JP2005259760A - Electric double-layer capacitor - Google Patents

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浩二 遠藤
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逸成 山田
Mamoru Kimoto
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Abstract

<P>PROBLEM TO BE SOLVED: To provide an electric double-layer capacitor capable of obtaining high electrostatic capacitance from initial charge/discharge and obtaining high electrostatic capacitance even at a low temperature. <P>SOLUTION: Carbon nanotube electrodes are provided respectively on a pair of glass substrates. Each carbon nanotube electrode includes a carbon nanotube 6 formed on a substrate 100. A lead-out electrode is connected with each carbon nanotube electrode. The carbon nanotube 6 is formed on a circular electrode forming region R on the substrate 100. A non-forming region 6a where no carbon nanotube 6 is formed is provided in the electrode forming region R. The non-forming region 6a is provided by masking the substrate 100 in a predetermined shape when the carbon nanotube 6 is to be formed. <P>COPYRIGHT: (C)2005,JPO&NCIPI

Description

本発明は、電気二重層キャパシタに関する。   The present invention relates to an electric double layer capacitor.

電気二重層キャパシタは、小型大容量のキャパシタとして、携帯電話または家庭用電気製品等のバックアップ電源または補助電源として用いられ、その高容量化が期待されている。   The electric double layer capacitor is used as a backup power source or auxiliary power source for a mobile phone or a household electric product as a small-sized and large-capacity capacitor, and is expected to have a high capacity.

電気二重層キャパシタに蓄積されるエネルギーE(単位:ジュール)は、下記式(1)により算出される。   The energy E (unit: joule) accumulated in the electric double layer capacitor is calculated by the following equation (1).

E=(1/2)CV2 ・・・(1) E = (1/2) CV 2 (1)

式(1)において、Cは電気二重層キャパシタの容量(単位:ファラッド)、Vは電気二重層キャパシタの印加可能電圧(単位:ボルト)である。電気二重層キャパシタの電極材料には、一般的に活性炭が使用されているが、近年、カーボンナノチューブ等の新しい材料を電極として用いることにより、さらに高性能化を図る研究および開発が進められている。   In the formula (1), C is a capacity (unit: farad) of the electric double layer capacitor, and V is an applicable voltage (unit: volt) of the electric double layer capacitor. Activated carbon is generally used as an electrode material for electric double layer capacitors, but in recent years, research and development have been promoted to achieve higher performance by using new materials such as carbon nanotubes as electrodes. .

ここで、本明細書において、カーボンナノチューブとは、直径1μm以下のチューブ状の炭素材料をいい、チューブ内が中空である場合だけでなく、チューブ内が詰まっている場合も含み、さらにチューブの周囲にアモルファス的な炭素(結晶性の乱れを有する炭素)が存在する場合も含む。   Here, in this specification, the carbon nanotube means a tube-shaped carbon material having a diameter of 1 μm or less, and includes not only a case where the tube is hollow but also a case where the tube is clogged, and further, the periphery of the tube. This includes the case where amorphous carbon (carbon having disorder of crystallinity) is present.

例えば、特許文献1には、集電体上に垂直成長させたカーボンナノチューブを分極性電極に用いたキャパシタが開示されている。また、特許文献2には、ブラシ状に形成されたカーボンナノチューブを分極性電極に用いる電気二重層キャパシタが開示されている。
特開2001−307951号公報 特開2003−234254号公報
For example, Patent Document 1 discloses a capacitor using carbon nanotubes vertically grown on a current collector as a polarizable electrode. Patent Document 2 discloses an electric double layer capacitor using carbon nanotubes formed in a brush shape as a polarizable electrode.
JP 2001-307951 A JP 2003-234254 A

しかしながら、上記のキャパシタにおいては、充放電を所定サイクル実施した後の低温度(例えば、−30℃)における静電容量が小さいとともに、充放電の初期サイクルにおける静電容量が小さい。   However, in the above capacitor, the electrostatic capacity at a low temperature (for example, −30 ° C.) after performing charging and discharging for a predetermined cycle is small, and the electrostatic capacity in the initial cycle of charging and discharging is small.

本発明の目的は、初期の充放電から高い静電容量を得ることができるとともに、低温度下においても高い静電容量を得ることができる電気二重層キャパシタを提供することである。   An object of the present invention is to provide an electric double layer capacitor capable of obtaining a high capacitance from initial charge / discharge and obtaining a high capacitance even at a low temperature.

本発明に係る電気二重層キャパシタは、導電性材料からなり、電極形成領域を有する基板と、基板の電極形成領域上に形成されたカーボンナノチューブからなる分極性電極とを備え、カーボンナノチューブは、電極形成領域内に所定領域を除いて形成されたものである。   An electric double layer capacitor according to the present invention comprises a substrate made of a conductive material and having an electrode formation region, and a polarizable electrode made of carbon nanotubes formed on the electrode formation region of the substrate. It is formed excluding a predetermined area within the formation area.

