JP2005234117A - Method for manufacturing color liquid crystal display panel - Google Patents

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壮史 石田
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Abstract

<P>PROBLEM TO BE SOLVED: To provide a method for manufacturing a color liquid crystal display panel capable of preventing the corrosion etc., of a reflection layer in a simple manner without increasing manufacturing processes, since the reflection layer is heretofore corroded by an alkaline developing solution at the time of developing a color filter layer in manufacturing the transflective color liquid crystal display panel provided with the reflection layer on a color filter substrate side. <P>SOLUTION: In the method for manufacturing the color liquid crystal display panel to be constituted through a liquid crystal composition between a first substrate provided with the color filter layer for a transmission section, the reflection layer and the color filter layer for a reflection section and a second substrate, the manufacturing process of the first substrate comprises forming the color filter layer for the transmission section on a transparent substrate and forming a reflection film consisting of aluminum, etc., on the transparent substrate, and in succession forming the color filter layer for the reflection section only on the reflection region on the reflection film, then etching away the reflection film of the area where the color filter layer for a reflection section is not formed, thereby forming the reflection layer. <P>COPYRIGHT: (C)2005,JPO&NCIPI

Description

本発明は、カラー液晶表示パネルの製造方法、及び、カラー液晶表示パネルに関する。より詳しくは、透過反射両用型（半透過型）カラー液晶表示パネルの製造方法、及び、それにより得られるカラー液晶表示パネルに関するものである。 The present invention relates to a method for manufacturing a color liquid crystal display panel and a color liquid crystal display panel. More specifically, the present invention relates to a method for producing a transflective (semi-transmissive) color liquid crystal display panel and a color liquid crystal display panel obtained thereby.

カラー液晶表示パネルは、カラー表示が可能な液晶表示装置の主要部材であり、液晶駆動用ＩＣ（集積回路）、電源回路、照明装置（バックライト）、入出力配線等の周辺部材とともに液晶表示装置を構成するものである。このようなカラー液晶表示パネルは、情報や映像の表示手段に欠かすことができないものとなっており、近年では、例えば、民生映像機器用モニタ、産業機器用モニタ、情報携帯端末等の表示パネルにおいて、低消費電力、軽量、薄型という液晶表示の特徴を充分に生かした高品位の製品が注目され、その応用分野が広がりつつある。 The color liquid crystal display panel is a main member of a liquid crystal display device capable of color display, and includes a liquid crystal display device together with peripheral members such as a liquid crystal driving IC (integrated circuit), a power supply circuit, a lighting device (backlight), and input / output wiring. It constitutes. Such color liquid crystal display panels have become indispensable for information and video display means. In recent years, for example, in display panels for consumer video equipment monitors, industrial equipment monitors, portable information terminals, etc. High-quality products that take full advantage of the characteristics of liquid crystal displays such as low power consumption, light weight, and thinness are attracting attention, and their application fields are expanding.

中でも、透過反射両用型（半透過型）のカラー液晶表示パネルは、光源として外光を用いる反射モードとバックライト光を用いる透過モードとを選択的又は同時に利用することが可能であることから、反射モードにおける低消費電力の利点と透過モードにおける高い視認性の利点とを併せ持ち、携帯電話等の表示画面に多く用いられている。このような半透過型カラー液晶表示パネルは、透過モード（暗所）ではパネル背面に設置されたバックライトから光を照射し、この光が透過部用カラーフィルター層を透過することにより画像を表示させ、また、反射モード（明所）では外光を反射板で反射させ、その反射光が反射部用カラーフィルター層を透過することにより画像を表示させる特徴を持っている。 Among them, the transflective (semi-transmissive) color liquid crystal display panel can selectively or simultaneously use a reflection mode using external light as a light source and a transmission mode using backlight. It has the advantage of low power consumption in the reflection mode and the advantage of high visibility in the transmission mode, and is often used for display screens of mobile phones and the like. In such a transflective color liquid crystal display panel, light is emitted from a backlight installed on the back of the panel in the transmissive mode (dark place), and this light is transmitted through the color filter layer for the transmissive part to display an image. In addition, in the reflection mode (light place), external light is reflected by the reflection plate, and the reflected light is transmitted through the color filter layer for reflection portion, thereby displaying an image.

このような特徴を持たせるために、半透過型カラー液晶表示パネルには、図７に示すように、１ドット内に反射領域ＰＲと透過領域ＰＴとが形成されることが必要である。ここで、１ドット内とは、カラー画像を形成する１画素表示中における赤、緑及び青の各１色単位の範囲をいう。 In order to have such characteristics, it is necessary for the transflective color liquid crystal display panel to have a reflective region PR and a transmissive region PT formed in one dot as shown in FIG. Here, “within one dot” means a range of each color unit of red, green, and blue during one-pixel display for forming a color image.

