基、プロピレン基、またはブチレン基で、R2はHまたはアルキル基で、R3はCOCH=CH2、COCCH3=CH2、またはCH=CH2である。
考慮によって、より手助けとなる。例えば、ポリスチレンおよびポリ(メチルビニルエーテル)が混和性であることは周知であり、これはメチルエーテル基とフェニル環との間の引力相互作用のためである。それ故、一方のポリマーにメチルエーテル基を、他方のポリマーにフェニル基を用いることによって、2つのポリマーの混和性、少なくとも相溶性を促進させることができる。また、イオン性相互作用を示し得る適切な官能基の導入によって、非混和性ポリマーが混和性になり得ることも示されている。(Z. L. Zhou and A. Eisenberg, J. Polym. Sci., Polym. Phys. Ed., 21(4), 595, 1983や、R. Murai and A. Eisenberg, J. Polym. Sci., Part B: Polym. Phys., 26(7), 1385, 1988や、A Natansohn et al., Makromol. Chem., Macromol. Symp., 16, 175, 1988を参照のこと。)例えば、ポリイソプレンおよびポリスチレンは非混和性である。しかしながら、ポリイソプレンは部分的にスルホン化され(5%)、4−ビニルピリジンはポリスチレンと共重合された場合、これら2つの機能化されたポリマーのブレンドは混和性である。スルホン酸基とピリジン基(プロトン移動)との間のイオン性相互作用が、このブレンドを混和性にする推進力である。同様に、ポリスチレンおよびポリ(エチルアクリレート)は、通常は非混和性であるが、ポリスチレンを軽くスルホン化することによって、混和性にできた(R. E. Taylor-Smith and R. A. Register, Macromolecules, 26, 2802, 1993を参照のこと)。電荷移動も、それでもなお非混和性であるポリマーを混和性にするために用いられた。例えば、ポリ(メチルアクリレート)およびポリ(メチルメタクリレート)は非混和性であるが、前者が(N−エチルカルバゾール−3−イル)メチルアクリレート(電子ドナー)と共重合され、後者が2−[(3,5−ジニトロベンゾイル)オキシ]エチルメタクリレート(電子アクセプタ)と共重合されたブレンドは、正しい量のドナーおよびアクセプタを用いることを条件として、混和性である(M. C. Piton and A. Natansohn, Macromolecules, 28, 15, 1995を参照のこと)。ポリ(メチルメタクリレート)およびポリスチレンも、対応するドナー−アクセプタのコモノマーを用いることによって、混和性とすることができる(M. C. Piton and A. Natansohn, Macromolecules, 28, 1605, 1995を参照のこと)。
NCO末端プレポリマー 20〜50重量%
アクリレートモノマー 1〜15 重量%
光開始剤 0.2〜3重量%
ポリオール 40〜75重量%
触媒 0.1〜3重量%
熱安定剤および酸化剤 0.001〜0.5重量%
但し、Rはフェニル基、一置換または多置換されたフェニル基、ブロモフェニル基、またはナフタレン基で、R1およびR3はメチレン基、エチレン基、プロピレン基、またはブチレン基で、R2はHまたはアルキル基で、R3はCOCH=CH2、COCCH3=CH2、またはCH=CH2である。
但し、X=H,CH3,OCH3,F,Cl,CF3またはSOCH3で、Rは、好ましくは1〜18個の炭素原子を持つ脂肪族(aliphatic)、脂環式(alicyclic)または芳香族(aromatic)化合物であり、n=0〜5で、M2は、水素、I族〜III族の金属、VIIIB族の金属、または置換もしくは未置換のNH4基である。好ましくは、n=3のとき、M2はAl3+であり、n=0のとき、M2はNH4 +である。
(新規な光反応性化合物の準備)
I. 2,4−ビス(2−ナフチルチオ)−2−ブチルアクリレート
1. 1,4−ビス(2−ナフチルチオ)−2ブタノール、化合物1の準備
2.2,4−ビス(2−ナフタレンチオール)−2−ブチルアクリレート、化合物2の準備
II. 1,4−ビス(4−ブロモベンゼンチオール)−2−ブチルアクリレート
1. 1,4−ビス(4−ブロモフェニルチオ)−2ブタノール、化合物3の準備
2. 1,4−ビス(4−ブロモベンゼンチオール)−2−ブチルアクリレート、化合物4の準備
(実施例および比較例)
(比較例)
2)ポリプロピレンオキサイドトリオールの分子量は、1000。
(実施例1)
ポリプロピレンオキサイドトリオールの分子量は、1500。
PTMEG-1000は、分子量1000のポリテトラメチレングリコールジオール。
Claims (39)
- アルミニウム塩化合物と、硫黄および芳香族部分を含む不斉アクリレート化合物とを含む光画像化システムであって、
前記不斉アクリレート化合物は、室温で液状であり、
前記光画像化システムは、60℃/相対湿度85%に4週間露出した場合、ダイナミックレンジの少なくとも約40%を保持している光画像化システム。 - n=3のときM2はAl3+であり、または、n=0のときM2はNH4 +である請求項2記載の光画像化システム。
- 光画像化システムは、2−化学反応システムである請求項2記載の光画像化システム。
- 光画像化システムは、光学物品を形成する請求項2記載の光画像化システム。
- 光画像化システムは、3より大きいダイナミックレンジおよび0.1%より小さい収縮性を有するホログラフィック記録媒体を形成する請求項1記載の光画像化システム。
- 光画像化システムは、2−化学反応システムである請求項1記載の光画像化システム。
- マトリクス前駆体をさらに含む請求項1記載の光画像化システム。