本発明に係る電気二重層キャパシタにおいては、基板上の電極形成領域内にカーボンナノチューブが形成されない領域である所定領域を設けることにより、電解液がカーボンナノチューブ内部に含浸しやすくなる。それにより、初期の充放電から高い静電容量を得ることができるとともに、低温度下においても高い静電容量を得ることができる。   In the electric double layer capacitor according to the present invention, the electrolytic solution can easily be impregnated into the carbon nanotubes by providing a predetermined region in which the carbon nanotubes are not formed in the electrode forming region on the substrate. Thereby, a high capacitance can be obtained from the initial charge / discharge, and a high capacitance can be obtained even at a low temperature.

所定領域は、分極性電極を複数部分に分割するように設けられてもよい。この場合、電解液がカーボンナノチューブ内部に十分に含浸しやすくなる。それにより、初期の充放電から高い静電容量を得ることができるとともに、低温度下においても高い静電容量を得ることができる。   The predetermined region may be provided so as to divide the polarizable electrode into a plurality of portions. In this case, the electrolytic solution can be sufficiently impregnated inside the carbon nanotube. Thereby, a high capacitance can be obtained from the initial charge / discharge, and a high capacitance can be obtained even at a low temperature.

所定領域は、分極性電極内に分散的に設けられてもよい。この場合、電解液がカーボンナノチューブ内部に十分に含浸しやすくなる。それにより、初期の充放電から高い静電容量を得ることができるとともに、低温度下においても高い静電容量を得ることができる。   The predetermined region may be provided in a dispersive manner in the polarizable electrode. In this case, the electrolytic solution can be sufficiently impregnated inside the carbon nanotube. Thereby, a high capacitance can be obtained from the initial charge / discharge, and a high capacitance can be obtained even at a low temperature.

所定領域は、基板上においてカーボンナノチューブが形成される面積に対して5%以上50%以下の面積を有することが好ましい。それにより、初期の充放電からより高い静電容量を得ることができるとともに、低温度下においてもより高い静電容量を得ることができる。   The predetermined region preferably has an area of 5% or more and 50% or less with respect to the area where the carbon nanotube is formed on the substrate. Thereby, while being able to obtain a higher electrostatic capacity from the initial charge / discharge, it is possible to obtain a higher electrostatic capacity even at a low temperature.

所定領域は、基板上においてカーボンナノチューブが形成される面積に対して5%以上30%以下の面積を有することがより好ましい。それにより、初期の充放電からさらに高い静電容量を得ることができるとともに、低温度下においてもさらに高い静電容量を得ることができる。   More preferably, the predetermined region has an area of 5% or more and 30% or less with respect to the area where the carbon nanotube is formed on the substrate. As a result, a higher capacitance can be obtained from the initial charge / discharge, and a higher capacitance can be obtained even at a low temperature.

カーボンナノチューブは、基板の面に対して垂直に配向していてもよい。それにより、高い静電容量を得ることができる。   The carbon nanotubes may be oriented perpendicular to the surface of the substrate. Thereby, a high capacitance can be obtained.

本発明によれば、初期の充放電から高い静電容量が得られるとともに、低温度下においても高い静電容量を得ることができる。   According to the present invention, a high capacitance can be obtained from the initial charge / discharge, and a high capacitance can be obtained even at a low temperature.

以下、本実施の形態に係る電気二重層キャパシタについて図面を参照しながら説明する。   Hereinafter, the electric double layer capacitor according to the present embodiment will be described with reference to the drawings.

図1は本実施の形態に係る電気二重層キャパシタの構造を示す模式図であり、(a)は模式的平面図、(b)は模式的断面図である。また、図2は図1に示す後述のカーボンナノチューブ電極の構造を示す模式図であり、(a)は模式的斜視図、(b)は模式的断面図である。   1A and 1B are schematic views showing the structure of an electric double layer capacitor according to the present embodiment. FIG. 1A is a schematic plan view and FIG. 1B is a schematic cross-sectional view. 2 is a schematic view showing the structure of a carbon nanotube electrode described later shown in FIG. 1, wherein (a) is a schematic perspective view, and (b) is a schematic cross-sectional view.

図1(b)に示すように、一対のガラス基板31,32上にそれぞれカーボンナノチューブ電極21,22が設けられている。カーボンナノチューブ電極21,22の各々は、基板100上に形成されたカーボンナノチューブ6を備える。カーボンナノチューブ6は、複数のカーボンナノチューブの集合体からなる。なお、図1、図2および後述の図3に示すカーボンナノチューブ6は、複数のカーボンナノチューブの集合体を模式的に示すものである。   As shown in FIG. 1B, carbon nanotube electrodes 21 and 22 are provided on a pair of glass substrates 31 and 32, respectively. Each of the carbon nanotube electrodes 21 and 22 includes a carbon nanotube 6 formed on the substrate 100. The carbon nanotube 6 is composed of an aggregate of a plurality of carbon nanotubes. The carbon nanotubes 6 shown in FIGS. 1 and 2 and FIG. 3 to be described later schematically show an aggregate of a plurality of carbon nanotubes.

