JP2005276931A - 半導体装置およびその製造方法 - Google Patents
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Abstract
【解決手段】 シリコン基板1に開口幅の狭いトレンチ3と開口幅の広いトレンチ5をRIE法により形成するエッチング加工で、エッチングガスとしてハロゲン系ガス、フロロカーボン系ガス、O2を混合したガスを用いて同時に形成する。トレンチ5の底面端部5aの深さd2は底面中央部5bの深さd1よりも深く形成され、絶縁耐圧を確保できる。また、トレンチ3の深さd1は、シリコン酸化膜8の埋め込み性を良好にする深さとすることができる。
【選択図】 図1
Description
まず、シリコン基板上に第1のシリコン酸化膜、第1の多結晶シリコン膜、シリコン窒化膜、第2のシリコン酸化膜を順次堆積し、この後フォトリソグラフィ処理によりフォトレジストを所定のパターンに加工する。このフォトレジストをマスクにしてRIE(Reactive Ion Etching)法により第2のシリコン酸化膜、シリコン窒化膜をエッチング加工し、フォトレジストを除去した後、第2のシリコン酸化膜をマスクにして多結晶シリコン膜、第1のシリコン酸化膜およびシリコン基板をエッチング加工する。このとき、シリコン基板には均一な深さのトレンチが形成される。
上記のようにして、トレンチの深さを作り分けるので、メモリセル領域ではSTIの幅寸法をアスペクト比に応じた最小幅に狭めることができ、周辺回路領域では耐圧に応じた深さ寸法を確保したものとして得られるようになる。
本発明は、上記事情を考慮してなされたもので、その目的は、開口幅が狭いトレンチを浅く、開口幅が広いトレンチを実質的に深く形成されたトレンチを備えた半導体装置、およびこれらのトレンチを1回のフォトリソグラフィ処理により形成することができる半導体装置の製造方法を提供することにある。
また、本発明の半導体装置の製造方法によれば、上記の半導体装置を形成するのに、1回のエッチング加工工程で開口幅の狭いトレンチを第1の深さに、開口幅の広いトレンチを底面端部が第1の深さよりも深い第2の深さに掘り下げると共に、底面中央部が第2の深さよりも浅く形成することができる。
図1は全体構成を示す模式的な断面図で、フラッシュメモリに素子分離領域を形成した状態を示している。この図1において、半導体基板としてのシリコン基板1には、メモリセル領域2に開口幅が狭いトレンチ3(第1の素子分離用トレンチ)が形成され、周辺回路領域4に開口幅の広いトレンチ5(第2の素子分離用トレンチ)が形成されている。トレンチ3の深さは、シリコン基板1の表面から100nm(第1の深さd1)に形成されている。トレンチ5の深さは、底面端部5aでシリコン基板1の表面から170nm(第2の深さd2)に形成され、底面中央部5bで100nm(第1の深さd1)に形成されている。すなわち、トレンチ5の底面端部5aの深さはトレンチ3の深さより深く、底面中央部5bの深さはトレンチ5の底面端部の深さより浅く形成されている。
次に、図2(b)に示すように、通常のフォトリソグラフィ処理によりフォトレジスト14を所定のパターンに加工する。これは、メモリセル領域2および周辺回路領域4のそれぞれに対応して素子分離領域を形成するパターンを形成するものである。形成されたフォトレジスト14のパターンをマスク材としてRIE法により第2のシリコン酸化膜13とシリコン窒化膜12をエッチング加工する。
トレンチ同時形成において、多結晶シリコン膜12のエッチング時のエッチングガスとしては、例えばHBr、Cl2、O2、CF4を混合したガスを用いる。引き続き、シリコン酸化膜6のエッチング時のエッチングガスとしては、Ar、CHF3を混合したガスを用いる。また、シリコン基板1をエッチングするときに用いるエッチングガスとしては、ハロゲン系ガスとしてHBr、Cl2、フロロカーボン系ガスとしてCHF3を用いるとともに、他にO2を混合したガスを用いる。
このエッチング加工では、シリコン基板1中にトレンチ3、5を同時に形成しており、開口幅の広いトレンチ5においては、底面部端部5aの深さd2が底面中央部5bの深さd1よりも深くなるような形状に形成している。その後、O2雰囲気、1000℃で加熱し、6nmの第3のシリコン酸化膜7を形成する。
本発明は、上記実施例にのみ限定されるものではなく、次のように変形または拡張できる。
上記実施形態では、トレンチ3の深さd1がトレンチ5の底面中央部5bの深さd1と同じになる場合で示したが、必ずしも一致するように形成する必要はなく、エッチング加工上の条件やばらつきの範囲内でほぼ同程度の深さになれば良いものである。
上記実施形態においては、多結晶シリコン膜10、11を用いる構成としているが、これに代えて、非晶質シリコン膜を用いることもできる。
フラッシュメモリ以外にも異なる深さのトレンチを形成する構成の半導体装置に適用することができる。
Claims (5)
- 半導体基板と、
この半導体基板上に形成され開口幅の異なる複数のトレンチとを備え、
前記複数のトレンチのうちで、開口幅の狭いトレンチは第1の深さに形成され、開口幅の広いトレンチは、底面端部が前記第1の深さよりも深い第2の深さに掘り下げられると共に、底面中央部が前記第2の深さよりも浅く形成されていることを特徴とする半導体装置。 - メモリセル領域および周辺回路領域を有する半導体基板と、
前記メモリセル領域に形成され、第1の開口幅を有し、前記半導体基板表面から第1の深さに掘り下げられた第1の素子分離用トレンチと、
前記周辺回路領域に形成され、前記第1の開口幅より幅の広い第2の開口幅を有し、底面端部が前記第1の深さよりも深い第2の深さに掘り下げられ、底面中央部は前記第2の深さよりも浅く形成された第2の素子分離用トレンチと
を具備したことを特徴とする半導体装置。 - 半導体基板に開口幅の異なるトレンチ形成用のマスク材をパターニングする工程と、
このマスク材をマスクとしてRIE法によりハロゲン系ガス、フロロカーボン系ガス、O2からなる反応性プラズマを用いて前記半導体基板をエッチング加工して前記開口幅の異なるトレンチを同時形成する工程とを備えたことを特徴とする半導体装置の製造方法。 - 半導体基板にゲート絶縁膜、多結晶シリコン膜もしくは非晶質シリコン膜、シリコン窒化膜、シリコン酸化膜を順次積層する工程と、
前記半導体基板の上面に開口幅の異なるトレンチ形成用のレジストをパターニングする工程と、
このレジストをマスクとしてRIE法により前記半導体基板に形成したシリコン酸化膜およびシリコン窒化膜をエッチング加工する工程と、
エッチング加工されたシリコン酸化膜およびシリコン窒化膜をマスク材としてRIE法によりハロゲン系ガス、フロロカーボン系ガス、Ar、O2からなる反応性プラズマを用いて前記多結晶シリコン膜もしくは非晶質シリコン膜、ゲート絶縁膜および半導体基板をエッチング加工して前記開口幅の異なるトレンチを同時形成する工程とを備えたことを特徴とする半導体装置の製造方法。 - 請求項3または4に記載の半導体装置の製造方法において、
前記トレンチを形成する工程で前記シリコン基板のエッチングに用いるエッチングガスは、ハロゲン系ガスとしてHBr、Cl2、フロロカーボン系ガスとしてCHF3を用いることを特徴とする半導体装置の製造方法。
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