JP2005200700A - Vapor deposition apparatus, method for manufacturing electrooptical device and electronic equipment - Google Patents

Vapor deposition apparatus, method for manufacturing electrooptical device and electronic equipment Download PDF

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JP2005200700A JP2004008008A JP2004008008A JP2005200700A JP 2005200700 A JP2005200700 A JP 2005200700A JP 2004008008 A JP2004008008 A JP 2004008008A JP 2004008008 A JP2004008008 A JP 2004008008A JP 2005200700 A JP2005200700 A JP 2005200700A
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Hidekazu Kobayashi
英和 小林
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Abstract

<P>PROBLEM TO BE SOLVED: To provide a vapor deposition apparatus through the inspection hole of which a vapor deposition source or a substrate to be vapor deposited placed in a vapor deposition tank can be observed, without cleaning the inspection hole for a long period, to provide a method for manufacturing an electrooptical device, and to provide electronic equipment. <P>SOLUTION: This vapor deposition apparatus comprises: a vapor deposition tank 11; a inspection hole 13 of a window for inspecting the vapor deposition source 12 placed in the vapor deposition tank 11 from outside the vapor deposition tank 11 therethrough; a deposition shield 16 of a deposition-preventing means placed on a straight line between the vapor deposition source 12 and the inspection hole 13; and a mirror 15 for reflecting a light 3 emitted from the vapor deposition source 12 toward the inspection hole 13. <P>COPYRIGHT: (C)2005,JPO&NCIPI

Description

本発明は、蒸着装置、電気光学装置の製造方法及び電子機器に関するものである。   The present invention relates to a vapor deposition apparatus, a method for manufacturing an electro-optical device, and an electronic apparatus.

従来、半導体基板に薄膜を形成する装置としては蒸着装置があった。蒸着装置は、真空容器をなす蒸着槽内に蒸着源と基板（被蒸着基板）を配置し、蒸着源を加熱することによって蒸着物質を蒸発させ、その蒸着物質を基板上に堆積させるものである。ここで、蒸着漕内に配置された蒸着源及び被蒸着基板の状態を確認するために、蒸着漕の外側からその内部の蒸着源などを観察することが必要となる。従来、蒸着槽の内部を外部から観察するための手段としては、ガラス板を蒸着槽の側壁に取り付けた覗き窓が使用されている。そのガラス板へ蒸着物質などが付着するのを防止するために、シャッター又はシールドを備えたものもある（例えば、特許文献１参照）。
特開平５−７０９４６号公報 Conventionally, there has been a vapor deposition apparatus as an apparatus for forming a thin film on a semiconductor substrate. In the vapor deposition apparatus, a vapor deposition source and a substrate (substrate to be vapor deposited) are arranged in a vapor deposition tank that forms a vacuum vessel, the vapor deposition material is evaporated by heating the vapor deposition source, and the vapor deposition material is deposited on the substrate. . Here, in order to confirm the state of the vapor deposition source and the substrate to be vapor-deposited arranged in the vapor deposition bowl, it is necessary to observe the vapor deposition source inside the vapor deposition bowl from the outside. Conventionally, as a means for observing the inside of the vapor deposition tank from the outside, a viewing window in which a glass plate is attached to the side wall of the vapor deposition tank has been used. Some of them are provided with a shutter or a shield in order to prevent deposition materials or the like from adhering to the glass plate (see, for example, Patent Document 1).
Japanese Patent Laid-Open No. 5-70946

しかしながら、上記特許文献１に記載されているような従来の蒸着装置では、シールドなどを介して蒸着槽の内部を見るので、そのシールドの表面及び縁に蒸着物質が付着してしまい、比較的短時間で蒸着槽の内部が見えなくなってしまう。すなわち、従来の蒸着装置では、短時間ごとに、覗き窓のガラス板、シャッター又はシールドなどをクリーニングする必要があり、長期間にわたってメンテナンスフリーのものは無かった。また、従来の蒸着装置におけるガラス板へ蒸着物質などが付着するのを防止する構成は、複雑な構造であり、装置の製造コストを上げてしまうという問題点もあった。   However, in the conventional vapor deposition apparatus as described in Patent Document 1, since the inside of the vapor deposition tank is viewed through a shield or the like, the vapor deposition substance adheres to the surface and the edge of the shield, which is relatively short. The inside of the vapor deposition tank disappears with time. That is, in the conventional vapor deposition apparatus, it is necessary to clean the glass plate, shutter, or shield of the observation window every short time, and there has been no maintenance-free apparatus over a long period of time. In addition, the structure for preventing the deposition material or the like from adhering to the glass plate in the conventional vapor deposition apparatus has a complicated structure, which raises the problem of increasing the manufacturing cost of the apparatus.

本発明は、上記事情に鑑みてなされたもので、覗き窓を掃除することなく、長期間に渡り蒸着槽内の蒸着源又は被蒸着基板を観察することができる蒸着装置、電気光学装置の製造方法及び電子機器を提供することを目的とする。
また、本発明は、簡素な構成でありながら、長期間に渡ってメンテナンスすることなく良好に蒸着槽内の蒸着源又は被蒸着基板を観察することができる蒸着装置、電気光学装置の製造方法及び電子機器を提供することを目的とする。 The present invention has been made in view of the above circumstances, and manufacture of a vapor deposition apparatus and an electro-optical device capable of observing a vapor deposition source or a deposition target substrate in a vapor deposition tank over a long period of time without cleaning a viewing window. It is an object to provide a method and an electronic device.
Further, the present invention provides a vapor deposition apparatus capable of observing a vapor deposition source or a vapor deposition substrate in a vapor deposition tank satisfactorily without maintenance for a long period of time while having a simple configuration, a method for manufacturing an electro-optical device, and An object is to provide electronic equipment.

上記目的を達成するために、本発明の蒸着装置は、蒸着槽と、前記蒸着槽内に配置された蒸着源を該蒸着槽の外側から覗くときの窓となる覗き窓と、前記蒸着源と覗き窓とを結ぶ直線上に配置された防着手段と、前記蒸着源から出射された光を前記覗き窓の方向に反射させる反射体とを有することを特徴とする。
本発明によれば、蒸着源から出射された光は反射体（ミラー）によって反射され覗き窓に到達することができる。すなわち、蒸着槽の外側から覗き窓を覗くことにより、蒸着槽内の蒸着源を観察することができる。ここで、蒸着源から出射された蒸着物質は覗き窓の方向にも出射されるが、その方向に出射された蒸着物質は防着手段によって遮られ覗き窓には到達しない。したがって、本発明の蒸着装置は、覗き窓に蒸着物質が付着することを防着手段により回避することができるので、覗き窓を掃除することなく、長期間に渡り蒸着槽内の蒸着源を観察することができる。 In order to achieve the above object, the vapor deposition apparatus of the present invention includes a vapor deposition tank, a viewing window that serves as a window when the vapor deposition source disposed in the vapor deposition tank is viewed from outside the vapor deposition tank, and the vapor deposition source. It has an adhesion preventing means arranged on a straight line connecting the viewing window, and a reflector for reflecting the light emitted from the vapor deposition source in the direction of the viewing window.
According to the present invention, the light emitted from the vapor deposition source can be reflected by the reflector (mirror) and reach the viewing window. That is, the vapor deposition source in the vapor deposition tank can be observed by looking into the viewing window from the outside of the vapor deposition tank. Here, the vapor deposition material emitted from the vapor deposition source is also emitted in the direction of the viewing window, but the vapor deposition material emitted in that direction is blocked by the deposition preventing means and does not reach the viewing window. Therefore, the vapor deposition apparatus of the present invention can prevent the deposition material from adhering to the viewing window by the adhesion preventing means, so that the deposition source in the vapor deposition tank can be observed over a long period of time without cleaning the viewing window. can do.

また、本発明の蒸着装置は、前記反射体及び防着手段が、前記蒸着源から出射され該反射体で反射された光が前記覗き窓に到達するように配置されていることが好ましい。
本発明によれば、蒸着源から出射された光は反射体で反射され、その反射光は防着手段で遮られることなく覗き窓に到達することができる。したがって、蒸着源から出射された蒸着物質は、反射体の反射面及び防着手段には付着するが、覗き窓に付着することはない。反射体の反射面に蒸着物質が付着しても、かかる蒸着物質は一般に非常に微細な物体として反射面に付着するので、その反射面の平滑性に影響を与えず、反射状態に実効的な影響を与えない。これらにより、本発明によれば、覗き窓を掃除することなく、長期間に渡り蒸着槽内の蒸着源を観察できる蒸着装置を提供することができる。 Moreover, it is preferable that the vapor deposition apparatus of this invention is arrange | positioned so that the said reflector and the adhesion prevention means may be the light which radiate | emitted from the said vapor deposition source, and was reflected by this reflector reaches | attains the said observation window.
According to the present invention, the light emitted from the vapor deposition source is reflected by the reflector, and the reflected light can reach the viewing window without being blocked by the deposition preventing means. Therefore, the vapor deposition material emitted from the vapor deposition source adheres to the reflecting surface of the reflector and the deposition preventing means, but does not adhere to the viewing window. Even if the vapor deposition material adheres to the reflective surface of the reflector, the vapor deposition material generally adheres to the reflective surface as a very fine object, so it does not affect the smoothness of the reflective surface and is effective in the reflective state. Does not affect. By these, according to this invention, the vapor deposition apparatus which can observe the vapor deposition source in a vapor deposition tank over a long period of time can be provided, without cleaning an inspection window.