図1(a)に示すように、カーボンナノチューブ電極21には引き出し電極51が接続され、カーボンナノチューブ電極22には引き出し電極52が接続されている。   As shown in FIG. 1A, a lead electrode 51 is connected to the carbon nanotube electrode 21, and a lead electrode 52 is connected to the carbon nanotube electrode 22.

図2(a),(b)に示すように、基板100上の円形の電極形成領域Rに、カーボンナノチューブ6が形成されている。また、電極形成領域Rには、カーボンナノチューブ6が形成されない領域である非形成領域6aが設けられる。この非形成領域6aは、カーボンナノチューブ6の形成時に、基板100上を所定の形状にマスキングすることにより設けられる。   As shown in FIGS. 2A and 2B, carbon nanotubes 6 are formed in a circular electrode formation region R on the substrate 100. The electrode forming region R is provided with a non-forming region 6a that is a region where the carbon nanotubes 6 are not formed. This non-formation region 6a is provided by masking the substrate 100 into a predetermined shape when the carbon nanotube 6 is formed.

このように、基板100上に非形成領域6aを設けることにより、図2(b)に示すように、電解液200がカーボンナノチューブ6内部に含浸しやすくなる。なお、図2(a)に示す非形成領域6aは、金属等により基板100上を十字状にマスキングした場合に得られる。詳細については後述する。   Thus, by providing the non-formation area | region 6a on the board | substrate 100, as shown in FIG.2 (b), the electrolyte solution 200 becomes easy to impregnate the inside of the carbon nanotube 6. FIG. The non-formation region 6a shown in FIG. 2A is obtained when the substrate 100 is masked in a cross shape with metal or the like. Details will be described later.

ここで、本実施の形態に係る電気二重層キャパシタの製造方法について説明する。   Here, a method for manufacturing the electric double layer capacitor according to the present embodiment will be described.

本実施の形態に係る電気二重層キャパシタの基板100は、Ta(タンタル)等の導電性材料からなる。他の導電性材料の例として、SUS(ステンレス)、Al(アルミニウム)、Ni(ニッケル)、W(タングステン)、Ti(チタン)、V(バナジウム)、Cr(クロム)、Zr(ジルコニウム)、Nb(ニオブ)、Mo(モリブデン)、Hf(ハフニウム)、Tc(テクネチウム)、Ru(ルテニウム)、Rh(ロジウム)、Re(レニウム)、Os(オスミウム)、Ir(イリジウム)、Pt(白金)、Th(トリウム)、Pa(プロトアクチウム)またはC(炭素)等がある。あるいは、基板100は、SUS、Al、Ni、Ta、W、Ti、V、Cr、Zr、Nb、Mo、Hf、Tc、Ru、Rh、Re、Os、Ir、Pt、Th、PaおよびCのうち2種以上を含んでもよい。   Substrate 100 of the electric double layer capacitor according to the present embodiment is made of a conductive material such as Ta (tantalum). Examples of other conductive materials include SUS (stainless steel), Al (aluminum), Ni (nickel), W (tungsten), Ti (titanium), V (vanadium), Cr (chromium), Zr (zirconium), Nb (Niobium), Mo (molybdenum), Hf (hafnium), Tc (technetium), Ru (ruthenium), Rh (rhodium), Re (rhenium), Os (osmium), Ir (iridium), Pt (platinum), Th (Thorium), Pa (Protoactium) or C (Carbon). Alternatively, the substrate 100 can be made of SUS, Al, Ni, Ta, W, Ti, V, Cr, Zr, Nb, Mo, Hf, Tc, Ru, Rh, Re, Os, Ir, Pt, Th, Pa, and C. Two or more of them may be included.

まず、例えば厚さ0.5mmの基板100を、例えば12mm四方の大きさに切断し、アセトン等により超音波洗浄した後、窒素ガンにより乾燥させる。   First, for example, a substrate 100 having a thickness of 0.5 mm is cut into a size of, for example, 12 mm square, ultrasonically cleaned with acetone or the like, and then dried with a nitrogen gun.

次に、例えば直径0.3mmおよび長さ12mmの2本のNi(ニッケル)線を十字状になるようそれぞれの中央部をスポット溶接し、スポット溶接された十字状のNi線を基板100上に配置することによりマスキングする。   Next, for example, two Ni (nickel) wires having a diameter of 0.3 mm and a length of 12 mm are spot-welded in the center so that they form a cross shape, and the spot-welded cross-shaped Ni wire is placed on the substrate 100. Mask by placing.

次に、冶具によって基板100をスパッタリング装置の容器内に固定する。その後、例えば10-4Pa以下に真空引きする。ターゲットとしてカーボンナノチューブ6を形成するための触媒金属となる例えばAl(アルミニウム)およびFe(鉄)を用意し、上記の基板100上に例えば厚さ50ÅのAlからなる層と、例えば厚さ50ÅのFeからなる層とを順に形成する。 Next, the substrate 100 is fixed in a container of a sputtering apparatus with a jig. Thereafter, vacuuming is performed to 10 −4 Pa or less, for example. For example, Al (aluminum) and Fe (iron) serving as catalyst metals for forming the carbon nanotubes 6 as a target are prepared. A layer made of Fe is formed in order.

