JP2005274923A - Photosensitive resin composition and acridone oligomer - Google Patents

Abstract

<P>PROBLEM TO BE SOLVED: To prevent the diffusion of an acridone compound before exposure and to improve the solubility of the compound with solvent. <P>SOLUTION: The photosensitive resin composition contains a binder, a polymerizable compound, a photopolymerization initiator and an acridone compound, wherein an acridone compound having a molecular structure having 2 to 4 acridon-10-yl groups linked with a linking group having the valance of 2 to 4 is used. <P>COPYRIGHT: (C)2006,JPO&NCIPI

Description

本発明は、プリント配線板、リードフレーム、半導体パッケージ、ディスプレイ用部材（例えば、カラーフィルター、柱材、リブ材、スペーサー、隔壁）、３次元光造形、画像形成材料（例えば、印刷版、プルーフ）、パターン形成材料の分野で用いられる感光性樹脂組成物に関する。
また、本発明は、インダンスチレン系染料や蛍光物質の合成原料として用いられるアクリドン化合物に関する。さらに、感光性樹脂組成物やドライフイルムレジストに、感光色素や増感色素として利用されるアクリドン化合物に関する。さらにまた、本発明は、感光性樹脂組成物やフイルム内の溶解性を改善したアクリドン化合物に関する。 The present invention relates to a printed wiring board, a lead frame, a semiconductor package, a display member (for example, a color filter, a pillar material, a rib member, a spacer, a partition wall), a three-dimensional stereolithography, and an image forming material (for example, a printing plate, a proof). The present invention relates to a photosensitive resin composition used in the field of pattern forming materials.
The present invention also relates to an acridone compound used as a raw material for the synthesis of indane styrenic dyes and fluorescent substances. Further, the present invention relates to an acridone compound used as a photosensitive dye or a sensitizing dye in a photosensitive resin composition or a dry film resist. Furthermore, this invention relates to the acridone compound which improved the solubility in the photosensitive resin composition or film.

感光性組成物の高性能化に伴って、光高感度化は強く求められている事項の一つである。その光高感度化のためには、使用する光源の波長に対しての物質の吸収波長の追随性が求められている。しかしながら、通常の光開始系では吸収が短波であったり、吸収強度が小さいため、充分な光感度が得られていなかった。それを解決するために、アクリドン化合物などの増感色素が用いられている。
アクリドン化合物は、感光性組成物の増感剤のほかに、種々のインダンスチレン系染料の原料として、また、蛍光を示すことからＤＮＡラベル（例えば、特許文献１参照）としてや、抗アレルギー剤として（例えば、特許文献２参照）、電子輸送材料として（例えば、特許文献３参照）用いられている。
しかしながら、４００ｎｍ付近に吸収波長を持つ、アクリドン化合物は、感光性組成物として用いる際、その溶剤に対する溶解性が低く、感光性組成物をフイルム化するなどの時に、塗布性が不良となったり、塗布物から析出するなどの問題点を持っていた。
また、アクリドン化合物は比較的分子量の小さい化合物であったため、感剤層の中においてはその生保存中などに、感光性組成物から他の層への染み出しや拡散してしまい、充分な増感能を発揮できないなどの問題点を持っていた。 Increasing the photosensitivity is one of the items that are strongly demanded as the performance of photosensitive compositions increases. In order to increase the light sensitivity, it is required to follow the absorption wavelength of the substance with respect to the wavelength of the light source to be used. However, in a normal photoinitiating system, the absorption is short wave or the absorption intensity is small, so that sufficient photosensitivity has not been obtained. In order to solve this problem, sensitizing dyes such as acridone compounds are used.
Acridone compounds are used as raw materials for various indane styrene-based dyes in addition to sensitizers for photosensitive compositions, and as fluorescent labels, for example, as DNA labels (see, for example, Patent Document 1) and as antiallergic agents. (For example, refer patent document 2), it is used as an electron transport material (for example, refer patent document 3).
However, an acridone compound having an absorption wavelength near 400 nm, when used as a photosensitive composition, has low solubility in the solvent, and when the photosensitive composition is made into a film, the applicability becomes poor, It had problems such as precipitation from the coated material.
In addition, since the acridone compound is a compound having a relatively small molecular weight, in the sensitizer layer, the photosensitive composition oozes out and diffuses to other layers during its raw storage, and the acridone compound increases sufficiently. It had problems such as inability to demonstrate sensitivity.

アクリドン化合物をアルキレン連結、アリーレン連結した化合物はすでに知られており、例えば、種々の鎖長の異なるアルキレン連結によるアクリドン二量体（例えば、非特許文献１参照）、アルキレン連結やアリールアルキレン連結によるアクリドン二量体（例えば、非特許文献２参照）、アルキレン連結やモノエーテル連結によるアクリドン二量体（例えば、非特許文献３参照）、アミノ基を持つアルキレン鎖によるアクリドンの二量体（例えば、特許文献３、４参照）が挙げられる。   A compound in which an acridone compound is alkylene-linked or arylene-linked is already known, for example, an acridone dimer by alkylene linkages having various chain lengths (for example, see Non-Patent Document 1), an acridone by alkylene linkage or arylalkylene linkage. Dimer (for example, see non-patent document 2), acridone dimer by alkylene linkage or monoether linkage (for example, see non-patent document 3), dimer of acridone by alkylene chain having amino group (for example, patent) References 3 and 4).

特開平１１−１１６４８０号公報JP-A-11-116480 特開平８−１５１３６９号公報JP-A-8-151369 特表平９−５１０４５１号公報JP 9-510451 gazette 特表２０００−５０８６６２公報Special Table 2000-508862 Publication Bulletin de la Societe Chimique de France, (7-8, Pt-2), 345-350, 1980Bulletin de la Societe Chimique de France, (7-8, Pt-2), 345-350, 1980 Journal of Chemical Research, Synopses, (1), 2-3, 1983Journal of Chemical Research, Synopses, (1), 2-3, 1983 Journal of Chemical Society, Chemical Communications, (22), 1065-1066, 1980Journal of Chemical Society, Chemical Communications, (22), 1065-1066, 1980

本発明の課題は、増感色素が感光前に感光性樹脂組成物から拡散することを防ぎ、かつ増感色素の溶剤に対する溶解性を改良することを目的とする。   An object of the present invention is to prevent the sensitizing dye from diffusing from the photosensitive resin composition before exposure and to improve the solubility of the sensitizing dye in a solvent.

本発明は、バインダー、重合性化合物、光重合開始剤およびアクリドンオリゴマーを含み、アクリドンオリゴマーが、置換されていてもよい２乃至４個のアクリドン−１０−イル基を二価乃至四価の連結基で連結した分子構造を有することを特徴とする感光性樹脂組成物を提供する。   The present invention includes a binder, a polymerizable compound, a photopolymerization initiator, and an acridone oligomer, wherein the acridone oligomer is a divalent to tetravalent divalent to tetravalent 10-acridone-10-yl group. Provided is a photosensitive resin composition having a molecular structure linked by a linking group.

アクリドンオリゴマーは、下記式（Ｉ）で表されることが好ましい：   The acridone oligomer is preferably represented by the following formula (I):

［式中、Ｒ^１およびＲ^２は、それぞれ独立に、水素原子、ハロゲン原子、ニトロ、シアノ、ヒドロキシル、メルカプト、カルボキシル、アミノ、カルバモイル、カルバモイルオキシ、ウレイド、スルファモイル、アルキル基、置換アルキル基、アリール基、置換アリール基、複素環基、アルコキシ基、置換アルコキシ基、アリールオキシ基、置換アリールオキシ基、アルキルチオ基、置換アルキルチオ基、アリールチオ基、置換アリールチオ基、アシル基、アルコキシカルボニル基、置換アルコキシカルボニル基、置換アミノ基、アミド基、置換カルバモイル基、置換カルバモイルオキシ基、アルコキシカルボニルアミノ基、置換アルコキシカルボニルオキシ基、アリールオキシカルボニルアミノ基、置換アリールオキシカルボニルアミノ基、置換ウレイド基、アルキルスルホニル基、置換アルキルスルホニル基、アリールスルホニル基、置換アリールスルホニル基、スルホンアミド基または置換スルファモイル基である；Ｙは、−Ｏ−、−ＮＨ−、−Ｏ−ＣＯ−、−ＣＯ−Ｏ−、−ＮＨ−ＣＯ−、−ＣＯ−ＮＨ−、−ＮＨ−ＣＯ−Ｏ−および−Ｏ−ＣＯ−ＮＨ−からなる群より選ばれる二価の連結基である；Ｌは、炭素原子を含むｎ価の連結基であって、炭素原子でＹと結合する；ｐは、１、２または３である；ｑは、０または１である；ｎは、２、３または４であって、ｎ個の部分構造は互いに異なっていてもよい］。 [Wherein R ¹ and R ² are each independently a hydrogen atom, a halogen atom, nitro, cyano, hydroxyl, mercapto, carboxyl, amino, carbamoyl, carbamoyloxy, ureido, sulfamoyl, alkyl group, substituted alkyl group, aryl Group, substituted aryl group, heterocyclic group, alkoxy group, substituted alkoxy group, aryloxy group, substituted aryloxy group, alkylthio group, substituted alkylthio group, arylthio group, substituted arylthio group, acyl group, alkoxycarbonyl group, substituted alkoxycarbonyl Group, substituted amino group, amide group, substituted carbamoyl group, substituted carbamoyloxy group, alkoxycarbonylamino group, substituted alkoxycarbonyloxy group, aryloxycarbonylamino group, substituted aryloxycarbonylamino group , A substituted ureido group, an alkylsulfonyl group, a substituted alkylsulfonyl group, an arylsulfonyl group, a substituted arylsulfonyl group, a sulfonamido group, or a substituted sulfamoyl group; Y is —O—, —NH—, —O—CO—, A divalent linking group selected from the group consisting of -CO-O-, -NH-CO-, -CO-NH-, -NH-CO-O- and -O-CO-NH-; An n-valent linking group containing a carbon atom, bonded to Y at the carbon atom; p is 1, 2 or 3; q is 0 or 1; n is 2, 3 or 4 N partial structures may be different from each other].

アクリドンオリゴマーは、下記式（II）で表されるアクリドンダイマーであることが好ましい。   The acridone oligomer is preferably an acridone dimer represented by the following formula (II).

［式中、Ｒ^１、Ｒ^２、Ｒ^３およびＲ^４は、それぞれ独立に、水素原子、ハロゲン原子、ニトロ、シアノ、炭素原子数が１乃至６のアルキル基、炭素原子数が６乃至１３のアリール基、炭素原子数が６乃至１３のニトロ置換アリール基、炭素原子数が１乃至６のアシル基、炭素原子数が２乃至６のアルコキシカルボニル基、炭素原子数が１乃至６のアミド基、炭素原子数が１乃至６のアルキルスルホニル基または炭素原子数が１乃至６のスルホンアミド基である；Ｙ^１およびＹ^２は、それぞれ独立に、−Ｏ−、−ＮＨ−、−Ｏ−ＣＯ−、−ＣＯ−Ｏ−、−ＮＨ−ＣＯ−、−ＣＯ−ＮＨ−、−ＮＨ−ＣＯ−Ｏ−および−Ｏ−ＣＯ−ＮＨ−からなる群より選ばれる二価の連結基である；Ｌは、−ＡＬ−、−ＡＲ−、−ＡＬ−ＡＲ−、−ＡＬ−ＡＲ−ＡＬ−、−ＡＬ−Ｈｃ−ＡＬ−、−ＡＲ−ＡＬ−ＡＲ−、−ＡＲ−Ｙ^３−ＡＬ−Ｙ^４−ＡＲ−および−ＡＬ−ＮＨ−ＡＬ−からなる群より選ばれる二価の連結基であって、ＡＬは、炭素原子数が１乃至２０のアルキレン基または炭素原子数が２乃至２０のアルケニレン基であり、ＡＲは、炭素原子数が１乃至６のアルキル基または炭素原子数が２乃至６のアルコキシカルボニル基で置換されていてもよいフェニレンまたはナフチレンであり、Ｈｃは、二価の複素環基であり、Ｙ^３およびＹ^４は、それぞれ独立に、−Ｏ−、−ＮＨ−、−Ｏ−ＣＯ−、−ＣＯ−Ｏ−、−ＮＨ−ＣＯ−、−ＣＯ−ＮＨ−、−ＮＨ−ＣＯ−Ｏ−および−Ｏ−ＣＯ−ＮＨ−からなる群より選ばれる二価の連結基である；ｐおよびｒは、それぞれ独立に、１、２または３である；ｑおよびｓは、それぞれ独立に、０または１である］。 [Wherein R ¹ , R ² , R ³ and R ⁴ are each independently a hydrogen atom, a halogen atom, nitro, cyano, an alkyl group having 1 to 6 carbon atoms, or an alkyl group having 6 to 13 carbon atoms. An aryl group, a nitro-substituted aryl group having 6 to 13 carbon atoms, an acyl group having 1 to 6 carbon atoms, an alkoxycarbonyl group having 2 to 6 carbon atoms, an amide group having 1 to 6 carbon atoms, An alkylsulfonyl group having 1 to 6 carbon atoms or a sulfonamide group having 1 to 6 carbon atoms; Y ¹ and Y ² are each independently —O—, —NH—, —O—CO—; , -CO-O-, -NH-CO-, -CO-NH-, -NH-CO-O-, and -O-CO-NH-; , -AL-, -AR-, -AL-AR-, -AL- R-AL -, - AL- Hc-AL -, - AR-AL-AR -, - AR-Y 3 -AL-Y 4 -AR- and -AL-NH-AL- divalent selected from the group consisting of Wherein AL is an alkylene group having 1 to 20 carbon atoms or an alkenylene group having 2 to 20 carbon atoms, and AR is an alkyl group or carbon atom having 1 to 6 carbon atoms Phenylene or naphthylene optionally substituted with an alkoxycarbonyl group having 2 to 6 atoms, Hc is a divalent heterocyclic group, and Y ³ and Y ⁴ are each independently —O—, — Divalent selected from the group consisting of NH-, -O-CO-, -CO-O-, -NH-CO-, -CO-NH-, -NH-CO-O- and -O-CO-NH-. And p and r are each independently 1, 2 Or q; and q and s are each independently 0 or 1].

アクリドンオリゴマーは、下記式（III)で表されるアクリドントリマーであることも好ましい：   The acridone oligomer is also preferably an acridone trimer represented by the following formula (III):

［式中、Ｒ^１およびＲ^２は、それぞれ独立に、水素原子、ハロゲン原子、ニトロ、シアノ、炭素原子数が１乃至６のアルキル基、炭素原子数が６乃至１３のアリール基、炭素原子数が６乃至１３のニトロ置換アリール基、炭素原子数が１乃至６のアシル基、炭素原子数が２乃至６のアルコキシカルボニル基、炭素原子数が１乃至６のアミド基、炭素原子数が１乃至６のアルキルスルホニル基または炭素原子数が１乃至６のスルホンアミド基である；Ｙは、−Ｏ−、−ＮＨ−、−Ｏ−ＣＯ−、−ＣＯ−Ｏ−、−ＮＨ−ＣＯ−、−ＣＯ−ＮＨ−、−ＮＨ−ＣＯ−Ｏ−および−Ｏ−ＣＯ−ＮＨ−からなる群より選ばれる二価の連結基である；Ｌは、単結合または炭素原子数が１乃至２０のアルキレン基である；Ｃｙは、三価の芳香族炭化水素環または三価の複素環基である；ｐは、１、２または３である；ｑは、０または１である；式（III)に示される三個の部分構造は、互いに異なっていてもよい］。

[Wherein, R ¹ and R ² are each independently a hydrogen atom, a halogen atom, nitro, cyano, an alkyl group having 1 to 6 carbon atoms, an aryl group having 6 to 13 carbon atoms, or the number of carbon atoms Is a nitro-substituted aryl group having 6 to 13 carbon atoms, an acyl group having 1 to 6 carbon atoms, an alkoxycarbonyl group having 2 to 6 carbon atoms, an amide group having 1 to 6 carbon atoms, and 1 to 1 carbon atoms. 6 is an alkylsulfonyl group having 6 carbon atoms or a sulfonamide group having 1 to 6 carbon atoms; Y represents —O—, —NH—, —O—CO—, —CO—O—, —NH—CO—, — A divalent linking group selected from the group consisting of CO-NH-, -NH-CO-O- and -O-CO-NH-; L is a single bond or an alkylene group having 1 to 20 carbon atoms; Cy is a trivalent aromatic hydrocarbon ring Is a trivalent heterocyclic group; p is 1, 2 or 3; q is 0 or 1; the three partial structures represented by formula (III) may be different from each other ].

アクリドンオリゴマーは、下記式（IV）で表されるアクリドンテトラマーであることも好ましい：   The acridone oligomer is also preferably an acridone tetramer represented by the following formula (IV):

［式中、Ｒ^１、Ｒ^２、Ｒ^３およびＲ^４は、それぞれ独立に、水素原子、ハロゲン原子、ニトロ、シアノ、炭素原子数が１乃至６のアルキル基、炭素原子数が６乃至１３のアリール基、炭素原子数が６乃至１３のニトロ置換アリール基、炭素原子数が１乃至６のアシル基、炭素原子数が２乃至６のアルコキシカルボニル基、炭素原子数が１乃至６のアミド基、炭素原子数が１乃至６のアルキルスルホニル基または炭素原子数が１乃至６のスルホンアミド基である；Ｙ^１、Ｙ^２、Ｙ^３およびＹ^４は、それぞれ独立に、−Ｏ−、−ＮＨ−、−Ｏ−ＣＯ−、−ＣＯ−Ｏ−、−ＮＨ−ＣＯ−、−ＣＯ−ＮＨ−、−ＮＨ−ＣＯ−Ｏ−および−Ｏ−ＣＯ−ＮＨ−からなる群より選ばれる二価の連結基である；Ｌ^１、Ｌ^２、Ｌ^４およびＬ^５は、それぞれ独立に、単結合または炭素原子数が１乃至２０のアルキレン基である；Ｃｙ^１およびＣｙ^２は、それぞれ独立に、三価の芳香族炭化水素環または三価の複素環基である；Ｌ^３は、炭素原子数が１乃至２０のアルキレン基である；ｐおよびｒは、それぞれ独立に、１、２または３である；ｑおよびｓは、それぞれ独立に、０または１である；式（IV）に示される四個の部分構造は、互いに異なっていてもよい］。 [Wherein R ¹ , R ² , R ³ and R ⁴ are each independently a hydrogen atom, a halogen atom, nitro, cyano, an alkyl group having 1 to 6 carbon atoms, or an alkyl group having 6 to 13 carbon atoms. An aryl group, a nitro-substituted aryl group having 6 to 13 carbon atoms, an acyl group having 1 to 6 carbon atoms, an alkoxycarbonyl group having 2 to 6 carbon atoms, an amide group having 1 to 6 carbon atoms, An alkylsulfonyl group having 1 to 6 carbon atoms or a sulfonamido group having 1 to 6 carbon atoms; Y ¹ , Y ² , Y ^3, and Y ⁴ are each independently —O—, —NH—; , —O—CO—, —CO—O—, —NH—CO—, —CO—NH—, —NH—CO—O—, and —O—CO—NH—. is a ^{group; L 1, L 2, L} 4 and ^{L 5,} its The respective independently a single bond or a number of carbon atoms is an alkylene group of 1 to 20; Cy ¹ and Cy ² are each independently a trivalent aromatic hydrocarbon ring or a trivalent heterocyclic group; L ³ is an alkylene group having 1 to 20 carbon atoms; p and r are each independently 1, 2 or 3; q and s are each independently 0 or 1; The four partial structures shown in (IV) may be different from each other].

式（II）で表されるアクリドンダイマー、式（III)で表されるアクリドントリマーおよび式（IV）で表されるアクリドンテトラマーは、いずれも新規なアクリドン化合物である。
前記バインダーは、カルボキシル基を有するポリマーであることが好ましい。カルボキシル基を有するポリマーは、カルボキシル基を有する繰り返し単位と、カルボキシル基を有しない繰り返し単位とを有するコポリマーであって、コポリマー中のカルボキシル基を有する繰り返し単位の割合が１０乃至４５モル％であることがさらに好ましい。 The acridone dimer represented by the formula (II), the acridone trimer represented by the formula (III) and the acridone tetramer represented by the formula (IV) are all novel acridone compounds.
The binder is preferably a polymer having a carboxyl group. The polymer having a carboxyl group is a copolymer having a repeating unit having a carboxyl group and a repeating unit having no carboxyl group, and the ratio of the repeating unit having a carboxyl group in the copolymer is 10 to 45 mol%. Is more preferable.

光重合開始剤は、ハロゲン置換アルキル基を有する複素環化合物、オキシム、ヘキサアリールビイミダゾールおよびケトンからなる群より選ばれることが好ましい。
バインダーを３０乃至９０質量％、重合性化合物を５乃至６０質量％、光重合開始剤を０．１乃至３０質量％、アクリドンオリゴマーを０．０５乃至３０質量％含むことがこのましい。
感光性樹脂組成物は、プリント配線板の製造に特に有利に用いることができる。 The photopolymerization initiator is preferably selected from the group consisting of a heterocyclic compound having a halogen-substituted alkyl group, oxime, hexaarylbiimidazole and ketone.
It is preferable that the binder contains 30 to 90% by mass, the polymerizable compound 5 to 60% by mass, the photopolymerization initiator 0.1 to 30% by mass, and the acridone oligomer 0.05 to 30% by mass.
The photosensitive resin composition can be particularly advantageously used for the production of a printed wiring board.

アクリドン化合物は、一般に、感度向上の効果が優れた増感剤として、光重合開始系に用いられている。Ｎ−メチルアクリドンが代表的な増感剤である。しかし、Ｎ−メチルアクリドンは低分子化合物であり、感光材料の保存においてが拡散し、感度が低下する問題がある。
一般に、耐拡散性を改善する手段として、置換基（耐拡散性基）の追加のような分子量を大きくする手段が採用されている。しかし、単純に分子量を増大させるだけでは、アクリドン化合物の機能が低下する。
本発明者の研究の結果、２乃至４個のアクリドン−１０−イル基を二価乃至四価の連結基で連結したアクリドンオリゴマーは、アクリドン化合物の機能（特に色素としての吸光度）を損なうことなく、耐拡散性が改善されることが判明した。 In general, an acridone compound is used in a photopolymerization initiation system as a sensitizer having an excellent effect of improving sensitivity. N-methylacridone is a typical sensitizer. However, N-methylacridone is a low molecular weight compound, and there is a problem that the sensitivity is reduced due to diffusion during storage of the photosensitive material.
Generally, as means for improving diffusion resistance, means for increasing molecular weight such as addition of a substituent (diffusion resistance group) is employed. However, simply increasing the molecular weight reduces the function of the acridone compound.
As a result of the study by the present inventors, an acridone oligomer in which 2 to 4 acridone-10-yl groups are linked by a divalent to tetravalent linking group impairs the function of the acridone compound (especially absorbance as a dye). It was found that the diffusion resistance was improved.

［アクリドンオリゴマー］
本発明は、アクリドンオリゴマーを用いる。アクリドンオリゴマーは、置換されていてもよい２乃至４個のアクリドン−１０−イル基を二価乃至四価の連結基で連結した分子構造を有するアクリドン化合物である。すなわち、アクリドンオリゴマーは、２乃至４個の（ａ）アクリドン−１０−イル基および（ｂ）二価乃至四価の連結基、そして任意に（ｃ）置換基からなる。
（ａ）アクリドン−１０−イル基は、アクリドン（正式名は、９−アクリジノン）の１０位窒素原子に遊離原子価をもつ一価の基である。 [Acridone oligomer]
The present invention uses an acridone oligomer. The acridone oligomer is an acridone compound having a molecular structure in which 2 to 4 acridone-10-yl groups which may be substituted are linked by a divalent to tetravalent linking group. That is, the acridone oligomer comprises 2 to 4 (a) an acridone-10-yl group, (b) a divalent to tetravalent linking group, and optionally (c) a substituent.
(A) The acridone-10-yl group is a monovalent group having a free valence at the 10-position nitrogen atom of acridone (official name is 9-acridinone).

（ｂ）二価乃至四価の連結基は、二価乃至四価の脂肪族基、二価乃至四価の芳香族基、二価乃至四価の複素環基、それらの組み合わせ、あるいはそれらと−Ｏ−、−Ｓ−、−ＣＯ−、−ＣＳ−、−ＮＨ−、−Ｎ＜または−ＳＯ_２−との組み合わせからなることが好ましい。アクリドンの１０位窒素原子には、連結基に含まれる炭素原子が結合することが好ましく、脂肪族基が結合することがさらに好ましく、二価の脂肪族基が結合することが最も好ましい。二価乃至四価の連結基は、二価乃至四価の脂肪族基、二価乃至四価の芳香族基および二価乃至四価の複素環基から選ばれる基を少なくとも一つ、および−Ｏ−、−Ｓ−、−ＣＯ−、−ＣＳ−、−ＮＨ−、−Ｎ＜および−ＳＯ_２−から選ばれる基を少なくとも二つ組み合わせることが好ましい。組み合わせの例には、−ＮＨ−ＣＯ−ＮＨ−や−［ＣＨ_２）_ｍ−Ｏ］_ｎ−（ｍおよびｎは、２以上の整数）が含まれる。 (B) The divalent to tetravalent linking group is a divalent to tetravalent aliphatic group, a divalent to tetravalent aromatic group, a divalent to tetravalent heterocyclic group, a combination thereof, or a combination thereof. It is preferably composed of a combination with —O—, —S—, —CO—, —CS—, —NH—, —N <or —SO ₂ —. A carbon atom contained in the linking group is preferably bonded to the 10-position nitrogen atom of acridone, more preferably an aliphatic group is bonded, and most preferably a divalent aliphatic group is bonded. The divalent to tetravalent linking group includes at least one group selected from a divalent to tetravalent aliphatic group, a divalent to tetravalent aromatic group, and a divalent to tetravalent heterocyclic group, and- It is preferable to combine at least two groups selected from O—, —S—, —CO—, —CS—, —NH—, —N <and —SO ₂ —. Examples of combinations include —NH—CO—NH— and — [CH ₂ ) _m —O] _n — (m and n are integers of 2 or more).

脂肪族基は、環状構造または分岐構造を有していてもよい。脂肪族基の炭素原子数は、１乃至２０が好ましい。脂肪族基は、置換基を有していてもよい。置換基の例は、ハロゲン原子、ニトロ、シアノ、ヒドロキシル、メルカプト、ホルミル、カルボキシル、アミノ、カルバモイル、カルバモイルオキシ、ウレイド、スルファモイル、一価の芳香族基、一価の複素環基、−Ｏ−Ｒ、−Ｓ−Ｒ、−ＣＯ−Ｒ、−ＣＯ−Ｏ−Ｒ、−ＮＨ−Ｒ、−Ｎ（−Ｒ）_２、−ＮＨ−ＣＯ−Ｒ、−ＣＯ−ＮＨ−Ｒ、−ＣＯ−Ｎ（−Ｒ）_２、−Ｏ−ＣＯ−ＮＨ−Ｒ、−Ｏ−ＣＯ−Ｎ（−Ｒ）_２、−ＮＨ−ＣＯ−Ｏ−Ｒ、−ＮＨ−ＣＯ−ＮＨ−Ｒ、−ＮＨ−ＣＯ−Ｎ（−Ｒ）_２、−ＳＯ_２−Ｒ、−ＮＨ−ＳＯ_２−Ｒ、−ＳＯ_２−ＮＨ−Ｒおよび−ＳＯ_２−Ｎ（−Ｒ）_２を含む。Ｒは、一価の脂肪族基、一価の芳香族基または一価の複素環基である。 The aliphatic group may have a cyclic structure or a branched structure. The number of carbon atoms in the aliphatic group is preferably 1-20. The aliphatic group may have a substituent. Examples of the substituent include a halogen atom, nitro, cyano, hydroxyl, mercapto, formyl, carboxyl, amino, carbamoyl, carbamoyloxy, ureido, sulfamoyl, monovalent aromatic group, monovalent heterocyclic group, -O-R , —S—R, —CO—R, —CO—O—R, —NH—R, —N (—R) ₂ , —NH—CO—R, —CO—NH—R, —CO—N ( -R) ₂ , -O-CO-NH-R, -O-CO-N (-R) ₂ , -NH-CO-O-R, -NH-CO-NH-R, -NH-CO-N (—R) ₂ , —SO ₂ —R, —NH—SO ₂ —R, —SO ₂ —NH—R and —SO ₂ —N (—R) ₂ are included. R is a monovalent aliphatic group, a monovalent aromatic group or a monovalent heterocyclic group.

芳香族基の炭素原子数は、６乃至２０が好ましい。芳香族基は、置換基を有していてもよい。置換基の例は、脂肪族基の置換基の例に加えて、一価の脂肪族基を含む。
複素環基は、置換基を有していてもよい。置換基の例は、芳香族基の置換基の例に加えて、オキソ（＝Ｏ）およびチオ（＝Ｓ）を含む。複素環の例は、イソシアヌル環を含む。 The number of carbon atoms in the aromatic group is preferably 6 to 20. The aromatic group may have a substituent. Examples of the substituent include a monovalent aliphatic group in addition to the examples of the substituent of the aliphatic group.
The heterocyclic group may have a substituent. Examples of substituents include oxo (= O) and thio (= S) in addition to examples of substituents for aromatic groups. Examples of heterocycles include isocyanuric rings.

（ｃ）置換基は、アクリドン−１０−イル基の１〜８位に結合する。置換基の例は、芳香族基の置換基の例と同様である。一つのアクリドン−１０−イル基が有する置換基の数は、最大８であるが、６以下であることが好ましく、４以下であることがより好ましく、２以下であることがさらに好ましく、１以下であることがさらにまた好ましく、０（無置換）であることが最も好ましい。   (C) The substituent is bonded to positions 1 to 8 of the acridone-10-yl group. The example of a substituent is the same as the example of the substituent of an aromatic group. The maximum number of substituents that one acridone-10-yl group has is 8, but is preferably 6 or less, more preferably 4 or less, even more preferably 2 or less, and 1 or less. It is still more preferable that it is 0, and it is most preferable that it is 0 (unsubstituted).

好ましいアクリドンオリゴマーを下記式（Ｉ）で表す。   A preferred acridone oligomer is represented by the following formula (I).

式（Ｉ）において、Ｒ^１およびＲ^２は、それぞれ独立に、水素原子、ハロゲン原子（フッ素原子、塩素原子、臭素原子、ヨウ素原子）、ニトロ、シアノ、ヒドロキシル、メルカプト、カルボキシル、アミノ、カルバモイル、カルバモイルオキシ、ウレイド、スルファモイル、アルキル基、置換アルキル基、アリール基、置換アリール基、複素環基、アルコキシ基、置換アルコキシ基、アリールオキシ基、置換アリールオキシ基、アルキルチオ基、置換アルキルチオ基、アリールチオ基、置換アリールチオ基、アシル基、アルコキシカルボニル基、置換アルコキシカルボニル基、置換アミノ基、アミド基、置換カルバモイル基、置換カルバモイルオキシ基、アルコキシカルボニルアミノ基、置換アルコキシカルボニルオキシ基、アリールオキシカルボニルアミノ基、置換アリールオキシカルボニルアミノ基、置換ウレイド基、アルキルスルホニル基、置換アルキルスルホニル基、アリールスルホニル基、置換アリールスルホニル基、スルホンアミド基または置換スルファモイル基である。 In the formula (I), R ¹ and R ² are each independently a hydrogen atom, a halogen atom (fluorine atom, chlorine atom, bromine atom, iodine atom), nitro, cyano, hydroxyl, mercapto, carboxyl, amino, carbamoyl, Carbamoyloxy, ureido, sulfamoyl, alkyl group, substituted alkyl group, aryl group, substituted aryl group, heterocyclic group, alkoxy group, substituted alkoxy group, aryloxy group, substituted aryloxy group, alkylthio group, substituted alkylthio group, arylthio group Substituted arylthio group, acyl group, alkoxycarbonyl group, substituted alkoxycarbonyl group, substituted amino group, amide group, substituted carbamoyl group, substituted carbamoyloxy group, alkoxycarbonylamino group, substituted alkoxycarbonyloxy group, aryloxy Carbonylamino group, a substituted aryloxycarbonylamino group, a substituted ureido group, an alkylsulfonyl group, a substituted alkylsulfonyl group, an arylsulfonyl group, a substituted arylsulfonyl group, a sulfonamido group or a substituted sulfamoyl group.

アルキル基は、環状構造または分岐構造を有していてもよい。アルキル基の炭素原子数は１乃至３０であることが好ましく、１乃至２０であることがより好ましく、１乃至１５であることがさらに好ましく、１乃至１０であることがさらにまた好ましく、１乃至６であることが最も好ましい。
置換アルキル基のアルキル部分は、アルキル基と同様である。置換アルキル基の置換基の例は、ハロゲン原子、ニトロ、シアノ、ヒドロキシル、メルカプト、カルボキシル、アミノ、カルバモイル、カルバモイルオキシ、ウレイド、スルファモイル、アリール基、置換アリール基、複素環基、アルコキシ基、置換アルコキシ基、アリールオキシ基、置換アリールオキシ基、アルキルチオ基、置換アルキルチオ基、アリールチオ基、置換アリールチオ基、アシル基、アルコキシカルボニル基、置換アルコキシカルボニル基、置換アミノ基、アミド基、置換カルバモイル基、置換カルバモイルオキシ基、アルコキシカルボニルアミノ基、置換アルコキシカルボニルオキシ基、アリールカルボニルアミノ基、置換アリールカルボニルアミノ基、置換ウレイド基、アルキルスルホニル基、置換アルキルスルホニル基、アリールスルホニル基、置換アリールスルホニル基、スルホンアミド基および置換スルファモイル基を含む。 The alkyl group may have a cyclic structure or a branched structure. The alkyl group preferably has 1 to 30 carbon atoms, more preferably 1 to 20, more preferably 1 to 15, still more preferably 1 to 10, and further preferably 1 to 6 Most preferably.
The alkyl part of the substituted alkyl group is the same as the alkyl group. Examples of the substituent of the substituted alkyl group are halogen atom, nitro, cyano, hydroxyl, mercapto, carboxyl, amino, carbamoyl, carbamoyloxy, ureido, sulfamoyl, aryl group, substituted aryl group, heterocyclic group, alkoxy group, substituted alkoxy Group, aryloxy group, substituted aryloxy group, alkylthio group, substituted alkylthio group, arylthio group, substituted arylthio group, acyl group, alkoxycarbonyl group, substituted alkoxycarbonyl group, substituted amino group, amide group, substituted carbamoyl group, substituted carbamoyl group Oxy group, alkoxycarbonylamino group, substituted alkoxycarbonyloxy group, arylcarbonylamino group, substituted arylcarbonylamino group, substituted ureido group, alkylsulfonyl group, substituted alkylsulfonyl Includes an arylsulfonyl group, a substituted arylsulfonyl group, a sulfonamido group and a substituted sulfamoyl group.

アリール基の炭素原子数は、６乃至３０であることが好ましく、６乃至２０であることがさらに好ましい。
置換アリール基のアリール部分は、アリール基と同様である。置換アリール基の置換基の例は、置換アルキル基の置換基の例に加えて、アルキル基および置換アルキル基を含む。
複素環基は、５員または６員の複素環を有することが好ましい。複素環に、他の複素環、脂肪族環または芳香族環が縮合していてもよい。複素環の複素原子は、窒素原子、酸素原子または硫黄原子であることが好ましい。複素環基は置換基を有していてもよい。複素環基の置換基の例は、置換アリール基の置換基の例と同様である。 The number of carbon atoms of the aryl group is preferably 6 to 30, and more preferably 6 to 20.
The aryl part of the substituted aryl group is the same as the aryl group. Examples of the substituent of the substituted aryl group include an alkyl group and a substituted alkyl group in addition to the examples of the substituent of the substituted alkyl group.
The heterocyclic group preferably has a 5-membered or 6-membered heterocyclic ring. Another heterocyclic ring, an aliphatic ring or an aromatic ring may be condensed with the heterocyclic ring. The hetero atom of the heterocyclic ring is preferably a nitrogen atom, an oxygen atom or a sulfur atom. The heterocyclic group may have a substituent. Examples of the substituent of the heterocyclic group are the same as the examples of the substituent of the substituted aryl group.

アルコキシ基および置換アルコキシ基のアルキル部分は、アルキル基と同様である。置換アルコキシ基の置換基の例は、置換アルキル基の置換基の例と同様である。
アリールオキシ基および置換アリールオキシ基のアリール部分は、アリール基と同様である。置換アリールオキシ基の置換基の例は、置換アリール基の置換基の例と同様である。 The alkyl part of the alkoxy group and the substituted alkoxy group is the same as the alkyl group. Examples of the substituent of the substituted alkoxy group are the same as the examples of the substituent of the substituted alkyl group.
The aryl moiety of the aryloxy group and substituted aryloxy group is the same as the aryl group. The example of the substituent of a substituted aryloxy group is the same as the example of the substituent of a substituted aryl group.

アルキルチオ基および置換アルキルチオ基のアルキル部分は、アルキル基と同様である。置換アルキルチオ基の置換基の例は、置換アルキル基の置換基の例と同様である。
アリールチオ基および置換アリールチオ基のアリール部分は、アリール基と同様である。置換アリールチオ基の置換基の例は、置換アリール基の置換基の例と同様である。 The alkyl part of the alkylthio group and the substituted alkylthio group is the same as the alkyl group. The example of the substituent of a substituted alkylthio group is the same as the example of the substituent of a substituted alkyl group.
The aryl moiety of the arylthio group and the substituted arylthio group is the same as the aryl group. The example of the substituent of a substituted arylthio group is the same as the example of the substituent of a substituted aryl group.

アシル基はホルミルまたは−ＣＯ−Ｒで表され、Ｒはアルキル基、置換アルキル基、アリール基または置換アリール基である。
アルコキシカルボニル基および置換アルコキシカルボニル基のアルキル部分は、アルキル基と同様である。置換アルコキシカルボニル基の置換基の例は、置換アルキル基の置換基の例と同様である。
アリールオキシカルボニル基および置換アリールオキシカルボニル基のアリール部分は、アリール基と同様である。置換アリールオキシカルボニル基の置換基の例は、置換アリール基の置換基の例と同様である。 The acyl group is represented by formyl or -CO-R, where R is an alkyl group, a substituted alkyl group, an aryl group or a substituted aryl group.
The alkyl moiety of the alkoxycarbonyl group and the substituted alkoxycarbonyl group is the same as the alkyl group. Examples of the substituent of the substituted alkoxycarbonyl group are the same as the examples of the substituent of the substituted alkyl group.
The aryl moiety of the aryloxycarbonyl group and the substituted aryloxycarbonyl group is the same as the aryl group. Examples of the substituent of the substituted aryloxycarbonyl group are the same as the examples of the substituent of the substituted aryl group.

