JP2005327839A - Method and apparatus for generating harmonic laser - Google Patents

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Nobuyuki Yamazaki
信幸 山崎
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Abstract

<P>PROBLEM TO BE SOLVED: To provide a method for generating a harmonic laser, capable of simply and properly adjusting an optic system inside the optical resonator. <P>SOLUTION: A harmonic laser device is constituted to arbitrarily adjust the angle (orientation) of a wavelength-converting crystal 18 in the optical resonator through a second power monitor 58 by a crystal holder 34, a crystal-angle adjusting mechanism 36 and a control unit 26. In addition, the angle (orientation) of a terminal is adjusted in the mirror 10 through a first power monitor 56 by a mirror holder 48, a mirror-angle adjusting mechanism 50 and the control unit 26, and thus optical parallelism is adjusted between both terminal mirrors 10 and 12. <P>COPYRIGHT: (C)2006,JPO&NCIPI

Description

本発明は、高調波のレーザ光を発生する方法および装置に係わり、特に光共振器内の光学系を調整する技術に関する。   The present invention relates to a method and apparatus for generating harmonic laser light, and more particularly to a technique for adjusting an optical system in an optical resonator.

近年、レーザは、製造業、特に溶接、切断および表面処理の分野で利用されている。実際、レーザ溶接技術は、高精度および高速の加工を実現できること、被加工物に与える熱歪みが小さいこと、高度の自動化が可能であることから、益々その重要度を増している。現在、レーザ溶接に最も多用されている固体レーザは、波長約1μmのレーザ光を発生するYAGレーザである。YAGレーザは母材としてYAG(Y3Al512)結晶に希土類活性イオン(Nd3+、Yb3+等)をドープしたものであり、代表的なNd:YAGレーザの基本波長は1064nmである。YAGレーザは、連続発振、パルス発振あるいはQスイッチによるジャイアントパルス発振で動作可能である。 In recent years, lasers have been utilized in the manufacturing industry, particularly in the fields of welding, cutting and surface treatment. In fact, laser welding technology is becoming more and more important because it can realize high-precision and high-speed machining, low thermal strain on the workpiece, and high degree of automation. Currently, the solid-state laser most frequently used for laser welding is a YAG laser that generates laser light having a wavelength of about 1 μm. The YAG laser is a YAG (Y 3 Al 5 O 12 ) crystal doped with rare earth active ions (Nd 3+ , Yb 3+, etc.) as a base material, and the fundamental wavelength of a typical Nd: YAG laser is 1064 nm. is there. The YAG laser can be operated by continuous oscillation, pulse oscillation, or giant pulse oscillation by a Q switch.

ところで、レーザ溶接法においては、被溶接材とレーザ光との光学的な結合性が重要である。光学的な結合性が良くないと、反射率が高くなって、レーザエネルギーの吸収率が低下し、良好な溶接接合を得るのが難しい。この点、基本波長(たとえば1064nm)のYAGレーザ光は、銅、金、アルミニウム等に対して光学的結合性が良くない。これらの金属に対しては、むしろ第2高調波(532nm)のYAGレーザ光が高い光学的結合性を有することが知られている。   By the way, in the laser welding method, the optical connectivity between the material to be welded and the laser beam is important. If the optical connectivity is not good, the reflectivity increases, the laser energy absorption rate decreases, and it is difficult to obtain a good weld joint. In this respect, YAG laser light having a fundamental wavelength (for example, 1064 nm) has poor optical connectivity with copper, gold, aluminum, and the like. For these metals, it is rather known that the second harmonic (532 nm) YAG laser light has high optical coupling.

本出願人は、特許文献1で、第1のYAGレーザにより基本波長(1064nm)のYAGパルスレーザ光を生成するとともに、第2のYAGレーザにより第2高調波(532nm)のQスイッチレーザ光を生成し、両者を同軸上に重畳して被溶接材に照射する異波長重畳レーザ溶接法を開示している。さらに、本出願人は、ジャインアントパルスではなく(つまりQスイッチを使用しないで)ロングパルスの高調波レーザ光を生成してレーザ溶接に用いるレーザ溶接装置を提案している。ここで、ロングパルスは可変のパルス幅であり、典型的には1〜3msである。   In the patent document 1, the present applicant generates a YAG pulsed laser beam having a fundamental wavelength (1064 nm) with the first YAG laser and a second harmonic (532 nm) Q-switched laser beam with the second YAG laser. Disclosed is a different wavelength superposition laser welding method in which both materials are superimposed on the same axis and irradiated onto a material to be welded. Further, the present applicant has proposed a laser welding apparatus that generates a long-pulse harmonic laser beam instead of a giant pulse (that is, without using a Q switch) and uses it for laser welding. Here, the long pulse has a variable pulse width and is typically 1 to 3 ms.

一般に、高調波レーザ光を生成する高調波レーザ装置は、光共振器内に活性媒体と一緒に波長変換結晶を配置して光共振器内で基本波長を高調波に変換する方式(共振器内部変換方式)を採用している。この方式は、基本波長の光ビームを光共振器内に閉じ込めたまま高調波の光ビームまたはレーザ光だけを光共振器の外へ取り出す。上記のようなレーザ溶接等のアプリケーションでは、高調波レーザ光の出力またはパワーが溶接加工を左右する溶接条件となる。このため、高調波レーザ光の出力が設定通りになるように光共振器内の光学系を調整する必要がある。
特開2002−28795号
In general, a harmonic laser device for generating a harmonic laser beam is a method in which a wavelength conversion crystal is arranged in an optical resonator together with an active medium, and a fundamental wavelength is converted into a harmonic in the optical resonator (inside the resonator). Conversion method). In this method, only a harmonic light beam or a laser beam is taken out of the optical resonator while the light beam having the fundamental wavelength is confined in the optical resonator. In applications such as laser welding as described above, the output or power of the harmonic laser beam is a welding condition that affects the welding process. For this reason, it is necessary to adjust the optical system in the optical resonator so that the output of the harmonic laser beam is as set.
JP 2002-28795 A

従来の高調波レーザ装置では、光共振器内の光学系を調整する際には、現場の作業者等が共振器外部から分かる(モニタできる)高調波レーザ光の出力のみを頼りに光学系の各部の調整、特に共振器ミラーの光軸調整や波長変換結晶の角度(向き)調整を手動で、しかもランダムな手順で行うようにしている。しかしながら、各部を調整する毎に高調波レーザ光の出力が変わるため、各部の調整を統合して全体の調整を最適化するのが難しかった。また、電気系が正常であるにも拘わらず高調波レーザ光の出力が異常に低くなっているときは、原因が光学系の何処にあるのか究明するのが難しく、調整や修理に多くの手間と時間を費やすはめになっていた。   In the conventional harmonic laser device, when adjusting the optical system in the optical resonator, the workers in the field etc. rely only on the output of the harmonic laser light that can be seen (monitored) from the outside of the resonator. Adjustment of each part, especially the optical axis adjustment of the resonator mirror and the angle (orientation) adjustment of the wavelength conversion crystal are performed manually and in a random procedure. However, since the output of the harmonic laser beam changes each time each part is adjusted, it is difficult to integrate the adjustments of each part and optimize the overall adjustment. Also, if the output of the harmonic laser beam is abnormally low even though the electrical system is normal, it is difficult to determine where the cause is in the optical system, and much effort is required for adjustment and repair. And was supposed to spend time.

本発明は、上記のような従来技術の問題点に鑑みてなされたものであり、光共振器内の光学系の調整を簡単かつ適確に行えるようにした高調波レーザ発生方法を提供することを目的とする。   The present invention has been made in view of the above-described problems of the prior art, and provides a harmonic laser generation method capable of easily and accurately adjusting an optical system in an optical resonator. With the goal.

本発明の別の目的は、光共振器内の光学系の調整を自動化して高調波の出力を安定に維持するようにした高調波レーザ装置を提供することにある。   Another object of the present invention is to provide a harmonic laser apparatus that automates the adjustment of the optical system in the optical resonator and maintains the harmonic output stably.

上記の目的を達成するために、本発明の高調波レーザ発生方法は、光共振器内に活性媒体と波長変換結晶とを配置し、前記活性媒体をポンピングして基本波長を有する第1の光ビームを生成し、前記波長変換結晶と前記第1の光ビームとの非線形相互作用により高調波の第2の光ビームを生成し、前記第2の光ビームを前記第1の光ビームから分離して前記光共振器の外へ出力する高調波レーザ発生方法において、前記第1の光ビームの出力を測定し、その出力測定値に基づいて前記第1の光ビームを生成するための第1の光学系を調整する第1の光学系調整工程と、前記第1の光学系調整工程の後に、前記第2の光ビームの出力を測定し、その出力測定値に基づいて前記第2の光ビームを生成するための第2の光学系を調整する第2の光学系調整工程とを有する。   In order to achieve the above object, a harmonic laser generation method according to the present invention includes an active medium and a wavelength conversion crystal disposed in an optical resonator, and the active medium is pumped to generate a first light having a fundamental wavelength. Generating a second light beam of higher harmonics by non-linear interaction between the wavelength conversion crystal and the first light beam, and separating the second light beam from the first light beam. In the harmonic laser generating method for outputting to the outside of the optical resonator, a first output for measuring the output of the first light beam and generating the first light beam based on the output measurement value After the first optical system adjustment step for adjusting the optical system and the first optical system adjustment step, the output of the second light beam is measured, and the second light beam is measured based on the output measurement value. Second optical system for adjusting the second optical system for generating And a conditioning step.

