JP2005195984A - 光学補償層付き偏光板の製造方法、光学補償層付き偏光板、および画像表示装置 - Google Patents

Abstract

【課題】従来の偏光板製造工程を大幅に改変することなく光学補償層付きの偏光膜保護フィルムを採用し、しかも、その光学補償層の光学補償機能を損なうことなく、光学補償層付きの偏光板を製造する。
【解決手段】偏光膜保護フィルム１の上に光学補償層２と光学補償層保護フィルム３とが順に積層されてなる光学補償層付偏光膜保護フィルム５をケン化処理し、ケン化された偏光膜保護フィルム表面１ａにて該光学補償層付偏光膜保護フィルム５を偏光膜４に貼り合わせる。
【選択図】図１

Description

本発明は、光学補償層付き偏光板の製造方法と、それによって得られる光学補償層付き偏光板、並びに該光学補償層付き偏光板を備えた画像表示装置に関する。

従来、光学補償層と偏光膜とが一体化されてなる光学補償層付き偏光板が知られている。斯かる光学補償層付き偏光板は、液晶セルに積層して用いることにより、液晶表示装置の視野角や視認性を改善し得るものである。

そして、このような光学補償層付き偏光板としては、例えば、ポリビニルアルコール（ＰＶＡ）の薄いフィルムをヨウ化カリウム水溶液等に浸漬させてヨウ素を吸着させた後、ホウ酸水溶液中で一方向に３〜１０倍の範囲で延伸して偏光膜を作成し、該偏光膜の両面に光学的透明性の高い偏光膜保護フィルムを貼り合わせることによって偏光板を作成した後、さらに、該偏光板に、粘着剤等を介して別途作成した光学補償層を貼り付けることによって得られることが開示されている（特許文献１及び２）。
特開２０００−３２１９９２号公報 特開２０００−３２１４２６号公報

しかしながら、このような従来の製造方法では、偏光板を作成した後に別途光学補償層を貼り付ける工程が必要となるため、偏光膜と偏光膜保護フィルムとを貼り合わせるという従来の製造設備を大幅に改変する必要が生じ、製造工程が煩雑なものとなる。また、その結果として、光学補償層付き偏光板の製造コストが高くなるという問題がある。

また、従来の製造設備を大幅に改変しない為には、前記偏光膜保護フィルムに該光学補償層が予め貼り合わされてなる光学補償層付きの偏光膜保護フィルムを採用し、該光学補償層付きの偏光膜保護フィルムを偏光膜に貼り合わせる方法も考えられる。

しかしながら、偏光膜と偏光膜保護フィルムとを貼り合わせる際には、接着剤による該偏光膜と偏光膜保護フィルムとの接着性を高めるべく、前記偏光膜保護フィルムを無機アルカリ水溶液等のケン化浴に浸漬することによって表面をケン化処理することが好ましいとされている。
そうすると、光学補償層付きの偏光膜保護フィルムを採用した場合には光学補償層がケン化浴によって浸食されてしまい、光学補償機能が損なわれることとなるため、光学補償層付きの偏光膜保護フィルムは従来の製造工程に採用できないという問題がある。

そこで本発明は、従来の偏光板製造工程を大幅に改変することなく光学補償層付きの偏光膜保護フィルムを採用し、しかも、その光学補償層の光学補償機能を損なうことなく、光学補償層付きの偏光板を製造することを一の課題とする。

前記課題を解決すべく、本発明は、偏光膜保護フィルムの上に光学補償層と光学補償層保護フィルムとが順に積層されてなる光学補償層付偏光膜保護フィルムをケン化処理し、ケン化された偏光膜保護フィルム表面にて該光学補償層付偏光膜保護フィルムを偏光膜に貼り合わせることにより、光学補償層付きの偏光板を製造することを特徴とする光学補償層付き偏光板の製造方法を提供する。

斯かる製造方法によれば、光学補償層の上に光学補償層保護フィルムが積層された状態で偏光膜保護フィルムがケン化処理されるため、ケン化処理によって光学補償層の光学補償機能が損なわれることがない。しかも光学補償層保護フィルムを積層することを除き、従来の偏光板の製造工程を大幅に改変する必要がないため、光学補償層付き偏光板を安価に製造することが可能となる。