従来の半透過型カラー液晶表示パネルの一例としては、図６に示すように、透明基板１００と透明基板２００とが液晶層３００を介して対向し、図７に示すように、透明基板１００上の１ドット内の透過領域ＰＴに透過部用カラーフィルター層１１１が形成され、反射領域ＰＲにアルミニウム等の光沢のある金属等からなる反射層１１２ｂと反射部用カラーフィルター層１１３とがこの順に積層形成され、更に透過部用カラーフィルター層１１１及び反射部用カラーフィルター層１１３の上に透明電極を備えており、もう一方の透明基板２００上には、図８に示すように、透明基板２００上に走査線２１１及び信号線２１２が格子状に形成され、走査線２１１と信号線２１２との交差部に配置されたスイッチング素子２１３、及び、スイッチング素子２１３に電気的に接続された透明電極２１４を備えたものが挙げられる。なお、表示エリア１０１内から引き出された各種配線パターンを有する周辺エリア２０１は、シール材１０２の外側の領域に形成されている。 As an example of a conventional transflective color liquid crystal display panel, as shown in FIG. 6, the transparent substrate 100 and the transparent substrate 200 face each other with the liquid crystal layer 300 interposed therebetween, and as shown in FIG. The transmission part color filter layer 111 is formed in the transmission area PT within one dot, and the reflection layer 112b made of a glossy metal such as aluminum and the reflection part color filter layer 113 are laminated in this order in the reflection area PR. Further, a transparent electrode is provided on the color filter layer 111 for the transmission portion and the color filter layer 113 for the reflection portion, and on the other transparent substrate 200, as shown in FIG. The scanning lines 211 and the signal lines 212 are formed in a grid pattern, and the switching elements 213 and switches that are arranged at the intersections of the scanning lines 211 and the signal lines 212. Those having a transparent electrode 214 which is electrically connected to the grayed element 213 and the like. Note that a peripheral area 201 having various wiring patterns drawn out from the display area 101 is formed in a region outside the sealing material 102.

このような構成からなる従来の半透過型カラー液晶表示パネルの一般的な製造方法（以下、製造方法Ａともいう）では、図９（ａ）〜（ｆ）に示すように、まず、透明基板１００の上面に反射膜１１２ａを形成（図９（ａ））し、その上にポジ型のフォトレジスト１１５でエッチングマスクを形成（図９（ｂ）及び（ｃ））し、エッチングにより反射層１１２ｂをパターニング形成する（図９（ｄ））。そして、反射層１１２ｂの上面に重ねるようにして、感光性着色材料の塗布、露光及び現像を繰り返して、赤、緑及び青の各反射部用カラーフィルター層１１３を形成（図９（ｅ））するとともに、反射層１１２ｂが形成されていない領域の透明基板１００の上面にも同様にして、赤、緑及び青の各透過部用カラーフィルター層１１１を形成する（図９（ｆ））。 In a general manufacturing method (hereinafter also referred to as manufacturing method A) of a conventional transflective color liquid crystal display panel having such a configuration, first, as shown in FIGS. A reflective film 112a is formed on the upper surface of 100 (FIG. 9A), an etching mask is formed thereon with a positive photoresist 115 (FIGS. 9B and 9C), and the reflective layer 112b is etched. Is formed by patterning (FIG. 9D). Then, the color filter layer 113 for each of the red, green, and blue reflecting portions is formed by repeating the application, exposure, and development of the photosensitive coloring material so as to overlap the upper surface of the reflecting layer 112b (FIG. 9E). At the same time, the color filter layer 111 for each of the red, green, and blue transmissive portions is similarly formed on the upper surface of the transparent substrate 100 in the region where the reflective layer 112b is not formed (FIG. 9F).

そして、反射部用カラーフィルター層１１３及び透過部用カラーフィルター層１１１の上に透明電極を形成するとともに、もう一方の透明基板２００に走査線２１１及び信号線２１２を格子状に形成し、更に走査線２１１と信号線２１２との交差部に配置されたスイッチング素子２１３、及び、スイッチング素子２１３に電気的に接続された透明電極２１４を形成し、その後、それぞれ配向制御膜を形成してから、それら２枚の透明基板１００、２００をシール材１０２を介して貼り合わせ、液晶注入口から液晶セル内に液晶を注入することによりカラー液晶表示パネルを完成させていた。 Then, a transparent electrode is formed on the color filter layer 113 for the reflection portion and the color filter layer 111 for the transmission portion, and the scanning lines 211 and the signal lines 212 are formed in a lattice pattern on the other transparent substrate 200, and further scanned. The switching element 213 arranged at the intersection of the line 211 and the signal line 212, and the transparent electrode 214 electrically connected to the switching element 213 are formed, and then the alignment control film is formed respectively. The two transparent substrates 100 and 200 are bonded together through the sealing material 102, and the liquid crystal is injected into the liquid crystal cell from the liquid crystal injection port, thereby completing the color liquid crystal display panel.

しかしながら、製造方法Ａでは、反射層１１２ｂ上に反射部用カラーフィルター層１１３を成膜する際の位置合わせを正確に行うことが困難であり、反射層１１２ｂと反射部用カラーフィルター層１１３との間に位置ずれが生じ易いという点で工夫の余地があった。 However, in the manufacturing method A, it is difficult to accurately perform alignment when forming the reflective color filter layer 113 on the reflective layer 112b, and the reflective layer 112b and the reflective color filter layer 113 are not aligned. There was room for ingenuity in that misalignment was likely to occur between them.

