JP2005523809A - オゾン化水の流れおよび濃度を制御する装置および方法 - Google Patents
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Abstract
Description
本願は、米国特許出願番号10/133,237(2002年4月26日出願)に対して優先権を主張する。
本発明は、一般に、半導体デバイスの製造に関し、そしてより具体的には、半導体加工ツールに供給されるオゾン化脱イオン水の制御に関する。
半導体製造におけるオゾン化脱イオン水の使用は、比較的単純な、安全な加工工程(例えば、ウエハ表面クリーニング、パシベーション、ネイティブ酸素除去、およびフォトレジストの除去)を提供し得る。
本発明は、改善されたオゾン化水供給システムにおいて使用するための、オゾン化水制御ユニットに関する。この制御ユニットは、プロセスツールへの引き続く送達のために、オゾン化水発生器から受容されたオゾン化水の流速および/または濃度を改変し得る。1つ以上の制御ユニットが、単一の発生器と共に使用されて、別々のオゾン化水の必要性に合わせて、1つより多いツールに供給し得る。
非常に単純化された形態で、図1は、半導体製造において利用される他の構成要素との物理的関係で、オゾン化水発生器1000の実施形態を示す。オゾン化水発生器1000は、脱イオン水(「DI水」)供給20のためのDI水を受容し、酸素ガス供給30から酸素(「O2」)を受容し、そして1つ以上の半導体プロセスツール40に、オゾン化脱イオン水(「DIO3」)を供給する。使用済みまたは過剰のDI水またはDIO3は、排液ライン50を介して廃棄される。1つの局面において、本発明は、改善された制御、より低いコスト、および改善された信頼性を有する、オゾン化水発生器を提供する。
t=r(P/σmax);
σmax=(1/s)σy;
ここで、tは、必要とされる壁厚であり、rは、容器の内部半径であり、Pは内圧であり、σmaxは、最大の許容され得る張力壁応力であり、σyは、容器部品を形成するために用いられた特定の材料についての降伏強度であり、そしてsは、安全係数である。特定の容器材料について、より大きな安全係数(すなわち、特定の最大許容可能張力壁応力)を用いることにより、所定の作動圧力Pについて、より大きな厚さtがもたらされる。
例示的な実施形態では、制御ユニット1400は、約0〜35リットル/分の範囲の流速を有するオゾン化水および約0〜42リットル/分の範囲の流速を有するDI水を受容する。好ましい廃液流れは、約0〜2リットル/分の範囲である。排出オゾン化水中のオゾン濃度は、投入オゾン化水濃度の0%〜100%の範囲であり得る。排出オゾン化水中の0%オゾン濃度が、DI水のみを制御ユニットの排出へ送達することによって入手され得ることが本明細書中で理解される。
Claims (14)
- 1つより多くのプロセスツールにオゾン化水を供給するための方法であって、以下:
第1の濃度を有するオゾン化水を、オゾン化水発生器から受容する工程;
水を供給源から受容する工程;
該受容されたオゾン化水のうちの少なくとも1つと該供給源から受容された水とを混合して、第2の濃度を有するオゾン化水を生成する工程;および
該第2の濃度を有するオゾン化水を第1のプロセスツールに供給し、同時に、該オゾン化水発生器からのオゾン化水を第2のプロセスツールに供給する工程、
を包含する、方法。 - 前記オゾン化水発生器からのオゾン化水を前記第2のプロセスツールへと供給する工程が、該オゾン化水発生器からのオゾン化水のうちの少なくとも1つと、前記供給源からの水とを混合して、第3の濃度を有するオゾン化水を生成する工程、および該第3の濃度を有するオゾン化水を、前記第2のプロセスツールに供給する工程を包含する、請求項1に記載の方法。
- 混合する工程が、前記受容されたオゾン化水の流速対前記供給源から受容された水の流速の比を選択して、前記第2の濃度を有するオゾン化水を生成する工程を包含する、請求項1に記載の方法。
- 混合する工程が、前記受容されたオゾン化水の流速と、前記受容された水の流速とのうちのいずれか1つを調節して、前記選択された比を提供する工程をさらに包含する、請求項3に記載の方法。
- 前記第2の濃度を有するオゾン化水の流速を選択する工程、ならびに前記受容されたオゾン化水の流速および前記供給源から受容された水の流速を制御して、前記第2の濃度を有するオゾン化水の選択された流速を提供する工程をさらに包含する、請求項1に記載の方法。
- 混合する工程が、前記受容されたオゾン化水を、前記供給源から受容された水と実質的に混合せず、0%のオゾン濃度に実質的に等しい前記第2の濃度を提供する工程を包含する、請求項1に記載の方法。
- 1つより多くのプロセスツールにオゾン化水を供給する方法であって、以下:
オゾン化水制御ユニットを提供する工程であって、該オゾン化水制御ユニットは、以下:
第1の濃度を有するオゾン化水を、オゾン化水発生器から受容するための、オゾン化水投入ポート;
水を供給源から受容するための水投入ポート;
該オゾン化水投入ポートおよび該水投入ポートと流体連絡する、オゾン化水排出ポート;ならびに
該オゾン化水投入ポートにおけるオゾン化水の流速と協働して、該水投入ポートにおける水の流速を制御して、該排出ポートにおいて第2の濃度を有するオゾン化水を生成するための、弁、
を備える、工程;ならびに
該排出ポートからの該第2の濃度を有するオゾン化水を、第1のプロセスツールへと供給し、同時に、該オゾン化水発生器からのオゾン化水を、第2のプロセスツールへと供給する工程、
を包含する、方法。 - 前記オゾン化水発生器からのオゾン化水を第2のプロセスツールへと供給する工程が:
第2のオゾン化水制御ユニットを提供する工程であって、該第2のオゾン化水制御ユニットが、以下:
前記第1の濃度を有するオゾン化水を、前記オゾン化水発生器から受容するための、オゾン化水投入ポート;