上記の触媒金属の他の例として、Ni(ニッケル)、Co(コバルト)、Fe(鉄)、Al(アルミニウム)、Y(イットリウム)、Rh(ロジウム)、Pd(パラジウム)、Pt(白金)、La(ランタン)、Ce(セリウム)、Pr(プラセオジウム)、Nd(ネオジム)、Gd(ガドリニウム)、Tb(テルビウム)、Dy(ジスプロシウム)、Ho(ホルミウム)、Er(エルビウム)またはLu(ルテチウム)等がある。あるいは、触媒金属は、Ni、Co、Fe、Al、Y、Rh、Pd、Pt、La、Ce、Pr、Nd、Gd、Tb、Dy、Ho、ErおよびLuのうち2種以上の金属を含んでもよい。   Other examples of the catalyst metal include Ni (nickel), Co (cobalt), Fe (iron), Al (aluminum), Y (yttrium), Rh (rhodium), Pd (palladium), Pt (platinum), La (lanthanum), Ce (cerium), Pr (praseodymium), Nd (neodymium), Gd (gadolinium), Tb (terbium), Dy (dysprosium), Ho (holmium), Er (erbium), Lu (lutetium), etc. There is. Alternatively, the catalyst metal includes two or more metals of Ni, Co, Fe, Al, Y, Rh, Pd, Pt, La, Ce, Pr, Nd, Gd, Tb, Dy, Ho, Er, and Lu. But you can.

その後、基板100をCVD(化学的蒸着)装置の容器内にセットし、例えば10-4Pa以下に真空引きする。 Thereafter, the substrate 100 is set in a container of a CVD (Chemical Vapor Deposition) apparatus and evacuated to, for example, 10 −4 Pa or less.

次に、減圧下でヒータにより基板100を例えば50℃/分の昇温速度で例えば700℃まで昇温させ、約1時間保持する。He(ヘリウム)で例えば20%に希釈されたアセチレンガスを例えば15sccmで容器内に導入し、容器内の圧力を例えば600Paに設定する。   Next, the substrate 100 is heated to, for example, 700 ° C., for example, at a heating rate of 50 ° C./min under reduced pressure, and held for about 1 hour. Acetylene gas diluted to 20% with He (helium), for example, is introduced into the container at 15 sccm, for example, and the pressure in the container is set to 600 Pa, for example.

次に、圧力が安定すると同時に基板100をセットしているホルダー電極とそれに対向する電極との間にDC(直流)パルス電源によってプラズマを発生させる。プラズマの投入電力は例えば250Wとする。このまま例えば30分間保持し、基板100上にカーボンナノチューブ6を形成する。なお、カーボンナノチューブ6は、単層のグラフェンシートからなる単層カーボンナノチューブまたは複数層のグラフェンシートからなる多層カーボンナノチューブより形成されてもよい。   Next, at the same time that the pressure is stabilized, plasma is generated by a DC (direct current) pulse power source between the holder electrode on which the substrate 100 is set and the electrode facing the holder electrode. The input power of plasma is 250 W, for example. For example, the carbon nanotubes 6 are formed on the substrate 100 by holding for 30 minutes. The carbon nanotubes 6 may be formed of single-walled carbon nanotubes made of a single-layer graphene sheet or multi-walled carbon nanotubes made of a plurality of layers of graphene sheets.

基板100上にカーボンナノチューブ6を形成し終えた後、DCパルス電源およびヒータ電源を遮断にし、基板100を自然冷却する。基板100を室温まで冷却した後、基板100をCVD装置から取り出す。   After the formation of the carbon nanotubes 6 on the substrate 100 is completed, the DC pulse power source and the heater power source are shut off, and the substrate 100 is naturally cooled. After the substrate 100 is cooled to room temperature, the substrate 100 is taken out from the CVD apparatus.

次に、一対のカーボンナノチューブ電極21,22を真空中で例えば180℃の温度で、例えば5時間乾燥させる。その後、一対のカーボンナノチューブ電極21,22間にセルロース系のセパレータ40を挿入し、カーボンナノチューブ電極21,22を両側からガラス基板31,32で挟み込むことによりセルを作製する。このセルに電解液を含浸させる。   Next, the pair of carbon nanotube electrodes 21 and 22 are dried in a vacuum at a temperature of, for example, 180 ° C., for example, for 5 hours. Thereafter, a cellulosic separator 40 is inserted between the pair of carbon nanotube electrodes 21 and 22, and the carbon nanotube electrodes 21 and 22 are sandwiched between the glass substrates 31 and 32 from both sides to produce a cell. This cell is impregnated with an electrolytic solution.

電解液には、例えば1MのTEABF4 (4フッ化ホウ酸テトラエチルアンモニウム)/PC(プロピレンカーボネート)を用いる。電解液の種類は、本例に限定されず、種々の電解液を用いることができる。このようにして、電気二重層キャパシタを作製することができる。 For example, 1M TEABF 4 (tetraethylammonium tetrafluoroborate) / PC (propylene carbonate) is used as the electrolytic solution. The type of the electrolytic solution is not limited to this example, and various electrolytic solutions can be used. In this way, an electric double layer capacitor can be produced.

