JP2005326500A - プラスチック光ファイバ心線の製造方法 - Google Patents

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Abstract

【課題】 プラスチック光ファイバの伝送損失を悪化させることなく、保護用の樹脂を被覆してプラスチック光ファイバ心線を得る。
【解決手段】 被覆装置の金型24は、ダイス40とニップル41とを備えている。金型24には熱可塑性樹脂42が供給される。ダイス40とニップル41との空隙は、樹脂42の液流路43,44となる。外径500μmのプラスチック光ファイバ(POF)12をニップル開口部41aから搬送する。樹脂42の温度を120℃に調整する。樹脂42は、POF12を被覆して厚みLが225μmの保護層49を形成して、プラスチック光ファイバ心線を得る。被覆する際の熱量が8.7mJとなっているのでPOF12が受ける熱ダメージは小さく、伝送損失の悪化が抑制される。
【選択図】 図3

Description

本発明は、プラスチック光ファイバ心線の製造方法に関するものである。
コア及びクラッドが共にプラスチックのプラスチック光ファイバ(以下、POFと称する)は、素材が全てプラスチックで構成されているため、伝送損失が石英系光ファイバと比較してやや大きいという短所を有するものの、良好な可撓性を有し、軽量で加工性が良いという長所を有する。また、石英系光ファイバと比較して、口径の大きい光ファイバとして製造し易く、さらに低コストで製造可能であるという長所をも有する。そこで、例えば、光通信の送受を行う電子装置間において、その伝送損失が問題にされない近距離の光伝送路として、石英系光ファイバに比べて使いやすく低価格なため多用されており、特に、LAN,ISDN等の次世代通信網構想において重要となっている(例えば、特許文献1参照。)。
POFは、一般的には、重合体をマトリックスとする有機化合物からなる芯(以下、コア部またはコアと称する)と、コア部と屈折率が異なる(一般的には低屈折率の)有機化合物からなる外殻(鞘とも称される。以下、クラッド部またはクラッドと称する)とから構成される。コア部に入射した入射光は、コア部とクラッド部との界面で全反射を繰り返しながら伝送される。このようなPOFは、ステップインデックス(SI)型と称されている。
近年、中心から外側(半径方向)に向かって屈折率の大きさに分布を有するコア部を備えた屈折率分布型(グレーデッドインデックス型,以下、GI型と称する)POFは、伝送する光信号の帯域を大きくすることが可能なため、高い伝送容量を有する光ファイバとして注目されている(例えば、特許文献2ないし5参照。)。
GI型POFは、GI型のプラスチック光ファイバ母材(以下、プリフォームと称する)を製造した後に、加熱溶融して線引き(延伸)してファイバ化する。これにより外径の異なる様々なPOFを作製することが可能である。このように線引きされたPOFは、引張応力が高いときは伝送損失の悪化や破断のおそれがある。また、もつれ易く扱い難くなり、ハンドリング性が悪化する場合がある。そこで、POFに熱可塑性樹脂などのポリマーを被覆して保護層を形成することで、これら問題を解消している。例えば、融点が120℃〜170℃のポリエチレンから保護層を形成する方法がある(例えば、特許文献6参照。)。なお、以下の説明において、POFに被覆されている樹脂を保護層と称する。
特開昭61−130904号公報 特許3332922号公報 国際公開第93/08488号パンフレット 国際公開第94/04949号パンフレット 特開平8−5848号公報 特開昭59−9603号公報
ところで、GI型POFのコア部には、ポリメチルメタクリレート(以下、PMMAと称する)が用いられている。PMMAは、プラスチック材料の中で抜群の透明性と耐候性を有している。また、複屈折率の起こりにくい等方性材料であり光学材料としての適応性が高い。しかしながら、径が500μm以下のGI型POFにポリマーを被覆する際に、融点が120℃以上のポリマーを用いると、PMMAの変成が生じる場合がある。これは、PMMAの軟化点が90℃〜105℃であることに起因する。さらに、この問題は、保護層の厚みが500μmを超えるように被覆を行ったときに、PMMAに加えられる熱量が多大なものとなり伝送損失が大幅に悪化するといった問題が生じる。さらに、コアの屈折率が分布を有するGI型の場合、屈折率は、中心から半径方向に連続的に変化しているため、加熱による屈折率分布の乱れが生じやすい問題もある。
本発明は、プラスチック光ファイバの伝送損失を悪化させることなく、前記プラスチック光ファイバに樹脂が被覆されたプラスチック光ファイバ心線を製造する方法を提供することを目的とする。
