JP2005317990A5

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Publication number: JP2005317990A5
Application number: JP2005171070A
Authority: JP
Filing date: 2005-06-10
Publication date: 2006-10-19
Anticipated expiration: 2019-03-24

Claims

露光光源からの露光光で第１物体を照明する照明系と、前記第１物体のパターンを第２物体上に投影する投影光学系とを備える露光装置の、前記投影光学系の光学性能を前記露光装置に搭載された干渉計で測定する投影光学系の光学性能測定方法において、
前記投影光学系を通過した前記露光光源からの露光光を二つの光束に分割し、該分割された二つの光束を干渉させることにより形成された干渉縞を、観察するステップを有することを特徴とする投影光学系の光学性能測定方法。 An optical performance of the projection optical system of an exposure apparatus comprising: an illumination system that illuminates a first object with exposure light from an exposure light source; and a projection optical system that projects a pattern of the first object onto a second object. In the optical performance measurement method of the projection optical system that measures with an interferometer mounted on the exposure apparatus,
By the step of the exposure light from the exposure light source which has passed through the projection optical system is divided into two light fluxes, interference fringes formed by interference of two light beams the divided observes optical performance measurement how the projection optical system shall be the feature.

前記観察するステップにおいて、前記投影光学系を通過した前記露光光源からの露光光を二つの光束に分割し、該分割された二つの光束のうち一方の光束をもう一方の光束に対して横ずらしし、該横ずらしされた二つの光束を干渉させることにより形成された干渉縞を、観察することを特徴とする請求項１記載の投影光学系の光学性能測定方法。 In the step of pre-Symbol observed, the exposure light from the exposure light source which has passed through the projection optical system is divided into two light fluxes, the lateral one of the light beams out of the divided two light beams with respect to the other light beam shifting to the optical performance measuring how the projection optical system of claim 1, wherein the interference fringes formed by interference of two light beams offset lateral to observe.

露光光源からの露光光で第１物体を照明する照明系と前記第１物体のパターンを第２物体上に投影する投影光学系とを備える露光装置の、前記投影光学系の光学性能を前記露光装置に搭載された干渉計で測定する投影光学系の光学性能測定方法において、
前記投影光学系を通過した前記露光光源からの露光光から参照光を生成し、該参照光と前記投影光学系を通過した前記露光光とを干渉させることにより形成された干渉縞を、観察するステップを有することを特徴とする投影光学系の光学性能測定方法。 Of Ru exposure apparatus and a projection optical system for projecting on a second object wherein the first object pattern and the illumination system for illuminating the first object with exposure light from the exposure light source, the optical performance of the projection optical system wherein In the optical performance measurement method of the projection optical system that measures with an interferometer mounted on the exposure apparatus,
Observing interference fringes formed by generating reference light from exposure light from the exposure light source that has passed through the projection optical system and causing the reference light to interfere with the exposure light that has passed through the projection optical system optical performance measuring how the projection optical system you characterized by the step.

露光光源からの露光光で第１物体を照明する照明系と、 An illumination system that illuminates the first object with exposure light from an exposure light source;
前記第１物体のパターンを第２物体上に投影する投影光学系と、A projection optical system that projects a pattern of the first object onto a second object;
前記投影光学系を透過した前記露光光源からの露光光の波面を測定するラテラルシェアー干渉計と、を備えることを特徴とする投影露光装置。A projection exposure apparatus, comprising: a lateral shear interferometer that measures a wavefront of exposure light from the exposure light source that has passed through the projection optical system.

前記干渉計は、干渉縞を観察するカメラを有し、該カメラまで共通光路であることを特徴とする請求項４記載の投影露光装置。 5. The projection exposure apparatus according to claim 4, wherein the interferometer has a camera for observing interference fringes and is a common optical path to the camera.

前記露光光源は、エキシマレーザーであることを特徴とする請求項４記載の投影露光装置。 The exposure light source, a projection exposure equipment according to claim 4, characterized in that an excimer laser.

前記干渉計は、シングルパスであることを特徴とする請求項４記載の投影露光装置。 5. The projection exposure apparatus according to claim 4, wherein the interferometer is a single pass.