なお、本実施の形態では、マスキングの形状を十字状に設定することにより十字状の非形成領域6aを設けているが、例えば次のような形状によりマスキングしてもよい。   In this embodiment, the cross-shaped non-formation region 6a is provided by setting the masking shape to a cross shape. However, the masking may be performed in the following shape, for example.

図3は非形成領域6aの形状を示す模式図である。図3(a)〜(k)に示すように、種々の非形成領域6aの形状を設定することができる。例えば、図3(a),(i)においては、電極形成領域R内に直線状の複数のマスキングが平行に施されることにより、直線状の複数の非形成領域6aが基板100上に平行に設けられる。   FIG. 3 is a schematic diagram showing the shape of the non-formation region 6a. As shown in FIGS. 3A to 3K, various shapes of the non-formation region 6a can be set. For example, in FIGS. 3A and 3I, a plurality of linear non-forming regions 6a are parallel to the substrate 100 by applying a plurality of linear masks in parallel in the electrode forming region R. Is provided.

図3(b),(c),(h)においては、電極形成領域R内に十字状のマスキングが施されることにより、十字状の非形成領域6aが基板100上に設けられる。   3B, 3 </ b> C, and 3 </ b> H, a cross-shaped non-formation region 6 a is provided on the substrate 100 by performing cross-shaped masking in the electrode formation region R.

図3(d)においては、電極形成領域Rの中央部に四角形のマスキングが施されることにより、四角形の非形成領域6aが基板100上に設けられる。   In FIG. 3D, a square non-formation region 6 a is provided on the substrate 100 by performing square masking at the center of the electrode formation region R.

図3(e),(j)においては、電極形成領域R内に四角形または円形の複数のマスキングが分散的に施されることにより、四角形または円形の複数の非形成領域6aが分散的に基板100上に設けられる。   3E and 3J, a plurality of square or circular masks are distributed in the electrode forming region R, so that a plurality of square or circular non-formed regions 6a are dispersed in the substrate. 100 is provided.

図3(f),(k)においては、電極形成領域R内において、同心円状に複数の径の異なる環状のマスキングが施されることにより、同心円状に複数の径の異なる環状の非形成領域6aが基板100上に設けられる。   3 (f) and 3 (k), a plurality of concentric annular non-forming regions having a plurality of different diameters are concentrically formed in the electrode forming region R. 6 a is provided on the substrate 100.

図3(g)においては、電極形成領域R内に格子状のマスキングが施されることにより、格子状の非形成領域6aが基板100上に設けられる。   In FIG. 3G, a lattice-like non-formation region 6 a is provided on the substrate 100 by performing lattice-like masking in the electrode formation region R.

図3(a),(b),(c),(g),(h),(i)に示す非形成領域6aの例では、電極形成領域Rがカーボンナノチューブ6を複数部分に分割するように設けられている。それにより、電解液がカーボンナノチューブ6内部に含浸しやすくなる。   In the example of the non-formation region 6a shown in FIGS. 3 (a), (b), (c), (g), (h), and (i), the electrode formation region R divides the carbon nanotube 6 into a plurality of portions. Is provided. Thereby, the electrolytic solution is easily impregnated into the carbon nanotube 6.

また、図3(e),(f),(j),(k)に示す非形成領域6aの例では、電極形成領域Rがカーボンナノチューブ6内に分散的に設けられている。それにより、電解液がカーボンナノチューブ6内部に含浸しやすくなる。   Further, in the example of the non-formation region 6a shown in FIGS. 3E, 3F, 3J, and 3K, the electrode formation regions R are provided in the carbon nanotubes 6 in a dispersed manner. Thereby, the electrolytic solution is easily impregnated into the carbon nanotube 6.

特に、上述したように、図3(a),(b),(c),(g),(h),(i)の例に示すように、非形成領域6aは、カーボンナノチューブ6の電極形成領域Rの外周から内部に至るように設けられることが好ましい。それにより、電解液がカーボンナノチューブ6内部に十分に含浸しやすくなる。   In particular, as described above, as shown in the examples of FIGS. 3A, 3 </ b> B, 3 </ b> C, 3 </ b> G, 1 </ b> H, and 1 </ b> I, the non-formed region 6 a is an electrode of the carbon nanotube 6. It is preferable to be provided from the outer periphery to the inside of the formation region R. Thereby, the electrolytic solution can be sufficiently impregnated inside the carbon nanotube 6.

なお、図3に示す非形成領域6aの形状は例示であり、これらの形状に限定されるものではなく、その要旨を変更しない範囲において適宜非形成領域6aの形状を設定することができる。   The shape of the non-forming region 6a shown in FIG. 3 is an example, and is not limited to these shapes, and the shape of the non-forming region 6a can be set as appropriate without departing from the scope of the gist.