また、本発明の蒸着装置は、前記防着手段が覗き窓から直接に蒸着源を見ることを遮る防着板からなることが好ましい。
本発明によれば、防着手段が蒸着物質についての遮蔽板として機能するので、簡素な構成としながら、覗き窓を掃除することなく、長期間に渡り蒸着槽内の蒸着源を観察できる蒸着装置を提供することができる。 Moreover, it is preferable that the vapor deposition apparatus of this invention consists of a deposition board which blocks | prevents the said adhesion prevention means seeing a vapor deposition source directly from a viewing window.
According to the present invention, since the deposition means functions as a shielding plate for the vapor deposition material, the vapor deposition apparatus can observe the vapor deposition source in the vapor deposition tank over a long period of time without cleaning the viewing window while having a simple configuration. Can be provided.

また、本発明の蒸着装置は、前記防着手段が前記蒸着槽の側壁を貫通するように配置された筒状構造物からなるポートであり、前記覗き窓は前記ポートの内周又は一端に取り付けられていることが好ましい。
本発明によれば、例えばガラス板などからなる覗き窓を筒状構造物のポートにより蒸着槽の側壁に取り付けることができ、そのポートが防着手段としても機能して覗き窓に蒸着物質が付着することを回避することができる。したがって、簡素な構成としながら、覗き窓を掃除することなく、長期間に渡り蒸着槽内の蒸着源を観察できる蒸着装置を提供することができる。 Further, the vapor deposition apparatus of the present invention is a port made of a cylindrical structure in which the adhesion preventing means is disposed so as to penetrate the side wall of the vapor deposition tank, and the viewing window is attached to the inner periphery or one end of the port. It is preferable that
According to the present invention, a viewing window made of, for example, a glass plate can be attached to the side wall of the vapor deposition tank by a port of a cylindrical structure, and the port also functions as an adhesion preventing means so that the vapor deposition substance adheres to the viewing window. Can be avoided. Therefore, it is possible to provide a vapor deposition apparatus capable of observing the vapor deposition source in the vapor deposition tank over a long period of time without cleaning the viewing window while having a simple configuration.

また、本発明の蒸着装置は、前記ポートの側面及び前記蒸着槽の側壁の少なくとも一方の一部が、前記蒸着源と覗き窓とを結ぶ直線上に配置されていることが好ましい。
本発明によれば、ポートの側面又は蒸着槽の側壁の一部が覗き窓と蒸着源との結ぶ直線上に配置され、これにより覗き窓に蒸着物質が付着すること防ぐことができる。 In the vapor deposition apparatus of the present invention, it is preferable that a part of at least one of the side surface of the port and the side wall of the vapor deposition tank is disposed on a straight line connecting the vapor deposition source and the viewing window.
According to the present invention, the side surface of the port or a part of the side wall of the vapor deposition tank is arranged on a straight line connecting the viewing window and the vapor deposition source, thereby preventing the deposition material from adhering to the viewing window.

また、本発明の蒸着装置は、前記反射体が複数設けられており、前記蒸着源から出射された光が複数の前記反射体で順次反射して前記覗き窓に到達するように、複数の該反射体が配置されていることが好ましい。
本発明によれば、蒸着槽内に複数の反射体を配置して、蒸着源から出射された光が防着手段を迂回して覗き窓に到達するように、各反射体を配置することができる。このようにすると、覗き窓、防着手段、蒸着源及び被蒸着基板の配置の自由度を向上させることができる。そこで、例えば、被蒸着基板の裏側に覗き窓を配置することにより、被蒸着基板を防着手段として機能させることができ、簡素な構成としながら、覗き窓を掃除することなく、長期間に渡り蒸着槽内の蒸着源を観察できる蒸着装置を提供することができる。 Further, the vapor deposition apparatus of the present invention is provided with a plurality of the reflectors, so that the light emitted from the vapor deposition source is sequentially reflected by the plurality of reflectors and reaches the viewing window. It is preferable that a reflector is disposed.
According to the present invention, it is possible to arrange a plurality of reflectors in the vapor deposition tank and arrange each reflector so that the light emitted from the vapor deposition source bypasses the deposition preventing means and reaches the viewing window. it can. If it does in this way, the freedom degree of arrangement | positioning of a viewing window, a deposition means, a vapor deposition source, and a vapor deposition substrate can be improved. Therefore, for example, by arranging a viewing window on the back side of the deposition target substrate, the deposition target substrate can be made to function as an adhesion preventing means. A vapor deposition apparatus capable of observing the vapor deposition source in the vapor deposition tank can be provided.

また、本発明の蒸着装置は、前記反射体が、前記蒸着槽内に配置され蒸着対象とされる基板から出射された光を、前記覗き窓の方向に反射させる機能も有することが好ましい。
本発明によれば、覗き窓には蒸着源から出射された光と被蒸着基板から出射された光とが到達するので、覗き窓を覗くことにより一度に蒸着源及び被蒸着基板の両方を観察することができる。 In the vapor deposition apparatus of the present invention, it is preferable that the reflector has a function of reflecting light emitted from a substrate disposed in the vapor deposition tank and to be vapor deposited, in the direction of the viewing window.
According to the present invention, the light emitted from the vapor deposition source and the light emitted from the vapor deposition substrate reach the viewing window, so that both the vapor deposition source and the vapor deposition substrate are observed at once by looking through the viewing window. can do.

また、本発明の蒸着装置は、前記反射体の反射方向を変更する反射方向変更手段を有することが好ましい。ここで、前記反射方向変更手段は、前記蒸着源から出射された光を前記覗き窓の方向に反射させように、前記反射体の向きを変える第１動作と、前記基板から出射された光を前記覗き窓の方向に反射させように、該反射体の向きを変える第２動作とを実行可能なものであることが好ましい。
本発明によれば、反射方向変更手段に第１動作をさせることにより覗き窓から蒸着源を観察でき、第２動作をさせることにより覗き窓から被蒸着基板を観察することができる。したがって、本発明の蒸着装置は、簡便な操作で迅速に且つ良好に蒸着源と被蒸着基板との両方を観察することができる。また、反射方向変更手段によって反射体の向きを微調整して、正確に蒸着源又は被蒸着基板を観察することもできる。 Moreover, it is preferable that the vapor deposition apparatus of this invention has a reflection direction change means to change the reflection direction of the said reflector. Here, the reflection direction changing means changes the direction of the reflector so as to reflect the light emitted from the vapor deposition source in the direction of the viewing window, and the light emitted from the substrate. It is preferable that the second operation of changing the orientation of the reflector so as to reflect in the direction of the viewing window can be executed.
According to the present invention, the deposition source can be observed from the viewing window by causing the reflection direction changing means to perform the first operation, and the deposition target substrate can be observed from the viewing window by performing the second operation. Therefore, the vapor deposition apparatus of the present invention can observe both the vapor deposition source and the vapor deposition substrate quickly and satisfactorily with a simple operation. In addition, the direction of the reflector can be finely adjusted by the reflection direction changing means to accurately observe the vapor deposition source or the vapor deposition substrate.

また、本発明の蒸着装置は、前記反射方向変更手段が、蒸着源から出射された光が前記反射体の反射面に入射しないように、該反射体の向きを変える第３動作を実行可能なものであることが好ましい。
本発明によれば、例えば蒸着源又は被蒸着基板を観察しないときは反射体の反射面を蒸着源方向とは逆方向に向かせることにより、その反射面に蒸着物質が付着する量を減らすことができる。したがって、本発明の蒸着装置によれば、より長期間に渡って蒸着槽内の蒸着源などを良好に観察することができる。 In the vapor deposition apparatus of the present invention, the reflection direction changing means can execute a third operation for changing the direction of the reflector so that the light emitted from the vapor deposition source does not enter the reflection surface of the reflector. It is preferable.
According to the present invention, for example, when the deposition source or the substrate to be deposited is not observed, the amount of deposition material adhering to the reflecting surface is reduced by directing the reflecting surface of the reflector in the direction opposite to the direction of the deposition source. Can do. Therefore, according to the vapor deposition apparatus of the present invention, it is possible to satisfactorily observe the vapor deposition source in the vapor deposition tank over a longer period of time.

また、本発明の蒸着装置は、前記反射体が複数の反射面を有し、各反射面は反射方向を変更可能となっており、前記複数の反射面において、少なくとも一の反射面は、前記蒸着源から出射された光を前記覗き窓の方向に反射させる向きに設定されており、他の反射面は、該蒸着源から出射された光が直接入射しない向きに設定されていることが好ましい。
本発明によれば、例えばポリゴンミラーのように複数の反射面を有するミラーを前記反射体として用い、複数の反射面における一の反射面を用いて蒸着源から出射された光を覗き窓の方向に導くことができる。このとき、他の反射面は、蒸着源から見て一の反射面の影となり、蒸着物質が付着することを回避できる。例えば、その一の反射面に蒸着物質が付着したことなどで該反射面の反射状態が不良になったときは、ポリゴンミラーを回転させ、他の反射面（蒸着物質が付着してない面）で蒸着源から出射された光を覗き窓の方向に導くようにすることができる。したがって、本発明によれば、さらに長い期間に渡って蒸着槽内の蒸着源などを良好に観察することができる。 Further, in the vapor deposition device of the present invention, the reflector has a plurality of reflecting surfaces, and each reflecting surface can change a reflecting direction, and in the plurality of reflecting surfaces, at least one reflecting surface is It is preferable that the light emitted from the vapor deposition source is set in a direction in which the light emitted from the vapor deposition source is reflected in the direction of the viewing window, and the other reflecting surface is set in a direction in which the light emitted from the vapor deposition source is not directly incident. .
According to the present invention, for example, a mirror having a plurality of reflecting surfaces such as a polygon mirror is used as the reflector, and the light emitted from the vapor deposition source using one reflecting surface of the plurality of reflecting surfaces is viewed in the direction of the viewing window. Can lead to. At this time, the other reflective surface becomes a shadow of the one reflective surface when viewed from the vapor deposition source, and it is possible to avoid deposition of the vapor deposition material. For example, when the reflective state of the reflective surface becomes defective due to the deposition material adhering to that one reflective surface, the polygon mirror is rotated to another reflective surface (a surface on which no vapor deposition material is adhered). Thus, the light emitted from the vapor deposition source can be guided toward the viewing window. Therefore, according to the present invention, it is possible to satisfactorily observe the vapor deposition source in the vapor deposition tank over a longer period.