置換アミノ基は、−ＮＨ−Ｒまたは−Ｎ（−Ｒ）_２で表され、Ｒはアルキル基、置換アルキル基、アリール基または置換アリール基である。
アミド基は、−ＮＨ−ＣＯ−Ｒで表され、Ｒはアルキル基、置換アルキル基、アリール基または置換アリール基である。
置換カルバモイル基は、−ＣＯ−ＮＨ−Ｒまたは−ＣＯ−Ｎ（−Ｒ）_２で表され、Ｒはアルキル基、置換アルキル基、アリール基または置換アリール基である。
置換カルバモイルオキシ基は、−Ｏ−ＣＯ−ＮＨ−Ｒまたは−Ｏ−ＣＯ−Ｎ（−Ｒ）_２で表され、Ｒはアルキル基、置換アルキル基、アリール基または置換アリール基である。 The substituted amino group is represented by —NH—R or —N (—R) ₂ , and R is an alkyl group, a substituted alkyl group, an aryl group or a substituted aryl group.
The amide group is represented by —NH—CO—R, and R is an alkyl group, a substituted alkyl group, an aryl group, or a substituted aryl group.
The substituted carbamoyl group is represented by —CO—NH—R or —CO—N (—R) ₂ , and R is an alkyl group, a substituted alkyl group, an aryl group or a substituted aryl group.
The substituted carbamoyloxy group is represented by —O—CO—NH—R or —O—CO—N (—R) ₂ , and R is an alkyl group, a substituted alkyl group, an aryl group or a substituted aryl group.

アルコキシカルボニルアミノ基および置換アルコキシカルボニルアミノ基のアルキル部分は、アルキル基と同様である。置換アルコキシカルボニルアミノ基の置換基の例は、置換アルキル基の置換基の例と同様である。
アリールオキシカルボニルアミノ基および置換アリールオキシカルボニルアミノ基のアリール部分は、アリール基と同様である。置換アリールオキシカルボニルアミノ基の置換基の例は、置換アリール基の置換基の例と同様である。 The alkyl moiety of the alkoxycarbonylamino group and the substituted alkoxycarbonylamino group is the same as the alkyl group. Examples of the substituent of the substituted alkoxycarbonylamino group are the same as the examples of the substituent of the substituted alkyl group.
The aryl moiety of the aryloxycarbonylamino group and the substituted aryloxycarbonylamino group is the same as the aryl group. Examples of the substituent of the substituted aryloxycarbonylamino group are the same as the examples of the substituent of the substituted aryl group.

置換ウレイド基は、−ＮＨ−ＣＯ−ＮＨ−Ｒまたは−ＮＨ−ＣＯ−Ｎ（−Ｒ）_２で表され、Ｒはアルキル基、置換アルキル基、アリール基または置換アリール基である。
アルキルスルホニル基および置換アルキルスルホニル基のアルキル部分は、アルキル基と同様である。置換アルキルスルホニル基の置換基の例は、置換アルキル基の置換基の例と同様である。
アリールスルホニル基および置換アリールスルホニル基のアリール部分は、アリール基と同様である。置換アリールスルホニル基の置換基の例は、置換アリール基の置換基の例と同様である。 The substituted ureido group is represented by —NH—CO—NH—R or —NH—CO—N (—R) ₂ , and R is an alkyl group, a substituted alkyl group, an aryl group or a substituted aryl group.
The alkyl moiety of the alkylsulfonyl group and the substituted alkylsulfonyl group is the same as the alkyl group. Examples of the substituent of the substituted alkylsulfonyl group are the same as the examples of the substituent of the substituted alkyl group.
The aryl moiety of the arylsulfonyl group and substituted arylsulfonyl group is the same as the aryl group. Examples of the substituent of the substituted arylsulfonyl group are the same as the examples of the substituent of the substituted aryl group.

スルホンアミド基は、−ＮＨ−ＳＯ_２−Ｒで表され、Ｒはアルキル基、置換アルキル基、アリール基または置換アリール基である。
置換スルファモイル基は、−ＳＯ_２−ＮＨ−Ｒまたは−ＳＯ_２−Ｎ（−Ｒ）_２で表され、Ｒはアルキル基、置換アルキル基、アリール基または置換アリール基である。 The sulfonamide group is represented by —NH—SO ₂ —R, and R is an alkyl group, a substituted alkyl group, an aryl group or a substituted aryl group.
The substituted sulfamoyl group is represented by —SO ₂ —NH—R or —SO ₂ —N (—R) ₂ , and R is an alkyl group, a substituted alkyl group, an aryl group or a substituted aryl group.

式（Ｉ）において、Ｙは、−Ｏ−、−ＮＨ−、−Ｏ−ＣＯ−、−ＣＯ−Ｏ−、−ＮＨ−ＣＯ−、−ＣＯ−ＮＨ−、−ＮＨ−ＣＯ−Ｏ−および−Ｏ−ＣＯ−ＮＨ−からなる群より選ばれる二価の連結基である。   In formula (I), Y represents —O—, —NH—, —O—CO—, —CO—O—, —NH—CO—, —CO—NH—, —NH—CO—O— and —. It is a divalent linking group selected from the group consisting of O—CO—NH—.

式（Ｉ）において、Ｌは、炭素原子を含むｎ価の連結基であって、炭素原子でＹと結合する。
Ｌは、２価乃至４価の脂肪族基、２価乃至４価の芳香族炭化水素基、２価乃至４価の複素環、それらの組み合わせ、またはそれらと−Ｏ−、−ＮＨ−、−Ｏ−ＣＯ−、−ＣＯ−Ｏ−、−ＮＨ−ＣＯ−、−ＣＯ−ＮＨ−、−ＮＨ−ＣＯ−Ｏ−または−Ｏ−ＣＯ−ＮＨ−との組み合わせである（炭素原子でＹと結合するように組み合わせる）ことが好ましい。 In the formula (I), L is an n-valent linking group containing a carbon atom, and is bonded to Y at the carbon atom.
L is a divalent to tetravalent aliphatic group, a divalent to tetravalent aromatic hydrocarbon group, a divalent to tetravalent heterocyclic ring, a combination thereof, or —O—, —NH—, — It is a combination with O—CO—, —CO—O—, —NH—CO—, —CO—NH—, —NH—CO—O— or —O—CO—NH— (bonded to Y at a carbon atom). Are preferably combined).

脂肪族基は、環状構造または分岐構造を有していてもよい。脂肪族基の炭素原子数は１乃至３０であることが好ましく、１乃至２０であることがより好ましく、１乃至１５であることがさらに好ましく、１乃至１０であることがさらにまた好ましく、１乃至６であることが最も好ましい。
脂肪族基は置換基を有していてもよい。置換基の例は、置換アルキル基の置換基と同様である。
芳香族炭化水素基の炭素原子数は、６乃至３０であることが好ましく、６乃至２０であることがさらに好ましい。
芳香族炭化水素基は置換基を有していてもよい。置換基の例は、置換アリール基の置換基と同様である。
複素環基は、５員または６員の複素環を有することが好ましい。複素環に、他の複素環、脂肪族環または芳香族環が縮合していてもよい。複素環の複素原子は、窒素原子、酸素原子または硫黄原子であることが好ましい。複素環基は置換基を有していてもよい。複素環基の置換基の例は、置換アリール基の置換基の例と同様である。 The aliphatic group may have a cyclic structure or a branched structure. The number of carbon atoms in the aliphatic group is preferably 1 to 30, more preferably 1 to 20, still more preferably 1 to 15, still more preferably 1 to 10, and still more preferably 1 to 6 is most preferred.
The aliphatic group may have a substituent. Examples of the substituent are the same as those of the substituted alkyl group.
The number of carbon atoms of the aromatic hydrocarbon group is preferably 6 to 30, and more preferably 6 to 20.
The aromatic hydrocarbon group may have a substituent. Examples of the substituent are the same as those of the substituted aryl group.
The heterocyclic group preferably has a 5-membered or 6-membered heterocyclic ring. Another heterocyclic ring, an aliphatic ring or an aromatic ring may be condensed with the heterocyclic ring. The hetero atom of the heterocyclic ring is preferably a nitrogen atom, an oxygen atom or a sulfur atom. The heterocyclic group may have a substituent. Examples of the substituent of the heterocyclic group are the same as the examples of the substituent of the substituted aryl group.

式（Ｉ）において、ｐは、１、２または３である。
式（Ｉ）において、ｑは、０または１である。
式（Ｉ）において、ｎは、２、３または４であって、ｎ個の部分構造は互いに異なっていてもよい。 In the formula (I), p is 1, 2 or 3.
In the formula (I), q is 0 or 1.
In the formula (I), n is 2, 3 or 4, and the n partial structures may be different from each other.

アクリドンオリゴマーは、下記式（II）で表されるアクリドンダイマーであることが好ましい。   The acridone oligomer is preferably an acridone dimer represented by the following formula (II).

式（II）において、Ｒ^１、Ｒ^２、Ｒ^３およびＲ^４は、それぞれ独立に、水素原子、ハロゲン原子、ニトロ、シアノ、炭素原子数が１乃至６のアルキル基、炭素原子数が６乃至１３のアリール基、炭素原子数が６乃至１３のニトロ置換アリール基、炭素原子数が１乃至６のアシル基、炭素原子数が２乃至６のアルコキシカルボニル基、炭素原子数が１乃至６のアミド基、炭素原子数が１乃至６のアルキルスルホニル基または炭素原子数が１乃至６のスルホンアミド基である。Ｒ^１、Ｒ^２、Ｒ^３およびＲ^４は、水素原子であることが特に好ましい。
式（II）において、Ｙ^１およびＹ^２は、それぞれ独立に、−Ｏ−、−ＮＨ−、−Ｏ−ＣＯ−、−ＣＯ−Ｏ−、−ＮＨ−ＣＯ−、−ＣＯ−ＮＨ−、−ＮＨ−ＣＯ−Ｏ−および−Ｏ−ＣＯ−ＮＨ−からなる群より選ばれる二価の連結基である。 In formula (II), R ¹ , R ² , R ³ and R ⁴ each independently represent a hydrogen atom, a halogen atom, nitro, cyano, an alkyl group having 1 to 6 carbon atoms, or 6 to 6 carbon atoms. 13 aryl groups, nitro-substituted aryl groups having 6 to 13 carbon atoms, acyl groups having 1 to 6 carbon atoms, alkoxycarbonyl groups having 2 to 6 carbon atoms, amides having 1 to 6 carbon atoms Group, an alkylsulfonyl group having 1 to 6 carbon atoms, or a sulfonamide group having 1 to 6 carbon atoms. R ¹ , R ² , R ³ and R ⁴ are particularly preferably hydrogen atoms.
In Formula (II), Y ¹ and Y ² each independently represent —O—, —NH—, —O—CO—, —CO—O—, —NH—CO—, —CO—NH—, — A divalent linking group selected from the group consisting of NH-CO-O- and -O-CO-NH-.

式（II）において、Ｌは、−ＡＬ−、−ＡＲ−、−ＡＬ−ＡＲ−、−ＡＬ−ＡＲ−ＡＬ−、−ＡＬ−Ｈｃ−ＡＬ−、−ＡＲ−ＡＬ−ＡＲ−、−ＡＲ−Ｙ^３−ＡＬ−Ｙ^４−ＡＲ−および−ＡＬ−ＮＨ−ＡＬ−からなる群より選ばれる二価の連結基である。ＡＬは、炭素原子数が１乃至２０のアルキレン基または炭素原子数が２乃至２０のアルケニレン基である。ＡＲは、炭素原子数が１乃至６のアルキル基または炭素原子数が２乃至６のアルコキシカルボニル基で置換されていてもよいフェニレンまたはナフチレンである。Ｈｃは、二価の複素環基である。Ｙ^３およびＹ^４は、それぞれ独立に、−Ｏ−、−ＮＨ−、−Ｏ−ＣＯ−、−ＣＯ−Ｏ−、−ＮＨ−ＣＯ−、−ＣＯ−ＮＨ−、−ＮＨ−ＣＯ−Ｏ−および−Ｏ−ＣＯ−ＮＨ−からなる群より選ばれる二価の連結基である
式（II）において、ｐおよびｒは、それぞれ独立に、１、２または３である。
式（II）において、ｑおよびｓは、それぞれ独立に、０または１である。 In the formula (II), L represents -AL-, -AR-, -AL-AR-, -AL-AR-AL-, -AL-Hc-AL-, -AR-AL-AR-, -AR-. Y ³ —AL—Y ⁴ —AR— and a divalent linking group selected from the group consisting of —AL—NH—AL—. AL is an alkylene group having 1 to 20 carbon atoms or an alkenylene group having 2 to 20 carbon atoms. AR is phenylene or naphthylene which may be substituted with an alkyl group having 1 to 6 carbon atoms or an alkoxycarbonyl group having 2 to 6 carbon atoms. Hc is a divalent heterocyclic group. Y ³ and Y ⁴ are each independently —O—, —NH—, —O—CO—, —CO—O—, —NH—CO—, —CO—NH—, —NH—CO—O—. And a divalent linking group selected from the group consisting of —O—CO—NH—, in formula (II), p and r are each independently 1, 2 or 3.
In the formula (II), q and s are each independently 0 or 1.

アクリドンオリゴマーは、下記式（III)で表されるアクリドントリマーであることも好ましい。   The acridone oligomer is also preferably an acridone trimer represented by the following formula (III).

式（III)において、Ｒ^１およびＲ^２は、それぞれ独立に、水素原子、ハロゲン原子、ニトロ、シアノ、炭素原子数が１乃至６のアルキル基、炭素原子数が６乃至１３のアリール基、炭素原子数が６乃至１３のニトロ置換アリール基、炭素原子数が１乃至６のアシル基、炭素原子数が２乃至６のアルコキシカルボニル基、炭素原子数が１乃至６のアミド基、炭素原子数が１乃至６のアルキルスルホニル基または炭素原子数が１乃至６のスルホンアミド基である。Ｒ^１およびＲ^２は、水素原子であることが特に好ましい。
式（III)において、Ｙは、−Ｏ−、−ＮＨ−、−Ｏ−ＣＯ−、−ＣＯ−Ｏ−、−ＮＨ−ＣＯ−、−ＣＯ−ＮＨ−、−ＮＨ−ＣＯ−Ｏ−および−Ｏ−ＣＯ−ＮＨ−からなる群より選ばれる二価の連結基である。 In formula (III), R ¹ and R ² are each independently a hydrogen atom, a halogen atom, nitro, cyano, an alkyl group having 1 to 6 carbon atoms, an aryl group having 6 to 13 carbon atoms, carbon A nitro-substituted aryl group having 6 to 13 atoms, an acyl group having 1 to 6 carbon atoms, an alkoxycarbonyl group having 2 to 6 carbon atoms, an amide group having 1 to 6 carbon atoms, and a carbon atom number An alkylsulfonyl group having 1 to 6 carbon atoms or a sulfonamide group having 1 to 6 carbon atoms; R ¹ and R ² are particularly preferably a hydrogen atom.
In the formula (III), Y represents —O—, —NH—, —O—CO—, —CO—O—, —NH—CO—, —CO—NH—, —NH—CO—O— and —. It is a divalent linking group selected from the group consisting of O—CO—NH—.

式（III)において、Ｌは、単結合または炭素原子数が１乃至２０のアルキレン基である。
式（III)において、Ｃｙは、三価の芳香族炭化水素環または三価の複素環基である。
式（III)において、ｐは、１、２または３である。
式（III)において、ｑは、０または１である。
式（III)に示される三個の部分構造は、互いに異なっていてもよい。 In the formula (III), L is a single bond or an alkylene group having 1 to 20 carbon atoms.
In the formula (III), Cy is a trivalent aromatic hydrocarbon ring or a trivalent heterocyclic group.
In the formula (III), p is 1, 2 or 3.
In the formula (III), q is 0 or 1.
The three partial structures represented by the formula (III) may be different from each other.

アクリドンオリゴマーは、下記式（IV）で表されるアクリドンテトラマーであることも好ましい。   The acridone oligomer is also preferably an acridone tetramer represented by the following formula (IV).

式（IV）において、Ｒ^１、Ｒ^２、Ｒ^３およびＲ^４は、それぞれ独立に、水素原子、ハロゲン原子、ニトロ、シアノ、炭素原子数が１乃至６のアルキル基、炭素原子数が６乃至１３のアリール基、炭素原子数が６乃至１３のニトロ置換アリール基、炭素原子数が１乃至６のアシル基、炭素原子数が２乃至６のアルコキシカルボニル基、炭素原子数が１乃至６のアミド基、炭素原子数が１乃至６のアルキルスルホニル基または炭素原子数が１乃至６のスルホンアミド基である。Ｒ^１、Ｒ^２、Ｒ^３およびＲ^４は、水素原子であることが特に好ましい。
式（IV）において、Ｙ^１、Ｙ^２、Ｙ^３およびＹ^４は、それぞれ独立に、−Ｏ−、−ＮＨ−、−Ｏ−ＣＯ−、−ＣＯ−Ｏ−、−ＮＨ−ＣＯ−、−ＣＯ−ＮＨ−、−ＮＨ−ＣＯ−Ｏ−および−Ｏ−ＣＯ−ＮＨ−からなる群より選ばれる二価の連結基である。 In the formula (IV), R ¹ , R ² , R ³ and R ⁴ each independently represent a hydrogen atom, a halogen atom, nitro, cyano, an alkyl group having 1 to 6 carbon atoms, or 6 to 6 carbon atoms. 13 aryl groups, nitro-substituted aryl groups having 6 to 13 carbon atoms, acyl groups having 1 to 6 carbon atoms, alkoxycarbonyl groups having 2 to 6 carbon atoms, amides having 1 to 6 carbon atoms Group, an alkylsulfonyl group having 1 to 6 carbon atoms, or a sulfonamide group having 1 to 6 carbon atoms. R ¹ , R ² , R ³ and R ⁴ are particularly preferably hydrogen atoms.
In formula (IV), Y ¹ , Y ² , Y ³ and Y ⁴ are each independently —O—, —NH—, —O—CO—, —CO—O—, —NH—CO—, — It is a divalent linking group selected from the group consisting of CO—NH—, —NH—CO—O— and —O—CO—NH—.

式（IV）において、Ｌ^１、Ｌ^２、Ｌ^４およびＬ^５は、それぞれ独立に、単結合または炭素原子数が１乃至２０のアルキレン基である。
式（IV）において、Ｃｙ^１およびＣｙ^２は、それぞれ独立に、三価の芳香族炭化水素環または三価の複素環基である。
式（IV）において、Ｌ^３は、炭素原子数が１乃至２０のアルキレン基である。
式（IV）において、ｐおよびｒは、それぞれ独立に、１、２または３である。
式（IV）において、ｑおよびｓは、それぞれ独立に、０または１である。
式（IV）において、式（IV）に示される四個の部分構造は、互いに異なっていてもよい。 In the formula (IV), L ¹ , L ² , L ⁴ and L ⁵ are each independently a single bond or an alkylene group having 1 to 20 carbon atoms.
In Formula (IV), Cy ¹ and Cy ² are each independently a trivalent aromatic hydrocarbon ring or a trivalent heterocyclic group.
In the formula (IV), L ³ is an alkylene group having 1 to 20 carbon atoms.
In the formula (IV), p and r are each independently 1, 2 or 3.
In the formula (IV), q and s are each independently 0 or 1.
In the formula (IV), the four partial structures shown in the formula (IV) may be different from each other.

以下に、アクリドンオリゴマーの例を示す。   Examples of acridone oligomers are shown below.

二種類以上のアクリドンオリゴマーを併用してもよい。アクリドンオリゴマーを他の増感剤（後述）と併用することもできる。
アクリドンオリゴマーの添加量は、感光性樹脂組成物の総量（溶媒を除く）の０．０５乃至３０質量％が好ましく、０．１乃至２０質量％がさらに好ましく、０．２乃至１０質量％が最も好ましい。 Two or more kinds of acridone oligomers may be used in combination. The acridone oligomer can be used in combination with other sensitizers (described later).
The addition amount of the acridone oligomer is preferably 0.05 to 30% by mass, more preferably 0.1 to 20% by mass, and 0.2 to 10% by mass based on the total amount of the photosensitive resin composition (excluding the solvent). Most preferred.

［バインダー］
感光性樹脂組成物に用いるバインダーは、アルカリ水溶液に可溶、あるいは少なくとも膨潤性を有することが好ましい。このようなバインダーの例としては、カルボキシル基を有するバインダーが代表的であり、例えばカルボキシル基含有ビニル共重合体、カルボキシル基含有ポリウレタン樹脂、ポリアミド酸樹脂、変性エポキシ樹脂などが好適に挙げられるが、塗布溶媒への溶解性、アルカリ現像液への溶解性、合成適性、膜物性の調整の容易さなどからカルボキシル基含有ビニル共重合体が特に好ましい。 [binder]
The binder used in the photosensitive resin composition is preferably soluble in an alkaline aqueous solution or at least swellable. Examples of such binders are typically binders having carboxyl groups, such as carboxyl group-containing vinyl copolymers, carboxyl group-containing polyurethane resins, polyamic acid resins, and modified epoxy resins. A carboxyl group-containing vinyl copolymer is particularly preferred from the standpoints of solubility in a coating solvent, solubility in an alkali developer, suitability for synthesis, and ease of adjustment of film properties.

カルボキシル基含有ビニル共重合体は少なくとも（１）カルボキシル基含有ビニルモノマー、及び（２）これらと共重合可能なモノマーの共重合で得られる。
カルボキシル基含有ビニルモノマーの例としては（メタ）アクリル酸、ビニル安息香酸、マレイン酸、イタコン酸、クロトン酸、桂皮酸、アクリル酸ダイマーなどが挙げられる。また２−ヒドロキシエチル（メタ）アクリレートなどの水酸基を有する単量体と無水マレイン酸や無水フタル酸、シクロヘキサンジカルボン酸無水物のような環状無水物との付加反応物、ω―カルボキシーポリカプロラクトンモノ（メタ）アクリレートなども利用できる。またカルボキシル基の前駆体として無水マレイン酸、無水イタコン酸などの無水物含有モノマーを用いてもよい。なおこれらの内では共重合性やコスト、溶解性などの観点から、（メタ）アクリル酸、２−ヒドロキシエチル（メタ）アクリレートなどの水酸基を有する単量体と無水マレイン酸や無水フタル酸、シクロヘキサンジカルボン酸無水物のような環状無水物との付加反応物がより好ましく、（メタ）アクリル酸が特に好ましい。 The carboxyl group-containing vinyl copolymer is obtained by copolymerization of at least (1) a carboxyl group-containing vinyl monomer, and (2) a monomer copolymerizable therewith.
Examples of the carboxyl group-containing vinyl monomer include (meth) acrylic acid, vinyl benzoic acid, maleic acid, itaconic acid, crotonic acid, cinnamic acid, and acrylic acid dimer. Further, an addition reaction product of a monomer having a hydroxyl group such as 2-hydroxyethyl (meth) acrylate and a cyclic anhydride such as maleic anhydride, phthalic anhydride, or cyclohexanedicarboxylic anhydride, ω-carboxypolycaprolactone mono (Meth) acrylate and the like can also be used. Moreover, you may use anhydride containing monomers, such as maleic anhydride and itaconic anhydride, as a precursor of a carboxyl group. Of these, from the viewpoints of copolymerizability, cost, solubility and the like, monomers having a hydroxyl group such as (meth) acrylic acid and 2-hydroxyethyl (meth) acrylate, maleic anhydride, phthalic anhydride, cyclohexane An addition reaction product with a cyclic anhydride such as dicarboxylic acid anhydride is more preferable, and (meth) acrylic acid is particularly preferable.

上記の共重合体の合成に用いることができるその他の共重合可能なモノマーとしてはカルボキシル基と反応性を有さないことが好ましい。この様なモノマーの例としては、例えば（メタ）アクリル酸エステル類、クロトン酸エステル類、ビニルエステル類、マレイン酸ジエステル類、フマル酸ジエステル類、イタコン酸ジエステル類、（メタ）アクリルアミド類、ビニルエーテル類、スチレン類、（メタ）アクリロニトリルなどが挙げられる。
この様な例としては、例えば以下の様な化合物が挙げられる。 The other copolymerizable monomer that can be used for the synthesis of the copolymer preferably has no reactivity with a carboxyl group. Examples of such monomers include (meth) acrylic acid esters, crotonic acid esters, vinyl esters, maleic acid diesters, fumaric acid diesters, itaconic acid diesters, (meth) acrylamides, vinyl ethers. , Styrenes, (meth) acrylonitrile and the like.
Examples of such a compound include the following compounds.

（メタ）アクリル酸エステル類の例としては、メチル（メタ）アクリレート、エチル（メタ）アクリレート、ｎ−プロピル（メタ）アクリレート、イソプロピル（メタ）アクリレート、ｎ−ブチル（メタ）アクリレート、イソブチル（メタ）アクリレート、ｔｅｒｔ−ブチル（メタ）アクリレート、ｎ−ヘキシル（メタ）アクリレート、シクロヘキシル（メタ）アクリレート、ｔｅｒｔ−ブチルシクロヘキシル（メタ）アクリレート、２−エチルヘキシル（メタ）アクリレート、アセトキシエチル（メタ）アクリレート、フェニル（メタ）アクリレート、２−ヒドロキシエチル（メタ）アクリレート、２−メトキシエチル（メタ）アクリレート、２−エトキシエチル（メタ）アクリレート、２−（２−メトキシエトキシ）エチル（メタ）アクリレート、３−フェノキシー２−ヒドロキシプロピル（メタ）アクリレート、ベンジル（メタ）アクリレート、ジエチレングリコールモノメチルエーテル（メタ）アクリレート、ジエチレングリコールモノエチルエーテル（メタ）アクリレート、ジエチレングリコールモノフェニルエーテル（メタ）アクリレート、トリエチレングリコールモノメチルエーテル（メタ）アクリレート、トリエチレングリコールモノエチルエーテル（メタ）アクリレート、ポリエチレングリコールモノメチルエーテル（メタ）アクリレート、ポリエチレングリコールモノエチルエーテル（メタ）アクリレート、β−フェノキシエトキシエチルアクリレート、ノニルフェノキシポリエチレングリコール（メタ）アクリレート、ジシクロペンタニル（メタ）アクリレート、ジシクロペンテニル（メタ）アクリレート、ジシクロペンテニルオキシエチル（メタ）アクリレート、トリフロロエチル（メタ）アクリレート、オクタフロロペンチル（メタ）アクリレート、パーフロロオクチルエチル（メタ）アクリレート、トリブロモフェニル（メタ）アクリレート、トリブロモフェニルオキシエチル（メタ）アクリレートなどが挙げられる。   Examples of (meth) acrylic acid esters include methyl (meth) acrylate, ethyl (meth) acrylate, n-propyl (meth) acrylate, isopropyl (meth) acrylate, n-butyl (meth) acrylate, and isobutyl (meth). Acrylate, tert-butyl (meth) acrylate, n-hexyl (meth) acrylate, cyclohexyl (meth) acrylate, tert-butylcyclohexyl (meth) acrylate, 2-ethylhexyl (meth) acrylate, acetoxyethyl (meth) acrylate, phenyl ( (Meth) acrylate, 2-hydroxyethyl (meth) acrylate, 2-methoxyethyl (meth) acrylate, 2-ethoxyethyl (meth) acrylate, 2- (2-methoxyethoxy) ethyl (meth) acrylate Rate, 3-phenoxy-2-hydroxypropyl (meth) acrylate, benzyl (meth) acrylate, diethylene glycol monomethyl ether (meth) acrylate, diethylene glycol monoethyl ether (meth) acrylate, diethylene glycol monophenyl ether (meth) acrylate, triethylene glycol Monomethyl ether (meth) acrylate, triethylene glycol monoethyl ether (meth) acrylate, polyethylene glycol monomethyl ether (meth) acrylate, polyethylene glycol monoethyl ether (meth) acrylate, β-phenoxyethoxyethyl acrylate, nonylphenoxy polyethylene glycol (meta ) Acrylate, dicyclopentanyl (meth) acrelane Dicyclopentenyl (meth) acrylate, dicyclopentenyloxyethyl (meth) acrylate, trifluoroethyl (meth) acrylate, octafluoropentyl (meth) acrylate, perfluorooctylethyl (meth) acrylate, tribromophenyl (meth) ) Acrylate, tribromophenyloxyethyl (meth) acrylate, and the like.

クロトン酸エステル類の例としては、クロトン酸ブチル、及びクロトン酸ヘキシル等が挙げられる。ビニルエステル類の例としては、ビニルアセテート、ビニルプロピオネート、ビニルブチレート、ビニルメトキシアセテート、及び安息香酸ビニルなどが挙げられる。   Examples of crotonic acid esters include butyl crotonate and hexyl crotonate. Examples of vinyl esters include vinyl acetate, vinyl propionate, vinyl butyrate, vinyl methoxyacetate, vinyl benzoate, and the like.

マレイン酸ジエステル類の例としては、マレイン酸ジメチル、マレイン酸ジエチル、及びマレイン酸ジブチルなどが挙げられる。フマル酸ジエステル類の例としては、フマル酸ジメチル、フマル酸ジエチル、及びフマル酸ジブチルなどが挙げられる。イタコン酸ジエステル類の例としては、イタコン酸ジメチル、イタコン酸ジエチル、及びイタコン酸ジブチルなどが挙げられる。   Examples of maleic acid diesters include dimethyl maleate, diethyl maleate, and dibutyl maleate. Examples of the fumaric acid diesters include dimethyl fumarate, diethyl fumarate, and dibutyl fumarate. Examples of itaconic acid diesters include dimethyl itaconate, diethyl itaconate, and dibutyl itaconate.

（メタ）アクリルアミド類としては、（メタ）アクリルアミド、Ｎ−メチル（メタ）アクリルアミド、Ｎ−エチル（メタ）アクリルアミド、Ｎ−プロピル（メタ）アクリルアミド、Ｎ−nブチルアクリル（メタ）アミド、Ｎ−ｔｅｒｔブチル（メタ）アクリルアミド、Ｎ−シクロヘキシル（メタ）アクリルアミド、Ｎ−（２−メトキシエチル）（メタ）アクリルアミド、Ｎ，Ｎ−ジメチル（メタ）アクリルアミド、Ｎ，Ｎ−ジエチル（メタ）アクリルアミド、Ｎ−フェニル（メタ）アクリルアミド、Ｎ−ベンジル（メタ）アクリルアミド、（メタ）アクリロイルモルフォリンなどが挙げられる。   Examples of (meth) acrylamides include (meth) acrylamide, N-methyl (meth) acrylamide, N-ethyl (meth) acrylamide, N-propyl (meth) acrylamide, Nn butylacryl (meth) amide, N-tert. Butyl (meth) acrylamide, N-cyclohexyl (meth) acrylamide, N- (2-methoxyethyl) (meth) acrylamide, N, N-dimethyl (meth) acrylamide, N, N-diethyl (meth) acrylamide, N-phenyl (Meth) acrylamide, N-benzyl (meth) acrylamide, (meth) acryloylmorpholine, etc. are mentioned.

スチレン類の例としては、スチレン、メチルスチレン、ジメチルスチレン、トリメチルスチレン、エチルスチレン、イソプロピルスチレン、ブチルスチレン、ヒドロキシスチレン、メトキシスチレン、ブトキシスチレン、アセトキシスチレン、クロロスチレン、ジクロロスチレン、ブロモスチレン、クロロメチルスチレン、ビニル安息香酸メチル、及びα−メチルスチレンなどが挙げられる。ビニルエーテル類の例としては、メチルビニルエーテル、ブチルビニルエーテル、ヘキシルビニルエーテル、及びメトキシエチルビニルエーテルなどが挙げられる。   Examples of styrenes include styrene, methyl styrene, dimethyl styrene, trimethyl styrene, ethyl styrene, isopropyl styrene, butyl styrene, hydroxy styrene, methoxy styrene, butoxy styrene, acetoxy styrene, chlorostyrene, dichlorostyrene, bromostyrene, chloromethyl Examples include styrene, methyl vinylbenzoate, and α-methylstyrene. Examples of vinyl ethers include methyl vinyl ether, butyl vinyl ether, hexyl vinyl ether, and methoxyethyl vinyl ether.

この他に、（メタ）アクリロニトリル、ビニルピリジン、ビニルピロリドン、ビニルカルバゾール、Ｎ−ビニルホルムアミド、Ｎ−ビニルアセトアミド、Ｎ−ビニルイミダゾール、ビニルカプロラクトン等も使用できる。また２−アクリルアミドー２−メチルプロパンスルホン酸、２−ヒドロキシエチルアクリロイルホスフェート、２−ヒドロキシプロピルアクリロイルホスフェートなども利用できる。   In addition, (meth) acrylonitrile, vinyl pyridine, vinyl pyrrolidone, vinyl carbazole, N-vinyl formamide, N-vinyl acetamide, N-vinyl imidazole, vinyl caprolactone, and the like can also be used. Further, 2-acrylamido-2-methylpropanesulfonic acid, 2-hydroxyethyl acryloyl phosphate, 2-hydroxypropyl acryloyl phosphate and the like can be used.

またこれら以外に例えばウレタン基、ウレア基、スルホンアミド基、フェノール基、イミド基などの官能基を有するビニルモノマーも用いることが出来る。
この様なモノマーとして、ウレタン基、又はウレア基を有するモノマーとしては例えばイソシアナート基と水酸基、又はアミノ基の付加反応を利用して、適宜合成することが可能である。具体的には、イソシアナート基含有モノマーと水酸基を１ヶ含有の化合物又は１級あるいは２級アミノ基を１ヶ含有の化合物との付加反応、又は水酸基含有モノマー又は１級あるいは２級アミノ基含有モノマーとモノイソシアネートとの付加反応等により適宜合成することができる。 In addition to these, vinyl monomers having a functional group such as a urethane group, a urea group, a sulfonamide group, a phenol group, and an imide group can also be used.
As such a monomer, a monomer having a urethane group or a urea group can be appropriately synthesized using, for example, an addition reaction between an isocyanate group and a hydroxyl group or an amino group. Specifically, an addition reaction between an isocyanate group-containing monomer and a compound containing one hydroxyl group or a compound containing one primary or secondary amino group, or a hydroxyl group-containing monomer or primary or secondary amino group containing It can be appropriately synthesized by an addition reaction between a monomer and monoisocyanate.

イソシアナート基含有モノマーの具体例としては、例えば下記のような化合物が挙げられる（Ｒ^１は水素原子又はメチル基を表す）。 Specific examples of the isocyanate group-containing monomer include the following compounds (R ¹ represents a hydrogen atom or a methyl group).

モノイソシアネートの具体例としては、例えば、シクロヘキシルイソシアネート、ｎ−ブチルイソシアネート、トルイルイソシアネート、フェニルイソシアネート等が挙げられる。
水酸基含有モノマーの具体例としては、例えば、下記のような化合物が挙げられる（Ｒ^１は水素原子又はメチル基を表し、ｎは１以上の整数を表す）。 Specific examples of the monoisocyanate include cyclohexyl isocyanate, n-butyl isocyanate, toluyl isocyanate, and phenyl isocyanate.
Specific examples of the hydroxyl group-containing monomer include the following compounds (R ¹ represents a hydrogen atom or a methyl group, and n represents an integer of 1 or more).

水酸基を１ヶ含有の化合物としては、アルコール類（メタノール、エタノール、ｎ−プロパノール、ｉ−プロパノール、ｎ−ブタノール、ｓｅｃ−ブタノール、ｔ−ブタノール、ｎ−ヘキサノール、２−エチルヘキサノール、ｎ−デカノール、ｎ−ドデカノール、ｎ−オクタデカノール、シクロペンタノール、シクロへキサノール、ベンジルアルコール、フェニルエチルアルコール等）、フェノール類（フェノール、クレゾール、ナフチルアルコール等）、更に置換基を含むものとして、フロロエタノール、トリフロロエタノール、メトキシエタノール、フェノキシエタノール、クロロフェノール、ジクロロフェノール、メトキシフェノール、アセトキシフェノール等も挙げられる。   Examples of the compound containing one hydroxyl group include alcohols (methanol, ethanol, n-propanol, i-propanol, n-butanol, sec-butanol, t-butanol, n-hexanol, 2-ethylhexanol, n-decanol, n-dodecanol, n-octadecanol, cyclopentanol, cyclohexanol, benzyl alcohol, phenylethyl alcohol, etc.), phenols (phenol, cresol, naphthyl alcohol, etc.), and further containing a substituent such as fluoroethanol, Examples also include trifluoroethanol, methoxyethanol, phenoxyethanol, chlorophenol, dichlorophenol, methoxyphenol, and acetoxyphenol.

１級あるいは２級アミノ基含有モノマーの例としては例えばビニルベンジルアミンなどが挙げられる。   Examples of the primary or secondary amino group-containing monomer include, for example, vinylbenzylamine.

１級あるいは２級アミノ基を１ヶ含有の化合物の具体例としては、アルキルアミン（メチルアミン、エチルアミン、ｎ−プロピルアミン、ｉ―プロピルアミン、ｎ−ブチルアミン、ｓｅｃ−ブチルアミン、ｔ−ブチルアミン、ヘキシルアミン、２−エチルヘキシルアミン、デシルアミン、ドデシルアミン、オクタデシルアミン、ジメチルアミン、ジエチルアミン、ジブチルアミン）、環状アルキルアミン（シクロペンチルアミン、シクロへキシルアミン等）、アラルキルアミン（ベンジルアミン、フェネチルアミン等）、アリールアミン（アニリン、トルイルアミン、キシリルアミン、ナフチルアミン等）、更にこれらの組合せ（Ｎ−メチルーＮ−ベンジルアミン等）、更に置換基を含むアミン（トリフロロエチルアミン、ヘキサフロロイソプロピルアミン、メトキシアニリン、メトキシプロピルアミン等）等が挙げられる。   Specific examples of the compound containing one primary or secondary amino group include alkylamines (methylamine, ethylamine, n-propylamine, i-propylamine, n-butylamine, sec-butylamine, t-butylamine, hexyl). Amine, 2-ethylhexylamine, decylamine, dodecylamine, octadecylamine, dimethylamine, diethylamine, dibutylamine), cyclic alkylamine (cyclopentylamine, cyclohexylamine, etc.), aralkylamine (benzylamine, phenethylamine, etc.), arylamine ( Aniline, toluylamine, xylylamine, naphthylamine, etc.), combinations thereof (N-methyl-N-benzylamine, etc.), and further amines containing substituents (trifluoroethylamine, hexafluoroiso) Ropiruamin, methoxyaniline, and methoxy propylamine, etc.) and the like.

これらの化合物は１種のみでも、また２種以上を併用しても良い。   These compounds may be used alone or in combination of two or more.

