JP2005314303A - 毛髪化粧料 - Google Patents
毛髪化粧料 Download PDFInfo
- Publication number
- JP2005314303A JP2005314303A JP2004134732A JP2004134732A JP2005314303A JP 2005314303 A JP2005314303 A JP 2005314303A JP 2004134732 A JP2004134732 A JP 2004134732A JP 2004134732 A JP2004134732 A JP 2004134732A JP 2005314303 A JP2005314303 A JP 2005314303A
- Authority
- JP
- Japan
- Prior art keywords
- group
- carbon atoms
- acid
- hair
- substituted
- Prior art date
- Legal status (The legal status is an assumption and is not a legal conclusion. Google has not performed a legal analysis and makes no representation as to the accuracy of the status listed.)
- Pending
Links
Landscapes
- Cosmetics (AREA)
Abstract
【課題】すすぎ時の感触が滑らかで、乾燥後の毛髪にまとまり性と滑り感を付与することのできる毛髪化粧料の提供。
【解決手段】(A)多糖類又はその誘導体における−OHのHの一部又は全てが、−E1−(OA)n−E2−R〔E1は−OH又は=Oが置換していてもよいC1〜6の2価の飽和炭化水素基を示し、nは8〜300の数を示し、n個のAは同一又は異なって、C1〜6の2価の飽和炭化水素基を示し、E2はエーテル結合又はオキシカルボニル基を示し、Rは−OHが置換していてもよいC4〜30のアルキル基を示す〕で表される基で置換されている多糖誘導体、(B)カチオン界面活性剤又は三級アミン型化合物若しくはその塩、並びに(C)C12-28の高級アルコールを含有する毛髪化粧料。
【選択図】 なし
【解決手段】(A)多糖類又はその誘導体における−OHのHの一部又は全てが、−E1−(OA)n−E2−R〔E1は−OH又は=Oが置換していてもよいC1〜6の2価の飽和炭化水素基を示し、nは8〜300の数を示し、n個のAは同一又は異なって、C1〜6の2価の飽和炭化水素基を示し、E2はエーテル結合又はオキシカルボニル基を示し、Rは−OHが置換していてもよいC4〜30のアルキル基を示す〕で表される基で置換されている多糖誘導体、(B)カチオン界面活性剤又は三級アミン型化合物若しくはその塩、並びに(C)C12-28の高級アルコールを含有する毛髪化粧料。
【選択図】 なし
Description
本発明は、すすぎ時の感触が滑らかで、乾燥後の毛髪にまとまり性と滑り感を付与することのできる毛髪化粧料に関する。
シャンプー後の毛髪の絡まりを防止し、感触を向上させるためにリンス、コンディショナー、トリートメント等の毛髪化粧料が使用されている。これらの毛髪化粧料には、コンディショニング成分として、陽イオン界面活性剤や、高級アルコールを始めとする油剤が配合されている。しかし、これら油剤を十分なコンディショニング効果の得られる量を配合するに際し、特に低粘度の系においては、乳化剤としてカチオン界面活性剤を使用するのみでは安定に乳化することが困難であった。
一方、トイレタリー製品における増粘剤、疎水性物質の安定化剤として、ポリオキシアルキレン化された多糖誘導体が使用されている(特許文献1,2参照)。
本発明は、すすぎ時の感触が滑らかで、乾燥後の毛髪にまとまり性と滑り感を付与することのできる毛髪化粧料を提供することを目的とする。
本発明者らは、カチオン界面活性剤又は三級アミン型化合物と高級アルコールを含有する毛髪化粧料に、特定の多糖誘導体を共存させることにより、高級アルコール等の油剤が安定に乳化分散され、その結果十分な量の油剤を含有させることができるようになり、すすぎ時の滑らかさに優れ、乾燥後の毛髪のまとまり、滑り感が著しく向上することを見出した。
すなわち本発明は、次の成分(A)、(B)及び(C)
(A) 多糖類又はその誘導体におけるヒドロキシ基の水素原子の一部又は全てが、次の基(a1)で置換されている多糖誘導体
(a1)一般式(1)で表される基
−E1−(OA)n−E2−R (1)
〔式中、E1はヒドロキシ基又はオキソ基が置換していてもよい炭素数1〜6の2価の飽和炭化水素基を示し、nは8〜300の数を示し、n個のAは同一又は異なって、炭素数1〜6の2価の飽和炭化水素基を示し、E2はエーテル結合又はオキシカルボニル基を示し、Rはヒドロキシ基が置換していてもよい炭素数4〜30のアルキル基を示す。〕
(B) 次の一般式(b-1)で表されるカチオン界面活性剤、又は次の一般式(b-2)で表される三級アミン型化合物若しくはその塩
(A) 多糖類又はその誘導体におけるヒドロキシ基の水素原子の一部又は全てが、次の基(a1)で置換されている多糖誘導体