また、本発明の蒸着装置は、前記反射体の反射面を加熱する加熱手段を有することが好ましい。
本発明によれば、加熱手段により反射体の反射面を例えば２００℃から３００℃に加熱することで、その反射面に付着した蒸着物質をその面から除去することができ、反射面をクリーニングすることができる。 Moreover, it is preferable that the vapor deposition apparatus of this invention has a heating means to heat the reflective surface of the said reflector.
According to the present invention, the reflective surface of the reflector is heated from, for example, 200 ° C. to 300 ° C. by the heating means, whereby the vapor deposition material attached to the reflective surface can be removed from the surface, and the reflective surface is cleaned. be able to.

また、本発明の蒸着装置は、蒸着源から放出された所定の蒸着物質が該反射体の反射面に付着することにより、該反射面の反射率を向上可能なものからなることが好ましい。
本発明によれば、例えば蒸着源としてアルミニウムを用い、そのアルミニウムが前記反射体の反射膜に蒸着することにより、その反射体の反射状態を改善させることができる。ここで、蒸着槽内に複数の蒸着源を配置可能として、反射体の反射状態が悪くなったときに、基板に膜を形成する蒸着源から反射状態改善用の蒸着源（例えばアルミニウム）に切り替えることが好ましい。このようにすると、蒸着槽内の真空状態を一定にしたままで、反射体の反射状態を改善させることができる。 Moreover, it is preferable that the vapor deposition apparatus of this invention consists of what can improve the reflectance of this reflective surface, when the predetermined vapor deposition substance discharge | released from the vapor deposition source adheres to the reflective surface of this reflector.
According to the present invention, for example, aluminum is used as a deposition source, and the aluminum is deposited on the reflective film of the reflector, whereby the reflection state of the reflector can be improved. Here, a plurality of vapor deposition sources can be arranged in the vapor deposition tank, and when the reflection state of the reflector is deteriorated, the vapor deposition source for forming a film on the substrate is switched to a vapor deposition source for improving the reflection state (for example, aluminum). It is preferable. If it does in this way, the reflective state of a reflector can be improved, keeping the vacuum state in a vapor deposition tank constant.

また、本発明の電気光学装置の製造方法は、前記蒸着装置を用いて電気光学装置を製造することを特徴とする。
本発明によれば、蒸着槽内の蒸着源などを、簡便にかつ良好に確認しながら電気光学装置をなす基板に薄膜を蒸着させることができるので、高品質な電気光学装置を低コストで製造することができる。 According to another aspect of the invention, there is provided a method for manufacturing an electro-optical device, wherein the electro-optical device is manufactured using the vapor deposition apparatus.
According to the present invention, it is possible to deposit a thin film on a substrate forming an electro-optical device while simply and well confirming a vapor deposition source in a vapor deposition tank, so that a high-quality electro-optical device is manufactured at low cost. can do.

また、本発明の電子機器は、前記電気光学装置を備えたことを特徴とする。
本発明によれば、高品位な画像を表示できる電子機器を低コストで提供することができる。 According to another aspect of the invention, an electronic apparatus includes the electro-optical device.
ADVANTAGE OF THE INVENTION According to this invention, the electronic device which can display a high quality image can be provided at low cost.

以下、本発明の実施形態に係る蒸着装置について、図面を参照して説明する。本実施形態の蒸着装置は、被蒸着基板に薄膜を形成するときに用いられるものであり、蒸着槽内の蒸着源などを良好に観察できる構成となっている。   Hereinafter, an evaporation apparatus according to an embodiment of the present invention will be described with reference to the drawings. The vapor deposition apparatus of this embodiment is used when forming a thin film on a vapor deposition substrate, and has a configuration in which a vapor deposition source and the like in a vapor deposition tank can be observed well.

（第１実施形態）
図１は、本発明の第１実施形態に係る蒸着装置を示す模式断面図である。本実施形態の蒸着装置１０は、蒸着槽１１と、蒸着源１２と、覗き窓１３と、ポート１４と、反射体をなすミラー１５と、防着手段をなす防着板１６とを有して構成されている。蒸着槽１１の内部には、被蒸着基板１が配置されている。被蒸着基板１は、その表面に蒸着によって薄膜が形成されるものである。そして、被蒸着基板１としては、例えば、電気光学装置である有機ＥＬ装置の製造過程で用いられる基板が適用される。蒸着槽１１は、いわゆる真空容器をなしており、吸引手段（図示せず）により蒸着槽１１内の気体などを排気できる構成となっている。 (First embodiment)
FIG. 1 is a schematic cross-sectional view showing a vapor deposition apparatus according to the first embodiment of the present invention. The vapor deposition apparatus 10 of this embodiment includes a vapor deposition tank 11, a vapor deposition source 12, a viewing window 13, a port 14, a mirror 15 that constitutes a reflector, and an adhesion prevention plate 16 that constitutes an adhesion prevention means. It is configured. A vapor deposition substrate 1 is disposed inside the vapor deposition tank 11. The deposition target substrate 1 has a thin film formed on the surface thereof by vapor deposition. As the deposition substrate 1, for example, a substrate used in the manufacturing process of an organic EL device that is an electro-optical device is applied. The vapor deposition tank 11 is a so-called vacuum container, and is configured such that the gas in the vapor deposition tank 11 can be exhausted by a suction means (not shown).

蒸着源１２は、蒸着槽１１内の底部に置かれた蒸着ボート内に入れられている。そして蒸着源１２は、加熱されることで蒸発し、蒸着ボートから蒸着物質２となって放出される。その蒸着物質２は、被蒸着基板１の表面に蒸着し、電気光学装置などの構成要素をなす薄膜を形成する。蒸着源１２としては、例えば、有機ＥＬ装置の有機層又は金属層をなす物質を適用することができる。具体的には、被蒸着基板１に有機ＥＬ装置の正孔注入層を形成する場合、蒸着源１２としては、銅フタロシアニン（ＣｕＰｃ）や、ポリテトラヒドロチオフェニルフェニレンであるポリフェニレンビニレン、１，１−ビス−（４−Ｎ，Ｎ−ジトリルアミノフェニル）シクロヘキサン、トリス（８−ヒドロキシキノリノール）アルミニウム等が挙げられるが、特に銅フタロシアニン（ＣｕＰｃ）を用いるのが好ましい。また、被蒸着基板１に有機ＥＬ装置の陰極を形成する場合、蒸着源１２としては、アルミニウム（Ａｌ）やマグネシウム（Ｍｇ）、金（Ａｕ）、銀（Ａｇ）等からなる金属が挙げられる。   The vapor deposition source 12 is placed in a vapor deposition boat placed at the bottom of the vapor deposition tank 11. The vapor deposition source 12 evaporates when heated, and is released as a vapor deposition material 2 from the vapor deposition boat. The vapor deposition material 2 is vapor-deposited on the surface of the deposition target substrate 1 to form a thin film constituting a component such as an electro-optical device. As the vapor deposition source 12, for example, a material forming an organic layer or a metal layer of an organic EL device can be applied. Specifically, when forming the hole injection layer of the organic EL device on the deposition target substrate 1, the deposition source 12 includes copper phthalocyanine (CuPc), polytetravinylthiolphenylene polyphenylene vinylene, 1,1- Bis- (4-N, N-ditolylaminophenyl) cyclohexane, tris (8-hydroxyquinolinol) aluminum and the like can be mentioned, and it is particularly preferable to use copper phthalocyanine (CuPc). Further, when forming the cathode of the organic EL device on the deposition target substrate 1, examples of the deposition source 12 include metals made of aluminum (Al), magnesium (Mg), gold (Au), silver (Ag), and the like.

覗き窓１３は、蒸着槽１１内に配置された蒸着源１２を蒸着槽１１の外側から覗くときの窓となるものであり、例えばガラス板からなる。そして覗き窓１３は、ポート１４を介して蒸着槽１１の側壁に取り付けられている。覗き窓１３は、透明なものであればよく、ガラス以外のもので構成してもよい。ポート１４は、筒形状の構造物からなり、蒸着槽１１の側壁を貫通するように設けられている。ポート１４の内周には覗き窓１３が取り付けられており、その内周を気体などが通ることは覗き窓１３によって遮断されている。すなわち、蒸着槽１１内の気体などは覗き窓１３又はポート１４を介して外部に流出又は流入しない構成となっている。   The viewing window 13 serves as a window when the deposition source 12 arranged in the deposition tank 11 is viewed from the outside of the deposition tank 11, and is made of, for example, a glass plate. The viewing window 13 is attached to the side wall of the vapor deposition tank 11 through the port 14. The observation window 13 may be transparent and may be made of a material other than glass. The port 14 is formed of a cylindrical structure and is provided so as to penetrate the side wall of the vapor deposition tank 11. A viewing window 13 is attached to the inner periphery of the port 14, and the passage of gas or the like through the inner periphery is blocked by the viewing window 13. That is, the gas in the vapor deposition tank 11 does not flow out or flow into the outside through the viewing window 13 or the port 14.