本実施の形態においては、基板100上の電極形成領域R内にカーボンナノチューブ6が形成されない領域である非形成領域6aを設けることにより、電解液がカーボンナノチューブ6内部に含浸しやすくなる。それにより、初期の充放電から高い静電容量を得ることができるとともに、低温度下においても高い静電容量を得ることができる。   In the present embodiment, by providing the non-formation region 6 a that is a region where the carbon nanotubes 6 are not formed in the electrode formation region R on the substrate 100, the electrolyte is easily impregnated into the carbon nanotubes 6. Thereby, a high capacitance can be obtained from the initial charge / discharge, and a high capacitance can be obtained even at a low temperature.

また、基板100上における非形成領域6aは、基板100上に形成されるカーボンナノチューブ6が有する面積に対して5〜50%の面積を有することが好ましく、5〜30%の面積を有することがより好ましい。それにより、初期の充放電からさらに高い静電容量を得ることができるとともに、低温度下においてもさらに高い静電容量を得ることができる。   Further, the non-formation region 6a on the substrate 100 preferably has an area of 5 to 50%, preferably 5 to 30%, with respect to the area of the carbon nanotubes 6 formed on the substrate 100. More preferred. As a result, a higher capacitance can be obtained from the initial charge / discharge, and a higher capacitance can be obtained even at a low temperature.

また、カーボンナノチューブ6は、基板100から垂直方向に配向されることが好ましい。それにより、高い静電容量を得ることができる。   The carbon nanotubes 6 are preferably oriented in the vertical direction from the substrate 100. Thereby, a high capacitance can be obtained.

さらに、カーボンナノチューブ6の直径は、1nm〜500nm程度であることが好ましく、電極形成領域Rの形状は略円形であることが好ましい。それにより、電極形成領域Rの中央部まで十分に電解液が含浸する。   Furthermore, the diameter of the carbon nanotube 6 is preferably about 1 nm to 500 nm, and the shape of the electrode formation region R is preferably substantially circular. Thereby, the electrolytic solution is sufficiently impregnated to the center of the electrode formation region R.

本実施の形態においては、電極形成領域Rが電極形成領域に相当し、非形成領域6aが所定領域に相当し、カーボンナノチューブ電極21,22が分極性電極に相当する。   In the present embodiment, the electrode forming region R corresponds to an electrode forming region, the non-forming region 6a corresponds to a predetermined region, and the carbon nanotube electrodes 21 and 22 correspond to polarizable electrodes.

なお、マスキング材料としてNi線等からなる金属線を用いたが、これに限定されるものではなく、耐熱性のマスキングテープまたは金属箔等を用いてもよい。   In addition, although the metal wire which consists of Ni wire etc. was used as a masking material, it is not limited to this, You may use a heat resistant masking tape or metal foil.

また、Ta等の導電性材料からなる基板100上にカーボンナノチューブ6を形成することとしているが、これに限定されるものではなく、高分子材料からなる非導電性基板上にスパッタリング法または真空蒸着法により導電性材料からなる層を形成し、この層上にカーボンナノチューブ6を形成してもよい。   Further, the carbon nanotubes 6 are formed on the substrate 100 made of a conductive material such as Ta. However, the present invention is not limited to this, and the sputtering method or the vacuum deposition is performed on the non-conductive substrate made of a polymer material. A layer made of a conductive material may be formed by the method, and the carbon nanotubes 6 may be formed on this layer.

以下の実施例1〜3および比較例では、以下に示す所定の製造方法により電気二重層キャパシタを作製した。作製の際に、基板100の表面を走査型電子顕微鏡(SEM)により観察し、カーボンナノチューブ6が形成されていることを確認した。   In the following Examples 1 to 3 and Comparative Examples, electric double layer capacitors were produced by the following predetermined manufacturing method. During the production, the surface of the substrate 100 was observed with a scanning electron microscope (SEM), and it was confirmed that the carbon nanotubes 6 were formed.

そして、作製された電気二重層キャパシタに対し充放電を1サイクル、100サイクルおよび200サイクル実施した後、それぞれの電気二重層キャパシタの静電容量を測定するとともに、充放電を100サイクル実施した後のカーボンナノチューブ(CNT)6の形成面積当りの静電容量を算出した。充放電はいずれも室温下で実施した。   And after charging / discharging with respect to the produced electric double layer capacitor for 1 cycle, 100 cycles, and 200 cycles, while measuring the electrostatic capacitance of each electric double layer capacitor, after carrying out 100 cycles of charging / discharging The capacitance per formation area of the carbon nanotube (CNT) 6 was calculated. Both charging and discharging were performed at room temperature.

実施例1〜3および比較例のカーボンナノチューブ6は、多層カーボンナノチューブである。カーボンナノチューブ6の直径は約5nm〜約100nmの範囲にあり、その平均は約30nmであった。カーボンナノチューブ6の長さは約100μmであり、カーボンナノチューブ6の密度は約1010本/cm2 であった。 The carbon nanotubes 6 of Examples 1 to 3 and the comparative example are multi-walled carbon nanotubes. The diameter of the carbon nanotube 6 was in the range of about 5 nm to about 100 nm, and the average was about 30 nm. The length of the carbon nanotube 6 was about 100 μm, and the density of the carbon nanotube 6 was about 10 10 pieces / cm 2 .