以下、本発明に係る光学補償層付き偏光板の製造方法について詳細に説明する。
本発明の光学補償層付き偏光板の製造方法は、偏光膜保護フィルムの上に光学補償層と光学補償層保護フィルムとが順に積層されてなる光学補償層付偏光膜保護フィルムをケン化処理し、ケン化された偏光膜保護フィルム表面にて該偏光膜保護フィルムを偏光膜に貼り合わせることにより、光学補償層付きの偏光板を製造することにある。

図１は、本発明の一実施形態を示したフロー図である。本実施形態においては、先ず、偏光膜保護フィルム１の上に光学補償層２を積層し、さらに該光学補償層２の上に光学補償層保護フィルム３を積層した後、これをケン化処理し、ケン化された偏光膜保護フィルム表面１ａにて該光学補償層付偏光膜保護フィルム５と偏光膜４とを貼り合わせる。また、偏光膜４の反対側の面についても、偏光膜保護フィルム１’をケン化処理した後、ケン化された偏光膜保護フィルム表面にて該偏光膜保護フィルム１’と貼り合わせる。こうして、一実施形態としての光学補償層付きの偏光板を製造することができる。

偏光膜保護フィルム１としては、従来から偏光膜４を保護するために偏光膜に積層して使用されるものであれば特に限定されず、透明性、機械的強度、熱安定性、水分遮蔽性、等方性などの観点から適宜のものを使用することができる。
該偏光膜保護フィルム１としては、例えば、ジアセチルセルロースやトリアセチルセルロース等のセルロース系ポリマーをフィルム状としたものが挙げられる。

斯かる偏光膜保護フィルム１の厚みは、一般には５００μｍ以下であるが、１〜１００μｍが好ましく、３０〜５０μｍがより好ましい。

光学補償層２については特に限定されるものではなく、該光学補償層付き偏光板の用途に応じて、各種液晶ポリマーを含んでなるフィルムやポリマーフィルムを延伸処理してなる複屈折性のフィルム等を適宜使用することができる。

液晶ポリマーを含んでなるフィルムとしては、例えば、コレステリック構造をとって配向させた状態の液晶モノマーを重合または架橋し、フィルム状に形成したものを好適に使用することができる。斯かる構成のフィルムは、液晶ポリマーがコレステリック液晶相のようにコレステリック構造をとって配向しているにもかかわらず、液晶分子のように温度変化による液晶相、ガラス相、結晶相への変化が起きることがない。よって該液晶ポリマーを含んでなるフィルムは、温度変化に影響されない極めて安定した光学補償層として使用することができる。

該液晶ポリマーを含んでなるフィルムは、具体的には、液晶モノマーと、カイラル剤と、重合剤および架橋剤の少なくとも一方とを含む塗工液を配向基材上に展開して展開層を形成し、前記液晶モノマーがコレステリック構造となるように該展開層を加熱し、さらに前記液晶モノマーによるコレステリック構造を固定すべく液晶モノマーを重合処理又は架橋処理することによって得ることができる。

前記液晶モノマーとしては、例えばネマチック性液晶モノマーを使用でき、下記式（１）で例示されるモノマーをより好適に使用することができる。尚、これらの液晶モノマーは、単独で用いてもよいし、２種以上を併用してもよい。

前記式（１）において、Ａ¹およびＡ²は、それぞれ重合性基を表し、同一でも異なっていてもよい。また、Ａ¹およびＡ²は、いずれか一方が水素であってもよい。Ｘは、それぞれ単結合、−Ｏ−、−Ｓ−、−Ｃ＝Ｎ−、−Ｏ−ＣＯ−、−ＣＯ−Ｏ−、−Ｏ−ＣＯ−Ｏ−、−ＣＯ−ＮＲ−、−ＮＲ−ＣＯ−、−ＮＲ−、−Ｏ−ＣＯ−ＮＲ−、−ＮＲ−ＣＯ−Ｏ−、−ＣＨ₂−Ｏ−または−ＮＲ−ＣＯ−ＮＲ−を表す。また、前記Ｘにおいて、Ｒは、ＨまたはＣ₁〜Ｃ₄アルキルを表し、Ｍはメソーゲン基を表す。

