JP2005279437A - 排ガス浄化用触媒 - Google Patents
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Abstract
【課題】PtとRhとを分離担持した二層構造の触媒層をもつ触媒において、担持されている貴金属粒子の移動を抑制する。
【解決手段】CeO2及びZrO2の少なくとも一方を含む担体にPtと、Ba、La、Ni及びFeから選ばれる少なくとも一種の添加元素とを担持した下触媒層2と、Rhを担持した上触媒層3とから構成し、下触媒層2の添加元素を上触媒層3との界面に近いほど高濃度となる分布をもって担持させた。
下触媒層2の大部分で添加元素と担体との反応が生じにくくなるので、担体の比表面積の低下が抑制され、それに伴ってPt粒子及びRh粒子の移動が抑制される。これによりPt粒子とRh粒子とを分離担持した効果が長期間維持でき、Pt及びRhの粒成長も抑制されるため耐久性が向上する。
【選択図】 図1
【解決手段】CeO2及びZrO2の少なくとも一方を含む担体にPtと、Ba、La、Ni及びFeから選ばれる少なくとも一種の添加元素とを担持した下触媒層2と、Rhを担持した上触媒層3とから構成し、下触媒層2の添加元素を上触媒層3との界面に近いほど高濃度となる分布をもって担持させた。
下触媒層2の大部分で添加元素と担体との反応が生じにくくなるので、担体の比表面積の低下が抑制され、それに伴ってPt粒子及びRh粒子の移動が抑制される。これによりPt粒子とRh粒子とを分離担持した効果が長期間維持でき、Pt及びRhの粒成長も抑制されるため耐久性が向上する。
【選択図】 図1
Description
本発明は、三元触媒などの自動車用の排ガス浄化用触媒に関し、詳しくは二層構造の触媒層をもつ排ガス浄化用触媒に関する。
従来より自動車の排ガス浄化用触媒として、理論空燃比(ストイキ)において排ガス中のCO及びHCの酸化とNOx の還元とを同時に行って浄化する三元触媒が用いられている。このような三元触媒としては、例えばコージェライトなどからなる耐熱性基材にγ-Al2O3などからなるコート層を形成し、そのコート層にPt、Rh、Pdなどの貴金属を担持させたものが広く知られている。また、酸素吸蔵能をもつCeO2を併用し、浄化ウィンドウを拡げた三元触媒も知られている。
貴金属のうちPt及びPdは主としてCO及びHCの酸化浄化に寄与し、Rhは主としてNOx の還元浄化に寄与するとともに、RhにはPt又はPdのシンタリングを防止する作用がある。したがってPt又はPdとRhとを併用することにより、シンタリングによる活性点の減少により活性が低下するという不具合が抑制され、耐熱性が向上することがわかっている。したがって三元触媒では、Pt又はPdとRhとを併用することが望ましいことが知られている。
ところで、近年の排ガス規制強化に対応するため、スタートアップ用触媒とアンダフロア用触媒からなる二触媒システムが数多く採用されている。ところが、この二触媒システムにおいて、スタートアップ触媒はエンジン直下に取り付けられるため、使用時の触媒の温度がアンダフロア用触媒に比べてかなり上昇し、RhによるPtやPdのシンタリング抑制効果が低減される。またPtとRhを併用すると、高温時にPtとRhとが合金化するため、Ptの酸化能が低下するという不具合があることも明らかとなった。
さらに、貴金属種と担体種の間には、使用条件により好ましくない組合せが存在する。例えばRhを Al2O3に担持した触媒では、 900℃以上の高温酸化雰囲気においてRhが Al2O3中に固溶し、性能低下が著しいという不具合がある。
また、三元触媒には 900℃以上の高温耐久性が強く要請されている。そのためには触媒の劣化を抑制することが重要な課題である。またRhは資源的にきわめて稀少であり、Rhを効率よく活用するとともに、その劣化を抑制して耐熱性を高めることが望まれている。
そこで、ZrO2にRhが担持された触媒粉末を Al2O3と混合してコート層を形成することが行われている。このようにRhをZrO2に担持することで、先に述べたRhの Al2O3中への固溶が防止され、Rhの劣化を抑制することができる。
