JP2005213118A - 非晶質シリカ成形体およびその製造方法 - Google Patents
非晶質シリカ成形体およびその製造方法 Download PDFInfo
- Publication number
- JP2005213118A JP2005213118A JP2004024462A JP2004024462A JP2005213118A JP 2005213118 A JP2005213118 A JP 2005213118A JP 2004024462 A JP2004024462 A JP 2004024462A JP 2004024462 A JP2004024462 A JP 2004024462A JP 2005213118 A JP2005213118 A JP 2005213118A
- Authority
- JP
- Japan
- Prior art keywords
- amorphous
- silica powder
- slurry
- molded body
- spherical silica
- Prior art date
- Legal status (The legal status is an assumption and is not a legal conclusion. Google has not performed a legal analysis and makes no representation as to the accuracy of the status listed.)
- Granted
Links
Classifications
-
- C—CHEMISTRY; METALLURGY
- C03—GLASS; MINERAL OR SLAG WOOL
- C03B—MANUFACTURE, SHAPING, OR SUPPLEMENTARY PROCESSES
- C03B19/00—Other methods of shaping glass
- C03B19/06—Other methods of shaping glass by sintering, e.g. by cold isostatic pressing of powders and subsequent sintering, by hot pressing of powders, by sintering slurries or dispersions not undergoing a liquid phase reaction
-
- C—CHEMISTRY; METALLURGY
- C03—GLASS; MINERAL OR SLAG WOOL
- C03B—MANUFACTURE, SHAPING, OR SUPPLEMENTARY PROCESSES
- C03B19/00—Other methods of shaping glass
- C03B19/06—Other methods of shaping glass by sintering, e.g. by cold isostatic pressing of powders and subsequent sintering, by hot pressing of powders, by sintering slurries or dispersions not undergoing a liquid phase reaction
- C03B19/066—Other methods of shaping glass by sintering, e.g. by cold isostatic pressing of powders and subsequent sintering, by hot pressing of powders, by sintering slurries or dispersions not undergoing a liquid phase reaction for the production of quartz or fused silica articles
-
- C—CHEMISTRY; METALLURGY
- C03—GLASS; MINERAL OR SLAG WOOL
- C03B—MANUFACTURE, SHAPING, OR SUPPLEMENTARY PROCESSES
- C03B20/00—Processes specially adapted for the production of quartz or fused silica articles, not otherwise provided for
-
- Y—GENERAL TAGGING OF NEW TECHNOLOGICAL DEVELOPMENTS; GENERAL TAGGING OF CROSS-SECTIONAL TECHNOLOGIES SPANNING OVER SEVERAL SECTIONS OF THE IPC; TECHNICAL SUBJECTS COVERED BY FORMER USPC CROSS-REFERENCE ART COLLECTIONS [XRACs] AND DIGESTS
- Y02—TECHNOLOGIES OR APPLICATIONS FOR MITIGATION OR ADAPTATION AGAINST CLIMATE CHANGE
- Y02P—CLIMATE CHANGE MITIGATION TECHNOLOGIES IN THE PRODUCTION OR PROCESSING OF GOODS
- Y02P40/00—Technologies relating to the processing of minerals
- Y02P40/50—Glass production, e.g. reusing waste heat during processing or shaping
- Y02P40/57—Improving the yield, e-g- reduction of reject rates
Landscapes
- Chemical & Material Sciences (AREA)
- Engineering & Computer Science (AREA)