また、本発明の高調波レーザ装置は、光学的に対向して配置された第1および第2の終端ミラーを有する光共振器と、前記光共振器内に配置された活性媒体と、基本波長を有する第1の光ビームを生成するために前記活性媒体をポンピングする励起部と、前記光共振器内に配置され、前記第1の光ビームとの非線形相互作用により高調波の第2の光ビームを生成する波長変換結晶と、前記光共振器の光軸上に配置され、前記第2の光ビームを前記第1の光ビームから分離して前記光共振器の外へ出力する高調波分離出力ミラーと、前記第1の光ビームの出力を測定するための第1のパワーモニタ部と、前記第1のパワーモニタ部で得られる前記第1の光ビームの出力測定値に基づいて前記第1の光ビームを生成するための第1の光学系を調整する第1の光学系調整部と、記第2の光ビームの出力を測定するための第2のパワーモニタ部と、前記第2のパワーモニタ部で得られる前記第2の光ビームの出力測定値に基づいて前記第2の光ビームを生成するための第2の光学系を調整する第2の光学系調整部とを有する。   In addition, the harmonic laser device of the present invention includes an optical resonator having first and second terminal mirrors that are optically opposed to each other, an active medium that is disposed in the optical resonator, and a fundamental wavelength. A pumping unit for pumping the active medium to generate a first light beam having a first optical beam, and a second light of higher harmonics disposed in the optical resonator by nonlinear interaction with the first light beam A wavelength converting crystal that generates a beam and a harmonic separation that is disposed on an optical axis of the optical resonator and that separates the second optical beam from the first optical beam and outputs the first optical beam out of the optical resonator; An output mirror; a first power monitor for measuring an output of the first light beam; and a first output of the first light beam obtained by the first power monitor. Adjust the first optical system to generate one light beam A first optical system adjustment unit, a second power monitor unit for measuring the output of the second light beam, and an output measurement of the second light beam obtained by the second power monitor unit. And a second optical system adjustment unit that adjusts the second optical system for generating the second light beam based on the value.

本発明では、同一の光共振器内で同時に生成される基本波および高調波のそれぞれの出力を個別にモニタし、基本波光学系の調整と高調波光学系の調整とをそれぞれ独立して行えるようにしている。そして、本発明の高調波レーザ発生方法によれば、光共振器の光学系を調整する際には、先ず基本波光学系の調整を行い、その後に高調波光学系の調整を行う。これにより、基本波光学系および高調波光学系の調整が各々一回きりで済み、何度も交互にやり直すようなことはない。また、本発明の高調波レーザ装置によれば、第1のパワーモニタ部と第1の光学系調整部とによって基本波光学系の調整を行い、第2のパワーモニタ部と第2の光学系調整部とによって高調波光学系の調整を行うことにより、人手の要らない自動調整を実現することができる。波長変換結晶の温度を制御する温度調整機能を有する場合は、波長変換結晶の温度を設定温度に合わせてから高調波光学系の調整を行うことで、波長変換効率を安定化させ、ひいては高調波の出力を安定化させることができる。   In the present invention, the outputs of the fundamental wave and the harmonic wave generated simultaneously in the same optical resonator are individually monitored, and the adjustment of the fundamental wave optical system and the adjustment of the harmonic wave optical system can be performed independently. I am doing so. According to the harmonic laser generation method of the present invention, when adjusting the optical system of the optical resonator, the fundamental wave optical system is adjusted first, and then the harmonic optical system is adjusted. As a result, the adjustment of the fundamental wave optical system and the harmonic optical system can be performed only once, and it is not possible to repeat again and again. Further, according to the harmonic laser device of the present invention, the fundamental power optical system is adjusted by the first power monitor unit and the first optical system adjustment unit, and the second power monitor unit and the second optical system are adjusted. By adjusting the harmonic optical system with the adjusting unit, it is possible to realize automatic adjustment that does not require human intervention. If you have a temperature adjustment function to control the temperature of the wavelength conversion crystal, adjust the harmonic optical system after adjusting the temperature of the wavelength conversion crystal to the set temperature, thereby stabilizing the wavelength conversion efficiency, and thus the harmonics. Can be stabilized.

基本波光学系の調整では、好ましくは、第1の光ビームの出力測定値が最大値になるように光共振器における第1の光ビームの光軸を調整するか、あるいは共振器ミラーの光学的な平行度を調整してよい。   In the adjustment of the fundamental optical system, preferably, the optical axis of the first light beam in the optical resonator is adjusted so that the output measurement value of the first light beam becomes the maximum value, or the optical of the resonator mirror is adjusted. The parallelism may be adjusted.

また、高調波光学系の調整では、好ましくは、第2の光ビームの出力測定値が設定範囲内の値または最大値になるように第1の光ビームの光軸に対して波長変換結晶の角度を調整してよい。この波長変換結晶の角度調整は、好ましくは、波長変換結晶の中心部を通る鉛直線を回転軸線とする第1の回転方向で波長変換結晶の角度を調整する第1の結晶角度調整工程と、波長変換結晶の中心部を光軸と直交して通る水平線を回転軸線とする第2の回転方向で波長変換結晶の角度を調整する第2の結晶角度調整工程とを含むものであってよい。 Further, in the adjustment of the harmonic optical system, preferably, the wavelength conversion crystal is adjusted with respect to the optical axis of the first light beam so that the measured output value of the second light beam is a value within the setting range or the maximum value. The angle may be adjusted. The angle adjustment of the wavelength conversion crystal is preferably a first crystal angle adjustment step of adjusting the angle of the wavelength conversion crystal in a first rotation direction with a vertical line passing through the center of the wavelength conversion crystal as a rotation axis. And a second crystal angle adjustment step of adjusting the angle of the wavelength conversion crystal in a second rotation direction with a horizontal line passing through the center of the wavelength conversion crystal perpendicular to the optical axis as the rotation axis.

本発明の高調波レーザ装置において、好ましい一態様によれば、第1のパワーモニタ部が、第1の終端ミラーもしくは第2の終端ミラーの背後に抜けた第1の光ビームの漏れ光を受光してその光強度を電気信号に変換する光電変換素子を有する。また、第2のパワーモニタ部が、高調波分離出力ミラーより取り出された第2の光ビームを所定の方向に反射するミラーの背後に抜けた漏れ光を受光してその光強度を電気信号に変換する光電変換素子を有する。   In the harmonic laser device of the present invention, according to a preferred aspect, the first power monitor unit receives the leaked light of the first light beam that has passed through the back of the first terminal mirror or the second terminal mirror. And a photoelectric conversion element that converts the light intensity into an electrical signal. Further, the second power monitor unit receives the leaked light that has passed through the mirror that reflects the second light beam extracted from the harmonic separation output mirror in a predetermined direction, and converts the light intensity into an electric signal. It has a photoelectric conversion element for conversion.

本発明の高調波レーザ発生方法によれば、上記のような構成と作用により、光共振器内の光学系の調整を簡単かつ適確に行うことができる。また、本発明の高調波レーザ装置によれば、上記のような構成と作用により、光共振器内の光学系の調整を自動化して高調波の出力を安定に維持することができる。   According to the harmonic laser generation method of the present invention, the optical system in the optical resonator can be easily and accurately adjusted by the configuration and operation as described above. Further, according to the harmonic laser device of the present invention, the adjustment of the optical system in the optical resonator can be automated and the harmonic output can be stably maintained by the configuration and operation as described above.

図1に、本発明の一実施形態による高調波レーザ装置の全体構成を上面図で模式的に示す。この高調波レーザ装置は、ほぼ平坦な上面を有する支持台(図示せず)上に折り返し配置型で一対の終端ミラー10,12、固体レーザ活性媒体14、Qスイッチ16、波長変換結晶18および中間ミラー20,22を配置している。   FIG. 1 is a top view schematically showing the overall configuration of a harmonic laser device according to an embodiment of the present invention. This harmonic laser device is a folded arrangement type on a support base (not shown) having a substantially flat upper surface, a pair of terminal mirrors 10 and 12, a solid laser active medium 14, a Q switch 16, a wavelength conversion crystal 18 and an intermediate Mirrors 20 and 22 are arranged.

両終端ミラー10,12は、中間ミラー20,22を介して光学的に向かい合って光共振器を構成している。一方の終端ミラー10と中間ミラー20の反射面には、YAGレーザの基本波(1064nm)に対して反射性の膜がコーティングされている。他方の終端ミラー12の反射面には、基本波(1064nm)に対して反射性の膜がコーティングされているだけでなく、第2高調波(532nm)に対して反射性の膜もコーティングされている。中間ミラー22は、高調波分離出力ミラーであり、その反射面には基本波(1064nm)に対して反射性の膜がコーティングされており、第2高調波(532nm)に対しては透過性の膜がコーティングされている。 Both end mirrors 10 and 12 are optically opposed via intermediate mirrors 20 and 22 to form an optical resonator. The reflecting surfaces of one terminal mirror 10 and the intermediate mirror 20 are coated with a film that is reflective to the fundamental wave (1064 nm) of the YAG laser. The reflective surface of the other terminal mirror 12 is coated not only with a film reflective to the fundamental wave (1064 nm), but also with a film reflective to the second harmonic (532 nm). Yes. The intermediate mirror 22 is a harmonic separation output mirror, and its reflective surface is coated with a film reflective to the fundamental wave (1064 nm), and is transmissive to the second harmonic (532 nm). The membrane is coated.