さらに、コート層を二層構造とし、複数種の貴金属を分離担持した触媒が提案されている。例えば特開平05−293376号公報には、コート層の最表層にRhを担持し、その内側層にPt又はPdを担持した触媒が開示されている。また特開平06−063403号公報には、PtあるいはPdを含む第1コート層と、第1コート層の上層に設けられRhを含む第2コート層とからなり、第2コート層中にCeO2及びZrO2を主成分とする金属酸化物粉末を含有した触媒が提案されている。
このようにPtとRhを別々の層に分離して担持することにより、CO、HC及びNOx を効率よく浄化することができ、かつ合金化によるPtの酸化能の低下も抑制することができる。またCeO2あるいはZrO2など貴金属種と相性のよい担体を選択することで、担体との相互作用による浄化能の低下が抑制される。例えばCeO2を含む担体に担持されたPtは、 Al2O3に担持されたPtに比べて高温時の粒成長が抑制され、浄化能の低下が抑制されることが知られている。
またBaやLaなどをさらに担持することで、NOx の浄化活性がさらに向上することが知られている。しかしこれらの元素がRhと共に担持されているとRhの触媒作用が低下することが明らかとなり、これらの元素はRhと分離して担持することが望ましい。そこで例えば特開平11−276907号公報には、下層にPtとBaを担持し、上層にRhを担持した触媒が提案されている。また特開2001−286769号公報には、下層にPt、Ce、Zr又はLaを含み、上層にRhを含む触媒が提案されている。
ところがPtとRhとを下層及び上層に分離担持した触媒においても、高温域ではPt粒子とRh粒子の移動が激しくなり、両者が層の界面を超えて移動することで分離担持した効果が低下するという問題があった。またCeO2又はZrO2を含む担体にPtとBa、Laなどとを担持した触媒では、Ba、LaなどがCeO2又はZrO2と反応しやすく、その反応に伴って担体の比表面積が低下する。Pt粒子やRh粒子の移動は担体の比表面積と相関があり、また担体の比表面積の低下に伴ってPtの粒成長が促進されるので、比表面積の低下は極力抑制することが望ましい。
特開平11−276907号
特開2001−286769号
本発明は上記した事情に鑑みてなされたものであり、PtとRhとを分離担持した二層構造の触媒層をもつ触媒において、担持されている貴金属粒子の移動を抑制することを解決すべき課題とする。
上記課題を解決する本発明の排ガス浄化用触媒の特徴は、CeO2及びZrO2の少なくとも一方を含む第1担体と、Ptと、Ba、La、Ni及びFeから選ばれる少なくとも一種の添加元素と、を含む第1触媒層と、
多孔質酸化物からなる第2担体と、Rhと、を含み第1触媒層に接して形成された第2触媒層と、を備え、第1触媒層の添加元素は第2触媒層との界面に近いほど高濃度となる分布をもって担持されていることにある。
多孔質酸化物からなる第2担体と、Rhと、を含み第1触媒層に接して形成された第2触媒層と、を備え、第1触媒層の添加元素は第2触媒層との界面に近いほど高濃度となる分布をもって担持されていることにある。
第2触媒層は、下触媒層としての第1触媒層の表面に形成された上触媒層であることが望ましい。また添加元素の添加量は、第1担体と第2担体の総量に対して0.05〜 0.5モル%であることが望ましい。
本発明の排ガス浄化用触媒によれば、Ba、La、Ni及びFeから選ばれる少なくとも一種の添加元素は第2触媒層との界面に近いほど高濃度となる分布をもって担持されている。したがって第1触媒層の大部分で添加元素と第1担体との反応が生じにくくなるので、第1担体の比表面積の低下が抑制され、それに伴ってPt粒子及びRh粒子の移動が抑制される。これによりPt粒子とRh粒子とを分離担持した効果が長期間維持でき、Pt及びRhの粒成長も抑制されるため耐久性が向上する。
また第1触媒層が下触媒層を構成する場合には、上触媒層である第2触媒層との界面側に添加元素が多く担持されているので、排ガス中の硫黄酸化物が添加元素に捕捉される結果、第1触媒層に担持されているPtの硫黄被毒が抑制される。さらに添加元素に捕捉された硫黄酸化物は、還元雰囲気で分解してSO2 となって放出されるので、硫黄酸化物の還元によって生成するH2S の放出も抑制できる。