- Materials Engineering (AREA)
- Organic Chemistry (AREA)
- Dispersion Chemistry (AREA)
- Manufacturing & Machinery (AREA)
- Glass Melting And Manufacturing (AREA)
Abstract
【解決手段】平均粒径が各0.2〜0.7μm、4〜10μm及び40〜70μmの3種類の非晶質球状シリカ粉末を合計で70重量%以上含有する原料粉末と水等の分散媒と必要に応じて寒天等のバインダーとから泥漿を製造し、これを成形して得られた成形体を乾燥し焼成してなる非晶質シリカ成形体の製造法であり、この方法により、SiO2が99.5重量%以上、縦横高さが各400mm以上、壁厚が30mm以下の角槽形状を持ち、壁材の密度が1.92g/cm3以上、各部分での密度差が±0.04g/cm3以下、4点曲げ強度(JIS R 1601)が15MPa以上、圧縮強度(JIS R 1608)が100MPa以上である成形体を得ることができる。
【選択図】 選択図なし
Description
平均粒径0.7μmの非晶質球状シリカ粉末5wt%、平均粒径7μmの非晶質球状シリカ粉末60wt%、および平均粒径45μmの非晶質球状シリカ粉末35wt%の非晶質球状シリカ混合粉末70kgと寒天粉末210gとを、20L容量ポリエチレン丸型容器7個に等分に分けて、ボールミル荷台上で16時間回転しながら混合を行った。
平均粒径0.7μmの非晶質球状シリカ粉末3.5wt%、平均粒径7μmの非晶質球状シリカ粉末42wt%、および平均粒径45μmの非晶質球状シリカ粉末24.5wt%、粒径が70μmから475μmまで分布を持ち平均粒径が230μである非晶質破砕形状シリカ粉末30wt%から成る非晶質シリカ粉末70kgと寒天粉末210gを、20L容量ポリエチレン丸型容器7個に等分に分けて、ボールミル荷台上で16時間回転しながら混合を行った。
粒径が1μmから200μmのほぼ連続した粒度分布を持つ非晶質破砕形状シリカ粉末350gと粒径が70μmから475μmまで分布を持ち平均粒径が230μである非晶質破砕形状シリカ粉末150gと寒天粉末1.5gとを乾式混合した。
粒径が1μmから200μmのほぼ連続した粒度分布を持つ非晶質破砕形状シリカ粉末350gと粒径が70μmから475μmまで分布を持ち平均粒径が230μである非晶質破砕形状シリカ粉末150gと寒天粉末3gとを乾式混合した。
直径1.2m、高さ0.4mの水平円筒容器に1本の回転軸と、それぞれ2枚の撹拌羽を持つ2本の撹拌アームが回転軸に固定されている撹拌機(マゼラー社製、モルタルミキサー)に、水5kgを入れた。撹拌しながら、寒天バインダー粉末を含有しない、平均粒径0.7μmの非晶質球状シリカ粉末5wt%、平均粒径7μmの非晶質球状シリカ粉末60wt%および平均粒径45μmの非晶質球状シリカ粉末35wt%より成る非晶質球状シリカ混合粉末70kgを攪拌機に徐々に加えていく。
直径1.2m、高さ0.4mの水平円筒容器に1本の回転軸と、それぞれ2枚の撹拌羽を持つ2本の撹拌アームが回転軸に固定されている撹拌機(マゼラー社製、モルタルミキサー)に、水5kgを入れた。撹拌しながら、寒天バインダー粉末を含有しない、平均粒径0.7μmの非晶質球状シリカ粉末5wt%、平均粒径7μmの非晶質球状シリカ粉末60wt%および平均粒径45μmの非晶質球状シリカ粉末35wt%より成る非晶質球状シリカ混合粉末70kgを徐々に添加した。
Claims (9)
- SiO2成分が99.5wt%以上であり、槽形状を持ち、壁材の密度が1.92g/cm3以上の密度を持ち、各部分での密度差が±0.04g/cm3以下の密度均質性を持ち、4点曲げ強度(JIS R 1601)が15MPa以上、圧縮強度(JIS R 1608)が100MPa以上であることを特徴とする非晶質シリカ成形体。
- 焼成を行う前の成形体の密度が1.90g/cm3以上である請求項1記載の非晶質シリカ成形体。
- 直径5mm以上の気泡を含まないことを特徴とする請求項1または請求項2記載の非晶質シリカ成形体。
- 平均粒径が0.2〜0.7μmの非晶質球状シリカ粉末(微小球状シリカ粉末)と、平均粒径が4〜10μmの非晶質球状シリカ粉末(中粒径球状シリカ粉末)と、平均粒径が40〜70μmの非晶質球状シリカ粉末(粗粒径球状シリカ粉末)の3種類の非晶質球状シリカ混合粉末(ここで微小球状シリカ粉末と中粒径球状シリカ粉末と粗粒径球状シリカ粉末の混合割合はそれぞれ2〜20wt%、30〜60wt%、20〜50wt%ある)を少なくとも70重量%含有する原料粉末とバインダーを分散媒に添加して泥漿とし、それを成形して得られた成形体を乾燥し焼成することを特徴とする非晶質シリカ成形体の製造方法。
- 平均粒径が0.2〜0.7μmの非晶質球状シリカ粉末(微小球状シリカ粉末)、平均粒径が4〜10μmの非晶質球状シリカ粉末(中粒径球状シリカ粉末)と平均粒径が40〜70μmの非晶質球状シリカ粉末(粗粒径球状シリカ粉末)の3種類の非晶質球状シリカ混合粉末(ここで微小球状シリカ粉末と中粒径球状シリカ粉末と粗粒径球状シリカ粉末の混合割合はそれぞれ2〜20wt%、30〜60wt%、20〜50wt%ある)を少なくとも70重量%含有する原料粉末と、分散媒と、50℃以上の加熱処理によって泥漿中に溶解し、この加熱処理した泥漿を30℃以下に冷却することによって泥漿の粘度を増大させる作用を有するバインダー粉末を室温にて混合して泥漿を製造する第一工程、前記泥漿を非吸水性の材質よりなる鋳型に鋳込んだ後、鋳型を50℃以上に加熱処理し、続いて30℃以下に冷却して成形する第二工程、前記工程により得られた成形体を乾燥前に脱型し、目的形状を保った成形体を温度と湿度を調整した環境中で乾燥する第三工程、乾燥成形体を大気中で1300℃以下の温度で焼成する第四工程を含んだ工程からなる非晶質シリカ成形体の製造方法。
- 分散媒の量が、分散媒に添加される被添加物100重量部に対して10重量部以下である請求項4または請求項5記載の非晶質シリカ成形体の製造方法。
- 分散媒が水である請求項4〜6のいずれかに記載の非晶質シリカ成形体の製造方法。