活性媒体14は、たとえばNd:YAGロッドからなり、一方の終端ミラー10と中間ミラー20との間に配置され、電気光学励起部24によって光学的にポンピングされる。電気光学励起部24は、活性媒質14に向けて励起光を発生するための励起光源(たとえば励起ランプまたはレーザダイオード)を有し、制御部26の制御の下で該励起光源を励起電流で点灯駆動することにより、活性媒質14を持続的または断続的にポンピングする。図示の構成例では電気光学励起部24からの励起光を活性媒質14の側面に照射するが、活性媒質14の端面に照射する方式(端面励起方式)も可能である。活性媒質14で生成される基本波長の光ビームは、中間ミラー20,22を介して両終端ミラー10,12の間に閉じ込められて増幅される。このように、両終端ミラー(光共振器)10,12、中間ミラー20,22、活性媒質14および電気光学励起部24によって基本波長(1064nm)の光ビームまたは基本波レーザ光LBを光共振器内に生成するYAGレーザ発振器が構成されている。   The active medium 14 is made of, for example, an Nd: YAG rod, is disposed between one terminal mirror 10 and the intermediate mirror 20, and is optically pumped by the electro-optic excitation unit 24. The electro-optic excitation unit 24 has an excitation light source (for example, an excitation lamp or a laser diode) for generating excitation light toward the active medium 14, and the excitation light source is turned on with an excitation current under the control of the control unit 26. By driving, the active medium 14 is pumped continuously or intermittently. In the illustrated configuration example, the side surface of the active medium 14 is irradiated with excitation light from the electro-optic excitation unit 24, but a method of irradiating the end surface of the active medium 14 (end surface excitation method) is also possible. The light beam having the fundamental wavelength generated in the active medium 14 is confined between the terminal mirrors 10 and 12 via the intermediate mirrors 20 and 22 and amplified. In this way, the light beam having the fundamental wavelength (1064 nm) or the fundamental laser beam LB is optically resonatord by the both-end mirrors (optical resonators) 10 and 12, the intermediate mirrors 20 and 22, the active medium 14, and the electro-optical excitation unit 24. A YAG laser oscillator generated inside is configured.

Qスイッチ16は、たとえば音響光学Qスイッチからなる。制御部26がQスイッチドライバ28を介して所定の周期で一時中断する高周波電気信号によりQスイッチ16を駆動する。このQスイッチ動作により、光共振器内で高周波電気信号が中断する度毎にピークパワーのきわめて高いジャイアントパルスの基本波レーザ光LBが生成される。   The Q switch 16 is composed of an acousto-optic Q switch, for example. The control unit 26 drives the Q switch 16 through a Q switch driver 28 by a high frequency electrical signal that is temporarily interrupted at a predetermined cycle. By this Q switch operation, whenever the high frequency electrical signal is interrupted in the optical resonator, the fundamental wave laser beam LB having a very high peak power is generated.

波長変換結晶18は、たとえば角柱状のLBO(LiB35)結晶からなり、高調波分離出力ミラー22と終端ミラー12との間に配置され、この光共振器で励起された基本モードに光学的に結合され、基本波長との非線型相互作用により第2高調波(532nm)の光ビームSHGを光共振器の光路上に生成する。 The wavelength conversion crystal 18 is made of, for example, a prismatic LBO (LiB 3 O 5 ) crystal, is disposed between the harmonic separation output mirror 22 and the termination mirror 12, and is optically converted into a fundamental mode excited by this optical resonator. And a second harmonic (532 nm) light beam SHG is generated on the optical path of the optical resonator by non-linear interaction with the fundamental wavelength.

波長変換結晶18より終端ミラー12側に出た第2高調波の光ビームSHGは、終端ミラー12で戻されて、波長変換結晶18を通り抜ける。波長変換結晶18より終端ミラー12の反対側に出た第2高調波の光ビームSHGは、高調波分離出力ミラー22に入射し、このミラー22をまっすぐ透過して光共振器の外へ出力されるようになっている。   The second harmonic light beam SHG emitted from the wavelength conversion crystal 18 toward the terminal mirror 12 is returned by the terminal mirror 12 and passes through the wavelength conversion crystal 18. The second harmonic light beam SHG emitted from the wavelength conversion crystal 18 to the opposite side of the terminal mirror 12 is incident on the harmonic separation output mirror 22 and is transmitted straight through the mirror 22 and output to the outside of the optical resonator. It has become so.

光共振器の外には、高調波分離出力ミラー22より取り出された第2高調波の光ビームSHGを被加工物Wに向けて伝送ないし照射するための光学系として、たとえばミラー30,32が設けられている。被加工物Wは任意の金属からなるものでよいが、特に銅、金またはアルミニウムからなる場合に大なる利点が得られる。   Outside the optical resonator, as an optical system for transmitting or irradiating the second harmonic light beam SHG taken out from the harmonic separation output mirror 22 toward the workpiece W, for example, mirrors 30 and 32 are provided. Is provided. The workpiece W may be made of any metal, but a great advantage can be obtained particularly when it is made of copper, gold or aluminum.

波長変換結晶18は、結晶ホルダ34に着脱可能に保持されている。結晶角度調整機構36は、制御部26の制御の下で光共振器の光軸つまり基本波レーザ光LBの光軸に対する結晶ホルダ34内の波長変換結晶18の角度(向き)を調整するようになっている。   The wavelength conversion crystal 18 is detachably held on the crystal holder 34. The crystal angle adjusting mechanism 36 adjusts the angle (orientation) of the wavelength conversion crystal 18 in the crystal holder 34 with respect to the optical axis of the optical resonator, that is, the optical axis of the fundamental laser beam LB, under the control of the control unit 26. It has become.

図2に、結晶ホルダ34の基本構成を模式的に示す。この結晶ホルダ34は、波長変換結晶18を直接保持する第1のホルダ部38と、この第1のホルダ部38を所定の方向で回転可能に支持する第2のホルダ部40とを有する。   FIG. 2 schematically shows the basic configuration of the crystal holder 34. The crystal holder 34 includes a first holder portion 38 that directly holds the wavelength conversion crystal 18 and a second holder portion 40 that rotatably supports the first holder portion 38 in a predetermined direction.

第2のホルダ部40は、支持台(図示せず)に対して鉛直軸線Vを回転中心として一定範囲(たとえば±5°)内でθXの方向に回転可能となっている。より具体的には、たとえば、第2のホルダ部40の下面には垂直下方に延びる回転軸40aが設けられ、支持台の軸受(図示せず)にこの回転軸40aが回転可能に挿着される。これにより、第2のホルダ部40は、この回転軸40aの軸線Vを回転中心として支持台上でθX方向に回転可能となっている。好ましくは、鉛直軸線Vが、第1のホルダ部38に保持されている波長変換結晶18の中心部を鉛直方向に通るように構成される。 The second holder part 40 is rotatable in the direction of θ X within a certain range (for example, ± 5 °) with the vertical axis V as the rotation center with respect to a support base (not shown). More specifically, for example, a rotary shaft 40a extending vertically downward is provided on the lower surface of the second holder portion 40, and the rotary shaft 40a is rotatably inserted into a bearing (not shown) of a support base. The As a result, the second holder portion 40 can rotate in the θ X direction on the support base about the axis V of the rotation shaft 40a as the rotation center. Preferably, the vertical axis V is configured to pass through the central portion of the wavelength conversion crystal 18 held by the first holder portion 38 in the vertical direction.

第1のホルダ部38は、第2のホルダ部40に対して水平軸線Hを回転中心として一定範囲(たとえば±5°)内でθY方向に回転可能に取り付けられている。より具体的には、たとえば、第2のホルダ部40に固定されている支持部材42の水平支持軸42aが第1のホルダ部38の軸受38aに挿着されており、第1のホルダ部38は水平支持軸42aの軸線Hを回転中心としてθY方向に回転可能となっている。好ましくは、水平軸線Hが、第1のホルダ部38に保持されている波長変換結晶18の中心部を光共振器の光軸と直交して水平方向に通るように構成される。 The first holder portion 38 is rotatably mounted in the theta Y direction at a constant range (for example ± 5 °) in the rotation about the horizontal axis H relative to the second holder portion 40. More specifically, for example, the horizontal support shaft 42 a of the support member 42 fixed to the second holder part 40 is inserted into the bearing 38 a of the first holder part 38, and the first holder part 38. Is rotatable in the θ Y direction about the axis H of the horizontal support shaft 42a. Preferably, the horizontal axis H is configured to pass through the central portion of the wavelength conversion crystal 18 held by the first holder portion 38 in the horizontal direction perpendicular to the optical axis of the optical resonator.