(a1)一般式(1)で表される基
−E1−(OA)n−E2−R (1)
〔式中、E1はヒドロキシ基又はオキソ基が置換していてもよい炭素数1〜6の2価の飽和炭化水素基を示し、nは8〜300の数を示し、n個のAは同一又は異なって、炭素数1〜6の2価の飽和炭化水素基を示し、E2はエーテル結合又はオキシカルボニル基を示し、Rはヒドロキシ基が置換していてもよい炭素数4〜30のアルキル基を示す。〕
(B) 次の一般式(b-1)で表されるカチオン界面活性剤、又は次の一般式(b-2)で表される三級アミン型化合物若しくはその塩
〔式中、R4及びR5は各々独立して水素原子、炭素数1〜28のアルキル基又はベンジル基を示し、同時に水素原子又はベンジル基となる場合、及び、炭素数1〜3の低級アルキル基となる場合を除く。An-はアニオンを示す。〕
〔式中、R6は水素原子、又は総炭素数12〜24の直鎖若しくは分岐鎖の飽和若しくは不飽和の、アミド基、N-炭化水素カルバモイル基、アシルオキシ基若しくは炭化水素オキシ基を示し、Bは炭素数1〜22の2価の直鎖又は分岐鎖の飽和又は不飽和の炭化水素基を示し、Y1及びY2は独立して炭素数1〜4のアルキル基を示す。〕
(C) 次の一般式(c)で表される高級アルコール
R'−OH (c)
〔式中、R'は炭素数12〜28の脂肪族炭化水素基を示す。〕
を含有する毛髪化粧料を提供するものである。
(C) 次の一般式(c)で表される高級アルコール
R'−OH (c)
〔式中、R'は炭素数12〜28の脂肪族炭化水素基を示す。〕
を含有する毛髪化粧料を提供するものである。
本発明の毛髪化粧料は、すすぎ時の滑らかさに優れ、乾燥後の毛髪にまとまりと滑り感を付与することができる。
本発明で用いる成分(A)の多糖誘導体は、国際公開第00/73351号パンフレットに記載されているものである。
置換基(a1)の一般式(1)における炭化水素基E1は、直鎖及び分岐鎖のいずれでもよく、炭素数2又は3のものが好ましい。具体的にはエチレン基、プロピレン基、トリメチレン基、2-ヒドロキシトリメチレン基、1-ヒドロキシメチルエチレン基、1-オキソエチレン基、1-オキソトリメチレン基、1-メチル-2-オキソエチレン基等が挙げられる。
一般式(1)における炭化水素基Aは、直鎖及び分岐鎖のいずれでもよく、炭素数2又は3のものが好ましい。具体的にはエチレン基、プロピレン基及びトリメチレン基が挙げられる。nは−(OA)−の繰り返し単位の平均数であり、増粘効果及び乳化安定性の点から8〜120、特に10〜60が好ましく、n個のAは同一でも異なってもよい。E2はエーテル結合(−O−)又はオキシカルボニル基(−OCO−又は−COO−)を示し、特にエーテル結合が好ましい。
一般式(1)におけるヒドロキシ基が置換してもよいアルキル基Rとしては、炭素数5〜25、特に6〜20の直鎖又は分岐鎖のアルキル基が好ましい。具体的にはオクチル基、デシル基、ドデシル基、テトラデシル基、ヘキサデシル基、オクタデシル基、イソステアリル基等が挙げられる。中でも、安定性の点から、直鎖アルキル基が好ましい。
成分(A)の多糖誘導体における置換基(a1)の置換度は、構成単糖残基当たり0.0001〜1.0、更には0.0005〜0.5、特に0.001〜0.1の範囲が好ましい。
成分(A)の多糖誘導体は、上記置換基(a1)に加え、更に、メチル基、エチル基等のアルキル基;ヒドロキシエチル基、ヒドロキシプロピル基等のヒドロキシアルキル基;以下に示すスルホアルキル基(a2)、カルボキシアルキル基(a3)及びカチオン性置換基(a4)から選ばれる1以上の基で置換されていてもよい。また、置換基(a1)〜(a4)に含まれ得るヒドロキシ基の水素原子は、更に置換基(a1)〜(a4)で置換されていてもよい。
(a2) ヒドロキシ基が置換していてもよい炭素数1〜5のスルホアルキル基:
2-スルホエチル基、3-スルホプロピル基、3-スルホ-2-ヒドロキシプロピル基、2-スルホ-1-(ヒドロキシメチル)エチル基等が挙げられる。中でも安定面や製造面より3-スルホ-2-ヒドロキシプロピル基が好ましい。これらスルホアルキル基(a2)は、その全てあるいは一部がNa、K、Ca、Mg等のアルカリ金属又はアルカリ土類金属、アンモニア、アミン類、アンモニウム等の有機カチオンにより塩となっていてもよい。
2-スルホエチル基、3-スルホプロピル基、3-スルホ-2-ヒドロキシプロピル基、2-スルホ-1-(ヒドロキシメチル)エチル基等が挙げられる。中でも安定面や製造面より3-スルホ-2-ヒドロキシプロピル基が好ましい。これらスルホアルキル基(a2)は、その全てあるいは一部がNa、K、Ca、Mg等のアルカリ金属又はアルカリ土類金属、アンモニア、アミン類、アンモニウム等の有機カチオンにより塩となっていてもよい。
(a3) ヒドロキシ基が置換していてもよい炭素数2〜6のカルボキシアルキル基:
カルボキシメチル基、カルボキシエチル基、カルボキシプロピル基、カルボキシブチル基、カルボキシペンチル基等が挙げられる。中でも安定面や製造面より、カルボキシメチル基が好ましい。これらカルボキシアルキル基(a3)は、その全てあるいは一部がNa、K、Ca、Mg等のアルカリ金属又はアルカリ土類金属、アンモニア、アミン類、アンモニウム等の有機カチオンにより塩となっていてもよい。