なお、充放電を100サイクル実施した後のカーボンナノチューブ6の形成面積当りの静電容量は、充放電を100サイクル実施した後の上記の電気二重層キャパシタの静電容量の値をカーボンナノチューブ6が形成された領域における単位面積当たりの静電容量に換算した値であり、非形成領域6aの面積に対するカーボンナノチューブ6の面積の比率を用いて算出した。   The capacitance per formation area of the carbon nanotubes 6 after 100 cycles of charge / discharge is the value of the capacitance of the electric double layer capacitor after the 100 cycles of charge / discharge. This is a value converted into a capacitance per unit area in the formed region, and was calculated using the ratio of the area of the carbon nanotube 6 to the area of the non-formed region 6a.

また、充放電を1サイクルおよび100サイクル実施した電気二重層キャパシタの静電容量は室温下で測定し、充放電を200サイクル実施した電気二重層キャパシタの静電容量は−30℃下で測定した。   In addition, the capacitance of the electric double layer capacitor that was charged and discharged for 1 cycle and 100 cycles was measured at room temperature, and the capacitance of the electric double layer capacitor that was charged and discharged for 200 cycles was measured at −30 ° C. .

(実施例1)
本実施例の電気二重層キャパシタの構成は、上記実施の形態に係る電気二重層キャパシタと同様の構成である。
(Example 1)
The configuration of the electric double layer capacitor of this example is the same as that of the electric double layer capacitor according to the above embodiment.

(実施例2)
本実施例の電気二重層キャパシタは、実施例1のNi線の代わりに幅1mm、厚さ0.05mmのNi箔を用いてマスキングし、非形成領域6aを設けた点を除いて実施例1と同様に電気二重層キャパシタを作製した。
(Example 2)
The electric double layer capacitor of this example is masked by using Ni foil having a width of 1 mm and a thickness of 0.05 mm in place of the Ni wire of Example 1, and the example 1 except that an unformed region 6a is provided. An electric double layer capacitor was fabricated in the same manner as described above.

(実施例3)
本実施例の電気二重層キャパシタは、実施例1のNi線の代わりに幅2mm、厚さ0.05mmのNi箔を用いてマスキングし、非形成領域6aを設けた点を除いて実施例1と同様に電気二重層キャパシタを作製した。
(Example 3)
The electric double layer capacitor of this example is masked by using Ni foil having a width of 2 mm and a thickness of 0.05 mm instead of the Ni wire of Example 1, and the example 1 except that an unformed region 6a is provided. An electric double layer capacitor was fabricated in the same manner as described above.

(比較例)
本実施例の電気二重層キャパシタは、非形成領域6aを設けない点を除いて実施例1と同様に電気二重層キャパシタを作製した。
(Comparative example)
The electric double layer capacitor of this example was manufactured in the same manner as in Example 1 except that the non-formation region 6a was not provided.

(評価)
実施例1〜3および比較例で作製した電気二重層キャパシタの静電容量の測定結果を表1に示す。なお、表1では、実施例1〜3の電気二重層キャパシタの静電容量の測定結果を各々の測定条件における比較例の電気二重層キャパシタの静電容量の測定結果を100として規格化し、規格化した静電容量の値を示している。また、表1に示すマスキング面積とは、基板100上に形成されたカーボンナノチューブ6が有する面積に対してマスキングされた領域が有する面積の比率(%)である。
(Evaluation)
Table 1 shows the measurement results of the capacitances of the electric double layer capacitors produced in Examples 1 to 3 and Comparative Example. In Table 1, the measurement results of the capacitances of the electric double layer capacitors of Examples 1 to 3 were normalized with the measurement result of the capacitance of the electric double layer capacitor of the comparative example under each measurement condition as 100. The value of the converted electrostatic capacity is shown. The masking area shown in Table 1 is the ratio (%) of the area of the masked area to the area of the carbon nanotubes 6 formed on the substrate 100.

Figure 2005259760
Figure 2005259760

表1に示すように、実施例1〜3において、充放電を1サイクル実施した後の電気二重層キャパシタの室温下での静電容量および充放電を200サイクル実施した後の電気二重層キャパシタの−30℃下での静電容量は、比較例の静電容量に比べいずれも大きい値を有することがわかった。   As shown in Table 1, in Examples 1 to 3, the capacitance of the electric double layer capacitor after one cycle of charge / discharge and the electric double layer capacitor after 200 cycles of charge / discharge were performed. It was found that the capacitance at −30 ° C. had a larger value than the capacitance of the comparative example.

また、実施例1〜3において、マスキング面積が大きくなるにつれ、充放電を1サイクル実施した後の電気二重層キャパシタの室温下での静電容量および充放電を200サイクル実施した後の電気二重層キャパシタの−30℃下での静電容量も大きくなっていくことがわかった。   In Examples 1 to 3, as the masking area increases, the electric double layer capacitor after carrying out 200 cycles of capacitance and charge / discharge at room temperature of the electric double layer capacitor after carrying out one cycle of charge and discharge. It was found that the capacitance of the capacitor under −30 ° C. also increased.