その他のモノマーとしては、メチル（メタ）アクリレート、エチル（メタ）アクリレート、ｎ−ブチル（メタ）アクリレート、ｔｅｒｔ−ブチル（メタ）アクリレート、シクロヘキシル（メタ）アクリレート、ｔｅｒｔ−ブチルシクロヘキシル（メタ）アクリレート、２−エチルヘキシル（メタ）アクリレート、２−ヒドロキシエチル（メタ）アクリレート、ベンジル（メタ）アクリレート、スチレン、メチルスチレン、ヒドロキシスチレン、メトキシスチレン、クロロスチレン、ブロモスチレン、（メタ）アクリロニトリル、２−アクリルアミド−２−メチルプロパンスルホン酸、２−ヒドロキシエチルアクリロイルホスフェート、２−ヒドロキシプロピルアクリロイルホスフェートなどが好ましく、メチル（メタ）アクリレート、エチル（メタ）アクリレート、ｎ−ブチル（メタ）アクリレート、ｔｅｒｔ−ブチル（メタ）アクリレート、シクロヘキシル（メタ）アクリレート、２−エチルヘキシル（メタ）アクリレート、ベンジル（メタ）アクリレート、スチレン、メチルスチレン、ヒドロキシスチレン、クロロスチレン、ブロモスチレン、（メタ）アクリロニトリルなどがより好ましく、メチル（メタ）アクリレート、エチル（メタ）アクリレート、ｎ−ブチル（メタ）アクリレート、２−エチルヘキシル（メタ）アクリレート、ベンジル（メタ）アクリレート、スチレン、ヒドロキシスチレン、クロロスチレン、ブロモスチレンなどが特に好ましい。
この様なビニル共重合体はそれぞれ相当するモノマーを公知の方法で常法に従って共重合させることで得られる。例えばこれらのモノマーを適当な溶媒中に溶解し、ここにラジカル重合開始剤を添加して溶液中で重合させる方法（溶液重合法）を利用して得られる。また水性媒体中に上記のモノマーを分散させた状態で、いわゆる乳化重合等で重合を行っても良い。 Other monomers include methyl (meth) acrylate, ethyl (meth) acrylate, n-butyl (meth) acrylate, tert-butyl (meth) acrylate, cyclohexyl (meth) acrylate, tert-butylcyclohexyl (meth) acrylate, 2 -Ethylhexyl (meth) acrylate, 2-hydroxyethyl (meth) acrylate, benzyl (meth) acrylate, styrene, methylstyrene, hydroxystyrene, methoxystyrene, chlorostyrene, bromostyrene, (meth) acrylonitrile, 2-acrylamide-2- Preferred are methylpropane sulfonic acid, 2-hydroxyethyl acryloyl phosphate, 2-hydroxypropyl acryloyl phosphate, methyl (meth) acrylate, ethyl (Meth) acrylate, n-butyl (meth) acrylate, tert-butyl (meth) acrylate, cyclohexyl (meth) acrylate, 2-ethylhexyl (meth) acrylate, benzyl (meth) acrylate, styrene, methylstyrene, hydroxystyrene, chlorostyrene , Bromostyrene, (meth) acrylonitrile and the like are more preferable, methyl (meth) acrylate, ethyl (meth) acrylate, n-butyl (meth) acrylate, 2-ethylhexyl (meth) acrylate, benzyl (meth) acrylate, styrene, hydroxy Styrene, chlorostyrene, bromostyrene and the like are particularly preferable.
Such a vinyl copolymer can be obtained by copolymerizing corresponding monomers according to a conventional method in accordance with a conventional method. For example, it can be obtained by using a method (solution polymerization method) in which these monomers are dissolved in a suitable solvent and a radical polymerization initiator is added thereto to polymerize in a solution. Further, polymerization may be carried out by so-called emulsion polymerization or the like in a state where the above monomer is dispersed in an aqueous medium.

溶液重合法で用いられる適当な溶媒の例としては、用いるモノマー、及び生成する共重合体の溶解性に応じて任意に選択できる。例えば、メタノール、エタノール、プロパノール、イソプロパノール、１−メトキシ−２−プロパノール、アセトン、メチルエチルケトン、メチルイソブチルケトン、メトキシプロピルアセテート、乳酸エチル、酢酸エチル、アセトニトリル、テトラヒドロフラン、ジメチルホルムアミド、クロロホルム、トルエンが挙げられる。これらの溶媒は、二種以上を混合して使用してもよい。また、ラジカル重合開始剤としては、２，２’−アゾビス（イソブチロニトリル）（ＡＩＢＮ）、２，２’−アゾビス−（２，４’−ジメチルバレロニトリル）の様なアゾ化合物、ベンゾイルパーオキシドの様な過酸化物、及び過硫酸塩などが利用できる。   Examples of suitable solvents used in the solution polymerization method can be arbitrarily selected depending on the monomers used and the solubility of the copolymer to be produced. For example, methanol, ethanol, propanol, isopropanol, 1-methoxy-2-propanol, acetone, methyl ethyl ketone, methyl isobutyl ketone, methoxypropyl acetate, ethyl lactate, ethyl acetate, acetonitrile, tetrahydrofuran, dimethylformamide, chloroform, and toluene can be mentioned. These solvents may be used as a mixture of two or more. Examples of radical polymerization initiators include azo compounds such as 2,2′-azobis (isobutyronitrile) (AIBN) and 2,2′-azobis- (2,4′-dimethylvaleronitrile), benzoyl par Peroxides such as oxides and persulfates can be used.

これらのモノマーから得られるビニル共重合体中のカルボキシル基を有する重合性モノマーに由来の繰り返し単位の含有率は、共重合体の全繰り返し単位中の１０〜４５モル％が好ましく、更に好ましくは１５〜４０モル％であり、２０〜４０モル％が特に好ましい。該含有率が１０モル％未満であるとアルカリ水への現像性が不足する場合があり、４５モル％を越えると硬化部（画像部）の現像液耐性が不足する場合がある。   The content of the repeating unit derived from the polymerizable monomer having a carboxyl group in the vinyl copolymer obtained from these monomers is preferably 10 to 45 mol%, more preferably 15 in the total repeating units of the copolymer. -40 mol%, and 20-40 mol% is especially preferable. If the content is less than 10 mol%, the developability to alkaline water may be insufficient, and if it exceeds 45 mol%, the developer resistance of the cured portion (image portion) may be insufficient.

またカルボキシル基を有するバインダーの分子量は任意に調整が可能であるが、質量平均分子量として２０００〜３０００００が好ましく、４０００〜１５００００が特に好ましい。質量平均分子量が２０００未満であると膜の強度が不足すること、また安定な製造が困難になる傾向にある。また分子量が３０００００を超えると現像性が低下する傾向にある。更にカルボキシル基を有するバインダーのガラス転移温度（Ｔｇ）は、任意に調整が可能であるが、４０℃〜２００℃が好ましく、５５℃〜１６５℃がより好ましく、７０〜１５０℃が特に好ましい。Ｔｇが４０℃未満であると、感光性転写シートとして用いた場合に、ベタツキが生じたり、保存時のエッジフュージョン（ロール端部からのしみだし故障）が生じたりする傾向にある。またＴｇが２００℃を超えると、感光性樹脂組成物の粘度が高く取扱いが困難になったり、感光性転写シートとして用いた場合のラミネート性が低下する傾向にある。
これらのカルボキシル基を有するバインダーは１種でも２種以上のバインダーを併用してもよい。 Moreover, although the molecular weight of the binder which has a carboxyl group can be adjusted arbitrarily, 2000-300000 are preferable as a mass mean molecular weight, and 4000-150,000 are especially preferable. When the mass average molecular weight is less than 2000, the strength of the film is insufficient, and stable production tends to be difficult. On the other hand, if the molecular weight exceeds 300,000, the developability tends to decrease. Furthermore, although the glass transition temperature (Tg) of the binder which has a carboxyl group can be adjusted arbitrarily, 40 to 200 degreeC is preferable, 55 to 165 degreeC is more preferable, and 70 to 150 degreeC is especially preferable. If the Tg is less than 40 ° C., stickiness may occur when used as a photosensitive transfer sheet, or edge fusion during storage (exudation failure from the end of the roll) tends to occur. On the other hand, if Tg exceeds 200 ° C., the viscosity of the photosensitive resin composition is high, making it difficult to handle, and the laminate properties when used as a photosensitive transfer sheet tend to be lowered.
These binders having a carboxyl group may be used alone or in combination of two or more binders.

該カルボキシル基を有するバインダーの感光性樹脂組成物中の含有量は、感光性樹脂組成物の総量（溶媒を除く）の３０〜９０質量％であり、好ましくは４０〜８０質量％であり、特に好ましくは４５〜６５質量％である。該カルボキシル基を有するバインダー（及び必要に応じて併用される高分子結合剤）の含有量が少ないと、アルカリ現像性が低下する傾向があり、逆に多くなり過ぎると、現像時間に対する安定性や硬化膜（テント膜）の強度が低下する傾向にある。   The content of the binder having a carboxyl group in the photosensitive resin composition is 30 to 90% by mass, preferably 40 to 80% by mass, particularly 40 to 80% by mass, based on the total amount of the photosensitive resin composition (excluding the solvent). Preferably it is 45-65 mass%. If the content of the binder having a carboxyl group (and a polymer binder used in combination as needed) is small, the alkali developability tends to decrease. Conversely, if the content is too large, The strength of the cured film (tent film) tends to decrease.

［重合性化合物］
感光層には、重合性化合物（いわゆるモノマー）を用いるが、特に重合性基を２個以上含有するモノマー、あるいはオリゴマー（多官能モノマー、多官能オリゴマー）を用いることが好ましい。重合性基としてはエチレン性不飽和結合（例えば（メタ）アクリロイル基、（メタ）アクリルアミド基、スチリル基、ビニルエステルやビニルエーテルなどのビニル基、アリルエーテルやアリルエステルなどのアリル基など）、重合可能な環状エーテル基（例えばエポキシ基、オキセタン基など）などが挙げられる。これらの内でエチレン性不飽和結合が好ましい。 [Polymerizable compound]
A polymerizable compound (so-called monomer) is used for the photosensitive layer, and it is particularly preferable to use a monomer or oligomer (polyfunctional monomer or polyfunctional oligomer) containing two or more polymerizable groups. As the polymerizable group, an ethylenically unsaturated bond (for example, (meth) acryloyl group, (meth) acrylamide group, styryl group, vinyl group such as vinyl ester and vinyl ether, allyl group such as allyl ether and allyl ester), and the like can be polymerized. And cyclic ether groups (for example, epoxy groups, oxetane groups, etc.). Of these, ethylenically unsaturated bonds are preferred.

このような多官能モノマーの例としては、不飽和カルボン酸（例えば、アクリル酸、メタクリル酸、イタコン酸、クロトン酸、イソクロトン酸、マレイン酸など）と脂肪族多価アルコール化合物とのエステル、不飽和カルボン酸と多価アミン化合物とのアミド等があげられる。   Examples of such polyfunctional monomers include esters of unsaturated carboxylic acids (eg, acrylic acid, methacrylic acid, itaconic acid, crotonic acid, isocrotonic acid, maleic acid, etc.) with aliphatic polyhydric alcohol compounds, unsaturated Examples include amides of carboxylic acids and polyvalent amine compounds.

脂肪族多価アルコール化合物と不飽和カルボン酸とのエステルのモノマーの具体例としては、（メタ）アクリル酸エステルとして、エチレングリコールジ（メタ）アクリレート、エチレン基の数が２〜１８であるポリエチレングリコールジ（メタ）アクリレート（たとえばジエチレングリコールジ（メタ）アクリレート、トリエチレングリコールジ（メタ）アクリレート、テトラエチレングリコールジ（メタ）アクリレート、ノナエチレングリコールジ（メタ）アクリレート、ドデカエチレングリコールジ（メタ）アクリレート、テトラデカエチレングリコールジ（メタ）アクリレートなど）、プロピレングリコールジ（メタ）アクリレート、プロピレン基の数が２から１８であるポリプロピレングリコールジ（メタ）アクリレート（たとえばジプロピレングリコールジ（メタ）アクリレート、トリプロピレングリコールジ（メタ）アクリレート、テトラプロピレングリコールジ（メタ）アクリレート、ドデカプロピレングリコールジ（メタ）アクリレートなど）、ネオペンチルグリコールジ（メタ）アクリレート、エチレンオキシド変性ネオペンチルグリコールジ（メタ）アクリレート、プロピレンオキシド変性ネオペンチルグリコールジ（メタ）アクリレート、トリメチロールプロパントリ（メタ）アクリレート、トリメチロールプロパンジ（メタ）アクリレート、トリメチロールプロパントリ（（メタ）アクリロイルオキシプロピル）エーテル、トリメチロールエタントリ（メタ）アクリレート、１，３−プロパンジオールジ（メタ）アクリレート、１，３−ブタンジオールジ（メタ）アクリレート、１，４−ブタンジオールジ（メタ）アクリレート、１，６−ヘキサンジオールジ（メタ）アクリレート、テトラメチレングリコールジ（メタ）アクリレート、１，４−シクロヘキサンジオールジ（メタ）アクリレート、１，２，４−ブタントリオールトリ（メタ）アクリレート、１，５−ぺンタンジオール（メタ）アクリレート、ペンタエリスリトールジ（メタ）アクリレート、ペンタエリスリトールトリ（メタ）アクリレート、ペンタエリスリトールテトラ（メタ）アクリレート、ジペンタエリスリトールペンタ（メタ）アクリレート、ジペンタエリスリトールヘキサ（メタ）アクリレート、ソルビトールトリ（メタ）アクリレート、ソルビトールテトラ（メタ）アクリレート、ソルビトールペンタ（メタ）アクリレート、ソルビトールヘキサ（メタ）アクリレート、ジメチロールジシクロペンタンジ（メタ）アクリレート、トリシクロデカンジ（メタ）アクリレート、ネオペンチルグリコールジ（メタ）アクリレート、ネオペンチルグリコール変性トリメチロールプロパンジ（メタ）アクリレート、エチレングリコール鎖／プロピレングリコール鎖を少なくとも各々一つずつ有するアルキレングリコール鎖のジ（メタ）アクリレート（たとえばＷＯ０１/９８８３２号公報に記載の化合物など）、エチレンオキサイド及び／又はプロピレンオキサイドを付加したトリメチロールプロパンのトリ（メタ）アクリル酸エステル、ポリブチレングリコールジ（メタ）アクリレート、グリセリンジ（メタ）アクリレート、グリセリントリ（メタ）アクリレート、キシレノールジ（メタ）アクリレート等がある。   Specific examples of the ester monomer of an aliphatic polyhydric alcohol compound and an unsaturated carboxylic acid include (meth) acrylic acid ester, ethylene glycol di (meth) acrylate, and polyethylene glycol having 2 to 18 ethylene groups. Di (meth) acrylate (for example, diethylene glycol di (meth) acrylate, triethylene glycol di (meth) acrylate, tetraethylene glycol di (meth) acrylate, nonaethylene glycol di (meth) acrylate, dodecaethylene glycol di (meth) acrylate, Tetradecaethylene glycol di (meth) acrylate), propylene glycol di (meth) acrylate, polypropylene glycol di (meth) acrylate having 2 to 18 propylene groups (for example, Dipropylene glycol di (meth) acrylate, tripropylene glycol di (meth) acrylate, tetrapropylene glycol di (meth) acrylate, dodecapropylene glycol di (meth) acrylate, etc.), neopentyl glycol di (meth) acrylate, ethylene oxide modified neo Pentyl glycol di (meth) acrylate, propylene oxide modified neopentyl glycol di (meth) acrylate, trimethylolpropane tri (meth) acrylate, trimethylolpropane di (meth) acrylate, trimethylolpropane tri ((meth) acryloyloxypropyl) Ether, trimethylolethane tri (meth) acrylate, 1,3-propanediol di (meth) acrylate, 1,3-butanediol (Meth) acrylate, 1,4-butanediol di (meth) acrylate, 1,6-hexanediol di (meth) acrylate, tetramethylene glycol di (meth) acrylate, 1,4-cyclohexanediol di (meth) acrylate, 1,2,4-butanetriol tri (meth) acrylate, 1,5-pentanediol (meth) acrylate, pentaerythritol di (meth) acrylate, pentaerythritol tri (meth) acrylate, pentaerythritol tetra (meth) acrylate, Dipentaerythritol penta (meth) acrylate, dipentaerythritol hexa (meth) acrylate, sorbitol tri (meth) acrylate, sorbitol tetra (meth) acrylate, sorbitol penta (meth) acrylate Rate, sorbitol hexa (meth) acrylate, dimethylol dicyclopentane di (meth) acrylate, tricyclodecane di (meth) acrylate, neopentyl glycol di (meth) acrylate, neopentyl glycol modified trimethylolpropane di (meth) acrylate , An alkylene glycol chain di (meth) acrylate having at least one ethylene glycol chain / propylene glycol chain (for example, compounds described in WO01 / 98832), ethylene oxide and / or trimethylol to which propylene oxide is added Propane tri (meth) acrylate, polybutylene glycol di (meth) acrylate, glycerin di (meth) acrylate, glycerin tri (meth) acrylate, key Examples include silenol di (meth) acrylate.

上記の（メタ）アクリル酸エステル類の中でも好ましい例としては、その入手の容易さから、エチレングリコールジ（メタ）アクリレート、ポリエチレングリコールジ（メタ）アクリレート、プロピレングリコールジ（メタ）アクリレート、ポリプロピレングリコールジ（メタ）アクリレート、エチレングリコール鎖／プロピレングリコール鎖を少なくとも各々一つずつ有するアルキレングリコール鎖のジ（メタ）アクリレート、トリメチロールプロパントリ（メタ）アクリレート、ペンタエリスリトールテトラ（メタ）アクリレート、ペンタエリスリトールトリアクリレート、ペンタエリスリトールジ（メタ）アクリレート、ジペンタエリスリトールペンタ（メタ）アクリレート、ジペンタエリスリトールヘキサ（メタ）アクリレート、グリセリントリ（メタ）アクリレート、ジグリセリンジ（メタ）アクリレート、１，３−プロパンジオールジ（メタ）アクリレート、１，２，４−ブタントリオールトリ（メタ）アクリレート、１，４−シクロヘキサンジオールジ（メタ）アクリレート、１，５−ペンタンジオール（メタ）アクリレート、ネオペンチルグリコールジ（メタ）アクリレート、エチレンオキサイド付加したトリメチロールプロパンのトリ（メタ）アクリル酸エステル等を挙げることができる。   Among the above (meth) acrylic acid esters, preferred examples include ethylene glycol di (meth) acrylate, polyethylene glycol di (meth) acrylate, propylene glycol di (meth) acrylate, and polypropylene glycol diene because of their availability. (Meth) acrylate, di (meth) acrylate of alkylene glycol chain having at least one ethylene glycol chain / propylene glycol chain, trimethylolpropane tri (meth) acrylate, pentaerythritol tetra (meth) acrylate, pentaerythritol triacrylate , Pentaerythritol di (meth) acrylate, dipentaerythritol penta (meth) acrylate, dipentaerythritol hexa (meth) acrylate, g Serine tri (meth) acrylate, diglycerin di (meth) acrylate, 1,3-propanediol di (meth) acrylate, 1,2,4-butanetriol tri (meth) acrylate, 1,4-cyclohexanediol di (meth) acrylate, Examples include 1,5-pentanediol (meth) acrylate, neopentyl glycol di (meth) acrylate, and tri (meth) acrylic acid ester of trimethylolpropane added with ethylene oxide.

イタコン酸と脂肪族多価アルコール化合物とのエステル（イタコン酸エステル）の例としては、エチレングリコールジイタコネート、プロピレングリコールジイタコネート、１，３−ブタンジオールジイタコネート、１，４ーブタンジオールジイタコネート、テトラメチレングリコールジイタコネート、ペンタエリスリトールジイタコネート、及びソルビトールテトライタコネート等がある。   Examples of esters of itaconic acid and aliphatic polyhydric alcohol compounds (itaconic acid esters) include ethylene glycol diitaconate, propylene glycol diitaconate, 1,3-butanediol diitaconate, and 1,4-butanediol. Examples include diitaconate, tetramethylene glycol diitaconate, pentaerythritol diitaconate, and sorbitol tetritaconate.

クロトン酸と脂肪族多価アルコール化合物とのエステル（クロトン酸エステル）の例としては、エチレングリコールジクロトネート、テトラメチレングリコールジクロトネート、ペンタエリスリトールジクロトネート、及びソルビトールテトラジクロトネート等がある。   Examples of esters of crotonic acid and aliphatic polyhydric alcohol compounds (crotonate esters) include ethylene glycol dicrotonate, tetramethylene glycol dicrotonate, pentaerythritol dicrotonate, and sorbitol tetradicrotonate. .

イソクロトン酸と脂肪族多価アルコール化合物とのエステル（イソクロトン酸エステル）の例としては、エチレングリコールジイソクロトネート、ペンタエリスリトールジイソクロトネート、及びソルビトールテトライソクロトネート等がある。マレイン酸と脂肪族多価アルコール化合物とのエステル（マレイン酸エステル）の例としては、エチレングリコールジマレート、トリエチレングリコールジマレート、ペンタエリスリトールジマレート、及びソルビトールテトラマレート等がある。   Examples of esters of isocrotonic acid and aliphatic polyhydric alcohol compounds (isocrotonate) include ethylene glycol diisocrotonate, pentaerythritol diisocrotonate, and sorbitol tetraisocrotonate. Examples of esters of maleic acid and aliphatic polyhydric alcohol compounds (maleic acid esters) include ethylene glycol dimaleate, triethylene glycol dimaleate, pentaerythritol dimaleate, and sorbitol tetramaleate.

また、多価アミン化合物と不飽和カルボン酸類から誘導されるアミドの例としては、メチレンビス（メタ）アクリルアミド、エチレンビス（メタ）アクリルアミド、１，６−ヘキサメチレンビス（メタ）アクリルアミド、オクタメチレンビス（メタ）アクリルアミド、ジエチレントリアミントリス（メタ）アクリルアミド、ジエチレントリアミンビス（メタ）アクリルアミド、及びキシリレンビス（メタ）アクリルアミド等がある。   Examples of amides derived from polyvalent amine compounds and unsaturated carboxylic acids include methylene bis (meth) acrylamide, ethylene bis (meth) acrylamide, 1,6-hexamethylene bis (meth) acrylamide, octamethylene bis ( Examples include meth) acrylamide, diethylenetriamine tris (meth) acrylamide, diethylenetriamine bis (meth) acrylamide, and xylylene bis (meth) acrylamide.

更に、ビスフェノール骨格を有する２，２−ビス［４−（３−（メタ）アクリルオキシ−２−ヒドロキシプロポキシ）フェニル］プロパン、２，２−ビス［４−（（メタ）アクリルオキシエトキシ）フェニル］プロパン、フェノール性のＯＨ基１個に置換したエチレンオキシ基の数が２から２０の２，２−ビス（４−（（メタ）アクリロイルオキシポリエトキシ）フェニル）プロパン（例えば２，２−ビス（４−（（メタ）アクリロイルオキシジエトキシ）フェニル）プロパン、２，２−ビス（４−（（メタ）アクリロイルオキシテトラエトキシ）フェニル）プロパン、２，２−ビス（４−（（メタ）アクリロイルオキシペンタエトキシ）フェニル）プロパン、２，２−ビス（４−（（メタ）アクリロイルオキシデカエトキシ）フェニル）プロパン、２，２−ビス（４−（（メタ）アクリロイルオキシペンタデカエトキシ）フェニル）プロパンなど）、２，２−ビス［４−（（メタ）アクリルオキシプロポキシ）フェニル］プロパン、フェノール性のＯＨ基１個に置換したプロピレンオキシ基の数が２から２０の２，２−ビス（４−（（メタ）アクリロイルオキシポリプロポキシ）フェニル）プロパン（例えば２，２−ビス（４−（（メタ）アクリロイルオキシジプロポキシ）フェニル）プロパン、２，２−ビス（４−（（メタ）アクリロイルオキシテトラプロポキシ）フェニル）プロパン、２，２−ビス（４−（（メタ）アクリロイルオキシペンタプロポキシ）フェニル）プロパン、２，２−ビス（４−（（メタ）アクリロイルオキシデカプロポキシ）フェニル）プロパン、２，２−ビス（４−（（メタ）アクリロイルオキシペンタデカプロポキシ）フェニル）プロパンなど）やこれらの化合物のポリエーテル部位として同一分子中にポリエチレンオキシド骨格とポリプロピレンオキシド骨格の両者を含む化合物なども挙げられる（たとえばＷＯ０１/９８８３２号公報に記載の化合物など）。これらの化合物は例えばＢＰＥ−２００，ＢＰＥ−５００，ＢＰＥ−１０００（新中村化学工業（株）製）などとして入手できる。   Furthermore, 2,2-bis [4- (3- (meth) acryloxy-2-hydroxypropoxy) phenyl] propane having a bisphenol skeleton, 2,2-bis [4-((meth) acryloxyethoxy) phenyl] Propane, 2,2-bis (4-((meth) acryloyloxypolyethoxy) phenyl) propane having 2 to 20 ethyleneoxy groups substituted with one phenolic OH group (for example, 2,2-bis ( 4-((meth) acryloyloxydiethoxy) phenyl) propane, 2,2-bis (4-((meth) acryloyloxytetraethoxy) phenyl) propane, 2,2-bis (4-((meth) acryloyloxy) Pentaethoxy) phenyl) propane, 2,2-bis (4-((meth) acryloyloxydecaethoxy) phenyl) propyl Bread, 2,2-bis (4-((meth) acryloyloxypentadecaethoxy) phenyl) propane), 2,2-bis [4-((meth) acryloxypropoxy) phenyl] propane, phenolic OH 2,2-bis (4-((meth) acryloyloxypolypropoxy) phenyl) propane having 2 to 20 propyleneoxy groups substituted on one group (for example, 2,2-bis (4-((meth)) Acryloyloxydipropoxy) phenyl) propane, 2,2-bis (4-((meth) acryloyloxytetrapropoxy) phenyl) propane, 2,2-bis (4-((meth) acryloyloxypentapropoxy) phenyl) propane 2,2-bis (4-((meth) acryloyloxydecapropoxy) phenyl) propane, 2, -Bis (4-((meth) acryloyloxypentadecapropoxy) phenyl) propane, etc.) and compounds containing both a polyethylene oxide skeleton and a polypropylene oxide skeleton in the same molecule as the polyether moiety of these compounds are also mentioned ( For example, compounds described in WO01 / 98832). These compounds can be obtained, for example, as BPE-200, BPE-500, BPE-1000 (manufactured by Shin-Nakamura Chemical Co., Ltd.).

また、ビスフェノールとエチレンオキシドやプロピレンオキシドなどの付加物、重付加物として得られる末端に水酸基を有する化合物に対してイソシアネート基と重合基を有する化合物（２−イソシアネートエチル（メタ）アクリレート、α、α−ジメチル−ビニルベンジルイソシアネートなど）の付加体の様にビスフェノール骨格とウレタン基を有する重合性化合物も利用できる。   In addition, compounds having an isocyanate group and a polymer group (2-isocyanate ethyl (meth) acrylate, α, α- A polymerizable compound having a bisphenol skeleton and a urethane group, such as an adduct of dimethyl-vinylbenzyl isocyanate and the like, can also be used.

また、ノボラック型エポキシ樹脂、ブタンジオール−１，４−ジグリシジルエーテル、シクロヘキサンジメタノールグリシジルエーテル、エチレングリコールジグリシジルエーテル、ジエチレングリコールジグリシジルエーテル、ジプロピレングリコールジグリシジルエーテル、ヘキサンジオールジグリシジルエーテル、トリメチロールプロパントリグリシジルエーテル、ペンタエリスリトールテトラグリシジルエーテル、ビスフェノールＡジグリシジルエーテル、グリセリントリグリシジルエーテル等のグリシジル基含有化合物にα，β−不飽和カルボン酸を付加して得られる化合物も利用できる。   In addition, novolak type epoxy resin, butanediol-1,4-diglycidyl ether, cyclohexanedimethanol glycidyl ether, ethylene glycol diglycidyl ether, diethylene glycol diglycidyl ether, dipropylene glycol diglycidyl ether, hexanediol diglycidyl ether, trimethylol A compound obtained by adding an α, β-unsaturated carboxylic acid to a glycidyl group-containing compound such as propanetriglycidyl ether, pentaerythritol tetraglycidyl ether, bisphenol A diglycidyl ether, or glycerin triglycidyl ether can also be used.

また、重合性基とウレタン基を含有する化合物も利用できる。この様な化合物の例としては特公昭４８−４１７０８、特開昭５１−３７１９３、特公平５−５０７３７、特公平７−７２０８、特開２００１−１５４３４６、特開２００１−３５６４７６号公報などに記載されており、例えば１分子に２個以上のイソシアネート基を有するポリイソシアネート化合物（例えばヘキサメチレンジイソシアネート、トリメチルヘキサメチレンジイソシアネート、イソホロンジイソシアネート、キシレンジイソシアネート、トルエンジイソシアネート、フェニレンジイソシアネート、ノルボルネンジイソシアネート、ジフェニルジイソシアネート、ジフェニルメタンジイソシアネート、３，３′−ジメチル−４，４′−ジフェニルジイソシアネートやこれらのジイソシアネートのビュレット体やイソシアヌレートなどの３量体、これらのジイソシアネート類とトリメチロールプロパン、ペンタエリスリトール、グリセリンなどの多官能アルコール、またはこれらのエチレンオキシド付加物など得られる多官能アルコールとの付加体など）と分子中に水酸基を含有するビニルモノマー（例えば２−ヒドロキシエチル（メタ）アクリレート、２−ヒドロキシプロピル（メタ）アクリレート、４−ヒドロキシブチル（メタ）アクリレート、ジエチレングリコールモノ（メタ）アクリレート、トリエチレングリコールモノ（メタ）アクリレート、ポリエチレングリコールモノ（メタ）アクリレート、ジプロピレングリコールモノ（メタ）アクリレート、トリプロピレングリコールモノ（メタ）アクリレート、ポリプロピレングリコールモノ（メタ）アクリレート、トリメチロールプロパンジ（メタ）アクリレート、ペンタエリスリトールトリ（メタ）アクリレート、など）とを付加せしめることで得られる１分子中に２個以上の重合性ビニル基を含有するビニルウレタン化合物等があげられる。またトリ（（メタ）アクリロイルオキシエチル）イソシアヌレート、ジ（メタ）アクリル化イソシアヌレート、エチレンオキシド変性イソシアヌル酸のトリ（メタ）アクリレート等の様なイソシアヌレート環を有する化合物も利用できる。   Moreover, the compound containing a polymeric group and a urethane group can also be utilized. Examples of such compounds are described in JP-B-48-41708, JP-A-51-37193, JP-B-5-50737, JP-B-7-7208, JP-A-2001-154346, JP-A-2001-356476, and the like. For example, a polyisocyanate compound having two or more isocyanate groups per molecule (for example, hexamethylene diisocyanate, trimethylhexamethylene diisocyanate, isophorone diisocyanate, xylene diisocyanate, toluene diisocyanate, phenylene diisocyanate, norbornene diisocyanate, diphenyl diisocyanate, diphenylmethane diisocyanate, 3,3'-dimethyl-4,4'-diphenyl diisocyanate and burettes and isocyanurates of these diisocyanates Any trimer, adducts of these diisocyanates with polyfunctional alcohols such as trimethylolpropane, pentaerythritol, glycerin, or polyfunctional alcohols such as ethylene oxide adducts) and hydroxyl groups in the molecule Vinyl monomers (for example, 2-hydroxyethyl (meth) acrylate, 2-hydroxypropyl (meth) acrylate, 4-hydroxybutyl (meth) acrylate, diethylene glycol mono (meth) acrylate, triethylene glycol mono (meth) acrylate, polyethylene glycol mono (Meth) acrylate, dipropylene glycol mono (meth) acrylate, tripropylene glycol mono (meth) acrylate, polypropylene glycol mono (meth) acrylate Trimethylolpropane di (meth) acrylate, vinyl urethane compounds containing two or more polymerizable vinyl groups per molecule obtained by allowed to addition of pentaerythritol tri (meth) acrylate, etc.) and the like. In addition, compounds having an isocyanurate ring such as tri ((meth) acryloyloxyethyl) isocyanurate, di (meth) acrylated isocyanurate, and tri (meth) acrylate of ethylene oxide-modified isocyanuric acid can also be used.

また、特開昭４８−６４１８３号、特公昭４９−４３１９１号、特公昭５２−３０４９０号各公報に記載されているようなポリエステルアクリレートやポリエステル（メタ）アクリレートオリゴマー類、エポキシ化合物（ノボラック型エポキシ樹脂、ブタンジオール−１，４−ジグリシジルエーテル、シクロヘキサンジメタノールグリシジルエーテル、ジエチレングリコールジグリシジルエーテル、ジプロピレングリコールジグリシジルエーテル、ヘキサンジオールジグリシジルエーテル、トリメチロールプロパントリグリシジルエーテル、ペンタエリスリトールテトラグリシジルエーテル、ビスフェノールＡジグリシジルエーテル、グリセリントリグリシジルエーテルなど）と（メタ）アクリル酸を反応させたエポキシアクリレート類等の多官能のアクリレートやメタクリレートをあげることができる。またフタル酸やトリメリット酸などと前記の分子中に水酸基を含有するビニルモノマーから得られるエステル化物なども挙げられる。さらに日本接着協会誌vol.２０、Ｎo.７、３００〜３０８ページ（１９８４年）に光硬化性モノマーおよびオリゴマーとして紹介されているものも使用することができる。   Further, polyester acrylates, polyester (meth) acrylate oligomers, and epoxy compounds (novolak type epoxy resins) as described in JP-A-48-64183, JP-B-49-43191, and JP-B-52-30490. , Butanediol-1,4-diglycidyl ether, cyclohexanedimethanol glycidyl ether, diethylene glycol diglycidyl ether, dipropylene glycol diglycidyl ether, hexanediol diglycidyl ether, trimethylolpropane triglycidyl ether, pentaerythritol tetraglycidyl ether, bisphenol A diglycidyl ether, glycerin triglycidyl ether, etc.) and (meth) acrylic acid reacted with epoxy acrylates, etc. Functional acrylate or methacrylate can be mentioned. Moreover, the esterified substance etc. which are obtained from a vinyl monomer which contains a hydroxyl group in the said molecule | numerator with a phthalic acid, trimellitic acid, etc. are mentioned. Furthermore, what is introduce | transduced as a photocurable monomer and an oligomer by the Japan Adhesive Association magazine vol.20, No.7, 300-308 pages (1984) can also be used.

また、アリルエステル（例えばフタル酸ジアリル、アジピン酸ジアリル、マロン酸ジアリル、トリメリット酸トリアリル、ベンゼンジスルホン酸ジアリル、トリアリルイソシアヌレートなど）；及びジアリルアミド（例えばジアリルアセトアミドなど）も利用できる。   Further, allyl esters (for example, diallyl phthalate, diallyl adipate, diallyl malonate, triallyl trimellitic acid, diallyl benzenedisulfonate, triallyl isocyanurate, etc.) and diallylamides (eg diallylacetamide, etc.) can also be used.

また、重合性化合物としてカチオン重合性のジビニルエーテル類（例えばブタンジオール−１，４−ジビニルエーテル、シクロヘキサンジメタノールジビニルエーテル、エチレングリコールジビニルエーテル、ジエチレングリコールジビニルエーテル、ジプロピレングリコールジビニルエーテル、ヘキサンジオールジビニルエーテル、トリメチロールプロパントリビニルエーテル、ペンタエリスリトールテトラビニルエーテル、ビスフェノールＡジビニルエーテル、グリセリントリビニルエーテルなど）、エポキシ化合物（ノボラック型エポキシ樹脂、ブタンジオール−１，４−ジグリシジルエーテル、シクロヘキサンジメタノールグリシジルエーテル、エチレングリコールジグリシジルエーテル、ジエチレングリコールジグリシジルエーテル、ジプロピレングリコールジグリシジルエーテル、ヘキサンジオールジグリシジルエーテル、トリメチロールプロパントリグリシジルエーテル、ペンタエリスリトールテトラグリシジルエーテル、ビスフェノールＡジグリシジルエーテル、グリセリントリグリシジルエーテルなど）、オキセタン類（例えば１，４−ビス［（３−エチル−３−オキセタニルメトキシ）メチル］ベンゼンなど）を用いることもできる。またエポキシ化合物、オキセタン類としては、ＷＯ０１/２２１６５に記載の化合物を用いることもできる。   Further, cationically polymerizable divinyl ethers (for example, butanediol-1,4-divinyl ether, cyclohexane dimethanol divinyl ether, ethylene glycol divinyl ether, diethylene glycol divinyl ether, dipropylene glycol divinyl ether, hexanediol divinyl ether) , Trimethylolpropane trivinyl ether, pentaerythritol tetravinyl ether, bisphenol A divinyl ether, glycerin trivinyl ether, etc.), epoxy compounds (novolac type epoxy resin, butanediol-1,4-diglycidyl ether, cyclohexanedimethanol glycidyl ether, ethylene glycol) Diglycidyl ether, diethylene glycol diglycidyl ether , Dipropylene glycol diglycidyl ether, hexanediol diglycidyl ether, trimethylolpropane triglycidyl ether, pentaerythritol tetraglycidyl ether, bisphenol A diglycidyl ether, glycerin triglycidyl ether, etc.), oxetanes (for example, 1,4-bis [ (3-ethyl-3-oxetanylmethoxy) methyl] benzene etc.) can also be used. Moreover, as an epoxy compound and oxetanes, the compound of WO01 / 22165 can also be used.

ビニルエステル類の例として、ジビニルサクシネート、ジビニルアジペート、ジビニルフタレート、ジビニルテレフタレート、ジビニルベンゼン−１，３−ジスルホネート及びジビニルブタン−１，４−ジスルホネート等も利用できる。
スチレン化合物の例としては、ジビニルベンゼン、４−アリルスチレン及び４−イソプロペンスチレン等を挙げることができる。 Examples of vinyl esters include divinyl succinate, divinyl adipate, divinyl phthalate, divinyl terephthalate, divinyl benzene-1,3-disulfonate, divinyl butane-1,4-disulfonate, and the like.
Examples of the styrene compound include divinylbenzene, 4-allylstyrene, 4-isopropenestyrene, and the like.

更に、上記化合物以外の化合物として、Ｎ−β−ヒドロキシエチル−β−（メタクリルアミド）エチルアクリレート、Ｎ，Ｎ−ビス（β−メタクリロキシエチル）アクリルアミド、アリルメタクリレートなどの、異なったエチレン性不飽和二重結合を２個以上有する化合物も、本発明に好適に用いられる化合物として挙げることができる。   In addition, different ethylenic unsaturations such as N-β-hydroxyethyl-β- (methacrylamide) ethyl acrylate, N, N-bis (β-methacryloxyethyl) acrylamide, allyl methacrylate, etc., other than the above compounds A compound having two or more double bonds can also be mentioned as a compound suitably used in the present invention.

これらの多官能モノマー、オリゴマーは単独でまたは２種類以上を組み合わせて用いることができる。   These polyfunctional monomers and oligomers can be used alone or in combination of two or more.

更に、必要に応じて、分子内に重合性基を１個含有する重合性化合物（単官能モノマー）を併用することもできる。単官能モノマーの例としては、前述のバインダーの原料として例示した化合物、特開平６−２３６０３１号公報に開示されている２塩基のモノ((メタ)アクリロイルオキシアルキルエステル)モノ（ハロヒドロキシアルキルエステル）の様な単官能モノマー（例えばγ−クロロ−β−ヒドロキシプロピル−β’−メタクリロイルオキシエチル−ｏ−フタレートなど）などや、特許２７４４６４３号、ＷＯ００／５２５２９号、特許２５４８０１６号公報などに記載の化合物があげられる。   Furthermore, if necessary, a polymerizable compound (monofunctional monomer) containing one polymerizable group in the molecule can be used in combination. Examples of the monofunctional monomer include the compounds exemplified as the raw material of the above-mentioned binder, a dibasic mono ((meth) acryloyloxyalkyl ester) mono (halohydroxyalkyl ester) disclosed in JP-A-6-236031 Monofunctional monomers such as γ-chloro-β-hydroxypropyl-β′-methacryloyloxyethyl-o-phthalate, etc., and compounds described in Japanese Patent No. 2744463, WO00 / 52529, Japanese Patent No. 2548016, etc. Is given.