水を前記供給源から受容するための水投入ポート;
該オゾン化水投入ポートおよび該水投入ポートと流体連絡する、オゾン化水排出ライン;ならびに
該オゾン化水投入ポートにおけるオゾン化水の流速と協働して、該水投入ポートにおける水の流速を制御して、該排出ポートにおいて第3の濃度を有するオゾン化水を生成するための、弁、
を備える、工程;ならびに
該排出ポートからの該第3の濃度を有するオゾン化水を、該第2のプロセスツールへと供給する工程、
を包含する、請求項7に記載の方法。 - オゾン化水制御ユニットであって、以下:
第1の濃度を有するオゾン化水を、オゾン化水発生器から受容するための、オゾン化水投入ポート;
水を供給源から受容するための水投入ポート;
該オゾン化水投入ポートおよび該水投入ポートと流体連絡する、オゾン化水排出ポート;ならびに
該オゾン化水投入ポートにおけるオゾン化水の流速と協働して、該水投入ポートにおける水の流速を制御して、該排出ポートにおいて第2の濃度を有するオゾン化水を生成するための、弁、
を備える、オゾン化水制御ユニット。 - 前記水投入ポートにおける水の流速を測定するための、フローセンサをさらに備え、前記弁が、該測定された流速に応答して、前記第2の濃度を有するオゾン化水を生成するために選択された流速を得るように調節される、請求項9に記載のオゾン化水制御ユニット。
- 前記オゾン化水投入ポートにおける、前記受容されたオゾン化水の流速を測定するためのフローセンサ、および該オゾン化水投入ポートにおける、該受容されたオゾン化水の流速を制御するための弁をさらに備え、該受容されたオゾン化水の流速を制御するための弁が、該受容されたオゾン化水の測定された流速に応答して、該受容されたオゾン化水の流速対前記供給源から受容された水の流速の、選択された比を提供するように調節される、請求項10に記載のオゾン化水制御ユニット。
- 前記オゾン化水投入ポートおよび前記水投入ポートと流体連絡する、第2のオゾン化水排出ポートをさらに備え、該第2のオゾン化水排出ポートは、第3の濃度を有するオゾン化水を供給するためのものである、請求項10に記載のオゾン化水制御ユニット。
- 前記第2の濃度が、前記第1の濃度の0%〜100%の範囲である、請求項10に記載のオゾン化水制御ユニット。
- オゾン化水供給システムであって、以下:
オゾン化水発生器;
該オゾン化水発生器と流体連絡した第1のオゾン化水制御ユニットであって、該制御ユニットは、以下:
第1の濃度を有するオゾン化水を、該オゾン化水発生から受容するための、オゾン化水投入ポート;
水を供給源から受容するための水投入ポート;
該オゾン化水投入ポートおよび該水投入ポートと流体連絡する、オゾン化水排出ポート;ならびに
該オゾン化水投入ポートにおけるオゾン化水の流速と協働して、該水投入ポートにおける水の流速を制御して、該排出ポートにおいて第2の濃度を有するオゾン化水を生成するための、弁、
を備える、第1のオゾン化水制御ユニット、ならびに
該オゾン化水発生器と流体連絡し、第3の濃度を有するオゾン化水を第2のプロセスツールに供給し、同時に該第2の濃度を有するオゾン化水を第1のプロセスツールに供給するための、第2のオゾン化水制御ユニット、
を備える、オゾン化水供給システム。
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Cited By (1)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
JP2021171696A (ja) * | 2020-04-24 | 2021-11-01 | 三菱電機株式会社 | 浄化装置および浄化方法 |
Families Citing this family (27)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
US6331166B1 (en) * | 1998-03-03 | 2001-12-18 | Senorx, Inc. | Breast biopsy system and method |
US6805791B2 (en) * | 2000-09-01 | 2004-10-19 | Applied Science And Technology, Inc. | Ozonated water flow and concentration control apparatus |
KR100487556B1 (ko) * | 2002-12-30 | 2005-05-03 | 삼성전자주식회사 | 반도체 박막 증착장치 |
JP2005152803A (ja) * | 2003-11-26 | 2005-06-16 | Siltronic Japan Corp | オゾン水の送水方法 |
JP2005161284A (ja) * | 2003-11-28 | 2005-06-23 | Nittetu Chemical Engineering Ltd | 定濃度オゾン水の供給方法 |
WO2006010109A2 (en) * | 2004-07-08 | 2006-01-26 | Akrion Technologies, Inc. | Method and apparatus for creating ozonated process solutions having high ozone concentration |
JP4077845B2 (ja) | 2005-03-18 | 2008-04-23 | セメス株式会社 | 機能水供給システム、及び機能水供給方法 |
US7429323B2 (en) * | 2005-04-27 | 2008-09-30 | Price Brothers Company | Water treatment system and pressure pipe therefor |