防着板１６は、蒸着源１２と覗き窓１３とを結ぶ直線上に配置されている板である。蒸着源１２からは覗き窓１３の方向にも蒸着物質２が出射されるが、その蒸着物質２は防着板１６によって遮られ覗き窓１３には到達しない。換言すれば防着板１６は、覗き窓１３から直接に蒸着源１２を見ることを遮る板をなす。ここで、蒸着源１２から出射された蒸着物質２は真っ直ぐに進み、回り込みなどは殆ど生じない。防着板１６の材質としては、任意のものを適用でき、金属、非金属、透明、不透明などあらゆるものが適用できる。ただし、蒸着源１２の近傍は高温となるので、防着板１６は熱的に安定な材料からなるものが好ましい。   The deposition preventing plate 16 is a plate arranged on a straight line connecting the vapor deposition source 12 and the viewing window 13. Although the vapor deposition material 2 is emitted from the vapor deposition source 12 in the direction of the viewing window 13, the vapor deposition material 2 is blocked by the deposition preventing plate 16 and does not reach the viewing window 13. In other words, the deposition preventing plate 16 is a plate that blocks the direct viewing of the vapor deposition source 12 from the viewing window 13. Here, the vapor deposition material 2 emitted from the vapor deposition source 12 advances straight, and hardly wraps around. Any material can be applied as the material for the deposition preventing plate 16, and any material such as metal, non-metal, transparent, and opaque can be applied. However, since the vicinity of the vapor deposition source 12 becomes high temperature, the deposition preventing plate 16 is preferably made of a thermally stable material.

ミラー１５は、蒸着源１２から出射された光３を覗き窓１３の方向に反射させる反射体をなすものである。ミラー１５は、表面が鏡面状に平滑に形成された反射面を有するものであればよく。ミラー１５の反射面は、光についての反射率が高いことが好ましい。蒸着源１２から出射された光３はミラー１５で反射され、その反射光４は覗き窓１３に到達する。
ここで、防着板１６は、反射光４の光路を遮らないように、ミラー１５と覗き窓１３とを結ぶ直線上以外の位置に配置されている。また、ミラー１５は、蒸着ボート内に入れられた蒸着源１２が直接見える位置であって、反射光４が防着板１６で遮られることとはならない位置に配置されている。 The mirror 15 forms a reflector that reflects the light 3 emitted from the vapor deposition source 12 in the direction of the viewing window 13. The mirror 15 should just have the reflective surface by which the surface was smoothly formed in the mirror surface shape. The reflecting surface of the mirror 15 preferably has a high reflectance with respect to light. The light 3 emitted from the vapor deposition source 12 is reflected by the mirror 15, and the reflected light 4 reaches the viewing window 13.
Here, the deposition preventing plate 16 is disposed at a position other than a straight line connecting the mirror 15 and the viewing window 13 so as not to block the optical path of the reflected light 4. Further, the mirror 15 is disposed at a position where the vapor deposition source 12 placed in the vapor deposition boat can be directly seen, and the reflected light 4 is not blocked by the deposition preventing plate 16.

これにより、本実施形態の蒸着装置１０は、蒸着槽１１の外側から観察者などが覗き窓１３を覗くことにより、ミラー１５を介して、蒸着槽１１内の蒸着源１２を観察することができる。したがって、蒸着源１２が良好に蒸発しているか、蒸着源１２が入れられている蒸着ボートが破損していないかなどを確認することができる。そして、覗き窓１３に蒸着物質２が到達することは防着板１６によって良好に防ぐことができる。また、ミラー１５の反射面にも蒸着物質２が付着するが、かかる蒸着物質２は一般に非常に微細な物体として反射面に付着するので、その反射面の平滑性に影響を与えず、ミラー１５の反射状態に実効的な影響を与えない。したがって、本蒸着装置１０は、覗き窓１３に蒸着物質２が付着することを防着板１６により回避することができるので、覗き窓１３を掃除することなく、長期間に渡り蒸着槽１１内の蒸着源１２を良好に観察することができる。   Thereby, the vapor deposition apparatus 10 of this embodiment can observe the vapor deposition source 12 in the vapor deposition tank 11 through the mirror 15, when an observer etc. look into the viewing window 13 from the outer side of the vapor deposition tank 11. . Therefore, it can be confirmed whether the vapor deposition source 12 is well evaporated, whether the vapor deposition boat in which the vapor deposition source 12 is placed is damaged, or the like. Then, it is possible to satisfactorily prevent the deposition material 2 from reaching the viewing window 13 by the deposition preventing plate 16. The vapor deposition material 2 also adheres to the reflective surface of the mirror 15, but since the vapor deposition material 2 generally adheres to the reflective surface as a very fine object, the mirror 15 does not affect the smoothness of the reflective surface. It has no effective effect on the reflection state. Therefore, since the deposition apparatus 10 can avoid the deposition material 2 from adhering to the viewing window 13 by the deposition preventing plate 16, the inside of the deposition tank 11 can be kept for a long time without cleaning the viewing window 13. The vapor deposition source 12 can be observed well.

（第２実施形態）
次に、本発明の第２実施形態に係る蒸着装置について図２を参照して説明する。図２は本発明の第２実施形態に係る蒸着装置を示す模式断面図である。図１に示す第１実施形態の蒸着装置の構成要素と同一のものには同一符号を付している。本実施形態の蒸着装置２０は、蒸着槽１１と、蒸着源１２と、覗き窓１３と、ポート２４と、反射体をなすミラー２５と、ミラー２５を回動自在に支持する支持部材２６と、支持部材２６を介してミラー２５の反射方向を変更する反射方向制御手段２７とを有して構成されている。支持部材２６と反射方向制御手段２７とは、本発明の蒸着装置における反射方向変更手段を構成している。 (Second Embodiment)
Next, the vapor deposition apparatus which concerns on 2nd Embodiment of this invention is demonstrated with reference to FIG. FIG. 2 is a schematic sectional view showing a vapor deposition apparatus according to the second embodiment of the present invention. The same components as those of the vapor deposition apparatus according to the first embodiment shown in FIG. The vapor deposition apparatus 20 of the present embodiment includes a vapor deposition tank 11, a vapor deposition source 12, a viewing window 13, a port 24, a mirror 25 that forms a reflector, and a support member 26 that rotatably supports the mirror 25. It has reflection direction control means 27 that changes the reflection direction of the mirror 25 via the support member 26. The support member 26 and the reflection direction control means 27 constitute a reflection direction changing means in the vapor deposition apparatus of the present invention.

本蒸着装置２０では、ポート２４が防着手段としての機能も有する。すなわち、ポート２４は、第１実施形態の蒸着装置１０のポート２４よりも長い筒形状の構造物からなり、蒸着槽１１の側壁を貫通するように設けられている。覗き窓１３は、ポート２４の一端側の内周に取り付けられている。蒸着槽１１内の気体などは覗き窓１３又はポート２４を介して外部に流出又は流入しない構成となっている。さらに、ポート２４の側面及び蒸着槽１１の側壁の少なくとも一方の一部が、蒸着源１２と覗き窓１３とを結ぶ直線上に位置するように、ポート２４及び覗き窓１３が配置されている。この配置構成により、蒸着源１２から覗き窓１３の方向に出射された蒸着物質２は蒸着槽１１の側壁に遮られ覗き窓１３には到達しない。   In the present vapor deposition apparatus 20, the port 24 also has a function as an adhesion preventing means. That is, the port 24 is formed of a cylindrical structure longer than the port 24 of the vapor deposition apparatus 10 of the first embodiment, and is provided so as to penetrate the side wall of the vapor deposition tank 11. The viewing window 13 is attached to the inner periphery on one end side of the port 24. The gas in the vapor deposition tank 11 does not flow out or flow into the outside through the viewing window 13 or the port 24. Further, the port 24 and the viewing window 13 are arranged so that at least one part of the side surface of the port 24 and the side wall of the deposition tank 11 is located on a straight line connecting the vapor deposition source 12 and the viewing window 13. With this arrangement, the vapor deposition material 2 emitted from the vapor deposition source 12 in the direction of the viewing window 13 is blocked by the side wall of the vapor deposition tank 11 and does not reach the viewing window 13.

また、支持部材２６及び反射方向制御手段２７によりミラー２５を所定の位置に向けることにより、蒸着源１２から出射された光３はミラー２５で反射され、その反射光４は覗き窓１３に到達する。ここで、ポート２４の側面が反射光４の光路を遮るのを回避すべく、ミラー２５と覗き窓１３とを結ぶ直線上にポート２４の筒形状の中心軸が位置するように、ミラー２５及びポート２４が配置されている。   Further, by directing the mirror 25 to a predetermined position by the support member 26 and the reflection direction control means 27, the light 3 emitted from the vapor deposition source 12 is reflected by the mirror 25, and the reflected light 4 reaches the viewing window 13. . Here, in order to prevent the side surface of the port 24 from blocking the optical path of the reflected light 4, the mirror 25 and the center axis of the port 24 are positioned on a straight line connecting the mirror 25 and the viewing window 13. A port 24 is arranged.