本発明者は、樹脂が被覆される際にPOFが受ける熱ダメージについて鋭意検討を行ったところ次のことを見出した。POFが受ける熱ダメージは、被覆する樹脂の温度による影響と共に、溶融加熱されている樹脂からPOFに付与される熱量も関係する。例えば、PMMAの熱変形温度は100℃前後であるが、ファイバ形状にすると95℃程度となっても熱変形する場合がある。すなわち、ファイバのように極細(約500μm以下)にするとバルク状での物性が必ずしも適用できないことを見出した。そこで、本発明者は、POFに被覆用樹脂が接触し、POFの温度が上昇する際に、18mJ以下の熱量を受けた場合であれば、POFを構成するポリマー(特に、PMMA)に熱変形が生じないことを見出した。その結果、屈折率分布、特にGI型の屈折率分布の変化を抑制できることを見出した。
コアとクラッドとを有するプラスチック光ファイバに溶融樹脂を被覆してプラスチック光ファイバ心線を製造する方法において、前記プラスチック光ファイバに前記溶融樹脂が接触し、前記プラスチック光ファイバの表面が最高表面温度に達するまでに加わる熱量を18mJ以下とする。前記プラスチック光ファイバ最高表面温度を95℃以下とすることが好ましい。前記溶融樹脂が前記プラスチック光ファイバを被覆する際の樹脂温度を150℃未満とすることが好ましい。前記プラスチック光ファイバの径D(μm)と前記被覆樹脂の平均厚みL(μm)との比(L/D)を0.2≦(L/D)≦2.5の範囲とすることが好ましい。
前記プラスチック光ファイバの径D(μm)が、500μm以下であることが好ましい。前記プラスチック光ファイバの径に対する前記クラッドの厚みが、10%以下であることが好ましい。前記被覆樹脂の平均厚みL(μm)を200μm以上400μm以下とすることが好ましい。前記溶融樹脂の被覆を行う金型がダイスとニップルとを備えるものであって、前記ダイスと前記ニップルとのクリアランスt1(μm)が50μm以上400μm以下であり、前記ニップルの前記プラスチック光ファイバ通過用の孔の径d(μm)が、前記プラスチック光ファイバの径D(μm)に対して、(4/3)×D以上(10/3)×D以下であり、前記孔を形成するニップルの厚みt2(μm)が400μm以下であることが好ましい。前記溶融樹脂が、ポリオレフィン系樹脂であることが好ましい。前記クラッドが低屈折率の樹脂からなるものであることが好ましい。本発明において前記クラッドが低屈折率であるということは、前記コアの最大屈折率が前記クラッドの屈折率より0.001以上大きいことを意味する。前記プラスチック光ファイバの横断面であって、前記コアの中心から半径方向に向かって連続的に屈折率が低下していることが好ましい。
本発明のプラスチック光ファイバ心線の製造方法によれば、コアとクラッドとを有するプラスチック光ファイバに溶融樹脂を被覆してプラスチック光ファイバ心線を製造する方法において、前記プラスチック光ファイバに前記溶融樹脂が接触し、前記プラスチック光ファイバの表面が最高表面温度に達するまでに加わる熱量を18mJ以下とするから、前記プラスチック光ファイバへの熱ダメージを抑制でき、コアとクラッドとの界面の不整が生じることを抑制できる。この効果は、前記プラスチック光ファイバ最高表面温度を95℃以下とし、前記樹脂が前記プラスチック光ファイバを被覆する際の前記樹脂温度を150℃未満とし、前記プラスチック光ファイバの径D(μm)を500μm以下とし、前記被覆樹脂の平均厚みL(μm)を200μm以上400μm以下とした場合により有効である。また、前記コアの中心から半径方向に向かって連続的に屈折率が低下しているいわゆるGI型構造のコア部を有するプラスチック光ファイバ心線を製造する際に、その屈折率分布に乱れが生じることを抑制できる。
本発明に係るプラスチック光ファイバ心線の製造方法について、GI型光ファイバ心線の製造方法を例に示し説明する。しかしながら、本発明は、例えばステップインデックス(SI)型マルチモードプラスチック光ファイバ心線,SI型シングルモードプラスチック光ファイバ心線,シングルモード(SM)型プラスチック光ファイバ心線など他の形態のプラスチック光ファイバ心線の製造方法に適用することが可能である。説明は、コア及びクラッド作製用原料,保護層形成用材料,プリフォーム作製方法,POF作製方法そして光ファイバ心線の製造方法の順で行う。