- 30重量%未満の含有量で平均粒径が100〜400μmの非晶質破砕形状シリカ粉末を更に含んでなる原料粉末を用いる請求項4〜7のいずれかに記載の非晶質シリカ成形体の製造方法。
- 泥漿を非吸水性鋳型に鋳込む際に、泥漿を開放系において直径5mm以下に一旦絞り込んで泥漿中に巻き込まれた気泡を除去する請求項4〜8のいずれかに記載の非晶質シリカ成形体の製造方法。
Priority Applications (1)
Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
---|---|---|---|
JP2004024462A JP4504036B2 (ja) | 2004-01-30 | 2004-01-30 | 非晶質シリカ成形体およびその製造方法 |
Applications Claiming Priority (1)
Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
---|---|---|---|
JP2004024462A JP4504036B2 (ja) | 2004-01-30 | 2004-01-30 | 非晶質シリカ成形体およびその製造方法 |
Publications (2)
Publication Number | Publication Date |
---|---|
JP2005213118A true JP2005213118A (ja) | 2005-08-11 |
JP4504036B2 JP4504036B2 (ja) | 2010-07-14 |
Family
ID=34907140
Family Applications (1)
Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
---|---|---|---|
JP2004024462A Expired - Fee Related JP4504036B2 (ja) | 2004-01-30 | 2004-01-30 | 非晶質シリカ成形体およびその製造方法 |
Country Status (1)
Country | Link |
---|---|
JP (1) | JP4504036B2 (ja) |
Cited By (5)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
WO2007026680A1 (ja) * | 2005-08-31 | 2007-03-08 | Kurimoto, Ltd. | アモルファス酸化ケイ素粉末およびその製造方法 |
JP2010083690A (ja) * | 2008-09-30 | 2010-04-15 | Shinetsu Quartz Prod Co Ltd | シリカ容器及びその製造方法 |
JP2010138034A (ja) * | 2008-12-11 | 2010-06-24 | Shinetsu Quartz Prod Co Ltd | シリカ容器及びその製造方法 |
JP2010189205A (ja) * | 2009-02-16 | 2010-09-02 | Shinetsu Quartz Prod Co Ltd | シリカ容器及びその製造方法 |
JP2017036171A (ja) * | 2015-08-07 | 2017-02-16 | 東ソー株式会社 | 不透明シリカガラス製造用の高強度成形体 |
Citations (8)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
JPS62211107A (ja) * | 1986-03-12 | 1987-09-17 | 小田陶器株式会社 | セラミックス泥漿調製用脱泡撹拌機 |
JPH01119538A (ja) * | 1987-11-02 | 1989-05-11 | Mitsubishi Kasei Corp | 透明石英ガラス成形体の製造方法 |
JPH03159923A (ja) * | 1989-11-13 | 1991-07-09 | Nichia Chem Sangyo Kk | 石英ガラスの製造方法 |
JPH042625A (ja) * | 1990-04-19 | 1992-01-07 | Tosoh Corp | 高均質シリカガラスの製造方法 |
JPH04144928A (ja) * | 1990-10-04 | 1992-05-19 | Nichia Chem Ind Ltd | 石英ガラスの製造方法 |
JPH0524853A (ja) * | 1991-07-19 | 1993-02-02 | Tosoh Corp | 石英ガラスの製造方法 |
JPH06166564A (ja) * | 1992-11-30 | 1994-06-14 | Opt D D Melco Lab:Kk | 溶融シリカ質焼結体およびその製法 |
JPH0940434A (ja) * | 1995-07-28 | 1997-02-10 | Tosoh Corp | 高純度石英ガラス及びその製造方法 |
-
2004
- 2004-01-30 JP JP2004024462A patent/JP4504036B2/ja not_active Expired - Fee Related
Patent Citations (8)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
JPS62211107A (ja) * | 1986-03-12 | 1987-09-17 | 小田陶器株式会社 | セラミックス泥漿調製用脱泡撹拌機 |
JPH01119538A (ja) * | 1987-11-02 | 1989-05-11 | Mitsubishi Kasei Corp | 透明石英ガラス成形体の製造方法 |
JPH03159923A (ja) * | 1989-11-13 | 1991-07-09 | Nichia Chem Sangyo Kk | 石英ガラスの製造方法 |
JPH042625A (ja) * | 1990-04-19 | 1992-01-07 | Tosoh Corp | 高均質シリカガラスの製造方法 |
JPH04144928A (ja) * | 1990-10-04 | 1992-05-19 | Nichia Chem Ind Ltd | 石英ガラスの製造方法 |