感光層のモノマーの含有量は、各感光層ともに一般に５〜９０質量％の範囲にあり、好ましくは１５〜６０質量％の範囲であり、特に好ましくは２０〜５０質量％の範囲である。モノマーの含有量が上記の範囲より少ないとテント膜の強度が低下し、多いと保存時のエッジフュージョン（ロール端部からのしみだし故障）が悪化する傾向にある。また全モノマーの内の重合性基を２ヶ以上含有する多官能モノマーの含有量は、一般に５〜１００質量％の範囲であり、好ましくは２０〜１００質量％の範囲であり、さらに好ましくは４０〜１００質量％の範囲である。また感度調整の為に、上記範囲内で第二感光層のモノマー含有率の方を高くするなどの調整をおこなってもよい。   The content of the monomer in the photosensitive layer is generally in the range of 5 to 90% by mass for each photosensitive layer, preferably in the range of 15 to 60% by mass, and particularly preferably in the range of 20 to 50% by mass. If the monomer content is less than the above range, the strength of the tent film is lowered, and if it is greater, the edge fusion during storage (exudation failure from the end of the roll) tends to deteriorate. In addition, the content of the polyfunctional monomer containing two or more polymerizable groups among all monomers is generally in the range of 5 to 100% by mass, preferably in the range of 20 to 100% by mass, and more preferably 40%. It is the range of -100 mass%. In order to adjust the sensitivity, adjustment such as increasing the monomer content of the second photosensitive layer within the above range may be performed.

［光重合開始剤］
本発明の感光性樹脂組成物で用いる光重合開始剤としては、前述のモノマー成分の重合を開始する能力を有する化合物は全て使用可能であり、特に紫外線領域から紫色の光線に対して感光性を有するものであれば好適に使用できる。光重合開始剤は、約３００〜８００ｎｍ（より好ましくは３３０〜５００ｎｍ）の範囲内に少なくとも約５０の分子吸光係数を有する成分を少なくとも一種含有していることが好ましい。光重合開始剤はまた、光励起された増感剤と何らかの作用を生じ、活性ラジカルを生成する活性剤であってもよく、また重合性モノマーの種類に応じてカチオン重合を開始させるような開始剤であってもよい。 [Photopolymerization initiator]
As the photopolymerization initiator used in the photosensitive resin composition of the present invention, all compounds having the ability to initiate the polymerization of the above-mentioned monomer components can be used, and in particular, they are sensitive to violet rays from the ultraviolet region. If it has, it can be used conveniently. The photopolymerization initiator preferably contains at least one component having a molecular extinction coefficient of at least about 50 within a range of about 300 to 800 nm (more preferably 330 to 500 nm). The photopolymerization initiator may also be an activator that generates an active radical by causing some action with the photoexcited sensitizer, and also initiates cationic polymerization according to the type of polymerizable monomer. It may be.

本発明の感光性樹脂組成物で好ましく使用される光重合開始剤としては、例えば、ハロゲン化炭化水素誘導体（例えばトリアジン骨格を有するもの、オキサジアゾール骨格を有するもの）、ヘキサアリールビイミダゾール、ケトオキシム誘導体、有機過酸化物、チオ化合物、ケトオキシムエステル、ケトン化合物、芳香族オニウム塩、ケトオキシムエーテル等を挙げることができる。この内、トリアジン骨格を有するハロゲン化炭化水素、ケトオキシム誘導体、ヘキサアリールビイミダゾール、ケトオキシムエステル、ケトン化合物を用いることが、感光性樹脂組成物の感度、保存性、及び感光性転写シートとして用いた場合の感光性樹脂組成物層とプリント配線板形成用基板との密着性等の観点から特に好ましい。   Examples of the photopolymerization initiator preferably used in the photosensitive resin composition of the present invention include halogenated hydrocarbon derivatives (for example, those having a triazine skeleton, those having an oxadiazole skeleton), hexaarylbiimidazole, ketoxime. Derivatives, organic peroxides, thio compounds, ketoxime esters, ketone compounds, aromatic onium salts, ketoxime ethers and the like can be mentioned. Among these, the use of a halogenated hydrocarbon having a triazine skeleton, a ketoxime derivative, a hexaarylbiimidazole, a ketoxime ester, and a ketone compound was used as the sensitivity, storage stability, and photosensitive transfer sheet of the photosensitive resin composition. In particular, it is particularly preferable from the viewpoint of adhesion between the photosensitive resin composition layer and the printed wiring board forming substrate.

トリアジン骨格を有するハロゲン化炭化水素化合物としては、次のような化合物が挙げられる。
若林ら著、Bull.Chem.Soc.Japan,42、2924（1969）記載の化合物、例えば、２−フェニル−４，６−ビス（トリクロルメチル）−１，３，５−トリアジン、２−（ｐ−クロルフェニル）−４，６−ビス（トリクロルメチル）−１，３，５−トリアジン、２−（ｐ−トリル）−４，６−ビス（トリクロルメチル）−１，３，５−トリアジン、２−（ｐ−メトキシフェニル）−４，６−ビス（トリクロルメチル）−１，３，５−トリアジン、２−（２’，４’−ジクロルフェニル）−４，６−ビス（トリクロルメチル）−１，３，５−トリアジン、２，４，６−トリス（トリクロルメチル）−１，３，５−トリアジン、２−メチル−４，６−ビス（トリクロルメチル）−１，３，５−トリアジン、２−ｎ−ノニル−４，６−ビス（トリクロルメチル）−１，３，５−トリアジン、及び２−（α，α，β−トリクロルエチル）−４，６−ビス（トリクロルメチル）−１，３，５−トリアジン； Examples of the halogenated hydrocarbon compound having a triazine skeleton include the following compounds.
Wakabayashi et al., Bull. Chem. Soc. Japan, 42, 2924 (1969) described compounds such as 2-phenyl-4,6-bis (trichloromethyl) -1,3,5-triazine, 2- (p -Chlorophenyl) -4,6-bis (trichloromethyl) -1,3,5-triazine, 2- (p-tolyl) -4,6-bis (trichloromethyl) -1,3,5-triazine, 2 -(P-methoxyphenyl) -4,6-bis (trichloromethyl) -1,3,5-triazine, 2- (2 ', 4'-dichlorophenyl) -4,6-bis (trichloromethyl)- 1,3,5-triazine, 2,4,6-tris (trichloromethyl) -1,3,5-triazine, 2-methyl-4,6-bis (trichloromethyl) -1,3,5-triazine, 2-n-nonyl-4,6-bis (trichloromethyl) -1,3 5-triazine and, 2- (α, α, β- trichloroethyl) -4,6-bis (trichloromethyl) -1,3,5-triazine;

英国特許１３８８４９２号明細書記載の化合物、例えば、２−スチリル−４，６−ビス（トリクロルメチル）−１，３，５−トリアジン、２−（ｐ−メチルスチリル）−４，６−ビス（トリクロルメチル）−１，３，５−トリアジン、２−（ｐ−メトキシスチリル）−４，６−ビス（トリクロルメチル）−１，３，５−トリアジン、及び２−（ｐ−メトキシスチリル）−４−アミノ−６−トリクロルメチル−１，３，５−トリアジン；
特開昭５３−１３３４２８号公報記載の化合物、例えば、２−（４−メトキシ−ナフト−１−イル）−４，６−ビス（トリクロルメチル）−１，３，５−トリアジン、２−（４−エトキシ−ナフト−１−イル）−４，６−ビス（トリクロルメチル）−１，３，５−トリアジン、２−〔４−（２−エトキシエチル）−ナフト−１−イル〕−４，６−ビス（トリクロルメチル）−１，３，５−トリアジン、２−（４，７−ジメトキシ−ナフト−１−イル）−４，６−ビス（トリクロルメチル）−１，３，５−トリアジン、及び２−（アセナフト−５−イル）−４，６−ビス（トリクロルメチル）−１，３，５−トリアジン； Compounds described in GB 1388492, such as 2-styryl-4,6-bis (trichloromethyl) -1,3,5-triazine, 2- (p-methylstyryl) -4,6-bis (trichlor) Methyl) -1,3,5-triazine, 2- (p-methoxystyryl) -4,6-bis (trichloromethyl) -1,3,5-triazine, and 2- (p-methoxystyryl) -4- Amino-6-trichloromethyl-1,3,5-triazine;
Compounds described in JP-A-53-133428, for example, 2- (4-methoxy-naphth-1-yl) -4,6-bis (trichloromethyl) -1,3,5-triazine, 2- (4 -Ethoxy-naphth-1-yl) -4,6-bis (trichloromethyl) -1,3,5-triazine, 2- [4- (2-ethoxyethyl) -naphth-1-yl] -4,6 -Bis (trichloromethyl) -1,3,5-triazine, 2- (4,7-dimethoxy-naphth-1-yl) -4,6-bis (trichloromethyl) -1,3,5-triazine, and 2- (acenaphtho-5-yl) -4,6-bis (trichloromethyl) -1,3,5-triazine;

独国特許３３３７０２４号明細書記載の化合物、例えば、２−（４−スチリルフェニル）−４、６−ビス（トリクロロメチル）−１，３，５−トリアジン、２−（４−ｐ−メトキシスチリルフェニル）−４、６−ビス（トリクロロメチル）−１，３，５−トリアジン、２−（１−ナフチルビニレンフェニル）−４、６−ビス（トリクロロメチル）−１，３，５−トリアジン、２−クロロスチリルフェニル−４，６−ビス（トリクロロメチル）−１，３，５−トリアジン、２−（４−チオフェン−２−ビニレンフェニル）−４，６−ビス（トリクロロメチル）−１，３，５−トリアジン、２−（４−チオフェン−３−ビニレンフェニル）−４，６−ビス（トリクロロメチル）−１，３，５−トリアジン、２−（４−フラン−２−ビニレンフェニル）−４，６−ビス（トリクロロメチル）−１，３，５−トリアジン、及び２−（４−ベンゾフラン−２−ビニレンフェニル）−４，６−ビス（トリクロロメチル）−１，３，５−トリアジン；   Compounds described in DE 33 37 024, for example 2- (4-styrylphenyl) -4,6-bis (trichloromethyl) -1,3,5-triazine, 2- (4-p-methoxystyrylphenyl) ) -4,6-bis (trichloromethyl) -1,3,5-triazine, 2- (1-naphthylvinylenephenyl) -4,6-bis (trichloromethyl) -1,3,5-triazine, 2- Chlorostyrylphenyl-4,6-bis (trichloromethyl) -1,3,5-triazine, 2- (4-thiophene-2-vinylenephenyl) -4,6-bis (trichloromethyl) -1,3,5 -Triazine, 2- (4-thiophene-3-vinylenephenyl) -4,6-bis (trichloromethyl) -1,3,5-triazine, 2- (4-furan-2-vinylenepheny ) -4,6-bis (trichloromethyl) -1,3,5-triazine, and 2- (4-benzofuran-2-vinylenephenyl) -4,6-bis (trichloromethyl) -1,3,5- Triazine;

F.C. Schaefer等によるJ.Org.Chem.;29、1527（1964）記載の化合物、例えば、２−メチル−４，６−ビス（トリブロモメチル）−１，３，５−トリアジン、２，４，６−トリス（トリブロモメチル）−１，３，５−トリアジン、２，４，６−トリス（ジブロモメチル）−１，３，５−トリアジン、２−アミノ−４−メチル−６−トリ（ブロモメチル）−１，３，５−トリアジン、及び２−メトキシ−４−メチル−６−トリクロロメチル−１，３，５−トリアジン；
特開昭６２−５８２４１号公報記載の化合物、例えば、２−（４−フェニルエチニルフェニル）−４，６−ビス（トリクロロメチル）−１，３，５−トリアジン、２−（４−ナフチル−１−エチニルフェニル−４，６−ビス（トリクロロメチル）−１，３，５−トリアジン、２−（４−ｐ−トリルエチニルフェニル）−４，６−ビス（トリクロロメチル）−１，３，５−トリアジン、２−（４−ｐ−メトキシフェニルエチニルフェニル）−４，６−ビス（トリクロロメチル）−１，３，５−トリアジン、２−（４−ｐ−イソプロピルフェニルエチニルフェニル）−４，６−ビス（トリクロロメチル）−１，３，５−トリアジン、２−（４−ｐ−エチルフェニルエチニルフェニル）−４，６−ビス（トリクロロメチル）−１，３，５−トリアジン； FC Schaefer et al., J. Org. Chem .; 29, 1527 (1964) described compounds such as 2-methyl-4,6-bis (tribromomethyl) -1,3,5-triazine, 2,4,4 6-tris (tribromomethyl) -1,3,5-triazine, 2,4,6-tris (dibromomethyl) -1,3,5-triazine, 2-amino-4-methyl-6-tri (bromomethyl) ) -1,3,5-triazine and 2-methoxy-4-methyl-6-trichloromethyl-1,3,5-triazine;
Compounds described in JP-A-62-258241, for example, 2- (4-phenylethynylphenyl) -4,6-bis (trichloromethyl) -1,3,5-triazine, 2- (4-naphthyl-1) -Ethynylphenyl-4,6-bis (trichloromethyl) -1,3,5-triazine, 2- (4-p-tolylethynylphenyl) -4,6-bis (trichloromethyl) -1,3,5- Triazine, 2- (4-p-methoxyphenylethynylphenyl) -4,6-bis (trichloromethyl) -1,3,5-triazine, 2- (4-p-isopropylphenylethynylphenyl) -4,6- Bis (trichloromethyl) -1,3,5-triazine, 2- (4-p-ethylphenylethynylphenyl) -4,6-bis (trichloromethyl) -1,3,5-triazi ;

特開平５−２８１７２８号記載の化合物、例えば２−（４−トリフルオロメチルフェニル）−４，６−ビス（トリクロロメチル）−１，３，５−トリアジン、２−（２，６−ジフルオロフェニル）−４，６−ビス（トリクロロメチル）−１，３，５−トリアジン、２−（２，６−ジクロロフェニル）−４，６−ビス（トリクロロメチル）−１，３，５−トリアジン、２−（２，６−ジブロモフェニル）−４，６−ビス（トリクロロメチル）−１，３，５−トリアジン；
特開平５−３４９２０号記載の２，４−ビス（トリクロロメチル）−６−［４−（Ｎ，Ｎ−ジエトキシカルボニルメチルアミノ）−３−ブロモフェニル］−１，３，５−トリアジン、米国特許第４２３９８５０号明細書に記載されているトリハロメチル−ｓ−トリアジン化合物、更に２，４，６−トリス（トリクロロメチル）−ｓ−トリアジン、２−（４−クロロフェニル）−４，６−ビス（トリブロモメチル）−ｓ−トリアジンなどが挙げられる。 Compounds described in JP-A-5-281728, such as 2- (4-trifluoromethylphenyl) -4,6-bis (trichloromethyl) -1,3,5-triazine, 2- (2,6-difluorophenyl) -4,6-bis (trichloromethyl) -1,3,5-triazine, 2- (2,6-dichlorophenyl) -4,6-bis (trichloromethyl) -1,3,5-triazine, 2- ( 2,6-dibromophenyl) -4,6-bis (trichloromethyl) -1,3,5-triazine;
2,4-bis (trichloromethyl) -6- [4- (N, N-diethoxycarbonylmethylamino) -3-bromophenyl] -1,3,5-triazine described in JP-A-5-34920, USA The trihalomethyl-s-triazine compound described in Japanese Patent No. 4239850, 2,4,6-tris (trichloromethyl) -s-triazine, 2- (4-chlorophenyl) -4,6-bis ( And tribromomethyl) -s-triazine.

また米国特許第４２１２９７６号明細書等に記載されているオキサジアゾール骨格を有する化合物等も挙げることができる。オキサジアゾール骨格を有する化合物としては例えば２−トリクロロメチル−５−フェニル−１，３，４−オキサジアゾール、２−トリクロロメチル−５−（４−クロロフェニル）−１，３，４−オキサジアゾール、２−トリクロロメチル−５−（１−ナフチル）−１，３，４−オキサジアゾール、２−トリクロロメチル−５−（２−ナフチル）−１，３，４−オキサジアゾール、２−トリブロモメチル−５−フェニル−１，３，４−オキサジアゾール、２−トリブロモメチル−５−（２−ナフチル）−１，３，４−オキサジアゾール；２−トリクロロメチル−５−スチリル−１，３，４−オキサジアゾール、２−トリクロロメチル−５−（４−クロルスチリル）−１，３，４−オキサジアゾール、２−トリクロロメチル−５−（４−メトキシスチリル）−１，３，４−オキサジアゾール、２−トリクロロメチル−５−（１−ナフチル）−１，３，４−オキサジアゾール、２−トリクロロメチル−５−（４−ｎ−ブトキシスチリル）−１，３，４−オキサジアゾール、２−トリプロメメチル−５−スチリル−１，３，４−オキサジアゾールなどが挙げられる。   In addition, compounds having an oxadiazole skeleton described in US Pat. No. 4,221,976 can also be exemplified. Examples of the compound having an oxadiazole skeleton include 2-trichloromethyl-5-phenyl-1,3,4-oxadiazole, 2-trichloromethyl-5- (4-chlorophenyl) -1,3,4-oxadi Azole, 2-trichloromethyl-5- (1-naphthyl) -1,3,4-oxadiazole, 2-trichloromethyl-5- (2-naphthyl) -1,3,4-oxadiazole, 2- Tribromomethyl-5-phenyl-1,3,4-oxadiazole, 2-tribromomethyl-5- (2-naphthyl) -1,3,4-oxadiazole; 2-trichloromethyl-5-styryl -1,3,4-oxadiazole, 2-trichloromethyl-5- (4-chlorostyryl) -1,3,4-oxadiazole, 2-trichloromethyl-5- (4-methoxy) Styryl) -1,3,4-oxadiazole, 2-trichloromethyl-5- (1-naphthyl) -1,3,4-oxadiazole, 2-trichloromethyl-5- (4-n-butoxystyryl) ) -1,3,4-oxadiazole, 2-tripromemethyl-5-styryl-1,3,4-oxadiazole, and the like.

本発明で好適に用いられるオキシム化合物としては、下記一般式で示される化合物を挙げることができる。   Examples of the oxime compound suitably used in the present invention include compounds represented by the following general formula.

式（III）において、Ｒ³⁴及びＲ³⁵は同一または異なり、置換基を有していても良く不飽和結合を含んでいても良い炭化水素基、或いは、ヘテロ環基を表す。
Ｒ³⁶及びＲ³⁷は、それぞれ独立に、水素原子、置換基を有していても良く不飽和結合を含んでいても良い炭化水素基、ヘテロ環基、ヒドロキシル基、置換オキシ基、メルカプト基、及び置換チオ基を表す。また、Ｒ³⁶及びＲ³⁷は、互いに結合して環を形成し、−Ｏ−、−ＮＲ⁴⁰−（Ｒ⁴⁰は、水素あるいは置換基を有してもよい炭化水素基である）、−Ｏ−ＣＯ−、−ＮＨ−ＣＯ−、−Ｓ−、及び／又は、−ＳＯ₂−を環の連結主鎖に含んでいても良い炭素原子数２〜８のアルキレン基を表す。
Ｒ³⁸及びＲ³⁹は、それぞれ独立に、水素原子、置換基を有していても良く不飽和結合を含んでいても良い炭化水素基、或いは置換カルボニル基を表す。 In the formula (III), R ³⁴ and R ³⁵ are the same or different and each represents a hydrocarbon group which may have a substituent and may contain an unsaturated bond, or a heterocyclic group.
R ³⁶ and R ³⁷ are each independently a hydrogen atom, a hydrocarbon group which may have a substituent and may contain an unsaturated bond, a heterocyclic group, a hydroxyl group, a substituted oxy group, a mercapto group, And a substituted thio group. R ³⁶ and R ³⁷ are bonded to each other to form a ring, and —O—, —NR ⁴⁰ — (R ⁴⁰ is hydrogen or a hydrocarbon group which may have a substituent), —O It represents an alkylene group having 2 to 8 carbon atoms, which may contain —CO—, —NH—CO—, —S—, and / or —SO ₂ — in the connecting main chain of the ring.
R ³⁸ and R ³⁹ each independently represent a hydrogen atom, a hydrocarbon group which may have a substituent and may contain an unsaturated bond, or a substituted carbonyl group.

オキシム誘導体の具体的な例としては、ｐ−メトキシフェニル２−Ｎ，Ｎ−ジメチルアミノプロピルケトンオキシム−Ｏ−アリルエーテル、ｐ−メチルチオフェニル２−モルホリノプロピルケトンオキシム−Ｏ−アリルエーテル、ｐ−メチルチオフェニル２−モルホリノプロピルケトンオキシム−Ｏ−ベンジルエーテル、ｐ−メチルチオフェニル２−モルホリノプロピルケトンオキシム−Ｏ−ｎ−ブチルエーテル、ｐ−モルホリノフェニル２−モルホリノプロピルケトンオキシム−Ｏ−アリルエーテル、ｐ−メトキシフェニル２−モルホリノプロピルケトンオキシム−Ｏ−ｎ−ドデシルエーテル、ｐ−メチルチオフェニル２−モルホリノプロピルケトンオキシム−Ｏ−メトキシエトキシエチルエーテル、ｐ−メチルチオフェニル２−モルホリノプロピルケトンオキシム−Ｏ−ｐ−メトキシカルボニルベンジルエーテル、ｐ−メチルチオフェニル２−モルホリノプロピルケトンオキシム−Ｏ−メトキシカルボニルメチルエーテル、ｐ−メチルチオフェニル２−モルホリノプロピルケトンオキシム−Ｏ−エトキシカルボニルメチルエーテル、ｐ−メチルチオフェニル２−モルホリノプロピルケトンオキシム−Ｏ−４−ブトキシカルボニルブチルエーテル、ｐ−メチルチオフェニル２−モルホリノプロピルケトンオキシム−Ｏ−２−エトキシカルボニルエチルエーテル、ｐ−メチルチオフェニル２−モルホリノプロピルケトンオキシム−Ｏ−メトキシカルボニル−３−プロペニルエーテル、及びｐ−メチルチオフェニル２−モルホリノプロピルケトンオキシム−Ｏ−ベンジルオキシカルボニルメチルエーテルを挙げることができるがこれに限定されるものではない。   Specific examples of oxime derivatives include p-methoxyphenyl 2-N, N-dimethylaminopropylketone oxime-O-allyl ether, p-methylthiophenyl 2-morpholinopropylketone oxime-O-allyl ether, p-methylthio. Phenyl 2-morpholinopropyl ketone oxime-O-benzyl ether, p-methylthiophenyl 2-morpholinopropyl ketone oxime-On-butyl ether, p-morpholinophenyl 2-morpholinopropyl ketone oxime-O-allyl ether, p-methoxyphenyl 2-morpholinopropylketone oxime-On-dodecyl ether, p-methylthiophenyl 2-morpholinopropylketone oxime-O-methoxyethoxyethyl ether, p-methylthiophenyl 2-morpholine Propyl ketone oxime-Op-methoxycarbonylbenzyl ether, p-methylthiophenyl 2-morpholinopropyl ketone oxime-O-methoxycarbonyl methyl ether, p-methylthiophenyl 2-morpholinopropyl ketone oxime-O-ethoxycarbonyl methyl ether, p -Methylthiophenyl 2-morpholinopropyl ketone oxime-O-4-butoxycarbonylbutyl ether, p-methylthiophenyl 2-morpholinopropyl ketone oxime-O-2-ethoxycarbonylethyl ether, p-methylthiophenyl 2-morpholinopropyl ketone oxime-O -Methoxycarbonyl-3-propenyl ether and p-methylthiophenyl 2-morpholinopropyl ketone oxime-O-benzyloxycarbo Can be exemplified methyl ether is not limited thereto.

本発明に使用されるヘキサアリールビイミダゾールとしては、２，２’−ビス（ｏ−クロロフェニル）−４，４’，５，５’−テトラフェニルビイミダゾール、２，２’−ビス（ｏ−フロロフェニル）−４，４’，５，５’−テトラフェニルビイミダゾール、２，２’−ビス（ｏ−ブロモフェニル）−４，４’，５，５’−テトラフェニルビイミダゾール、２，２’−ビス（ｏ，ｐ−ジクロロフェニル）−４，４’，５，５’−テトラフェニルビイミダゾール、２，２’−ビス（ｏ−クロロフェニル）−４，４’，５，５’−テトラ（ｍ−メトキシフェニル）ビイミダゾール、２，２’−ビス（ｏ−クロロフェニル）−４，４’，５，５’−テトラ（ｐ−メトキシフェニル）ビイミダゾール、２，２’−ビス（ｐ−メトキシフェニル）−４，４’，５，５’−テトラフェニルビイミダゾール、２，２’−ビス（ｏ，ｏ’−ジクロロフェニル）−４，４’，５，５’−テトラフェニルビイミダゾール、２，２’−ビス（ｏ−ニトロフェニル）−４，４’，５，５’−テトラフェニルビイミダゾール、２，２’−ビス（ｏ−メチルフェニル）−４，４’，５，５’−テトラフェニルビイミダゾール、２，２’−ビス（ｏ−トリフルオロメチルフェニル）−４，４’，５，５’−テトラフェニルビイミダゾール等が挙げられる。これらのビイミダゾール類は、例えば、Bull.Chem.Soc.Japan,33,565(1960)、およびJ.Org.Chem,36(16)2262（1971）に開示されている方法により容易に合成することができる。   Examples of the hexaarylbiimidazole used in the present invention include 2,2′-bis (o-chlorophenyl) -4,4 ′, 5,5′-tetraphenylbiimidazole and 2,2′-bis (o-fluoro). Phenyl) -4,4 ′, 5,5′-tetraphenylbiimidazole, 2,2′-bis (o-bromophenyl) -4,4 ′, 5,5′-tetraphenylbiimidazole, 2,2 ′ -Bis (o, p-dichlorophenyl) -4,4 ', 5,5'-tetraphenylbiimidazole, 2,2'-bis (o-chlorophenyl) -4,4', 5,5'-tetra (m -Methoxyphenyl) biimidazole, 2,2'-bis (o-chlorophenyl) -4,4 ', 5,5'-tetra (p-methoxyphenyl) biimidazole, 2,2'-bis (p-methoxyphenyl) ) -4, ', 5,5'-tetraphenylbiimidazole, 2,2'-bis (o, o'-dichlorophenyl) -4,4', 5,5'-tetraphenylbiimidazole, 2,2'-bis (o -Nitrophenyl) -4,4 ', 5,5'-tetraphenylbiimidazole, 2,2'-bis (o-methylphenyl) -4,4', 5,5'-tetraphenylbiimidazole, 2, Examples include 2'-bis (o-trifluoromethylphenyl) -4,4 ', 5,5'-tetraphenylbiimidazole. These biimidazoles can be easily synthesized by the methods disclosed in, for example, Bull. Chem. Soc. Japan, 33,565 (1960), and J. Org. Chem, 36 (16) 2262 (1971). it can.

オキシムエステルとしては、３−ベンゾイロキシイミノブタン−２−オン、３−アセトキシイミノブタン−２−オン、３−プロピオニルオキシイミノブタン−２−オン、２−アセトキシイミノペンタン−３−オン、２−アセトキシイミノ−１−フェニルプロパン−１−オン、２−ベンゾイロキシイミノ−１−フェニルプロパン−１−オン、３−ｐ−トルエンスルホニルオキシイミノブタン−２−オン、及び２−エトキシカルボニルオキシイミノ−１−フェニルプロパン−１−オン等が挙げられる。   Examples of oxime esters include 3-benzoyloxyiminobutan-2-one, 3-acetoxyiminobutane-2-one, 3-propionyloxyiminobutan-2-one, 2-acetoxyiminopentane-3-one, 2- Acetoxyimino-1-phenylpropan-1-one, 2-benzoyloxyimino-1-phenylpropan-1-one, 3-p-toluenesulfonyloxyiminotan-2-one, and 2-ethoxycarbonyloxyimino- 1-phenylpropan-1-one and the like can be mentioned.

ケトン化合物としては、ベンゾフェノン、２−メチルベンゾフェノン、３−メチルベンゾフェノン、４−メチルベンゾフェノン、４−メトキシベンゾフェノン、２−クロロベンゾフェノン、４−クロロベンゾフェノン、４−ブロモベンゾフェノン、２−カルボキシベンゾフェノン、２−エトキシカルボニルベンゾルフェノン、ベンゾフェノンテトラカルボン酸又はそのテトラメチルエステル、４，４’−ビス（ジアルキルアミノ）ベンゾフェノン類（例、４，４’−ビス（ジメチルアミノ）ベンゾフェノン、４，４’−ビスジシクロヘキシルアミノ）ベンゾフェノン、４，４’−ビス（ジエチルアミノ）ベンゾフェノン、４，４’−ビス（ジヒドロキシエチルアミノ）、４−メトキシ−４’−ジメチルアミノベンゾフェノン、４，４’−ジメトキシベンゾフェノン、４−ジメチルアミノベンゾフェノン、４−ジメチルアミノアセトフェノン、ベンジル、アントラキノン、２−ｔｅｒｔ−ブチルアントラキノン、２−メチルアントラキノン、フェナントラキノン、キサントン、チオキサントン、２−クロル−チオキサントン、２，４−ジエチルチオキサントン、フルオレノン、２−ベンジル−ジメチルアミノ−１−（４−モルホリノフェニル）−１−ブタノン、２−メチル−１−〔４−（メチルチオ）フェニル〕−２−モルホリノ−１−プロパノン、２−ヒドロキシ−２−メチル−〔４−（１−メチルビニル）フェニル〕プロパノールオリゴマー、ベンゾイン、ベンゾインエーテル類（例、ベンゾインメチルエーテル、ベンゾインエチルエーテル、ベンゾインプロピルエーテル、ベンゾインイソプロピルエーテル、ベンゾインフェニルエーテル、ベンジルジメチルケタール）アクリドン、クロロアクリドン、Ｎ−メチルアクリドン、Ｎ−ブチルアクリドン、Ｎ−ブチルクロロアクリドン等が挙げられる。   Examples of ketone compounds include benzophenone, 2-methylbenzophenone, 3-methylbenzophenone, 4-methylbenzophenone, 4-methoxybenzophenone, 2-chlorobenzophenone, 4-chlorobenzophenone, 4-bromobenzophenone, 2-carboxybenzophenone, 2-ethoxy. Carbonyl benzolphenone, benzophenone tetracarboxylic acid or tetramethyl ester thereof, 4,4′-bis (dialkylamino) benzophenone (eg, 4,4′-bis (dimethylamino) benzophenone, 4,4′-bisdicyclohexylamino ) Benzophenone, 4,4′-bis (diethylamino) benzophenone, 4,4′-bis (dihydroxyethylamino), 4-methoxy-4′-dimethylaminobenzophenone, 4,4′-dimethyl Xylbenzophenone, 4-dimethylaminobenzophenone, 4-dimethylaminoacetophenone, benzyl, anthraquinone, 2-tert-butylanthraquinone, 2-methylanthraquinone, phenanthraquinone, xanthone, thioxanthone, 2-chloro-thioxanthone, 2,4- Diethylthioxanthone, fluorenone, 2-benzyl-dimethylamino-1- (4-morpholinophenyl) -1-butanone, 2-methyl-1- [4- (methylthio) phenyl] -2-morpholino-1-propanone, 2- Hydroxy-2-methyl- [4- (1-methylvinyl) phenyl] propanol oligomer, benzoin, benzoin ethers (eg, benzoin methyl ether, benzoin ethyl ether, benzoin propyl ether, benzene) In isopropyl ether, benzoin phenyl ether, benzyl dimethyl ketal) acridone, chloro acridone, N- methyl acridone, N- butyl acridone, N- butyl chloro acridone and the like.

またこの他、アクリジン誘導体（例えば９−フェニルアクリジン、１，７−ビス（９，９’−アクリジニル）ヘプタン等）、Ｎ−フェニルグリシン等、ベンゾインもしくはベンゾインエーテル類（例えば、ベンゾインメチルエーテル、ベンゾインエチルエーテル、ベンゾインプロピルエーテル、ベンゾインイソプロピルエーテル、ベンゾインフェニルエーテル等）、ポリハロゲン化合物（例えば、四臭化炭素、フェニルトリブロモメチルスルホン、フェニルトリクロロメチルケトン等）、クマリン類（例えば、３−（２−ベンゾフロイル）−７−ジエチルアミノクマリン、３−（２−ベンゾフロイル）−７−（１−ピロリジニル）クマリン、３−ベンゾイル−７−ジエチルアミノクマリン、３−（ｏ−メトキシベンゾイル）−７−ジエチルアミノクマリン、３−（ｐ−ジメチルアミノベンゾイル）−７−ジエチルアミノクマリン、３,３’−カルボニルビス（５，７−ジ−ｎ−プロポキシクマリン）、３，３’−カルボニルビス（７−ジエチルアミノクマリン）、３−ベンゾイル−７−メトキシクマリン、３−（２−フロイル）−７−ジエチルアミノクマリン、３−（ｐ−ジエチルアミノシンナモイル）−７−ジエチルアミノクマリン、７−メトキシ−３−（３−ピリジルカルボニル）クマリン、３−ベンゾイル−５,７−ジプロポキシクマリン等）、アミン類（例えば、ｐ−ジメチルアミノ安息香酸エチル、ｐ−ジメチルアミノ安息香酸ｎ−ブチル、ｐ−ジメチルアミノ安息香酸フェネチル、ｐ−ジメチルアミノ安息香酸２−フタルイミドエチル、ｐ−ジメチルアミノ安息香酸２−メタクリロイルオキシエチル、ペンタメチレンビス（ｐ−ジメチルアミノベンゾエート）、ｍ−ジメチルアミノ安息香酸のフェネチル及びペンタメチレンエステル、ｐ−ジメチルアミノベンズアルデヒド、２−クロル−４−ジメチルアミノベンズアルデヒド、ｐ−ジメチルアミノベンジルアルコール、エチル（ｐ−ジメチルアミノ）ベンゾイルアセテート、ｐ−ピペリジノアセトフェノン、４−ジメチルアミノベンゾイン、Ｎ，Ｎ−ジメチル−ｐ−トルイジン、Ｎ，Ｎ−ジエチル−ｍ−フェネチジン、トリベンジルアミン、ジベンジルフェニルアミン、Ｎ−メチル−Ｎ−フェニルベンジルアミン、ｐ−ブロム−Ｎ,Ｎ−ジメチルアニリン、トリドデシルアミン、ロイコクリスタルバイオレット等）、アシルホスフィンオキシド類（例えばビス（２，４，６−トリメチルベンゾイル）−フェニルホスフィンオキシド、ビス（２，６−ジメトキシベンゾイル）−２，４，４−トリメチル−ペンチルフェニルホスフィンオキシドなど）メタロセン類（例えばビス（η5−２，４−シクロペンタジエン−１−イル）−ビス（２，６−ジフロロ−３−（１Ｈ−ピロール−１−イル）−フェニル）チタニウム、η5−シクロペンタジエニル−η６−クメニル−アイアン（１＋）−ヘキサフロロホスフェイト（１―）など）、特開昭５３−１３３４２８号公報、特公昭５７−１８１９号公報、同５７−６０９６号公報、及び米国特許第３６１５４５５号明細書に開示されている化合物なども挙げられる。   In addition, acridine derivatives (for example, 9-phenylacridine, 1,7-bis (9,9′-acridinyl) heptane, etc.), N-phenylglycine, etc., benzoin or benzoin ethers (for example, benzoin methyl ether, benzoin ethyl) Ether, benzoin propyl ether, benzoin isopropyl ether, benzoin phenyl ether, etc.), polyhalogen compounds (eg, carbon tetrabromide, phenyl tribromomethyl sulfone, phenyl trichloromethyl ketone, etc.), coumarins (eg, 3- (2- Benzofuroyl) -7-diethylaminocoumarin, 3- (2-benzofuroyl) -7- (1-pyrrolidinyl) coumarin, 3-benzoyl-7-diethylaminocoumarin, 3- (o-methoxybenzoyl) -7-diethyla Nocoumarin, 3- (p-dimethylaminobenzoyl) -7-diethylaminocoumarin, 3,3′-carbonylbis (5,7-di-n-propoxycoumarin), 3,3′-carbonylbis (7-diethylaminocoumarin) 3-benzoyl-7-methoxycoumarin, 3- (2-furoyl) -7-diethylaminocoumarin, 3- (p-diethylaminocinnamoyl) -7-diethylaminocoumarin, 7-methoxy-3- (3-pyridylcarbonyl) Coumarin, 3-benzoyl-5,7-dipropoxycoumarin, etc.), amines (eg, ethyl p-dimethylaminobenzoate, n-butyl p-dimethylaminobenzoate, phenethyl p-dimethylaminobenzoate, p-dimethyl) Aminobenzoic acid 2-phthalimidoethyl, p-dimethylaminobenzoic acid 2-me Tacryloyloxyethyl, pentamethylene bis (p-dimethylaminobenzoate), phenethyl and pentamethylene esters of m-dimethylaminobenzoic acid, p-dimethylaminobenzaldehyde, 2-chloro-4-dimethylaminobenzaldehyde, p-dimethylaminobenzyl Alcohol, ethyl (p-dimethylamino) benzoyl acetate, p-piperidinoacetophenone, 4-dimethylaminobenzoin, N, N-dimethyl-p-toluidine, N, N-diethyl-m-phenetidine, tribenzylamine, di Benzylphenylamine, N-methyl-N-phenylbenzylamine, p-bromo-N, N-dimethylaniline, tridodecylamine, leucocrystal violet, etc.), acylphosphine oxides (for example, bis (2 , 4,6-trimethylbenzoyl) -phenylphosphine oxide, bis (2,6-dimethoxybenzoyl) -2,4,4-trimethyl-pentylphenylphosphine oxide, etc.) metallocenes (for example, bis (η5-2,4-cyclo Pentadien-1-yl) -bis (2,6-difluoro-3- (1H-pyrrol-1-yl) -phenyl) titanium, η 5 -cyclopentadienyl-η 6 -cumenyl-iron (1 +)-hexafluorophos And compounds disclosed in JP-A-53-133428, JP-B-57-1819, JP-A-57-6096, and US Pat. No. 3,615,455. .

更に米国特許第２３６７６６０号明細書に開示されているビシナルポリケタルドニル化合物、米国特許第２４４８８２８号明細書に記載されているアシロインエーテル化合物、米国特許第２７２２５１２号明細書に記載のα−炭化水素で置換された芳香族アシロイン化合物、米国特許第３０４６１２７号明細書及び同第２９５１７５８号明細書に記載の多核キノン化合物、
またトリアリールスルホニウム塩（ヘキサフロロアンチモンやヘキサフロロホスフェートとの塩）、（フェニルチオフェニル）ジフェニルスルホニウム塩などのようなホスホニウム塩化合物（カチオン重合開始剤として有効）を用いることもできる。 Furthermore, the vicinal polyketaldonyl compound disclosed in US Pat. No. 2,367,660, the acyloin ether compound described in US Pat. No. 2,448,828, the α-form described in US Pat. No. 2,722,512 Aromatic acyloin compounds substituted with hydrocarbons, polynuclear quinone compounds described in US Pat. Nos. 3,046,127 and 2,951,758,
Further, phosphonium salt compounds (effective as a cationic polymerization initiator) such as triarylsulfonium salts (salts with hexafluoroantimony or hexafluorophosphate), (phenylthiophenyl) diphenylsulfonium salts, and the like can also be used.