コア部の原料は、光伝送の機能を損なわない限りにおいて、特に限定されるものではない。特に好ましく用いられる原料モノマーとしては、メチルメタクリレート(メタクリル酸メチル、MMAとも称される)、重水素化メチルメタクリレート、トリフルオロエチルメタクリレート、ヘキサフルオロイソプロピル−2−フルオロアクリレートなどが挙げられる。これら各モノマーからポリマーを重合してコア部として用いる。また、これらモノマーを2種類以上用いて、共重合体(コポリマー)からコア部を形成しても良い。用いられるポリマーとしては、メチルメタクリレートの単独重合体(ポリメチルメタクリレート:PMMA)が挙げられる。さらに、単官能の(メタ)アクリレート類、フッ素化アルキル(メタ)アクリレート類、多官能(メタ)アクリレート類、アクリル酸、メタクリル酸の単量体とメチルメタクリレート(MMA)との透明な共重合体などが挙げられる。本発明においては、塊状重合が容易であるMMAを重合して得られるPMMAにてコア部を形成することが好ましい。
特定の波長領域において、C−H結合に起因する光の伝送損失を低減する目的で、前記モノマー特にMMAが有する水素原子を重水素原子(D)またはハロゲン原子で置換したモノマーを用いて重合されたポリマーを用いることもできる。ハロゲン原子には、フッ素原子(F)が好ましく用いられる。このようなポリマーとしては、重水素化ポリメチルメタクリレート(PMMA−d8)などが挙げられる。これにより、伝送損失の生じる波長域を長波長化することができ、光伝送の損失を軽減できる。
前記モノマーからポリマーを重合する際には、重合開始剤が用いられる。重合開始剤は、用いられるモノマー、重合されるポリマーに応じて適宜選択される。例えば、過酸化ベンゾイル(BPO),t−ブチルパーオキシ−2−エチルヘキサネート(PBO),ジ−t−ブチルパーオキシド(PBD),t−ブチルパーオキシイソプロピルカーボネート(PBI),n−ブチル−4,4−ビス(t−ブチルパーオキシ)バラレート(PHV)などが挙げられるが、これらに限定されるものではない。また、2種類以上の重合開始剤を併用しても良い。
ポリマーの分子量や分子量分布を制御する目的で、連鎖移動剤(重合調整剤とも称される)を用いることができる。連鎖移動剤としては、アルキルメルカプタン類(例えば、n−ブチルメルカプタン、n−ペンチルメルカプタン、n−オクチルメルカプタン、n−ラウリルメルカプタン、tert−ドデシルメルカプタンなど)、チオフェノール類(例えば、チオフェノール、m−ブロモチオフェノール、p−ブロモチオフェノール、m−トルエンチオール、p−トルエンチオールなど)などを用いることが好ましい。特に、n−オクチルメルカプタン、n−ラウリルメルカプタン、tert−ドデシルメルカプタンなどのアルキルメルカプタンを用いることが好ましい。なお、連鎖移動剤は勿論これらに限定されるものではない。また、2種類以上の連鎖移動剤を併用しても良い。
コア部の屈折率を高めるために屈折率調整剤(以下、ドーパントと称する)を添加することもできる。ドーパントは、これを含有するポリマーが無添加のポリマーと比較して屈折率が高くなる性質を有するものである。この性質を有しポリマーと安定して共存可能で、且つ重合条件(加熱および加圧など)下において安定であるものを用いる。例えば、安息香酸ベンジル(BEN)、硫化ジフェニル(DPS)、リン酸トリフェニル(TPP)、フタル酸ベンジル−n−ブチル(BBP)、フタル酸ジフェニル(DPP)、ビフェニル(DP)、ジフェニルメタン(DPM)、リン酸トリクレジル(tricresyl phosphate :TCP)、ジフェニルスルホキシド(DPSO)などが挙げられ、特にBEN、DPS、TPP、DPSOを用いることが好ましい。
コア部を伝送する光は、クラッド部とコア部との界面で全反射する。そこで、クラッド部には、その屈折率がコア部の屈折率より低い化合物を用いる。さらに、コア部との密着性が良く、タフネスに優れ耐熱性にも優れているものが好ましく用いられる。例えば、メチルメタクリレート(MMA)、重水素化メチルメタクリレート,トリフルオロエチルメタクリレート,ヘキサフルオロイソプロピル−2−フルオロアクリレートなどから重合されるアクリル樹脂が挙げられる。また、パーフルオロアルキルメタクリレート系重合体,メタクリル酸エステル共重合体なども挙げられる。
前記モノマーからクラッド部のポリマーを重合する際にも、コア部の形成に用いられる前記重合開始剤,連鎖移動剤を用いることもできる。
また、クラッドにはフッ素樹脂を用いることもできる。例えば、ポリフッ化ビニリデン(PVDF:融点160℃〜180℃)、ポリビニルフルオライド(PVF:融点206℃)、ポリテトラフルオロエチレン(PTFE:融点330℃)、テトラフルオロエチレン−ヘキサフルオロプロピレン共重合体(FEP:融点250℃〜280℃)、テトラフルオロエチレン−パーフルオロアルキルビニルエーテル共重合体(PFA:融点300℃〜310℃)、エチレン−テトラフルオロエチレン共重合体(ETFE:融点260℃〜270℃)、ポリクロロトリフルオロエチレン(PCTFE:融点210℃)、テトラフルオロエチレン−ヘキサフルオロプロピレン−パーフルオロアルキルビニルエーテル共重合体(EPE:融点290℃〜300℃)などが挙げられる。