カルボキシメチル基、カルボキシエチル基、カルボキシプロピル基、カルボキシブチル基、カルボキシペンチル基等が挙げられる。中でも安定面や製造面より、カルボキシメチル基が好ましい。これらカルボキシアルキル基(a3)は、その全てあるいは一部がNa、K、Ca、Mg等のアルカリ金属又はアルカリ土類金属、アンモニア、アミン類、アンモニウム等の有機カチオンにより塩となっていてもよい。
(a4) ヒドロキシ基が置換していてもよいカチオン性置換基:
一般式(2)で表されるものが挙げられる。
一般式(2)で表されるものが挙げられる。
〔式中、D1はヒドロキシ基が置換していてもよい炭素数1〜6の2価の飽和炭化水素基を示し、R1、R2及びR3は同一又は異なって、ヒドロキシ基が置換していてもよい炭素数1〜3のアルキル基を示し、X-は水酸化物イオン、ハロゲン化物イオン又は有機酸イオンを示す。〕
一般式(2)におけるD1としては、炭素数2又は3のものが好ましく、具体的にはエチレン基、プロピレン基、トリメチレン基、2-ヒドロキシトリメチレン基、1-ヒドロキシメチルエチレン基等が挙げられる。
一般式(2)におけるR1、R2及びR3としては、メチル基、エチル基、プロピル基、2-ヒドロキシエチル基等が挙げられ、中でもメチル基及びエチル基が好ましい。
一般式(2)におけるX-で示されるハロゲン化物イオンとしては塩化物イオン、臭化物イオン、ヨウ化物イオン等が挙げられ、有機酸イオンとしては、CH3COO-、CH3CH2COO-、CH3(CH2)2COO-等が挙げられる。X-としては、特に水酸化物イオン、塩化物イオン及び臭化物イオンが好ましい。
成分(A)の多糖誘導体は、多糖類又はその誘導体を、下記一般式(3)
E3−(OA)n−E2−R (3)
E3−(OA)n−E2−R (3)
〔式中、E3は炭素数3〜6のエポキシ化アルキル基、ヒドロキシ基が置換していてもよい、炭素数1〜6の直鎖若しくは分岐鎖のハロゲン化アルキル基又は炭素数2〜6のカルボキシアルキル基若しくはその誘導体を示し、n、A、E2及びRは前記と同じ意味を示す。〕
で表されるポリオキシアルキレン化剤[a1]と反応させることにより製造することができる。
で表されるポリオキシアルキレン化剤[a1]と反応させることにより製造することができる。
また、前記置換基(a2)、(a3)及び(a4)は、多糖類又はその誘導体を、それぞれ以下に示すスルホン化剤[a2]、カルボキシアルキル化剤[a3]及びカチオン化剤[a4]と反応させることにより、導入することができる。
[a2] ビニルスルホン酸、ヒドロキシ基が置換していてもよい炭素数1〜5のハロアルカンスルホン酸、エポキシ基を有する炭素数2〜5のスルホン酸及びそれらの塩から選ばれるスルホン化剤
[a3] ヒドロキシ基が置換していてもよい炭素数2〜6のハロゲン化カルボン酸及びその塩から選ばれるカルボキシアルキル化剤
[a4] 下記一般式(4)で表されるカチオン化剤
〔式中、D2は炭素数3〜6のエポキシ化アルキル基、又はヒドロキシ基が置換していてもよい炭素数1〜6の直鎖若しくは分岐鎖のハロゲン化アルキル基を示し、R1、R2、R3及びX-は前記と同じ意味を示す。〕
すなわち、成分(A)の多糖誘導体は、多糖類又はその誘導体のヒドロキシ基の水素原子を全て又は部分的にポリオキシアルキレン化〔置換基(a1)の導入〕し、必要に応じてスルホン化〔スルホアルキル基(a2)の導入〕、カルボキシアルキル化〔カルボキシアルキル基(a3)の導入〕及びカチオン化〔カチオン性置換基(a4)の導入〕することにより、製造される。これらポリオキシアルキレン化反応、スルホン化反応、カルボキシアルキル化反応及びカチオン化反応はどの順序で行ってもよく、また2〜4の反応を同時に行うこともできる。好ましくは、まずポリオキシアルキレン化反応を行い、次いで必要に応じて、カチオン化反応、カルボキシアルキル化反応、スルホン化反応の順で反応を行うことにより製造できる。
より具体的には、例えば、国際公開第00/73351号パンフレットに記載の方法により、多糖類又はその誘導体を適当な溶媒に溶解又は分散させて、上記の反応を行うことにより製造することができる。ここで、原料及び製造される成分(A)は粉体であることが取り扱いの簡便性の点から好ましい。
多糖誘導体(A)の原料となる多糖類又はその誘導体としては、セルロース、グアーガム、スターチ、プルラン、デキストラン、フルクタン、マンナン、寒天、カラギーナン、キチン、キトサン、ペクチン、アルギン酸、ヒアルロン酸等の多糖類、及びこれらにメチル基、エチル基、ヒドロキシエチル基、ヒドロキシプロピル基等が置換した誘導体が挙げられる。これらの置換基は、単独で又は複数の組合せで置換することができる。具体的には、ヒドロキシエチルセルロース、ヒドロキシエチルエチルセルロース、ヒドロキシエチルグアーガム、ヒドロキシエチルスターチ、メチルセルロース、メチルグアーガム、メチルスターチ、エチルセルロース、エチルグアーガム、エチルスターチ、ヒドロキシプロピルセルロース、ヒドロキシプロピルグアーガム、ヒドロキシプロピルスターチ、ヒドロキシエチルメチルセルロース、ヒドロキシエチルメチルグアーガム、ヒドロキシエチルメチルスターチ、ヒドロキシプロピルメチルセルロース、ヒドロキシプロピルメチルグアーガム、ヒドロキシプロピルメチルスターチ等が挙げられる。