上記のような結晶ホルダ34の構成により、支持台上で第2のホルダ部40がθX方向に任意の角度だけ回転すると、波長変換結晶18および第1のホルダ部38もθX方向に同じ角度だけ回転するようになっている。また、第2のホルダ部40上で第1のホルダ部38がθY方向に任意の角度だけ回転すると、波長変換結晶18もθY方向に同じ角度だけ回転するようになっている。 With the configuration of the crystal holder 34 as described above, when the second holder portion 40 rotates on the support base by an arbitrary angle in the θ X direction, the wavelength conversion crystal 18 and the first holder portion 38 are also the same in the θ X direction. It is designed to rotate by an angle. Further, when the first holder 38 rotates on the second holder 40 by an arbitrary angle in the θ Y direction, the wavelength conversion crystal 18 also rotates by the same angle in the θ Y direction.

再び図1において、結晶角度調整機構36は、結晶ホルダ34に保持されている波長変換結晶18をそれぞれθY方向およびθX方向で任意の角度(向き)に調整するための第1および第2のアクチエータ44,46を備えている。第1のアクチエータ44は、結晶ホルダ34の第1のホルダ部38に結合されており、制御部26の制御の下で第1のホルダ部38をθY方向で所望の角度(向き)に合わせるように動作する。第2のアクチエータ46は、結晶ホルダ34の第2のホルダ部40に結合されており、制御部26の制御の下で第2のホルダ部40をθX方向で所望の角度(向き)に合わせるように動作する。 Referring again to FIG. 1, the crystal angle adjusting mechanism 36 has a first and a second for adjusting the wavelength conversion crystal 18 held by the crystal holder 34 to arbitrary angles (directions) in the θ Y direction and the θ X direction, respectively. Actuators 44 and 46 are provided. The first actuator 44 is coupled to the first holder portion 38 of the crystal holder 34, and adjusts the first holder portion 38 to a desired angle (orientation) in the θ Y direction under the control of the control portion 26. To work. The second actuator 46 is coupled to the second holder part 40 of the crystal holder 34, and adjusts the second holder part 40 to a desired angle (orientation) in the θ X direction under the control of the control part 26. To work.

このように、結晶ホルダ34、結晶角度調整機構36および制御部26により、光共振器内で波長変換結晶18の中心部を通る鉛直線Vを回転軸線とする回転方向(θX)と、波長変換結晶18の中心部を光軸と直交して通る水平線Hを回転軸線とする回転方向(θY)とで、波長変換結晶18の角度(向き)を任意に調整できるようになっている。 As described above, the crystal holder 34, the crystal angle adjusting mechanism 36, and the control unit 26 allow the rotation direction (θ X ) with the vertical line V passing through the center of the wavelength conversion crystal 18 in the optical resonator to be the rotation axis, and the wavelength. The angle (orientation) of the wavelength conversion crystal 18 can be arbitrarily adjusted by the rotation direction (θ Y ) with the horizontal line H passing through the center of the conversion crystal 18 orthogonal to the optical axis as the rotation axis.

また、この高調波レーザ装置では、光共振器の光軸を調整するために、片方の終端ミラー10を可動のミラーホルダ48に取り付けている。このミラーホルダ48は、図示省略するが、上述した結晶ホルダ34(図2)と同様の構成を有している。そして、このミラーホルダ48には、上記結晶角度調整機構36と同様の構成および機能を有するミラー角度調整機構50の第1および第2アクチエータ52,54が結合されている。ミラーホルダ48、ミラー角度調整機構50および制御部26により、終端ミラー10の中心部を通る所定の鉛直線を回転軸線とする回転方向(θX)と終端ミラー10の中心部を光軸と直交して通る所定の水平線を回転軸線とする回転方向(θY)とで終端ミラー10の角度(向き)を調整し、ひいては両終端ミラー10,12間の光学的な平行度を調整できるようになっている。 In this harmonic laser device, one terminal mirror 10 is attached to a movable mirror holder 48 in order to adjust the optical axis of the optical resonator. Although not shown, the mirror holder 48 has a configuration similar to that of the crystal holder 34 (FIG. 2) described above. The mirror holder 48 is coupled with first and second actuators 52 and 54 of the mirror angle adjusting mechanism 50 having the same configuration and function as the crystal angle adjusting mechanism 36. By the mirror holder 48, the mirror angle adjusting mechanism 50, and the control unit 26, the rotation direction (θ X ) having a predetermined vertical line passing through the center of the terminal mirror 10 as the rotation axis and the center of the terminal mirror 10 orthogonal to the optical axis The angle (orientation) of the terminal mirror 10 is adjusted by the rotation direction (θ Y ) with a predetermined horizontal line passing through as a rotation axis so that the optical parallelism between the terminal mirrors 10 and 12 can be adjusted. It has become.

また、この高調波レーザ装置は、基本波の光ビームLBのレーザパワー(出力)と第2高調波の光ビームSHGのレーザパワー(出力)とをそれぞれ個別に測定するための第1および第2のパワーモニタ部56,58を備えている。第1のパワーモニタ部56は、ミラー角度調整機構50の後方に配置され、終端ミラー10の背後に漏れた基本波の漏れ光MLBを受光してその光強度を電気信号に変換する光電変換素子たとえばフォトダイオードを有しており、該光電変換素子の出力信号(基本波パワー測定値信号)SLBを制御部26に与える。第2のパワーモニタ部58は、伝送ないし照射光学系のミラー32の後方に配置され、このミラー10の背後に漏れた第2高調波の漏れ光MSHGを受光してその光強度を電気信号に変換する光電変換素子たとえばフォトダイオードを有しており、該光電変換素子の出力信号(第2高調波パワー測定値信号)SSHGを制御部26に与える。 In addition, the harmonic laser apparatus includes first and second lasers for individually measuring the laser power (output) of the fundamental light beam LB and the laser power (output) of the second harmonic light beam SHG. Power monitor units 56 and 58 are provided. The first power monitor unit 56 is disposed behind the mirror angle adjusting mechanism 50, receives the fundamental leaked light MLB leaked behind the terminal mirror 10, and converts the light intensity into an electrical signal. An element such as a photodiode is provided, and an output signal (basic wave power measurement value signal) S LB of the photoelectric conversion element is supplied to the control unit 26. The second power monitor unit 58 is disposed behind the mirror 32 of the transmission or irradiation optical system, receives the second harmonic leakage light MSHG leaking behind the mirror 10, and determines the light intensity as an electric signal. A photoelectric conversion element that converts the signal into a signal, for example, a photodiode, and outputs an output signal (second harmonic power measurement value signal) S SHG of the photoelectric conversion element to the control unit 26.

制御部26は、後述するように、第1のパワーモニタ部56より得られる基本波パワー測定値信号SLBをフィードバック信号としてミラー角度調整機構50による光共振器の光軸調整を制御し、第2のパワーモニタ部58より得られる第2高調波パワー測定値信号SSHGをフィードバック信号として結晶角度調整機構36による波長変換結晶18の角度調整を制御するようになっている。 As will be described later, the control unit 26 controls the optical axis adjustment of the optical resonator by the mirror angle adjustment mechanism 50 using the fundamental power measurement value signal S LB obtained from the first power monitoring unit 56 as a feedback signal, The angle adjustment of the wavelength conversion crystal 18 by the crystal angle adjustment mechanism 36 is controlled by using the second harmonic power measurement value signal S SHG obtained from the second power monitor unit 58 as a feedback signal.

さらに、この高調波レーザ装置では、結晶ホルダ34に保持されている波長変換結晶18の温度を一定に制御するための結晶温度調整機構60を備えている。この結晶温度調整機構60は、波長変換結晶18に近接して配置される発熱素子たとえばペルチェ素子62と温度センサたとえばサーミスタ64とを有している。好ましくは、波長変換結晶18を直接保持する第1のホルダ34が熱伝導率の高い材質(たとえば銅)からなり、この第1のホルダ34に発熱素子62および温度センサ64が熱的に結合された状態で取り付けられてよい。この結晶温度調整機構60では、温度センサ64からの出力信号(温度検出信号)をフィードバック信号として、波長変換結晶18付近の温度を設定温度(たとえば50°C)に合わせるように、制御部26が発熱素子62の発熱量を制御するようになっている。このように波長変換結晶18の温度を一定に制御するのは、光共振器の光軸に対して最大の波長変換効率が得られる波長変換結晶18の角度(向き)が温度によって変わるためである。   Further, this harmonic laser device includes a crystal temperature adjusting mechanism 60 for controlling the temperature of the wavelength conversion crystal 18 held in the crystal holder 34 to be constant. The crystal temperature adjusting mechanism 60 includes a heat generating element such as a Peltier element 62 and a temperature sensor such as a thermistor 64 which are disposed in the vicinity of the wavelength conversion crystal 18. Preferably, the first holder 34 that directly holds the wavelength conversion crystal 18 is made of a material having high thermal conductivity (for example, copper), and the heating element 62 and the temperature sensor 64 are thermally coupled to the first holder 34. It may be attached in the state. In this crystal temperature adjustment mechanism 60, the control unit 26 uses the output signal (temperature detection signal) from the temperature sensor 64 as a feedback signal so that the temperature near the wavelength conversion crystal 18 matches the set temperature (for example, 50 ° C.). The amount of heat generated by the heating element 62 is controlled. The reason why the temperature of the wavelength conversion crystal 18 is controlled to be constant in this way is that the angle (direction) of the wavelength conversion crystal 18 that provides the maximum wavelength conversion efficiency with respect to the optical axis of the optical resonator varies depending on the temperature. .