さらに、フッ化ビニリデン系重合体を用いることもできる。これは共重合体を含み、例えば、フッ化ビニリデン−テトラフルオロエチレン共重合体(フッ化ビニリデンを50重量%以上含むものが好ましく、より好ましくは70重量%以上90重量%以下含有するものである)、フッ化ビニリデン−六フッ化プロピレン共重合体、フッ化ビニリデン−ヘキサフルオロアセトン共重合体、フッ化ビニリデン−トリフルオロエチレン共重合体及びフッ化ビニリデンの3元以上の共重合体などが挙げられる。
クラッド部には、光伝送性能を低下させない範囲で、添加剤を添加しても良い。添加剤は、原料モノマーに添加した後に、モノマーからポリマーを重合させることで容易にポリマー中に含有させることができる。添加剤としては、耐候性や耐久性を向上させる安定剤、光伝送性能を向上させる光信号増幅用の誘導放出機能化合物などが挙げられる。誘導放出機能化合物を添加することにより、減衰した信号光を励起光により増幅することが可能となる。これにより伝送距離が向上するので、光伝送リンクの一部にファイバ増幅器として使用することもできる。なお、これら添加剤は、コア部の形成時にモノマーに添加させることで、コア部に含有させることもできる。
保護層形成用の樹脂は、耐薬品性,柔軟性が良好なことよりポリオレフィン系樹脂が好適に用いられるが、それに限定されるものではない。ポリオレフィン系樹脂としては、エチレン、プロピレン又はα−オレフィンなどの重合体が挙げられる。α−オレフィンとしては、例えば、1−ブテン、1−ペンテン、1−ヘキセン、4−メチル−1−ペンテン、1−ペプテン、1−オクテンなどが挙げられる。これらの重合体としては、例えば、ポリエチレン、エチレンとプロピレンの共重合体、エチレンとα−オレフィンの共重合体、ポリプロピレン、プロピレンとα−オレフィンの共重合体、ポリブテン、ポリイソプレンなどが挙げられる。またポリオレフィン系樹脂は、得られる物性を考慮した上で、適当な組合せにてブレンドされているものを用いても良い。
ポリオレフィン系樹脂の分子量及び分子量分布は特に制限されない。しかしながら、重量平均分子量は、通常5000〜5000000、好ましくは20000〜300000であり、分子量分布(重量平均分子量Mw/数平均分子量Mn)が2〜80、好ましくは3〜40とされる。
保護層形成用樹脂は、融点が120℃未満であり、MFR(Melt Flow Rate)が10以上95以下の範囲であることが好ましく、15以上80以下の範囲であることがより好ましい。なお、MFRは、JIS K 7210−1976(熱可塑性プラスチックの流れ試験方法)に従い測定される値を用いる。融点が120℃以上であるとPOF特にコア部に加えられる熱量が大きくなり、コア部の光学特性や形状の変化が生じやすくなるために好ましくない。この不良は、軟化点が90℃〜105℃のPMMAを主成分としたコア部の場合に顕著に現れる。また、MFRが10未満のときは、樹脂温度を上げなければ押出機の負荷が大きくなるといった問題が生じる場合がある。また、MFR95を超えるとPOFに均一の厚みで樹脂を被覆することができないため、コア断面の熱量が不均一になりやすいという問題が生じる場合がある。ゆえに融点120℃未満であり、MFRが10以上95以下が好ましく、融点120℃未満であり、MFRが15以上80以下がさらに好ましい。
SI型POFは、コア部にPMMAを用いた場合には、クラッド部にフッ素樹脂を用いることが好ましい。これは、コア部のPMMAとクラッド部のフッ素樹脂との屈折率の差が、光ファイバとして好ましい範囲であり、またフッ素樹脂の強度が高いためである。SI型POFの製造方法は、溶融紡糸法により行うことが好ましい。溶融紡糸法では、複合紡糸ノズルからコア部となるPMMAとクラッド部となるフッ素樹脂とをそれぞれのホールごとに吐出する。その後にノズルでPMMAの周りにフッ素樹脂を被覆し複合化することでプリフォームを得る。その後多数の引取ローラを用いて搬送しながら線引きを行いPOFを得ることができる。
GI型POFの製造方法を説明する。始めにPMMAからなる中空円筒管を用意する。なお、この中空円筒管はクラッド部となる。中空円筒管は、公知の回転重合法により製造しても良いし、市販のパイプを用いても良い。また、中空円筒管は、重合容器として用いるため底付けを行うことが好ましい。そして、その中空円筒管内にMMAとドーパント(例えば、ベンジルメタクリレート)を入れ、界面ゲル重合を行う。中空円筒管内にポリマー(PMMA)を主成分とするコア部が形成されプリフォームを得ることができる。
