JP2005245837A

JP2005245837A - Treatment apparatus

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Publication number: JP2005245837A
Application number: JP2004062384A
Authority: JP
Inventors: Ryoji Takahashi; 亮二高橋; Masaki Shimizu; 昌已清水; Tomoo Mizuno; 智夫水野; Noriyoshi Osawa; 法喜大澤
Original assignee: IHI Corp
Current assignee: IHI Corp
Priority date: 2004-03-05
Filing date: 2004-03-05
Publication date: 2005-09-15

Abstract

<P>PROBLEM TO BE SOLVED: To prevent suppress the deterioration of the throughput of a device, and to prevent an object to be treated from being contaminated with foreign matters. <P>SOLUTION: A treatment apparatus having a hand part 51 for gripping or supporting the object X to be treated and treating the object X in a treatment chamber 2 in which a prescribed degree of cleanness is kept has a removal chamber 3 and a removal means for removing the foreign matters stuck to the hand part 51. <P>COPYRIGHT: (C)2005,JPO&NCIPI

Description

本発明は、処理対象物を所定のクリーン度を保った処理室内で処理する処理装置に関するものである。 The present invention relates to a processing apparatus that processes a processing object in a processing chamber that maintains a predetermined degree of cleanliness.

近年、処理対象物の汚染を防止するために、所定のクリーン度に保たれた処理室内において、様々な処理対象物に対して所定の処理が施されている。このような処理においては、人間にとって好ましくない環境であったり、処理作業の効率化させるために、人間に代わり機械が作業する場合がある。このような場合には、処理室内に単一あるいは複数の機械を配置し、この機械によって、処理対象物に対して搬送、観察、混合等の所定の処理が施される。
そして、このような処理室及び機械を有する処理装置においては、一般的に、処理室の上方からフィルタを介することによって清浄された空気を処理室の下方に向けて流すことによって、処理室内のクリーン度を保っている。 In recent years, in order to prevent contamination of a processing object, predetermined processing is performed on various processing objects in a processing chamber maintained at a predetermined clean level. In such processing, there are cases where the machine is working in place of a human in order to make the environment unfavorable for humans or to make processing work more efficient. In such a case, a single or a plurality of machines are arranged in the processing chamber, and predetermined processing such as conveyance, observation, and mixing is performed on the processing object by the machines.
In a processing apparatus having such a processing chamber and machine, generally, clean air in the processing chamber is caused to flow downward from the processing chamber by flowing air that has been purified through a filter from above the processing chamber. Keeping the degree.

また、このような処理装置においては、処理室内において発生する異物を除去するための配慮がなされている。例えば、特開平９−３１４４９１号公報には、ハンド部に対して特殊なメッキをすることによって、ハンド部自体から粉塵等が発生することを抑制する技術が開示されている。
特開平９−３１４４９１号公報特開平１１−２０８１１号公報 In such a processing apparatus, consideration is given to removing foreign substances generated in the processing chamber. For example, Japanese Patent Application Laid-Open No. 9-314491 discloses a technique for suppressing generation of dust and the like from the hand part itself by performing special plating on the hand part.
JP-A-9-314491 JP-A-11-20811

しかしながら、例えば、処理対象物に異物が付着しており、この処理対象物を処理することによってハンド部に異物が付着する場合、すなわち、ハンド部に外部から異物が付着した場合には、上述のようにハンド部にメッキを施していても対応することができず、次の処理対象物に異物が付着してしまうことが想定される。近年は、異なる人間の細胞を培養する再生医療の分野で処理装置を用いることが検討されており、このような場合では、例えば、ある人間の細胞がウイルスに汚染されているような場合には、異なる人間の細胞がウイルスに汚染されることが懸念される。 However, for example, when a foreign object adheres to the processing object and the foreign object adheres to the hand part by processing this processing object, that is, when a foreign object adheres to the hand part from the outside, Thus, even if the hand portion is plated, it cannot be handled, and it is assumed that a foreign object adheres to the next processing object. In recent years, it has been studied to use a processing apparatus in the field of regenerative medicine in which different human cells are cultured. In such a case, for example, when a human cell is contaminated with a virus, There is concern that different human cells will be contaminated with viruses.