- 前記マトリクス前駆体は、ポリオール、芳香族イソシアネート、脂肪族イソシアネート、芳香族ジイソシアネート、ヘキサメチレンジイソシアネート、ヘキサメチレンジイソシアネートの誘導体、およびこれらの組合せから成るグループから選択された物質を含む請求項8記載の光画像化システム。
- 前記マトリクス前駆体は、ウレタンを形成する請求項8記載の光画像化システム。
- n=3のときM2はAl3+であり、または、n=0のときM2はNH4 +である請求項12記載の光画像化システム。
- 光画像化システムは、光学物品を形成する請求項11記載の光画像化システム。
- 光画像化システムは、3より大きいダイナミックレンジおよび0.1%より小さい収縮性を有するホログラフィック記録媒体を形成する請求項11記載の光画像化システム。
- 光画像化システムは、4より大きいダイナミックレンジおよび0.08%より小さい収縮性を有するホログラフィック記録媒体を形成する請求項11記載の光画像化システム。
- 光画像化システムは、2−化学反応システムである請求項11記載の光画像化システム。
- マトリクス前駆体をさらに含む請求項11記載の光画像化システム。
- 前記マトリクス前駆体は、ポリオール、芳香族イソシアネート、脂肪族イソシアネート、芳香族ジイソシアネート、ヘキサメチレンジイソシアネート、ヘキサメチレンジイソシアネートの誘導体、およびこれらの組合せから成るグループから選択された物質を含む請求項8記載の光画像化システム。
- 前記マトリクス前駆体は、ウレタンを形成する請求項18記載の光画像化システム。
- 請求項1記載の光画像化システムを得る工程と、
光画像化システムのうちの少なくとも幾つかの成分を反応させて、光学物品を形成する工程とを備える光学物品の製造方法。 - 前記反応は、ウレタン形成反応、尿素形成反応、カチオンエポキシ重合、カチオンビニルエーテル重合、カチオンアルケニルエーテル重合、カチオンアリルエーテル重合、カチオンケテンアセタール重合、エポキシ−アミンステップ重合、エポキシ−メルカプタンステップ重合、不飽和エステル−アミンステップ重合、不飽和エステル−メルカプタンステップ重合、ヒドロシリル化反応、およびこれらの組合せから成るグループから選択された重合反応を含む請求項21記載の方法。
- 光画像化システムは、マトリクス前駆体を含み、前記マトリクス前駆体は、ポリオール、芳香族イソシアネート、脂肪族イソシアネート、芳香族ジイソシアネート、ヘキサメチレンジイソシアネート、ヘキサメチレンジイソシアネートの誘導体、およびこれらの組合せから成るグループから選択された物質を含む請求項21記載の方法。
- 光画像化システムは、ポリオールを含み、前記ポリオールは、ポリプロピレンオキサイド、ポリテトラメチレンエーテルジオール、およびこれらの組合せから成るグループから選択された材料のポリオールを含む請求項24記載の方法。
- 光学物品は、ホログラフィック記録媒体である請求項21記載の方法。
- 請求項11記載の光画像化システムを得る工程と、
光画像化システムのうちの少なくとも幾つかの成分を反応させて、光学物品を形成する工程とを備える光学物品の製造方法。 - 前記反応は、ウレタン形成反応、尿素形成反応、カチオンエポキシ重合、カチオンビニルエーテル重合、カチオンアルケニルエーテル重合、カチオンアリルエーテル重合、カチオンケテンアセタール重合、エポキシ−アミンステップ重合、エポキシ−メルカプタンステップ重合、不飽和エステル−アミンステップ重合、不飽和エステル−メルカプタンステップ重合、ヒドロシリル化反応、およびこれらの組合せから成るグループから選択された重合反応を含む請求項26記載の方法。
- 光画像化システムは、マトリクス前駆体を含み、前記マトリクス前駆体は、ポリオール、芳香族イソシアネート、脂肪族イソシアネート、芳香族ジイソシアネート、ヘキサメチレンジイソシアネート、ヘキサメチレンジイソシアネートの誘導体、およびこれらの組合せから成るグループから選択された物質を含む請求項26記載の方法。
- 光画像化システムは、ポリオールを含み、前記ポリオールは、ポリプロピレンオキサイド、ポリテトラメチレンエーテルジオール、およびこれらの組合せから成るグループから選択された材料のポリオールを含む請求項26記載の方法。
- 光学物品は、ホログラフィック記録媒体である請求項26記載の方法。
- 前記光画像化システムは、60℃/相対湿度85%に4週間露出した場合、ダイナミックレンジの少なくとも約40%を保持している請求項26記載の方法。
- 前記光画像化システムは、60℃/相対湿度85%に4週間露出した場合、ダイナミックレンジの少なくとも約60%を保持している請求項26記載の方法。
- 前記光画像化システムは、60℃/相対湿度85%に4週間露出した場合、ダイナミックレンジの少なくとも約80%を保持している請求項26記載の方法。
- 請求項1記載の光画像化システムを含むホログラフィック記録媒体を、干渉パターンに露光する工程と、
干渉パターンをホログラフィック記録媒体に記録する工程とを備える干渉パターン記録方法。 - ホログラフィック記録媒体は、3より大きいダイナミックレンジおよび0.1%より小さい収縮性を有する請求項34記載の方法。
- 記録された干渉パターンを参照ビームに露光して、信号ビームを生成する工程をさらに備える請求項34記載の方法。
- 請求項11記載の光画像化システムを含むホログラフィック記録媒体を、干渉パターンに露光する工程と、
干渉パターンをホログラフィック記録媒体に記録する工程とを備える干渉パターン記録方法。 - ホログラフィック記録媒体は、3より大きいダイナミックレンジおよび0.1%より小さい収縮性を有する請求項37記載の方法。
- 記録された干渉パターンを参照ビームに露光して、信号ビームを生成する工程をさらに備える請求項37記載の方法。