図1に示すようにプリフォーム10を加熱炉11内に配置する。加熱炉11で加熱するとプリフォーム10の一部は溶融する。なお、溶融温度は特に限定されるものではないが、160℃〜270℃の範囲であることが好ましい。溶融した箇所の先端部10aを始点として線引き(延伸)を行いPOF12を得る。そして、線径モニタ13を通した後に巻取装置(図示しない)の芯材14に巻き取りプラスチック光ファイバロール(以下、POFロールと称する)15を得る。線引きしている際には、線径モニタ13でPOF12の外径をモニタリングし加熱炉11内のプリフォーム10の位置や加熱炉11の温度、巻取装置の巻取速度などを適宜調整する。
POFロール15を図2に示す被覆ライン20の送出機21に取り付ける。送出機21を用いてPOF12を被覆ライン20に送り出す。POF12は、テンション制御機22でテンションが調整されつつ被覆装置23に搬送される。なお、被覆時の張力(テンション)は、POF12に変形を与えないため小さいほど好ましい。700N/cm2 以下であることが好ましいが、それに限定されるものではない。被覆装置23は、金型24を備え樹脂供給装置25が取り付けられている。樹脂供給装置25から供給される樹脂は、被覆装置23の押出機(図示しない)により金型24からPOF12を被覆して押し出される。以下の説明において樹脂が被覆されたPOF12を光ファイバ心線26と称する。なお、この被覆については、後に詳細に説明する。光ファイバ心線26は、樹脂を硬化させるために水槽27に搬送される。なお、水槽27に搬送される前にサイジングダイス28を通すことにより保護層の厚みを均一にできるために好ましい。
光ファイバ心線26は、水槽27を通り樹脂が硬化し保護層が形成される。そして、引取機29の複数の引取ローラ30,31に掛け渡されながら搬送される。保護層は、引取ローラ30,31により延伸されることで、ポリマー分子の再配列が生じて強靭性が向上する。光ファイバ心線26は、巻取テンション制御機32で芯材33に巻き取られる際のテンションが調整される。芯材33には巻取機34が接続している。芯材33に光ファイバ心線26は巻き取られ、光ファイバ心線ロール35が得られる。
図3に被覆装置23の要部を示す。金型24は、ダイス40とニップル41とから構成されている。ダイス40とニップル41との隙間が、熱可塑性樹脂42の液流路43,44となるようにダイス40内にニップル41が嵌め込められている。ダイス40及びニップル41には、熱可塑性樹脂42に流動性を持たせるために温調機45,46が取り付けられている。POF12は、ニップル41の空隙を通過して開口部41aから送り出される。POF12の形態は、特に限定されるものではないが、その直径D(μm)が500μm以下のものを用いることが好ましい。POF12は、光が伝送するコア12aとその光を全反射するクラッド12bとから構成されている。なお、POF12の径については、後に詳細に説明する。
所望の温度に調整され流動性を有する熱可塑性樹脂42は、樹脂供給装置25から樹脂供給口47,48を通り液流路43,44に送り込まれる。熱可塑性樹脂42は、液流路43,44を流れ、ダイス先端40aとニップル先端41bとの空隙から送り出される。なお、この空隙をクリアランスt1(μm)とする。このクリアランスt1の好ましい態様は後に説明する。熱可塑性樹脂42は、POF12の外周面を被覆して保護層49となる。保護層49が形成されたPOF12は、光ファイバ心線26として冷却される(図2参照)。
また、溶融樹脂が被覆されるPOF12の表面温度,被覆樹脂溶融温度,被覆(保護層)の厚みや冷却速度などを測定し、有限要素法などの数値計算手法を用いてPOF12に与えられる熱量(mJ)を算出できる。
ダイス先端40aとニップル先端41bとのクリアランスt1(μm)は、
50μm≦t1(μm)≦400μm
の範囲であることが好ましく、より好ましくは
100μm≦t1(μm)≦200μm
の範囲である。クリアランスt1が、50μm未満であると、熱可塑性樹脂42が液流路43,44を通過する際に高圧になり押出機に負荷がかかると共に、POF12と接触する際に過大な応力がかかるおそれがある。この場合には、POF12の素材の屈折率が変化し光学特性、例えば伝送損失の悪化が生じるおそれがある。また、POF12の変形に伴うマイクロベンディングの発生による伝送損失の悪化が生じるおそれもある。クリアランスt1が400μmを超えると、形成される保護層49の厚みLが厚くなり過ぎ、液ダレなどの外観悪化が生じるおそれがある。また、保護層49の厚みLが厚すぎると熱可塑性樹脂42の冷却が進行しない箇所が生じて、コブなどの外観不良の発生の原因となる。