これに対して、図１０（ａ）〜（ｅ）に示すような、別の液晶表示パネルの製造方法（以下、製造方法Ｂともいう）が開示されている（特許文献１参照）。製造方法Ｂは、透明基板１００全面に形成した反射膜１１２ａ上に部分的に第１（反射部用）カラーフィルター層１１３を形成（図１０（ａ）〜（ｃ））して各ドット内の反射領域を形成した後に、第１（反射部用）カラーフィルター層１１３が形成された領域以外の反射膜１１２ａをエッチングにより除去（図１０（ｄ））し、この除去後の領域に第２（透過部用）カラーフィルター層１１１を形成（図１０（ｅ））して各ドット内の透過領域を形成するというものである。 On the other hand, another method for manufacturing a liquid crystal display panel (hereinafter also referred to as manufacturing method B) as shown in FIGS. 10A to 10E is disclosed (see Patent Document 1). In the manufacturing method B, a first (reflecting part) color filter layer 113 is partially formed on the reflective film 112a formed on the entire surface of the transparent substrate 100 (FIGS. 10A to 10C), and each of the dots in each dot is formed. After forming the reflective region, the reflective film 112a other than the region where the first (reflecting part) color filter layer 113 is formed is removed by etching (FIG. 10D), and the second ( A color filter layer 111 is formed (for the transmission part) (FIG. 10E) to form a transmission region in each dot.

しかしながら、製造方法Ａ及びＢでは、図１１−１（ａ）〜（ｃ）及び１１−２（ａ）、（ｂ）に示すように、反射層１１２ｂのパターニング後にカラーフィルター層１１１、１１３を形成するため、カラーフィルター層１１１、１１３の現像を行う際に、反射層１１２ｂの側面（図１１−１及び１１−２中、点線で囲んだ部分）がアルカリ現像液によって腐食されてしまうことから、反射層１１２ｂの面積を制御することが困難であるという点で工夫の余地があった。
特開２００３−１３１２０９号公報（第１、４頁、第１図） However, in the manufacturing methods A and B, the color filter layers 111 and 113 are formed after the patterning of the reflective layer 112b as shown in FIGS. 11-1 (a) to (c) and 11-2 (a) and (b). Therefore, when the color filter layers 111 and 113 are developed, the side surfaces of the reflective layer 112b (portions surrounded by dotted lines in FIGS. 11-1 and 11-2) are corroded by the alkaline developer. There is room for improvement in that it is difficult to control the area of the reflective layer 112b.
Japanese Unexamined Patent Publication No. 2003-131209 (first and fourth pages, FIG. 1)

本発明は、上記現状に鑑みてなされたものであり、製造工程を増やすことなく簡便に、層間の位置ずれ、各層の腐食等を防止して高い表示品位のカラー液晶表示パネルを製造することができる製造方法、及び、それにより得られるカラー液晶表示パネルを提供することを目的とするものである。 The present invention has been made in view of the above situation, and can easily manufacture a color liquid crystal display panel with high display quality by preventing misalignment between layers and corrosion of each layer without increasing the number of manufacturing steps. It is an object of the present invention to provide a manufacturing method that can be used, and a color liquid crystal display panel obtained thereby.

本発明者らは、簡便に高い表示品位のカラー液晶表示パネルを製造することができる製造方法について種々検討したところ、反射層の側面の腐食に着目した。そして、カラーフィルター層の現像を行う際に、反射層の側面がアルカリ現像液によって腐食されていることを見いだすとともに、透過部用カラーフィルター層及び反射部用カラーフィルター層を形成した後に反射膜をエッチングによりパターニングして反射層を形成することにより、反射層の側面の腐食を防止することができることを見いだし、上記課題をみごとに解決することができることに想到し、本発明に到達したものである。 The inventors of the present invention have studied various manufacturing methods that can easily manufacture a color liquid crystal display panel with high display quality, and have focused on the corrosion of the side surface of the reflective layer. Then, when developing the color filter layer, the side surface of the reflective layer is found to be corroded by an alkali developer, and the reflective film is formed after the color filter layer for the transmissive part and the color filter layer for the reflective part are formed. The inventors have found that by forming a reflective layer by patterning by etching, it is possible to prevent the side surface of the reflective layer from being corroded. .

すなわち、本発明は、透過部用カラーフィルター層、反射層及び反射部用カラーフィルター層が設けられ、更に透明電極を備えた第一基板と、透明電極を備えた第二基板とを有し、第一基板と第二基板との間に液晶組成物を介して構成されるカラー液晶表示パネルの製造方法であって、上記第一基板の製造工程は、透過部用カラーフィルター層、反射膜及び反射部用カラーフィルター層を形成した後に、反射膜をエッチングして反射層を形成してなるカラー液晶表示パネルの製造方法である。
以下に本発明を詳述する。 That is, the present invention is provided with a color filter layer for a transmission part, a reflection layer and a color filter layer for a reflection part, and further includes a first substrate provided with a transparent electrode, and a second substrate provided with a transparent electrode, A method for producing a color liquid crystal display panel comprising a liquid crystal composition between a first substrate and a second substrate, wherein the production process of the first substrate comprises a color filter layer for a transmission part, a reflective film, and This is a method for manufacturing a color liquid crystal display panel, in which a reflective layer is formed by etching a reflective film after forming a reflective color filter layer.
The present invention is described in detail below.