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Cited By (4)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
WO2010037496A1 (de) | 2008-10-01 | 2010-04-08 | Bayer Materialscience Ag | Prepolymerbasierte polyurethanformulierungen zur herstellung holografischer medien |
KR20100037563A (ko) * | 2008-10-01 | 2010-04-09 | 바이엘 머티리얼사이언스 아게 | 홀로그래피 매체 제조용 폴리에테르-기재 폴리우레탄 배합물 |
KR20100037562A (ko) * | 2008-10-01 | 2010-04-09 | 바이엘 머티리얼사이언스 아게 | 홀로그래피 매체 제조용 특정 폴리에테르-기재 폴리우레탄 배합물 |
JP2012504777A (ja) * | 2008-10-01 | 2012-02-23 | バイエル・マテリアルサイエンス・アクチェンゲゼルシャフト | 自己現像性ポリマーをベースとする体積ホログラフィックのための媒体 |
Families Citing this family (21)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
US20030206320A1 (en) * | 2002-04-11 | 2003-11-06 | Inphase Technologies, Inc. | Holographic media with a photo-active material for media protection and inhibitor removal |
AU2003232437A1 (en) * | 2002-05-29 | 2003-12-19 | Inphase Technologies, Inc. | High reflective index photoactive compound for optical applications |
US7271283B2 (en) * | 2003-08-29 | 2007-09-18 | General Electric Company | High refractive index, UV-curable monomers and coating compositions prepared therefrom |
US7455889B2 (en) | 2004-03-24 | 2008-11-25 | Imation Corp. | Holographic media fabrication techniques |
JPWO2006018986A1 (ja) * | 2004-08-18 | 2008-05-08 | コニカミノルタエムジー株式会社 | ホログラフィック記録メディア、ホログラフィック記録方法およびホログラフィック情報メディア |
US7341784B2 (en) * | 2004-09-10 | 2008-03-11 | General Electric Company | Light management film and its preparation and use |
CN101501579A (zh) * | 2006-09-05 | 2009-08-05 | 三菱化学株式会社 | 体积全息光记录介质、体积全息记录层形成用组合物、体积全息记录材料及体积全息光记录方法 |
US20080145545A1 (en) * | 2006-12-15 | 2008-06-19 | Bret Ja Chisholm | Metal oxide and sulfur-containing coating compositions, methods of use, and articles prepared therefrom |
JP2009048066A (ja) * | 2007-08-22 | 2009-03-05 | Fujifilm Corp | ホログラフィック記録媒体およびホログラフィック記録装置 |
US8354216B2 (en) * | 2008-07-15 | 2013-01-15 | Eastman Kodak Company | Negative-working imaging elements and methods of use |
EP2218743A1 (de) * | 2009-02-12 | 2010-08-18 | Bayer MaterialScience AG | Prepolymerbasierte Polyurethanformulierungen zur Herstellung holographischer Filme |
US8284234B2 (en) | 2009-03-20 | 2012-10-09 | Absolute Imaging LLC | Endoscopic imaging using reflection holographic optical element for autostereoscopic 3-D viewing |
US20120237856A1 (en) | 2009-11-03 | 2012-09-20 | Bayer Intellectual Property Gmbh | Selection method for additives in photopolymers |
EP2496549B1 (de) * | 2009-11-03 | 2014-10-08 | Bayer Intellectual Property GmbH | Neue, nicht kristallisierende methacrylate, deren herstellung und verwendung |