CeO2及びZrO2の少なくとも一方を含む第1担体は、少なくともCeO2を含むことが望ましく、CeO2単味、CeO2粉末と他の酸化物粉末との混合物、CeO2−ZrO2、CeO2-ZrO2-Y2O3、Al2O3-CeO2 、 Al2O3-CeO2-ZrO2、 Al2O3-CeO2-ZrO2-MgO、Al2O3-CeO2-ZrO2-Y2O3、 Al2O3-CeO2-ZrO2-La2O3などのCeO2を含む複合酸化物などを用いることができる。
第1触媒層には、Ptが含まれている。Ptの担持量は、排ガス浄化用触媒の1リットル当たり1〜20gの範囲が最適である。Ptは、第1触媒層の厚さ方向に均一に担持することが好ましい。
また第1触媒層には、Ba、La、Ni及びFeから選ばれる少なくとも一種の添加元素が含まれている。この添加元素は、Ba、La、Ni及びFeから選ばれる一種でもよいし、Ba、La、Ni及びFeから選ばれる複数種を担持してもよい。また添加元素の含有量は、第1担体と第2担体の総量に対して0.05〜 0.5モル%であることが好ましい。添加元素の含有量が0.05モル%未満では添加した効果が得られず、 0.5モル%を超えて含有するとPtの活性が低下するようになる。なお添加元素の含有形態は、炭酸塩、酸化物、硫酸塩、硝酸塩などとして担持することができる。
添加元素は、第2触媒層との界面に近いほど高濃度となる分布をもって担持されている。すなわち第2触媒層に接する表面が最も高濃度であり、その表面から遠ざかるほど濃度が低下する。その濃度勾配は大きいほど好ましく、第2触媒層に接する表面の極く浅い部分にのみ添加元素が担持されているのが特に望ましい。このように添加元素を担持するには、第1担体粉末からなるコート層に添加元素を含む溶液を接触させた後に焼成して担持する吸着担持法を用いることで、容易に行うことができる。なお第1担体粉末からなるコート層に添加元素を含む溶液を吸水させた後に焼成する含浸担持法で担持しても、濃度勾配をつけて担持することができる。
第2担体は、 Al2O3、ZrO2、CeO2、TiO2など各種の多孔質酸化物を用いることができる。これらの単味でもよいし、複数種の混合物を用いてもよい。またこれらから選ばれる複数種からなる複合酸化物を用いることもできる。第2触媒層にはRhが含まれるが、Rhは活性が特に向上するZrO2に担持されていることが好ましい。したがって、ZrO2にRhを担持したRh/ZrO2触媒粉末を用い、それに Al2O3など他の酸化物粉末を混合して第2触媒層を形成することが望ましい。
第2触媒層におけるRhの含有量は、排ガス浄化用触媒の1リットル当たり0.01〜1gの範囲で含有することが望ましい。またRhは、第2触媒層の厚さ方向に均一に担持することが好ましい。
第1触媒層と第2触媒層との上下関係は特に制限されないが、第1触媒層を下触媒層とし、第2触媒層をその表面に形成して上触媒層とすることが望ましい。このようにすれば、第2触媒層のRh/ZrO2触媒で生成したH2が第1触媒層に拡散するので、添加元素に捕捉された硫黄酸化物の還元反応が容易に進行し、H2S の生成を抑制するとともに添加元素の硫黄酸化物捕捉能を容易に回復させることができる。
第1触媒層と第2触媒層は、ハニカム形状の基材の表面上に形成される。なお、上触媒層の厚さが厚すぎると下触媒層の有効利用が図れないので、上触媒層の厚さは70μm以下とすることが望ましく、下触媒層と上触媒層の厚さの比は下触媒層:上触媒層=2:1〜4:1とすることが望ましい。
以下、実施例及び比較例により本発明を具体的に説明する。
(実施例1)
図1に本発明の一実施例の排ガス浄化用触媒を示す。この触媒は、コージェライト製のハニカム基材1と、ハニカム基材1のセル隔壁10の表面に形成された下触媒層2と、下触媒層2の表面に形成された上触媒層3とから構成されている。下触媒層2にはPtが均一に担持され、上触媒層3にはRhが均一に担持されている。そして下触媒層2には、上触媒層3との界面に近いほど高濃度となる分布をもってBaが担持された高濃度Ba担持部20が形成されている。
図1に本発明の一実施例の排ガス浄化用触媒を示す。この触媒は、コージェライト製のハニカム基材1と、ハニカム基材1のセル隔壁10の表面に形成された下触媒層2と、下触媒層2の表面に形成された上触媒層3とから構成されている。下触媒層2にはPtが均一に担持され、上触媒層3にはRhが均一に担持されている。そして下触媒層2には、上触媒層3との界面に近いほど高濃度となる分布をもってBaが担持された高濃度Ba担持部20が形成されている。