前記式（１）において、Ｘは同一でも異なっていてもよいが、同一であることが好ましい。

前記式（１）のモノマーの中でも、Ａ²は、それぞれＡ¹に対してオルト位に配置されていることが好ましい。

また、前記Ａ¹およびＡ²は、それぞれ独立して下記式（２）
Ｚ−Ｘ−（Ｓｐ）ｎ ・・・（２）
で表されることが好ましく、Ａ¹およびＡ²は同じ基であることが好ましい。

前記式（２）において、Ｚは架橋性基を表し、Ｘは前記式（１）と同様であり、Ｓｐは、１〜３０個のＣ原子を有する直鎖または分枝鎖のアルキル基からなるスペーサーを表し、ｎは、０または１を表す。前記Ｓｐにおける炭素鎖は、例えば、エーテル官能基中の酸素、チオエーテル官能基中の硫黄、非隣接イミノ基またはＣ₁〜Ｃ₄のアルキルイミノ基等により割り込まれてもよい。

前記式（２）においては、Ｚは、下記式で表される原子団のいずれかであることが好ましい。下記式において、Ｒとしては、例えば、メチル、エチル、ｎ−プロピル、ｉ−プロピル、ｎ−ブチル、ｉ−ブチル、ｔ−ブチル等の基が挙げられる。

また、前記式（２）において、Ｓｐは、下記式で表される原子団のいずれかであることが好ましく、下記式において、ｍは１〜３、ｐは１〜１２であることが好ましい。

前記式（１）において、Ｍは、下記式（３）で表されることが好ましく、下記（３）において、Ｘは、前記式（１）におけるＸと同様である。Ｑは、例えば、置換または未置換のアルキレンもしくは芳香族炭化水素原子団を表し、また、たとえば、置換または未置換の直鎖もしくは分枝鎖のＣ₁〜Ｃ₁₂アルキレン等であってもよい。

前記Ｑが、前記芳香族炭化水素原子団の場合、例えば、下記式に表されるような原子団や、それらの置換類似体が好ましい。

前記式に表される芳香族炭化水素原子団の置換類似体としては、例えば、芳香族環１個につき１〜４個の置換基を有してもよく、また、芳香族環または基１個につき、１または２個の置換基を有していてもよい。前記置換基は、それぞれ同一であっても異なっていてもよい。前記置換基としては、例えば、Ｃ₁〜Ｃ₄のアルキル基、ニトロ基、Ｆ、Ｃｌ、Ｂｒ，Ｉ等のハロゲン、フェニル基、Ｃ₁〜Ｃ₄のアルコキシ基等が挙げられる。

前記液晶モノマーの具体例としては、例えば、下記式（４）〜（１９）で表されるモノマーが挙げられる。

前記液晶モノマーが液晶性を示す温度範囲は、その種類に応じて異なるが、例えば、４０〜１２０℃の範囲であることが好ましく、より好ましくは５０〜１００℃の範囲であり、特に好ましくは６０〜９０℃の範囲である。

カイラル剤としては、前記液晶モノマーにねじりを付与してコレステリック構造となるように配向させるものであれば特に制限されないが、重合性カイラル剤であることが好ましい。カイラル剤は、１種類を単独で用いてもよいし、２種類以上を併用してもよい。

前記重合性カイラル剤としては、具体的には、例えば下記一般式（２０）〜（２３）で表されるカイラル化合物を使用できる。
（Ｚ−Ｘ⁵）_nＣｈ ・・・（２０）
（Ｚ−Ｘ²−Ｓｐ−Ｘ⁵）_nＣｈ ・・・（２１）
（Ｐ¹−Ｘ⁵）_nＣｈ ・・・（２２）
（Ｚ−Ｘ²−Ｓｐ−Ｘ³−Ｍ−Ｘ⁴）_nＣｈ ・・・（２３）