EP2450893A1 (de) * | 2010-11-08 | 2012-05-09 | Bayer MaterialScience AG | Photopolymer-Formulierung zur Herstellung holographischer Medien mit hoch vernetzten Matrixpolymeren |
EP2450387A1 (de) * | 2010-11-08 | 2012-05-09 | Bayer MaterialScience AG | Photopolymer-Formulierung für die Herstellung holographischer Medien |
KR20140082784A (ko) | 2011-10-12 | 2014-07-02 | 바이엘 인텔렉쳐 프로퍼티 게엠베하 | 폴리우레탄-기재 광중합체 제제의 황-함유 사슬 전달 시약 |
JP6351596B2 (ja) | 2012-09-17 | 2018-07-04 | ビーエーエスエフ ソシエタス・ヨーロピアBasf Se | 偽造防止素子およびそれらの製造方法 |
EP3230261B1 (de) * | 2014-12-12 | 2018-09-05 | Covestro Deutschland AG | Naphthylacrylate als schreibmonomere für photopolymere |
US20220119567A1 (en) * | 2019-02-18 | 2022-04-21 | The Regents Of The University Of Colorado, A Body Corporate | Network polymers and methods of making and using same |
US20200354594A1 (en) * | 2019-05-08 | 2020-11-12 | Facebook Technologies, Llc | Thermally reversible and reorganizable crosslinking polymers for volume bragg gratings |
Citations (8)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
JPH05107999A (ja) * | 1991-04-17 | 1993-04-30 | Nippon Paint Co Ltd | 体積ホログラム記録用感光性組成物 |
JPH08101501A (ja) * | 1994-10-03 | 1996-04-16 | Nippon Paint Co Ltd | 体積ホログラム記録用感光性組成物、及びそれを用いた記録媒体ならびに体積ホログラム形成方法 |
JPH09179479A (ja) * | 1995-12-25 | 1997-07-11 | Nippon Soken Inc | ホログラムの製造方法 |
JP2001201850A (ja) * | 2000-01-21 | 2001-07-27 | Fuji Photo Film Co Ltd | 光重合性画像記録材料 |
JP2001305742A (ja) * | 2000-04-18 | 2001-11-02 | Fuji Photo Film Co Ltd | 光重合性画像記録材料 |
JP2002069109A (ja) * | 2000-09-01 | 2002-03-08 | Fuji Photo Film Co Ltd | 光重合性組成物 |
JP2003066343A (ja) * | 2001-06-08 | 2003-03-05 | Inphase Technologies Inc | チューニング可能な光学フィルタ |
JP2004537620A (ja) * | 2001-08-07 | 2004-12-16 | インフェイズ テクノロジーズ インコーポレイテッド | ホログラフィック記録製品の迅速大量生産のための製造方法及び組成物 |
Family Cites Families (44)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
US2522501A (en) * | 1944-10-19 | 1950-09-19 | Sprague Electric Co | Vinyl diaryl ether polymers |
US4695528A (en) * | 1980-07-16 | 1987-09-22 | Wolfgang Dabisch | Process for forming images using body with reversible fixable and temperature-variable light extinctions |
US4362887A (en) * | 1981-04-10 | 1982-12-07 | The Goodyear Tire & Rubber Company | Synergistic antioxidant mixtures |
JPS6026012A (ja) * | 1983-07-25 | 1985-02-08 | Konishiroku Photo Ind Co Ltd | 光学用樹脂物体 |
US5026860A (en) * | 1983-08-29 | 1991-06-25 | Minnesota Mining And Manufacturing Company | Bidentate chelating monomers and polymers |