US7977241B2 (en) * | 2006-12-20 | 2011-07-12 | Freescale Semiconductor, Inc. | Method for fabricating highly reliable interconnects |
US8071526B2 (en) * | 2007-03-14 | 2011-12-06 | Food Safety Technology, Llc | Aqueous ozone solution for ozone cleaning system |
US8735337B2 (en) * | 2007-03-13 | 2014-05-27 | Food Safety Technology, Llc | Aqueous ozone solution for ozone cleaning system |
TW201004707A (en) | 2008-05-19 | 2010-02-01 | Entegris Inc | Gasification systems and methods for making bubble free solutions of gas in liquid |
US9174845B2 (en) | 2008-07-24 | 2015-11-03 | Food Safety Technology, Llc | Ozonated liquid dispensing unit |
US20130195725A1 (en) * | 2008-07-24 | 2013-08-01 | Food Safety Technology, Llc | Ozonated liquid production and distribution systems |
US9522348B2 (en) | 2008-07-24 | 2016-12-20 | Food Safety Technology, Llc | Ozonated liquid dispensing unit |
JP2013123650A (ja) * | 2011-12-13 | 2013-06-24 | Sharp Corp | オゾン水生成装置、および、それを備えた衛生器具用洗浄装置 |
US9056262B2 (en) * | 2012-11-08 | 2015-06-16 | Mks Instruments, Inc. | Pressure-less ozonated Di-water (DIO3) recirculation reclaim system |
US9449841B2 (en) * | 2013-12-19 | 2016-09-20 | Taiwan Semicondcutor Manufacturing Company, Ltd. | Methods and systems for chemical mechanical polish and clean |
WO2015102548A1 (en) * | 2013-12-31 | 2015-07-09 | Aygaz Anonim Sirketi | An additive safety and injection system |
US9789448B2 (en) * | 2014-01-24 | 2017-10-17 | Taiwan Semiconductor Manufacturing Co., Ltd. | Process for treating fluid |
JP2016064386A (ja) * | 2014-09-18 | 2016-04-28 | 株式会社荏原製作所 | ガス溶解水製造装置および製造方法 |
CN104671457B (zh) * | 2015-01-21 | 2016-11-16 | 浙江大学宁波理工学院 | 曝气污水处理装置及其控制方法 |
JP6826437B2 (ja) * | 2016-01-15 | 2021-02-03 | 株式会社荏原製作所 | 供給液体製造装置および供給液体製造方法 |
JP7059040B2 (ja) * | 2018-02-23 | 2022-04-25 | 株式会社荏原製作所 | ガス溶解液製造装置 |
KR20210038980A (ko) | 2018-08-29 | 2021-04-08 | 엠케이에스 인스트루먼츠 인코포레이티드 | 오존수 전달 시스템 및 사용 방법 |
US10792622B2 (en) * | 2018-10-26 | 2020-10-06 | Huei Tarng Liou | Gas dissolving system with two mixers |
JP7240260B2 (ja) * | 2019-06-04 | 2023-03-15 | 株式会社荏原製作所 | ガス溶解液供給装置およびガス溶解液供給方法 |
Citations (2)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
JPH119669A (ja) * | 1997-06-23 | 1999-01-19 | Inax Corp | オゾン水給水装置 |
JP2000005285A (ja) * | 1998-06-19 | 2000-01-11 | Koa Corporation:Kk | オゾン水供給設備 |
Family Cites Families (28)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
US3425810A (en) | 1965-05-03 | 1969-02-04 | Chevron Res | Hydrotreating apparatus |
BE754657Q (fr) | 1965-11-29 | 1971-01-18 | Kenics Corp | Appareil melangeur |
US3425710A (en) * | 1967-07-07 | 1969-02-04 | Fruehauf Corp | Trailer construction |