このような問題に対して、処理室内を定期的に滅菌ガスによって滅菌処理するという提案がなされているが、そのためには、処理室全体を滅菌ガスによって滅菌処理する必要があり、例えば、１つ処理対象物を処理する度に滅菌処理を行う必要がある場合には、処理装置のスループットが低下するという問題が生じる。 In order to deal with such a problem, it has been proposed to periodically sterilize the processing chamber with a sterilizing gas. For this purpose, the entire processing chamber needs to be sterilized with a sterilizing gas. When it is necessary to perform sterilization each time the object to be processed is processed, there arises a problem that the throughput of the processing apparatus decreases.

本発明は、上述する問題点に鑑みてなされたもので、装置のスループット低下を抑止しかつ処理対象物の異物による汚染を防止することを目的とする。 The present invention has been made in view of the above-described problems, and an object of the present invention is to suppress a decrease in throughput of the apparatus and prevent contamination of a processing object due to foreign matter.

上記目的を達成するために、本発明では、第１の手段として、処理対象物を把持あるいは支持するハンド部を有しかつ上記処理対象物を所定のクリーン度を保った処理室内で処理する処理装置であって、上記ハンド部に付着した異物を除去する除去室及び除去手段を有するという構成を採用する。 In order to achieve the above object, according to the present invention, as a first means, a process having a hand portion for holding or supporting a processing object and processing the processing object in a processing chamber maintaining a predetermined cleanliness. A configuration is adopted in which the apparatus has a removal chamber and removal means for removing foreign matter adhering to the hand portion.

第２の手段として、上記第１の手段において、上記除去室の室圧は、上記処理室の室圧に対して低いという構成を採用する。 As a second means, in the first means, a configuration is adopted in which the chamber pressure in the removal chamber is lower than the chamber pressure in the processing chamber.

第３の手段として、上記第１または第２の手段において、上記除去手段は、上記ハンド部を洗浄することによって上記異物を除去するための薬液を有するという構成を採用する。 As a third means, in the first or the second means, the removing means has a chemical solution for removing the foreign matter by washing the hand portion.

第４の手段として、上記第３の手段において、上記薬液は、オゾン水であるという構成を採用する。 As a fourth means, in the third means, the chemical solution is ozone water.

第５の手段として、上記第３または第４の手段において、上記除去手段は、上記薬液を上記ハンド部に対して噴出する噴出装置を有するという構成を採用する。 As a fifth means, in the third or fourth means, the removing means has a jetting device for jetting the chemical liquid to the hand part.

第６の手段として、上記第５の手段において、上記除去手段は、上記噴出装置から噴出された薬液を、フィルタを介して上記噴出装置に再度供給する供給装置を有するという構成を採用する。 As a sixth means, in the fifth means, the removing means has a supply device for supplying again the chemical liquid ejected from the ejection device to the ejection device through a filter.

第７の手段として、上記第３〜第６いずれかの手段において、上記薬液が揮発することによって生成された薬液ガスを分解することによって無害化する分解装置を有するという構成を採用する。 As a seventh means, in any one of the third to sixth means, a configuration is adopted in which a decomposition device that makes harmless by decomposing the chemical liquid gas generated by volatilization of the chemical liquid is adopted.

本発明に係る処理装置によれば、ハンド部に付着した異物を除去する除去室及び除去手段を有するため、処理室全体の異物の除去工程を有する必要なく、ハンド部のみに対する異物の除去工程だけで、ハンド部に付着する異物の除去を行うことができる。したがって、装置のスループット低下を抑止しかつ処理対象物の異物による汚染を防止することが可能となる。 According to the processing apparatus according to the present invention, since it has the removal chamber and the removal means for removing the foreign matter adhering to the hand portion, it is not necessary to have a foreign matter removal step for the entire processing chamber, and only the foreign matter removal step for only the hand portion. Thus, the foreign matter adhering to the hand portion can be removed. Therefore, it is possible to suppress a reduction in the throughput of the apparatus and prevent contamination of the processing object due to foreign matter.

以下、図面を参照して、本発明に係る処理装置の一実施形態について説明する。なお、以下の図面において、各部材を認識可能な大きさとするために、各部材の縮尺を適宜変更している。 Hereinafter, an embodiment of a processing apparatus according to the present invention will be described with reference to the drawings. In the following drawings, the scale of each member is appropriately changed in order to make each member a recognizable size.