POF12が通過するニップル41の内径d(μm)とPOF12の径D(μm)との比を(4/3)×D≦d(μm)≦(10/3)×D
の範囲とすることが好ましい。
ニップル内径dが、(4/3)×Dより狭いと、ニップル41からの熱放射によりPOF12に熱ダメージが生じるおそれがある。また、POF12を搬送する際に、微小なブレが生じるとPOF12がニップル41に接触して熱ダメージを受けたり、搬送不良が生じる場合がある。(10/3)×Dより広いと空気を巻き込み、POF12と熱可塑性樹脂42との密着が悪化する場合もある。
ニップル先端部41bの厚みt2(μm)は、
t2(μm)≦400μm
であることが好ましく、より好ましくは
100μm≦t2(μm)≦400μmの範囲である。
厚みt2(μm)が400μmを超えると、熱可塑性樹脂42がPOF12に接触する接触線43a,44aがニップル先端部41bから遠くなり、熱可塑性樹脂42のPOF12への接触位置が不安定になり、コブなどの発生の原因となる。このときに、空気の巻き込むが生じて密着性の悪化が生じる場合もある。厚みt2(μm)の下限値は、特に限定されないが、ニップル41の作製コスト及び強度などを考慮すると100μm以上であることが好ましい。
図4に本発明に係るプラスチック光ファイバ心線26の断面図を示す。POF12の径D(μm)は、500μm以下であることが好ましく、200μm以上500μm以下であることがより好ましい。200μm未満であると線引きが不安定になり切断などのおそれが生じる。また、POF12に熱可塑性樹脂42を被覆する際に、POF12に付加される熱量が大きくなるため、POF12の熱ダメージが大きくなり伝送損失の悪化が生じる場合がある。また、500μmを超える径を有するPOF12に熱可塑性樹脂を被覆しても均一な厚みの保護層49が形成されない場合がある。
保護層49の平均厚み(以下、保護層厚みと称する)L(μm)は、200μm以上400μm以下であることが好ましい。保護層厚みLが400μmを超えるように被覆を行うと、熱可塑性樹脂42からPOF12へ与えられる熱が多くなる。この場合に、コア部のGI型の構造が乱れやすくなるおそれがある。また、コアとクラッドとの界面に不整が生じて、伝送損失が悪化するおそれがある。このとき、コアとクラッドとの材質の物性値にもよるが、クラッドが薄い場合はコア/クラッド界面に熱が早く到達するため、コア/クラッド界面への熱ダメージの影響が大きくなるので好ましくない。そこで、クラッド厚みはPOFの径Dに対して、5%以上が好ましく、より好ましくは10%以上である。
前記プラスチック光ファイバ心線26を製造するための金型24の具体例を示すが、本発明はその形態に限定されるものではない。ダイス先端40aとニップル先端41bとのクリアランスt1(μm)は、50μm≦t1(μm)≦400μmとし、ニップル41の内径d(μm)とPOF12の径D(μm)とを(4/3)×D≦d(μm)≦(10/3)×Dの関係とし、ニップル先端部41bの厚みt2(μm)は、t2(μm)≦400μmとする例が挙げられる。
POF12へ熱可塑性樹脂42を被覆する場合に、被覆樹脂物性にもよるが、被覆厚みを大きくすると熱容量の観点で熱ダメージを与え易いのでPOF12の径D(μm)と保護層厚みL(μm)との比(L/D)を
0.2≦(L/D)≦2.5の範囲とすることが好ましく、
0.2≦(L/D)≦1.5の範囲とすることがより好ましく、
最も好ましくは、0.2≦(L/D)≦1.0の範囲とすることである。
このようにPOF12の径D(μm)が500μm以下のときに、保護層厚みLを500μm以下で且つ熱可塑性樹脂42の温度を150℃未満とすることで、コアに付加される熱量を18mJ以下とすることが可能となる。熱量を18mJ以下とすることで、POF12が熱ダメージを受けることが抑制される。GI型構造の乱れ、またコアとクラッドとの界面の不整が発生することを防止でき、伝送損失の悪化を抑制できる。また、POF12がPMMAを主成分として形成されている場合には、熱可塑性樹脂42をPOF12に接触させた後、POF12の最高到達温度を95℃以下とすることが好ましい。これにより、PMMAをファイバ化した際に軟化点温度の低下(例えば、85℃)が生じても、PMMAの熱変形を抑制することができ、伝送損失の悪化を抑制できる。