JPH0524853A (ja) * | 1991-07-19 | 1993-02-02 | Tosoh Corp | 石英ガラスの製造方法 |
JPH06166564A (ja) * | 1992-11-30 | 1994-06-14 | Opt D D Melco Lab:Kk | 溶融シリカ質焼結体およびその製法 |
JPH0940434A (ja) * | 1995-07-28 | 1997-02-10 | Tosoh Corp | 高純度石英ガラス及びその製造方法 |
Cited By (7)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
WO2007026680A1 (ja) * | 2005-08-31 | 2007-03-08 | Kurimoto, Ltd. | アモルファス酸化ケイ素粉末およびその製造方法 |
US8178067B2 (en) | 2005-08-31 | 2012-05-15 | Kurimoto, Ltd. | Method of making amorphous silicon powder |
JP5100385B2 (ja) * | 2005-08-31 | 2012-12-19 | 勝義 近藤 | アモルファス酸化ケイ素粉末の製造方法 |
JP2010083690A (ja) * | 2008-09-30 | 2010-04-15 | Shinetsu Quartz Prod Co Ltd | シリカ容器及びその製造方法 |
JP2010138034A (ja) * | 2008-12-11 | 2010-06-24 | Shinetsu Quartz Prod Co Ltd | シリカ容器及びその製造方法 |
JP2010189205A (ja) * | 2009-02-16 | 2010-09-02 | Shinetsu Quartz Prod Co Ltd | シリカ容器及びその製造方法 |
JP2017036171A (ja) * | 2015-08-07 | 2017-02-16 | 東ソー株式会社 | 不透明シリカガラス製造用の高強度成形体 |
Also Published As
Publication number | Publication date |
---|---|
JP4504036B2 (ja) | 2010-07-14 |
Similar Documents
Publication | Publication Date | Title |
---|---|---|
JP2604592B2 (ja) | 金属、セラミック粉末等の成形方法及びそのための組成物 | |
JP4471223B2 (ja) | ガラス製造装置に用いられる耐クリープ性耐火材料 | |
Dhara et al. | Shape forming of ceramics via gelcasting of aqueous particulate slurries | |
JP2008508171A (ja) | 多孔質の、焼成されたセラミックス発泡体 | |
Vijayan et al. | Preparation of alumina foams by the thermo-foaming of powder dispersions in molten sucrose | |
CN1736861A (zh) | 高固体含量的SiO2分散液、其制造方法及用途 | |
Verweij et al. | Hollow glass microsphere composites: preparation and properties | |
JP2013199427A (ja) | 鋳造体、キャスタブル組成物、及びそれらの製造方法 | |
JP4504036B2 (ja) | 非晶質シリカ成形体およびその製造方法 | |
KR20040074014A (ko) | 산화이트륨 소결체 및 그 제조방법 | |
KR101514180B1 (ko) | 균일한 밀도를 가지는 세라믹체 제조방법 | |
CN113149671B (zh) | 轻质莫来石-氧化铝空心球-钛酸铝匣钵浇注成型工艺 | |
CN104086183A (zh) | 一种气孔率可控多孔Si3N4的制备方法 | |
JP2013155098A (ja) | アルミナ質焼結体及びその製造方法 | |
JP2022063147A (ja) | セラミックス成形体の製造方法 | |
JP4952484B2 (ja) | セラミック多孔体の製造方法とそれを用いて作製したセラミック多孔体および構造体 | |
JP3463885B2 (ja) | セラミック多孔体及びその製造方法 | |
KR100795339B1 (ko) | 세라믹 볼 제조방법 및 이를 이용한 알루미나 세라믹 볼베어링 | |
CN112778006B (zh) | 一种轻质莫来石匣钵及其制备方法和应用 | |
JPH01119538A (ja) | 透明石英ガラス成形体の製造方法 | |
JP5426224B2 (ja) | 寸法精度に優れたセラミック焼結体及びその製造方法 | |
JPH0725683A (ja) | 微細空隙を有する陶磁器およびその製造方法 | |
JP2020059617A (ja) | 焼結体とその製造方法 | |
JPH06166564A (ja) | 溶融シリカ質焼結体およびその製法 | |
JP2003095731A (ja) | アルミナ質焼結体の製造方法 |
Legal Events
Date | Code | Title | Description |
---|---|---|---|
A621 | Written request for application examination |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A621 Effective date: 20061221 |
|
A977 | Report on retrieval |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A971007 Effective date: 20090218 |
