JP2005277235A - 多層薄膜、薄膜検査方法および薄膜形成方法 - Google Patents
多層薄膜、薄膜検査方法および薄膜形成方法 Download PDFInfo
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Abstract
【解決手段】 デバイス形成領域外に第1薄膜13と第2薄膜15とを堆積し、第2薄膜15にマスクを介してドライエッチングにより検査穴17を形成し、この状態で第2薄膜15をマスクとして検査穴17に対応する第1薄膜13をウエットエッチングする。これにより、第1薄膜13に生じたサイドエッチング量を光学顕微鏡で観察することにより、第1薄膜13のサイドエッチング量を測定して、第1薄膜13と第2薄膜15との密着性を評価する。これにより、第1、第2薄膜13、15の検査用サンプルを別に製作する必要がなく、製品と同じものを直接検査することができるので、第1薄膜13と第2薄膜15との密着性を正確に知ることができる。
【選択図】図6
Description
また、この発明の第2の課題は、検査用サンプルを必要とせず、製品そのものを検査することができる薄膜検査方法を提供することである。
また、この発明の第3の課題は、薄膜の密着性を確保することができる薄膜形成方法を提供することである。
前記デバイス形成領域外の前記第1薄膜は前記トップゲート電極と同じ条件で形成され、この第1薄膜上の前記第2薄膜は前記オーバーコート膜と同じ条件で形成されていることを特徴とする請求項2に記載の薄膜検査方法である。
以下、図1〜図8を参照して、この発明をフォトセンサデバイスに適用した実施形態1について説明する。
このフォトセンサデバイスを製造する場合には、まず、図1に示すように、アクリルやガラスなどの透明基板1の上面にAl−Tiなどのアルミ合金からなるボトムゲート電極2を形成し、その表面を陽極酸化してAl2O3からなる陽極酸化膜3を形成する。
この場合には、予め、上部ゲート絶縁膜11の上面にITOなどの透明な金属膜をスパッタ法に堆積させるときに、図3に示すように、デバイス形成領域外の透明基板1上にも堆積させて、トップゲート電極12と同じ条件で第1薄膜13が形成されている。また、その上面全体にSiNを堆積させてオーバーコート膜14を形成するときにも、デバイス形成領域外の第1薄膜13上にオーバーコート膜14と同じ条件で第2薄膜15が形成されている。
次に、この発明のフォトセンサデバイスの製造方法の実施形態2について図9を用いて説明する。図9は、ITO膜上に窒化シリコン膜がプラズマCVDによって成膜される際の圧力に応じて窒化シリコン膜に膜応力を発生させた場合のサイドエッチング量を測定したものであり、横軸は窒化シリコン膜に膜応力であり、縦軸はITOのサイドエッチングの長さである。なお、図1〜図8に示された実施形態1と同一部分には同一符号を付して説明する。
次に、この発明のフォトセンサデバイスの製造方法の実施形態3について図10を用いて説明する。図10は、ITO膜上に窒化シリコン膜が成膜される前にO2プラズマ処理を行った場合のサイドエッチング量を測定したものであり、横軸はO2プラズマ処理時間であり、縦軸はITOのサイドエッチングの長さである。この場合にも、図1〜図8に示された実施形態1と同一部分に同一符号を付して説明する。
12 トップゲート電極
13 第1薄膜
14 オーバーコート膜
15 第2薄膜
16 検査部
17 検査穴
Claims (6)
- 金属材料からなる第1薄膜の表面に、圧縮応力が生じる第2薄膜を堆積されていることを特徴とする多層薄膜。
- デバイス形成領域外に第1薄膜と第2薄膜とを堆積し、前記第1薄膜上に堆積された前記第2薄膜にマスクを介してドライエッチングにより検査穴を形成し、この第2薄膜をマスクとして前記検査穴に対応する前記第1薄膜をウエットエッチングし、このウエットエッチングによる前記第1薄膜のサイドエッチング量を測定して、前記第1薄膜と前記第2薄膜との密着性を評価することを特徴とする薄膜検査方法。
- 前記デバイス形成領域にはダブルゲート構造の光電変換素子が形成され、この光電変換素子の上部にオーバーコート膜が設けられ、このオーバーコート膜の下面に前記金属材料からなるトップゲート電極が設けられ、
前記デバイス形成領域外の前記第1薄膜は前記トップゲート電極と同じ条件で形成され、この第1薄膜上の前記第2薄膜は前記オーバーコート膜と同じ条件で形成されていることを特徴とする請求項2に記載の薄膜検査方法。 - 金属材料からなる第1薄膜の表面に第2薄膜をプラズマCVD法で堆積させるときに、その堆積雰囲気の圧力を、前記第2薄膜に圧縮応力が生じるような圧力にすることを特徴とする薄膜形成方法。
- 金属材料からなる第1薄膜の表面に酸化処理としてO2プラズマ処理を行い、この後、前記第1薄膜の表面に第2薄膜を堆積することを特徴とする薄膜形成方法。
- 前記第1薄膜はダブルゲート構造の光電変換素子における前記金属材料からなるトップゲート電極であり、前記第2薄膜は前記トップゲート電極を覆う絶縁膜からなるオーバーコート膜であることを特徴とする請求項4または5に記載の薄膜成形方法。
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