制御部26は、マイクロコンピュータからなり、この高調波レーザ装置内の各部だけでなく、入力装置や表示装置(図示せず)等にも接続されている。   The control unit 26 includes a microcomputer and is connected not only to each unit in the harmonic laser device but also to an input device, a display device (not shown), and the like.

図3〜図5に、この実施形態の高調波レーザ装置において光共振器の光学系を自動調整するための制御部26の制御手順を示す。ここで、光共振器の光学系は、基本波レーザ光LBを生成するための基本波光学系と、この基本波光学系をベースとして第2高調波レーザ光SHGを生成するための高調波光学系とに大別される。基本波光学系には、両終端ミラー10,12、中間ミラー20,22、活性媒体14およびQスイッチ16が含まれる。高調波光学系には、波長変換結晶18、終端ミラー12および高調波分離出力ミラー22が含まれる。   3 to 5 show a control procedure of the control unit 26 for automatically adjusting the optical system of the optical resonator in the harmonic laser apparatus of this embodiment. Here, the optical system of the optical resonator includes a fundamental wave optical system for generating the fundamental laser beam LB and harmonic optics for generating the second harmonic laser beam SHG based on the fundamental wave optical system. It is roughly divided into systems. The fundamental optical system includes both end mirrors 10 and 12, intermediate mirrors 20 and 22, an active medium 14, and a Q switch 16. The harmonic optical system includes a wavelength conversion crystal 18, a termination mirror 12, and a harmonic separation output mirror 22.

図3に基本手順を示す。この実施形態では、電気系(電気光学励起部24等)の出力を一定に制御したうえで、先ず第2のパワーモニタ部58を通じて第2高調波の光ビームSHGのレーザパワーPSHGを測定し(ステップA1)、そのパワー測定値PSHGが所定の基準値または下限値PREFよりも低いか否かを検査する(ステップA2)。この検査でPSHG≧PREFのときはパワー正常と判断して調整を中止し(ステップA3)、PSHG<PREFのときはパワー不良と判断して各部の調整を順次実行し(ステップA4〜A6)、各段階で何等かの異常または機能不全が判明したときは、強制終了して警報メッセージを出力する(ステップA7)。なお、ステップA3を省き、所定のコマンド入力に応じて各部の調整(ステップA4〜A6)を無条件で実行することも可能である。 FIG. 3 shows the basic procedure. In this embodiment, the laser power P SHG of the second harmonic light beam SHG is first measured through the second power monitor 58 after the output of the electrical system (electro-optical excitation unit 24, etc.) is controlled to be constant. (Step A 1 ), it is checked whether or not the power measurement value P SHG is lower than a predetermined reference value or lower limit value P REF (Step A 2 ). In this inspection, if P SHG ≧ P REF , it is determined that the power is normal, and the adjustment is stopped (step A 3 ). If P SHG <P REF , it is determined that the power is defective, and each part is adjusted sequentially (step S 3 ). a 4 to a 6), when something like either abnormal or dysfunctional is found at each stage outputs a warning message and abort (step a 7). Incidentally, it omitted the step A 3, it is possible to perform each unit adjustment (steps A 4 to A 6) unconditionally in response to a predetermined command input.

この実施形態における特徴の一つは、各部調整の実行順序である。すなわち、最初に基本波光学系の調整が行われ(ステップA4)、次いで波長変換結晶18の温度調整が行われ(ステップA5)、最後に高調波光学系調整が行われる(ステップA6)という手順が重要である。 One of the features in this embodiment is the execution order of each part adjustment. That is, the fundamental optical system is first adjusted (step A 4 ), the temperature of the wavelength conversion crystal 18 is then adjusted (step A 5 ), and finally the harmonic optical system is adjusted (step A 6). ) Is important.

図4に、基本波光学系の調整(ステップA4)の詳細な手順を示す。基本波光学系の調整では、所要の初期化を行ったうえで、基本波レーザ光LBのレーザパワーPLBを最大値に合わせる調整を行う。具体的には、第1のパワーモニタ部56を通じて基本波レーザ光LBのレーザパワーPLBをモニタしながら、ミラー角度調整機構50により終端ミラー10の角度(向き)を一定のピッチで振って(スキャンして)、最大の基本波レーザパワーPLBが得られる終端ミラー10の角度(向き)を割り出し、かつその角度(向き)に合わせる。 FIG. 4 shows a detailed procedure for adjusting the fundamental wave optical system (step A 4 ). In the adjustment of the fundamental wave optical system, necessary initialization is performed, and then the adjustment of adjusting the laser power P LB of the fundamental wave laser beam LB to the maximum value is performed. Specifically, while monitoring the laser power P LB of the fundamental wave laser beam LB through the first power monitor unit 56, the mirror angle adjustment mechanism 50 waving angle (orientation) of the end mirror 10 at a constant pitch ( The angle (orientation) of the terminal mirror 10 at which the maximum fundamental wave laser power P LB is obtained is determined and adjusted to the angle (orientation).

より詳細には、ミラー角度調整機構50により終端ミラー10の角度(向き)を所望のポジションに合わせ、第1のパワーモニタ部56により基本波レーザ光LBのレーザパワーPLBを測定し(ステップB1)、そのポジションにおけるレーザパワー測定値PLBを暫定最大値Pmaxと比較し(ステップB2)、今回の測定値PLBが暫定最大値Pmaxを超えるときはPmaxをPLBで置換(更新)する(ステップB3)。ここで、暫定最大値Pmaxは、初期ポジションから前回のポジションまでのスキャニングで得られたレーザパワー測定値PLBの中の最大値である。相直交(独立)する2つの回転方向θX,θYで測定ポジションを1ピッチずつインクリメントして上記の処理を繰り返すことで(ステップB1〜B8)、全ポジションの中での最大値[Pmax]を確定することができる。このトータルの最大値[Pmax]を基本波パワーの基準値または下限値Prefと比較し、[Pmax]≧Prefのときは[Pmax]が得られたポジションに終端ミラー10の角度(向き)を合わせる(ステップB11)。 More specifically, the angle (orientation) of the terminal mirror 10 is adjusted to a desired position by the mirror angle adjusting mechanism 50, and the laser power P LB of the fundamental laser beam LB is measured by the first power monitor unit 56 (step B 1 ) The laser power measurement value P LB at that position is compared with the provisional maximum value P max (step B 2 ). When the current measurement value P LB exceeds the provisional maximum value P max , P max is replaced with P LB (Update) (Step B 3 ). Here, the provisional maximum value P max is the maximum value among the laser power measurement values P LB obtained by scanning from the initial position to the previous position. By repeating the above process by incrementing the measurement position by 1 pitch in two mutually orthogonal (independent) rotation directions θ X and θ Y (steps B 1 to B 8 ), the maximum value among all positions [ P max ] can be determined. The total maximum value [P max ] is compared with the reference value or lower limit value P ref of the fundamental wave power. When [P max ] ≧ P ref , the angle of the terminal mirror 10 is at the position where [P max ] is obtained. Align (orientation) (step B 11 ).

しかし、[Pmax]<Prefのときは、基本波光学系が機能不全または調整不能になっていると判断して、その旨の警報メッセージを出す(ステップA7)。すなわち、終端ミラー10の角度(向き)を最大の基本波レーザパワーが得られるポジションに合わせても、その最大レーザパワーが基準値または下限値Prefに達しない場合は、基本波光学系の何処かで物理的な異常または機能上の故障があると判定してよい。 However, if [P max ] <P ref , it is determined that the fundamental optical system is malfunctioning or cannot be adjusted, and an alarm message to that effect is issued (step A 7 ). In other words, if the maximum laser power does not reach the reference value or the lower limit value P ref even if the angle (direction) of the terminal mirror 10 is adjusted to the position where the maximum fundamental laser power is obtained, what happens to the fundamental optical system? It may be determined that there is a physical abnormality or functional failure.

上記のように、基本波光学系の調整(ステップA4)では、高調波光学系の状態つまり第2高調波のレーザパワーPSHGや波長変換結晶18の角度(向き)等を無視して、基本波のレーザパワーPLBを最大にするように、終端ミラー10の角度(向き)を最適化し、両終端ミラー10,12間の光学的な平行度を合わせる。 As described above, in the adjustment of the fundamental optical system (step A 4 ), the state of the harmonic optical system, that is, the laser power P SHG of the second harmonic, the angle (direction) of the wavelength conversion crystal 18 and the like are ignored, The angle (orientation) of the terminal mirror 10 is optimized so as to maximize the laser power P LB of the fundamental wave, and the optical parallelism between the terminal mirrors 10 and 12 is matched.