本発明により製造されるカラー液晶表示パネルは、透過領域と反射領域とを有する透過反射両用型（半透過型）の液晶表示装置に好適に適用することができるものである。すなわち、カラー液晶表示パネルの第一基板には、透過部用カラーフィルター層、反射層及び反射部用カラーフィルター層が設けられる。透過部用カラーフィルター層及び反射部用カラーフィルター層としては、例えば、感光性着色材料（顔料分散型感光液）や、顔料を分散したドライフィルムを用いて得られる透明着色樹脂膜等が好適である。反射層としては、例えば、アルミニウム（Ａｌ）等からなる金属反射膜が好適である。このような第一基板においては、通常では、画素毎に赤、緑及び青のドットが設けられ、ドット毎に各色に着色された透過部用カラーフィルター層及び反射部用カラーフィルター層が着色層として並設されることとなる。 The color liquid crystal display panel manufactured by the present invention can be suitably applied to a transflective (semi-transmissive) type liquid crystal display device having a transmissive region and a reflective region. That is, the first substrate of the color liquid crystal display panel is provided with a transmissive part color filter layer, a reflective layer, and a reflective part color filter layer. As the color filter layer for the transmissive part and the color filter layer for the reflective part, for example, a photosensitive coloring material (pigment dispersion type photosensitive solution), a transparent colored resin film obtained using a dry film in which a pigment is dispersed, and the like are suitable. is there. As the reflective layer, for example, a metal reflective film made of aluminum (Al) or the like is suitable. In such a first substrate, normally, red, green, and blue dots are provided for each pixel, and a color filter layer for a transmission portion and a color filter layer for a reflection portion that are colored in each color for each dot are colored layers. Will be installed side by side.

上記カラー液晶表示パネルは、更に透明電極を備えた第一基板と、透明電極を備えた第二基板とを有し、第一基板と第二基板との間に液晶組成物を介して構成されるものである。基板としては、例えば、ガラス、プラスチック等からなる透明基板が好適である。基板に設けられる透明電極としては、光透過性及び導電性に優れた材料からなることが好ましく、例えば、ＩＴＯ（Ｉｎｄｉｕｍ Ｔｉｎ Ｏｘｉｄｅ；インジウム錫酸化物）等からなる透明導電膜が好適である。第一基板としては、透明基板上（液晶層側）の各ドット全面に透過部用カラーフィルター層を形成し、各ドット内の反射領域にのみ、透過部用カラーフィルター層の上面（液晶層側の面）に反射層と反射部用カラーフィルター層とをこの順に積層形成した形態が好ましく、また、透過部用カラーフィルター層及び反射部用カラーフィルター層の液晶層側に透明電極を備えた形態が好ましい。第二基板としては、透明基板の液晶層側に透明電極を備えた形態が好ましい。液晶組成物は、１種又は２種以上の材料から構成される。このようなカラー液晶表示パネルにおいては、第一基板及び第二基板の透明電極間に電圧が印加されることにより、液晶層の光学的性質を変化させることができ、これにより、液晶表示装置において表示が可能となる。
カラー液晶表示パネルの構成としては、このような構成要素を必須として形成されるものである限り、その他の構成要素を含んでいても含んでいなくてもよく、特に限定されるものではない。 The color liquid crystal display panel further includes a first substrate provided with a transparent electrode and a second substrate provided with a transparent electrode, and is configured with a liquid crystal composition interposed between the first substrate and the second substrate. Is. As the substrate, for example, a transparent substrate made of glass, plastic or the like is suitable. The transparent electrode provided on the substrate is preferably made of a material excellent in light transmittance and conductivity. For example, a transparent conductive film made of ITO (Indium Tin Oxide) or the like is suitable. As the first substrate, a color filter layer for the transmissive part is formed on the entire surface of each dot on the transparent substrate (the liquid crystal layer side), and the upper surface (the liquid crystal layer side) of the color filter layer for the transmissive part only in the reflective region within each dot The reflective layer and the color filter layer for the reflective part are preferably laminated in this order on the surface, and a transparent electrode is provided on the liquid crystal layer side of the color filter layer for the transmissive part and the color filter layer for the reflective part. Is preferred. As the second substrate, a mode in which a transparent electrode is provided on the liquid crystal layer side of the transparent substrate is preferable. A liquid crystal composition is comprised from 1 type, or 2 or more types of materials. In such a color liquid crystal display panel, by applying a voltage between the transparent electrodes of the first substrate and the second substrate, the optical properties of the liquid crystal layer can be changed. Display is possible.
The configuration of the color liquid crystal display panel is not particularly limited as long as such components are formed as essential, and other components may or may not be included.