これにより、本実施形態の蒸着装置２０では、ポート２４が覗き窓１３を支持する支持部材として機能するとともに、蒸着物質２が覗き窓１３に付着することを防ぐ防着手段としても機能する。したがって、本実施形態の蒸着装置２０は、簡素な構成としながら、覗き窓１３を掃除することなく、長期間に渡り蒸着槽１１内の蒸着源１２を観察することができる。   Thereby, in the vapor deposition apparatus 20 of this embodiment, the port 24 functions as a support member that supports the viewing window 13 and also functions as an adhesion preventing means that prevents the vapor deposition material 2 from adhering to the viewing window 13. Therefore, the vapor deposition apparatus 20 of this embodiment can observe the vapor deposition source 12 in the vapor deposition tank 11 over a long period of time without cleaning the viewing window 13 while having a simple configuration.

また本実施形態の蒸着装置２０における反射方向制御手段２７は、蒸着源１２から出射された光３を覗き窓１３の方向に反射させようにミラー２５の向きを変える第１動作と、被蒸着基板１から出射された光を覗き窓１３の方向に反射させようにミラー２５の向きを変える第２動作とを行うことができるものとしてもよい。このようにすると、反射方向制御手段２７の第１動作により覗き窓１３から蒸着源１２を観察できるようになり、反射方向制御手段２７の第２動作により覗き窓１３から被蒸着基板１を観察できるようになる。したがって本蒸着装置２０は、簡便な操作で迅速に且つ良好に蒸着源１２と被蒸着基板１との両方を観察することができる。また、反射方向制御手段２７によってミラー２５の向きを微調整して正確に蒸着源１２及び被蒸着基板１を観察することもできる。   In addition, the reflection direction control means 27 in the vapor deposition apparatus 20 of the present embodiment includes a first operation for changing the direction of the mirror 25 so that the light 3 emitted from the vapor deposition source 12 is reflected in the direction of the viewing window 13, and the vapor deposition substrate. The second operation of changing the direction of the mirror 25 so that the light emitted from 1 may be reflected in the direction of the viewing window 13 may be performed. In this way, the deposition source 12 can be observed from the viewing window 13 by the first operation of the reflection direction control means 27, and the deposition target substrate 1 can be observed from the viewing window 13 by the second operation of the reflection direction control means 27. It becomes like this. Therefore, the vapor deposition apparatus 20 can observe both the vapor deposition source 12 and the vapor deposition substrate 1 quickly and satisfactorily with a simple operation. Further, the direction of the mirror 25 can be finely adjusted by the reflection direction control means 27 to accurately observe the vapor deposition source 12 and the vapor deposition substrate 1.

また反射方向制御手段２７は、蒸着源１２から出射された光３がミラー２５の反射面に入射しないように、ミラー２５の向きを変える第３動作を実行できる構成としてもよい。このようにすると、例えば蒸着源１２を観察しないときはミラー２５の反射面を蒸着源１２の方向とは逆方向に向かせることにより、その反射面に蒸着物質２が付着することを回避することができる。したがって、本実施形態の蒸着装置２０によれば、より長期間に渡って蒸着槽１１内の蒸着源１２及び被蒸着基板１などを良好に観察することができる。   The reflection direction control means 27 may be configured to execute a third operation for changing the direction of the mirror 25 so that the light 3 emitted from the vapor deposition source 12 does not enter the reflection surface of the mirror 25. In this way, for example, when the vapor deposition source 12 is not observed, the reflective surface of the mirror 25 is directed in the direction opposite to the direction of the vapor deposition source 12 to avoid the deposition material 2 from adhering to the reflective surface. Can do. Therefore, according to the vapor deposition apparatus 20 of this embodiment, the vapor deposition source 12 and the vapor deposition substrate 1 in the vapor deposition tank 11 can be observed well over a longer period of time.

（第３実施形態）
次に、本発明の第３実施形態に係る蒸着装置について図３を参照して説明する。図３は本発明の第３実施形態に係る蒸着装置を示す模式断面図である。図１に示す第１実施形態の蒸着装置の構成要素と同一のものには同一符号を付している。本実施形態の蒸着装置３０は、蒸着槽１１と、蒸着源１２と、覗き窓１３と、ポート３４と、反射体をなす複数のミラー３５ａ，３５ｂとを有して構成されている。 (Third embodiment)
Next, a vapor deposition apparatus according to a third embodiment of the present invention will be described with reference to FIG. FIG. 3 is a schematic cross-sectional view showing a vapor deposition apparatus according to the third embodiment of the present invention. The same components as those of the vapor deposition apparatus according to the first embodiment shown in FIG. The vapor deposition apparatus 30 of this embodiment includes a vapor deposition tank 11, a vapor deposition source 12, a viewing window 13, a port 34, and a plurality of mirrors 35a and 35b that form reflectors.

ミラー３５ａは、蒸着源１２から出射された光３をミラー３５ｂの方向に反射させるように配置されている。ミラー３５ｂは、ミラー３５ａの反射光４を覗き窓１３の方向に反射させるように配置されている。ミラー３５ｂの反射光５は、ポート３４の内側を通って覗き窓１３に到達する。これらにより、蒸着槽１１の外側から観察者などが覗き窓１３を覗くことにより、ミラー３５ａ及びミラー３５ｂを介して、蒸着槽１１内の蒸着源１２を観察することができる。また、覗き窓１３は、筒形状の構造物からなるポート３４の内周に取り付けられており、ポート３４を介して蒸着槽１１に取り付けられている。ポート３４は、蒸着槽１１の側壁を貫通するように設けられている。さらに、ポート３４の側面又は被蒸着基板１の一部が蒸着源１２と覗き窓１３とを結ぶ直線上に配置されていることが好ましい。   The mirror 35a is disposed so as to reflect the light 3 emitted from the vapor deposition source 12 in the direction of the mirror 35b. The mirror 35b is arranged to reflect the reflected light 4 of the mirror 35a in the direction of the viewing window 13. The reflected light 5 of the mirror 35 b reaches the viewing window 13 through the inside of the port 34. By these, when an observer etc. look into the peeping window 13 from the outer side of the vapor deposition tank 11, the vapor deposition source 12 in the vapor deposition tank 11 can be observed through the mirror 35a and the mirror 35b. The viewing window 13 is attached to the inner periphery of a port 34 made of a cylindrical structure, and is attached to the vapor deposition tank 11 through the port 34. The port 34 is provided so as to penetrate the side wall of the vapor deposition tank 11. Furthermore, it is preferable that the side surface of the port 34 or a part of the deposition target substrate 1 is arranged on a straight line connecting the deposition source 12 and the viewing window 13.

本実施形態の蒸着装置３０によれば、ポート３４の側面又は被蒸着基板１の一部が防着手段として機能することができ、蒸着源１２から出射された光３が防着手段を迂回して覗き窓１３に到達することができる。したがって、覗き窓１３、防着手段、蒸着源１２及び被蒸着基板１の配置の自由度を向上させることができる。そこで、例えば、被蒸着基板１の裏側に覗き窓１３を配置することにより、被蒸着基板１を防着手段として機能させることができ、簡素な構成としながら、覗き窓１３を掃除することなく、長期間に渡り蒸着槽１１内の蒸着源１２を観察することができる。   According to the vapor deposition apparatus 30 of the present embodiment, the side surface of the port 34 or a part of the deposition target substrate 1 can function as an adhesion preventing means, and the light 3 emitted from the vapor deposition source 12 bypasses the adhesion preventing means. To reach the viewing window 13. Therefore, the freedom degree of arrangement | positioning of the observation window 13, the adhesion prevention means, the vapor deposition source 12, and the to-be-deposited substrate 1 can be improved. Therefore, for example, by arranging the viewing window 13 on the back side of the deposition target substrate 1, the deposition target substrate 1 can function as an adhesion preventing means, and without having to clean the viewing window 13 while having a simple configuration. The vapor deposition source 12 in the vapor deposition tank 11 can be observed over a long period of time.

また、本実施形態の蒸着装置においてミラー３５ｂ又はミラー３５ａは、蒸着対象とされる被蒸着基板１から出射された光３’を覗き窓１３の方向に反射させる機能も有してもよい。このようにすると、覗き窓１３には蒸着源１２から出射された光３と被蒸着基板１から出射された光３’とが到達するので、覗き窓１３を覗くことにより一度に蒸着源１２及び被蒸着基板１の両方を観察することができる。   Further, in the vapor deposition apparatus of this embodiment, the mirror 35b or the mirror 35a may have a function of reflecting the light 3 'emitted from the vapor deposition target substrate 1 to be vapor-deposited in the direction of the viewing window 13. In this way, since the light 3 emitted from the vapor deposition source 12 and the light 3 ′ emitted from the deposition target substrate 1 reach the viewing window 13, the vapor deposition source 12 and the light source 3 and Both of the deposition target substrates 1 can be observed.

上記第１から第３実施形態の蒸着装置１０，２０，３０において、ミラー１５，２５，３５ａ，３５ｂは、例えばポリゴンミラーのように複数の反射面を有する反射体で構成してもよい。そのポリゴンミラーの各反射面は反射方向を変更可能となっており、少なくとも一の反射面が蒸着源１２から出射された光３を覗き窓１３の方向に反射させる向きに設定されており、他の反射面は蒸着源１２から出射された光３が直接入射しない向きに設定されていることが好ましい。   In the vapor deposition apparatuses 10, 20, and 30 of the first to third embodiments, the mirrors 15, 25, 35a, and 35b may be formed of a reflector having a plurality of reflecting surfaces such as a polygon mirror. Each reflection surface of the polygon mirror can change the reflection direction, and at least one reflection surface is set in a direction to reflect the light 3 emitted from the vapor deposition source 12 in the direction of the viewing window 13. It is preferable that the reflecting surface is set in a direction in which the light 3 emitted from the vapor deposition source 12 is not directly incident.