次に、波長変換結晶18の温度調整(ステップA5)では、結晶温度調整機構60により波長変換結晶18の温度をフィードバック制御で設定温度(たとえば50°C)に合わせる。装置の立ち上げ時は、設定温度に達するまで相当の時間を要する。定常動作中は、波長変換結晶18の温度が常時設定温度に維持されている筈であるが、一応このステップで確認しておくのが好ましい。もし設定温度になっていない、あるいは設定温度に到達できないことが判明した場合は、結晶温度調整機構60に何らかの異常または故障があるものと判断して、警報メッセージを出す(ステップA7)。 Next, in the temperature adjustment of the wavelength conversion crystal 18 (step A 5 ), the temperature of the wavelength conversion crystal 18 is adjusted to the set temperature (for example, 50 ° C.) by feedback control by the crystal temperature adjustment mechanism 60. When starting up the apparatus, it takes a considerable amount of time to reach the set temperature. During the steady operation, the temperature of the wavelength conversion crystal 18 should always be maintained at the set temperature, but it is preferable to check at this step for the time being. If it is found that the set temperature is not reached or cannot be reached, it is determined that there is some abnormality or failure in the crystal temperature adjusting mechanism 60 and an alarm message is issued (step A 7 ).

図5に、高調波光学系の調整(ステップA6)の詳細な手順を示す。高調波光学系の調整では、所要の初期化を行ったうえで、第2高調波レーザ光SHGのレーザパワーPSHGを適正値ないし最大値に合わせる調整を行う。具体的には、第2のパワーモニタ部58を通じて第2高調波レーザ光SHGのレーザパワーPSHGをモニタしながら、結晶角度調整機構36により波長変換結晶18の角度(向き)を一定のピッチで振って(スキャンして)、最大の第2高調波レーザパワーが得られる波長変換結晶18の角度(向き)を割り出し、かつその角度(向き)に合わせる。 FIG. 5 shows a detailed procedure for adjusting the harmonic optical system (step A 6 ). In adjustment of the harmonic optical system, necessary initialization is performed, and then adjustment is performed to adjust the laser power P SHG of the second harmonic laser beam SHG to an appropriate value or a maximum value. Specifically, while monitoring the laser power P SHG of the second harmonic laser beam SHG through the second power monitor unit 58, the angle (direction) of the wavelength conversion crystal 18 is set at a constant pitch by the crystal angle adjustment mechanism 36. By shaking (scanning), the angle (orientation) of the wavelength conversion crystal 18 at which the maximum second harmonic laser power is obtained is determined and adjusted to the angle (orientation).

より詳細には、結晶角度調整機構36により波長変換結晶18の角度(向き)を所望のポジションに合わせ、第2のパワーモニタ部58により第2高調波レーザ光SHGのレーザパワーPSHGを測定し(ステップC1)、そのポジションにおけるレーザパワー測定値PSHGを暫定最大値PMAXと比較し(ステップC2)、今回の測定値PSHGが暫定最大値PMAXを超えるときはPMAXをPSHGで置換(更新)する(ステップC3)。ここで、暫定最大値PMAXは、初期ポジションから前回のポジションまでのスキャニングで得られたレーザパワー測定値PSHGの中の最大値である。相直交(独立)する2つの回転方向θX,θYで測定ポジションを1ピッチずつインクリメントして上記の処理を繰り返すことで(ステップC1〜C8)、全ポジションの中での最大値[PMAX]を確定することができる。そして、このトータルの最大値[PMAX]を第2高調波パワーの基準値または下限値PREFと比較し、[PMAX]≧PREFのときは[PMAX]が得られたポジションに波長変換結晶18の角度(向き)を合わせる(ステップC11)。これで、波長変換結晶18の角度調整(ステップA6)を終了するとともに、光共振器内の全体の調整(ステップA4,A5,A6)も首尾よく終了する。 More specifically, the angle (orientation) of the wavelength conversion crystal 18 is adjusted to a desired position by the crystal angle adjusting mechanism 36, and the laser power P SHG of the second harmonic laser beam SHG is measured by the second power monitor unit 58. (Step C 1 ), the laser power measurement value P SHG at that position is compared with the provisional maximum value P MAX (Step C 2 ), and when the current measurement value P SHG exceeds the provisional maximum value P MAX , P MAX is set to P Replace (update) with SHG (step C 3 ). Here, the provisional maximum value P MAX is the maximum value among the laser power measurement values P SHG obtained by scanning from the initial position to the previous position. By repeating the above process by incrementing the measurement position by one pitch in two mutually orthogonal (independent) rotation directions θ X and θ Y (steps C 1 to C 8 ), the maximum value among all positions [ P MAX ] can be determined. Then, the total maximum value [P MAX ] is compared with the reference value or lower limit value P REF of the second harmonic power, and when [P MAX ] ≧ P REF , the wavelength is at the position where [P MAX ] is obtained. The angle (direction) of the conversion crystal 18 is adjusted (step C 11 ). As a result, the angle adjustment (step A 6 ) of the wavelength conversion crystal 18 is completed, and the entire adjustment in the optical resonator (steps A 4 , A 5 , A 6 ) is also completed successfully.

しかし、[PMAX]<PREFのときは、今回の調整は無駄に終わったことになる。もっとも、この場合は、原因が基本波光学系側ではなく高調波光学系側に存在すること、たとえば波長変換結晶18が劣化しているか、あるいは結晶角度調整機構36が正常に機能しないことが判明したので、その旨の警報メッセージを出すことができる(ステップA7)。 However, when [P MAX ] <P REF , this adjustment is in vain. However, in this case, it is found that the cause is not on the fundamental optical system side but on the harmonic optical system side, for example, the wavelength conversion crystal 18 is deteriorated or the crystal angle adjusting mechanism 36 does not function normally. Therefore, an alarm message to that effect can be issued (step A 7 ).

上記のように、この実施形態の高調波レーザ装置では、基本波レーザ光LBおよび第2高調波レーザ光SHGのレーザパワーPLB,PSHGをそれぞれモニタするためのパワーモニタ部56,58を設け、各パワーモニタ部56,58を通じて基本波光学系の調整(たとえば光共振器の光軸調整)と高調波光学系の調整(たとえば波長変換結晶18の角度調整)とを独立して行えるようにしている。 As described above, the harmonic laser device of this embodiment includes the power monitor units 56 and 58 for monitoring the laser powers P LB and P SHG of the fundamental laser beam LB and the second harmonic laser beam SHG, respectively. The fundamental wave optical system (for example, optical axis adjustment of the optical resonator) and the harmonic optical system (for example, angle adjustment of the wavelength conversion crystal 18) can be independently performed through the power monitor units 56 and 58. ing.

そして、光共振器の光学系を調整する際には、先ず基本波レーザ光LBのレーザパワーPLBが最大になるように基本波光学系の調整を行い、その後に第2高調波レーザ光SHGのレーザパワーPSHGが適正ないし最大になるように高調波光学系の調整を行う。これにより、基本波光学系および高調波光学系の調整が各々一回きりで済み、何度も交互にやり直すようなことはない。 When adjusting the optical system of the optical resonator, first, the fundamental wave optical system is adjusted so that the laser power P LB of the fundamental wave laser beam LB becomes maximum, and then the second harmonic laser beam SHG. The harmonic optical system is adjusted so that the laser power P SHG becomes appropriate or maximum. As a result, the adjustment of the fundamental wave optical system and the harmonic optical system can be performed only once, and the adjustment is not repeated over and over again.

また、第2高調波レーザ光SHGのレーザパワーPLBが設定通りにならないときは、その原因が高調波光学系または基本波光学系のいずれにあるのか、原因要素を明確に分別または特定することができる。しかも、制御部26の制御の下でミラー角度調整機構50および結晶角度調整機構36により光共振器の光軸調整(基本波光学系の調整)および波長変換結晶18の角度調整(高調波光学系の調整)をそれぞれ自動的に行うので、人手(熟練や手間)を不要にすることができる。さらには、結晶温度調整機構60により結晶温度を設定値に保った状態で波長変換結晶18の角度調整を行うので、周囲温度に影響されることなく第2高調波レーザパワーの安定化を図ることができる。 Also, when the laser power P LB of the second harmonic laser beam SHG does not match the set value, clearly identify or identify the cause of whether the cause is the harmonic optical system or the fundamental optical system. Can do. In addition, under the control of the control unit 26, the mirror angle adjustment mechanism 50 and the crystal angle adjustment mechanism 36 adjust the optical axis of the optical resonator (adjustment of the fundamental wave optical system) and the angle adjustment of the wavelength conversion crystal 18 (harmonic optical system). Adjustment) is automatically performed, so that manpower (skill and labor) can be eliminated. Furthermore, since the angle of the wavelength conversion crystal 18 is adjusted while the crystal temperature adjustment mechanism 60 maintains the crystal temperature at the set value, the second harmonic laser power can be stabilized without being affected by the ambient temperature. Can do.

以上、添付図を参照して本発明の好適な実施形態を説明したが、本発明は上記実施形態に限定されるわけではなく、その技術思想の範囲内で種々の変形が可能である。   The preferred embodiments of the present invention have been described above with reference to the accompanying drawings. However, the present invention is not limited to the above-described embodiments, and various modifications can be made within the scope of the technical idea.