本発明における第一基板の製造工程は、透過部用カラーフィルター層、反射膜及び反射部用カラーフィルター層を形成した後に、反射膜をエッチングして反射層を形成してなる。この製造工程においては、透過部用カラーフィルター層と反射部用カラーフィルター層とを形成した後に、反射膜のエッチングによるパターニングを行って反射層を形成することから、反射層の側面にアルカリ現像液が接触する機会はない。従って、反射層の側面の腐食を防止して、所望の面積を有する反射層を得ることができ、反射モード時に良好なカラー表示を得ることができる。 The manufacturing process of the 1st board | substrate in this invention forms a reflective layer by etching a reflective film, after forming the color filter layer for transmissive parts, a reflective film, and the color filter layer for reflective parts. In this manufacturing process, after forming the color filter layer for the transmissive part and the color filter layer for the reflective part, the reflective layer is formed by performing patterning by etching of the reflective film. There is no opportunity to touch. Therefore, corrosion of the side surface of the reflective layer can be prevented, a reflective layer having a desired area can be obtained, and a good color display can be obtained in the reflective mode.

上記透過部用カラーフィルター層及び反射部用カラーフィルター層の形成方法としては、感光性着色材料（顔料分散型感光液）を塗布した後、露光、現像及び焼成を行う方法や、顔料を分散したドライフィルムを使用し、露光及び現像及び焼成を行う方法等が好適である。なお、顔料分散型感光液、及び、顔料を分散したドライフィルムは、通常、どちらもネガ型のレジストである。現像液の種類としては、界面活性剤を含有するアルカリ現像液等が好適であり、例えば、非イオン系の界面活性剤を含有するＴＭＡＨ（Ｔｅｔｒａｍｅｔｈｙｌ ａｍｍｏｎｉｕｍ ｈｙｄｏｒｏｘｉｄｅ；テトラメチルアンモニウム水酸化物）溶液等が挙げられる。反射膜の形成方法としては、蒸着法、スパッタリング法等が好適である。反射膜のエッチング方法としては、エッチングマスク（レジスト）に覆われていない部分を溶解させることができる酸性溶液に浸漬させる方法が好適であり、例えば、酢酸、リン酸及び硝酸からなる酸性溶液に浸漬させる方法や、塩酸、第二塩化鉄を含有する酸性溶液に浸漬させる方法等が挙げられる。 As a method for forming the color filter layer for the transmissive part and the color filter layer for the reflective part, a photosensitive coloring material (pigment-dispersed photosensitive solution) is applied, and then exposure, development and baking are performed, or a pigment is dispersed. A method of performing exposure, development, and baking using a dry film is suitable. Both the pigment-dispersed photosensitive liquid and the dry film in which the pigment is dispersed are usually negative resists. As the type of the developer, an alkali developer containing a surfactant is suitable, and for example, a TMAH (tetramethyl ammonium hydroxide) solution containing a nonionic surfactant is used. Can be mentioned. As a method for forming the reflective film, a vapor deposition method, a sputtering method, or the like is preferable. As a method of etching the reflective film, a method of immersing in an acidic solution that can dissolve a portion not covered with an etching mask (resist) is suitable, for example, immersing in an acidic solution composed of acetic acid, phosphoric acid, and nitric acid. And a method of immersing in an acidic solution containing hydrochloric acid and ferric chloride.

上記第一基板の製造工程は、透過部用カラーフィルター層を形成する工程、反射膜を形成する工程、反射膜上の反射領域に反射部用カラーフィルター層を形成する工程、及び、反射部用カラーフィルター層が形成されていない領域の反射膜をエッチングにより除去して反射層を形成する工程をこの順に含んでなることが好ましい。この形態においては、反射部用カラーフィルター層の下に形成された反射膜をエッチングする際に、反射部用カラーフィルター層をエッチングマスクとして利用することができることから、反射層をより簡便に形成することができる。 The manufacturing process of the first substrate includes a step of forming a color filter layer for a transmissive portion, a step of forming a reflective film, a step of forming a color filter layer for a reflective portion in a reflective region on the reflective film, and for the reflective portion It is preferable to include in this order the step of forming the reflective layer by removing the reflective film in the region where the color filter layer is not formed by etching. In this embodiment, when the reflective film formed under the color filter layer for the reflective portion is etched, the color filter layer for the reflective portion can be used as an etching mask, so that the reflective layer is formed more easily. be able to.

本発明はまた、上記製造方法により製造されてなるカラー液晶表示パネルでもある。このようなカラー液晶表示パネルは、簡便に製造することが可能であり、しかも層間の位置ずれ、各層の腐食等が防止されていることから、高い表示品位を有するものである。 The present invention is also a color liquid crystal display panel manufactured by the above manufacturing method. Such a color liquid crystal display panel can be easily manufactured, and has a high display quality because it prevents misalignment between layers and corrosion of each layer.

本発明のカラー液晶表示パネルの製造方法によれば、透過部用カラーフィルター層と反射部用カラーフィルター層とを形成した後に、反射膜のエッチングによるパターニングを行って反射層を形成することから、製造工程を増やすことなく簡便に、アルカリ現像液の接触による反射層の側面の腐食を防止することができ、高い表示品位のカラー液晶表示パネルを製造することができる。 According to the method for producing a color liquid crystal display panel of the present invention, after forming the color filter layer for the transmissive portion and the color filter layer for the reflective portion, the reflective layer is formed by patterning by etching of the reflective film, Without increasing the number of manufacturing steps, it is possible to easily prevent corrosion of the side surface of the reflective layer due to contact with an alkaline developer, and to produce a color liquid crystal display panel with high display quality.