これらの光重合開始剤は単独種で一つまたは二つ以上を併用して使用することができる。また、異種間で二個以上の化合物を併用することも可能である。この様な組合せとしては例えば米国特許第３５４９３６７号明細書に記載のトリアリールイミダゾール二量体とｐ−アミノケトンの組合せ、特公昭５１−４８５１６号公報に記載のベンゾチアゾール化合物とトリハロメチル−ｓ−トリアジン化合物なども利用できる。
光重合開始剤の使用量は、感光性樹脂組成物の総量（溶媒を除く）の０．１〜３０質量％の範囲が一般的であり、好ましくは０．５〜２０質量％の範囲であり、特に好ましくは０．５〜１５質量％の範囲である。 These photopolymerization initiators can be used alone or in combination of two or more. It is also possible to use two or more compounds in combination between different species. Examples of such combinations include a combination of a triarylimidazole dimer and a p-aminoketone described in US Pat. No. 3,549,367, and a benzothiazole compound and trihalomethyl-s-triazine described in JP-B-51-48516. Compounds and the like can also be used.
The amount of the photopolymerization initiator used is generally in the range of 0.1 to 30% by mass, preferably in the range of 0.5 to 20% by mass, based on the total amount of the photosensitive resin composition (excluding the solvent). Especially preferably, it is the range of 0.5-15 mass%.

感光性樹脂組成物層を２層有する感光性転写シートとして用いる場合で、第一感光層と第二感光層との感度差を光重合開始剤の含有量で調整する場合には、第二感光層の光重合開始剤含有量は、第一感光層の光重合開始剤の含有量に対して１．５〜１０倍の量とすることが好ましく、特に２〜５倍の量とすることが好ましい。   When using as a photosensitive transfer sheet having two photosensitive resin composition layers, and adjusting the sensitivity difference between the first photosensitive layer and the second photosensitive layer by the content of the photopolymerization initiator, The content of the photopolymerization initiator in the layer is preferably 1.5 to 10 times, particularly 2 to 5 times the content of the photopolymerization initiator in the first photosensitive layer. preferable.

［増感剤］
本発明の感光性樹脂組成物には、感光性樹脂組成物の露光における感度を調整する目的、あるいは光線（活性エネルギー線）として可視光線や紫外光レーザーを用いる場合などに、いわゆる増感剤を添加することができる。
増感剤としては、公知の多核芳香族類（例えば、ピレン、ペリレン、トリフェニレン）、キサンテン類（例えば、フルオレセイン、エオシン、エリスロシン、ローダミンＢ、ローズベンガル）、シアニン類（例えば、チアカルボシアニン、オキサカルボシアニン）、メロシアニン類（例えば、メロシアニン、カルボメロシアニン）、チアジン類（例えば、チオニン、メチレンブルー、トルイジンブルー）、アクリジン類（例えば、アクリジンオレンジ、クロロフラビン、アクリフラビン）、アントラキノン類（例えば、アントラキノン）、スクアリウム類（例えば、スクアリウム）、アクリドン類（例えば、アクリドン、クロロアクリドン、Ｎ−メチルアクリドン、Ｎ−ブチルアクリドン、Ｎ−ブチルクロロアクリドン等）、クマリン類（例えば、３−（２−ベンゾフロイル）−７−ジエチルアミノクマリン、３−（２−ベンゾフロイル）−７−（１−ピロリジニル）クマリン、３−ベンゾイル−７−ジエチルアミノクマリン、３−（ｏ−メトキシベンゾイル）−７−ジエチルアミノクマリン、３−（ｐ−ジメチルアミノベンゾイル）−７−ジエチルアミノクマリン、３,３’−カルボニルビス（５，７−ジ−ｎ−プロポキシクマリン）、３，３’−カルボニルビス（７−ジエチルアミノクマリン）、３−ベンゾイル−７−メトキシクマリン、３−（２−フロイル）−７−ジエチルアミノクマリン、３−（ｐ−ジエチルアミノシンナモイル）−７−ジエチルアミノクマリン、７−メトキシ−３−（３−ピリジルカルボニル）クマリン、３−ベンゾイル−５,７−ジプロポキシクマリン等）なども利用できる。
またこれらの開始剤と増感剤の組合せとしては例えば特開２００１−３０５７３４に記載の電子移動型開始系（（１）電子供与型開始剤および増感色素、（２）電子受容型開始剤および増感色素、（３）電子供与型開始剤、増感色素および電子受容型開始剤（三元開始系））などに記載の例などが挙げられる。 [Sensitizer]
In the photosensitive resin composition of the present invention, a so-called sensitizer is used for the purpose of adjusting the sensitivity in exposure of the photosensitive resin composition, or when using visible light or ultraviolet laser as light (active energy ray). Can be added.
Examples of the sensitizer include known polynuclear aromatics (eg, pyrene, perylene, triphenylene), xanthenes (eg, fluorescein, eosin, erythrosine, rhodamine B, rose bengal), cyanines (eg, thiacarbocyanine, oxaxene). Carbocyanine), merocyanines (eg, merocyanine, carbomerocyanine), thiazines (eg, thionine, methylene blue, toluidine blue), acridines (eg, acridine orange, chloroflavin, acriflavine), anthraquinones (eg, anthraquinone) , Squaraines (eg, squalium), acridones (eg, acridone, chloroacridone, N-methylacridone, N-butylacridone, N-butylchloroacridone, etc.), coumarins (eg For example, 3- (2-benzofuroyl) -7-diethylaminocoumarin, 3- (2-benzofuroyl) -7- (1-pyrrolidinyl) coumarin, 3-benzoyl-7-diethylaminocoumarin, 3- (o-methoxybenzoyl)- 7-diethylaminocoumarin, 3- (p-dimethylaminobenzoyl) -7-diethylaminocoumarin, 3,3′-carbonylbis (5,7-di-n-propoxycoumarin), 3,3′-carbonylbis (7- Diethylaminocoumarin), 3-benzoyl-7-methoxycoumarin, 3- (2-furoyl) -7-diethylaminocoumarin, 3- (p-diethylaminocinnamoyl) -7-diethylaminocoumarin, 7-methoxy-3- (3- Pyridylcarbonyl) coumarin, 3-benzoyl-5,7-dipropoxycoumarin, etc.) Domo available.
Moreover, as a combination of these initiators and sensitizers, for example, an electron transfer-type initiator system described in JP-A-2001-305734 ((1) an electron-donating initiator and a sensitizing dye, (2) an electron-accepting initiator, and Examples include sensitizing dyes, (3) electron donating initiators, sensitizing dyes and electron accepting initiators (ternary initiator systems)).

増感剤の添加量は、感光性樹脂組成物の総量（溶媒を除く）の０．０５〜３０質量％の範囲にあり、好ましくは０．１〜２０質量％の範囲であり、特に好ましくは０．２〜１０質量％の範囲である。増感剤の添加量が多いと感光性樹脂組成物から保存時に析出し、あまりに少ないと活性エネルギー線への感度が低下し、露光プロセスに時間がかかり、生産性を低下することがある。   The addition amount of the sensitizer is in the range of 0.05 to 30% by mass, preferably in the range of 0.1 to 20% by mass, particularly preferably, based on the total amount of the photosensitive resin composition (excluding the solvent). It is the range of 0.2-10 mass%. When the addition amount of the sensitizer is large, it is precipitated from the photosensitive resin composition at the time of storage, and when it is too small, the sensitivity to the active energy ray is lowered, the exposure process takes time, and the productivity may be lowered.

［その他の成分］
本発明の感光性樹脂組成物は、必要に応じて熱重合禁止剤、可塑剤、変色剤、着色剤、更に感光性転写シートとして用いる場合の基体表面への密着促進剤及びその他の助剤類（例えば顔料、充填剤、消泡剤、難燃剤、レベリング剤、剥離促進剤、酸化防止剤、香料、熱架橋剤、表面張力調整剤、連鎖移動剤など）を併用してもよく、これによって目的とする感光性樹脂組成物の安定性、写真性、焼きだし性、膜物性等の性質を調節することができる。 [Other ingredients]
The photosensitive resin composition of the present invention comprises, if necessary, a thermal polymerization inhibitor, a plasticizer, a color change agent, a colorant, an adhesion promoter for a substrate surface when used as a photosensitive transfer sheet, and other auxiliary agents. (For example, pigments, fillers, antifoaming agents, flame retardants, leveling agents, peeling accelerators, antioxidants, fragrances, thermal crosslinking agents, surface tension modifiers, chain transfer agents, etc.) may be used in combination. Properties such as stability, photographic properties, print-out properties, and film properties of the intended photosensitive resin composition can be adjusted.

［熱重合禁止剤］
熱重合禁止剤は、感光性樹脂組成物の重合性化合物の熱的な重合又は経時的な重合を防止するために添加する。熱重合禁止剤としては、例えば、ｐ−メトキシフェノール、ハイドロキノン、アルキルまたはアリール置換ハイドロキノン、ｔ−ブチルカテコール、ピロガロール、２−ヒドロキシベンゾフェノン、４−メトキシ−２−ヒドロキシベンゾフェノン、塩化第一銅、フェノチアジン、クロラニル、ナフチルアミン、β−ナフトール、２，６−ジ−ｔ−ブチル−ｐ−クレゾール、２，２‘−メチレンビス（４−メチルー６−ｔ−ブチルフェノール）、ピリジン、ニトロベンゼン、ジニトロベンゼン、ピクリン酸、ｐ−トルイジン、メチレンブルー、有機銅、サリチル酸メチル、及びフェノチアジン等が挙げられる。 [Thermal polymerization inhibitor]
The thermal polymerization inhibitor is added to prevent thermal polymerization or temporal polymerization of the polymerizable compound of the photosensitive resin composition. Examples of the thermal polymerization inhibitor include p-methoxyphenol, hydroquinone, alkyl or aryl-substituted hydroquinone, t-butylcatechol, pyrogallol, 2-hydroxybenzophenone, 4-methoxy-2-hydroxybenzophenone, cuprous chloride, phenothiazine, Chloranil, naphthylamine, β-naphthol, 2,6-di-tert-butyl-p-cresol, 2,2′-methylenebis (4-methyl-6-tert-butylphenol), pyridine, nitrobenzene, dinitrobenzene, picric acid, p -Toluidine, methylene blue, organic copper, methyl salicylate, phenothiazine and the like.

熱重合禁止剤の添加量は、感光性樹脂組成物の重合性モノマーに対して０．００１〜５質量％の範囲にあることが好ましく、より好ましくは０．００５〜２質量％の範囲であり、特に好ましくは０．０１〜１質量％の範囲である。熱重合禁止剤の添加量が、この範囲を超えて多くなると活性エネルギー線に対する感度が低下する傾向にあり、この範囲を超えて少なくなると保存時の安定性が低下する傾向にある。   The addition amount of the thermal polymerization inhibitor is preferably in the range of 0.001 to 5% by mass, more preferably in the range of 0.005 to 2% by mass with respect to the polymerizable monomer of the photosensitive resin composition. Especially preferably, it is the range of 0.01-1 mass%. When the addition amount of the thermal polymerization inhibitor exceeds this range, the sensitivity to active energy rays tends to decrease, and when it exceeds this range, the stability during storage tends to decrease.

［可塑剤］
可塑剤は、感光性樹脂組成物および感光性転写シートとして用いる場合の感光性樹脂組成物層の膜物性（可撓性）をコントロールするために添加する。可塑剤の例としては、ジメチルフタレート、ジブチルフタレート、ジイソブチルフタレート、ジヘプチルフタレート、ジオクチルフタレート、ジシクロヘキシルフタレート、ジトリデシルフタレート、ブチルベンジルフタレート、ジイソデシルフタレート、ジアリルフタレート、オクチルカプリールフタレート等のフタル酸エステル類；トリエチレングリコールジアセテート、テトラエチレングリコールジアセテート、ジメチルグリコースフタレート、エチルフタリールエチルグリコレート、メチルフタリールエチルグリコレート、ブチルフタリールブチルグリコレート、トリエチレングリコールジカブリル酸エステル等のグリコールエステル類；トリクレジルホスフェート、トリフェニルホスフェート等のリン酸エステル類；ｐ−トルエンスルホンアミド、ベンゼンスルホンアミド、Ｎ−ｎ−ブチルアセトアミド等のアミド類；ジイソブチルアジペート、ジオクチルアジペート、ジメチルセバケート、ジブチルセバケート、ジオクチルセバケート、ジオクチルアゼレート、ジブチルマレート等の脂肪族二塩基酸エステル類；クエン酸トリエチル、クエン酸トリブチル、グリセリントリアセチルエステル、ラウリン酸ブチル、４，５−ジエポキシシクロヘキサン−１，２−ジカルボン酸ジオクチル等、ポリエチレングリコール、ポリプロピレングリコール等のグリコール類が挙げられる。 [Plasticizer]
The plasticizer is added to control film physical properties (flexibility) of the photosensitive resin composition layer when used as the photosensitive resin composition and the photosensitive transfer sheet. Examples of plasticizers include phthalates such as dimethyl phthalate, dibutyl phthalate, diisobutyl phthalate, diheptyl phthalate, dioctyl phthalate, dicyclohexyl phthalate, ditridecyl phthalate, butyl benzyl phthalate, diisodecyl phthalate, diallyl phthalate, octyl capryl phthalate Glycol esters such as triethylene glycol diacetate, tetraethylene glycol diacetate, dimethylglycol phthalate, ethyl phthalyl ethyl glycolate, methyl phthalyl ethyl glycolate, butyl phthalyl butyl glycolate, triethylene glycol dicabrylate Phosphate esters such as tricresyl phosphate and triphenyl phosphate; p-toluene Amides such as luphonamide, benzenesulfonamide, Nn-butylacetamide; aliphatic dibasic acid esters such as diisobutyl adipate, dioctyl adipate, dimethyl sebacate, dibutyl sebacate, dioctyl sebacate, dioctyl azelate, dibutyl malate Examples: glycols such as polyethylene glycol, polypropylene glycol and the like; triethyl citrate, tributyl citrate, glycerin triacetyl ester, butyl laurate, dioctyl 4,5-diepoxycyclohexane-1,2-dicarboxylate, and the like.

可塑剤の添加量は、感光性樹脂組成物の総量（溶媒を除く）の０．１〜５０質量％の範囲にあることが好ましく、より好ましくは０．５〜４０質量％の範囲、特に好ましくは１〜３０質量％の範囲である。   The addition amount of the plasticizer is preferably in the range of 0.1 to 50% by mass, more preferably in the range of 0.5 to 40% by mass, particularly preferably the total amount of the photosensitive resin composition (excluding the solvent). Is in the range of 1-30% by weight.

変色剤は、感光性転写シートとして用いる場合に、露光後の感光性樹脂組成物層に可視像を与える（焼きだし機能）ために添加される。変色剤としては、例えば、トリス（ｐ−ジメチルアミノフェニル）メタン（ロイコクリスタルバイオレツト）、トリス（ｐ−ジエチルアミノフェニル）メタン、トリス（ｐ−ジメチルアミノ−ｏ−メチルフェニル）メタン、トリス（ｐ−ジエチルアミノ−ｏ−メチルフェニル）メタン、ビス（ｐ−ジブチルアミノフェニル）−〔ｐ−（２−シアノエチル）メチルアミノフェニル〕メタン、ビス（ｐ−ジメチルアミノフェニル）−２−キノリルメタン、トリス（ｐ−ジプロピルアミノフェニル）メタン等のアミノトリアリールメタン類；３，６−ビス（ジメチルアミノ）−９−フェニルキサンチン、３−アミノ−６−ジメチルアミノ−２−メチル−９−（ｏ−クロロフェニル）キサンチン等のアミノキサンチン類；３，６−ビス（ジエチルアミノ）−９−（ｏ−エトキシカルボニルフェニル）チオキサンテン、３，６−ビス（ジメチルアミノ）チオキサンテン等のアミノチオキサンテン類；３，６−ビス（ジエチルアミノ）−９，１０−ジヒドロ−９−フェニルアクリジン、３，６−ビス（ベンジルアミノ）−９，１０−ジヒドロ−９−メチルアクリジン等のアミノ−９，１０−ジヒドロアクリジン類；３，７−ビス（ジエチルアミノ）フェノキサジン等のアミノフェノキサジン類；３，７−ビス（エチルアミノ）フェノチアゾン等のアミノフェノチアジン類；３，７−ビス（ジエチルアミノ）−５−ヘキシル−５，１０−ジヒドロフェナジン等のアミノジヒドロフェナジン類；ビス（ｐ−ジメチルアミノフェニル）アニリノメタン等のアミノフェニルメタン類；４−アミノ−４’−ジメチルアミノジフェニルアミン、４−アミノ−α、β−ジシアノヒドロケイ皮酸メチルエステル等のアミノヒドロケイ皮酸類；１−（２−ナフチル）−２−フェニルヒドラジン等のヒドラジン類；１，４−ビス（エチルアミノ）−２，３−ジヒドロアントラキノン類のアミノ−２，３−ジヒドロアントラキノン類；Ｎ，Ｎ−ジエチル−ｐ−フェネチルアニリン等のフェネチルアニリン類；１０−アセチル−３，７−ビス（ジメチルアミノ）フェノチアジン等の塩基性ＮＨを含むロイコ色素のアシル誘導体；トリス（４−ジエチルアミノ−ｏ−トリル）エトキシカルボニルメンタン等の酸化しうる水素をもっていないが、発色化合物に酸化しうるロイコ様化合物；ロイコインジゴイド色素；米国特許３，０４２，５１５号及び同第３，０４２，５１７号に記載されているような発色形に酸化しうるような有機アミン類（例、４，４’−エチレンジアミン、ジフェニルアミン、Ｎ，Ｎ−ジメチルアニリン、４，４’−メチレンジアミントリフェニルアミン、Ｎ−ビニルカルバゾール）を挙げることができる。特に好ましいものはロイコクリスタルバイオレットである。   When used as a photosensitive transfer sheet, the color changing agent is added to give a visible image (printing function) to the exposed photosensitive resin composition layer. Examples of the color changing agent include tris (p-dimethylaminophenyl) methane (leucocrystal violet), tris (p-diethylaminophenyl) methane, tris (p-dimethylamino-o-methylphenyl) methane, tris (p- Diethylamino-o-methylphenyl) methane, bis (p-dibutylaminophenyl)-[p- (2-cyanoethyl) methylaminophenyl] methane, bis (p-dimethylaminophenyl) -2-quinolylmethane, tris (p-di Aminotriarylmethanes such as propylaminophenyl) methane; 3,6-bis (dimethylamino) -9-phenylxanthine, 3-amino-6-dimethylamino-2-methyl-9- (o-chlorophenyl) xanthine, etc. Aminoxanthines; 3,6-bis (diethylamino) ) -9- (o-ethoxycarbonylphenyl) thioxanthene, 3,6-bis (dimethylamino) thioxanthene and other aminothioxanthenes; 3,6-bis (diethylamino) -9,10-dihydro-9-phenyl Acridine, amino-9,10-dihydroacridines such as 3,6-bis (benzylamino) -9,10-dihydro-9-methylacridine; aminophenoxazines such as 3,7-bis (diethylamino) phenoxazine Aminophenothiazines such as 3,7-bis (ethylamino) phenothiazone; aminodihydrophenazines such as 3,7-bis (diethylamino) -5-hexyl-5,10-dihydrophenazine; bis (p-dimethylaminophenyl); ) Aminophenylmethanes such as anilinomethane; 4-amino-4'- Aminohydrocinnamic acids such as methylaminodiphenylamine, 4-amino-α, β-dicyanohydrocinnamic acid methyl ester; hydrazines such as 1- (2-naphthyl) -2-phenylhydrazine; 1,4-bis ( Amino-2,3-dihydroanthraquinones of ethylamino) -2,3-dihydroanthraquinones; Phenethylanilines such as N, N-diethyl-p-phenethylaniline; 10-acetyl-3,7-bis (dimethylamino) ) An acyl derivative of a leuco dye containing basic NH such as phenothiazine; a leuco-like compound that does not have oxidizable hydrogen such as tris (4-diethylamino-o-tolyl) ethoxycarbonylmentane, but can be oxidized to a coloring compound; Id dyes; U.S. Pat. Nos. 3,042,515 and 3,042, Organic amines that can be oxidized to a colored form as described in No. 17 (eg, 4,4′-ethylenediamine, diphenylamine, N, N-dimethylaniline, 4,4′-methylenediamine triphenylamine, N-vinylcarbazole). Particularly preferred is leuco crystal violet.

更にこれらのロイコ体を発色させるためなどの目的でハロゲン化合物と組み合わせることが知られている。ハロゲン化合物の例としてはハロゲン化炭化水素（例えば四臭化炭素、ヨードホルム、臭化エチレン、臭化メチレン、臭化アミル、臭化イソアミル、ヨウ化アミル、臭化イソブチレン、ヨウ化ブチル、臭化ジフェニルメチル、ヘキサクロロエタン、１，２−ジブロモエタン、１，１，２，２−テトラブロモエタン、１，２−ジブロモ−１，１，２−トリクロロエタン、１，２，３−トリブロモプロパン、１−ブロモ−４−クロロブタン、１，２，３，４−テトラブロモブタン、テトラクロロシクロプロペン、ヘキサクロロシクロペンタジエン、ジブロモシキロヘキサン、１，１，１−トリクロロ−２，２−ビス（ｐ−クロロフェニル）エタンなど）；ハロゲン化アルコール化合物（例えば、２，２，２−トリクロロエタノール、トリブロモエタノール、１，３−ジクロロ−２−プロパノール、１，１，１−トリクロロ−２−プロパノール、ジ（ヨードヘキサメチレン）アミノイソプロパノール、トリブロモ−ｔｅｒｔ−ブチルアルコール、２，２，３−トリクロロブタン−１，４−ジオールなど）；ハロゲン化カルボニル化合物（例えば１，１−ジクロロアセトン、１，３−ジクロロアセトン、ヘキサクロロアセトン、ヘキサブロモアセトン、１，１，３，３−テトラクロロアセトン、１，１，１−トリクロロアセトン、３，４−ジブロモ−２−ブタノン、１，４−ジクロロ−２−ブタノン−ジブロモシクロヘキサノンど）；ハロゲン化エーテル化合物（例えば２−ブロモエチルメチルエーテル、２−ブロモエチルエチルエーテル、ジ（２−ブロモエチル）エーテル、１，２−ジクロロエチルエチルエーテルなど）；ハロゲン化エステル化合物（例えば酢酸ブロモエチル、トリクロロ酢酸エチル、トリクロロ酢酸トリクロロエチル、２，３−ジブロモプロピルアクリレートのホモポリマー及び共重合体、ジブロモプロピオン酸トリクロロエチル、α，β−ジクロロアクリル酸エチルなど）；ハロゲン化アミド化合物（例えばクロロアセトアミド、ブロモアセトアミド、ジクロロアセトアミド、トリクロロアセトアミド、トリブロモアセトアミド、トリクロロエチルトリクロロアセトアミド、２−ブロモイソプロピオンアミド、２，２，２−トリクロロプロピオンアミド、Ｎ−クロロスクシンイミド、Ｎ−ブロモスクシンイミドなど）；   Furthermore, it is known to combine with a halogen compound for the purpose of coloring these leuco bodies. Examples of halogen compounds are halogenated hydrocarbons (eg carbon tetrabromide, iodoform, ethylene bromide, methylene bromide, amyl bromide, isoamyl bromide, amyl iodide, isobutylene bromide, butyl iodide, diphenyl bromide). Methyl, hexachloroethane, 1,2-dibromoethane, 1,1,2,2-tetrabromoethane, 1,2-dibromo-1,1,2-trichloroethane, 1,2,3-tribromopropane, 1- Bromo-4-chlorobutane, 1,2,3,4-tetrabromobutane, tetrachlorocyclopropene, hexachlorocyclopentadiene, dibromocyclohexane, 1,1,1-trichloro-2,2-bis (p-chlorophenyl) Ethane); halogenated alcohol compounds (for example, 2,2,2-trichloroethanol, tribromoethane) Nord, 1,3-dichloro-2-propanol, 1,1,1-trichloro-2-propanol, di (iodohexamethylene) aminoisopropanol, tribromo-tert-butyl alcohol, 2,2,3-trichlorobutane-1 Halogenated carbonyl compounds (for example, 1,1-dichloroacetone, 1,3-dichloroacetone, hexachloroacetone, hexabromoacetone, 1,1,3,3-tetrachloroacetone, 1,1, 1-trichloroacetone, 3,4-dibromo-2-butanone, 1,4-dichloro-2-butanone-dibromocyclohexanone); halogenated ether compounds (for example, 2-bromoethyl methyl ether, 2-bromoethyl ethyl ether, Di (2-bromoethyl) ether, 1,2-dic Halogenated ester compounds (eg, bromoethyl acetate, ethyl trichloroacetate, trichloroethyl trichloroacetate, homopolymers and copolymers of 2,3-dibromopropyl acrylate, trichloroethyl dibromopropionate, α, β- Halogenated amide compounds (eg chloroacetamide, bromoacetamide, dichloroacetamide, trichloroacetamide, tribromoacetamide, trichloroethyltrichloroacetamide, 2-bromoisopropionamide, 2,2,2-trichloropropionamide) N-chlorosuccinimide, N-bromosuccinimide, etc.);

硫黄やリンを有する化合物（例えばトリブロモメチルフェニルスルホン、ｐ−ニトロフェニルトリブロモメチルスルホン、ｐ−クロルフェニルトリブロモメチルスルホン、トリス（２，３−ジブロモプロピル）ホスフェートなど）、２，４−ビス（トリクロロメチル）６−フェニルトリアゾールなどが挙げられる。有機ハロゲン化合物のうちでは同一炭素原子に結合した二個以上のハロゲン原子を持つハロゲン化物が好ましく、特に好ましくは一個の炭素原子に三個のハロゲン原子を持つハロゲン化物である。有機ハロゲン化合物は単独で使用してもよく、二種以上併用してもよい。これらのうち特に好ましい有機ハロゲン化合物は、トリブロモメチルフェニルスルホン、２，４−ビス（トリクロロメチル）６−フェニルトリアゾールである。   Compounds having sulfur or phosphorus (for example, tribromomethylphenylsulfone, p-nitrophenyltribromomethylsulfone, p-chlorophenyltribromomethylsulfone, tris (2,3-dibromopropyl) phosphate), 2,4-bis (Trichloromethyl) 6-phenyltriazole and the like. Of the organic halogen compounds, a halide having two or more halogen atoms bonded to the same carbon atom is preferable, and a halide having three halogen atoms in one carbon atom is particularly preferable. The organic halogen compounds may be used alone or in combination of two or more. Of these, particularly preferred organic halogen compounds are tribromomethylphenylsulfone and 2,4-bis (trichloromethyl) 6-phenyltriazole.

変色剤の添加量は、感光性樹脂組成物の総量（溶媒を除く）の０．０１〜２０質量％の範囲が好ましく、より好ましくは、０．０５〜１０質量％の範囲であり、特に好ましくは０．１〜５質量％の範囲である。またハロゲン化合物の量は、感光性樹脂組成物の総量（溶媒を除く）の０．００１〜５質量％の範囲が一般的で、０．００５〜１質量％が好ましい。   The addition amount of the color changing agent is preferably in the range of 0.01 to 20% by mass, more preferably in the range of 0.05 to 10% by mass, particularly preferably the total amount (excluding the solvent) of the photosensitive resin composition. Is in the range of 0.1 to 5% by mass. The amount of the halogen compound is generally in the range of 0.001 to 5 mass%, preferably 0.005 to 1 mass% of the total amount of the photosensitive resin composition (excluding the solvent).

［染料］
本発明において、感光性樹脂組成物には、取り扱い性の向上のために組成物を着色させたり、保存安定性を付与する目的に染料を用いることができる。好適な染料の例としては、ブリリアントグリーン（例えばその硫酸塩）、エオシン、エチルバイオレット、エリスロシンＢ、メチルグリーン、クリスタルバイオレット、ベイシックフクシン、フェノールフタレイン、１，３−ジフェニルトリアジン、アリザリンレッドＳ、チモールフタレイン、メチルバイオレット２Ｂ、キナルジンレッド、ローズベンガル、メタニル−イエロー、チモールスルホフタレイン、キシレノールブルー、メチルオレンジ、オレンジＩＶ、ジフェニルチロカルバゾン、２，７−ジクロロフルオレセイン、パラメチルレッド、コンゴーレッド、ベンゾプルプリン４Ｂ、α−ナフチル−レッド、ナイルブルーＡ、フェナセタリン、メチルバイオレット、マラカイトグリーン（例えばそのシュウ酸塩）、パラフクシン、オイルブルー＃６０３（オリエント化学工業（株）製）、ローダミンＢ、及びローダミン６Ｇ、ビクトリアピュアブルーＢＯＨなどを挙げることができる。特に好ましい染料は、マラカイトグリーンシュウ酸塩である。 [dye]
In the present invention, a dye can be used in the photosensitive resin composition for the purpose of coloring the composition for improving handleability or imparting storage stability. Examples of suitable dyes include brilliant green (eg sulfate thereof), eosin, ethyl violet, erythrosine B, methyl green, crystal violet, basic fuchsin, phenolphthalein, 1,3-diphenyltriazine, alizarin red S, thymol. Phthalein, Methyl Violet 2B, Quinaldine Red, Rose Bengal, Methanyl-Yellow, Thymolsulfophthalein, Xylenol Blue, Methyl Orange, Orange IV, Diphenyltylocarbazone, 2,7-Dichlorofluorescein, Paramethyl Red, Congo Red Benzopurpurin 4B, α-naphthyl-red, Nile blue A, phenacetalin, methyl violet, malachite green (eg, its oxalate salt), parafuchsin, o Ruburu # 603 (manufactured by Orient Chemical Industries, Ltd.), may be mentioned rhodamine B, and rhodamine 6G, and Victoria Pure Blue BOH. A particularly preferred dye is malachite green oxalate.

染料の好ましい添加量は、感光性樹脂組成物の総量（溶媒を除く）の０．００１〜１０質量％の範囲である。より好ましくは０．０１〜５質量％の範囲、特に好ましくは０．１〜２質量％の範囲である。   The preferable addition amount of the dye is in the range of 0.001 to 10% by mass of the total amount (excluding the solvent) of the photosensitive resin composition. More preferably, it is the range of 0.01-5 mass%, Most preferably, it is the range of 0.1-2 mass%.

［密着促進剤］
本発明の感光性樹脂組成物では、感光性転写シートとして用いる場合などにプリント配線板製造用基板への密着性を向上させるため、感光性樹脂組成物に公知のいわゆる密着促進剤を添加することができる。密着促進剤としては、特開平５−１１４３９号公報、特開平５−３４１５３２号公報、及び特開平６−４３６３８号公報の各号明細書に記載の密着促進剤が好適に使用できる。具体的には、ベンズイミダゾール、ベンズオキサゾール、ベンズチアゾール、２−メルカプトベンズイミダゾール、２−メルカプトベンズオキサノール、２−メルカプトベンズチアゾール、３−モルホリノメチル−１−フェニル−トリアゾール−２−チオン、３−モルホリノメチル−５−フェニル−オキサジアゾール−２−チオン、５−アミノ−３−モルホリノメチル−チアジアゾール−２−チオン、及び２−メルカプト−５−メチルチオ−チアジアゾール、トリアゾール、テトラゾールなどを挙げることができる。 [Adhesion promoter]
In the photosensitive resin composition of the present invention, a known so-called adhesion promoter is added to the photosensitive resin composition in order to improve adhesion to a printed wiring board manufacturing substrate when used as a photosensitive transfer sheet. Can do. As the adhesion promoter, adhesion promoters described in JP-A-5-11439, JP-A-5-341532, and JP-A-6-43638 can be preferably used. Specifically, benzimidazole, benzoxazole, benzthiazole, 2-mercaptobenzimidazole, 2-mercaptobenzoxanol, 2-mercaptobenzthiazole, 3-morpholinomethyl-1-phenyl-triazole-2-thione, 3- Examples include morpholinomethyl-5-phenyl-oxadiazole-2-thione, 5-amino-3-morpholinomethyl-thiadiazole-2-thione, and 2-mercapto-5-methylthio-thiadiazole, triazole, tetrazole, and the like. .

密着促進剤の好ましい添加量は、感光性樹脂組成物の総量（溶媒を除く）の０．００１質量％〜２０質量％の範囲にある。より好ましくは０．０１〜１０質量％の範囲であり、特に好ましくは０．１質量％〜５質量％の範囲である。   A preferable addition amount of the adhesion promoter is in the range of 0.001% by mass to 20% by mass of the total amount of the photosensitive resin composition (excluding the solvent). More preferably, it is the range of 0.01-10 mass%, Most preferably, it is the range of 0.1 mass%-5 mass%.

また、本発明の感光性樹脂組成物は、例えば、Ｊ．コーサー著「ライトセンシテイブシステムズ」第５章に記載されているような有機硫黄化合物、過酸化物、レドックス系化合物、アゾ並びにジアゾ化合物、光環元性色素、及び有機ハロゲン化合物などを含んでいても良い。有機硫黄化合物の例としては、ジ−ｎ−ブチルジサルファイド、ジベンジルジサルファイド、２−メルカプトベンズチアゾール、２−メルカプトベンズオキサゾール、チオフェノール、エチルトリクロロメタンスルフェネート、２−メルカプトベンズイミダゾールを挙げることができる。過酸化物の例としては、ジ−ｔ−ブチルパーオキサイド、過酸化ベンゾイル、メチルエチルケトンパーオキサイドを挙げることができる。レドックス化合物は、過酸化物と還元剤の組み合わせからなるものであり、第一鉄イオンと過硫酸イオン、第二鉄イオンと過酸化物などを挙げることができる。アゾ及びジアゾ化合物としては、α，α’−アゾビスイリブチロニトリル、２−アゾビス−２−メチルブチロニトリル、ｐ−アミノジフェニルアミンのジアゾニウム類を挙げることができる。光還元性色素としては、ローズベンガル、エリスロシン、エオシン、アクリフラビン、リポフラビン、チオニンを挙げることができる。   In addition, the photosensitive resin composition of the present invention is disclosed in, for example, J. Org. It contains organic sulfur compounds, peroxides, redox compounds, azo and diazo compounds, photocyclic dyes, and organic halogen compounds as described in Chapter 5 of “Light Sensitive Systems” by Korser. Also good. Examples of organic sulfur compounds include di-n-butyl disulfide, dibenzyl disulfide, 2-mercaptobenzthiazole, 2-mercaptobenzoxazole, thiophenol, ethyltrichloromethane sulfenate, and 2-mercaptobenzimidazole. be able to. Examples of the peroxide include di-t-butyl peroxide, benzoyl peroxide, and methyl ethyl ketone peroxide. The redox compound is a combination of a peroxide and a reducing agent, and examples thereof include ferrous ions and persulfate ions, ferric ions and peroxides. Examples of the azo and diazo compounds include α, α'-azobisiributyronitrile, 2-azobis-2-methylbutyronitrile, and diazonium such as p-aminodiphenylamine. Examples of the photoreductive dye include rose bengal, erythrosine, eosin, acriflavine, lipoflavin, and thionine.

本発明の感光性樹脂組成物では、感光性転写シートを製造する場合に発生する面状ムラ等を改善させるために、公知の界面活性剤を添加することもできる。界面活性剤の例として、アニオン系およびカチオン系界面活性剤やノニオン系界面活性剤、フッ素含有界面活性剤から密着性の観点から適宜選択する。添加量は、感光性樹脂組成物の総量（溶媒を除く）の０．００１〜１０質量％が好ましく、０．００１質量％未満では面状改良の効果が得られなく、１０質量％を超えると密着性が悪化する問題がある。フッ素系の界面活性剤として炭素鎖３〜２０でフッ素原子を４０質量％以上含み、且つ非結合末端から数えて少なくとも３個の炭素原子に結合した水素原子がフッ素置換されているフルオロ脂肪族基を有するアクリレートまたはメタクリレートを共重合成分として有する高分子界面活性剤が好ましい。   In the photosensitive resin composition of the present invention, a known surfactant may be added in order to improve surface unevenness and the like generated when a photosensitive transfer sheet is produced. As an example of the surfactant, an anionic surfactant, a cationic surfactant, a nonionic surfactant, and a fluorine-containing surfactant are appropriately selected from the viewpoint of adhesion. The addition amount is preferably 0.001 to 10% by mass of the total amount of the photosensitive resin composition (excluding the solvent), and if it is less than 0.001% by mass, the effect of improving the surface condition cannot be obtained, and if it exceeds 10% by mass There is a problem that the adhesion deteriorates. Fluoroaliphatic group having fluorine chain with hydrogen atoms bonded to at least 3 carbon atoms counted from the non-bonding end as a fluorosurfactant containing 40 mass% or more of carbon atoms with 3 to 20 carbon chains A polymeric surfactant having an acrylate or methacrylate having a copolymerization component is preferred.

本発明の感光性樹脂組成物は、前記各成分を、これらを溶解する溶媒、例えば、メタノール、エタノール、ｎ−プロパノール、イソプロパノール、ｎ−ブタノール、ｓｅｃ−ブタノール、及びｎ−ヘキサノール等のアルコール類；アセトン、メチルエチルケトン、メチルイソブチルケトン、シクロヘキサノン、及びジイソブチルケトンなどのケトン類；酢酸エチル、酢酸ブチル、酢酸−ｎ−アミル、硫酸メチル、プロピオン酸エチル、フタル酸ジメチル、安息香酸エチル、及びメトキシプロピルアセテートなどのエステル類；トルエン、キシレン、ベンゼン、エチルベンゼンなどの芳香族炭化水素類；四塩化炭素、トリクロロエチレン、クロロホルム、１，１，１−トリクロロエタン、塩化メチレン、及びモノクロロベンゼンなどのハロゲン化炭化水素類；テトラヒドロフラン、ジエチルエーテル、エチレングリコールモノメチルエーテル、エチレングリコールモノエチルエーテル、及び１−メトキシ−２−プロパノールなどのエーテル類；ジメチルホルムアミド、ジメチルアセトアミド、ジメチルスルホオキサイド等に溶解、混合させることにより、均一な溶液とすることができる。   In the photosensitive resin composition of the present invention, each of the above components is dissolved in a solvent that dissolves these components, for example, alcohols such as methanol, ethanol, n-propanol, isopropanol, n-butanol, sec-butanol, and n-hexanol; Ketones such as acetone, methyl ethyl ketone, methyl isobutyl ketone, cyclohexanone, and diisobutyl ketone; ethyl acetate, butyl acetate, n-amyl acetate, methyl sulfate, ethyl propionate, dimethyl phthalate, ethyl benzoate, methoxypropyl acetate, etc. Esters; aromatic hydrocarbons such as toluene, xylene, benzene, ethylbenzene; halogens such as carbon tetrachloride, trichloroethylene, chloroform, 1,1,1-trichloroethane, methylene chloride, and monochlorobenzene Hydrocarbons; ethers such as tetrahydrofuran, diethyl ether, ethylene glycol monomethyl ether, ethylene glycol monoethyl ether, and 1-methoxy-2-propanol; by dissolving and mixing in dimethylformamide, dimethylacetamide, dimethylsulfoxide, etc. A uniform solution can be obtained.