US4749640A (en) | 1986-09-02 | 1988-06-07 | Monsanto Company | Integrated circuit manufacturing process |
US5464480A (en) | 1993-07-16 | 1995-11-07 | Legacy Systems, Inc. | Process and apparatus for the treatment of semiconductor wafers in a fluid |
US5522660A (en) * | 1994-12-14 | 1996-06-04 | Fsi International, Inc. | Apparatus for blending and controlling the concentration of a liquid chemical in a diluent liquid |
JPH08192006A (ja) | 1995-01-13 | 1996-07-30 | Pall Corp | 濾過器 |
US6050283A (en) * | 1995-07-07 | 2000-04-18 | Air Liquide America Corporation | System and method for on-site mixing of ultra-high-purity chemicals for semiconductor processing |
US5762684A (en) * | 1995-11-30 | 1998-06-09 | Dainippon Screen Mfg. Co., Ltd. | Treating liquid supplying method and apparatus |
JP3400293B2 (ja) * | 1996-05-01 | 2003-04-28 | 株式会社東芝 | Cvd装置及びそのクリーニング方法 |
US6146524A (en) * | 1997-09-15 | 2000-11-14 | Story; Craig W. | Multi-stage ozone injection water treatment system |
JPH11121417A (ja) * | 1997-10-09 | 1999-04-30 | Mitsubishi Electric Corp | 半導体基板の処理システムおよび処理方法 |
US5971368A (en) | 1997-10-29 | 1999-10-26 | Fsi International, Inc. | System to increase the quantity of dissolved gas in a liquid and to maintain the increased quantity of dissolved gas in the liquid until utilized |
JPH11188374A (ja) * | 1997-12-26 | 1999-07-13 | Ishimori Seisakusho:Kk | オゾン水製造装置 |
SE514879C2 (sv) * | 1998-03-09 | 2001-05-07 | Otre Ab | Framställning av vatten med förbestämd ozonkoncentration och användning av lösningen |
US6027642A (en) * | 1998-03-12 | 2000-02-22 | Prince; Richard N. | Mobile portable water disinfection/filtration and hazardous chemical oxidizing system |
US6224778B1 (en) * | 1998-03-18 | 2001-05-01 | Charles T. Peltzer | Method for manufacturing a system for mixing fluids |
US6080531A (en) * | 1998-03-30 | 2000-06-27 | Fsi International, Inc. | Organic removal process |
US6799883B1 (en) * | 1999-12-20 | 2004-10-05 | Air Liquide America L.P. | Method for continuously blending chemical solutions |
US6017827A (en) * | 1998-05-04 | 2000-01-25 | Micron Technology, Inc. | System and method for mixing a gas into a solvent used in semiconductor processing |
DE19825063A1 (de) * | 1998-06-04 | 1999-12-09 | Astex Sorbios Gmbh | Verfahren zur Unterdrückung der Zerfallsgeschwindigkeit von Ozon in ultrareinem Wasser |
JP2000334283A (ja) * | 1999-05-26 | 2000-12-05 | Ishikawajima Harima Heavy Ind Co Ltd | オゾン溶解方法と装置 |
JP2001104995A (ja) * | 1999-10-07 | 2001-04-17 | Teeiku Wan Sogo Jimusho:Kk | 電解法によりオゾンを生成する方法、電解式オゾン生成装置、オゾン水製造装置 |
