JP2005515389A - 連続プロセス用加熱炉 - Google Patents
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Abstract
Description
Claims (23)
- 基材が当該加熱炉を通過するときに該基材を加熱処理する加熱セクションであって、該加熱セクションは該加熱セクションに対して熱を提供すべくスペーサを有する加熱コイルを含み、該加熱セクションは上記加熱コイルの質量と上記スペーサの質量とにより定義される質量を有するという加熱セクションと、
質量を有する搬送機構であって、該搬送機構は上記加熱セクション内に配設されると共に、上記加熱セクションを通して上記基材を搬送するという搬送機構と、
質量を有すると共に、上記加熱セクション内に配設された処理チャンバとを備え、
上記加熱セクションの質量は、上記加熱セクション内における、上記搬送機構質量と、上記処理チャンバ質量と、上記基材の質量との組合せ質量を超過する、
基材を加熱処理する加熱炉。 - 前記加熱セクションは更に複数の加熱領域を備え、
前記加熱コイルは、上記複数の加熱領域の個別加熱領域が前記基材に対して異なる加熱処理を提供する異なる温度を有する如く、上記複数の加熱領域内に位置される、請求項1記載の基材を加熱処理する加熱炉。 - 前記加熱セクションは、該加熱セクション内に配設された原位置式熱電対(in-situ thermocouple)を更に備えて成る、請求項2記載の基材を加熱処理する加熱炉。
- 前記加熱セクションは円筒状形態を有する。請求項1記載の基材を加熱処理する加熱炉。
- 前記搬送機構は移動ビーム・アセンブリである、請求項1記載の基材を加熱処理する加熱炉。
- 前記搬送機構はベルトである、請求項1記載の基材を加熱処理する加熱炉。
- 前記加熱セクションは1,400℃に対して定格化された材料で構築される、請求項3記載の基材を加熱処理する加熱炉。
- 当該加熱炉は更に、前記加熱セクションの近傍に配設された入口カーテンセクションアセンブリであって当該加熱炉内への前記基材の進入のための入口カーテンセクションアセンブリを備え、
上記入口カーテンセクションアセンブリは、上記基材が当該加熱炉に進入するときに該基材に対する遷移領域を維持する複数の噴射器を含む、請求項1記載の基材を加熱処理する加熱炉。 - 当該加熱炉は、前記入口カーテンセクションアセンブリの逆側にて前記加熱セクションの近傍に配設された冷却領域であって、前記基材が上記加熱セクションを退出するときに該基材を冷却する逆流熱交換器を有する冷却領域を更に備えて成る、請求項8記載の基材を加熱処理する加熱炉。
- 当該加熱炉は、前記冷却領域の近傍に配設されて当該加熱炉からの前記基材の退出を許容する出口カーテンセクションアセンブリを更に備え、該出口カーテンセクションアセンブリは、上記基材が当該加熱炉を退出するときに該基材に対する遷移領域を維持する複数の噴射器を含む、請求項9記載の基材を加熱処理する加熱炉。
- 前記処理チャンバは、
該処理チャンバの断面積より小さな断面積を有する第1遷移セクションであって、該処理チャンバの第1端部に配設されることで該処理チャンバを前記入口カーテンセクションアセンブリに連結する第1遷移セクションと、
上記処理チャンバ断面積より小さな断面積を有する第2遷移セクションであって、上記第1遷移セクションの逆側にて該処理チャンバの第2端部に配設されることで該処理チャンバを前記冷却領域に連結する第2遷移セクションとを更に備えて成る、請求項10記載の基材を加熱処理する加熱炉。 - 複数の加熱コイルと該複数の加熱コイル内に配設されたスペーサとを含む加熱セクションであって、上記複数の加熱コイルの質量および上記スペーサの質量は加熱セクション質量に寄与するという加熱セクションと、
作用構成要素質量を有する作用構成要素であって、
当該加熱炉内に配設された搬送機構であって上記加熱セクション内に配設された該搬送機構の質量は上記作用構成要素質量に寄与するという搬送機構と、
上記加熱セクション内に配設された当該処理チャンバの質量が上記作用構成要素質量に寄与する如く当該加熱炉内に配設された処理チャンバと、
を含む作用構成要素とを備え、
上記加熱セクション質量は、上記加熱セクション内に配設された基材と上記作用構成要素質量との組合せ質量を超過する、