（第１実施形態）
図１は、本第１実施形態に係る処理装置１の概略構成図であり、（ａ）が側面図、（ｂ）が平面図である。
本第１実施形態に係る処理装置１は、処理対象物Ｘを搬送（処理）するための装置であり、図１（ａ），（ｂ）に示すように、搬送室２（処理室）内において処理対象物Ｘを支持しながら搬送するハンド部５１を有している。そして、このハンド部５１は、搬送室２内に配置された機構部５２によって操作される。機構部５２は、ハンド部５１全体を図１（ａ）における紙面左右上下方向に移動自在に操作すると共に、ハンド部５１の先端を上下方向に移動自在に操作するものである。 (First embodiment)
FIG. 1 is a schematic configuration diagram of a processing apparatus 1 according to the first embodiment, where (a) is a side view and (b) is a plan view.
The processing apparatus 1 according to the first embodiment is an apparatus for transporting (processing) the processing object X, and as shown in FIGS. 1A and 1B, in the transporting chamber 2 (processing chamber) 1 has a hand portion 51 that conveys the processing object X while supporting it. The hand unit 51 is operated by a mechanism unit 52 disposed in the transfer chamber 2. The mechanism unit 52 operates the entire hand unit 51 so as to be movable in the horizontal and vertical directions on the paper surface in FIG.

また、本実施形態に係る処理装置１は、搬送室２内に、ハンド部５１に付着した異物を除去するための除去室３が配置されている。図２は、除去室３の概略構成を示しており、図１（ｂ）におけるＡ方向から見た側断面図である。 Further, in the processing apparatus 1 according to the present embodiment, a removal chamber 3 for removing foreign matters attached to the hand unit 51 is disposed in the transfer chamber 2. FIG. 2 shows a schematic configuration of the removal chamber 3, and is a side sectional view seen from the direction A in FIG.

この図に示すように、除去室３内には薬液であるオゾン水Ｙ（除去手段）が貯留されており、除去室３の壁部３１には、ハンド部５１を除去室３に出入れするための開口部３２が形成されている。なお、ここで言うオゾン水とは、オゾンが溶かし込まれた水である。
また、除去室３の上部には、オゾン水Ｙが揮発することによって発生する気化ガス（薬液ガス）を分解することによって外環境に対して無害化する分解装置４と、当該分解装置によって生成された気化ガスを外部に排気するための排気ファン５が設置されている。そして、当該排気ファン５によって、除去室３の室圧は、搬送室２の室圧に対して低く設定されている。 As shown in this figure, ozone water Y (removing means), which is a chemical solution, is stored in the removal chamber 3, and a hand portion 51 is put into and removed from the wall portion 31 of the removal chamber 3. An opening 32 is formed. The ozone water referred to here is water in which ozone is dissolved.
Further, in the upper part of the removal chamber 3, a decomposition device 4 that makes harmless to the outside environment by decomposing a vaporized gas (chemical liquid gas) generated by volatilization of the ozone water Y, and a decomposition device that is generated. An exhaust fan 5 is provided for exhausting the evaporated gas to the outside. The chamber pressure in the removal chamber 3 is set lower than the chamber pressure in the transfer chamber 2 by the exhaust fan 5.

図１に戻り、搬送室２の上部には、空気清浄機能を有するＨＥＰＡフィルタ６が配置されており、このＨＥＰＡフィルタ６を介して空気が搬送室２内に流入される。また、配管８１は、その一方の端部が搬送室２の上部と接続されており、他方の端部が搬送室３の下部と接続されている。そして、配管８１の途中部位には、搬送室２にＨＥＰＡフィルタ６を介して空気を圧入するブロワ９１が配置されている。この配管８１の途中部位には、配管８３が連結されており、この配管８３の途中部位に配置されたブロワ９３によって、外部から空気が配管８３を介して配管８１に流入される。そして、配管８３におけるブロワ９３の後段には、逆止弁２０が配置されている。また、搬送室２の下部には、配管８５が接続されており、この配管８５を介して搬送室２内の空気の一部が外部に排気される。 Returning to FIG. 1, a HEPA filter 6 having an air cleaning function is disposed in the upper part of the transfer chamber 2, and air flows into the transfer chamber 2 through the HEPA filter 6. The pipe 81 has one end connected to the upper part of the transfer chamber 2 and the other end connected to the lower part of the transfer chamber 3. A blower 91 that press-fits air into the transfer chamber 2 via the HEPA filter 6 is disposed in the middle of the pipe 81. A pipe 83 is connected to an intermediate part of the pipe 81, and air is introduced into the pipe 81 from the outside via the pipe 83 by a blower 93 disposed in the intermediate part of the pipe 83. A check valve 20 is disposed downstream of the blower 93 in the pipe 83. A pipe 85 is connected to the lower part of the transfer chamber 2, and a part of the air in the transfer chamber 2 is exhausted to the outside through the pipe 85.

