JP2005228961A - 基板洗浄装置 - Google Patents
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Abstract
【解決手段】基板洗浄装置は、2つの洗浄ブラシ20,40を備え、これらを相互に独立に駆動させる。洗浄ブラシ20は、基板Wの回転中心Oに当接する位置Aから水平方向に沿って基板Wの端縁部より外側へと向かう往路移動、当該往路移動の終点位置Bから鉛直方向に沿って上昇する上昇移動、当該上昇移動の終点位置Cから水平方向に沿って回転中心Oの直上の位置Dへと向かう復路移動および当該復路移動の終点位置Dから鉛直方向に沿って上記往路移動の始点位置Aへと下降する下降移動からなる循環移動を行う。洗浄ブラシ40も同様の循環移動を行う。このときに、両洗浄ブラシ20,40の復路移動の移動速度が往路移動の移動速度よりも速くなるようにするとともに、上昇移動の移動速度が下降移動の移動速度よりも速くなるようにする。
【選択図】図4
Description
5 カップ
10 保持回転機構
11 スピンチャック
12 回転モータ
20,40 洗浄ブラシ
30,50 駆動機構
31,51 昇降モータ
32,34,52,54 エンコーダ
33,53 揺動モータ
70 制御部
SS 表面スクラバー
SSR 裏面スクラバー
W 基板
Claims (9)
- 基板を回転させつつ洗浄処理を行う基板洗浄装置であって、
略水平面内にて基板を回転させる回転手段と、
前記回転手段によって回転される基板の被洗浄面を洗浄する第1洗浄手段および第2洗浄手段と、
基板の回転中心から前記被洗浄面を洗浄しつつ略水平方向に沿って端縁部へと向かう往路移動、前記往路移動の終点位置から略鉛直方向に沿って上昇する上昇移動、前記上昇移動の終点位置から略水平方向に沿って前記回転中心へと向かう復路移動および前記復路移動の終点位置から略鉛直方向に沿って前記往路移動の始点位置へと下降する下降移動からなる循環移動を前記第1洗浄手段に行わせる第1駆動手段と、
前記循環移動を前記第2洗浄手段に行わせる第2駆動手段と、
前記第1洗浄手段および前記第2洗浄手段のそれぞれの前記復路移動の移動速度が前記往路移動の移動速度よりも速くなるように前記第1駆動手段および前記第2駆動手段を制御する駆動制御手段と、
を備えることを特徴とする基板洗浄装置。 - 請求項1記載の基板洗浄装置において、
前記駆動制御手段は、前記第1洗浄手段および前記第2洗浄手段のそれぞれの前記上昇移動の移動速度が前記下降移動の移動速度よりも速くなるように前記第1駆動手段および前記第2駆動手段を制御することを特徴とする基板洗浄装置。 - 請求項1または請求項2に記載の基板洗浄装置において、
前記駆動制御手段は、前記第1洗浄手段および前記第2洗浄手段の前記循環移動の動作パターンを同一にするとともに、前記第1洗浄手段および前記第2洗浄手段が相互に干渉しないようにそれぞれの前記循環移動のタイミングをずらすことを特徴とする基板洗浄装置。 - 請求項1または請求項2に記載の基板洗浄装置において、
前記第1洗浄手段が前記往路移動中に所定位置を通過したことを検知する第1検知手段と、
前記第2洗浄手段が前記往路移動中に所定位置を通過したことを検知する第2検知手段と、
をさらに備え、
前記駆動制御手段は、前記第1洗浄手段が前記往路移動を行っているときに、前記第1検知手段が前記第1洗浄手段の前記所定位置通過を検知した時点で前記第2洗浄手段に前記復路移動を開始させるとともに、前記第2洗浄手段が前記往路移動を行っているときに、前記第2検知手段が前記第2洗浄手段の前記所定位置通過を検知した時点で前記第1洗浄手段に前記復路移動を開始させるように前記第1駆動手段および前記第2駆動手段を制御することを特徴とする基板洗浄装置。 - 請求項1から請求項4のいずれかに記載の基板洗浄装置において、
前記第1洗浄手段および前記第2洗浄手段は、前記往路移動中に基板の被洗浄面に当接または近接して該被洗浄面を洗浄する洗浄ブラシであることを特徴とする基板洗浄装置。 - 基板を回転させつつ洗浄処理を行う基板洗浄装置であって、
略水平面内にて基板を回転させる回転手段と、
前記回転手段によって回転される基板の被洗浄面を洗浄する複数の洗浄手段と、
前記複数の洗浄手段のそれぞれに、基板の回転中心から前記被洗浄面を洗浄しつつ略水平方向に沿って端縁部へと向かう往路移動および前記基板の端縁部から略水平方向に沿って前記回転中心へと向かう復路移動を行わせる駆動手段と、
前記複数の洗浄手段のそれぞれの前記復路移動の移動速度が前記往路移動の移動速度よりも速くなるように前記駆動手段を制御する駆動制御手段と、
を備えることを特徴とする基板洗浄装置。 - 請求項6記載の基板洗浄装置において、
前記駆動手段は、前記複数の洗浄手段のそれぞれに、前記往路移動の終点位置から略鉛直方向に沿って前記復路移動の始点位置に上昇する上昇移動および前記復路移動の終点位置から略鉛直方向に沿って前記往路移動の始点位置に下降する下降移動をさらに行わせ、
前記駆動制御手段は、前記複数の洗浄手段のそれぞれの前記上昇移動の移動速度が前記下降移動の移動速度よりも速くなるように前記駆動手段を制御することを特徴とする基板洗浄装置。 - 基板を回転させつつ洗浄処理を行う基板洗浄装置であって、
略水平面内にて基板を回転させる回転手段と、
前記回転手段によって回転される基板の被洗浄面を洗浄する洗浄手段と、
前記洗浄手段に、基板の回転中心から前記被洗浄面を洗浄しつつ略水平方向に沿って端縁部へと向かう往路移動および前記基板の端縁部から略水平方向に沿って前記回転中心へと向かう復路移動を行わせる駆動手段と、
前記洗浄手段の前記復路移動の移動速度が前記往路移動の移動速度よりも速くなるように前記駆動手段を制御する駆動制御手段と、
を備えることを特徴とする基板洗浄装置。 - 請求項8記載の基板洗浄装置において、
前記駆動手段は、前記洗浄手段に、前記往路移動の終点位置から略鉛直方向に沿って前記復路移動の始点位置に上昇する上昇移動および前記復路移動の終点位置から略鉛直方向に沿って前記往路移動の始点位置に下降する下降移動をさらに行わせ、
前記駆動制御手段は、前記洗浄手段の前記上昇移動の移動速度が前記下降移動の移動速度よりも速くなるように前記駆動手段を制御することを特徴とする基板洗浄装置。
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