以下、この触媒の製造方法を説明し、構成の詳細な説明に代える。
先ずコージェライト製のハニカム基材1(3ミル、 600セル、容量 875cc)を用意した。
一方、γ-Al2O3粉末に所定濃度のジニトロジアンミン白金溶液の所定量を含浸させ、 120℃で蒸発乾固した後 400℃で2時間焼成して、Ptを2重量%担持したPt/Al2O3触媒粉末を調製した。このPt/Al2O3触媒粉末 75重量部と、CeO2−ZrO2複合酸化物(重量比CeO2:ZrO2=60:40)粉末75重量部と、アルミナゾル(固形分10%) 100重量部に適量のイオン交換水を加え、ボールミルでミリングしてスラリーを調製した。
このスラリーを用い、上記ハニカム基材1のセル隔壁10の表面にコートして、乾燥後大気中にて 500℃で2時間焼成し、コート層を形成した。続いて所定濃度の酢酸バリウム水溶液の所定量を上記コート層に含浸させ、乾燥後大気中にて 500℃で2時間焼成して、高濃度Ba担持部20を有する下触媒層2を形成した。下触媒層2は、ハニカム基材1の1リットル当たり 160g形成され、Ptはハニカム基材1の1リットル当たり 1.5g担持され、Baは下触媒層2と上触媒層3の総コート量に対して 0.1モル%担持されている。
次に、ZrO2粉末に所定濃度の硝酸ロジウム水溶液の所定量を含浸させ、 120℃で蒸発乾固した後 400℃で2時間焼成して、Rhを 1.6重量%担持したRh/ZrO2触媒粉末を調製した。このRh/ZrO2触媒粉末50重量部と、CeO2−ZrO2複合酸化物(重量比CeO2:ZrO2=60:40)粉末75重量部と、アルミナゾル(固形分10%) 250重量部に適量のイオン交換水を加え、ボールミルでミリングしてスラリーを調製した。
このスラリーを用い、上記ハニカム基材1の第1触媒層2の表面にコートして、乾燥後大気中にて 500℃で2時間焼成し、上触媒層3を形成した。上触媒層3は、ハニカム基材1の1リットル当たり75g形成され、Rhはハニカム基材1の1リットル当たり 0.4g担持されている。
(実施例2)
酢酸バリウム水溶液に代えて酢酸ランタン水溶液を用いたこと以外は実施例1と同様である。下触媒層2には、上触媒層3との界面に近いほど高濃度となる分布をもってLaが担持された高濃度La担持部が形成され、Laは下触媒層2と上触媒層3の総コート量に対して 0.1モル%担持されている。
酢酸バリウム水溶液に代えて酢酸ランタン水溶液を用いたこと以外は実施例1と同様である。下触媒層2には、上触媒層3との界面に近いほど高濃度となる分布をもってLaが担持された高濃度La担持部が形成され、Laは下触媒層2と上触媒層3の総コート量に対して 0.1モル%担持されている。
(実施例3)
酢酸バリウム水溶液に代えて硝酸ニッケル水溶液を用いたこと以外は実施例1と同様である。下触媒層2には、上触媒層3との界面に近いほど高濃度となる分布をもってNiが担持された高濃度Ni担持部が形成され、Niは下触媒層2と上触媒層3の総コート量に対して 0.1モル%担持されている。
酢酸バリウム水溶液に代えて硝酸ニッケル水溶液を用いたこと以外は実施例1と同様である。下触媒層2には、上触媒層3との界面に近いほど高濃度となる分布をもってNiが担持された高濃度Ni担持部が形成され、Niは下触媒層2と上触媒層3の総コート量に対して 0.1モル%担持されている。
(実施例4)
酢酸バリウム水溶液に代えて硝酸第二鉄水溶液を用いたこと以外は実施例1と同様である。下触媒層2には、上触媒層3との界面に近いほど高濃度となる分布をもってFeが担持された高濃度Fe担持部が形成され、Feは下触媒層2と上触媒層3の総コート量に対して 0.1モル%担持されている。
酢酸バリウム水溶液に代えて硝酸第二鉄水溶液を用いたこと以外は実施例1と同様である。下触媒層2には、上触媒層3との界面に近いほど高濃度となる分布をもってFeが担持された高濃度Fe担持部が形成され、Feは下触媒層2と上触媒層3の総コート量に対して 0.1モル%担持されている。
(実施例5)
下触媒層2におけるBaの担持量を、下触媒層2と上触媒層3の総コート量に対して 0.5モル%としたこと以外は実施例1と同様である。Baは、上触媒層3との界面に近いほど高濃度となる分布をもつ高濃度Ba担持部20に担持されている。
