JP2005281765A - 微粒子の撹拌方法およびこれを利用した砥粒の表面改質方法 - Google Patents
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Abstract
【解決手段】回転軸心が垂直方向となるように設置した容器5の回転を停止した状態での成膜工程と、容器5の回転方向を正逆方向に切り換えて回転させ、容器5内の砥粒2に対して下部を傾斜させた撹拌板11を進入させて砥粒2を撹拌する撹拌工程と、容器5の回転を停止した状態で容器5内の砥粒2の露出表面をクリーニングするクリーニング工程とをこの順序で繰り返し多数回実施することにより、砥粒2の撹拌効率を高めるとともに二次粒子の成長を抑制し、被膜形成による砥粒の表面改質を完全に行うことができる。
【選択図】図1
Description
2 砥粒
2a 二次粒子
3 高周波電源
4 陰極コイル
5 容器
6,7 モータ
8 偏心カム
9 押しばね
10 シャフト
11 撹拌板
11a 傾斜部分
12 バイアス電位
Da,Db 回転方向
Claims (4)
- 回転する容器に収容した微粒子を撹拌する方法であって、容器の回転軸心を垂直方向にするとともに回転方向を正逆方向に繰り返し複数回切り換えて容器を回転させ、容器内の微粒子層に対して上下動可能な撹拌板を進入させて微粒子を撹拌することを特徴とする微粒子の撹拌方法。
- 前記撹拌板の少なくとも微粒子層進入部分を容器の回転方向に対して傾斜した形状となし、前記回転方向の切り換えに対応して、前記撹拌板の傾斜部分により微粒子を掬い上げて撹拌する作用と撹拌時に形成された微粒子の二次粒子を破砕する作用とを切り換える請求項1記載の微粒子の撹拌方法。
- 高周波マグネトロンスパッタリング法により砥粒の表面に金属または金属酸化物を被覆する砥粒の表面改質方法であって、砥粒を収容した容器を回転軸心が垂直方向となるように減圧雰囲気内に設置し、容器の回転を停止した状態で容器内の砥粒にスパッタリング法により被膜を形成する成膜工程と、前記成膜工程の後に容器の回転方向を正逆方向に繰り返し複数回切り換えて容器を回転させ、容器内の砥粒層に対して上下動可能な撹拌板を進入させて砥粒を撹拌する撹拌工程と、前記撹拌工程の後に容器の回転を停止した状態でバイアス電位を容器に印加してプロセスガスイオンにより容器内の砥粒の露出表面をクリーニングするクリーニング工程の各工程をこの順序で繰り返し複数回実施することを特徴とする砥粒の表面改質方法。
- 前記撹拌板の少なくとも砥粒層進入部分を容器の回転方向に対して傾斜した形状となし、前記回転方向の切り換えに対応して、撹拌板の前記傾斜部分により砥粒を掬い上げて撹拌する作用と撹拌時に形成された砥粒の二次粒子を破砕する作用とを切り換える請求項3記載の砥粒の表面改質方法。
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