次に、このように構成された本第１実施形態に係る処理装置１の動作について説明する。 Next, the operation of the processing apparatus 1 according to the first embodiment configured as described above will be described.

まず、処理装置１の通常稼動時には、機構部５２によって、ハンド部５１が操作され、このハンド部５１が処理対象物Ｘを支持しながら搬送する。この状態においては、ブロワ９３によって、所定量の空気が外部から配管８３を介して配管８１に供給される。そして、配管８１に供給された空気は、ブロワ９１によって、配管８１内を流され、ＨＥＰＡフィルタ６を介することによって清浄されて搬送室２内に流入する。この搬送室２内に流入した空気は、その一部が配管８５を介して外部に排気されると共に、残りが搬送室２の下部から配管８１に流入し、再びＨＥＰＡフィルタ６を介して搬送室２内に流入される。 First, during normal operation of the processing apparatus 1, the hand unit 51 is operated by the mechanism unit 52, and the hand unit 51 conveys the processing object X while supporting it. In this state, a predetermined amount of air is supplied from the outside to the pipe 81 via the pipe 83 by the blower 93. Then, the air supplied to the pipe 81 is caused to flow through the pipe 81 by the blower 91, is purified through the HEPA filter 6, and flows into the transfer chamber 2. A part of the air flowing into the transfer chamber 2 is exhausted to the outside through the pipe 85 and the rest flows into the pipe 81 from the lower part of the transfer chamber 2 and again passes through the HEPA filter 6 to the transfer chamber. 2 is flown into.

ここで、処理装置１の通常稼動時においても、除去室３の排気ファン５は稼動されており、除去室３の室圧は、搬送室２の室圧よりも低く設定されている。このため、処理装置１の通常稼動時において、揮発したオゾン水Ｙは、搬送室２内に流入することがない。そして、揮発したオゾン水Ｙである気化ガスは、分解装置４によって分解されることによって無害化された後、排気ファン５によって不図示の配管を介して搬送室２の外部に排気される。 Here, even during the normal operation of the processing apparatus 1, the exhaust fan 5 of the removal chamber 3 is operated, and the chamber pressure of the removal chamber 3 is set lower than the chamber pressure of the transfer chamber 2. For this reason, during the normal operation of the processing apparatus 1, the volatilized ozone water Y does not flow into the transfer chamber 2. The vaporized gas that is the volatilized ozone water Y is detoxified by being decomposed by the decomposition device 4 and then exhausted by the exhaust fan 5 to the outside of the transfer chamber 2 through a pipe (not shown).

次に、処理装置１においてハンド部５１に付着した異物を除去する場合には、ハンド部５１が処理対象物Ｘを支持していない状態で機構部５２によって操作され、除去室３の壁部３１に形成された開口部３２を介して除去室３の内部に挿入される。この状態において、機構部５２は、ハンド部５２の先端部が下方に移動するように操作することで、図３に示すように、ハンド部５２の先端部をオゾン水Ｙ中に浸漬する。 Next, when removing the foreign matter adhering to the hand unit 51 in the processing apparatus 1, the hand unit 51 is operated by the mechanism unit 52 in a state where the processing target object X is not supported, and the wall unit 31 of the removal chamber 3. It is inserted into the interior of the removal chamber 3 through the opening 32 formed in the above. In this state, the mechanism portion 52 is operated so that the tip end portion of the hand portion 52 moves downward, so that the tip end portion of the hand portion 52 is immersed in the ozone water Y as shown in FIG.

このように、ハンド部５２の先端がオゾン水Ｙ中に浸漬されることによって、ハンド部５２の先端に付着した異物が、オゾン水Ｙの強い酸化力によって除去される。その後、機構部５２がハンド部５１を操作し、ハンド部５１を除去室３の外部に搬出する。そして、再び、機構部５２がハンド部５１を操作し、処理装置１の通常稼動が再開される。 As described above, the tip of the hand part 52 is immersed in the ozone water Y, so that the foreign matter attached to the tip of the hand part 52 is removed by the strong oxidizing power of the ozone water Y. Thereafter, the mechanism unit 52 operates the hand unit 51 to carry the hand unit 51 out of the removal chamber 3. Then, the mechanism unit 52 operates the hand unit 51 again, and the normal operation of the processing apparatus 1 is resumed.