前記各式においては、ＺおよびＳｐは前記式（２）と同様であり、Ｘ²、Ｘ³およびＸ⁴は、互いに独立して、化学的単結合、−Ｏ−、−Ｓ−、−Ｏ−ＣＯ−、−ＣＯ−Ｏ−、−Ｏ−ＣＯ−Ｏ−、−ＣＯ−ＮＲ−、−ＮＲ−ＣＯ−、−Ｏ−ＣＯ−ＮＲ−、−ＮＲ−ＣＯ−Ｏ−または−ＮＲ−ＣＯ−ＮＲ−を表し、前記Ｒは、Ｈ、Ｃ₁〜Ｃ₄アルキルを表す。また、Ｘ⁵は、化学的単結合、−Ｏ−、−Ｓ−、−Ｏ−ＣＯ−、−ＣＯ−Ｏ−、−Ｏ−ＣＯ−Ｏ−、−ＣＯ−ＮＲ−、−ＮＲ−ＣＯ−、−Ｏ−ＣＯ−ＮＲ−、−ＮＲ−ＣＯ−Ｏ−、−ＮＲ−ＣＯ−ＮＲ−、−ＣＨ₂Ｏ−、−Ｏ−ＣＨ₂−、−ＣＨ＝Ｎ−、−Ｎ＝ＣＨ−または−Ｎ≡Ｎ−を表す。Ｒは、前述と同様に、Ｈ、Ｃ₁〜Ｃ₄アルキルを表す。Ｍは、前述と同様にメソーゲン基を表し、Ｐ¹は、水素、１〜３個のＣ₁〜Ｃ₆アルキルによって置換されたＣ₁〜Ｃ₃₀アルキル基、Ｃ₁〜Ｃ₃₀アシル基またはＣ₃〜Ｃ₈シクロアルキル基を表し、ｎは、１〜６の整数である。Ｃｈは、ｎ価のカイラル基を表す。前記式（２３）において、Ｘ³およびＸ⁴は、少なくともその一方が、−Ｏ−ＣＯ−Ｏ−、−Ｏ−ＣＯ−ＮＲ−、−ＮＲ−ＣＯ−Ｏ−または−ＮＲ−ＣＯ−ＮＲ−であることが好ましい。また、前記式（２２）において、Ｐ¹がアルキル基、アシル基またはシクロアルキル基の場合、例えば、その炭素鎖が、エーテル官能基内の酸素、チオエーテル官能基内の硫黄、非隣接イミノ基またはＣ₁〜Ｃ₄アルキルイミノ基によって割り込まれてもよい。

前記Ｃｈのカイラル剤としては、例えば、下記式で表される原子団が挙げられる。

前記原子団において、Ｌは、Ｃ₁〜Ｃ₄アルキル、Ｃ₁〜Ｃ₄アルコキシ、ハロゲン、ＣＯＯＲ、ＯＣＯＲ、ＣＯＮＨＲまたはＮＨＣＯＲであって、前記ＲはＣ₁〜Ｃ₄アルキル基を表す。なお、前記式に表した原子団における末端は、隣接する基との結合手を示す。

前記原子団の中でも、特に好ましくは下記式で表される原子団である。

また、前記式（２１）または（２３）で表されるカイラル化合物は、例えば、ｎが２、ＺがＨ₂Ｃ＝ＣＨ−を表し、Ｃｈが下記式で表される原子団であることが好ましい。

前記カイラル化合物の具体例としては、例えば、下記式（２４）〜（４４）で表される化合物が挙げられる。なお、これらのカイラル化合物は、ねじり力が１×１０^-6nm^-1・（wt％）^-1以上である。

前述のようなカイラル化合物の他にも、例えば、ＲＥ−Ａ４３４２２８０号およびドイツ国特許出願１９５２０６６０．６号および１９５２０７０４．１号に挙げられるカイラル化合物が好ましく使用できる。