以下に実施例を掲げ、図面を参照して本発明を更に詳細に説明するが、本発明はこれらの実施例のみに限定されるものではない。 Hereinafter, the present invention will be described in more detail with reference to the drawings with reference to examples. However, the present invention is not limited only to these examples.

（実施例１）
本発明のカラー液晶表示パネルの製造方法の一例を図１〜５に基づいて以下に説明する。
図１（ａ）〜（ｅ）は、本発明の各工程の一例をパネル断面方向から示す断面模式図である。図２は、実施例で透明基板上に作製したＴＦＴ（薄膜トランジスタ）をパネル断面方向から示す断面模式図である。図３は、実施例で作製した第一基板（カラーフィルター基板）の基板面を示す平面模式図である。図４は、実施例で作製した第二基板（ＴＦＴアレイ基板）の基板面を示す平面模式図である。図５は、実施例で作製したカラー液晶表示パネルの断面模式図である。 (Example 1)
One example of the method for producing the color liquid crystal display panel of the present invention will be described below with reference to FIGS.
1A to 1E are schematic cross-sectional views showing an example of each step of the present invention from the panel cross-sectional direction. FIG. 2 is a schematic cross-sectional view showing a TFT (thin film transistor) fabricated on a transparent substrate in the example from the panel cross-sectional direction. FIG. 3 is a schematic plan view showing the substrate surface of the first substrate (color filter substrate) produced in the example. FIG. 4 is a schematic plan view showing the substrate surface of the second substrate (TFT array substrate) produced in the example. FIG. 5 is a schematic cross-sectional view of a color liquid crystal display panel produced in the example.

まず、図１（ａ）に示す透明基板１００上の１ドット全面に、感光性着色材料（顔料分散型感光液）を塗布した後、露光、現像及び焼成を行うことで、図１（ｂ）に示すように、透過部用カラーフィルター層１１１を形成する。ここで、透過部用カラーフィルター層１１１の厚さを１．０〜２．０μｍ程度にする形態が好適である。続いて、図１（ｃ）に示すように、透過部用カラーフィルター層１１１の上に反射膜１１２ａを形成する。ここで、反射膜１１２ａは、アルミニウム等の光沢のある金属を採用して、蒸着法やスパッタリング法等により積層させる。次に、図１（ｄ）に示すように、反射膜１１２ａ上に感光性着色材料（顔料分散型感光液）を塗布した後、露光、現像及び焼成を行い、反射領域のみに反射部用カラーフィルター層１１３を形成する。ここで、反射部用カラーフィルター層１１３の厚さとしては、透過モードと反射モードの表示色度を統一するために、透過部用カラーフィルター層１１１の厚さの半分にされることが好ましく、０．５〜１．０μｍ程度にする形態が好適である。その後、図１（ｅ）に示すように、反射部用カラーフィルター層１１３をエッチングマスクとして利用して、酢酸、リン酸及び硝酸からなる酸性溶液に浸漬させる方法等を用いて、反射膜１１２ａのエッチングを行うことで、反射部用カラーフィルター層１１３が形成されていない領域の反射膜１１２ａを除去して反射層１１２ｂを形成する。そして、反射層１１２ｂを形成した透明基板１００上に透明電極１１４を形成する。このとき、透明電極１１４には、ＩＴＯ等の光透過性が高く、導電性を有する物質を用い、スパッタリング法等により形成させる。 First, a photosensitive coloring material (pigment-dispersed photosensitive solution) is applied to the entire surface of one dot on the transparent substrate 100 shown in FIG. 1A, and then exposed, developed, and baked, so that FIG. As shown in FIG. 3, the color filter layer 111 for the transmission part is formed. Here, a mode in which the thickness of the color filter layer 111 for the transmissive portion is about 1.0 to 2.0 μm is preferable. Subsequently, as shown in FIG. 1C, a reflective film 112 a is formed on the transmissive portion color filter layer 111. Here, the reflective film 112a employs a glossy metal such as aluminum and is laminated by a vapor deposition method, a sputtering method, or the like. Next, as shown in FIG. 1 (d), a photosensitive coloring material (pigment-dispersed photosensitive solution) is applied on the reflective film 112a, and then exposed, developed, and baked. A filter layer 113 is formed. Here, the thickness of the color filter layer 113 for the reflection part is preferably half the thickness of the color filter layer 111 for the transmission part in order to unify the display chromaticity of the transmission mode and the reflection mode. A form of about 0.5 to 1.0 μm is preferable. Thereafter, as shown in FIG. 1 (e), using the color filter layer 113 for the reflective portion as an etching mask, a method of immersing in an acidic solution composed of acetic acid, phosphoric acid and nitric acid, etc., is used. By performing the etching, the reflective film 112a in the region where the color filter layer 113 for the reflective portion is not formed is removed to form the reflective layer 112b. Then, the transparent electrode 114 is formed on the transparent substrate 100 on which the reflective layer 112b is formed. At this time, the transparent electrode 114 is formed by a sputtering method or the like using a highly transparent material such as ITO and a conductive material.