［感光性転写シートおよび感光性積層体の基本構成］
本発明の感光性転写シートの一例として、まず感光性樹脂組成物層を１層有する場合の断面図を図１に示す。感光性転写シート１０は、支持体１１、感光性樹脂組成物層１２、及び保護フイルム１５がこの順で積層されてなる。感光性樹脂組成物層１２は、バインダー、式（Ｉ）で表される重合性化合物、及び光重合開始剤を含む組成物からなる。感光性樹脂組成物層１２の厚さは、５μｍ以上３５μｍ未満であることが好ましく、より好ましくは１０〜３０μｍの範囲であり、さらに好ましくは１０〜２５μｍの範囲である。
更に本発明の感光性転写シートは、これらの層構成に限定されるものではなく、ここに示した以外の層を有していてもよい。例えば、支持体１１と感光性樹脂組成物層１２との間に熱可塑性樹脂層（クッション層）を設けたり、感光性樹脂組成物層１２と熱可塑性樹脂層（クッション層）との間にバリアー層を設けてもよい。 [Basic structure of photosensitive transfer sheet and photosensitive laminate]
As an example of the photosensitive transfer sheet of the present invention, FIG. 1 shows a cross-sectional view in the case of having one photosensitive resin composition layer. The photosensitive transfer sheet 10 is formed by laminating a support 11, a photosensitive resin composition layer 12, and a protective film 15 in this order. The photosensitive resin composition layer 12 consists of a composition containing a binder, a polymerizable compound represented by the formula (I), and a photopolymerization initiator. The thickness of the photosensitive resin composition layer 12 is preferably 5 μm or more and less than 35 μm, more preferably in the range of 10 to 30 μm, and still more preferably in the range of 10 to 25 μm.
Furthermore, the photosensitive transfer sheet of the present invention is not limited to these layer configurations, and may have layers other than those shown here. For example, a thermoplastic resin layer (cushion layer) is provided between the support 11 and the photosensitive resin composition layer 12, or a barrier is provided between the photosensitive resin composition layer 12 and the thermoplastic resin layer (cushion layer). A layer may be provided.

また本発明の感光性転写シートの一例として感光性樹脂組成物層が２層有する場合の断面図を図２〜５に示す。   Moreover, sectional drawing in case the photosensitive resin composition layer has two layers as an example of the photosensitive transfer sheet of this invention is shown to FIGS.

図２において、感光性転写シート２０は、支持体２１、第一感光層２２、第二感光層２４がこの順で積層されている。第一感光層２２及び第二感光層２４はそれぞれ、ポリマー、重合性モノマー、及び光重合開始剤を含む感光性樹脂組成物からなり、光の照射により硬化する。本発明の感光性転写シートは、第二感光層２４が第一感光層２２よりも相対的に感度が高い点および、第一感光層２２もしくは第二感光層２４のうちの少なくとも一方は、重合性モノマー成分が前記一般式（Ｉ）で表される化合物を含む感光樹脂組成物からなる点に主な特徴がある。ここで、感度が高いとは、第二感光層２４の硬化が、第一感光層２２よりも少ない光の照射量で始まることを意味する。
図３は第一感光層２２、第二感光層２４の間に更にバリアー層２３を有する感光性転写シートを表す。また図４、図５はそれぞれ図２、図３の感光性転写シートに更に保護フイルム２５を有する感光性転写シートである。 In FIG. 2, the photosensitive transfer sheet 20 has a support 21, a first photosensitive layer 22, and a second photosensitive layer 24 laminated in this order. The first photosensitive layer 22 and the second photosensitive layer 24 are each composed of a photosensitive resin composition containing a polymer, a polymerizable monomer, and a photopolymerization initiator, and are cured by light irradiation. In the photosensitive transfer sheet of the present invention, the second photosensitive layer 24 has a relatively higher sensitivity than the first photosensitive layer 22, and at least one of the first photosensitive layer 22 or the second photosensitive layer 24 is polymerized. The main characteristic is that the photosensitive monomer component comprises a photosensitive resin composition containing the compound represented by the general formula (I). Here, high sensitivity means that the curing of the second photosensitive layer 24 starts with a light irradiation amount smaller than that of the first photosensitive layer 22.
FIG. 3 shows a photosensitive transfer sheet having a barrier layer 23 between the first photosensitive layer 22 and the second photosensitive layer 24. 4 and 5 are photosensitive transfer sheets having a protective film 25 in addition to the photosensitive transfer sheets of FIGS. 2 and 3, respectively.

更に本発明の感光性転写シートはこれらの層構成に限定されるものではなく、ここに示した層以外の層を有しても良い。例えば支持体２１と第一感光層２２の間や保護フイルム１５と第二感光層２４の間にベースや基板との剥離性や密着力を調整する層やバリアー層を設けたり、第一感光層２２、第二感光層２４の間や第一感光層２２とバリアー層２３、第二感光層２４とバリアー層２３の間に各層間の密着力を調整する層や層間の物質の移行を防止する層などを設けても良い。   Furthermore, the photosensitive transfer sheet of the present invention is not limited to these layer configurations, and may have layers other than those shown here. For example, a layer or a barrier layer for adjusting the peelability or adhesion to the base or substrate is provided between the support 21 and the first photosensitive layer 22 or between the protective film 15 and the second photosensitive layer 24, or the first photosensitive layer. 22. Prevents the transfer of the layers and the layers between the second photosensitive layer 24 and between the first photosensitive layer 22 and the barrier layer 23, and between the second photosensitive layer 24 and the barrier layer 23. A layer or the like may be provided.

次に本発明の感光性転写シートが、感光性樹脂組成物層を２層有する場合における光の照射量と感光層の硬化量との関係を、図６を参照しながら説明する。図６は例えば図２に示した感光性転写シート、あるいは図４に示した感光性転写シートから保護フイルムを剥離した感光性転写シートを基板上に転写した場合の例である。本発明の感光性転写シートを基板上に積層した積層体に対して、基板とは反対の側から、即ち支持体を有している場合には支持体を通して、あるいは必要に応じて支持体を剥離して感光層に光を照射したときの、光の照射量とこの露光及び現像処理により得られる硬化層の厚さとの関係を示すグラフ（感度曲線）である。図６において、横軸は、光の照射量を表し、縦軸は、光の照射により硬化させ、現像処理を行った後の硬化した感光層の厚さを表す。縦軸のＤは第二感光層の厚さを、Ｅは第一感光層の厚さと第二感光層の厚さとを足した感光層全体の厚さを表す。   Next, the relationship between the light irradiation amount and the photosensitive layer curing amount in the case where the photosensitive transfer sheet of the present invention has two photosensitive resin composition layers will be described with reference to FIG. FIG. 6 shows an example where the photosensitive transfer sheet shown in FIG. 2 or the photosensitive transfer sheet from which the protective film has been peeled off is transferred onto the substrate. With respect to the laminate obtained by laminating the photosensitive transfer sheet of the present invention on a substrate, from the side opposite to the substrate, that is, through a support when having a support, or a support as necessary. It is a graph (sensitivity curve) which shows the relationship between the irradiation amount of light when peeling and irradiating light to a photosensitive layer, and the thickness of the hardening layer obtained by this exposure and image development processing. In FIG. 6, the horizontal axis represents the amount of light irradiation, and the vertical axis represents the thickness of the cured photosensitive layer after being cured by light irradiation and developed. D on the vertical axis represents the thickness of the second photosensitive layer, and E represents the thickness of the entire photosensitive layer obtained by adding the thickness of the first photosensitive layer and the thickness of the second photosensitive layer.

バリアー層は樹脂を含有することが好ましく、水もしくは炭素原子数１〜４の低級アルコールに対して親和性を示す樹脂を主成分として含むのが好ましい。親和性とは、前記溶媒に対して乳化、分散、膨潤、一部溶解、濡れ性を有することをあらわす。またバリアー層は、水もしくは炭素原子数１〜４の低級アルコールに対して可溶性の樹脂を主成分として含むのが好ましい。   The barrier layer preferably contains a resin, and preferably contains a resin having an affinity for water or a lower alcohol having 1 to 4 carbon atoms as a main component. The affinity means that the solvent has emulsification, dispersion, swelling, partial dissolution, and wettability. Moreover, it is preferable that a barrier layer contains resin soluble as a main component with respect to water or a C1-C4 lower alcohol.

上記のバリアー層の製造には、感光層と同様なバインダーを用いても良いが、これらとは異なるバインダーからなる層であることが好ましい。この様なポリマーとしては、例えば各種のアルコール可溶性、水溶性ポリマー、アルコール分散性、水分散性、乳化性あるいはアルカリ可溶性ポリマーが使用でき、例えばポリビニルアルコール（変性ポリビニルアルコール類も含む）、ポリビニルピロリドン、水溶性ポリアミド、ゼラチン、セルロース等及びこれらの誘導体などが挙げられる。これらのポリマーは単独で使用してもよいし、二種以上を併用しても良い。更に水溶性、アルカリ水可溶性を損なわない範囲でアクリル系ポリマー、アミド系ポリマー、エステル系ポリマーなどの各種ポリマーを添加してもよい。バリアー層には、特許２７９４２４２号に記載の熱可塑性樹脂や中間層に使用されている化合物も使用可能である。   In the production of the barrier layer, a binder similar to that for the photosensitive layer may be used, but a layer made of a different binder is preferable. Examples of such a polymer include various alcohol-soluble, water-soluble polymers, alcohol-dispersible, water-dispersible, emulsifiable or alkali-soluble polymers, such as polyvinyl alcohol (including modified polyvinyl alcohols), polyvinyl pyrrolidone, Examples thereof include water-soluble polyamide, gelatin, cellulose, and derivatives thereof. These polymers may be used alone or in combination of two or more. Furthermore, various polymers such as an acrylic polymer, an amide polymer, and an ester polymer may be added as long as water solubility and alkali water solubility are not impaired. For the barrier layer, the thermoplastic resin described in Japanese Patent No. 2794242 and compounds used in the intermediate layer can also be used.

図６に示すように、本発明の感光性転写シートでは、支持体側から照射した光は、支持体を有する場合は支持体、第一感光層、そして第二感光層の順に進むにもかかわらず、第一感光層よりも先に少ない光量で第二感光層の硬化が始まる。
第二感光層の全体が硬化した後、光量を多くしていくと、第一感光層の硬化が始まり、さらに光量を多くすると、第一感光層の全体が硬化する。
第一感光層の硬化が始まるまでに必要な光量Ｃは、第二感光層を硬化させるために必要な光量Ａと同量であってもよいが、光量Ａよりも大きい方が好ましい。 As shown in FIG. 6, in the photosensitive transfer sheet of the present invention, the light irradiated from the support side, in the case of having the support, proceeds in the order of the support, the first photosensitive layer, and the second photosensitive layer. The curing of the second photosensitive layer starts with a small amount of light before the first photosensitive layer.
When the amount of light is increased after the entire second photosensitive layer is cured, the curing of the first photosensitive layer starts, and when the amount of light is further increased, the entire first photosensitive layer is cured.
The amount of light C required until curing of the first photosensitive layer may be the same as the amount of light A required to cure the second photosensitive layer, but is preferably larger than the amount of light A.

更に図３、又は図５に示した感光性転写シートの様に第一感光層と第二感光層の間に更にバリアー層を有する場合でも、図６と同様な光の照射量と硬化層の厚さの関係が得られる。但しこの場合の膜厚Ｅは第一感光層の厚さと第二感光層の厚さに更にバリアー層の厚さを足した感光層全体の厚さを表す。   Further, even in the case where a barrier layer is further provided between the first photosensitive layer and the second photosensitive layer as in the photosensitive transfer sheet shown in FIG. 3 or FIG. A thickness relationship is obtained. However, the film thickness E in this case represents the thickness of the entire photosensitive layer obtained by adding the thickness of the barrier layer to the thickness of the first photosensitive layer and the thickness of the second photosensitive layer.

この様に本発明の感光性転写シートが、感光性樹脂組成物層を２層有する場合は、その露光量に応じて露光及び現像処理により得られる硬化層の厚さを変化させることが可能であり、露光量のパターンを必要に応じて変更することにより、基板に最も近い感光層のみを硬化させる部分から、順次厚みを変えて全て感光層を硬化させる部分までを作り分けることが可能である。この為に画像の内部で厚みが異なる３次元造形や、所望の部分のみの膜の強度を上げる、所望の部分のみの画像濃度を上げる等の特性を付与した画像などを１種の転写シートで形成することができる。
その為に例えばプリント配線板の製造、特にスルーホールやビアホールを有するプリント配線板の製造に用いると、配線パターン形成領域には相対的に厚さの薄い高解像の硬化層を形成し、スルーホール又はビアホールには相対的に厚さの厚く高強度の硬化層を形成することができる。その為に本発明の感光性転写シートを用いれば、テンティング法として利用できる充分なテント膜強度を有し、かつ高解像度が必要な部分では充分な解像度のパターンを得る事ができる。 Thus, when the photosensitive transfer sheet of the present invention has two photosensitive resin composition layers, it is possible to change the thickness of the cured layer obtained by exposure and development processing according to the exposure amount. Yes, by changing the exposure pattern as necessary, it is possible to create a range from the part that cures only the photosensitive layer closest to the substrate to the part that cures the photosensitive layer by changing the thickness in sequence. . For this reason, a single transfer sheet can be used to create three-dimensional modeling with different thicknesses inside the image, an image with characteristics such as increasing the strength of the film only in the desired portion, and increasing the image density only in the desired portion. Can be formed.
For this purpose, for example, when used in the manufacture of printed wiring boards, especially printed wiring boards having through holes and via holes, a relatively thin and high resolution hardened layer is formed in the wiring pattern formation region. A relatively thick and high-strength hardened layer can be formed in the hole or via hole. Therefore, if the photosensitive transfer sheet of the present invention is used, a pattern having sufficient tent film strength that can be used as a tenting method and sufficient resolution can be obtained at a portion where high resolution is required.

上記のような感度曲線を有する感光性転写シートは、各感光性樹脂組成物層の感度を支持体に近い第一感光層から、支持体から離れた第二感光層に向かうに従って順に相対的に高くすることで実現できる。この感度を相対的に高くする方法は公知の高感度化技術を全て用いることができるが、例えば高感度の開始剤を用いるほか、第二感光層に増感剤を添加する、第二感光層中の光重合開始剤及び／又は増感剤の含有量を第一感光層よりを多くする、あるいは第二感光層中の重合性モノマーの含有率を第一感光層より多くするなどの手法によっても得ることができる。   In the photosensitive transfer sheet having the sensitivity curve as described above, the sensitivity of each photosensitive resin composition layer is relatively increased in order from the first photosensitive layer close to the support to the second photosensitive layer separated from the support. This can be achieved by increasing the height. As a method for relatively increasing the sensitivity, all known high-sensitivity techniques can be used. For example, in addition to using a high-sensitivity initiator, a sensitizer is added to the second photosensitive layer. By increasing the content of the photopolymerization initiator and / or the sensitizer in the first photosensitive layer, or increasing the content of the polymerizable monomer in the second photosensitive layer from that of the first photosensitive layer. Can also be obtained.

また本発明の感光性転写シートが特に感光層を２層有し、支持体に近い側の感光性樹脂組成物層（第一感光層）の感度に比べて、支持体から離れた側の感光性樹脂組成物層（第二感光層）の感度が相対的に高いことを特徴とする感光性転写シートを用いて、プリント配線板を作成する場合には第二感光層の硬化が始まる光量Ｓは、０．０５〜１０ｍＪ／ｃｍ²の範囲内（特に０．１〜５ｍＪ／ｃｍ²の範囲内）にあることが好ましい。また第二感光層を硬化させるために必要な光量Ａは、２０ｍＪ／ｃｍ²以下（特に、２〜１５ｍＪ／ｃｍ²の範囲内）であることが好ましい。第二感光層を硬化させるために必要な光量Ａと第一感光層を硬化させるために必要な光量Ｂとの比Ａ／Ｂは、０．０１〜０．５（特に０．０２〜０．３）の範囲にあることが好ましい。また第二感光層を硬化させるために必要な光量Ａと第一感光層の硬化が始まるまで必要な光量Ｃとの比Ｃ／Ａが１〜１０の範囲内（特に２〜８の範囲内）であることが好ましい。またこの光量Ｃは２００ｍＪ／ｃｍ²以下（特に２〜１００ｍＪ／ｃｍ²の範囲内）であることが好ましい。 In addition, the photosensitive transfer sheet of the present invention has two photosensitive layers in particular, and compared with the sensitivity of the photosensitive resin composition layer (first photosensitive layer) on the side close to the support, the sensitivity on the side away from the support. In the case where a printed wiring board is produced using a photosensitive transfer sheet characterized in that the sensitivity of the photosensitive resin composition layer (second photosensitive layer) is relatively high, the light quantity S at which the curing of the second photosensitive layer begins. is preferably in the range of 0.05~10mJ / cm ² (in particular in the range of 0.1~5mJ / cm ^2). Further, the amount of light A required for curing the second photosensitive layer is preferably 20 mJ / cm ² or less (particularly in the range of ^{2 to} 15 mJ / cm ² ). The ratio A / B between the light amount A required to cure the second photosensitive layer and the light amount B required to cure the first photosensitive layer is 0.01 to 0.5 (particularly 0.02 to 0.00. It is preferable that it exists in the range of 3). Further, the ratio C / A between the light amount A necessary for curing the second photosensitive layer and the light amount C necessary until the first photosensitive layer is cured is in the range of 1 to 10 (particularly in the range of 2 to 8). It is preferable that The light quantity C is preferably 200 mJ / cm ² or less (particularly in the range of ^{2 to} 100 mJ / cm ² ).

［感光性転写シートの製造］
本発明の感光性転写シートは、例えば感光性樹脂組成物層が１層の場合、前記感光性樹脂組成物の溶液を調製し、これを支持体の上に公知の方法により塗布し、乾燥することにより製造することができる。感光性樹脂組成物溶液の塗布方法としては、特に限定されず、例えば、スプレー法、ロールコート法、回転塗布法、スリットコート法、エクストルージョンコート法、カーテンコート法、ダイコート法、ワイヤーバーコート法、及びナイフコート法等の各種の方法を採用することができる。乾燥の条件としては、各成分、溶媒の種類、使用割合等によっても異なるが、通常６０〜１１０℃の温度で３０秒間〜１５分間程度である。 [Production of photosensitive transfer sheet]
In the photosensitive transfer sheet of the present invention, for example, when the photosensitive resin composition layer is a single layer, a solution of the photosensitive resin composition is prepared, applied onto a support by a known method, and dried. Can be manufactured. The coating method of the photosensitive resin composition solution is not particularly limited, and for example, spray method, roll coating method, spin coating method, slit coating method, extrusion coating method, curtain coating method, die coating method, wire bar coating method. And various methods such as a knife coating method can be employed. As drying conditions, although it changes also with each component, the kind of solvent, a usage rate, etc., it is about 30 seconds-15 minutes at the temperature of 60-110 degreeC normally.

また、例えば感光性樹脂組成物層が２層の場合、例えば次のようにして製造することができる。
まず、前記の各種材料を、溶剤に溶解または分散させて、第一感光層形成用の第一感光性樹脂組成物溶液と第二感光層形成用の第二感光性樹脂組成物溶液をそれぞれ調製する。またバリアー層を有する場合にはバリアー層形成用の溶液を調製する。
バリアー層形成用のポリマー溶液の溶剤には、感光性樹脂組成物層と同様の塗布溶媒を用いても良いが、これらとは異なり水、あるいは水と有機溶剤との混合溶剤を用いることができる。有機溶剤には、メタノール、エタノール、ｎ−プロパノール、イソプロパノール、ｎ−ブタノール、ｓｅｃ−ブタノール、ｎ−ヘキサノール等のアルコール類を用いることができる。 For example, when the photosensitive resin composition layer has two layers, it can be produced, for example, as follows.
First, the above various materials are dissolved or dispersed in a solvent to prepare a first photosensitive resin composition solution for forming a first photosensitive layer and a second photosensitive resin composition solution for forming a second photosensitive layer, respectively. To do. In the case of having a barrier layer, a solution for forming the barrier layer is prepared.
As the solvent of the polymer solution for forming the barrier layer, the same coating solvent as that of the photosensitive resin composition layer may be used, but unlike these, water or a mixed solvent of water and an organic solvent can be used. . As the organic solvent, alcohols such as methanol, ethanol, n-propanol, isopropanol, n-butanol, sec-butanol and n-hexanol can be used.

次に、第一感光性樹脂組成物溶液を支持体の上に塗布し、乾燥することにより第一感光層を形成する。バリアー層を有する場合にはバリアー層形成用の塗布液を第一感光層の上に塗布、乾燥する。その上に第二感光性樹脂組成物溶液を塗布し、乾燥することにより、第二感光層を形成する。感光性樹脂組成物溶液の塗布方法としては、特に限定されず、例えば、スプレー法、ロールコート法、回転塗布法、スリットコート法、エクストルージョンコート法、カーテンコート法、ダイコート法、ワイヤーバーコート法、及びナイフコート法等の各種の方法を採用することができる。乾燥の条件としては、各成分、溶媒の種類、使用割合等によっても異なるが、通常６０〜１１０℃の温度で３０秒間〜１５分間程度である。
また感光層が２層よりも多い場合でも、同様の操作を繰り返すことによって製造することができる。 Next, a 1st photosensitive resin composition solution is apply | coated on a support body, and a 1st photosensitive layer is formed by drying. When it has a barrier layer, a coating solution for forming a barrier layer is applied onto the first photosensitive layer and dried. A second photosensitive resin composition solution is applied thereon and dried to form a second photosensitive layer. The coating method of the photosensitive resin composition solution is not particularly limited, and for example, spray method, roll coating method, spin coating method, slit coating method, extrusion coating method, curtain coating method, die coating method, wire bar coating method. And various methods such as a knife coating method can be employed. As drying conditions, although it changes also with each component, the kind of solvent, a usage rate, etc., it is about 30 seconds-15 minutes at the temperature of 60-110 degreeC normally.
Even when there are more photosensitive layers than two layers, it can be produced by repeating the same operation.

［支持体及び保護フイルム］
支持体は、感光性樹脂組成物層を剥離可能であること、かつ光の透過性が良好であること、また表面の平滑性が良好であることが望ましい。支持体の例としては、ポリエチレンテレフタレート、ポリエチレンナフタレート、ポリプロピレン、ポリエチレン、三酢酸セルロース、二酢酸セルロース、ポリ（メタ）アクリル酸アルキルエステル、ポリ（メタ）アクリル酸エステル共重合体、ポリ塩化ビニル、ポリビニルアルコール、ポリカーボネート、ポリスチレン、セロファン、ポリ塩化ビニリデン共重合体、ポリアミド、ポリイミド、塩化ビニル・酢酸ビニル共重合体、ポリテトラフロロエチレン、ポリトリフロロエチレン、セルロース系フイルム、ナイロンフイルム等の各種のプラスチックフイルムを挙げることができる。更にこれらの二種以上からなる複合材料も使用することができる。上記の中でポリエチレンテレフタレートが特に好ましい。支持体の厚さは、５〜１５０μｍが一般的であり、１０〜１００μｍが好ましい。 [Support and protective film]
It is desirable that the support is capable of peeling the photosensitive resin composition layer, has good light transmittance, and has good surface smoothness. Examples of the support include polyethylene terephthalate, polyethylene naphthalate, polypropylene, polyethylene, cellulose triacetate, cellulose diacetate, poly (meth) acrylic acid alkyl ester, poly (meth) acrylic acid ester copolymer, polyvinyl chloride, Various plastics such as polyvinyl alcohol, polycarbonate, polystyrene, cellophane, polyvinylidene chloride copolymer, polyamide, polyimide, vinyl chloride / vinyl acetate copolymer, polytetrafluoroethylene, polytrifluoroethylene, cellulosic film, nylon film, etc. A film can be mentioned. Furthermore, a composite material composed of two or more of these can also be used. Of these, polyethylene terephthalate is particularly preferred. As for the thickness of a support body, 5-150 micrometers is common, and 10-100 micrometers is preferable.

本発明の感光性転写シートでは、支持体上の感光性樹脂組成物層の上に、更に保護フイルム層を設けることができる。保護フイルムの例としては、前記支持体に使用されるプラスチックフイルム、及び紙、または紙にポリエチレンフイルム、ポリプロピレンフイルムなどのプラスチックフイルムをラミネートしたものなどを挙げることができる。特に、ポリエチレンフイルム及びポリプロピレンフイルムが好ましい。保護フイルムの厚さは、５〜１００μｍの範囲が一般的であり、１０〜５０μｍの範囲が好ましい。その際、感光性樹脂組成物層と支持体の接着力Ａと感光性樹脂組成物層と保護フイルムの接着力ＢとがＡ＞Ｂの関係になるようにすることが好ましい。支持体／保護フイルムの組み合わせの例としては、ポリエチレンテレフタレート／ポリプロピレン、ポリエチレンテレフタレート／ポリエチレン、ポリ塩化ビニル／セロファン、ポリイミド／ポリプロピレンなどを挙げることができる。上記のように支持体と保護フイルムを相互に異種のものから選ぶ方法のほかに、支持体及び保護フイルムの少なくとも一方を表面処理することにより、前記のような接着力の関係を満たすことができる。支持体の表面処理は、感光性樹脂組成物層との接着力を高めるために施されるのが一般的であり、例えば、下塗層の塗設、コロナ放電処理、火炎処理、紫外線照射処理、高周波照射処理、グロー放電照射処理、活性プラズマ照射処理、レーザ光線照射処理などを挙げることができる。また、例えば、長尺のドライフイルムフォトレジストを製造し、これをロール状にして保存、輸送する場合には、支持体と保護フイルムとの静摩擦係数も重要である。この静摩擦係数は、０．３〜１．４の範囲にあることが好ましく、特に０．５〜１．２の範囲が好ましい。０．３未満では滑り過ぎるため、ロール状にした時巻ズレが発生することがある。また１．４を超えた場合、良好なロール状に巻くことが困難となることがある。
また上記にも記載したように感光性転写シートは例えば円筒状の巻芯に巻き取って保管される。なおこの際には支持体が一番外側になるように巻き取られることが好ましい。また保管の際の端面の保護、エッジフュージョンを防止する観点から端面にはセパレーター（特に防湿性のもの）を設置することが好ましく、また梱包も透湿性の低い素材を用いる事が好ましい。 In the photosensitive transfer sheet of the present invention, a protective film layer can be further provided on the photosensitive resin composition layer on the support. Examples of the protective film include a plastic film used for the support and a paper or a paper laminated with a plastic film such as a polyethylene film or a polypropylene film. In particular, polyethylene film and polypropylene film are preferable. The thickness of the protective film is generally in the range of 5 to 100 μm, and preferably in the range of 10 to 50 μm. At that time, it is preferable that the adhesive force A between the photosensitive resin composition layer and the support and the adhesive force B between the photosensitive resin composition layer and the protective film satisfy the relationship of A> B. Examples of the support / protective film combination include polyethylene terephthalate / polypropylene, polyethylene terephthalate / polyethylene, polyvinyl chloride / cellophane, polyimide / polypropylene, and the like. In addition to the method of selecting the support and the protective film from different types as described above, the above-described adhesive force relationship can be satisfied by surface-treating at least one of the support and the protective film. . The surface treatment of the support is generally performed in order to increase the adhesive strength with the photosensitive resin composition layer. For example, coating of a primer layer, corona discharge treatment, flame treatment, ultraviolet irradiation treatment , High frequency irradiation treatment, glow discharge irradiation treatment, active plasma irradiation treatment, laser beam irradiation treatment, and the like. In addition, for example, when a long drip film photoresist is manufactured and stored and transported in a roll, the coefficient of static friction between the support and the protective film is also important. The static friction coefficient is preferably in the range of 0.3 to 1.4, and particularly preferably in the range of 0.5 to 1.2. If it is less than 0.3, it slips too much, so that it may cause a winding deviation when it is rolled. Moreover, when it exceeds 1.4, it may become difficult to wind in a favorable roll shape.
Further, as described above, the photosensitive transfer sheet is wound and stored on, for example, a cylindrical core. In this case, it is preferable that the support is wound up so that it is on the outermost side. Also, from the viewpoint of protecting the end face during storage and preventing edge fusion, it is preferable to install a separator (particularly moisture-proof) on the end face, and it is also preferable to use a material with low moisture permeability for packaging.

また、保護フイルムを表面処理しても良い。表面処理は、保護フイルムと感光性樹脂組成物層との接着性を調整するために行なわれる。例えば、保護フイルムの表面に、ポリオルガノシロキサン、弗素化ポリオレフィン、ポリフルオロエチレン、及びポリビニルアルコール等のポリマーからなる下塗層を設ける。下塗層の形成は、上記ポリマーの塗布液を保護フイルムの表面に塗布した後、３０〜１５０℃（特に５０〜１２０℃）で１〜３０分間乾燥することにより一般に行なわれる。
また感光性樹脂組成物層、支持体、保護フイルムの他にクッション層、剥離層、接着層、光吸収層、ガスバリヤ層、表面保護層などの層を有してもよい。また膜物性や感度が異なる２種以上の感光性樹脂層を設けてもよい。 Further, the protective film may be surface-treated. The surface treatment is performed to adjust the adhesion between the protective film and the photosensitive resin composition layer. For example, an undercoat layer made of a polymer such as polyorganosiloxane, fluorinated polyolefin, polyfluoroethylene, and polyvinyl alcohol is provided on the surface of the protective film. The undercoat layer is generally formed by applying the polymer coating solution onto the surface of the protective film and then drying at 30 to 150 ° C. (especially 50 to 120 ° C.) for 1 to 30 minutes.
In addition to the photosensitive resin composition layer, the support, and the protective film, it may have layers such as a cushion layer, a release layer, an adhesive layer, a light absorption layer, a gas barrier layer, and a surface protective layer. Two or more types of photosensitive resin layers having different film properties and sensitivities may be provided.

［プリント配線板の製造方法］
本発明の感光性転写シート（感光性樹脂組成物層が１層の場合）を用いたプリント配線板の製造方法の例を、金属めっきスルーホールを有するプリント配線板の製造を例にとり、添付図面の図７を参照しながら説明する。 [Method of manufacturing printed wiring board]
An example of a method for producing a printed wiring board using the photosensitive transfer sheet of the present invention (when the photosensitive resin composition layer is one layer) is taken as an example of the production of a printed wiring board having metal plated through holes. This will be described with reference to FIG.

図７（Ａ）に示すようなスルーホール３２を有し、表面が金属めっき３３されたプリント配線板形成用基板３１を用意する。プリント配線板形成用基板３１には、銅張積層板やガラスエポキシなどの公知の材料が用いられる。   A printed wiring board forming substrate 31 having a through hole 32 as shown in FIG. 7A and having a surface plated with metal 33 is prepared. A known material such as a copper clad laminate or glass epoxy is used for the printed wiring board forming substrate 31.

次に、図７（Ｂ）に示すように、プリント配線板形成用基板３１の表面に本発明の感光性転写シート１０の感光性樹脂組成物層１２を、圧着ローラ４１を用いて圧着して、プリント配線板形成用基板３１、感光性樹脂組成物層１２、そして支持体１１がこの順で積層された積層体を得る（積層工程）。圧着ローラ４１には、メタルローラ及びゴムローラなどの公知のものを使用することができる。圧着の際には、プリント配線板形成用基板３１及び圧着ローラ４１をそれぞれ加熱することが好ましい。プリント配線板形成用基板３１の加熱温度は、５０〜１００℃の温度とすることが好ましい。圧着ローラ４１の加熱温度は、６０〜１２０℃の温度とすることが好ましい。圧着ロールのロール圧は２〜５ｋｇ／ｃｍ²の範囲にあることが好ましい。圧着速度は、１〜３ｍ／分の速度とすることが好ましい。またプリント配線板形成用基板３１を予備加熱しておいてもよい。 Next, as shown in FIG. 7B, the photosensitive resin composition layer 12 of the photosensitive transfer sheet 10 of the present invention is pressure-bonded to the surface of the printed wiring board forming substrate 31 using a pressure roller 41. Then, a laminate in which the printed wiring board forming substrate 31, the photosensitive resin composition layer 12, and the support 11 are laminated in this order is obtained (laminating step). As the pressure roller 41, a known roller such as a metal roller or a rubber roller can be used. During the pressure bonding, it is preferable to heat the printed wiring board forming substrate 31 and the pressure roller 41 respectively. The heating temperature of the printed wiring board forming substrate 31 is preferably 50 to 100 ° C. The heating temperature of the pressure roller 41 is preferably 60 to 120 ° C. The roll pressure of the pressure-bonding roll is preferably in the range of ^{2 to} 5 kg / cm ² . The crimping speed is preferably 1 to 3 m / min. Further, the printed wiring board forming substrate 31 may be preheated.

次に、図７（Ｃ）に示すように、積層体の支持体が光透過性の場合には支持体１１側の面から光（活性エネルギー）をパターン状に照射して、感光性樹脂組成物層１２を硬化させて、配線パターン形成用の硬化樹脂組成物領域１６と、スルーホールの金属めっき保護用の硬化樹脂組成物領域１７とからなる硬化物パターン１７を形成する（露光工程）。光をパターン状に照射する方法としては、フォトマスクを介して紫外線光を全面に照射する方法、もしくは紫外〜可視光領域の波長のレーザ走査露光装置でパターン信号に従って照射する方法を利用して行なうことが好ましい。特に、後者のレーザ走査露光装置を用いる方法は、高価なマスクを使用せずにパターン形成が可能なので、マスクに起因する工程上の問題が無くなることから、少量多品種の製造などに適している。また必要に応じて（例えば支持体の光透過性が不十分な場合など）この支持体を剥離してから光を照射する方法も利用できる。   Next, as shown in FIG. 7C, when the support of the laminate is light transmissive, light (active energy) is irradiated in a pattern form from the surface on the support 11 side to form a photosensitive resin composition. The physical layer 12 is cured to form a cured product pattern 17 composed of a cured resin composition region 16 for forming a wiring pattern and a cured resin composition region 17 for protecting metal plating of a through hole (exposure process). As a method of irradiating light in a pattern, a method of irradiating the entire surface with ultraviolet light through a photomask or a method of irradiating according to a pattern signal with a laser scanning exposure apparatus having a wavelength in the ultraviolet to visible light region is used. It is preferable. In particular, the latter method using a laser scanning exposure apparatus is suitable for the production of a small variety of products because the pattern can be formed without using an expensive mask, and the process problems caused by the mask are eliminated. . Moreover, the method of irradiating light after peeling this support body as needed (for example, when the light transmittance of a support body is inadequate etc.) can also be utilized.

次に、支持体を剥離していない場合には図７（Ｄ）に示すように、積層体から支持体１１を剥がす（支持体剥離工程）。   Next, when the support is not peeled off, the support 11 is peeled off from the laminate as shown in FIG. 7D (support peeling step).

次に、図７（Ｅ）に示すように、樹脂組成物層１２に適当な現像液を接触させて、プリント配線板形成用基板上の樹脂組成物層の未硬化領域を溶解除去して基板表面の金属めっき３３を露出させる（現像工程）、パネルの配線パターンを形成する部分およびスルーホール部を被覆するように（テント状）エッチングレジストが形成される。現像液としては弱アルカリ水溶液が好ましい。この弱アルカリ水溶液の塩基成分としては、水酸化リチウム、水酸化ナトリウム、水酸化カリウム、炭酸リチウム、炭酸ナトリウム、炭酸カリウム、炭酸水素リチウム、炭酸水素ナトリウム、炭酸水素カリウム、リン酸ナトリウム、リン酸カリウム、ピロリン酸ナトリウム、ピロリン酸カリウムなどが挙げられる。また現像に用いる弱アルカリ水溶液のｐＨは約８〜１２、特に約９〜１１とすることが好ましい。具体的には０．１〜５質量％の炭酸ナトリウム水溶液、炭酸カリウム水溶液などを用いることができる。また現像液の温度は感光性樹脂層の現像性に合わせて調整できるが、一般に約２５℃〜４０℃が好ましい。また該現像液には界面活性剤、消泡剤、有機塩基（例えばエチレンジアミン、エタノールアミン等）や現像を促進させる為の少量の有機溶剤を併用してもよい。
また現像後に必要に応じて後加熱処理や後露光処理によって、硬化部の硬化反応を更に促進させる処理を行ってもよい。 Next, as shown in FIG. 7E, an appropriate developer is brought into contact with the resin composition layer 12 to dissolve and remove the uncured regions of the resin composition layer on the printed wiring board forming substrate. An etching resist is formed so that the metal plating 33 on the surface is exposed (development process) so as to cover the part where the wiring pattern of the panel is formed and the through hole part (tent shape). A weak alkaline aqueous solution is preferred as the developer. Base components of this weak alkaline aqueous solution include lithium hydroxide, sodium hydroxide, potassium hydroxide, lithium carbonate, sodium carbonate, potassium carbonate, lithium hydrogen carbonate, sodium hydrogen carbonate, potassium hydrogen carbonate, sodium phosphate, potassium phosphate , Sodium pyrophosphate, potassium pyrophosphate and the like. The pH of the weak alkaline aqueous solution used for development is preferably about 8 to 12, particularly about 9 to 11. Specifically, 0.1-5 mass% sodium carbonate aqueous solution, potassium carbonate aqueous solution, etc. can be used. Moreover, although the temperature of a developing solution can be adjusted according to the developability of the photosensitive resin layer, generally about 25 to 40 degreeC is preferable. In addition, a surfactant, an antifoaming agent, an organic base (for example, ethylenediamine, ethanolamine, etc.) or a small amount of an organic solvent for promoting development may be used in combination with the developer.
Moreover, you may perform the process which further accelerates | stimulates the hardening reaction of a hardening part by post-heat processing and post-exposure processing as needed after image development.

次に、図７（Ｆ）に示すように、露出した金属めっき３３をエッチング液で溶解する（エッチング工程）。スルーホール３２の開口部は硬化樹脂組成物（テント膜）１７で覆われているので、エッチング液がスルーホール内に入り込んでスルーホール内の金属めっきを腐食することなく、スルーホールの金属めっきは所定の形状で残ることになる。このエッチングにより、プリント配線板の配線パターン３４が形成される。金属層２３が銅で形成されている場合、エッチング液としては塩化第二銅溶液、塩化第二鉄溶液、アルカリエッチング溶液、過酸化水素系エッチング液などを用いることが出来る。これらの中でも特に塩化第二鉄溶液がエッチングファクターの点から好ましい。   Next, as shown in FIG. 7F, the exposed metal plating 33 is dissolved with an etching solution (etching step). Since the opening of the through hole 32 is covered with the cured resin composition (tent film) 17, the metal plating of the through hole is performed without the etching solution entering the through hole and corroding the metal plating in the through hole. It will remain in a predetermined shape. By this etching, a wiring pattern 34 of the printed wiring board is formed. When the metal layer 23 is made of copper, a cupric chloride solution, a ferric chloride solution, an alkaline etching solution, a hydrogen peroxide-based etching solution, or the like can be used as the etching solution. Among these, a ferric chloride solution is particularly preferable from the viewpoint of etching factor.