このようにすると、例えばポリゴンミラーにおける複数の反射面における一の反射面を用いて蒸着源１２から出射された光３を覗き窓１３の方向に導くことができる。このとき、他の反射面は、蒸着源１２から見て一の反射面の影に位置することができ、蒸着物質２が付着することを回避できる。そして、例えばその一の反射面に蒸着物質２が付着したことなどでその反射面の反射状態が不良になったときは、ポリゴンミラーを回転させ、他の反射面（蒸着物質が付着してない面）で蒸着源１２から出射された光３を覗き窓１３の方向に導くようにすることができる。したがって、本実施形態によれば、さらに長い期間に渡って蒸着槽１１内の蒸着源１２などを良好に観察することができる。   If it does in this way, the light 3 radiate | emitted from the vapor deposition source 12 can be guide | induced to the direction of the viewing window 13, for example using one reflective surface in the some reflective surface in a polygon mirror. At this time, the other reflection surface can be positioned in the shadow of the one reflection surface as viewed from the vapor deposition source 12, and the deposition material 2 can be prevented from adhering. And, for example, when the reflective state of the reflective surface becomes defective due to the deposition material 2 adhering to the one reflective surface, the polygon mirror is rotated and another reflective surface (no vapor deposition material is adhered). The light 3 emitted from the vapor deposition source 12 can be guided in the direction of the viewing window 13. Therefore, according to the present embodiment, the vapor deposition source 12 and the like in the vapor deposition tank 11 can be observed well over a longer period.

また、上記第１から第３実施形態の蒸着装置１０，２０，３０は、ミラー１５，２５，３５ａ，３５ｂの反射面を加熱する加熱手段（図示せず）を有することとしてもよい。このようによれば、加熱手段によりミラー１５，２５，３５ａ，３５ｂの反射面を例えば２００℃から３００℃に加熱することで、その反射面に付着した蒸着物質２をその面から除去することができ、反射面をクリーニングすることができる。すなわち、ミラー１５，２５，３５ａ，３５ｂの反射状態を改善させることができる。   Moreover, the vapor deposition apparatuses 10, 20, and 30 of the first to third embodiments may include heating means (not shown) for heating the reflecting surfaces of the mirrors 15, 25, 35a, and 35b. According to this, by heating the reflecting surfaces of the mirrors 15, 25, 35 a and 35 b from, for example, 200 ° C. to 300 ° C. by the heating means, the vapor deposition material 2 adhering to the reflecting surfaces can be removed from the surfaces. And the reflective surface can be cleaned. That is, the reflection state of the mirrors 15, 25, 35a, and 35b can be improved.

また、上記第１から第３実施形態の蒸着装置１０，２０，３０では、蒸着源１２から所定の蒸着物質２を放出させ、その蒸着物質２がミラー１５，２５，３５ａ，３５ｂの反射面に付着することにより、その反射面の反射状態（反射率など）が向上するものからなることとしてもよい。例えば、上記所定の蒸着物質２としてアルミニウムを用い、そのアルミニウムがミラー１５，２５，３５ａ，３５ｂの反射面に蒸着することにより、その反射面の反射状態を改善させることができる。ここで、蒸着槽１１内に複数種類の蒸着源１２を配置可能として、ミラー１５，２５，３５ａ，３５ｂの反射状態が悪くなったときに、被蒸着基板１に膜を形成する本来の蒸着源１２から反射状態改善用の蒸着源（例えばアルミニウム）１２に切り替えることとしてもよい。このようにすると、蒸着槽１１内の真空状態を一定に保ったままで、ミラー１５，２５，３５ａ，３５ｂの反射状態を改善させることができる。   In the vapor deposition apparatuses 10, 20, and 30 of the first to third embodiments, a predetermined vapor deposition material 2 is released from the vapor deposition source 12, and the vapor deposition material 2 is reflected on the reflection surfaces of the mirrors 15, 25, 35a, and 35b. It is good also as what consists of what improves the reflective state (reflectance etc.) of the reflective surface by attaching. For example, when aluminum is used as the predetermined vapor deposition material 2 and the aluminum is deposited on the reflection surfaces of the mirrors 15, 25, 35a, and 35b, the reflection state of the reflection surface can be improved. Here, it is possible to arrange a plurality of types of vapor deposition sources 12 in the vapor deposition tank 11, and an original vapor deposition source for forming a film on the deposition target substrate 1 when the reflection state of the mirrors 15, 25, 35a, and 35b deteriorates. It is good also as switching from 12 to the vapor deposition source (for example, aluminum) 12 for reflection state improvement. If it does in this way, the reflective state of mirror 15, 25, 35a, 35b can be improved, keeping the vacuum state in the vapor deposition tank 11 constant.

（有機ＥＬ装置）
以下、本実施形態の電気光学装置の製造方法により製造された有機ＥＬ装置について図４を参照しながら説明する。図４は本実施形態の蒸着装置１０，２０，３０を用いて製造された有機ＥＬ装置の一例を示す断面図である。
図４において、有機ＥＬ装置５０は、光を透過可能な基板（光透過層）５２と、基板５２の一方の面側に設けられ一対の陰極（電極）５７及び陽極（電極）５８に挟持された有機エレクトロルミネッセンス材料からなる発光層５５と正孔輸送層５６とからなる有機ＥＬ素子（発光素子）５９と、封止基板３２０を有している。また、必要に応じて、基板５２と有機ＥＬ素子５９との間に積層されている低屈折率層及び封止層とを備えている。低屈折率層は封止層より基板５２側に設けられている。 (Organic EL device)
Hereinafter, an organic EL device manufactured by the method of manufacturing an electro-optical device according to the present embodiment will be described with reference to FIG. FIG. 4 is a cross-sectional view showing an example of an organic EL device manufactured using the vapor deposition apparatuses 10, 20, and 30 of the present embodiment.
In FIG. 4, the organic EL device 50 is sandwiched between a substrate (light transmission layer) 52 that can transmit light, and a pair of cathode (electrode) 57 and anode (electrode) 58 provided on one surface side of the substrate 52. The organic EL element (light emitting element) 59 including the light emitting layer 55 and the hole transport layer 56 made of the organic electroluminescence material, and the sealing substrate 320 are provided. Further, a low refractive index layer and a sealing layer that are laminated between the substrate 52 and the organic EL element 59 are provided as necessary. The low refractive index layer is provided on the substrate 52 side from the sealing layer.

ここで、図４に示す有機ＥＬ装置５０は、発光層５５からの発光を基板５２側から装置外部に取り出す形態であり、基板５２の形成材料としては、光を透過可能な透明あるいは半透明材料、例えば、透明なガラス、石英、サファイア、あるいはポリエステル、ポリアクリレート、ポリカーボネート、ポリエーテルケトンなどの透明な合成樹脂などが挙げられる。特に、基板５２の形成材料としては、安価なソーダガラスが好適に用いられる。
一方、基板と反対側から発光を取り出す形態の場合には、基板は不透明であってもよく、その場合、アルミナ等のセラミック、ステンレス等の金属シートに表面酸化などの絶縁処理を施したもの、熱硬化性樹脂、熱可塑性樹脂などを用いることができる。 Here, the organic EL device 50 shown in FIG. 4 has a form in which light emitted from the light emitting layer 55 is extracted from the substrate 52 side to the outside of the device, and a material for forming the substrate 52 is a transparent or translucent material capable of transmitting light. Examples thereof include transparent glass, quartz, sapphire, or transparent synthetic resins such as polyester, polyacrylate, polycarbonate, polyether ketone, and the like. In particular, as a material for forming the substrate 52, inexpensive soda glass is preferably used.
On the other hand, in the form of taking out light emission from the opposite side of the substrate, the substrate may be opaque, in which case, ceramic such as alumina, metal sheet such as stainless steel subjected to insulation treatment such as surface oxidation, A thermosetting resin, a thermoplastic resin, or the like can be used.

陽極５８は、インジウム錫酸化物（ＩＴＯ：Indium Tin Oxide）等からなる透明電極であって光を透過可能である。正孔輸送層５６は、例えば、トリフェニルアミン誘導体（ＴＰＤ）、ピラゾリン誘導体、アリールアミン誘導体、スチルベン誘導体、トリフェニルジアミン誘導体等からなる。具体的には、特開昭６３−７０２５７号、同６３−１７５８６０号公報、特開平２−１３５３５９号、同２−１３５３６１号、同２−２０９９８８号、同３−３７９９２号、同３−１５２１８４号公報に記載されているもの等が例示されるが、トリフェニルジアミン誘導体が好ましく、中でも４，４’−ビス（Ｎ（３−メチルフェニル）−Ｎ−フェニルアミノ）ビフェニルが好適とされる。   The anode 58 is a transparent electrode made of indium tin oxide (ITO) or the like, and can transmit light. The hole transport layer 56 is made of, for example, a triphenylamine derivative (TPD), a pyrazoline derivative, an arylamine derivative, a stilbene derivative, a triphenyldiamine derivative, or the like. Specifically, JP-A-63-70257, JP-A-63-175860, JP-A-2-135359, JP-A-2-135361, JP-A-2-209998, JP-A-3-37992, and JP-A-3-152184. Examples described in the publication are exemplified, but a triphenyldiamine derivative is preferable, and 4,4′-bis (N (3-methylphenyl) -N-phenylamino) biphenyl is particularly preferable.