JPS6256465A (ja) * | 1985-09-04 | 1987-03-12 | Seitetsu Kagaku Co Ltd | 4−ビニル−1−〔(2−フエニルチオ)エチル〕ベンゼン及びそのアルキル置換誘導体とその製造法 |
US4977060A (en) * | 1989-12-07 | 1990-12-11 | The Mead Corporation | Method for producing microcapsules and photosensitive microcapsules produced thereby |
JPH03246014A (ja) * | 1990-02-23 | 1991-11-01 | Toray Ind Inc | プラスチックレンズの製造方法 |
US5459175A (en) * | 1990-11-28 | 1995-10-17 | Loctite Corporation | Optical fiber primary coatings and fibers coated therewith |
US5332522A (en) * | 1993-04-29 | 1994-07-26 | The University Of Rochester | Thermotropic chiral nematic liquid crystalline copolymers |
US5708064A (en) * | 1993-10-15 | 1998-01-13 | Ppg Industries, Inc. | High refractive index photochromic ophthalmic article |
JPH07206944A (ja) * | 1994-01-24 | 1995-08-08 | Mitsubishi Rayon Co Ltd | プラスチックレンズ成形用組成物及びそれを用いたプラスチックレンズ |
AU684891B2 (en) * | 1994-03-17 | 1998-01-08 | Toppan Printing Co. Ltd. | Photosensitive recording material, photosensitive recording medium, and process for producing hologram using this photosensitive recording medium |
JP3075090B2 (ja) * | 1994-07-29 | 2000-08-07 | 凸版印刷株式会社 | ホログラム感光性記録材料およびホログラム感光性記録媒体並びにそれを用いたホログラム製造方法 |
DE4434966A1 (de) * | 1994-09-30 | 1996-04-04 | Bayer Ag | Neue Seitengruppenpolymere und ihre Verwendung für optische Bauelemente |
US5702846A (en) * | 1994-10-03 | 1997-12-30 | Nippon Paint Co. Ltd. | Photosensitive composition for volume hologram recording |
EP0952466A3 (en) * | 1994-10-18 | 2000-05-03 | Mitsubishi Rayon Co., Ltd. | Lens sheet |
US5609992A (en) * | 1994-11-01 | 1997-03-11 | Fuji Photo Film Co., Ltd. | Photopolymerizable composition |
JP3442176B2 (ja) * | 1995-02-10 | 2003-09-02 | 富士写真フイルム株式会社 | 光重合性組成物 |
FR2731081B1 (fr) * | 1995-02-27 | 1997-04-11 | Essilor Int | Procede d'obtention d'un article transparent a gradient d'indice de refraction |
US5665791A (en) * | 1995-09-21 | 1997-09-09 | Tamarack Storage Devices, Inc. | Photosensitive polymer films and their method of production |
US5916987A (en) * | 1996-05-29 | 1999-06-29 | Mitsui Chemicals, Inc. | Thiol and Sulfur-containing O-(meth) acrylate compounds and use thereof |
DE19643048A1 (de) * | 1996-10-18 | 1998-04-23 | Daimler Benz Ag | Verbindungen und deren Verwendung sowie Verfahren zur Herstellung von flüssigkristallinen Polymeren daraus |
US6107364A (en) * | 1997-05-09 | 2000-08-22 | 3M Innovative Properties Company | Methyl styrene as a high index of refraction monomer |
US5932626A (en) * | 1997-05-09 | 1999-08-03 | Minnesota Mining And Manufacturing Company | Optical product prepared from high index of refraction brominated monomers |