もう一方の透明基板２００上には、例えば、スイッチング素子２１３として、図２に示すようなＴＦＴ（薄膜トランジスタ）を用いる場合であれば、（１）ＴＦＴ２１３のゲート電極２２１を含む走査線２１１及び補助容量電極２１５を形成するアルミニウム膜やモリブデン−タングステン合金膜、（２）ゲート絶縁膜２２２を形成する酸化シリコン膜及び窒化シリコン膜の多層膜、（３）ＴＦＴ２１３の半導体膜２２３としての例えばアモルファスシリコン膜、（４）低抵抗半導体膜２２４、（５）信号線２１２、ソース電極２２５及びドレイン電極２２６を形成するアルミニウム膜、並びに、（６）保護膜２２７を形成する窒化シリコン膜をそれぞれ成膜し、パターニングする。続いて、補助容量電極２１５上に絶縁膜を形成し、透明基板２００上の各画素領域に図４のように透明電極２１４すなわち画素電極を形成する。このとき、透明電極２１４は、ＴＦＴ２１３のドレイン電極２２６と電気的に接続する。 For example, when a TFT (thin film transistor) as shown in FIG. 2 is used as the switching element 213 on the other transparent substrate 200, (1) the scanning line 211 including the gate electrode 221 of the TFT 213 and the auxiliary capacitor An aluminum film or a molybdenum-tungsten alloy film for forming the electrode 215; (2) a multilayer film of a silicon oxide film and a silicon nitride film for forming the gate insulating film 222; and (3) an amorphous silicon film as the semiconductor film 223 of the TFT 213, for example. (4) A low-resistance semiconductor film 224, (5) an aluminum film for forming the signal line 212, the source electrode 225, and the drain electrode 226, and (6) a silicon nitride film for forming the protective film 227 are formed and patterned. To do. Subsequently, an insulating film is formed on the auxiliary capacitance electrode 215, and a transparent electrode 214, that is, a pixel electrode is formed in each pixel region on the transparent substrate 200 as shown in FIG. At this time, the transparent electrode 214 is electrically connected to the drain electrode 226 of the TFT 213.

その後、透明基板１００及び透明基板２００の液晶層側の全面に配向膜材料を塗布し、ラビング処理を行うことにより、配向膜（図示せず）を形成する。続いて、透明基板１００と透明基板２００とを、図３及び図４のＡ点とＡ’点、Ｂ点とＢ’点とが重なるように（透明基板２００上の走査線２１１と信号線２１２とで区画された一格子内に、透明基板１００側の１ドットが概ね納まるように）、表示部１０１の外側に印刷したシール材１０２を介して貼り合わせ、液晶注入口から液晶セル内に液晶を注入することにより、半透過型カラー液晶表示パネルを完成させる。
完成した半透過型カラー液晶表示パネルの断面を図３のＣ−Ｄ線（図４のＣ’−Ｄ’線）に沿って示すと図５のようになる。 Thereafter, an alignment film material is applied to the entire surface of the transparent substrate 100 and the transparent substrate 200 on the liquid crystal layer side, and a rubbing process is performed to form an alignment film (not shown). Subsequently, the transparent substrate 100 and the transparent substrate 200 are arranged such that the points A and A ′ and the points B and B ′ in FIGS. 3 and 4 overlap (the scanning line 211 and the signal line 212 on the transparent substrate 200). Are bonded together via a sealant 102 printed on the outside of the display unit 101, and liquid crystal is injected into the liquid crystal cell from the liquid crystal injection port. Is completed to complete a transflective color liquid crystal display panel.
A cross section of the completed transflective color liquid crystal display panel is shown in FIG. 5 along the line CD (line C′-D ′ in FIG. 4) in FIG.