このような本第１実施形態に係る処理装置１によれば、処理装置全体を滅菌ガス等による滅菌処理する必要なく、ハンド部５１に付着した異物を除去することができる。このため、装置のスループット低下を抑止することができる。また、例えば、再生医療の分野で、異なる人間の細胞を処理対象物として用いる場合であっても、ハンド部５１に付着する異物を異なる人間の細胞を扱う度に除去することができるため、処理対象物Ｘの異物による汚染を防止することが可能となる。 According to the processing apparatus 1 according to the first embodiment as described above, it is possible to remove the foreign matter adhering to the hand unit 51 without having to sterilize the entire processing apparatus with sterilizing gas or the like. For this reason, a decrease in throughput of the apparatus can be suppressed. In addition, for example, in the field of regenerative medicine, even when different human cells are used as a processing target, foreign substances adhering to the hand unit 51 can be removed each time a different human cell is handled. It becomes possible to prevent the object X from being contaminated by foreign matter.

（第２実施形態）
次に、本発明の第２実施形態に係る処理装置について、図４を参照して説明する。なお、本第２実施形態に係る処理装置の説明において、上記第１実施形態に係る処理装置１と同様の部分については、その説明を省略あるいは簡略化する。 (Second Embodiment)
Next, a processing apparatus according to a second embodiment of the present invention will be described with reference to FIG. In the description of the processing apparatus according to the second embodiment, the description of the same parts as those of the processing apparatus 1 according to the first embodiment will be omitted or simplified.

図４は、本第２実施形態に係る処理装置が有する除去室７の模式図である。この図に示すように、本第２実施形態に係る処理装置が有する除去室７の上部及び下部には、オゾン水Ｙを噴出するための噴出ノズル１０が複数配列されている。そして、除去室７の外部には、この噴出ノズル１０にオゾン水Ｙを供給するためのオゾン水供給装置１１が配置されており、このオゾン水供給装置１１と各噴出ノズル１０とは、配管８６によって接続されている。なお、本発明における噴出装置は、本第２実施形態において、オゾン水供給装置１及び噴出ノズル１０を備えて構成されている。 FIG. 4 is a schematic diagram of the removal chamber 7 included in the processing apparatus according to the second embodiment. As shown in this figure, a plurality of ejection nozzles 10 for ejecting ozone water Y are arranged at the upper and lower portions of the removal chamber 7 of the processing apparatus according to the second embodiment. An ozone water supply device 11 for supplying ozone water Y to the ejection nozzle 10 is arranged outside the removal chamber 7. The ozone water supply device 11 and each ejection nozzle 10 are connected to a pipe 86. Connected by. In addition, the ejection apparatus in this invention is provided with the ozone water supply apparatus 1 and the ejection nozzle 10 in this 2nd Embodiment.

このような本第２実施形態に係る処理装置においても、オゾン水Ｙが噴出ノズル１０を介してハンド部５１に吹付けられることによって、ハンド部５１に付着した異物が除去されるため、上記第１実施形態において示した処理装置１と同様の効果を奏することができる。 Also in the processing apparatus according to the second embodiment as described above, the ozone water Y is sprayed onto the hand unit 51 through the ejection nozzle 10, so that the foreign matter attached to the hand unit 51 is removed. The effect similar to the processing apparatus 1 shown in 1 embodiment can be show | played.

（第３実施形態）
次に、本発明の第３実施形態に係る処理装置について、図５を参照して説明する。なお、本第３実施形態に係る処理装置の説明において、上記第２実施形態と同様の部分については、その説明を省略あるいは簡略化する。 (Third embodiment)
Next, a processing apparatus according to a third embodiment of the present invention will be described with reference to FIG. In the description of the processing apparatus according to the third embodiment, the description of the same parts as those of the second embodiment will be omitted or simplified.