たとえば、基本手順(図3)において、基本波光学系の調整(ステップA4)と波長変換結晶18の温度調整(ステップA5)の実行順序を入れ替えること、つまり波長変換結晶18の温度調整を先に行ってから基本波光学系の調整を行うことも可能である。また、波長変換結晶18の温度調整(結晶温度調整機構60)を省いて、任意の結晶温度に対してミラー角度調整機構50および結晶角度調整機構36を動的または常時作動させ、基本波のレーザパワーPLBおよび第2高調波のレーザパワーPSHGをそれぞれ最大値ないし最適値に維持する構成とすることも可能である。 For example, in the basic procedure (FIG. 3), the execution order of the adjustment of the fundamental wave optical system (step A 4 ) and the temperature adjustment of the wavelength conversion crystal 18 (step A 5 ) is changed, that is, the temperature adjustment of the wavelength conversion crystal 18 is performed. It is also possible to adjust the fundamental wave optical system after the first. Further, the temperature adjustment (crystal temperature adjustment mechanism 60) of the wavelength conversion crystal 18 is omitted, and the mirror angle adjustment mechanism 50 and the crystal angle adjustment mechanism 36 are dynamically or constantly operated with respect to an arbitrary crystal temperature. It is also possible to employ a configuration in which the power P LB and the second harmonic laser power P SHG are maintained at the maximum value or the optimum value, respectively.

また、光共振器の構成または方式においても種々の変形が可能なのはもちろん、基本波光学系または高調波光学系の調整機構を種々変形することも可能である。たとえば、ミラー角度調整機構50および結晶角度調整機構36を上記実施形態ではアクチエータ(52,54)、(44,46)を用いて自動化したが、調整ネジ等を用いて手動型に変形することも可能である。基本波のレーザパワーPLBおよび第2高調波のレーザパワーPSHGを個別に測定するための第1および第2のパワーモニタ部56,58は、任意の適当な位置に配置されてよい。たとえば、終端ミラー12の背後には基本波および第2高調波の重畳した光が漏れるので、たとえばダイクロイックミラーにより基本波の漏れ光と第2高調波の漏れ光とを分離して、それぞれの漏れ光を第1および第2のパワーモニタ部56,58に受光させるようにしてもよい。 In addition, various modifications can be made in the configuration or method of the optical resonator, and the adjustment mechanism of the fundamental wave optical system or the harmonic optical system can be variously modified. For example, although the mirror angle adjusting mechanism 50 and the crystal angle adjusting mechanism 36 are automated using the actuators (52, 54) and (44, 46) in the above-described embodiment, the mirror angle adjusting mechanism 50 and the crystal angle adjusting mechanism 36 may be transformed into a manual type using an adjusting screw or the like. Is possible. The first and second power monitoring units 56 and 58 for individually measuring the fundamental laser power P LB and the second harmonic laser power P SHG may be arranged at any appropriate position. For example, since light with superimposed fundamental wave and second harmonic leaks behind the terminal mirror 12, the leakage light of the fundamental wave and the leaked light of the second harmonic are separated by a dichroic mirror, for example. The first and second power monitor units 56 and 58 may receive the light.

また、上記した実施形態はQスイッチ方式の高調波レーザ装置に係るものであったが、Qスイッチを使用しないロングパルス方式の高調波レーザ装置にも本発明を適用することができる。また、本発明は、第2高調波の光ビームを生成する高調波レーザ装置に限るものでもなく、他の高調波たとえば第3高調波や第4高調波の光ビームを生成する高調波レーザ装置にも適用可能である。   Moreover, although the above-described embodiment relates to a Q-switch type harmonic laser device, the present invention can also be applied to a long-pulse type harmonic laser device that does not use a Q switch. Further, the present invention is not limited to the harmonic laser apparatus that generates the second harmonic light beam, and other harmonics such as the third harmonic or the fourth harmonic light beam are generated. It is also applicable to.

本発明の一実施形態による高調波レーザ装置の全体構成を模式的に示す上面図である。It is a top view which shows typically the whole structure of the harmonic laser apparatus by one Embodiment of this invention. 実施形態の高調波レーザ装置における結晶ホルダの基本構成を模式的に示す斜視図である。It is a perspective view which shows typically the basic composition of the crystal holder in the harmonic laser apparatus of embodiment. 実施形態の高調波レーザ装置において光共振器の光学系を自動調整するための制御部の基本制御手順を示すフローチャート図である。It is a flowchart figure which shows the basic control procedure of the control part for automatically adjusting the optical system of an optical resonator in the harmonic laser apparatus of embodiment. 実施形態における基本波光学系の調整の詳細な手順を示すフローチャート図である。It is a flowchart figure which shows the detailed procedure of adjustment of the fundamental wave optical system in embodiment. 実施形態における高調波光学系の調整の詳細な手順を示すフローチャート図である。It is a flowchart figure which shows the detailed procedure of adjustment of the harmonic optical system in embodiment.

符号の説明Explanation of symbols

10,12 終端ミラー
14 活性媒体
18 波長変換結晶
20 中間ミラー
22 高調波分離出力ミラー
24 電気光学励起部
26 制御部
30,32 伝送ないし照射系ミラー
34 結晶ホルダ
36 結晶角度調整機構
38 第1のホルダ部
40 第2のホルダ部
44,46 アクチエータ
48 ミラーホルダ
50 ミラー角度調整機構
52,54 アクチエータ
56 第1のパワーモニタ部
58 第2のパワーモニタ部
60 結晶温度調整機構
62 発熱素子
64 温度センサ
10, 12 Terminal mirror 14 Active medium 18 Wavelength conversion crystal 20 Intermediate mirror 22 Harmonic separation output mirror 24 Electro-optic excitation unit 26 Control unit 30, 32 Transmission or irradiation system mirror 34 Crystal holder 36 Crystal angle adjustment mechanism 38 First holder Part 40 Second holder part 44, 46 Actuator 48 Mirror holder 50 Mirror angle adjustment mechanism 52, 54 Actuator 56 First power monitor part 58 Second power monitor part 60 Crystal temperature adjustment mechanism 62 Heating element 64 Temperature sensor

Claims (16)