（ａ）〜（ｅ）は、本発明の各工程の一例をパネル断面方向から示す断面模式図である。(A)-(e) is a cross-sectional schematic diagram which shows an example of each process of this invention from a panel cross-section direction. 実施例で透明基板上に作製したＴＦＴ（薄膜トランジスタ）をパネル断面方向から示す断面模式図である。It is a cross-sectional schematic diagram which shows TFT (thin film transistor) produced on the transparent substrate in the Example from the panel cross-section direction. 実施例で作製した第一基板（カラーフィルター基板）の基板面を示す平面模式図である。It is a plane schematic diagram which shows the board | substrate surface of the 1st board | substrate (color filter board | substrate) produced in the Example. 実施例で作製した第二基板（ＴＦＴアレイ基板）の基板面を示す平面模式図である。It is a plane schematic diagram which shows the board | substrate surface of the 2nd board | substrate (TFT array board | substrate) produced in the Example. 実施例で作製したカラー液晶表示パネルの断面模式図である。It is a cross-sectional schematic diagram of the color liquid crystal display panel produced in the Example. 従来のカラー液晶表示パネルの一例を示す斜視模式図である。It is a perspective schematic diagram which shows an example of the conventional color liquid crystal display panel. 従来のカラー液晶表示パネルにおけるカラーフィルター基板の基板面の一例を示す平面模式図である。It is a plane schematic diagram which shows an example of the substrate surface of the color filter substrate in the conventional color liquid crystal display panel. 従来のカラー液晶表示パネルにおけるＴＦＴアレイ基板の基板面の一例を示す平面模式図である。It is a plane schematic diagram which shows an example of the substrate surface of the TFT array substrate in the conventional color liquid crystal display panel. （ａ）〜（ｆ）は、従来のカラー液晶表示パネルの製造方法（製造方法Ａ）における各工程の一例をパネル断面方向から示す断面模式図である。(A)-(f) is a cross-sectional schematic diagram which shows an example of each process in the manufacturing method (manufacturing method A) of the conventional color liquid crystal display panel from a panel cross-section direction. （ａ）〜（ｅ）は、従来のカラー液晶表示パネルの製造方法（製造方法Ｂ）における各工程の一例をパネル断面方向から示す断面模式図である。(A)-(e) is a cross-sectional schematic diagram which shows an example of each process in the manufacturing method (manufacturing method B) of the conventional color liquid crystal display panel from a panel cross-section direction. （ａ）〜（ｃ）は、図９（ｄ）〜（ｆ）に対応し、製造方法Ａにおいて反射層の側面の腐食が生じる部位を示す断面模式図である。(A)-(c) is a cross-sectional schematic diagram which respond | corresponds to FIG.9 (d)-(f) and shows the site | part which the corrosion of the side surface of a reflective layer produces in the manufacturing method A. FIG. （ａ）及び（ｂ）は、図１０（ｄ）及び（ｅ）に対応し、製造方法Ｂにおいて反射層の側面の腐食が生じる部位を示す断面模式図である。(A) And (b) is a cross-sectional schematic diagram which respond | corresponds to FIG.10 (d) and (e), and shows the site | part which corrosion of the side surface of a reflective layer produces in the manufacturing method B. FIG.

符号の説明Explanation of symbols

１００、２００：透明基板
１０１：表示エリア
１０２：シール材
１１１：透過部用カラーフィルター層
１１２ａ：反射膜
１１２ｂ：反射層
１１３：反射部用カラーフィルター層
１１４：透明電極（共通電極）
１１５：フォトレジスト
２０１：周辺エリア
２１１：走査線
２１２：信号線
２１３：スイッチング素子（ＴＦＴ）
２１４：透明電極（画素電極）
２１５：補助容量電極
２２１：ゲート電極
２２２：ゲート絶縁膜
２２３：半導体膜
２２４：低抵抗半導体膜
２２５：ソース電極
２２６：ドレイン電極
２２７：保護膜
３００：液晶層
ＰＴ：透過領域
ＰＲ：反射領域
100, 200: Transparent substrate 101: Display area 102: Sealing material 111: Transmission color filter layer 112a: Reflection film 112b: Reflection layer 113: Reflection color filter layer 114: Transparent electrode (common electrode)
115: Photoresist 201: Peripheral area 211: Scan line 212: Signal line 213: Switching element (TFT)
214: Transparent electrode (pixel electrode)
215: auxiliary capacitance electrode 221: gate electrode 222: gate insulating film 223: semiconductor film 224: low resistance semiconductor film 225: source electrode 226: drain electrode 227: protective film 300: liquid crystal layer PT: transmission region PR: reflection region

Claims (3)

透過部用カラーフィルター層、反射層及び反射部用カラーフィルター層が設けられ、更に透明電極を備えた第一基板と、透明電極を備えた第二基板とを有し、
第一基板と第二基板との間に液晶組成物を介して構成されるカラー液晶表示パネルの製造方法であって、
該第一基板の製造工程は、透過部用カラーフィルター層、反射膜及び反射部用カラーフィルター層を形成した後に、反射膜をエッチングして反射層を形成してなる
ことを特徴とするカラー液晶表示パネルの製造方法。 A color filter layer for a transmission part, a reflection layer, and a color filter layer for a reflection part are provided, and further includes a first substrate provided with a transparent electrode, and a second substrate provided with a transparent electrode,
A method for producing a color liquid crystal display panel comprising a liquid crystal composition between a first substrate and a second substrate,
The manufacturing process of the first substrate includes: forming a color filter layer for a transmissive portion, a reflective film, and a color filter layer for a reflective portion, and then etching the reflective film to form a reflective layer. Manufacturing method of display panel. 前記第一基板の製造工程は、透過部用カラーフィルター層を形成する工程、反射膜を形成する工程、反射膜上の反射領域に反射部用カラーフィルター層を形成する工程、及び、反射部用カラーフィルター層が形成されていない領域の反射膜をエッチングにより除去して反射層を形成する工程をこの順に含んでなる
ことを特徴とする請求項１記載のカラー液晶表示パネルの製造方法。 The manufacturing process of the first substrate includes a step of forming a color filter layer for a transmissive portion, a step of forming a reflective film, a step of forming a color filter layer for a reflective portion in a reflective region on the reflective film, and for the reflective portion 2. The method of manufacturing a color liquid crystal display panel according to claim 1, further comprising a step of forming a reflective layer in this order by removing the reflective film in a region where the color filter layer is not formed by etching. 請求項１記載の製造方法により製造されてなることを特徴とするカラー液晶表示パネル。
A color liquid crystal display panel manufactured by the manufacturing method according to claim 1.
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