US6310161B1 (en) * | 1997-07-25 | 2001-10-30 | Ucb S.A. | Sulfur-containing compounds for optical grade polymeric casting compositions |
US5891931A (en) * | 1997-08-07 | 1999-04-06 | Alcon Laboratories, Inc. | Method of preparing foldable high refractive index acrylic ophthalmic device materials |
FR2771740B1 (fr) * | 1997-12-01 | 1999-12-31 | Atochem Elf Sa | Monomeres methacryliques soufres et leur preparation |
US5959775A (en) * | 1997-12-23 | 1999-09-28 | 3M Innovative Properties Company | Urethane/acrylate bead bond for retroreflective articles |
US6268089B1 (en) * | 1998-02-23 | 2001-07-31 | Agere Systems Guardian Corp. | Photorecording medium and process for forming medium |
AU735154B2 (en) * | 1998-03-02 | 2001-07-05 | Tokuyama Corporation | Photochromic curable composition |
US6482551B1 (en) * | 1998-03-24 | 2002-11-19 | Inphase Technologies | Optical article and process for forming article |
US6124076A (en) * | 1998-07-01 | 2000-09-26 | Lucent Technologies Inc. | Material exhibiting compensation for polymerization-induced shrinkage and recording medium formed therefrom |
US6048587A (en) * | 1998-10-01 | 2000-04-11 | Ricon Resins, Inc. | Water-dispersible, radiation and thermally-curable polymeric compositions |
US6175037B1 (en) * | 1998-10-09 | 2001-01-16 | Ucb, S.A. | Process for the preparation of (meth)acrylate esters and polyester (meth)acrylates using microwave energy as a heating source |
US6031014A (en) * | 1998-12-08 | 2000-02-29 | Crivello; James V. | Initiator compositions and methods for their synthesis and use |
US6329485B1 (en) * | 1998-12-11 | 2001-12-11 | Bausch & Lomb Incorporated | High refractive index hydrogel compositions for ophthalmic implants |
JP4704573B2 (ja) * | 1999-05-10 | 2011-06-15 | スリーエム イノベイティブ プロパティズ カンパニー | エン−チオールエラストマーを作成するための組成物 |
US6458908B1 (en) * | 1999-06-01 | 2002-10-01 | Mitsui Chemicals, Inc. | Sulfur-containing unsaturated carboxylate compound and its cured products |
GB0013767D0 (en) * | 2000-06-07 | 2000-07-26 | Univ Heriot Watt | Photo-polymers and use thereof |
US6780546B2 (en) * | 2001-08-30 | 2004-08-24 | Inphase Technologies, Inc. | Blue-sensitized holographic media |
US6765061B2 (en) * | 2001-09-13 | 2004-07-20 | Inphase Technologies, Inc. | Environmentally durable, self-sealing optical articles |
AU2003232437A1 (en) * | 2002-05-29 | 2003-12-19 | Inphase Technologies, Inc. | High reflective index photoactive compound for optical applications |
US7271283B2 (en) * | 2003-08-29 | 2007-09-18 | General Electric Company | High refractive index, UV-curable monomers and coating compositions prepared therefrom |