光共振器内に活性媒体と波長変換結晶とを配置し、前記活性媒体をポンピングして基本波長を有する第1の光ビームを生成し、前記波長変換結晶と前記第1の光ビームとの非線形相互作用により高調波の第2の光ビームを生成し、前記第2の光ビームを前記第1の光ビームから分離して前記光共振器の外へ出力する高調波レーザ発生方法において、
前記第1の光ビームの出力を測定し、その出力測定値に基づいて前記第1の光ビームを生成するための第1の光学系を調整する第1の光学系調整工程と、
前記第1の光学系調整工程の後に、前記第2の光ビームの出力を測定し、その出力測定値に基づいて前記第2の光ビームを生成するための第2の光学系を調整する第2の光学系調整工程と
を有する高調波レーザ発生方法。
An active medium and a wavelength conversion crystal are disposed in an optical resonator, the active medium is pumped to generate a first light beam having a fundamental wavelength, and the nonlinearity between the wavelength conversion crystal and the first light beam is generated. In a harmonic laser generation method of generating a second light beam of harmonics by interaction, separating the second light beam from the first light beam, and outputting it out of the optical resonator,
A first optical system adjusting step of measuring an output of the first light beam and adjusting a first optical system for generating the first light beam based on the output measurement value;
After the first optical system adjusting step, a second optical system for measuring the output of the second light beam and adjusting the second optical system for generating the second light beam based on the output measurement value is measured. A method of generating a harmonic laser, comprising:
光共振器内に活性媒体と波長変換結晶とを配置し、前記活性媒体をポンピングして基本波長を有する第1の光ビームを生成し、前記波長変換結晶の温度を制御し、前記波長変換結晶と前記第1の光ビームとの非線形相互作用により高調波の第2の光ビームを生成し、前記第2の光ビームを前記第1の光ビームから分離して前記光共振器の外へ出力する高調波レーザ発生方法において、
前記第1の光ビームの出力を測定し、その出力測定値に基づいて前記第1の光ビームを生成するための第1の光学系を調整する第1の光学系調整工程と、
前記波長変換結晶の温度を設定温度に合わせる結晶温度調整工程と、
前記第1の光学系調整工程および前記結晶温度調整工程の後に、前記第2の光ビームの出力を測定し、その出力測定値に基づいて前記第2の光ビームを生成するための第2の光学系を調整する第2の光学系調整工程と
を有する高調波レーザ発生方法。
An active medium and a wavelength conversion crystal are arranged in an optical resonator, the active medium is pumped to generate a first light beam having a fundamental wavelength, a temperature of the wavelength conversion crystal is controlled, and the wavelength conversion crystal A second light beam of higher harmonics is generated by nonlinear interaction between the first light beam and the first light beam, and the second light beam is separated from the first light beam and output to the outside of the optical resonator. In the harmonic laser generation method to
A first optical system adjusting step of measuring an output of the first light beam and adjusting a first optical system for generating the first light beam based on the output measurement value;
A crystal temperature adjusting step for adjusting the temperature of the wavelength conversion crystal to a set temperature;
After the first optical system adjustment step and the crystal temperature adjustment step, a second light beam for measuring the output of the second light beam and generating the second light beam based on the output measurement value A harmonic laser generation method comprising: a second optical system adjustment step of adjusting the optical system.
前記第1の光学系調整工程が、前記第1の光ビームの出力測定値が最大値になるように前記光共振器における前記第1の光ビームの光軸を調整する工程を有する請求項1または請求項2に記載の高調波レーザ発生方法。   The first optical system adjusting step includes a step of adjusting an optical axis of the first light beam in the optical resonator so that an output measurement value of the first light beam becomes a maximum value. Or the harmonic laser generation method of Claim 2. 前記第1の光学系調整工程が、前記光共振器における共振器ミラーの光学的な平行度を調整する工程を有する請求項1〜3のいずれか一項に記載の高調波レーザ発生方法。   The harmonic laser generation method according to claim 1, wherein the first optical system adjustment step includes a step of adjusting an optical parallelism of a resonator mirror in the optical resonator. 前記第2の光学系調整工程が、前記第2の光ビームの出力測定値が設定範囲内の値になるように前記第1の光ビームの光軸に対して前記波長変換結晶の角度を調整する工程を有する請求項1〜4のいずれか一項に記載の高調波レーザ発生方法。   The second optical system adjustment step adjusts the angle of the wavelength conversion crystal with respect to the optical axis of the first light beam so that the output measurement value of the second light beam is a value within a setting range. The method for generating a harmonic laser according to any one of claims 1 to 4, further comprising a step of: 前記第2の光学系調整工程が、前記第2の光ビームの出力測定値が最大値になるように前記第1の光ビームの光軸に対して前記波長変換結晶の角度を調整する工程を有する請求項1〜4のいずれか一項に記載の高調波レーザ発生方法。   Adjusting the angle of the wavelength conversion crystal with respect to the optical axis of the first light beam so that the output measurement value of the second light beam becomes a maximum value in the second optical system adjusting step; The method for generating a harmonic laser according to any one of claims 1 to 4. 前記第1の光ビームの光軸に対して前記波長変換結晶の角度を調整する工程が、
前記波長変換結晶の中心部を通る鉛直線を回転軸線とする第1の回転方向で前記波長変換結晶の角度を調整する第1の結晶角度調整工程と、
前記保持部に保持されている前記波長変換結晶の中心部を光軸と直交して通る水平線を回転軸線とする第2の回転方向で前記波長変換結晶の角度を調整する第2の結晶角度調整工程と
を有する請求項5または請求項6に記載の高調波レーザ発生方法。
Adjusting the angle of the wavelength conversion crystal with respect to the optical axis of the first light beam,
A first crystal angle adjusting step of adjusting an angle of the wavelength conversion crystal in a first rotation direction with a vertical line passing through a central portion of the wavelength conversion crystal as a rotation axis;
A second crystal angle adjustment that adjusts the angle of the wavelength conversion crystal in a second rotation direction with a horizontal line passing through a central portion of the wavelength conversion crystal held by the holding unit orthogonal to the optical axis as a rotation axis. The method for generating a harmonic laser according to claim 5, further comprising:
光学的に対向して配置された第1および第2の終端ミラーを有する光共振器と、
前記光共振器内に配置された活性媒体と、
基本波長を有する第1の光ビームを生成するために前記活性媒体をポンピングする励起部と、
前記光共振器内に配置され、前記第1の光ビームとの非線形相互作用により高調波の第2の光ビームを生成する波長変換結晶と、
前記光共振器の光軸上に配置され、前記第2の光ビームを前記第1の光ビームから分離して前記光共振器の外へ出力する高調波分離出力ミラーと、
前記第1の光ビームの出力を測定するための第1のパワーモニタ部と、
前記第1のパワーモニタ部で得られる前記第1の光ビームの出力測定値に基づいて前記第1の光ビームを生成するための第1の光学系を調整する第1の光学系調整部と、
前記第2の光ビームの出力を測定するための第2のパワーモニタ部と、
前記第2のパワーモニタ部で得られる前記第2の光ビームの出力測定値に基づいて前記第2の光ビームを生成するための第2の光学系を調整する第2の光学系調整部と
を有する高調波レーザ装置。
An optical resonator having first and second terminating mirrors disposed optically opposite;
An active medium disposed in the optical resonator;
An excitation section for pumping the active medium to generate a first light beam having a fundamental wavelength;
A wavelength converting crystal disposed in the optical resonator and generating a second light beam of higher harmonics by nonlinear interaction with the first light beam;
A harmonic separation output mirror disposed on the optical axis of the optical resonator and separating the second light beam from the first light beam and outputting the separated light beam to the outside of the optical resonator;
A first power monitor for measuring the output of the first light beam;
A first optical system adjustment unit that adjusts a first optical system for generating the first light beam based on an output measurement value of the first light beam obtained by the first power monitor unit; ,
A second power monitor for measuring the output of the second light beam;
A second optical system adjustment unit that adjusts a second optical system for generating the second light beam based on an output measurement value of the second light beam obtained by the second power monitor unit; Harmonic laser device.
前記第1のパワーモニタ部が、前記第1の終端ミラーもしくは前記第2の終端ミラーの背後に抜けた前記第1の光ビームの漏れ光を受光してその光強度を電気信号に変換する光電変換素子を有する請求項8に記載の高調波レーザ装置。   The first power monitor unit receives the leakage light of the first light beam that has passed behind the first terminal mirror or the second terminal mirror, and converts the light intensity into an electric signal. The harmonic laser device according to claim 8, comprising a conversion element. 前記第1の光学系調整部が、前記第1の光ビームの出力測定値が最大値になるように前記第1の光ビームの光軸を調整する手段を有する請求項8または請求項9に記載の高調波レーザ装置。   The said 1st optical system adjustment part has a means to adjust the optical axis of the said 1st light beam so that the output measurement value of the said 1st light beam may become the maximum value. The described harmonic laser device. 前記第1の光学系調整部が、前記光共振器における前記第1および第2の終端ミラー間の光学的な平行度を調整する手段を有する請求項8〜10のいずれか一項に記載の高調波レーザ装置。   The said 1st optical system adjustment part has a means to adjust the optical parallelism between the said 1st and 2nd termination | terminus mirror in the said optical resonator, The method as described in any one of Claims 8-10. Harmonic laser device. 前記第2のパワーモニタ部が、前記高調波分離出力ミラーより取り出された前記第2の光ビームを所定の方向に反射するミラーの背後に抜けた漏れ光を受光してその光強度を電気信号に変換する光電変換素子を有する請求項8〜11のいずれか一項に記載の高調波レーザ装置。   The second power monitor receives light leaked behind the mirror that reflects the second light beam extracted from the harmonic separation output mirror in a predetermined direction, and determines the light intensity as an electric signal. The harmonic laser apparatus as described in any one of Claims 8-11 which has a photoelectric conversion element to convert into. 前記第2の光学系調整部が、前記第2の光ビームの光強度測定値が設定範囲内の値になるように前記波長変換結晶の角度を調整する手段を有する請求項8〜12のいずれか一項に記載の高調波レーザ装置。   The said 2nd optical system adjustment part has a means to adjust the angle of the said wavelength conversion crystal | crystallization so that the light intensity measurement value of a said 2nd light beam may become a value within a setting range. A harmonic laser device according to claim 1. 前記第2の光学系調整部が、前記第2の光ビームの光強度測定値が極大値になるように前記波長変換結晶の角度を調整する手段を有する請求項8〜12のいずれか一項に記載の高調波レーザ装置。   The said 2nd optical system adjustment part has a means to adjust the angle of the said wavelength conversion crystal | crystallization so that the light intensity measurement value of a said 2nd light beam may become maximum value. Harmonic laser device described in 1. 前記第2の光学系調整部が、
前記波長変換結晶を保持する保持部と、
前記保持部に保持されている前記波長変換結晶の中心部を通る鉛直線を回転軸線とする第1の回転方向で前記波長変換結晶の角度を調整する第1の角度調整部と、
前記保持部に保持されている前記波長変換結晶の中心部を光軸と直交して通る水平線を回転軸線とする第2の回転方向で前記波長変換結晶の角度を調整する第2の角度調整部と
を有する請求項13または請求項14に記載の高調波レーザ装置。
The second optical system adjustment unit is
A holding unit for holding the wavelength conversion crystal;
A first angle adjusting unit that adjusts an angle of the wavelength conversion crystal in a first rotation direction with a vertical line passing through a central portion of the wavelength conversion crystal held by the holding unit as a rotation axis;
A second angle adjustment unit that adjusts the angle of the wavelength conversion crystal in a second rotation direction with a horizontal line passing through a central portion of the wavelength conversion crystal held by the holding unit orthogonal to the optical axis as a rotation axis. The harmonic laser apparatus of Claim 13 or Claim 14 which has these.
前記波長変換結晶の温度を設定温度に合わせるための結晶温度制御部を有する請求項8〜15のいずれか一項に記載の高調波レーザ装置。



The harmonic laser device according to any one of claims 8 to 15, further comprising a crystal temperature control unit configured to adjust a temperature of the wavelength conversion crystal to a set temperature.



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