これら多糖類又はその誘導体のうち、セルロース、スターチ、ヒドロキシエチルセルロース、メチルセルロース、エチルセルロース、ヒドロキシプロピルセルロースが好ましく、特にヒドロキシエチルセルロースが好ましい。また、これら多糖類又はその誘導体の重量平均分子量は、1万〜1000万、更には10万〜500万、特に10万〜200万の範囲が好ましい。
例えば、成分(A)がセルロース誘導体である場合、その繰り返し単位は次のような一般式で表わされる。
〔式中、Zは前記置換基(a1)のほか、水素原子;メチル基、エチル基等のアルキル基;ヒドロキシエチル基、ヒドロキシプロピル基等のヒドロキシアルキル基;前記スルホアルキル基(a2)、カルボキシアルキル基(a3)、カチオン性置換基(a4)から選ばれる基を示す。Qは炭素数2〜4のアルキレン基を示し、x、y及びzは0〜10の数を示す。Q基、Z基、x、y及びzは、繰り返し単位内で又は繰り返し単位間で同一でも異なってもよい。また上記置換基(a1)〜(a4)に含まれ得るヒドロキシ基の水素原子は、更に他の置換基(a1)〜(a4)で置換されていてもよい。〕
成分(A)の多糖誘導体は、2種以上を併用することもでき、その含有量は、毛髪化粧料の安定性、毛髪のコンディショニング効果、及び感触の向上の点から、本発明の毛髪化粧料中の0.01〜5重量%、特に0.05〜3重量%が好ましい。
成分(B)のうち一般式(b-1)で表されるカチオン界面活性剤において、R19及びR20は、その一方が炭素数16〜24、更には22のアルキル基、特に直鎖アルキル基であるのが好ましく、また他方は炭素数1〜3の低級アルキル基、特にメチル基であるのが好ましい。アニオンAn-としては、塩化物イオン、臭化物イオン等のハロゲン化物イオン;エチル硫酸イオン、炭酸メチルイオン等の有機アニオン等が挙げられ、ハロゲン化物イオン、特に塩化物イオンが好ましい。
カチオン界面活性剤(b-1)としては、モノ長鎖アルキル四級アンモニウム塩が好ましく、具体的には、塩化セチルトリメチルアンモニウム、塩化ステアリルトリメチルアンモニウム、塩化アラキルトリメチルアンモニウム、塩化ベヘニルトリメチルアンモニウム等が挙げられ、特に塩化ステアリルトリメチルアンモニウム、塩化ベヘニルトリメチルアンモニウムが好ましい。
成分(B)のうち一般式(b-2)で表される三級アミン型化合物は、R6が水素原子以外の場合、R6は総炭素数14〜22、更には総炭素数18〜22のアミド基又は炭化水素オキシ基であることが好ましく、またその炭化水素部分が飽和であるもの、更には直鎖であるものが好ましい。この場合におけるBは、トリメチレン基が好ましい。R6が水素原子の場合、Bとしては、炭素数18〜22の基が好ましく、また飽和の基、更には直鎖の基が好ましい。Y1及びY2としては、メチル基、エチル基、プロピル基、イソプロピル基、ブチル基、tert-ブチル基等が挙げられ、なかでもメチル基、エチル基が好ましく、更にはメチル基が好ましい。三級アミン型化合物(b-2)の好ましい具体例としては、N,N-ジメチルオクタデシロキシプロピルアミン、ステアラミドプロピルジメチルアミン等が挙げられる。
三級アミン型化合物(b-2)の塩は、上記三級アミン型化合物と酸性アミノ酸、有機酸又は無機酸との中和反応で形成される。酸性アミノ酸としては、グルタミン酸、アスパラギン酸等が挙げられる。有機酸としては、モノカルボン酸、ジカルボン酸、ヒドロキシカルボン酸、ポリカルボン酸等のカルボン酸、アルキル硫酸、アルキルリン酸等が挙げられ、このうちカルボン酸、更にはジカルボン酸、ヒドロキシカルボン酸が好ましい。ジカルボン酸としては、マロン酸、コハク酸、グルタル酸、アジピン酸、マレイン酸、フマル酸、フタル酸等が挙げられ、ヒドロキシカルボン酸としては、グリコール酸、乳酸、ヒドロキシアクリル酸、オキシ酪酸、グリセリン酸、リンゴ酸、酒石酸、クエン酸等が挙げられる。また、無機酸としてはリン酸、硫酸、硝酸、塩酸等が挙げられる。これらのうち、酸性アミノ酸及び有機酸が好ましく、なかでもグルタミン酸、α-ヒドロキシカルボン酸(特に乳酸、リンゴ酸)が好ましい。
成分(B)は、2種以上を併用することもでき、またその含有量は、本発明の毛髪化粧料中の0.1〜10重量%、更には0.3〜5重量%が好ましい。
成分(C)の一般式(c)で表される高級アルコールとしては、炭素数16〜24、特に炭素数22のものが好ましく、また直鎖又は分岐鎖の飽和又は不飽和のものが使用できるが、特に直鎖型のアルキルアルコールが好ましい。
成分(C)の好ましい具体例としては、セチルアルコール、ステアリルアルコール、アラキルアルコール、ベヘニルアルコール、2-オクチルドデカノール、2-ヘキシルデシルアルコール、イソステアリルアルコール、カルナービルアルコール(テトラコサノール)等が挙げられ、特にベヘニルアルコールが好ましい。
成分(C)の高級アルコールは、2種以上を併用することもでき、またその含有量は、湿潤毛髪への塗付時と濯ぎ時における滑らかさ、滑り性の付与の点から、本発明の毛髪化粧料中の0.5〜11重量%が好ましく、更には0.8〜11重量%、特に0.9〜11重量%が好ましい。