さらに、充放電を100サイクル実施した後のカーボンナノチューブ6の形成面積当りの静電容量は、マスキング面積が大きくなるにつれ高い値となるとともに、いずれの静電容量も比較例の静電容量よりも高いことがわかった。この場合、非形成領域6aを設けることにより、電解液がカーボンナノチューブ6内部に良好に含浸していることが考えられる。   Furthermore, the capacitance per formation area of the carbon nanotubes 6 after 100 cycles of charging / discharging becomes a higher value as the masking area becomes larger, and each capacitance is higher than the capacitance of the comparative example. I found it expensive. In this case, it is conceivable that the electrolyte solution is satisfactorily impregnated inside the carbon nanotube 6 by providing the non-formation region 6a.

以上の結果、基板100上に非形成領域6aを設けることにより、電解液がカーボンナノチューブ6内部に良好に含浸していることが考えられる。   As a result of the above, it is conceivable that the electrolyte solution is satisfactorily impregnated inside the carbon nanotube 6 by providing the non-formation region 6 a on the substrate 100.

また、表1に示す結果より、基板100上における非形成領域6aは、基板100上に形成されるカーボンナノチューブ6が有する面積に対して5〜30%の面積を有することが好ましいことがわかった。   In addition, the results shown in Table 1 indicate that the non-forming region 6a on the substrate 100 preferably has an area of 5 to 30% with respect to the area of the carbon nanotubes 6 formed on the substrate 100. .

なお、表2に示すように、マスキング面積が大きくなるにつれ最大静電容量は小さくなるが、最大静電容量に達するまでに要する充放電のサイクルは短くなる。したがって、最大静電容量および最大静電容量に達するまでに要する充放電のサイクル数を考慮してマスキング面積を最適な値に設定することが好ましい。   As shown in Table 2, the maximum capacitance decreases as the masking area increases, but the charge / discharge cycle required to reach the maximum capacitance decreases. Therefore, it is preferable to set the masking area to an optimum value in consideration of the maximum capacitance and the number of charge / discharge cycles required to reach the maximum capacitance.

Figure 2005259760
Figure 2005259760

本発明は、電気二重層キャパシタ等の種々のデバイスに利用することができる。   The present invention can be used in various devices such as electric double layer capacitors.

本実施の形態に係る電気二重層キャパシタの構造を示す模式図である。It is a schematic diagram which shows the structure of the electric double layer capacitor which concerns on this Embodiment. 図1に示すカーボンナノチューブ電極の構造を示す模式図である。It is a schematic diagram which shows the structure of the carbon nanotube electrode shown in FIG. 非形成領域の形状を示す模式図である。It is a schematic diagram which shows the shape of a non-formation area | region.

符号の説明Explanation of symbols

6 カーボンナノチューブ
6a 非形成領域
21,22 カーボンナノチューブ電極
100 基板
200 電解液
R 電極形成領域
6 Carbon nanotube 6a Non-formation area 21, 22 Carbon nanotube electrode 100 Substrate 200 Electrolytic solution R Electrode formation area

Claims (6)

導電性材料からなり、電極形成領域を有する基板と、
前記基板の前記電極形成領域上に形成されたカーボンナノチューブからなる分極性電極とを備え、
前記カーボンナノチューブは、前記電極形成領域内に所定領域を除いて形成されたことを特徴とする電気二重層キャパシタ。
A substrate made of a conductive material and having an electrode formation region;
A polarizable electrode made of carbon nanotubes formed on the electrode forming region of the substrate,
2. The electric double layer capacitor according to claim 1, wherein the carbon nanotube is formed in the electrode forming region except for a predetermined region.
前記所定領域は、前記分極性電極を複数部分に分割するように設けられたことを特徴とする請求項1記載の電気二重層キャパシタ。 The electric double layer capacitor according to claim 1, wherein the predetermined region is provided so as to divide the polarizable electrode into a plurality of portions. 前記所定領域は、前記分極性電極内に分散的に設けられたことを特徴とする請求項1記載の電気二重層キャパシタ。 The electric double layer capacitor according to claim 1, wherein the predetermined region is provided in a dispersive manner in the polarizable electrode. 前記所定領域は、前記基板上において前記カーボンナノチューブが形成される面積に対して5%以上50%以下の面積を有することを特徴とする請求項1〜3のいずれかに記載の電気二重層キャパシタ。 The electric double layer capacitor according to any one of claims 1 to 3, wherein the predetermined region has an area of 5% or more and 50% or less with respect to an area where the carbon nanotube is formed on the substrate. . 前記所定領域は、前記基板上において前記カーボンナノチューブが形成される面積に対して5%以上30%以下の面積を有することを特徴とする請求項1〜4のいずれかに記載の電気二重層キャパシタ。 5. The electric double layer capacitor according to claim 1, wherein the predetermined region has an area of 5% to 30% with respect to an area where the carbon nanotube is formed on the substrate. . 前記カーボンナノチューブは、前記基板の面に対して垂直に配向していることを特徴とする請求項1〜5のいずれかに記載の電気二重層キャパシタ。 The electric double layer capacitor according to claim 1, wherein the carbon nanotubes are oriented perpendicular to the surface of the substrate.
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