保護層を500μmより厚く形成する際には、POF12の熱ダメージを回避するために複数回被覆する方法が適用できる。例えば、700μmの厚みの保護層を形成する場合には、1回目の被覆で300μmの厚みの保護層を形成する。その後に、400μmの厚みの保護層を形成することで、所望の厚みの保護層が形成されている光ファイバ心線を得ることができる。この場合に、1回目の保護層の厚みよりも2回目の保護層の厚みを厚くすることが好ましい。すなわち、1回目の被覆を行う際には、樹脂を直接POFに被覆するためPOFが受ける熱ダメージが大きい。しかしながら、2回目の被覆では、1回目の被覆で形成されている保護層が一種の断熱層となるため樹脂が有している熱がPOFに与えるダメージを軽減できる。
また、本発明においてプリフォーム10から線引きしてPOF12を作製し、被覆を行う一連の工程は、一度POFロール15として巻き取る形態に限定されるものではない。例えば、プリフォーム10を製造後、加熱炉11を用いて線引き延伸を行いPOF12を作製し、そのPOF12を被覆ラインに搬送して被覆装置を用いて樹脂を被覆して保護層を形成する形態でも良い。
図5(a)にGI型POF,(b)にSI型POFの半径方向と屈折率との関係を説明するグラフを示す。GI型POFでは、コア12aの最大屈折率nco maxとクラッド12bの屈折率nclとの差が0.001以上であることが好ましい。また、SI型POFでは、コア60の屈折率ncoとクラッド61の屈折率nclとの差は、0.001以上であることが好ましい。それぞれの屈折率差の上限は特に限定されるものではなく、伝送性能と製造適性から任意に設定することができる。
以下、実施例を挙げて本発明をさらに具体的に説明する。以下の実施例に示す材料の種類,それらの割合,操作などは、本発明の精神から逸脱しない限り適宜変更することができる。なお、説明は本発明に係る実験1で詳細に行い、本発明に係る実験2ないし6及び比較例である実験7ないし10については、実験1と同じ条件の個所の説明は省略する。また、後に、実験条件と実験結果とをまとめて表1に示す。
実験1では、PMMAからなるクラッド部を公知の回転重合法で製造し、中空円筒状の管を得た。次に界面ゲル重合法によりMMA(メチルメタクリレート)を主原料にコア部を作製した。ドーパントとしてジフェニルスルフィド(DPS)を用いて、MMAに対して7.0質量%加えた。その後に100℃で48時間界面ゲル重合を行った。そして、直径20mm、長さ1000mmのプリフォーム10を得た。このプリフォーム10の屈折率は、コア部の中心が最大屈折率1.501であり、クラッド部は1.492であった。プリフォーム10を240℃で加熱し線引き(延伸)を行った。そして、外径Dが、320μm、コア径が300μmのGI型POF12を得た。このPOF12の波長650nmにおける伝送損失は、150dB/kmであった。
保護層形成用の熱可塑性樹脂には、ポリエチレン系樹脂である低密度ポリエチレン(LDPE:融点100℃,MFR70)を用いた。POF12の搬送速度を16m/min、樹脂温度120℃とした。また,保護層厚みLが225μmとなるように被覆を行った。また、被覆張力は、700N/cm2 とした。このときのPOF12の表面の最高到達温度は80℃であり、熱量は、8.7mJと算出された。得られた光ファイバ心線26の伝送損失を650nmで測定したところ、180dB/kmであった。
実験2では、保護層厚みLを300μmとした以外は実験1と同じ条件で行った。このときの熱量は、13.2mJと算出された。光ファイバ心線26の伝送損失を測定したところ、200dB/kmであった。
実験3では、樹脂温度を110℃とした以外は実験1と同じ条件で行った。このときの熱量は、7.0mJと算出された。光ファイバ心線26の伝送損失を測定したところ、170dB/kmであった。
実験4では、樹脂温度を110℃とし、保護層厚みLを350μmとした以外は実験1と同じ条件で行った。このときの熱量は、13.5mJと算出された。光ファイバ心線26の伝送損失を測定したところ、200dB/kmであった。
実験5では、樹脂温度を130℃とした以外は実験1と同じ条件で行った。このときの熱量は、10.4mJと算出された。光ファイバ心線26の伝送損失を測定したところ、220dB/kmであった。
実験6では、直径20mm、長さ1000mmのプリフォーム10を製造した。このプリフォーム10を240℃で線引きして外径Dが500μmのGI型POF12を得た。このPOF12を用いて、樹脂温度120℃,保護層厚みLが350μmとなるように被覆を行った。なお、前述した条件以外は、実験1と同じ実験条件で行った。このときの熱量は、10.5mJと算出された。光ファイバ心線26の伝送損失を測定したところ、180dB/kmであった。
実験7では、保護層厚みLを350μmとした以外は実験1と同じ条件で行った。このときの熱量は、16.6mJと算出された。光ファイバ心線26の伝送損失を測定したところ、210dB/kmであった。