本発明の毛髪化粧料には、乾燥後の毛髪のまとまり感向上のため、成分(D)として、成分(C)の高級アルコール以外の油剤を含有させることができる。油剤としては、スクワレン、スクワラン、流動イソパラフィン、軽質流動イソパラフィン、重質流動イソパラフィン、α-オレフィンオリゴマー、流動パラフィン、シクロパラフィン等の炭化水素類;ヒマシ油、カカオ油、ミンク油、アボガド油、オリーブ油等のグリセリド類;ミツロウ、鯨ロウ、ラノリン、マイクロクリスタリンワックス、セレシンワックス、カルナウバロウ等のロウ類;ミリスチン酸オクチルドデシル、ラウリン酸ヘキシル、乳化セチル、モノステアリン酸プロピレングリコール、オレイン酸オレイル、2-エチルヘキサン酸ヘキサデシル、イソノナン酸イソノニル、イソノナン酸トリデシル等のエステル類;カプリン酸、ラウリン酸、ミリスチン酸、パルミチン酸、ステアリン酸、ベヘニン酸、オレイン酸、ヤシ油脂肪酸、イソステアリル酸、イソパルミチン酸等の高級脂肪酸類;その他イソステアリルグリセリルエーテル、ポリオキシプロピレンブチルエーテルなどが挙げられる。これらの中で、炭化水素類、特にスクワレン、スクワラン、流動イソパラフィン、軽質流動イソパラフィン、重質流動イソパラフィン、α-オレフィンオリゴマー等の分岐炭化水素類が特に好ましい。
成分(D)の油剤は、単独で又は2種以上を組み合わせて使用でき、その含有量は、まとまりの良さや、べたつき感の無さの点から、本発明の毛髪化粧料中の0.05〜20重量%が好ましく、更には0.1〜10重量%、特に0.5〜5重量%が好ましい。
本発明の毛髪化粧料には、更に、整髪性の向上、粘度の調整、安定性、毛髪塗布時の付着性向上、感触改善、及び毛髪改質効果早期発現の観点から、水溶性ポリマーを含有させてもよい。このようなポリマーとしては、ポリビニルピロリドン、ビニルピロリドン/酢酸ビニル共重合体、ビニルピロリドン/酢酸ビニル/プロピオン酸ビニル三元共重合体、ビニルピロリドン/アルキルアミノアクリレート(四級塩化)共重合体、ビニルピロリドン/アクリレート/(メタ)アクリル酸共重合体、ビニルピロリドン/アルキルアミノアクリレート/ビニルカプロラクタム共重合体等のポリビニルピロリドン系高分子化合物;メチルビニルエーテル/無水マレイン酸アルキルハーフエステル共重合体等の酸性ビニルエーテル系高分子化合物;酢酸ビニル/クロトン酸共重合体、酢酸ビニル/クロトン酸/ネオデカン酸ビニル共重合体、酢酸ビニル/クロトン酸/プロピオン酸ビニル共重合体等の酸性ポリ酢酸ビニル系高分子化合物;(メタ)アクリル酸/(メタ)アクリル酸エステル共重合体、アクリル酸/アクリル酸アルキルエステル/アルキルアクリルアミド共重合体等の酸性アクリル系高分子化合物;N-メタクリロイルエチル-N,N-ジメチルアンモニウム・α-N-メチルカルボキシベタイン/メタクリル酸ブチル共重合体、アクリル酸ヒドロキシプロピル/メタクリル酸ブチルアミノエチル/アクリル酸オクチルアミド共重合体等の両性アクリル系高分子化合物;アクリルアミド・アクリルエステル系四元共重合体等の塩基性アクリル系高分子化合物;カチオン性セルロース誘導体等のセルロース誘導体;ヒドロキシプロピルキトサン、カルボキシメチルキチン、カルボキシメチルキトサン等のキチン・キトサン誘導体などが挙げられる。
これらの水溶性ポリマーは、単独で又は2種以上を組み合わせて使用することができ、またその含有量は、本発明の毛髪化粧料中の0.1〜10重量%、特に0.5〜5重量%が好ましい。
更に、本発明の毛髪化粧料には、多価アルコールを含有させることができる。多価アルコールとしては、エチレングリコール、グリセリン、ソルビトール、プロピレングリコール、1,3-ブチレングリコール、ジプロピレングリコールなどが挙げられ、特にグリセリンが好ましい。多価アルコールは、単独で又は2種以上を組み合わせて使用でき、またその含有量は、本発明の毛髪化粧料中の0.1〜10重量%、特に0.5〜5重量%が好ましい。
また、本発明の毛髪化粧料には、コンディショニング効果の更なる向上のため、シリコーン類を毛髪化粧料中の0.05〜20重量%の範囲で含有させることができる。シリコーン類としては、ジメチルポリシロキサン、メチルフェニルポリシロキサン、環状シリコーン、ポリエーテル変性シリコーン、アミノ変性シリコーン、カルボキシ変性シリコーン、脂肪酸変性シリコーン、アルコール変性シリコーン、脂肪族アルコール変性シリコーン、エポキシ変性シリコーン、フッ素変性シリコーン、アルキル変性シリコーン等が挙げられる。なかでも、ジメチルポリシロキサン、ポリエーテル変性シリコーン、アミノ変性シリコーンが好ましい。
本発明の毛髪化粧料には、上記成分のほか、通常の毛髪化粧料に用いられる成分を目的に応じて適宜配合できる。このような成分としては、例えば成分(B)以外の界面活性剤;抗フケ剤;ビタミン剤;殺菌剤;抗炎症剤;防腐剤;キレート剤;保湿剤;染料、顔料等の着色剤;ヒドロキシエチルセルロース、メチルセルロース、ポリエチレングリコール、粘土鉱物等の粘度調整剤;有機酸、水酸化ナトリウム、水酸化カリウム等のpH調整剤;植物エキス類;パール化剤;香料;紫外線吸収剤;酸化防止剤;その他エンサイクロペディア・オブ・シャンプー・イングリーディエンツ〔ENCYCLOPEDIA OF SHAMPOO INGREDIENTS (MICELLE PRESS)〕に記載されている成分等が挙げられる。
本発明の毛髪化粧料の形態は、液状、ゲル状、ペースト状、クリーム状、ワックス状等、適宜選択できるが、溶剤として、水又は低級のアルコール、特に水を用いた液状のものが好ましい。