そして最後に、図７（Ｇ）に示すように、硬化樹脂パターンに強アルカリ水溶液を接触させて、硬化物パターンを細かく砕いて剥離片１８とし、プリント配線板形成用基板３１から除去する（硬化物除去工程）。強アルカリ水溶液の塩基成分としては水酸化ナトリウム、水酸化カリウムなどが挙げられる。また用いる強アルカリ水溶液のｐＨは約１２〜１４、特に約１３〜１４とすることが好ましい。具体的には１〜１０質量％の水酸化ナトリウム水溶液、水酸化カリウム水溶液などを用いることができる。   Finally, as shown in FIG. 7 (G), a strong alkaline aqueous solution is brought into contact with the cured resin pattern, and the cured product pattern is finely crushed into strips 18 and removed from the printed wiring board forming substrate 31 (cured). Object removal step). Examples of the basic component of the strong alkaline aqueous solution include sodium hydroxide and potassium hydroxide. The pH of the strong alkaline aqueous solution used is preferably about 12 to 14, particularly about 13 to 14. Specifically, 1-10 mass% sodium hydroxide aqueous solution, potassium hydroxide aqueous solution, etc. can be used.

またプリント配線板は多層構成のプリント配線板でもよい。また本発明の感光性転写シートは上記のエッチングプロセスのみでなく、メッキプロセスに使用しても構わない。   The printed wiring board may be a multilayer printed wiring board. Further, the photosensitive transfer sheet of the present invention may be used not only in the above etching process but also in a plating process.

次に、本発明の感光性転写シート（感光性樹脂組成物層が２層の場合）を用いたプリント配線板の製造方法の例を、金属めっきスルーホールを有するプリント配線板の製造を例にとり、添付図面の図８を参照しながら説明する。なお図８は図３に示した感光性転写シート、あるいは図５に示した感光性転写シートを用いる場合を示しているが、図２または図４に示した感光性転写シートを用いる場合でも、バリアー層２３を含まないこと以外は類似である。   Next, an example of a method of manufacturing a printed wiring board using the photosensitive transfer sheet of the present invention (when the photosensitive resin composition layer is two layers) is taken as an example of manufacturing a printed wiring board having metal plated through holes. This will be described with reference to FIG. 8 of the accompanying drawings. 8 shows the case where the photosensitive transfer sheet shown in FIG. 3 or the photosensitive transfer sheet shown in FIG. 5 is used, but even when the photosensitive transfer sheet shown in FIG. 2 or 4 is used, It is similar except that the barrier layer 23 is not included.

図８（Ａ）に示すように、スルーホール３２を有し、表面が金属めっき層３３で覆われたプリント配線板形成用基板３１を用意する。プリント配線板形成用基板３１としては、銅張積層基板及びガラス−エポキシなどの絶縁基材に銅めっき層を形成した基板、又はこれらの基板に層間絶縁膜を積層し、銅めっき層を形成した基板（積層基板）を用いることができる。   As shown in FIG. 8A, a printed wiring board forming substrate 31 having a through hole 32 and having a surface covered with a metal plating layer 33 is prepared. As the printed wiring board forming substrate 31, a copper-clad laminated substrate and a substrate in which a copper plating layer is formed on an insulating base material such as glass-epoxy, or an interlayer insulating film is laminated on these substrates to form a copper plating layer. A substrate (laminated substrate) can be used.

次に、図８（Ｂ）に示すように、本発明の感光性転写シート２０を（保護フイルムを有する場合には、この保護フイルムを剥離して）その第二感光層２４がプリント配線板形成用基板３１の表面に接する様にして圧着ローラ４１を用いて圧着する（積層工程）。これによりプリント配線板形成用基板３１、第二感光層２４、バリアー層２３、第一感光層２２、そして支持体２１がこの順で積層された積層体が得られる。感光性転写シートの積層は、室温（１５〜３０℃）あるいは加熱下（３０〜１８０℃）で行うことができる。特に、６０〜１４０℃の加熱下で行うことが好ましい。圧着ロールのロール圧は２〜５ｋｇ／ｃｍ²の範囲にあることが好ましい。圧着速度は、１〜３ｍ／分の速度とすることが好ましい。またプリント配線板形成用基板３１を予備加熱しておいてもよい。
なお、感光性転写シートを用いる替わりに、感光性転写シート製造用の第二感光性樹脂組成物溶液、バリアー層溶液、第一感光性樹脂組成物溶液とをこの順にプリント配線板形成用基板の表面に直接塗布し、乾燥することによって、プリント配線板形成用基板、第二感光層、バリアー層、そして第一感光層がこの順で積層された積層体を得ることもできる。 Next, as shown in FIG. 8B, the second photosensitive layer 24 of the photosensitive transfer sheet 20 of the present invention is formed on the printed wiring board by peeling off the protective film if it has a protective film. The pressure roller 41 is used for pressure bonding so as to be in contact with the surface of the substrate 31 (lamination process). Thereby, a laminate in which the printed wiring board forming substrate 31, the second photosensitive layer 24, the barrier layer 23, the first photosensitive layer 22, and the support 21 are laminated in this order is obtained. Lamination of the photosensitive transfer sheet can be performed at room temperature (15 to 30 ° C.) or under heating (30 to 180 ° C.). In particular, the heating is preferably performed at 60 to 140 ° C. The roll pressure of the pressure-bonding roll is preferably in the range of ^{2 to} 5 kg / cm ² . The crimping speed is preferably 1 to 3 m / min. Further, the printed wiring board forming substrate 31 may be preheated.
Instead of using the photosensitive transfer sheet, the second photosensitive resin composition solution, the barrier layer solution, and the first photosensitive resin composition solution for manufacturing the photosensitive transfer sheet are sequentially added to the printed wiring board forming substrate in this order. By directly coating on the surface and drying, it is also possible to obtain a laminate in which the printed wiring board forming substrate, the second photosensitive layer, the barrier layer, and the first photosensitive layer are laminated in this order.

次に、図８（Ｃ）に示すように、積層体の支持体２１側の面から、光を照射して感光層を硬化させる。なおこの際、必要に応じて（例えば支持体の光透過性が不十分な場合など）支持体を剥離してから光照射を行ってもよい。プリント配線板形成用基板３１の配線パターン形成領域には、第二感光層２４を硬化させるために必要な光量の光を所定のパターン状に照射して、配線パターン形成用の硬化層２６の領域を形成する（配線部露光工程）。プリント配線板形成用基板のスルーホール３２の開口部及びその周囲には、第一感光層２２と第二感光層２４とをそれぞれ硬化させるために必要な光量の光を照射して、スルーホールの金属層保護用の硬化層２７の領域を形成する（ホール部露光工程）。配線部露光工程とホール部露光工程とは、それぞれ独立して行なってもよいが、並行して行なう方が好ましい。露光は、フォトマスクを介して光を照射することにより行なうか、レーザ露光装置を用いてレーザ光を照射することにより行なう。特に、後者のレーザ走査露光装置を用いる方法は、高価なマスクを使用せずにパターン形成が可能なので、マスクに起因する工程上の問題が無くなることから、少量多品種の製造などに適している。   Next, as shown in FIG. 8C, the photosensitive layer is cured by irradiating light from the surface on the support 21 side of the laminate. At this time, light irradiation may be performed after peeling the support as necessary (for example, when the light transmittance of the support is insufficient). The wiring pattern forming region of the printed wiring board forming substrate 31 is irradiated with a predetermined amount of light necessary for curing the second photosensitive layer 24 to form a region of the hardened layer 26 for forming the wiring pattern. (Wiring part exposure step). The opening portion of the through hole 32 of the printed wiring board forming substrate and the periphery thereof are irradiated with light of a light amount necessary for curing the first photosensitive layer 22 and the second photosensitive layer 24, respectively. A region of the hardened layer 27 for protecting the metal layer is formed (hole part exposure step). The wiring portion exposure step and the hole portion exposure step may be performed independently, but are preferably performed in parallel. The exposure is performed by irradiating light through a photomask, or by irradiating laser light using a laser exposure apparatus. In particular, the latter method using a laser scanning exposure apparatus is suitable for the production of a small variety of products because the pattern can be formed without using an expensive mask, and the process problems caused by the mask are eliminated. .

フォトマスクを介して光を照射する場合には、配線パターン形成用の硬化層２６の領域形成用のフォトマスクを介して第二感光層のみを硬化させる光量を照射し、スルーホールの金属層保護用の硬化層２７の領域形成用のフォトマスクを介して第二感光層と第一感光層の両層を硬化させる光量を照射する様に露光を２回行う方法も利用できる。あるいは配線パターン形成用の硬化層２６の領域部に対応する光透過率が低く、スルーホールの金属層保護用の硬化層２７の領域部に対応する光透過率が高くなるように作成されたフォトマスクを用いて一括露光を行うこともできる。一方レーザ露光装置を用いてレーザ光を照射する場合では、それぞれの必要な領域で光照射量を変更しながら走査露光を行うことが好ましい。
露光に使用される光源としては、支持体を介して光照射を行う場合には支持体２１を透過し、かつ用いられる光重合開始剤に対して活性な電磁波、波長が３１０〜７００ｎｍ（好ましくは３５０〜５００ｎｍ）の範囲の紫外から可視光線を発生させる光源が用いられる。例えば、（超）高圧水銀灯、キセノン灯、カーボンアーク灯、ハロゲンランプ、複写用の蛍光管、半導体レーザ等の公知光源を使用することができる。この他に、電子線あるいはＸ線などを用いてもよい。また支持体を剥離してから光照射を行う場合でも同様の光源を用いることができる。 In the case of irradiating light through a photomask, a light amount for curing only the second photosensitive layer is irradiated through a photomask for forming a region of the hardened layer 26 for forming a wiring pattern, thereby protecting the metal layer of the through hole It is also possible to use a method in which exposure is performed twice so as to irradiate a light amount for curing both the second photosensitive layer and the first photosensitive layer through a photomask for forming the region of the cured layer 27 for use. Alternatively, the light transmittance corresponding to the region portion of the hardened layer 26 for forming the wiring pattern is low and the light transmittance corresponding to the region portion of the hardened layer 27 for protecting the metal layer of the through hole is high. Batch exposure can also be performed using a mask. On the other hand, when irradiating laser light using a laser exposure apparatus, it is preferable to perform scanning exposure while changing the light irradiation amount in each necessary region.
As a light source used for exposure, when light irradiation is performed through a support, the electromagnetic wave is transmitted through the support 21 and is active with respect to the photopolymerization initiator used. The wavelength is 310 to 700 nm (preferably A light source that generates visible light from ultraviolet rays in the range of 350 to 500 nm) is used. For example, a known light source such as an (ultra) high pressure mercury lamp, a xenon lamp, a carbon arc lamp, a halogen lamp, a copying fluorescent tube, or a semiconductor laser can be used. In addition, an electron beam or an X-ray may be used. The same light source can be used even when light irradiation is performed after the support is peeled off.

次に、支持体を剥離していない場合には図８（Ｄ）に示すように、積層体から支持体２１を剥がす（支持体剥離工程）。
次に、図８（Ｅ）に示すように、プリント配線板形成用基板３１上の第一感光層２２、バリアー層２３及び第二感光層２４の未硬化領域を、適当な現像液にて溶解除去して、配線パターン形成用の硬化層２６とスルーホールの金属層保護用の硬化層２７のパターンを形成し、基板表面の金属層３３を露出させる（現像工程）。現像液には、弱アルカリ水溶液が好ましい。この弱アルカリ水溶液の塩基成分としては、水酸化リチウム、水酸化ナトリウム、水酸化カリウム、炭酸リチウム、炭酸ナトリウム、炭酸カリウム、炭酸水素リチウム、炭酸水素ナトリウム、炭酸水素カリウム、リン酸ナトリウム、リン酸カリウム、ピロリン酸ナトリウム、ピロリン酸カリウムなどが挙げられる。また現像に用いる弱アルカリ水溶液のｐＨは約８〜１２、特に約９〜１１とすることが好ましい。具体的には０．１〜５質量％の炭酸ナトリウム水溶液、炭酸カリウム水溶液などを用いることができる。また現像液の温度は感光性樹脂層の現像性に合わせて調整できるが、一般に約２５℃〜４０℃が好ましい。また該現像液には界面活性剤、消泡剤、有機塩基（例えばエチレンジアミン、エタノールアミン等）や現像を促進させる為の少量の有機溶剤を併用してもよい。 Next, when the support is not peeled off, the support 21 is peeled off from the laminate as shown in FIG. 8D (support peeling step).
Next, as shown in FIG. 8E, uncured regions of the first photosensitive layer 22, the barrier layer 23, and the second photosensitive layer 24 on the printed wiring board forming substrate 31 are dissolved with an appropriate developer. The pattern of the hardened layer 26 for forming the wiring pattern and the hardened layer 27 for protecting the metal layer of the through hole is formed by removing the metal layer 33 on the substrate surface (developing step). The developer is preferably a weak alkaline aqueous solution. Base components of this weak alkaline aqueous solution include lithium hydroxide, sodium hydroxide, potassium hydroxide, lithium carbonate, sodium carbonate, potassium carbonate, lithium hydrogen carbonate, sodium hydrogen carbonate, potassium hydrogen carbonate, sodium phosphate, potassium phosphate , Sodium pyrophosphate, potassium pyrophosphate and the like. The pH of the weak alkaline aqueous solution used for development is preferably about 8 to 12, particularly about 9 to 11. Specifically, 0.1-5 mass% sodium carbonate aqueous solution, potassium carbonate aqueous solution, etc. can be used. Moreover, although the temperature of a developing solution can be adjusted according to the developability of the photosensitive resin layer, generally about 25 to 40 degreeC is preferable. In addition, a surfactant, an antifoaming agent, an organic base (for example, ethylenediamine, ethanolamine, etc.) or a small amount of an organic solvent for promoting development may be used in combination with the developer.

また現像後に必要に応じて後加熱処理や後露光処理によって、硬化部の硬化反応を更に促進させる処理を行ってもよい。
次に、図８（Ｆ）に示すように、基板表面の露出した金属層３３をエッチング液で溶解除去する（エッチング工程）。スルーホール３２の開口部は硬化樹脂組成物（テント膜）２７で覆われているので、エッチング液がスルーホール内に入り込んでスルーホール内の金属めっきを腐食することなく、スルーホールの金属めっきは所定の形状で残ることになる。これよりプリント配線板形成用基板３１に配線パターン３４が形成される。金属層３３が銅で形成されている場合、エッチング液としては塩化第二銅溶液、塩化第二鉄溶液、アルカリエッチング溶液、過酸化水素系エッチング液などを用いることが出来る。これらの中でも特に塩化第二鉄溶液がエッチングファクターの点から好ましい。 Moreover, you may perform the process which further accelerates | stimulates the hardening reaction of a hardening part by post-heat processing and post-exposure processing as needed after image development.
Next, as shown in FIG. 8F, the exposed metal layer 33 on the substrate surface is dissolved and removed with an etching solution (etching step). Since the opening of the through hole 32 is covered with the cured resin composition (tent film) 27, the metal plating of the through hole is performed without the etching solution entering the through hole and corroding the metal plating in the through hole. It will remain in a predetermined shape. Thereby, the wiring pattern 34 is formed on the printed wiring board forming substrate 31. When the metal layer 33 is made of copper, a cupric chloride solution, a ferric chloride solution, an alkali etching solution, a hydrogen peroxide-based etching solution, or the like can be used as the etching solution. Among these, a ferric chloride solution is particularly preferable from the viewpoint of etching factor.

次に、図８（Ｇ）に示すように、強アルカリ水溶液などにて、硬化層２６、２７を剥離片２８として、プリント配線板形成用基板から除去する（硬化物除去工程）。強アルカリ水溶液の塩基成分としては水酸化ナトリウム、水酸化カリウムなどが挙げられる。また用いる強アルカリ水溶液のｐＨは約１２〜１４、特に約１３〜１４とすることが好ましい。具体的には１〜１０質量％の水酸化ナトリウム水溶液、水酸化カリウム水溶液などを用いることができる。
またプリント配線板は多層構成のプリント配線板でもよい。また本発明の感光性転写シートは上記のエッチングプロセスのみでなく、メッキプロセスに使用しても構わない。
めっき法としては、たとえば硫酸銅めっき、ピロリン酸銅めっきなどの銅めっき、ハイスローはんだめっきなどのはんだめっき、ワット浴（硫酸ニッケル−塩化ニッケル）めっき、スルファミン酸ニッケルなどのニッケルめっき、ハード金めっき、ソフト金めっきなどの金めっきなどがある。 Next, as shown in FIG. 8G, the hardened layers 26 and 27 are removed from the printed wiring board forming substrate as a release piece 28 with a strong alkaline aqueous solution or the like (hardened product removing step). Examples of the basic component of the strong alkaline aqueous solution include sodium hydroxide and potassium hydroxide. The pH of the strong alkaline aqueous solution used is preferably about 12 to 14, particularly about 13 to 14. Specifically, 1-10 mass% sodium hydroxide aqueous solution, potassium hydroxide aqueous solution, etc. can be used.
The printed wiring board may be a multilayer printed wiring board. Further, the photosensitive transfer sheet of the present invention may be used not only in the above etching process but also in a plating process.
Examples of plating methods include copper plating such as copper sulfate plating and copper pyrophosphate plating, solder plating such as high-throw solder plating, watt bath (nickel sulfate-nickel chloride) plating, nickel plating such as nickel sulfamate, hard gold plating, There are gold plating such as soft gold plating.

［合成例１］
（１０−（２−ヒドロキシエチル）−アクリドンの合成）
乾燥管を付したフラスコに、Ｎ−Ｈアクリドン５０ｇ、エチレンカーボネート６０ｇ、水酸化カリウム０．５ｇを入れ、ジメチルアセトアミド１００ｍＬを加え、１８０℃に加熱攪拌した。生じたスラリーを氷水にあけ、濾取した。真空オーブンにて乾燥し、標記化合物を得た。収率８９％。 [Synthesis Example 1]
(Synthesis of 10- (2-hydroxyethyl) -acridone)
A flask equipped with a drying tube was charged with 50 g of N-H acridone, 60 g of ethylene carbonate and 0.5 g of potassium hydroxide, 100 mL of dimethylacetamide was added, and the mixture was heated and stirred at 180 ° C. The resulting slurry was poured into ice water and collected by filtration. The title compound was obtained by drying in a vacuum oven. Yield 89%.

（アクリドンオリゴマー（２）の合成）
テトラヒドロフラン２００ｍＬに、１０−（２−ヒドロキシエチル）−アクリドン３０ｇ、ジメチルアミノピリジン０．５ｇを溶解し、攪拌下、トリエチルアミン２０ｇを加えた。氷水にて冷却し、内温を５℃以下に保ちながらヘキサンジカルボン酸クロリド２５ｇのＴＨＦ５０ｍＬ溶液を滴下した。滴下終了後、室温にて２時間攪拌することで、油状粗製物としてアクリドンオリゴマー（２）を得た。
得られた油状粗製物をシリカゲルカラムクロマトグラフィー（酢酸エチル／クロロホルム＝９／１）により精製し、油状の化合物として得た。収率５８％。 (Synthesis of acridone oligomer (2))
In 200 mL of tetrahydrofuran, 30 g of 10- (2-hydroxyethyl) -acridone and 0.5 g of dimethylaminopyridine were dissolved, and 20 g of triethylamine was added with stirring. While cooling with ice water, a solution of 25 g of hexanedicarboxylic acid chloride in 50 mL of THF was added dropwise while maintaining the internal temperature at 5 ° C. or lower. After completion of the dropping, the mixture was stirred at room temperature for 2 hours to obtain an acridone oligomer (2) as an oily crude product.
The resulting oily crude product was purified by silica gel column chromatography (ethyl acetate / chloroform = 9/1) to obtain an oily compound. Yield 58%.

［合成例２］
（アクリドンオリゴマー（３３）の合成）
合成例１と同様の方法で、１０−（２−ヒドロキシエチル）−アクリドンと市販の試薬を用い、アクリドンオリゴマー（３３）を合成した。 [Synthesis Example 2]
(Synthesis of acridone oligomer (33))
Acridone oligomer (33) was synthesized in the same manner as in Synthesis Example 1 using 10- (2-hydroxyethyl) -acridone and a commercially available reagent.

［合成例３］
（１０−（２，３−エポキシプロピル）−アクリドンの合成）
乾燥管を付したフラスコに、Ｎ−Ｈアクリドン２５ｇ、エピブロモヒドリン２５ｇ、脱水ＴＨＦ１０ｍＬを加え、氷冷攪拌下、水素化ナトリウム１２ｇを、発泡を確認しつつ少量ずつ加えた。全量加えた後、フラスコを室温に戻し、１２時間激しく攪拌したのち、静置した。
メタノール１０ｍＬを徐々に加えた後、水／クロロホルムをそれぞれ１００ｍＬずつ加え、水層をクロロホルムにより抽出した。得られた有機層を硫酸マグネシウムで乾燥、ろ過、濃縮する事で、該化合物を素結晶として得た。
得られた該化合物をブタノールにより再結晶し、標記化合物を結晶として得た。収率８４％。 [Synthesis Example 3]
(Synthesis of 10- (2,3-epoxypropyl) -acridone)
To a flask equipped with a drying tube, 25 g of N-H acridone, 25 g of epibromohydrin and 10 mL of dehydrated THF were added, and 12 g of sodium hydride was added little by little while confirming foaming while stirring with ice cooling. After the whole amount was added, the flask was returned to room temperature, stirred vigorously for 12 hours, and then allowed to stand.
After gradually adding 10 mL of methanol, 100 mL each of water / chloroform was added, and the aqueous layer was extracted with chloroform. The obtained organic layer was dried over magnesium sulfate, filtered and concentrated to obtain the compound as elementary crystals.
The obtained compound was recrystallized from butanol to obtain the title compound as crystals. Yield 84%.

（アクリドンオリゴマー（４８）の合成）
乾燥管を付したフラスコに、１０−（２，３−エポキシプロピル）−アクリドン２５ｇ、コハク酸２２ｇ、ベンジルトリエチルアンモニウムクロリド０．２ｇ、ジメチルアセトアミド２００ｍＬを入れ、８０℃に加熱した。
反応終了を薄層クロマトグラフィーで確認した後、水３００ｍＬを加え、晶析し、吸引ろ過機にて濾取した．得られた結晶をエタノールで再結晶し、アクリドンオリゴマー（４８）を得た。収率４３％。（融点：１６０℃） (Synthesis of acridone oligomer (48))
A flask equipped with a drying tube was charged with 25 g of 10- (2,3-epoxypropyl) -acridone, 22 g of succinic acid, 0.2 g of benzyltriethylammonium chloride and 200 mL of dimethylacetamide and heated to 80 ° C.
After confirming the completion of the reaction by thin layer chromatography, 300 mL of water was added for crystallization, and the mixture was collected by a suction filter. The obtained crystal was recrystallized with ethanol to obtain an acridone oligomer (48). Yield 43%. (Melting point: 160 ° C)

［合成例４］
（アクリドンオリゴマー（１３）の合成）
合成例３と同様の方法で、１０‐（２，３‐エポキシプロピル）−アクリドンと市販の試薬を用い、アクリドンオリゴマー（１３）を合成した。 [Synthesis Example 4]
(Synthesis of acridone oligomer (13))
Acridone oligomer (13) was synthesized in the same manner as in Synthesis Example 3 using 10- (2,3-epoxypropyl) -acridone and a commercially available reagent.

［合成例５］
（アクリドンオリゴマー（２４）の合成）
合成例３と同様の方法で、１０‐（２，３‐エポキシプロピル）−アクリドンと市販の試薬を用い、アクリドンオリゴマー（２４）を合成した。 [Synthesis Example 5]
(Synthesis of acridone oligomer (24))
Acridone oligomer (24) was synthesized in the same manner as in Synthesis Example 3 using 10- (2,3-epoxypropyl) -acridone and a commercially available reagent.

［合成例６］
（アクリドンオリゴマー（２３）の合成）
合成例３と同様の方法で、１０‐（２，３‐エポキシプロピル）−アクリドンと市販の試薬を用い、アクリドンオリゴマー（２３）を合成した。 [Synthesis Example 6]
(Synthesis of acridone oligomer (23))
Acridone oligomer (23) was synthesized in the same manner as in Synthesis Example 3 using 10- (2,3-epoxypropyl) -acridone and a commercially available reagent.

［合成例７］
（４，４’−ジヒドロキシ安息香酸−１，３−プロパンジアミドの合成）
４−ジヒドロキシ安息香酸３１ｇにＴＨＦ３００ｍＬを加え攪拌下、ジメチルアミノピリジン２．５ｇを加えた。強攪拌下、ジシクロヘキシルカルボジイミド４５ｇを加えた後、プロパンジアミン７ｇを滴下した。
薄層クロマトグラフィーにより反応の進行を確認後、生じたＮ，Ｎ−ジシクロヘキシル尿素を濾過により除去し、濾液を濃縮した。得られたスラリーを水３００ｍＬ中に分散することで、４，４’−ジヒドロキシ安息香酸−１，３−プロパンジアミドをアモルファスとして得た。収量７２％。（融点：未測定） [Synthesis Example 7]
(Synthesis of 4,4′-dihydroxybenzoic acid-1,3-propanediamide)
To 31 g of 4-dihydroxybenzoic acid, 300 mL of THF was added, and 2.5 g of dimethylaminopyridine was added with stirring. After adding 45 g of dicyclohexylcarbodiimide under strong stirring, 7 g of propanediamine was added dropwise.
After confirming the progress of the reaction by thin layer chromatography, the produced N, N-dicyclohexylurea was removed by filtration, and the filtrate was concentrated. The obtained slurry was dispersed in 300 mL of water to obtain 4,4′-dihydroxybenzoic acid-1,3-propanediamide as amorphous. Yield 72%. (Melting point: not measured)

（アクリドンオリゴマー（５３）の合成）
１０−（２−ヒドロキシエチル）−アクリドン３６ｇとトリエチルアミン１４ｇのジメチルアセトアミド２００ｍＬ溶液を氷冷し、トリメット酸クロリド１３ｇを内温が５℃を上回らないように滴下した。
反応を薄層クロマトグラフィーにより追跡し、反応終了後、クロロホルムと水の１：１混合液４００ｍＬを加え、有機層を分取した。硫酸マグネシウムにより乾燥、濾過により不溶物を除去し、濾液を濃縮した。得られた粘性オイルをイソプロパノールに溶解し、ヘキサンを加えて晶析し、濾取した。収率４３％。（融点：１３２℃） (Synthesis of acridone oligomer (53))
A solution of 36 g of 10- (2-hydroxyethyl) -acridone and 14 g of triethylamine in 200 mL of dimethylacetamide was ice-cooled, and 13 g of trimetic acid chloride was added dropwise so that the internal temperature did not exceed 5 ° C.
The reaction was monitored by thin layer chromatography. After completion of the reaction, 400 mL of a 1: 1 mixture of chloroform and water was added to separate the organic layer. The extract was dried over magnesium sulfate, insolubles were removed by filtration, and the filtrate was concentrated. The resulting viscous oil was dissolved in isopropanol, crystallized by adding hexane, and collected by filtration. Yield 43%. (Melting point: 132 ° C)

［合成例８］
（３，３’，５，５’−テトラヒドロキシ安息香酸−１，３−プロパンジアミドの合成）
３，５−ジヒドロキシ安息香酸３１ｇにＴＨＦ３００ｍＬを加え攪拌下、ジメチルアミノピリジン２．５ｇを加えた。強攪拌下、ジシクロヘキシルカルボジイミド４５ｇを加えた後、プロパンジアミン７ｇを滴下した。
薄層クロマトグラフィーにより反応の進行を確認後、生じたＮ，Ｎ−ジシクロヘキシル尿素を濾化により除去し、濾液を濃縮した。得られたスラリーを水３００ｍＬ中に分散することで、標記化合物をアモルファスとして得た。収量７２％。（融点：未測定） [Synthesis Example 8]
(Synthesis of 3,3 ′, 5,5′-tetrahydroxybenzoic acid-1,3-propanediamide)
300 g of THF was added to 31 g of 3,5-dihydroxybenzoic acid, and 2.5 g of dimethylaminopyridine was added with stirring. After adding 45 g of dicyclohexylcarbodiimide under strong stirring, 7 g of propanediamine was added dropwise.
After confirming the progress of the reaction by thin layer chromatography, the produced N, N-dicyclohexylurea was removed by filtration, and the filtrate was concentrated. The obtained slurry was dispersed in 300 mL of water to obtain the title compound as amorphous. Yield 72%. (Melting point: not measured)

（アクリドンオリゴマー（３５）の合成）
合成した３，３’，５，５’−テトラヒドロキシ安息香酸−１，３−プロパンジアミドを用い、合成例３と同様の方法により、合成した。収率（融点：１６８℃） (Synthesis of acridone oligomer (35))
The synthesized 3,3 ′, 5,5′-tetrahydroxybenzoic acid-1,3-propanediamide was synthesized in the same manner as in Synthesis Example 3. Yield (melting point: 168 ° C)

［合成例９］
（アクリドン化合物（ｚ）の合成）
乾燥管を付したフラスコに、１０−（２，３−エポキシプロピル）−アクリドン２５ｇ、ドデカン酸１４ｇ、ベンジルトリエチルアンモニウムクロリド０．２ｇ、ジメチルアセトアミド２００ｍＬを入れ、８０℃に加熱した。
反応終了を薄層クロマトグラフィーで確認した後、水３００ｍＬを加え、結晶化した。吸引ろ過して固体を取り出した後、乳鉢により粉砕、アセトニトリルに１２時間分散することでアクリドン化合物（ｚ）を得た。収率８０％。（融点：１３６℃） [Synthesis Example 9]
(Synthesis of acridone compound (z))
A flask equipped with a drying tube was charged with 25 g of 10- (2,3-epoxypropyl) -acridone, 14 g of dodecanoic acid, 0.2 g of benzyltriethylammonium chloride, and 200 mL of dimethylacetamide, and heated to 80 ° C.
After the completion of the reaction was confirmed by thin layer chromatography, 300 mL of water was added to cause crystallization. After taking out the solid by suction filtration, the acridone compound (z) was obtained by grinding with a mortar and dispersing in acetonitrile for 12 hours. Yield 80%. (Melting point: 136 ° C)

合成した化合物を含め各種アクリドン化合物のデータを、下記第１表（ＵＶデータ、溶解性、溶媒：メタノール）、第２表（ＵＶデータ、溶解性、混合溶媒（質量比）：メチルエチルケトン／酢酸メトキシプロピル＝１／１）および第３表（ＮＭＲデータ）に示す。   Table 1 (UV data, solubility, solvent: methanol), Table 2 (UV data, solubility, mixed solvent (mass ratio): methyl ethyl ketone / methoxypropyl acetate) = 1/1) and Table 3 (NMR data).

第１表
────────────────────────────────────────
化合物 λｍａｘ（ε：吸光度） λｍａｘ（ε：吸光度） 溶解性
────────────────────────────────────────
（ｘ） ３９３ｎｍ（０．９２） ３７０ｎｍ（０．８１） Ｄ
（ｙ） ３９４ｎｍ（０．９７） ３７１ｎｍ（０．９６） Ｄ
（ｚ） ３９０ｎｍ（１．００） ３７２ｎｍ（０．７５） Ｃ
（２） ３９１ｎｍ（１．８６） ３７３ｎｍ（１．５１） Ｂ
（２４） ３９２ｎｍ（１．７５） ３７４ｎｍ（１．４８） Ｂ
（３３） ３９２ｎｍ（１．８０） ３７３ｎｍ（１．５０） Ｃ
（２３） ３９３ｎｍ（１．７９） ３７３ｎｍ（１．５０） Ｂ
（３４） ３９２ｎｍ（１．７９） ３７４ｎｍ（１．５０） Ａ
（３６） ３９４ｎｍ（１．９２） ３７５ｎｍ（１．６１） Ａ
（５３） ３９０ｎｍ（２．９０） ３７３ｎｍ（２．１５） Ａ
（３５） ３９６ｎｍ（２．９４） ３７８ｎｍ（２．２２） Ｂ
──────────────────────────────────────── Table 1 ─────────────────────────────────────────
Compound λmax (ε: Absorbance) λmax (ε: Absorbance) Solubility ─────────────────────────────────── ─────
(X) 393 nm (0.92) 370 nm (0.81) D
(Y) 394 nm (0.97) 371 nm (0.96) D
(Z) 390 nm (1.00) 372 nm (0.75) C
(2) 391 nm (1.86) 373 nm (1.51) B
(24) 392 nm (1.75) 374 nm (1.48) B
(33) 392 nm (1.80) 373 nm (1.50) C
(23) 393 nm (1.79) 373 nm (1.50) B
(34) 392 nm (1.79) 374 nm (1.50) A
(36) 394 nm (1.92) 375 nm (1.61) A
(53) 390 nm (2.90) 373 nm (2.15) A
(35) 396 nm (2.94) 378 nm (2.22) B
────────────────────────────────────────

（註）
溶解性Ａ：１ｇのアクリドン化合物を、メタノール１０ｍＬに分散したところ、完全に溶けた；
溶解性Ｂ：上記と同様に分散したところ、わずかに溶け残りがある；
溶解性Ｃ：上記と同様に分散したところ、溶け残りがある；
溶解性Ｄ：上記と同様に分散したところ、ほとんど溶けない。 (註)
Solubility A: 1 g of acridone compound was completely dissolved when dispersed in 10 mL of methanol;
Solubility B: When dispersed as above, there is a slight unresolved residue;
Solubility C: Dispersed in the same manner as above, but undissolved residue;
Solubility D: Almost no solubility when dispersed in the same manner as above.

第２表
────────────────────────────────────────
化合物 λｍａｘ（ε：吸光度） λｍａｘ（ε：吸光度） 溶解性
────────────────────────────────────────
（ｘ） ３９２ｎｍ（０．９６） ３７５ｎｍ（０．８６） Ｄ
（ｙ） ３９３ｎｍ（１．２０） ３７６ｎｍ（０．９２） Ｃ
（ｚ） ３９０ｎｍ（０．９７） ３７３ｎｍ（０．７２） Ｃ
（２） ３９１ｎｍ（１．９８） ３７３ｎｍ（１．５１） Ｂ
（２４） ３９１ｎｍ（１．８８） ３７３ｎｍ（１．４６） Ｂ
（３３） ３９２ｎｍ（１．９５） ３７４ｎｍ（１．５１） Ｂ
（２３） ３９４ｎｍ（１．９４） ３７４ｎｍ（１．４９） Ｂ
（３４） ３９２ｎｍ（１．９４） ３７４ｎｍ（１．５０） Ｂ
（３６） ３９５ｎｍ（１．９９） ３７４ｎｍ（１．７０） Ａ
（５３） ３９１ｎｍ（２．８９） ３７４ｎｍ（２．０９） Ａ
（３５） ３９６ｎｍ（２．９８） ３７８ｎｍ（２．３５） Ｂ
──────────────────────────────────────── Table 2 ─────────────────────────────────────────
Compound λmax (ε: Absorbance) λmax (ε: Absorbance) Solubility ─────────────────────────────────── ─────
(X) 392 nm (0.96) 375 nm (0.86) D
(Y) 393 nm (1.20) 376 nm (0.92) C
(Z) 390 nm (0.97) 373 nm (0.72) C
(2) 391 nm (1.98) 373 nm (1.51) B
(24) 391 nm (1.88) 373 nm (1.46) B
(33) 392 nm (1.95) 374 nm (1.51) B
(23) 394 nm (1.94) 374 nm (1.49) B
(34) 392 nm (1.94) 374 nm (1.50) B
(36) 395 nm (1.99) 374 nm (1.70) A
(53) 391 nm (2.89) 374 nm (2.09) A
(35) 396 nm (2.98) 378 nm (2.35) B
────────────────────────────────────────

（註）
溶解性Ａ：１ｇのアクリドン化合物を、メチルエチルケトン／酢酸メトキシプロピル混合溶媒（質量比：１／１）１０ｍＬに分散したところ、完全に溶けた；
溶解性Ｂ：上記と同様に分散したところ、わずかに溶け残りがある；
溶解性Ｃ：上記と同様に分散したところ、溶け残りがある；
溶解性Ｄ：上記と同様に分散したところ、ほとんど溶けない。 (註)
Solubility A: 1 g of acridone compound was completely dissolved when dispersed in 10 mL of a mixed solvent of methyl ethyl ketone / methoxypropyl acetate (mass ratio: 1/1);
Solubility B: When dispersed as above, there is a slight unresolved residue;
Solubility C: Dispersed in the same manner as above, but undissolved residue;
Solubility D: Almost no solubility when dispersed in the same manner as above.

第３表
────────────────────────────────────────
化合物 δ（プロトン数）
────────────────────────────────────────
（２）1.1-1.7(8H)、2.3(4H)、3.4(4H)、4.4(4H)、6.4-6.8(8H)、7.3(4H)、7.8(4H)
（４８）1.7(4H)、2.3(4H)、3.3(4H)4.0-4.3(6H)、6.5-6.7(8H)、7.2(4H)、7.8(4H)
（１３）2.3(2H)、2.8(4H)、3.4(4H)、4.1(4H)、6.4-6.9(8H)、7.2(4H)、7.8(4H)、8.0-8.3(2H)
（２４）2.6(4H)、3.4(4H)、4.0-4.3(6H)、6.4-6.8(8H)、7.2(4H)、7.8(4H)
（３３）1.2-1.7(8H)、2.3(4H)、3.3(4H)、4.0-4.3(6H)、6.5-6.8(8H)、7.3(4H)、7.8(4H)
（２３）1.7(6H)、3.3(4H)、3.8-4.1(6H)、6.5(4H)、6.7-6.8(8H)、7.0(4H)、7.3(4H)、7.8(4H)
（３４）1.9(2H)、3.2(4H)、3.9-4.2(6H)、6.5-7.1(12H)、7.2-7.5(8H)、7.9(4H)、8.0-8.3(2H)
（３６）3.2(4H)、3.8-4.1(9H)、6.4-6.8(9H)、7.0(2H)、7.3(4H)、7.8(4H)
（５３）3.5(6H)、4.6(6H)、6.5-6.8(12H)、7.2(6H)、7.7(6H)、8.9(3H)
（３５）1.8-2.0(6H)、3.2-3.3(12H)、3.8-4.1(12H)、6.4-6.8(18H)、7.0(4H)、7.2(8H)、7.7(8H)、8-8.4(2H)
──────────────────────────────────────── Table 3 ─────────────────────────────────────────
Compound δ (proton number)
────────────────────────────────────────
(2) 1.1-1.7 (8H), 2.3 (4H), 3.4 (4H), 4.4 (4H), 6.4-6.8 (8H), 7.3 (4H), 7.8 (4H)
(48) 1.7 (4H), 2.3 (4H), 3.3 (4H) 4.0-4.3 (6H), 6.5-6.7 (8H), 7.2 (4H), 7.8 (4H)
(13) 2.3 (2H), 2.8 (4H), 3.4 (4H), 4.1 (4H), 6.4-6.9 (8H), 7.2 (4H), 7.8 (4H), 8.0-8.3 (2H)
(24) 2.6 (4H), 3.4 (4H), 4.0-4.3 (6H), 6.4-6.8 (8H), 7.2 (4H), 7.8 (4H)
(33) 1.2-1.7 (8H), 2.3 (4H), 3.3 (4H), 4.0-4.3 (6H), 6.5-6.8 (8H), 7.3 (4H), 7.8 (4H)
(23) 1.7 (6H), 3.3 (4H), 3.8-4.1 (6H), 6.5 (4H), 6.7-6.8 (8H), 7.0 (4H), 7.3 (4H), 7.8 (4H)
(34) 1.9 (2H), 3.2 (4H), 3.9-4.2 (6H), 6.5-7.1 (12H), 7.2-7.5 (8H), 7.9 (4H), 8.0-8.3 (2H)
(36) 3.2 (4H), 3.8-4.1 (9H), 6.4-6.8 (9H), 7.0 (2H), 7.3 (4H), 7.8 (4H)
(53) 3.5 (6H), 4.6 (6H), 6.5-6.8 (12H), 7.2 (6H), 7.7 (6H), 8.9 (3H)
(35) 1.8-2.0 (6H), 3.2-3.3 (12H), 3.8-4.1 (12H), 6.4-6.8 (18H), 7.0 (4H), 7.2 (8H), 7.7 (8H), 8-8.4 ( 2H)
────────────────────────────────────────

［実施例１］
（第一感光層の形成）
２０μｍ厚のポリエチレンテレフタレートフイルムに、下記の組成からなる第一感光性樹脂組成物溶液を塗布し、乾燥して、２５μｍ厚の第一感光層を形成した。 [Example 1]
(Formation of first photosensitive layer)
A first photosensitive resin composition solution having the following composition was applied to a 20 μm thick polyethylene terephthalate film and dried to form a 25 μm thick first photosensitive layer.