図５は、本第３実施形態に係る処理装置が有する除去室８の模式図である。この図に示すように、本第３実施形態に係る処理装置が有する除去室８の下部には、噴出ノズル１０から噴出された後、除去室８内に溜まったオゾン水Ｙをフィルタ１２を介してオゾン水供給装置１１に再び供給するためのポンプ１３（供給装置）が接続されている。 FIG. 5 is a schematic view of the removal chamber 8 included in the processing apparatus according to the third embodiment. As shown in this figure, ozone water Y that has been ejected from the ejection nozzle 10 and then accumulated in the removal chamber 8 is passed through a filter 12 in the lower portion of the removal chamber 8 of the processing apparatus according to the third embodiment. A pump 13 (supply device) for supplying the ozone water supply device 11 again is connected.

このような本第３実施形態に係る処理装置においても、上記第１及び第２実施形態と同様の効果を奏すると共に、オゾン水Ｙを再利用することが可能となる。 Even in the processing apparatus according to the third embodiment, the same effects as those of the first and second embodiments can be obtained, and the ozone water Y can be reused.

以上、添付図面を参照しながら本発明に係る処理装置の好適な実施形態について説明したが、本発明は上記実施形態に限定されないことは言うまでもない。上述した実施形態において示した各構成部材の諸形状や組み合わせ等は一例であって、本発明の主旨から逸脱しない範囲において設計要求等に基づき種々変更可能である。 As mentioned above, although preferred embodiment of the processing apparatus concerning this invention was described referring an accompanying drawing, it cannot be overemphasized that this invention is not limited to the said embodiment. Various shapes, combinations, and the like of the constituent members shown in the above-described embodiments are examples, and various modifications can be made based on design requirements and the like without departing from the gist of the present invention.

例えば、上記実施形態において、ハンド部５１は、処理対象物Ｘを支持するためのものであるとした。しかしながら、本発明はこれに限定されるものではなく、ハンド部５１が処理対象物Ｘを把持するアームを有するものであっても良い。 For example, in the above embodiment, the hand unit 51 is for supporting the processing object X. However, the present invention is not limited to this, and the hand unit 51 may have an arm for gripping the processing object X.

また、上記実施形態において、処理装置は処理対象物Ｘを搬送するための装置として説明した。しかしながら、これに限定されるものではなく、本発明の処理装置は、例えば、処理対象物Ｘを観察（処理）したり、処理対象物Ｘ同士を混合（処理）したりするための装置であっても良い。なお、この場合には、搬送室２の代わりに、例えば、観察室や混合室が配置されることとなる。 Moreover, in the said embodiment, the processing apparatus was demonstrated as an apparatus for conveying the process target object X. FIG. However, the present invention is not limited to this, and the processing apparatus of the present invention is an apparatus for observing (processing) the processing object X or mixing (processing) the processing objects X, for example. May be. In this case, instead of the transfer chamber 2, for example, an observation chamber or a mixing chamber is arranged.

また、上記実施形態において、ハンド部５１に付着した異物をオゾン水Ｙによって除去した。しかしながら、本発明はこれに限定されるものではなく、例えば、異物がウイルス等である場合には、ＵＶ、レーザ、電子線等を用いてハンド部５１に付着した異物を除去しても良い。なお、これらＵＶ、レーザ、電子線等を用いる場合には、ハンド部５１全体にＵＶ、レーザ、電子線等が照射されるような構成とすることが好ましい。また、加熱による殺菌や、水を介してハンド部５１に高電界を印加することによる殺菌等を用いても良い。 In the above embodiment, the foreign matter adhering to the hand portion 51 is removed by the ozone water Y. However, the present invention is not limited to this. For example, when the foreign matter is a virus or the like, the foreign matter attached to the hand unit 51 may be removed using UV, laser, electron beam, or the like. In addition, when using these UV, a laser, an electron beam, etc., it is preferable to set it as the structure which UV, a laser, an electron beam, etc. are irradiated to the whole hand part 51. FIG. Further, sterilization by heating, sterilization by applying a high electric field to the hand unit 51 through water, or the like may be used.

また、上記第１実施形態において、ハンド部５１をオゾン水Ｙに浸漬することのみによって、ハンド部５１に付着した異物を除去した。しかしながら、本発明はこれに限定されるものではなく、例えば、オゾン水Ｙに超音波を与えたり、オゾン水Ｙに流れを持たせたり、またはオゾン水Ｙに気泡を発生させたりすることによって、効率的にハンド部５１に付着した異物を除去するようにしても良い。 Moreover, in the said 1st Embodiment, the foreign material adhering to the hand part 51 was removed only by immersing the hand part 51 in the ozone water Y. FIG. However, the present invention is not limited to this, for example, by applying ultrasonic waves to the ozone water Y, causing the ozone water Y to flow, or generating bubbles in the ozone water Y, You may make it remove the foreign material adhering to the hand part 51 efficiently.