本発明の毛髪化粧料は、ヘアシャンプー剤、ヘアスタイリング剤、ヘアコンディショニング剤等として用いることができ、特にヘアコンディショニング剤として用いるのが好ましい。剤型としては、ポンプスプレー、エアゾールスプレー、ポンプフォーム、エアゾールフォーム、ジェル、ローション、クリーム、ワックス等が挙げられる。
製造例1
重量平均分子量20万、ヒドロキシエチル基の置換度2.5のヒドロキシエチルセルロース(NATROZOL250G,ハーキュレス社)160g、含水80%イソプロピルアルコール1280g及び48重量%水酸化ナトリウム水溶液9.8gを混合してスラリー液を調製し、窒素雰囲気下室温で30分攪拌した。この溶液に次式
重量平均分子量20万、ヒドロキシエチル基の置換度2.5のヒドロキシエチルセルロース(NATROZOL250G,ハーキュレス社)160g、含水80%イソプロピルアルコール1280g及び48重量%水酸化ナトリウム水溶液9.8gを混合してスラリー液を調製し、窒素雰囲気下室温で30分攪拌した。この溶液に次式
で表される化合物31.8gを加え、80℃で8時間反応させてポリオキシアルキレン化を行った。反応終了後、反応液を酢酸で中和し、反応生成物を濾別した。反応生成物をイソプロピルアルコール700gで2回洗浄後、減圧下60℃で一昼夜乾燥し、ポリオキシアルキレン化されたヒドロキシエチルセルロース誘導体(多糖誘導体1)152gを粉末形態で得た。
得られたヒドロキシエチルセルロース誘導体のポリオキシアルキレン基を含む置換基(a)の置換度は0.014であった。
得られたヒドロキシエチルセルロース誘導体のポリオキシアルキレン基を含む置換基(a)の置換度は0.014であった。
製造例2
重量平均分子量150万、ヒドロキシエチル基の置換度1.8のヒドロキシエチルセルロース(HEC-QP100MH,ユニオンカーバイド社)80g、含水80%イソプロピルアルコール640g及び48重量%水酸化ナトリウム水溶液5.34gを混合してスラリー液を調製し、窒素雰囲気下室温で30分攪拌した。この溶液に次式
重量平均分子量150万、ヒドロキシエチル基の置換度1.8のヒドロキシエチルセルロース(HEC-QP100MH,ユニオンカーバイド社)80g、含水80%イソプロピルアルコール640g及び48重量%水酸化ナトリウム水溶液5.34gを混合してスラリー液を調製し、窒素雰囲気下室温で30分攪拌した。この溶液に次式
で表される化合物12.78gを加え、80℃で8時間反応させてポリオキシアルキレン化を行った。反応終了後、反応液を酢酸で中和し、反応生成物を濾別した。反応生成物をイソプロピルアルコール500gで2回洗浄後、減圧下60℃で一昼夜乾燥し、ポリオキシアルキレン化されたヒドロキシエチルセルロース誘導体(多糖誘導体2)72gを粉末形態で得た。
得られたヒドロキシエチルセルロース誘導体のポリオキシアルキレン基を含む置換基(a)の置換度は0.004であった。
得られたヒドロキシエチルセルロース誘導体のポリオキシアルキレン基を含む置換基(a)の置換度は0.004であった。
実施例1〜3,比較例1〜3
表1に示すヘアコンディショナーを調製し、「すすぎ時の滑らかさ」、「乾燥後の髪の滑り」及び「乾燥後の髪のまとまり」に関する官能評価を行った。これらの結果を表1に併せて示す。
表1に示すヘアコンディショナーを調製し、「すすぎ時の滑らかさ」、「乾燥後の髪の滑り」及び「乾燥後の髪のまとまり」に関する官能評価を行った。これらの結果を表1に併せて示す。
〔評価方法〕
市販クレンジングタイプシャンプーで洗浄した後、2gのヘアコンディショナーを塗布し、40℃、4L/分の流水下ですすぎ、「すすぎ時の滑らかさ」を評価した。
また、上記と同様にヘアコンディショナーを塗布した毛束を40℃、2L/分の流水下で30秒間すすいだ後、水気を十分に拭き取り自然乾燥し、「乾燥後の髪のまとまり」を評価した。
評価はパネラー5名で行い、下記基準による評価の合計値を示した。
市販クレンジングタイプシャンプーで洗浄した後、2gのヘアコンディショナーを塗布し、40℃、4L/分の流水下ですすぎ、「すすぎ時の滑らかさ」を評価した。
また、上記と同様にヘアコンディショナーを塗布した毛束を40℃、2L/分の流水下で30秒間すすいだ後、水気を十分に拭き取り自然乾燥し、「乾燥後の髪のまとまり」を評価した。
評価はパネラー5名で行い、下記基準による評価の合計値を示した。
・すすぎ時の滑らかさ
4:非常に良い滑らかさがある
3:滑らかさがある
2:どちらともいえない
1:ややきしみがある
0:きしみがある
4:非常に良い滑らかさがある
3:滑らかさがある
2:どちらともいえない
1:ややきしみがある
0:きしみがある
・乾燥後の髪のまとまり
4:良い
3:やや良い
2:どちらでもない
1:あまり良くない
0:良くない
4:良い
3:やや良い
2:どちらでもない
1:あまり良くない
0:良くない
健常な日本人女性を束ねた毛束(毛髪20g、長さ15cm)に表1のシャンプー1gを塗布して1分間泡立てた後、30秒間流水ですすぎ、タオルで水分を拭き取り、ドライヤーにて乾燥した。「乾燥後の髪のすべり感」を以下の基準に従って官能評価した。評価はパネラー5名で行い、下記基準による評価の合計値を示した。