-
2003
- 2003-05-29 DE DE60306375T patent/DE60306375T2/de not_active Expired - Lifetime
- 2003-05-29 CN CN03815404.8A patent/CN1666294A/zh active Pending
- 2003-05-29 EP EP03756276A patent/EP1508144B1/en not_active Expired - Lifetime
- 2003-05-29 WO PCT/US2003/017011 patent/WO2003102959A1/en active IP Right Grant
- 2003-05-29 JP JP2004509955A patent/JP2005527867A/ja active Pending
- 2003-05-29 AT AT03756276T patent/ATE331288T1/de not_active IP Right Cessation
- 2003-05-29 AU AU2003232438A patent/AU2003232438A1/en not_active Abandoned
- 2003-05-29 US US10/446,771 patent/US7282322B2/en not_active Expired - Lifetime
Patent Citations (8)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
JPH05107999A (ja) * | 1991-04-17 | 1993-04-30 | Nippon Paint Co Ltd | 体積ホログラム記録用感光性組成物 |
JPH08101501A (ja) * | 1994-10-03 | 1996-04-16 | Nippon Paint Co Ltd | 体積ホログラム記録用感光性組成物、及びそれを用いた記録媒体ならびに体積ホログラム形成方法 |
JPH09179479A (ja) * | 1995-12-25 | 1997-07-11 | Nippon Soken Inc | ホログラムの製造方法 |
JP2001201850A (ja) * | 2000-01-21 | 2001-07-27 | Fuji Photo Film Co Ltd | 光重合性画像記録材料 |
JP2001305742A (ja) * | 2000-04-18 | 2001-11-02 | Fuji Photo Film Co Ltd | 光重合性画像記録材料 |
JP2002069109A (ja) * | 2000-09-01 | 2002-03-08 | Fuji Photo Film Co Ltd | 光重合性組成物 |
JP2003066343A (ja) * | 2001-06-08 | 2003-03-05 | Inphase Technologies Inc | チューニング可能な光学フィルタ |
JP2004537620A (ja) * | 2001-08-07 | 2004-12-16 | インフェイズ テクノロジーズ インコーポレイテッド | ホログラフィック記録製品の迅速大量生産のための製造方法及び組成物 |
Cited By (13)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
WO2010037496A1 (de) | 2008-10-01 | 2010-04-08 | Bayer Materialscience Ag | Prepolymerbasierte polyurethanformulierungen zur herstellung holografischer medien |
KR20100037563A (ko) * | 2008-10-01 | 2010-04-09 | 바이엘 머티리얼사이언스 아게 | 홀로그래피 매체 제조용 폴리에테르-기재 폴리우레탄 배합물 |
KR20100037562A (ko) * | 2008-10-01 | 2010-04-09 | 바이엘 머티리얼사이언스 아게 | 홀로그래피 매체 제조용 특정 폴리에테르-기재 폴리우레탄 배합물 |
JP2010084147A (ja) * | 2008-10-01 | 2010-04-15 | Bayer Materialscience Ag | ホログラフィック媒体を製造するためのポリエーテル系ポリウレタン組成物 |
JP2010084148A (ja) * | 2008-10-01 | 2010-04-15 | Bayer Materialscience Ag | ホログラフィック媒体を製造するための特定のポリエーテル系ポリウレタン組成物 |
KR20110079631A (ko) * | 2008-10-01 | 2011-07-07 | 바이엘 머티리얼사이언스 아게 | 홀로그래피 매체의 제조를 위한 예비중합체-기재 폴리우레탄 제제 |
JP2012504665A (ja) * | 2008-10-01 | 2012-02-23 | バイエル・マテリアルサイエンス・アクチェンゲゼルシャフト | ホログラフィック媒体製造用のプレポリマー系ポリウレタン配合物 |
JP2012504777A (ja) * | 2008-10-01 | 2012-02-23 | バイエル・マテリアルサイエンス・アクチェンゲゼルシャフト | 自己現像性ポリマーをベースとする体積ホログラフィックのための媒体 |
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