実験8では、樹脂温度を110℃とし、保護層厚みLを450μmとした以外は、実験1と同じ条件で行った。このときの熱量は、19.9mJと算出された。作製された光ファイバ心線の伝送損失を測定したところ、800dB/kmであった。
実験9では、樹脂温度を130℃とし、保護層厚みLを350μmとした以外は、実験1と同じ条件で行った。このときの熱量は、19.6mJと算出された。光ファイバ心線の伝送損失を測定したところ、850dB/kmであった。
実験10では、樹脂温度を170℃とした以外は実験1と同じ条件で実験を行った。このときのPOF表面の最高到達温度は100℃となり、熱量は、16.7mJと算出された。光ファイバ心線の伝送損失を測定したところ、850dB/kmであった。
Figure 2005326500
表1から、POF外径Dが500μm以下のものに樹脂を被覆するときは、保護層厚みLを500μm以下とし、樹脂温度を150℃未満とすることで、POFに付与される熱量が18mJ以下となるため伝送損失の悪化が抑制される。特にGI型構造のコア部を有する本実施例で、その効果は有効である。さらに熱量を10mJ以下とすることで伝送損失の悪化を極めて抑制することが可能となる。また、POF表面の最高到達温度を100℃未満とすることで伝送損失の悪化を抑制できる。
本発明に係るプラスチック光ファイバ心線の製造方法を説明するための図である。 本発明に係るプラスチック光ファイバ心線の製造方法に用いられる被覆ラインの概略図である。 図2の被覆ラインの要部拡大図である。 本発明に係るプラスチック光ファイバ心線の断面図である。 プラスチック光ファイバの屈折率分布を説明するためのグラフである。
符号の説明
12 プラスチック光ファイバ
26 光ファイバ心線
42 熱可塑性樹脂
49 保護層
D プラスチック光ファイバ径
L 保護層厚み

Claims (11)

  1. コアとクラッドとを有するプラスチック光ファイバに溶融樹脂を被覆してプラスチック光ファイバ心線を製造する方法において、
    前記プラスチック光ファイバに前記溶融樹脂が接触し、前記プラスチック光ファイバの表面が最高表面温度に達するまでに加わる熱量を18mJ以下とすることを特徴とするプラスチック光ファイバ心線の製造方法。
  2. 前記プラスチック光ファイバ最高表面温度を95℃以下とすることを特徴とする請求項1記載のプラスチック光ファイバ心線の製造方法。
  3. 前記溶融樹脂が前記プラスチック光ファイバを被覆する際の樹脂温度を150℃未満とすることを特徴とする請求項1または2記載のプラスチック光ファイバ心線の製造方法。
  4. 前記プラスチック光ファイバの径D(μm)と前記被覆樹脂の平均厚みL(μm)との比(L/D)を
    0.2≦(L/D)≦2.5の範囲とすることを特徴とする請求項1ないし3いずれか1つ記載のプラスチック光ファイバ心線の製造方法。
  5. 前記プラスチック光ファイバの径D(μm)が、500μm以下であることを特徴とする請求項1ないし4いずれか1つ記載のプラスチック光ファイバ心線の製造方法。
  6. 前記プラスチック光ファイバの径に対する前記クラッドの厚みが、10%以下であることを特徴とする請求項1ないし5いずれか1つ記載のプラスチック光ファイバ心線の製造方法。
  7. 前記被覆樹脂の平均厚みL(μm)を200μm以上400μm以下とすることを特徴とする請求項1ないし6いずれか1つ記載のプラスチック光ファイバ心線の製造方法。
  8. 前記溶融樹脂の被覆を行う金型がダイスとニップルとを備えるものであって、
    前記ダイスと前記ニップルとのクリアランスt1(μm)が50μm以上400μm以下であり、
    前記ニップルの前記プラスチック光ファイバ通過用の孔の径d(μm)が、前記プラスチック光ファイバの径D(μm)に対して、
    (4/3)×D以上(10/3)×D以下であり、
    前記孔を形成するニップルの厚みt2(μm)が400μm以下であることを特徴とする請求項1ないし7いずれか1つ記載のプラスチック光ファイバ心線の製造方法。
  9. 前記溶融樹脂が、ポリオレフィン系樹脂であることを特徴とする請求項1ないし8いずれか1つ記載のプラスチック光ファイバ心線の製造方法。
  10. 前記クラッドが低屈折率の樹脂からなることを特徴とする請求項1ないし9いずれか1つ記載のプラスチック光ファイバ心線の製造方法。
  11. 前記プラスチック光ファイバの横断面であって、前記コアの中心から半径方向に向かって連続的に屈折率が低下していることを特徴とする請求項1ないし10いずれか1つ記載のプラスチック光ファイバ心線の製造方法。
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