・乾燥後の髪のすべり感
4:顕著な滑りの改善が見られる
3:滑りの改善が見られる
2:やや滑りの改善が見られる
1:滑りの改善が無い
0:滑りが悪くなった
4:顕著な滑りの改善が見られる
3:滑りの改善が見られる
2:やや滑りの改善が見られる
1:滑りの改善が無い
0:滑りが悪くなった
実施例4 ヘアコンディショナー
(重量%)
多糖誘導体1 0.1
ベヘントリモニウムクロリド 1.5
ステアリルアルコール 4
オリーブ油 1.5
(ヒドロキシステアリン酸/ステアリン酸/ロジン酸)
ジペンタエリスリチル 0.5
アルギニン 0.1
加水分解コムギタンパク 0.1
ジグリセリン 2
シルクエキス 0.1
メチルパラベン 0.1
クエン酸 pH4.0に調整
水酸化ナトリウム pH4.0に調整
イオン交換水 残量
(重量%)
多糖誘導体1 0.1
ベヘントリモニウムクロリド 1.5
ステアリルアルコール 4
オリーブ油 1.5
(ヒドロキシステアリン酸/ステアリン酸/ロジン酸)
ジペンタエリスリチル 0.5
アルギニン 0.1
加水分解コムギタンパク 0.1
ジグリセリン 2
シルクエキス 0.1
メチルパラベン 0.1
クエン酸 pH4.0に調整
水酸化ナトリウム pH4.0に調整
イオン交換水 残量
上記コンディショナーはすすぎ時の滑らかさに優れ、洗髪後の髪に良好なまとまり性と滑り感を付与できた。
実施例5 ヘアトリートメント
(重量%)
多糖誘導体1 0.1
ステアラミドプロピルジメチルアミン 1.8
クオタニウム18 0.2
セトステアリルアルコール 7
ミリスチン酸イソプロピル 2
ワセリン 1
グルタミン酸 0.4
パンテノール 0.05
プロピレングリコール 3
クエン酸 pH4.5に調整
水酸化ナトリウム pH4.5に調整
イオン交換水 残量
(重量%)
多糖誘導体1 0.1
ステアラミドプロピルジメチルアミン 1.8
クオタニウム18 0.2
セトステアリルアルコール 7
ミリスチン酸イソプロピル 2
ワセリン 1
グルタミン酸 0.4
パンテノール 0.05
プロピレングリコール 3
クエン酸 pH4.5に調整
水酸化ナトリウム pH4.5に調整
イオン交換水 残量
上記コンディショナーはすすぎ時の滑らかさに優れ、洗髪後の髪に良好なまとまり性と滑り感を付与できた。
実施例6 ヘアトリートメント
(重量%)
多糖誘導体1 0.1
ステアロキシプロピルジメチルアミン 2
セトステアリルアルコール 8
ヒマワリ油 2
オレイン酸 0.5
グリコール酸 0.4
エトキシジグリコール 0.5
イソステアリルグリセリルペンタエリスリチル 0.1
グリセリン 5
プロピレングリコール 2
クエン酸 pH4.0に調整
水酸化ナトリウム pH4.0に調整
イオン交換水 残量
(重量%)
多糖誘導体1 0.1
ステアロキシプロピルジメチルアミン 2
セトステアリルアルコール 8
ヒマワリ油 2
オレイン酸 0.5
グリコール酸 0.4
エトキシジグリコール 0.5
イソステアリルグリセリルペンタエリスリチル 0.1
グリセリン 5
プロピレングリコール 2
クエン酸 pH4.0に調整
水酸化ナトリウム pH4.0に調整
イオン交換水 残量
上記コンディショナーはすすぎ時の滑らかさに優れ、洗髪後の髪に良好なまとまり性と滑り感を付与できた。
Claims (2)
- 次の成分(A)、(B)及び(C)
(A) 多糖類又はその誘導体におけるヒドロキシ基の水素原子の一部又は全てが、次の基(a1)で置換されている多糖誘導体
(a1)一般式(1)で表される基
−E1−(OA)n−E2−R (1)
〔式中、E1はヒドロキシ基又はオキソ基が置換していてもよい炭素数1〜6の2価の飽和炭化水素基を示し、nは8〜300の数を示し、n個のAは同一又は異なって、炭素数1〜6の2価の飽和炭化水素基を示し、E2はエーテル結合又はオキシカルボニル基を示し、Rはヒドロキシ基が置換していてもよい炭素数4〜30のアルキル基を示す。〕
(B) 次の一般式(b-1)で表されるカチオン界面活性剤、又は次の一般式(b-2)で表される三級アミン型化合物若しくはその塩
(C) 次の一般式(c)で表される高級アルコール
R'−OH (c)
〔式中、R'は炭素数12〜28の脂肪族炭化水素基を示す。〕
を含有する毛髪化粧料。 - 更に成分(D)として、高級アルコール以外の油剤を含有する請求項1記載の毛髪化粧料。
Priority Applications (1)
Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
---|---|---|---|
JP2004134732A JP2005314303A (ja) | 2004-04-28 | 2004-04-28 | 毛髪化粧料 |
Applications Claiming Priority (1)
Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
---|---|---|---|
JP2004134732A JP2005314303A (ja) | 2004-04-28 | 2004-04-28 | 毛髪化粧料 |
Publications (1)
Publication Number | Publication Date |