|
A131 | Notification of reasons for refusal |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A131 Effective date: 20090609 |
|
A521 | Written amendment |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A523 Effective date: 20090805 |
|
A131 | Notification of reasons for refusal |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A131 Effective date: 20091208 |
|
A521 | Written amendment |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A523 Effective date: 20100203 |
|
A131 | Notification of reasons for refusal |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A131 Effective date: 20100309 |
|
A521 | Written amendment |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A523 Effective date: 20100318 |
|
TRDD | Decision of grant or rejection written | ||
A01 | Written decision to grant a patent or to grant a registration (utility model) |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A01 Effective date: 20100413 |
|
A01 | Written decision to grant a patent or to grant a registration (utility model) |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A01 |
|
A61 | First payment of annual fees (during grant procedure) |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A61 Effective date: 20100422 |
|
R150 | Certificate of patent or registration of utility model |
Ref document number: 4504036 Country of ref document: JP Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: R150 Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: R150 |
|
FPAY | Renewal fee payment (event date is renewal date of database) |
Free format text: PAYMENT UNTIL: 20130430 Year of fee payment: 3 |
|
FPAY | Renewal fee payment (event date is renewal date of database) |
Free format text: PAYMENT UNTIL: 20130430 Year of fee payment: 3 |
|
FPAY | Renewal fee payment (event date is renewal date of database) |
Free format text: PAYMENT UNTIL: 20140430 Year of fee payment: 4 |
|
R250 | Receipt of annual fees |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: R250 |
|
R250 | Receipt of annual fees |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: R250 |
|
R250 | Receipt of annual fees |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: R250 |
|
R250 | Receipt of annual fees |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: R250 |
|
R250 | Receipt of annual fees |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: R250 |
|
R250 | Receipt of annual fees |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: R250 |
|
R250 | Receipt of annual fees |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: R250 |
|
R250 | Receipt of annual fees |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: R250 |
|
LAPS | Cancellation because of no payment of annual fees |