また、オゾン水Ｙによってハンド部５１に付着した異物を除去している最中に、オゾン水ＹにＵＶを照射して、オゾン水Ｙの酸化力を強化させても良い。 Further, while removing the foreign matter adhering to the hand portion 51 by the ozone water Y, the ozone water Y may be irradiated with UV to strengthen the oxidizing power of the ozone water Y.

また、除去室に乾燥機能を与え、オゾン水Ｙによって異物が除去されたハンド部５１を乾燥させても良い。 Moreover, a drying function may be given to the removal chamber, and the hand part 51 from which the foreign matter has been removed by the ozone water Y may be dried.

本発明の第１実施形態に係る処理装置１の概略構成図である。1 is a schematic configuration diagram of a processing apparatus 1 according to a first embodiment of the present invention. 除去室３の概略構成図である。3 is a schematic configuration diagram of a removal chamber 3. FIG. 本発明の第１実施形態に係る処理装置１の動作を説明するための図である。It is a figure for demonstrating operation | movement of the processing apparatus 1 which concerns on 1st Embodiment of this invention. 本発明の第２実施形態に係る処理装置の除去室７の模式図である。It is a schematic diagram of the removal chamber 7 of the processing apparatus which concerns on 2nd Embodiment of this invention. 本発明の第３実施形態に係る処理装置の除去室８の模式図である。It is a schematic diagram of the removal chamber 8 of the processing apparatus which concerns on 3rd Embodiment of this invention.

符号の説明Explanation of symbols

１……処理装置
２……搬送室（処理室）
３……除去室
４……分解装置
５……排気ファン
５１……ハンド部
５２……機構部
１０……噴出ノズル
Ｘ……処理対象物
Ｙ……オゾン水（薬液）

1 …… Processing equipment 2 …… Transport chamber (processing chamber)
3 ... Removal chamber 4 ... Disassembly device 5 ... Exhaust fan 51 ... Hand part 52 ... Mechanism part 10 ... Jet nozzle X ... Object to be treated Y ... Ozone water (chemical)

Claims

処理対象物を把持あるいは支持するハンド部を有しかつ前記処理対象物を所定のクリーン度を保った処理室内で処理する処理装置であって、
前記ハンド部に付着した異物を除去する除去室及び除去手段を有することを特徴とする処理装置。 A processing apparatus having a hand unit for holding or supporting a processing object and processing the processing object in a processing chamber maintaining a predetermined cleanliness level,
A processing apparatus comprising a removal chamber and removal means for removing foreign matter adhering to the hand part.

前記除去室の室圧は、前記処理室の室圧に対して低いことを特徴とする請求項１記載の処理装置。 The processing apparatus according to claim 1, wherein a chamber pressure of the removal chamber is lower than a chamber pressure of the processing chamber.

前記除去手段は、前記ハンド部を洗浄することによって前記異物を除去するための薬液を有することを特徴とする請求項１または２記載の処理装置。 The processing apparatus according to claim 1, wherein the removing unit has a chemical solution for removing the foreign matter by washing the hand unit.

前記薬液は、オゾン水であることを特徴とする請求項３記載の処理装置。 The processing apparatus according to claim 3, wherein the chemical liquid is ozone water.

前記除去手段は、前記薬液を前記ハンド部に対して噴出する噴出装置を有することを特徴とする請求項３または４記載の処理装置。 The processing apparatus according to claim 3, wherein the removing unit includes an ejection device that ejects the chemical liquid toward the hand portion.

前記除去手段は、前記噴出装置から噴出された薬液を、フィルタを介して前記噴出装置に再度供給する供給装置を有することを特徴とする請求項５記載の処理装置。 The processing apparatus according to claim 5, wherein the removing unit includes a supply device that supplies the chemical liquid ejected from the ejection device to the ejection device again through a filter.

前記薬液が揮発することによって生成された薬液ガスを分解することによって無害化する分解装置を有することを特徴とする請求項３〜６いずれかに記載の処理装置。

The processing apparatus according to claim 3, further comprising a decomposing apparatus that detoxifies the chemical liquid gas generated by volatilizing the chemical liquid.