---|---|
JP2005314303A true JP2005314303A (ja) | 2005-11-10 |
Family
ID=35442094
Family Applications (1)
Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
---|---|---|---|
JP2004134732A Pending JP2005314303A (ja) | 2004-04-28 | 2004-04-28 | 毛髪化粧料 |
Country Status (1)
Country | Link |
---|---|
JP (1) | JP2005314303A (ja) |
Cited By (4)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
JP2005336111A (ja) * | 2004-05-27 | 2005-12-08 | Kao Corp | 皮膚化粧料 |
WO2010082436A1 (ja) | 2009-01-14 | 2010-07-22 | 株式会社資生堂 | 毛髪化粧料 |
KR20120092016A (ko) * | 2011-02-10 | 2012-08-20 | 가부시키가이샤 미르본 | 모발 화장료 |
JP2016094360A (ja) * | 2014-11-13 | 2016-05-26 | 相互 秋田 | 化学組成物 |
-
2004
- 2004-04-28 JP JP2004134732A patent/JP2005314303A/ja active Pending
Cited By (7)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
JP2005336111A (ja) * | 2004-05-27 | 2005-12-08 | Kao Corp | 皮膚化粧料 |
JP4537766B2 (ja) * | 2004-05-27 | 2010-09-08 | 花王株式会社 | 皮膚化粧料 |
WO2010082436A1 (ja) | 2009-01-14 | 2010-07-22 | 株式会社資生堂 | 毛髪化粧料 |
KR20120092016A (ko) * | 2011-02-10 | 2012-08-20 | 가부시키가이샤 미르본 | 모발 화장료 |
JP2012167025A (ja) * | 2011-02-10 | 2012-09-06 | Milbon Co Ltd | 毛髪化粧料 |
KR101579573B1 (ko) | 2011-02-10 | 2015-12-22 | 가부시키가이샤 미르본 | 모발 화장료 |
JP2016094360A (ja) * | 2014-11-13 | 2016-05-26 | 相互 秋田 | 化学組成物 |
Similar Documents
Publication | Publication Date | Title |
---|---|---|
JP4716110B2 (ja) | カチオン変性ガラクトマンナン多糖及び該物質を含む化粧料組成物 | |
JP4975996B2 (ja) | カチオン変性ペクチン及び該物質を含む化粧料組成物 | |
JP4783064B2 (ja) | カチオン変性寒天及び該物質を含む化粧料組成物 | |
JP5000879B2 (ja) | カチオン変性グルコマンナン多糖及び該物質を含む化粧料組成物 | |
JPWO2005073255A1 (ja) | カチオン変性精製ガラクトマンナン多糖及び該物質を含む化粧料組成物 | |
JP4185467B2 (ja) | 毛髪化粧料 | |
JP4379675B2 (ja) | カチオン変性多糖類及び該物質を含む組成物 | |
JP2006241330A (ja) | カチオン変性精製タラガム及び該物質を含む化粧料組成物 | |
JP4210614B2 (ja) | 毛髪化粧料 | |
JP2006151871A (ja) | 化粧料組成物 | |
JP5426212B2 (ja) | 水性毛髪洗浄剤 | |
JP2006182728A (ja) | 水性毛髪洗浄剤 | |
JP2003252732A (ja) | 毛髪洗浄剤 | |
JP2005314303A (ja) | 毛髪化粧料 | |
JP2005314306A (ja) | 毛髪化粧料 | |
JP6735081B2 (ja) | 毛髪用洗浄剤組成物 | |
JP5791957B2 (ja) | 水性毛髪洗浄剤 | |
JP2004203801A (ja) | 洗浄剤組成物 | |
JP4901166B2 (ja) | 低粘度カチオン変性セルロースを含む化粧料組成物 | |
JP2009256277A (ja) | 染毛用前処理剤組成物 | |
JP5037209B2 (ja) | 毛髪化粧料組成物 | |
JP2004203799A (ja) | 洗浄剤組成物 | |
JP2012232933A (ja) | 水性毛髪洗浄剤 | |
JP2007308448A (ja) | 水性毛髪洗浄剤 | |
JP2005314302A (ja) | 毛髪化粧料 |