JP2005326500A - プラスチック光ファイバ心線の製造方法 - Google Patents
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Abstract
【解決手段】 被覆装置の金型24は、ダイス40とニップル41とを備えている。金型24には熱可塑性樹脂42が供給される。ダイス40とニップル41との空隙は、樹脂42の液流路43,44となる。外径500μmのプラスチック光ファイバ(POF)12をニップル開口部41aから搬送する。樹脂42の温度を120℃に調整する。樹脂42は、POF12を被覆して厚みLが225μmの保護層49を形成して、プラスチック光ファイバ心線を得る。被覆する際の熱量が8.7mJとなっているのでPOF12が受ける熱ダメージは小さく、伝送損失の悪化が抑制される。
【選択図】 図3
Description
50μm≦t1(μm)≦400μm
の範囲であることが好ましく、より好ましくは
100μm≦t1(μm)≦200μm
の範囲である。クリアランスt1が、50μm未満であると、熱可塑性樹脂42が液流路43,44を通過する際に高圧になり押出機に負荷がかかると共に、POF12と接触する際に過大な応力がかかるおそれがある。この場合には、POF12の素材の屈折率が変化し光学特性、例えば伝送損失の悪化が生じるおそれがある。また、POF12の変形に伴うマイクロベンディングの発生による伝送損失の悪化が生じるおそれもある。クリアランスt1が400μmを超えると、形成される保護層49の厚みLが厚くなり過ぎ、液ダレなどの外観悪化が生じるおそれがある。また、保護層49の厚みLが厚すぎると熱可塑性樹脂42の冷却が進行しない箇所が生じて、コブなどの外観不良の発生の原因となる。
の範囲とすることが好ましい。
ニップル内径dが、(4/3)×Dより狭いと、ニップル41からの熱放射によりPOF12に熱ダメージが生じるおそれがある。また、POF12を搬送する際に、微小なブレが生じるとPOF12がニップル41に接触して熱ダメージを受けたり、搬送不良が生じる場合がある。(10/3)×Dより広いと空気を巻き込み、POF12と熱可塑性樹脂42との密着が悪化する場合もある。
t2(μm)≦400μm
であることが好ましく、より好ましくは
100μm≦t2(μm)≦400μmの範囲である。
厚みt2(μm)が400μmを超えると、熱可塑性樹脂42がPOF12に接触する接触線43a,44aがニップル先端部41bから遠くなり、熱可塑性樹脂42のPOF12への接触位置が不安定になり、コブなどの発生の原因となる。このときに、空気の巻き込むが生じて密着性の悪化が生じる場合もある。厚みt2(μm)の下限値は、特に限定されないが、ニップル41の作製コスト及び強度などを考慮すると100μm以上であることが好ましい。
0.2≦(L/D)≦2.5の範囲とすることが好ましく、
0.2≦(L/D)≦1.5の範囲とすることがより好ましく、
最も好ましくは、0.2≦(L/D)≦1.0の範囲とすることである。
26 光ファイバ心線
42 熱可塑性樹脂
49 保護層
D プラスチック光ファイバ径
L 保護層厚み
Claims (11)
- コアとクラッドとを有するプラスチック光ファイバに溶融樹脂を被覆してプラスチック光ファイバ心線を製造する方法において、
前記プラスチック光ファイバに前記溶融樹脂が接触し、前記プラスチック光ファイバの表面が最高表面温度に達するまでに加わる熱量を18mJ以下とすることを特徴とするプラスチック光ファイバ心線の製造方法。 - 前記プラスチック光ファイバ最高表面温度を95℃以下とすることを特徴とする請求項1記載のプラスチック光ファイバ心線の製造方法。
- 前記溶融樹脂が前記プラスチック光ファイバを被覆する際の樹脂温度を150℃未満とすることを特徴とする請求項1または2記載のプラスチック光ファイバ心線の製造方法。
- 前記プラスチック光ファイバの径D(μm)と前記被覆樹脂の平均厚みL(μm)との比(L/D)を
0.2≦(L/D)≦2.5の範囲とすることを特徴とする請求項1ないし3いずれか1つ記載のプラスチック光ファイバ心線の製造方法。 - 前記プラスチック光ファイバの径D(μm)が、500μm以下であることを特徴とする請求項1ないし4いずれか1つ記載のプラスチック光ファイバ心線の製造方法。
- 前記プラスチック光ファイバの径に対する前記クラッドの厚みが、10%以下であることを特徴とする請求項1ないし5いずれか1つ記載のプラスチック光ファイバ心線の製造方法。
- 前記被覆樹脂の平均厚みL(μm)を200μm以上400μm以下とすることを特徴とする請求項1ないし6いずれか1つ記載のプラスチック光ファイバ心線の製造方法。
- 前記溶融樹脂の被覆を行う金型がダイスとニップルとを備えるものであって、
前記ダイスと前記ニップルとのクリアランスt1(μm)が50μm以上400μm以下であり、
前記ニップルの前記プラスチック光ファイバ通過用の孔の径d(μm)が、前記プラスチック光ファイバの径D(μm)に対して、
(4/3)×D以上(10/3)×D以下であり、
前記孔を形成するニップルの厚みt2(μm)が400μm以下であることを特徴とする請求項1ないし7いずれか1つ記載のプラスチック光ファイバ心線の製造方法。 - 前記溶融樹脂が、ポリオレフィン系樹脂であることを特徴とする請求項1ないし8いずれか1つ記載のプラスチック光ファイバ心線の製造方法。
- 前記クラッドが低屈折率の樹脂からなることを特徴とする請求項1ないし9いずれか1つ記載のプラスチック光ファイバ心線の製造方法。
- 前記プラスチック光ファイバの横断面であって、前記コアの中心から半径方向に向かって連続的に屈折率が低下していることを特徴とする請求項1ないし10いずれか1つ記載のプラスチック光ファイバ心線の製造方法。
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