US6982006B1 (en) * | 1999-10-19 | 2006-01-03 | Boyers David G | Method and apparatus for treating a substrate with an ozone-solvent solution |
EP1305107B1 (en) * | 2000-07-31 | 2006-09-20 | Kinetics Chempure Systems, Inc. | Method and apparatus for blending process materials |
US6805791B2 (en) * | 2000-09-01 | 2004-10-19 | Applied Science And Technology, Inc. | Ozonated water flow and concentration control apparatus |
US6579446B1 (en) * | 2002-04-04 | 2003-06-17 | Agrimond, Llc | Multi-process disinfectant delivery control system |
EP1636659B1 (en) * | 2003-06-20 | 2012-02-29 | Siemens Energy, Inc. | Regulated tap transformer |
-
2002
- 2002-04-26 US US10/133,237 patent/US6805791B2/en not_active Expired - Lifetime
-
2003
- 2003-04-25 EP EP03733897A patent/EP1499934B1/en not_active Expired - Lifetime
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- 2003-04-25 KR KR1020047017244A patent/KR100985087B1/ko active IP Right Grant
- 2003-04-25 DE DE60321157T patent/DE60321157D1/de not_active Expired - Lifetime
-
2004
- 2004-09-10 US US10/938,455 patent/US6948504B2/en not_active Expired - Lifetime
-
2005
- 2005-08-19 US US11/207,989 patent/US7264006B2/en not_active Expired - Lifetime
-
2007
- 2007-08-07 US US11/835,161 patent/US7622037B2/en not_active Expired - Fee Related
-
2010
- 2010-11-12 JP JP2010253473A patent/JP5548106B2/ja not_active Expired - Lifetime
Patent Citations (2)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
JPH119669A (ja) * | 1997-06-23 | 1999-01-19 | Inax Corp | オゾン水給水装置 |
JP2000005285A (ja) * | 1998-06-19 | 2000-01-11 | Koa Corporation:Kk | オゾン水供給設備 |
Cited By (1)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
JP2021171696A (ja) * | 2020-04-24 | 2021-11-01 | 三菱電機株式会社 | 浄化装置および浄化方法 |
Also Published As
Publication number | Publication date |
---|---|
US7622037B2 (en) | 2009-11-24 |
DE60321157D1 (de) | 2008-07-03 |
CN101676220B (zh) | 2013-04-24 |
US6805791B2 (en) | 2004-10-19 |
JP5548106B2 (ja) | 2014-07-16 |
US7264006B2 (en) | 2007-09-04 |
US20030164338A1 (en) | 2003-09-04 |
EP1499934B1 (en) | 2008-05-21 |
JP2011062694A (ja) | 2011-03-31 |
AU2003239180A1 (en) | 2003-11-10 |
CN1653400A (zh) | 2005-08-10 |
EP1962165B1 (en) | 2016-11-30 |
KR20050005459A (ko) | 2005-01-13 |
EP1962165A1 (en) | 2008-08-27 |
US6948504B2 (en) | 2005-09-27 |
KR100985087B1 (ko) | 2010-10-04 |
WO2003091815A1 (en) | 2003-11-06 |
US20080002518A1 (en) | 2008-01-03 |
US20050029202A1 (en) | 2005-02-10 |
CN100549894C (zh) | 2009-10-14 |
CN101676220A (zh) | 2010-03-24 |
US20060107969A1 (en) | 2006-05-25 |
EP1499934A1 (en) | 2005-01-26 |
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