なお、正孔輸送層に代えて正孔注入層を形成するようにしてもよく、さらに正孔注入層と正孔輸送層を両方形成するようにしてもよい。
正孔注入層を形成する場合は、上記実施形態の蒸着装置１０，２０，３０を用いて形成してもよい。これにより、蒸着装置１０，２０，３０内の蒸着源１２及び被蒸着基板１などの状態を、簡便にかつ良好に確認しながら正孔注入層を形成でき、高品質に且つ低コストで有機ＥＬ装置の正孔注入層を形成できる。 Note that a hole injection layer may be formed instead of the hole transport layer, and both the hole injection layer and the hole transport layer may be formed.
When forming a positive hole injection layer, you may form using the vapor deposition apparatus 10,20,30 of the said embodiment. Thereby, the hole injection layer can be formed while confirming the state of the vapor deposition source 12 and the vapor deposition target substrate 1 in the vapor deposition apparatuses 10, 20, and 30 easily and satisfactorily, and the organic EL with high quality and low cost. The hole injection layer of the device can be formed.

発光層５５も上記実施形態の蒸着装置１０，２０，３０を用いて形成してもよい。発光層５５の形成材料としては、低分子の有機発光色素や高分子発光体、すなわち各種の蛍光物質や燐光物質などの発光物質、Ａｌｑ3（アルミキレート錯体）などの有機エレクトロルミネッセンス材料が使用可能である。発光物質となる共役系高分子の中ではアリーレンビニレン又はポリフルオレン構造を含むものなどが特に好ましい。低分子発光体では、例えばナフタレン誘導体、アントラセン誘導体、ペリレン誘導体、ポリメチン系、キサテン系、クマリン系、シアニン系などの色素類、８−ヒドロキノリンおよびその誘導体の金属錯体、芳香族アミン、テトラフェニルシクロペンタジエン誘導体等、または特開昭５７−５１７８１、同５９−１９４３９３号公報等に記載されている公知のものが使用可能である。 The light emitting layer 55 may also be formed using the vapor deposition apparatuses 10, 20, and 30 of the above embodiment. As a material for forming the light emitting layer 55, low molecular organic light emitting dyes and polymer light emitting materials, that is, light emitting materials such as various fluorescent materials and phosphorescent materials, and organic electroluminescent materials such as Alq 3 (aluminum chelate complexes) can be used. It is. Among the conjugated polymers that serve as the light-emitting substance, those containing an arylene vinylene or polyfluorene structure are particularly preferable. In the low-molecular light emitters, for example, naphthalene derivatives, anthracene derivatives, perylene derivatives, polymethine-based, xanthene-based, coumarin-based, cyanine-based pigments, 8-hydroquinoline and its metal complexes, aromatic amines, tetraphenylcyclo Pentadiene derivatives and the like, or known ones described in JP-A-57-51781 and 59-194393 can be used.

陰極５７は、上記実施形態の蒸着装置１０，２０，３０を用いて形成することが好ましい。陰極５７はアルミニウム（Ａｌ）やマグネシウム（Ｍｇ）、金（Ａｕ）、銀（Ａｇ）等からなる金属電極である。この陰極５７を形成する過程においては、ミラー１５，２５，３５ａ，３５ｂの反射面にアルミニウムなどが付着するので、その反射面の反射状況を改善させることができる。   The cathode 57 is preferably formed using the vapor deposition apparatuses 10, 20, and 30 of the above embodiment. The cathode 57 is a metal electrode made of aluminum (Al), magnesium (Mg), gold (Au), silver (Ag), or the like. In the process of forming the cathode 57, since aluminum or the like adheres to the reflecting surfaces of the mirrors 15, 25, 35a, and 35b, the reflecting state of the reflecting surfaces can be improved.

なお、陰極５７と発光層５５との間に、電子輸送層や電子注入層を設けることができる。電子輸送層の形成材料としては、特に限定されることなく、オキサジアゾール誘導体、アントラキノジメタンおよびその誘導体、ベンゾキノンおよびその誘導体、ナフトキノンおよびその誘導体、アントラキノンおよびその誘導体、テトラシアノアンスラキノジメタンおよびその誘導体、フルオレノン誘導体、ジフェニルジシアノエチレンおよびその誘導体、ジフェノキノン誘導体、８−ヒドロキシキノリンおよびその誘導体の金属錯体等が例示される。具体的には、先の正孔輸送層の形成材料と同様に、特開昭６３−７０２５７号、同６３−１７５８６０号公報、特開平２−１３５３５９号、同２−１３５３６１号、同２−２０９９８８号、同３−３７９９２号、同３−１５２１８４号公報に記載されているもの等が例示され、特に２−（４−ビフェニリル）−５−（４−ｔ−ブチルフェニル）−１，３，４−オキサジアゾール、ベンゾキノン、アントラキノン、トリス（８−キノリノール）アルミニウムが好適とされる。   Note that an electron transport layer or an electron injection layer can be provided between the cathode 57 and the light emitting layer 55. The material for forming the electron transport layer is not particularly limited, but is an oxadiazole derivative, anthraquinodimethane and its derivative, benzoquinone and its derivative, naphthoquinone and its derivative, anthraquinone and its derivative, tetracyanoanthraquinodimethane And derivatives thereof, fluorenone derivatives, diphenyldicyanoethylene and derivatives thereof, diphenoquinone derivatives, metal complexes of 8-hydroxyquinoline and derivatives thereof, and the like. Specifically, as with the material for forming the hole transport layer, JP-A-63-70257, JP-A-63-175860, JP-A-2-135359, JP-A-2-135361, and JP-A-2-209888 are disclosed. And the like described in JP-A-3-379992 and 3-152184, particularly 2- (4-biphenylyl) -5- (4-t-butylphenyl) -1,3,4. -Oxadiazole, benzoquinone, anthraquinone, tris (8-quinolinol) aluminum are preferred.

図示しないが、本実施形態の有機ＥＬ装置５０はアクティブマトリクス型であり、実際には複数のデータ線と複数の走査線とが格子状に基板５２に配置される。そして、データ線や走査線に区画されたマトリクス状に配置された画素毎に、従来は、スイッチングトランジスタやドライビングトランジスタ等の駆動用ＴＦＴを介して上記の有機ＥＬ素子５９が接続されている。そして、データ線や走査線を介して駆動信号が供給されると電極間に電流が流れ、有機ＥＬ素子５９の発光層５５が発光して基板５２の外面側に光が射出され、その画素が点灯する。   Although not shown, the organic EL device 50 of the present embodiment is of an active matrix type, and actually a plurality of data lines and a plurality of scanning lines are arranged on the substrate 52 in a grid pattern. Conventionally, the organic EL element 59 is connected to each pixel arranged in a matrix divided into data lines and scanning lines via a driving TFT such as a switching transistor or a driving transistor. When a driving signal is supplied via the data line or the scanning line, a current flows between the electrodes, the light emitting layer 55 of the organic EL element 59 emits light, and light is emitted to the outer surface side of the substrate 52. Light.

本有機ＥＬ装置では、上記実施形態の蒸着装置１０，２０，３０を用いて有機層及び金属層を形成することにより、蒸着源１２及び被蒸着基板１などの状態を、簡便にかつ良好に確認しながら有機層及び金属層を形成できるので、高品質な表示ができ、製造コストを低減することもできる。   In the present organic EL device, the organic layer and the metal layer are formed using the vapor deposition devices 10, 20, and 30 of the above-described embodiment, so that the state of the vapor deposition source 12 and the vapor deposition substrate 1 can be easily and satisfactorily confirmed. However, since the organic layer and the metal layer can be formed, high-quality display can be performed, and the manufacturing cost can be reduced.

（電子機器）
次に、上記実施形態の有機ＥＬ装置を備えた電子機器について説明する。
図５（ａ）は、携帯電話の一例を示した斜視図である。図５（ａ）において、符号１０００は携帯電話本体を示し、符号１００１は上記実施形態の有機ＥＬ装置からなる表示部を示している。図５（ｂ）は、腕時計型電子機器の一例を示した斜視図である。図５（ｂ）において、符号１１００は時計本体を示し、符号１１０１は上記実施形態の有機ＥＬ装置からなる表示部を示している。図５（ｃ）は、ワープロ、パソコンなどの携帯型情報処理装置の一例を示した斜視図である。図５（ｃ）において、符号１２００は情報処理装置、符号１２０２はキーボードなどの入力部、符号１２０４は情報処理装置本体、符号１２０６は上記実施形態の有機ＥＬ装置からなる表示部を示している。 (Electronics)
Next, an electronic apparatus including the organic EL device according to the above embodiment will be described.
FIG. 5A is a perspective view showing an example of a mobile phone. In FIG. 5A, reference numeral 1000 denotes a mobile phone main body, and reference numeral 1001 denotes a display unit including the organic EL device of the above embodiment. FIG. 5B is a perspective view showing an example of a wristwatch type electronic device. In FIG. 5B, reference numeral 1100 indicates a watch body, and reference numeral 1101 indicates a display unit including the organic EL device of the above embodiment. FIG. 5C is a perspective view illustrating an example of a portable information processing apparatus such as a word processor or a personal computer. In FIG. 5C, reference numeral 1200 denotes an information processing apparatus, reference numeral 1202 denotes an input unit such as a keyboard, reference numeral 1204 denotes an information processing apparatus body, and reference numeral 1206 denotes a display unit including the organic EL device of the above embodiment.