質量を有する基材を加熱処理する加熱炉。 - 当該加熱炉は更に、前記加熱セクションの近傍に配設された入口カーテンセクションアセンブリであって当該加熱炉内への前記基材の進入のための入口カーテンセクションアセンブリを備え、
上記入口カーテンセクションアセンブリは、上記基材が当該加熱炉に進入するときに該基材に対する遷移領域を維持する複数の噴射器を含む、請求項12記載の基材を加熱処理する加熱炉。 - 当該加熱炉は、前記加熱セクションの近傍に配設された冷却領域であって、上記加熱セクションを退出するときに前記基材を冷却する逆流熱交換器を有する冷却領域を更に備えて成る、請求項13記載の基材を加熱処理する加熱炉。
- 当該加熱炉は、前記冷却領域の近傍に配設されて当該加熱炉からの前記基材の退出を許容する出口カーテンセクションアセンブリを更に備え、該出口カーテンセクションアセンブリは、上記基材が当該加熱炉を退出するときに該基材に対する遷移領域を維持する複数の噴射器を含む、請求項14記載の基材を加熱処理する加熱炉。
- 前記搬送機構はベルトである、請求項12記載の基材を加熱処理する加熱炉。
- 前記搬送機構は移動ビーム・アセンブリである、請求項12記載の基材を加熱処理する加熱炉。
- 当該加熱炉は、前記加熱セクション内に配設された原位置式熱電対(in-situ thermocouple)を更に備えて成る、請求項12記載の基材を加熱処理する加熱炉。
- 前記処理チャンバは、
該処理チャンバの断面積より小さな断面積を有する第1遷移セクションであって、該処理チャンバの第1端部に配設されることで該処理チャンバを前記入口カーテンセクションアセンブリに連結する第1遷移セクションと、
上記処理チャンバ断面積より小さな断面積を有する第2遷移セクションであって、上記第1遷移セクションの逆側にて該処理チャンバの第2端部に配設されることで該処理チャンバを前記冷却領域に連結する第2遷移セクションとを更に備えて成る、請求項14記載の基材を加熱処理する加熱炉。 - 当該加熱炉内への基材の進入のための入口カーテンセクションアセンブリと、
上記基材が当該加熱炉を通過するときに該基材を加熱処理するために上記入口カーテンセクションアセンブリと連結された加熱セクションであって、当該加熱セクションは該加熱セクションに熱を提供する加熱コイルと該加熱コイル内に配設されたスペーサとを含み、当該加熱セクションは質量を有するという加熱セクションと、
上記加熱セクション内に配設されると共に質量を有する搬送機構であって、上記加熱セクションを通して上記基材を搬送する搬送機構と、
上記加熱セクションに連結された冷却領域であって、上記基材が当該冷却領域を通過するときに該基材を冷却する逆流熱交換器を有するという冷却領域と、
上記基材の冷却時に当該加熱炉からの該基材の退出を促進する出口カーテンセクションアセンブリと、
上記加熱セクションを通して延在すると共に、上記加熱セクションを上記入口カーテンセクションアセンブリおよび上記冷却領域の両者に対して連結する処理チャンバとを備え、
加熱セクションの質量は、上記加熱セクション内における上記処理チャンバの部分と、上記加熱セクション内における搬送機構質量および基材の質量との組合せ質量を超過する、
基材を加熱処理する加熱炉。 - 前記処理チャンバは、
該処理チャンバの断面積より小さな断面積を有する第1遷移セクションであって、該処理チャンバの第1端部に配設されることで該処理チャンバを前記入口カーテンセクションアセンブリに連結する第1遷移セクションと、
上記処理チャンバ断面積より小さな断面積を有する第2遷移セクションであって、上記第1遷移セクションの逆側にて該処理チャンバの第2端部に配設されることで該処理チャンバを前記冷却領域に連結する第2遷移セクションとを備えて成る、請求項20記載の基材を加熱処理する加熱炉。 - 前記搬送機構は移動ビーム・アセンブリである、請求項20記載の基材を加熱処理する加熱炉。
- 当該加熱炉は前記加熱セクション内に配設された原位置式熱電対(in-situ thermocouple)を更に備えて成る、請求項20記載の基材を加熱処理する加熱炉。
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