────────────────────────────────────────
第一感光性樹脂組成物溶液
────────────────────────────────────────
メチルメタクリレート／２−エチルへキシルアクリレート／ベンジルメタクリレート／メタクリル酸共重合体（共重合体組成（モル比）：５５／１１．７／４．５／２８．８、質量平均分子量：９００００） １５質量部
ドデカプロピレングリコールジアクリレート ６．５質量部
テトラエチレングリコールジメタクリレート １．５質量部
４，４’−ビス（ジエチルアミノベンゾフェノン） ０．０４質量部
２，２’−ビス（２−クロロフェニル）−４，４’，５，５’−テトラフェニルビイミダゾール １．０４質量部
ｐ−トルエンスルホンアミド ０．５質量部
マラカイトグリーンシュウ酸塩 ０．０２質量部
３−モルホリノメチル−１−フェニルトリアゾール−２−チオン ０．０１質量部
ロイコクリスタルバイオレット ０．２質量部
トリブロモメチルフェニルスルホン ０．１質量部
メチルエチルケトン ３０質量部
──────────────────────────────────────── ────────────────────────────────────────
First photosensitive resin composition solution ------------------------------
Methyl methacrylate / 2-ethylhexyl acrylate / benzyl methacrylate / methacrylic acid copolymer (copolymer composition (molar ratio): 55 / 11.7 / 4.5 / 28.8, mass average molecular weight: 90000) 15 mass Parts dodecapropylene glycol diacrylate 6.5 parts by mass tetraethylene glycol dimethacrylate 1.5 parts by mass 4,4′-bis (diethylaminobenzophenone) 0.04 parts by mass 2,2′-bis (2-chlorophenyl) -4, 4 ', 5,5'-Tetraphenylbiimidazole 1.04 parts by mass p-toluenesulfonamide 0.5 parts by mass Malachite green oxalate 0.02 parts by mass 3-morpholinomethyl-1-phenyltriazole-2-thione 0.01 parts by weight Leuco Crystal Violet 0.2 parts by weight Tribro Momethylphenylsulfone 0.1 parts by weight Methyl ethyl ketone 30 parts by weight ───────────────────────────────────── ───

（第二感光層の形成）
第一感光層の上に、下記の組成からなる第二感光性樹脂組成物溶液を塗布し、乾燥して、５μｍ厚の第二感光層を形成した。 (Formation of second photosensitive layer)
On the 1st photosensitive layer, the 2nd photosensitive resin composition solution which consists of the following composition was apply | coated, and it dried and formed the 2 micrometers photosensitive 2nd photosensitive layer.

────────────────────────────────────────
第二感光性樹脂組成物溶液
────────────────────────────────────────
メチルメタクリレート／２−エチルへキシルアクリレート／ベンジルメタクリレート／メタクリル酸共重合体（共重合体組成（モル比）：５５／１１．７／４．５／２８．８、質量平均分子量：９００００） １５質量部
ドデカプロピレングリコールジアクリレート ６．５質量部
テトラエチレングリコールジメタクリレート １．５質量部
アクリドンオリゴマー（２） ０．１６質量部
２，２’−ビス（２−クロロフェニル）−４，４’，５，５’−テトラフェニルビイミダゾール １．０４質量部
ｐ−トルエンスルホンアミド ０．５質量部
マラカイトグリーンシュウ酸塩 ０．０２質量部
３−モルホリノメチル−１−フェニルトリアゾール−２−チオン ０．０１質量部
ロイコクリスタルバイオレット ０．２質量部
トリブロモメチルフェニルスルホン ０．１質量部
メチルエチルケトン ３０質量部
──────────────────────────────────────── ────────────────────────────────────────
Second photosensitive resin composition solution ────────────────────────────────────────
Methyl methacrylate / 2-ethylhexyl acrylate / benzyl methacrylate / methacrylic acid copolymer (copolymer composition (molar ratio): 55 / 11.7 / 4.5 / 28.8, mass average molecular weight: 90000) 15 mass Part dodecapropylene glycol diacrylate 6.5 parts by mass tetraethylene glycol dimethacrylate 1.5 parts by mass acridone oligomer (2) 0.16 parts by mass 2,2′-bis (2-chlorophenyl) -4,4 ′, 5 , 5'-tetraphenylbiimidazole 1.04 parts by mass p-toluenesulfonamide 0.5 parts by mass Malachite green oxalate 0.02 parts by mass 3-morpholinomethyl-1-phenyltriazole-2-thione 0.01 parts by mass Parts Leuco Crystal Violet 0.2 parts by mass Tribromomethylphenyls Hong 0.1 parts by weight Methyl ethyl ketone 30 parts by weight ────────────────────────────────────────

（感光性転写シートの作製）
第二感光層の上に、２０μｍ厚のポリエチレンフイルムを積層して感光性転写シートを得た。 (Preparation of photosensitive transfer sheet)
A 20 μm thick polyethylene film was laminated on the second photosensitive layer to obtain a photosensitive transfer sheet.

（感度の測定）
表面を研磨、水洗、乾燥した銅張積層板（ナショナルプリント配線基板用銅張積層板Ｒ−１７０１、松下電工（株）製）上に保護フイルムを剥がした感光性転写シートを銅表面と感光性樹脂層とが接触するように重ね、ラミネーター（ＭＯＤＥＬ８Ｂ−７２０−ＰＨ、大成ラミネーター（株）製）を用いて積層した。積層の条件は、基板温度７０℃、積層温度１０５℃、積層圧力３ｋｇ／ｃｍ²、そして積層の搬送速度１．２ｍ／分とした。積層後、温度２３℃、相対湿度５５％で１０分間放置した。濃度段差０．１５、濃度段数１〜１５段のステップウェッジ（富士ステップガイド、富士写真フイルム（株）製）を通して、感光性転写シートの感光層に、ポリエチレンテレフタレートフイルム（支持体）側から、レーザー露光装置を用いて、４０５ｎｍのレーザー光を４０ｍＪ／ｃｍ^２照射した。次に、ポリエチレンテレフタレートフイルムを剥がし取り、感光層の表面に３０℃の１質量％炭酸ナトリウム水溶液を、１．０３ｋｇ／ｃｍ^２の圧力にてスプレーし、未露光部を除去、現像した。現像後に、感光層が完全に溶解する最低段数（クリア段数）を読み取った。クリア段数が多い方が高感度であることを意味する。 (Measurement of sensitivity)
A photosensitive transfer sheet with a protective film peeled off on a copper-clad laminate (copper-clad laminate R-1701 for National Printed Wiring Board, manufactured by Matsushita Electric Works Co., Ltd.) that has been polished, washed with water, and dried. The layers were stacked so as to be in contact with the resin layer, and stacked using a laminator (MODEL8B-720-PH, manufactured by Taisei Laminator Co., Ltd.). The lamination conditions were a substrate temperature of 70 ° C., a lamination temperature of 105 ° C., a lamination pressure of 3 kg / cm ² , and a lamination conveyance speed of 1.2 m / min. After the lamination, it was left for 10 minutes at a temperature of 23 ° C. and a relative humidity of 55%. From a polyethylene terephthalate film (support) side to a photosensitive layer of a photosensitive transfer sheet through a step wedge (Fuji Step Guide, manufactured by Fuji Photo Film Co., Ltd.) with a density step of 0.15 and a density step number of 1 to 15 steps, a laser Using an exposure apparatus, 405 nm laser light was irradiated at 40 mJ / cm ² . Next, the polyethylene terephthalate film was peeled off, and a 1 mass% sodium carbonate aqueous solution at 30 ° C. was sprayed onto the surface of the photosensitive layer at a pressure of 1.03 kg / cm ² to remove and develop the unexposed area. After development, the lowest number of steps (clear step) at which the photosensitive layer was completely dissolved was read. It means that the higher the number of clear steps, the higher the sensitivity.

別に、感光性転写材料を６０℃で３日間保存し、上記と同様に感度を測定した。
以上の結果を第４表に示す。 Separately, the photosensitive transfer material was stored at 60 ° C. for 3 days, and the sensitivity was measured in the same manner as described above.
The above results are shown in Table 4.

［実施例２］
アクリドンオリゴマー（２）に代えて、アクリドンオリゴマー（５３）を用いた以外は、実施例１と同様に感光性転写シートを作製して評価した。結果を第４表に示す。 [Example 2]
A photosensitive transfer sheet was prepared and evaluated in the same manner as in Example 1 except that the acridone oligomer (53) was used in place of the acridone oligomer (2). The results are shown in Table 4.

［比較例１］
アクリドンオリゴマー（２）に代えて、アクリドン化合物（ｙ）を用いた以外は、実施例１と同様に感光性転写シートを作製して評価した。結果を第４表に示す。 [Comparative Example 1]
A photosensitive transfer sheet was prepared and evaluated in the same manner as in Example 1 except that the acridone compound (y) was used in place of the acridone oligomer (2). The results are shown in Table 4.

第４表
────────────────────────────────────────
感光性 感度（クリア段数）
転写シート アクリドン化合物 製造直後 ６０℃で３日保存後
────────────────────────────────────────
実施例１ （９） １４段 １３段
実施例２ （１１） １４段 １４段
比較例１ （ｙ） １４段 １０段
──────────────────────────────────────── Table 4 ─────────────────────────────────────────
Photosensitivity (clear step number)
Transfer sheet Acridone compound Immediately after production After storage at 60 ℃ for 3 days ───────────────────────────────────── ───
Example 1 (9) 14th stage 13th stage Example 2 (11) 14th stage 14th stage Comparative Example 1 (y) 14th stage 10th stage ──────────────────── ────────────────────

本発明に従う感光性転写シート（感光性樹脂組成物層が１層）の一例の断面図である。It is sectional drawing of an example of the photosensitive transfer sheet (one photosensitive resin composition layer) according to this invention. 本発明に従う感光性転写シート（感光性樹脂組成物層が２層）の一例の断面図である。It is sectional drawing of an example of the photosensitive transfer sheet (the photosensitive resin composition layer is two layers) according to this invention. 本発明に従う感光性転写シート（感光性樹脂組成物層が２層）の別の例の模式断面図である。It is a schematic cross section of another example of the photosensitive transfer sheet (the photosensitive resin composition layer is two layers) according to the present invention. 本発明に従う感光性転写シート（感光性樹脂組成物層が２層）のまた別の例の模式断面図である。It is a schematic cross section of another example of a photosensitive transfer sheet (two photosensitive resin composition layers) according to the present invention. 本発明に従う感光性転写シート（感光性樹脂組成物層が２層）のさらに別の例の模式断面図である。It is a schematic cross section of another example of a photosensitive transfer sheet (two photosensitive resin composition layers) according to the present invention. 本発明に従う感光性転写シート（感光性樹脂組成物層が２層）に支持体側から光を照射したときの、光の照射量と硬化層の厚さとの関係を表す感度曲線を示すグラフである。It is a graph which shows the sensitivity curve showing the relationship between the light irradiation amount and the thickness of a hardened layer when light is irradiated from the support body side to the photosensitive transfer sheet (two photosensitive resin composition layers) according to this invention. . 本発明に従う金属めっきスルーホールを有するプリント配線板の製造工程を概略的に示した図である。It is the figure which showed schematically the manufacturing process of the printed wiring board which has a metal plating through hole according to this invention. 本発明に従うスルーホールを有するプリント配線板の製造工程を示す図である。It is a figure which shows the manufacturing process of the printed wiring board which has a through hole according to this invention.

符号の説明Explanation of symbols

１０ 感光性転写シート
１１ 支持体
１２ 感光性樹脂組成物層
１５ 保護フイルム
１６ 配線パターン形成用の硬化樹脂組成物領域
１７ スルーホールの金属めっき保護用の硬化樹脂組成物領域
１８ 剥離片
２０ 感光性転写シート
２１ 支持体
２２ 第一感光層
２３ バリアー層
２４ 第二感光層
２５ 保護フイルム
２６ 配線パターン形成用の硬化層
２７ スルーホールの金属層保護用硬化層
２８ 剥離片
３１ プリント配線板形成用基板
３２ スルーホール
３３ 金属めっき層
３４ 配線パターン
４１ 圧着ローラ
DESCRIPTION OF SYMBOLS 10 Photosensitive transfer sheet 11 Support body 12 Photosensitive resin composition layer 15 Protective film 16 Cured resin composition area | region for wiring pattern formation 17 Cured resin composition area | region for metal plating protection of a through hole 18 Stripping piece 20 Photosensitive transfer Sheet 21 Support 22 First photosensitive layer 23 Barrier layer 24 Second photosensitive layer 25 Protective film 26 Hardened layer for forming wiring pattern 27 Hardened layer for protecting metal layer of through hole 28 Peeling piece 31 Printed wiring board forming substrate 32 Through Hole 33 Metal plating layer 34 Wiring pattern 41 Pressure roller

Claims (13)

バインダー、重合性化合物、光重合開始剤およびアクリドンオリゴマーを含み、アクリドンオリゴマーが、置換されていてもよい２乃至４個のアクリドン−１０−イル基を二価乃至四価の連結基で連結した分子構造を有することを特徴とする感光性樹脂組成物。   Including a binder, a polymerizable compound, a photopolymerization initiator, and an acridone oligomer, the acridone oligomer connects 2 to 4 optionally substituted acridone-10-yl groups with a divalent to tetravalent linking group. A photosensitive resin composition having a molecular structure. アクリドンオリゴマーが、下記式（Ｉ）で表される請求項１に記載の感光性樹脂組成物：

［式中、Ｒ^１およびＲ^２は、それぞれ独立に、水素原子、ハロゲン原子、ニトロ、シアノ、ヒドロキシル、メルカプト、カルボキシル、アミノ、カルバモイル、カルバモイルオキシ、ウレイド、スルファモイル、アルキル基、置換アルキル基、アリール基、置換アリール基、複素環基、アルコキシ基、置換アルコキシ基、アリールオキシ基、置換アリールオキシ基、アルキルチオ基、置換アルキルチオ基、アリールチオ基、置換アリールチオ基、アシル基、アルコキシカルボニル基、置換アルコキシカルボニル基、置換アミノ基、アミド基、置換カルバモイル基、置換カルバモイルオキシ基、アルコキシカルボニルアミノ基、置換アルコキシカルボニルオキシ基、アリールオキシカルボニルアミノ基、置換アリールオキシカルボニルアミノ基、置換ウレイド基、アルキルスルホニル基、置換アルキルスルホニル基、アリールスルホニル基、置換アリールスルホニル基、スルホンアミド基または置換スルファモイル基である；Ｙは、−Ｏ−、−ＮＨ−、−Ｏ−ＣＯ−、−ＣＯ−Ｏ−、−ＮＨ−ＣＯ−、−ＣＯ−ＮＨ−、−ＮＨ−ＣＯ−Ｏ−および−Ｏ−ＣＯ−ＮＨ−からなる群より選ばれる二価の連結基である；Ｌは、炭素原子を含むｎ価の連結基であって、炭素原子でＹと結合する；ｐは、１、２または３である；ｑは、０または１である；ｎは、２、３または４であって、ｎ個の部分構造は互いに異なっていてもよい］。 The photosensitive resin composition according to claim 1, wherein the acridone oligomer is represented by the following formula (I):

[Wherein R ¹ and R ² are each independently a hydrogen atom, a halogen atom, nitro, cyano, hydroxyl, mercapto, carboxyl, amino, carbamoyl, carbamoyloxy, ureido, sulfamoyl, alkyl group, substituted alkyl group, aryl Group, substituted aryl group, heterocyclic group, alkoxy group, substituted alkoxy group, aryloxy group, substituted aryloxy group, alkylthio group, substituted alkylthio group, arylthio group, substituted arylthio group, acyl group, alkoxycarbonyl group, substituted alkoxycarbonyl Group, substituted amino group, amide group, substituted carbamoyl group, substituted carbamoyloxy group, alkoxycarbonylamino group, substituted alkoxycarbonyloxy group, aryloxycarbonylamino group, substituted aryloxycarbonylamino group , A substituted ureido group, an alkylsulfonyl group, a substituted alkylsulfonyl group, an arylsulfonyl group, a substituted arylsulfonyl group, a sulfonamido group, or a substituted sulfamoyl group; Y is —O—, —NH—, —O—CO—, A divalent linking group selected from the group consisting of -CO-O-, -NH-CO-, -CO-NH-, -NH-CO-O- and -O-CO-NH-; An n-valent linking group containing a carbon atom, bonded to Y at the carbon atom; p is 1, 2 or 3; q is 0 or 1; n is 2, 3 or 4 N partial structures may be different from each other]. アクリドンオリゴマーが、下記式（II）で表されるアクリドンダイマーである請求項１に記載の感光性樹脂組成物：

［式中、Ｒ^１、Ｒ^２、Ｒ^３およびＲ^４は、それぞれ独立に、水素原子、ハロゲン原子、ニトロ、シアノ、炭素原子数が１乃至６のアルキル基、炭素原子数が６乃至１３のアリール基、炭素原子数が６乃至１３のニトロ置換アリール基、炭素原子数が１乃至６のアシル基、炭素原子数が２乃至６のアルコキシカルボニル基、炭素原子数が１乃至６のアミド基、炭素原子数が１乃至６のアルキルスルホニル基または炭素原子数が１乃至６のスルホンアミド基である；Ｙ^１およびＹ^２は、それぞれ独立に、−Ｏ−、−ＮＨ−、−Ｏ−ＣＯ−、−ＣＯ−Ｏ−、−ＮＨ−ＣＯ−、−ＣＯ−ＮＨ−、−ＮＨ−ＣＯ−Ｏ−および−Ｏ−ＣＯ−ＮＨ−からなる群より選ばれる二価の連結基である；Ｌは、−ＡＬ−、−ＡＲ−、−ＡＬ−ＡＲ−、−ＡＬ−ＡＲ−ＡＬ−、−ＡＬ−Ｈｃ−ＡＬ−、−ＡＲ−ＡＬ−ＡＲ−、−ＡＲ−Ｙ^３−ＡＬ−Ｙ^４−ＡＲ−および−ＡＬ−ＮＨ−ＡＬ−からなる群より選ばれる二価の連結基であって、ＡＬは、炭素原子数が１乃至２０のアルキレン基または炭素原子数が２乃至２０のアルケニレン基であり、ＡＲは、炭素原子数が１乃至６のアルキル基または炭素原子数が２乃至６のアルコキシカルボニル基で置換されていてもよいフェニレンまたはナフチレンであり、Ｈｃは、二価の複素環基であり、Ｙ^３およびＹ^４は、それぞれ独立に、−Ｏ−、−ＮＨ−、−Ｏ−ＣＯ−、−ＣＯ−Ｏ−、−ＮＨ−ＣＯ−、−ＣＯ−ＮＨ−、−ＮＨ−ＣＯ−Ｏ−および−Ｏ−ＣＯ−ＮＨ−からなる群より選ばれる二価の連結基である；ｐおよびｒは、それぞれ独立に、１、２または３である；ｑおよびｓは、それぞれ独立に、０または１である］。 The photosensitive resin composition according to claim 1, wherein the acridone oligomer is an acridone dimer represented by the following formula (II):

[Wherein R ¹ , R ² , R ³ and R ⁴ are each independently a hydrogen atom, a halogen atom, nitro, cyano, an alkyl group having 1 to 6 carbon atoms, or an alkyl group having 6 to 13 carbon atoms. An aryl group, a nitro-substituted aryl group having 6 to 13 carbon atoms, an acyl group having 1 to 6 carbon atoms, an alkoxycarbonyl group having 2 to 6 carbon atoms, an amide group having 1 to 6 carbon atoms, An alkylsulfonyl group having 1 to 6 carbon atoms or a sulfonamide group having 1 to 6 carbon atoms; Y ¹ and Y ² are each independently —O—, —NH—, —O—CO—; , -CO-O-, -NH-CO-, -CO-NH-, -NH-CO-O-, and -O-CO-NH-; , -AL-, -AR-, -AL-AR-, -AL- R-AL -, - AL- Hc-AL -, - AR-AL-AR -, - AR-Y 3 -AL-Y 4 -AR- and -AL-NH-AL- divalent selected from the group consisting of Wherein AL is an alkylene group having 1 to 20 carbon atoms or an alkenylene group having 2 to 20 carbon atoms, and AR is an alkyl group or carbon atom having 1 to 6 carbon atoms Phenylene or naphthylene optionally substituted with an alkoxycarbonyl group having 2 to 6 atoms, Hc is a divalent heterocyclic group, and Y ³ and Y ⁴ are each independently —O—, — Divalent selected from the group consisting of NH-, -O-CO-, -CO-O-, -NH-CO-, -CO-NH-, -NH-CO-O- and -O-CO-NH-. And p and r are each independently 1, 2 Or q; and q and s are each independently 0 or 1]. アクリドンオリゴマーが、下記式（III)で表されるアクリドントリマーである請求項１に記載の感光性樹脂組成物：

［式中、Ｒ^１およびＲ^２は、それぞれ独立に、水素原子、ハロゲン原子、ニトロ、シアノ、炭素原子数が１乃至６のアルキル基、炭素原子数が６乃至１３のアリール基、炭素原子数が６乃至１３のニトロ置換アリール基、炭素原子数が１乃至６のアシル基、炭素原子数が２乃至６のアルコキシカルボニル基、炭素原子数が１乃至６のアミド基、炭素原子数が１乃至６のアルキルスルホニル基または炭素原子数が１乃至６のスルホンアミド基である；Ｙは、−Ｏ−、−ＮＨ−、−Ｏ−ＣＯ−、−ＣＯ−Ｏ−、−ＮＨ−ＣＯ−、−ＣＯ−ＮＨ−、−ＮＨ−ＣＯ−Ｏ−および−Ｏ−ＣＯ−ＮＨ−からなる群より選ばれる二価の連結基である；Ｌは、単結合または炭素原子数が１乃至２０のアルキレン基である；Ｃｙは、三価の芳香族炭化水素環または三価の複素環基である；ｐは、１、２または３である；ｑは、０または１である；式（III)に示される三個の部分構造は、互いに異なっていてもよい］。 The photosensitive resin composition according to claim 1, wherein the acridone oligomer is an acridone trimer represented by the following formula (III):

[Wherein, R ¹ and R ² are each independently a hydrogen atom, a halogen atom, nitro, cyano, an alkyl group having 1 to 6 carbon atoms, an aryl group having 6 to 13 carbon atoms, or the number of carbon atoms Is a nitro-substituted aryl group having 6 to 13 carbon atoms, an acyl group having 1 to 6 carbon atoms, an alkoxycarbonyl group having 2 to 6 carbon atoms, an amide group having 1 to 6 carbon atoms, and 1 to 1 carbon atoms. 6 is an alkylsulfonyl group having 6 carbon atoms or a sulfonamide group having 1 to 6 carbon atoms; Y represents —O—, —NH—, —O—CO—, —CO—O—, —NH—CO—, — A divalent linking group selected from the group consisting of CO-NH-, -NH-CO-O- and -O-CO-NH-; L is a single bond or an alkylene group having 1 to 20 carbon atoms; Cy is a trivalent aromatic hydrocarbon ring Is a trivalent heterocyclic group; p is 1, 2 or 3; q is 0 or 1; the three partial structures represented by formula (III) may be different from each other ]. アクリドンオリゴマーが、下記式（IV）で表されるアクリドンテトラマーである請求項１に記載の感光性樹脂組成物：

［式中、Ｒ^１、Ｒ^２、Ｒ^３およびＲ^４は、それぞれ独立に、水素原子、ハロゲン原子、ニトロ、シアノ、炭素原子数が１乃至６のアルキル基、炭素原子数が６乃至１３のアリール基、炭素原子数が６乃至１３のニトロ置換アリール基、炭素原子数が１乃至６のアシル基、炭素原子数が２乃至６のアルコキシカルボニル基、炭素原子数が１乃至６のアミド基、炭素原子数が１乃至６のアルキルスルホニル基または炭素原子数が１乃至６のスルホンアミド基である；Ｙ^１、Ｙ^２、Ｙ^３およびＹ^４は、それぞれ独立に、−Ｏ−、−ＮＨ−、−Ｏ−ＣＯ−、−ＣＯ−Ｏ−、−ＮＨ−ＣＯ−、−ＣＯ−ＮＨ−、−ＮＨ−ＣＯ−Ｏ−および−Ｏ−ＣＯ−ＮＨ−からなる群より選ばれる二価の連結基である；Ｌ^１、Ｌ^２、Ｌ^４およびＬ^５は、それぞれ独立に、単結合または炭素原子数が１乃至２０のアルキレン基である；Ｃｙ^１およびＣｙ^２は、それぞれ独立に、三価の芳香族炭化水素環または三価の複素環基である；Ｌ^３は、炭素原子数が１乃至２０のアルキレン基である；ｐおよびｒは、それぞれ独立に、１、２または３である；ｑおよびｓは、それぞれ独立に、０または１である；式（IV）に示される四個の部分構造は、互いに異なっていてもよい］。 The photosensitive resin composition according to claim 1, wherein the acridone oligomer is an acridone tetramer represented by the following formula (IV):

[Wherein R ¹ , R ² , R ³ and R ⁴ are each independently a hydrogen atom, a halogen atom, nitro, cyano, an alkyl group having 1 to 6 carbon atoms, or an alkyl group having 6 to 13 carbon atoms. An aryl group, a nitro-substituted aryl group having 6 to 13 carbon atoms, an acyl group having 1 to 6 carbon atoms, an alkoxycarbonyl group having 2 to 6 carbon atoms, an amide group having 1 to 6 carbon atoms, An alkylsulfonyl group having 1 to 6 carbon atoms or a sulfonamido group having 1 to 6 carbon atoms; Y ¹ , Y ² , Y ^3, and Y ⁴ are each independently —O—, —NH—; , —O—CO—, —CO—O—, —NH—CO—, —CO—NH—, —NH—CO—O—, and —O—CO—NH—. is a ^{group; L 1, L 2, L} 4 and ^{L 5,} its The respective independently a single bond or a number of carbon atoms is an alkylene group of 1 to 20; Cy ¹ and Cy ² are each independently a trivalent aromatic hydrocarbon ring or a trivalent heterocyclic group; L ³ is an alkylene group having 1 to 20 carbon atoms; p and r are each independently 1, 2 or 3; q and s are each independently 0 or 1; The four partial structures shown in (IV) may be different from each other]. バインダーが、カルボキシル基を有するポリマーである請求項１に記載の感光性樹脂組成物。   The photosensitive resin composition according to claim 1, wherein the binder is a polymer having a carboxyl group. バインダーが、カルボキシル基を有する繰り返し単位と、カルボキシル基を有しない繰り返し単位とを有するコポリマーであって、コポリマー中のカルボキシル基を有する繰り返し単位の割合が１０乃至４５モル％である請求項６に記載の感光性樹脂組成物。   The binder is a copolymer having a repeating unit having a carboxyl group and a repeating unit having no carboxyl group, and the proportion of the repeating unit having a carboxyl group in the copolymer is 10 to 45 mol%. Photosensitive resin composition. 光重合開始剤が、ハロゲン置換アルキル基を有する複素環化合物、オキシム、ヘキサアリールビイミダゾールおよびケトンからなる群より選ばれる請求項１に記載の感光性樹脂組成物。   The photosensitive resin composition according to claim 1, wherein the photopolymerization initiator is selected from the group consisting of a heterocyclic compound having a halogen-substituted alkyl group, oxime, hexaarylbiimidazole, and ketone. バインダーを３０乃至９０質量％、重合性化合物を５乃至６０質量％、光重合開始剤を０．１乃至３０質量％、アクリドンオリゴマーを０．０５乃至３０質量％含む請求項１に記載の感光性樹脂組成物。   The photosensitive composition according to claim 1, comprising 30 to 90% by mass of a binder, 5 to 60% by mass of a polymerizable compound, 0.1 to 30% by mass of a photopolymerization initiator, and 0.05 to 30% by mass of an acridone oligomer. Resin composition. プリント配線板製造用である請求項１に記載の感光性樹脂組成物。   The photosensitive resin composition according to claim 1, which is for producing a printed wiring board. 下記式（II）で表されるアクリドンダイマー：

［式中、Ｒ^１、Ｒ^２、Ｒ^３およびＲ^４は、それぞれ独立に、水素原子、ハロゲン原子、ニトロ、シアノ、炭素原子数が１乃至６のアルキル基、炭素原子数が６乃至１３のアリール基、炭素原子数が６乃至１３のニトロ置換アリール基、炭素原子数が１乃至６のアシル基、炭素原子数が２乃至６のアルコキシカルボニル基、炭素原子数が１乃至６のアミド基、炭素原子数が１乃至６のアルキルスルホニル基または炭素原子数が１乃至６のスルホンアミド基である；Ｙ^１およびＹ^２は、それぞれ独立に、−Ｏ−、−ＮＨ−、−Ｏ−ＣＯ−、−ＣＯ−Ｏ−、−ＮＨ−ＣＯ−、−ＣＯ−ＮＨ−、−ＮＨ−ＣＯ−Ｏ−および−Ｏ−ＣＯ−ＮＨ−からなる群より選ばれる二価の連結基である；Ｌは、−ＡＬ−、−ＡＲ−、−ＡＬ−ＡＲ−、−ＡＬ−ＡＲ−ＡＬ−、−ＡＬ−Ｈｃ−ＡＬ−、−ＡＲ−ＡＬ−ＡＲ−、−ＡＲ−Ｙ^３−ＡＬ−Ｙ^４−ＡＲ−および−ＡＬ−ＮＨ−ＡＬ−からなる群より選ばれる二価の連結基であって、ＡＬは、炭素原子数が１乃至２０のアルキレン基または炭素原子数が２乃至２０のアルケニレン基であり、ＡＲは、炭素原子数が１乃至６のアルキル基または炭素原子数が２乃至６のアルコキシカルボニル基で置換されていてもよいフェニレンまたはナフチレンであり、Ｈｃは、二価の複素環基であり、Ｙ^３およびＹ^４は、それぞれ独立に、−Ｏ−、−ＮＨ−、−Ｏ−ＣＯ−、−ＣＯ−Ｏ−、−ＮＨ−ＣＯ−、−ＣＯ−ＮＨ−、−ＮＨ−ＣＯ−Ｏ−および−Ｏ−ＣＯ−ＮＨ−からなる群より選ばれる二価の連結基である；ｐおよびｒは、それぞれ独立に、１、２または３である；ｑおよびｓは、それぞれ独立に、０または１である］。 Acridone dimer represented by the following formula (II):

[Wherein R ¹ , R ² , R ³ and R ⁴ are each independently a hydrogen atom, a halogen atom, nitro, cyano, an alkyl group having 1 to 6 carbon atoms, or an alkyl group having 6 to 13 carbon atoms. An aryl group, a nitro-substituted aryl group having 6 to 13 carbon atoms, an acyl group having 1 to 6 carbon atoms, an alkoxycarbonyl group having 2 to 6 carbon atoms, an amide group having 1 to 6 carbon atoms, An alkylsulfonyl group having 1 to 6 carbon atoms or a sulfonamide group having 1 to 6 carbon atoms; Y ¹ and Y ² are each independently —O—, —NH—, —O—CO—; , -CO-O-, -NH-CO-, -CO-NH-, -NH-CO-O-, and -O-CO-NH-; , -AL-, -AR-, -AL-AR-, -AL- R-AL -, - AL- Hc-AL -, - AR-AL-AR -, - AR-Y 3 -AL-Y 4 -AR- and -AL-NH-AL- divalent selected from the group consisting of Wherein AL is an alkylene group having 1 to 20 carbon atoms or an alkenylene group having 2 to 20 carbon atoms, and AR is an alkyl group or carbon atom having 1 to 6 carbon atoms Phenylene or naphthylene optionally substituted with an alkoxycarbonyl group having 2 to 6 atoms, Hc is a divalent heterocyclic group, and Y ³ and Y ⁴ are each independently —O—, — Divalent selected from the group consisting of NH-, -O-CO-, -CO-O-, -NH-CO-, -CO-NH-, -NH-CO-O- and -O-CO-NH-. And p and r are each independently 1, 2 Or q; and q and s are each independently 0 or 1]. 下記式（III)で表されるアクリドントリマー：

［式中、Ｒ^１およびＲ^２は、それぞれ独立に、水素原子、ハロゲン原子、ニトロ、シアノ、炭素原子数が１乃至６のアルキル基、炭素原子数が６乃至１３のアリール基、炭素原子数が６乃至１３のニトロ置換アリール基、炭素原子数が１乃至６のアシル基、炭素原子数が２乃至６のアルコキシカルボニル基、炭素原子数が１乃至６のアミド基、炭素原子数が１乃至６のアルキルスルホニル基または炭素原子数が１乃至６のスルホンアミド基である；Ｙは、−Ｏ−、−ＮＨ−、−Ｏ−ＣＯ−、−ＣＯ−Ｏ−、−ＮＨ−ＣＯ−、−ＣＯ−ＮＨ−、−ＮＨ−ＣＯ−Ｏ−および−Ｏ−ＣＯ−ＮＨ−からなる群より選ばれる二価の連結基である；Ｌは、単結合または炭素原子数が１乃至２０のアルキレン基である；Ｃｙは、三価の芳香族炭化水素環または三価の複素環基である；ｐは、１、２または３である；ｑは、０または１である；式（III)に示される三個の部分構造は、互いに異なっていてもよい］。 An acridone trimer represented by the following formula (III):

[Wherein, R ¹ and R ² are each independently a hydrogen atom, a halogen atom, nitro, cyano, an alkyl group having 1 to 6 carbon atoms, an aryl group having 6 to 13 carbon atoms, or the number of carbon atoms Is a nitro-substituted aryl group having 6 to 13 carbon atoms, an acyl group having 1 to 6 carbon atoms, an alkoxycarbonyl group having 2 to 6 carbon atoms, an amide group having 1 to 6 carbon atoms, and 1 to 1 carbon atoms. 6 is an alkylsulfonyl group having 6 carbon atoms or a sulfonamide group having 1 to 6 carbon atoms; Y represents —O—, —NH—, —O—CO—, —CO—O—, —NH—CO—, — A divalent linking group selected from the group consisting of CO-NH-, -NH-CO-O- and -O-CO-NH-; L is a single bond or an alkylene group having 1 to 20 carbon atoms; Cy is a trivalent aromatic hydrocarbon ring Is a trivalent heterocyclic group; p is 1, 2 or 3; q is 0 or 1; the three partial structures represented by formula (III) may be different from each other ]. 下記式（IV）で表されるアクリドンテトラマー：

［式中、Ｒ^１、Ｒ^２、Ｒ^３およびＲ^４は、それぞれ独立に、水素原子、ハロゲン原子、ニトロ、シアノ、炭素原子数が１乃至６のアルキル基、炭素原子数が６乃至１３のアリール基、炭素原子数が６乃至１３のニトロ置換アリール基、炭素原子数が１乃至６のアシル基、炭素原子数が２乃至６のアルコキシカルボニル基、炭素原子数が１乃至６のアミド基、炭素原子数が１乃至６のアルキルスルホニル基または炭素原子数が１乃至６のスルホンアミド基である；Ｙ^１、Ｙ^２、Ｙ^３およびＹ^４は、それぞれ独立に、−Ｏ−、−ＮＨ−、−Ｏ−ＣＯ−、−ＣＯ−Ｏ−、−ＮＨ−ＣＯ−、−ＣＯ−ＮＨ−、−ＮＨ−ＣＯ−Ｏ−および−Ｏ−ＣＯ−ＮＨ−からなる群より選ばれる二価の連結基である；Ｌ^１、Ｌ^２、Ｌ^４およびＬ^５は、それぞれ独立に、単結合または炭素原子数が１乃至２０のアルキレン基である；Ｃｙ^１およびＣｙ^２は、それぞれ独立に、三価の芳香族炭化水素環または三価の複素環基である；Ｌ^３は、炭素原子数が１乃至２０のアルキレン基である；ｐおよびｒは、それぞれ独立に、１、２または３である；ｑおよびｓは、それぞれ独立に、０または１である；式（IV）に示される四個の部分構造は、互いに異なっていてもよい］。 Acridone tetramer represented by the following formula (IV):

[Wherein R ¹ , R ² , R ³ and R ⁴ are each independently a hydrogen atom, a halogen atom, nitro, cyano, an alkyl group having 1 to 6 carbon atoms, or an alkyl group having 6 to 13 carbon atoms. An aryl group, a nitro-substituted aryl group having 6 to 13 carbon atoms, an acyl group having 1 to 6 carbon atoms, an alkoxycarbonyl group having 2 to 6 carbon atoms, an amide group having 1 to 6 carbon atoms, An alkylsulfonyl group having 1 to 6 carbon atoms or a sulfonamido group having 1 to 6 carbon atoms; Y ¹ , Y ² , Y ^3, and Y ⁴ are each independently —O—, —NH—; , —O—CO—, —CO—O—, —NH—CO—, —CO—NH—, —NH—CO—O—, and —O—CO—NH—. is a ^{group; L 1, L 2, L} 4 and ^{L 5,} its The respective independently a single bond or a number of carbon atoms is an alkylene group of 1 to 20; Cy ¹ and Cy ² are each independently a trivalent aromatic hydrocarbon ring or a trivalent heterocyclic group; L ³ is an alkylene group having 1 to 20 carbon atoms; p and r are each independently 1, 2 or 3; q and s are each independently 0 or 1; The four partial structures shown in (IV) may be different from each other].

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