図５に示す電子機器は、上記実施形態の蒸着装置１０，２０，３０を用いて製造されているので、高品質な画像を表示できるなど高性能化しながら、低価格化することができる。   Since the electronic device shown in FIG. 5 is manufactured using the vapor deposition apparatuses 10, 20, and 30 of the above-described embodiment, it is possible to reduce the price while improving the performance such as displaying a high-quality image.

なお、本発明の技術範囲は上記実施形態に限定されるものではなく、本発明の趣旨を逸脱しない範囲において種々の変更を加えることが可能であり、実施形態で挙げた具体的な構成および材料などはほんの一例に過ぎず、適宜変更が可能である。本発明に係る蒸着装置は、有機ＥＬ装置などの電気光学装置の製造に限らず、各種の半導体基板などの装置の製造工程で用いることができる。   The technical scope of the present invention is not limited to the above-described embodiment, and various modifications can be made without departing from the spirit of the present invention, and the specific configurations and materials described in the embodiment. These are merely examples, and can be changed as appropriate. The vapor deposition apparatus according to the present invention is not limited to the manufacture of electro-optical devices such as organic EL devices, but can be used in the manufacturing process of devices such as various semiconductor substrates.

本発明の第１実施形態に係る蒸着装置を示す模式断面図である。It is a schematic cross section which shows the vapor deposition apparatus which concerns on 1st Embodiment of this invention. 本発明の第２実施形態に係る蒸着装置を示す模式断面図である。It is a schematic cross section which shows the vapor deposition apparatus which concerns on 2nd Embodiment of this invention. 本発明の第３実施形態に係る蒸着装置を示す模式断面図である。It is a schematic cross section which shows the vapor deposition apparatus which concerns on 3rd Embodiment of this invention. 第１から第３実施形態の蒸着装置を用いて製造された有機ＥＬ装置の一例を示す断面図である。It is sectional drawing which shows an example of the organic electroluminescent apparatus manufactured using the vapor deposition apparatus of 1st to 3rd embodiment. 同上の有機ＥＬ装置を備える電子機器の例を示す斜視図である。It is a perspective view which shows the example of an electronic device provided with the organic EL apparatus same as the above.

符号の説明Explanation of symbols

１…被蒸着基板、２…蒸着物質、３，３’…光、４，５…反射光、１０，２０，３０…蒸着装置、１１…蒸着槽、１２…蒸着源、１３…覗き窓、１４，２４，３４…ポート、１５，２５，３５ａ，３５ｂ…ミラー、１６…防着板、２６…支持部材、２７…反射方向制御手段
DESCRIPTION OF SYMBOLS 1 ... Substrate to be deposited, 2 ... Deposition substance, 3, 3 '... Light, 4, 5 ... Reflected light, 10, 20, 30 ... Deposition apparatus, 11 ... Deposition tank, 12 ... Deposition source, 13 ... Viewing window, 14 , 24, 34 ... ports, 15, 25, 35a, 35b ... mirrors, 16 ... adhesion plates, 26 ... support members, 27 ... reflection direction control means

Claims (15)

蒸着槽と、
前記蒸着槽内に配置された蒸着源を該蒸着槽の外側から覗くときの窓となる覗き窓と、
前記蒸着源と覗き窓とを結ぶ直線上に配置された防着手段と、
前記蒸着源から出射された光を前記覗き窓の方向に反射させる反射体とを有することを特徴とする蒸着装置。 A deposition tank;
A viewing window that serves as a window when the deposition source disposed in the deposition tank is viewed from the outside of the deposition tank;
An adhesion preventing means arranged on a straight line connecting the vapor deposition source and the viewing window;
A vapor deposition apparatus, comprising: a reflector that reflects light emitted from the vapor deposition source toward the viewing window. 前記反射体及び防着手段は、前記蒸着源から出射され該反射体で反射された光が前記覗き窓に到達するように配置されていることを特徴とする請求項１に記載の蒸着装置。   2. The vapor deposition apparatus according to claim 1, wherein the reflector and the adhesion preventing means are arranged so that light emitted from the vapor deposition source and reflected by the reflector reaches the viewing window. 前記防着手段は、覗き窓から直接に蒸着源を見ることを遮る防着板からなることを特徴とする請求項１又は２に記載の蒸着装置。   The vapor deposition apparatus according to claim 1, wherein the deposition preventing unit includes a deposition preventing plate that blocks direct viewing of a deposition source from a viewing window. 前記防着手段は、前記蒸着槽の側壁を貫通するように配置された筒状構造物からなるポートであり、
前記覗き窓は、前記ポートの内周又は一端に取り付けられていることを特徴とする請求項１又は２に記載の蒸着装置。 The adhesion preventing means is a port made of a cylindrical structure disposed so as to penetrate the side wall of the vapor deposition tank,
The vapor deposition apparatus according to claim 1, wherein the viewing window is attached to an inner periphery or one end of the port. 前記ポートの側面及び前記蒸着槽の側壁の少なくとも一方の一部は、前記蒸着源と覗き窓とを結ぶ直線上に配置されていることを特徴とする請求項４に記載の蒸着装置。   5. The vapor deposition apparatus according to claim 4, wherein a part of at least one of a side surface of the port and a side wall of the vapor deposition tank is disposed on a straight line connecting the vapor deposition source and a viewing window. 前記反射体は、複数設けられており、
前記蒸着源から出射された光が複数の前記反射体で順次反射して前記覗き窓に到達するように、複数の該反射体が配置されていることを特徴とする請求項１から５のいずれか一項に記載の蒸着装置。 A plurality of the reflectors are provided,
6. The plurality of reflectors are arranged such that light emitted from the vapor deposition source is sequentially reflected by the plurality of reflectors and reaches the viewing window. The vapor deposition apparatus according to claim 1. 前記反射体は、前記蒸着槽内に配置され蒸着対象とされる基板から出射された光を、前記覗き窓の方向に反射させる機能も有することを特徴とする請求項１から６のいずれか一項に記載の蒸着装置。   The said reflector has a function which reflects the light radiate | emitted from the board | substrate which is arrange | positioned in the said vapor deposition tank and is made into vapor deposition object in the direction of the said observation window, The any one of Claim 1 to 6 characterized by the above-mentioned. The vapor deposition apparatus as described in a term. 前記反射体の反射方向を変更する反射方向変更手段を有することを特徴とする請求項１から７のいずれか一項に記載の蒸着装置。   The vapor deposition apparatus according to any one of claims 1 to 7, further comprising a reflection direction changing unit that changes a reflection direction of the reflector. 前記反射方向変更手段は、前記蒸着源から出射された光を前記覗き窓の方向に反射させように、前記反射体の向きを変える第１動作と、前記基板から出射された光を前記覗き窓の方向に反射させように、該反射体の向きを変える第２動作とを実行可能なものであることを特徴とする請求項８に記載の蒸着装置。   The reflection direction changing means includes a first operation for changing the direction of the reflector so as to reflect the light emitted from the vapor deposition source in the direction of the viewing window, and the light emitted from the substrate to the viewing window. The vapor deposition apparatus according to claim 8, wherein the second operation of changing the direction of the reflector so as to reflect in the direction is possible. 前記反射方向変更手段は、蒸着源から出射された光が前記反射体の反射面に入射しないように、該反射体の向きを変える第３動作を実行可能なものであることを特徴とする請求項８又は９に記載の蒸着装置。   The reflection direction changing means is capable of executing a third operation for changing the direction of the reflector so that the light emitted from the vapor deposition source does not enter the reflection surface of the reflector. Item 10. The vapor deposition device according to Item 8 or 9. 前記反射体は、複数の反射面を有し、各反射面は、反射方向を変更可能となっており、
前記複数の反射面において、少なくとも一の反射面は、前記蒸着源から出射された光を前記覗き窓の方向に反射させる向きに設定されており、他の反射面は、該蒸着源から出射された光が直接入射しない向きに設定されていることを特徴とする請求項１から１０のいずれか一項に記載の蒸着装置。 The reflector has a plurality of reflection surfaces, and each reflection surface can change the reflection direction,
In the plurality of reflecting surfaces, at least one reflecting surface is set in a direction to reflect the light emitted from the vapor deposition source in the direction of the viewing window, and the other reflecting surface is emitted from the vapor deposition source. The vapor deposition apparatus according to claim 1, wherein the vapor deposition apparatus is set in a direction in which the incident light is not directly incident. 前記反射体の反射面を加熱する加熱手段を有することを特徴とする請求項１から１１のいずれか一項に記載の蒸着装置。   The vapor deposition apparatus according to claim 1, further comprising a heating unit configured to heat a reflection surface of the reflector. 前記反射体は、蒸着源から放出された所定の蒸着物質が該反射体の反射面に付着することにより、該反射面の反射率を向上可能なものからなることを特徴とする請求項１から１１のいずれか一項に記載の蒸着装置。   2. The reflector according to claim 1, wherein a predetermined vapor deposition material emitted from a vapor deposition source adheres to the reflection surface of the reflector so that the reflectance of the reflection surface can be improved. The vapor deposition apparatus as described in any one of 11. 請求項１から１３のいずれか一項に記載の蒸着装置を用いて電気光学装置を製造することを特徴とする電気光学装置の製造方法。   An electro-optical device manufacturing method, wherein the electro-optical device is manufactured using the vapor deposition apparatus according to claim 1. 請求項１４に記載の製造方法を用いて製造された電気光学装置を備えたことを特徴とする電子機器。
An electronic apparatus comprising the electro-optical device manufactured using the manufacturing method according to claim 14.
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