下触媒層2におけるBaの担持量を、下触媒層2と上触媒層3の総コート量に対して 0.5モル%としたこと以外は実施例1と同様である。Baは、上触媒層3との界面に近いほど高濃度となる分布をもつ高濃度Ba担持部20に担持されている。
(比較例1)
下触媒層2の形成時に、スラリー中に所定量の BaSO4粉末をさらに混合したこと以外は実施例1と同様である。下触媒層中にはBaが均一に担持され、Baは下触媒層2と上触媒層3の総コート量に対して 0.1モル%担持されている。
下触媒層2の形成時に、スラリー中に所定量の BaSO4粉末をさらに混合したこと以外は実施例1と同様である。下触媒層中にはBaが均一に担持され、Baは下触媒層2と上触媒層3の総コート量に対して 0.1モル%担持されている。
(比較例2)
下触媒層2の形成時に、スラリー中に所定量の La2(CO3)3粉末をさらに混合したこと以外は実施例1と同様である。下触媒層中にはLaが均一に担持され、Laは下触媒層2と上触媒層3の総コート量に対して 0.1モル%担持されている。
下触媒層2の形成時に、スラリー中に所定量の La2(CO3)3粉末をさらに混合したこと以外は実施例1と同様である。下触媒層中にはLaが均一に担持され、Laは下触媒層2と上触媒層3の総コート量に対して 0.1モル%担持されている。
(比較例3)
下触媒層2の形成時に、スラリー中に所定量の NiO粉末をさらに混合したこと以外は実施例1と同様である。下触媒層中にはNiが均一に担持され、Niは下触媒層2と上触媒層3の総コート量に対して 0.1モル%担持されている。
下触媒層2の形成時に、スラリー中に所定量の NiO粉末をさらに混合したこと以外は実施例1と同様である。下触媒層中にはNiが均一に担持され、Niは下触媒層2と上触媒層3の総コート量に対して 0.1モル%担持されている。
(比較例4)
下触媒層2の形成時に、スラリー中に所定量の Fe2O3粉末をさらに混合したこと以外は実施例1と同様である。下触媒層中にはFeが均一に担持され、Feは下触媒層2と上触媒層3の総コート量に対して 0.1モル%担持されている。
下触媒層2の形成時に、スラリー中に所定量の Fe2O3粉末をさらに混合したこと以外は実施例1と同様である。下触媒層中にはFeが均一に担持され、Feは下触媒層2と上触媒層3の総コート量に対して 0.1モル%担持されている。
<試験・評価>
得られたそれぞれの触媒を反応管にそれぞれ配置し、表1に示すリッチガスとリーンガスを2分間ずつ交互に30L/分の流量で流しながら、1100℃で5時間保持する耐久試験を行った。
得られたそれぞれの触媒を反応管にそれぞれ配置し、表1に示すリッチガスとリーンガスを2分間ずつ交互に30L/分の流量で流しながら、1100℃で5時間保持する耐久試験を行った。
また耐久試験後の各触媒について、上触媒層3の比表面積をBET法で測定するとともに、下触媒層2に担持されているPt粒子の分散度をCOパルス法にて測定した。それぞれの結果を表2及び図2〜4に示す。
なお実施例5では、実施例1に比べてHCの浄化性能が劣り、比表面積及びPt分散度も劣っているので、Baの担持量は下触媒層2と上触媒層3の総コート量に対して 0.5モル%以下とするのが望ましいことがわかる。
本発明の触媒は、三元触媒ばかりでなく、酸化触媒、触媒付きDPFなどにも用いることができる。
1:ハニカム基材 2:下触媒層(第1触媒層) 3:上触媒層(第2触媒層)
10:セル隔壁 20:高濃度Ba担持部
10:セル隔壁 20:高濃度Ba担持部
Claims (3)
- CeO2及びZrO2の少なくとも一方を含む第1担体と、Ptと、Ba、La、Ni及びFeから選ばれる少なくとも一種の添加元素と、を含む第1触媒層と、
多孔質酸化物からなる第2担体と、Rhと、を含み該第1触媒層に接して形成された第2触媒層と、を備え、
該第1触媒層の該添加元素は該第2触媒層との界面に近いほど高濃度となる分布をもって担持されていることを特徴とする排ガス浄化用触媒。 - 前記第2触媒層は下触媒層としての前記第1触媒層の表面に形成された上触媒層である請求項1に記載の排ガス浄化用触媒。
- 前記添加元素の添加量は、前記第1担体と前記第2担体の総量に対して0.05〜 0.5モル%である請求項1に記載の排ガス浄化用触媒。
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