前記重合剤および架橋剤としては、特に制限されないが、例えば以下のようなものが使用できる。即ち、重合剤としては、例えばベンゾイルパーオキサイド（ＢＰＯ）、アゾビスイソブチロニトリル（ＡＩＢＮ）等が使用でき、架橋剤としては、例えばイソシアネート系架橋剤、エポキシ系架橋剤、金属キレート架橋剤等が使用できる。これらは何れか一種類を単独で使用してもよいし、二種類以上を併用してもよい。

また、前記液晶モノマーとしては、上述のようなネマチック液晶に限定されず、ディスコティック液晶を使用することもできる。
ディスコティック液晶の種類についても特に限定されず、公知のものの中から適宜選択して使用することができる。

光学補償層２を構成する非液晶性のポリマーフィルムとしては、耐熱性、耐薬品性、透明性に優れ、剛性にも富むことから、例えば、ポリアミド、ポリイミド、ポリエステル、ポリエーテルケトン、ポリアミドイミド、ポリエステルイミド等のポリマーフィルムを好適に使用することができる。
これらのポリマーは、いずれか一種類を単独で使用してもよいし、例えば、ポリアリールエーテルケトンとポリアミドとの混合物のように、異なる官能基を持つ２種以上の混合物として使用してもよい。このようなポリマーの中でも、高透明性、高配向性、高延伸性であることから、ポリイミドが特に好ましい。

前記ポリマーの分子量は、特に制限されないが、例えば重量平均分子量（Ｍｗ）が１，０００〜１，０００，０００の範囲であることが好ましく、より好ましくは２，０００〜５００，０００の範囲である。

前記ポリイミドとしては、例えば、面内配向性が高く、有機溶剤に可溶なポリイミドが好ましい。具体的には、例えば、特表２０００−５１１２９６号公報に開示された、９，９−ビス（アミノアリール）フルオレンと芳香族テトラカルボン酸二無水物との縮合重合生成物を含み、下記式（４５）に示す繰り返し単位を１つ以上含むポリマーが使用できる。

前記式（４５）中、Ｒ³〜Ｒ⁶は、水素、ハロゲン、フェニル基、１〜４個のハロゲン原子またはＣ₁〜₁₀アルキル基で置換されたフェニル基、およびＣ₁〜₁₀アルキル基からなる群からそれぞれ独立に選択される少なくとも一種類の置換基である。好ましくは、Ｒ³〜Ｒ⁶は、ハロゲン、フェニル基、１〜４個のハロゲン原子またはＣ₁〜₁₀アルキル基で置換されたフェニル基、およびＣ₁〜₁₀アルキル基からなる群からそれぞれ独立に選択される少なくとも一種類の置換基である。

前記式（４５）中、Ｚは、例えば、Ｃ₆〜₂₀の４価芳香族基であり、好ましくは、ピロメリット基、多環式芳香族基、多環式芳香族基の誘導体、または、下記式（４６）で表される基である。

前記式（４６）中、Ｚ’は、例えば、共有結合、Ｃ（Ｒ⁷）₂基、ＣＯ基、Ｏ原子、Ｓ原子、ＳＯ₂基、Ｓｉ（Ｃ₂Ｈ₅）₂基、または、ＮＲ⁸基であり、複数の場合、それぞれ同一であるかまたは異なる。また、ｗは、１から１０までの整数を表す。
Ｒ⁷は、それぞれ独立に、水素またはＣ（Ｒ⁹）₃である。Ｒ⁸は、水素、炭素原子数１〜約２０のアルキル基、またはＣ₆〜₂₀のアリール基であり、複数の場合、それぞれ同一であるかまたは異なる。Ｒ⁹は、それぞれ独立に、水素、フツ素、または塩素である。

前記多環式芳香族基としては、例えば、ナフタレン、フルオレン、ベンゾフルオレンまたはアントラセンから誘導される４価の基があげられる。また、前記多環式芳香族基の置換誘導体としては、例えば、Ｃ₁〜₁₀のアルキル基、そのフッ素化誘導体、およびＦやＣｌ等のハロゲンからなる群から選択される少なくとも一つの基で置換された前記多環式芳香族基があげられる。

この他にも、例えば、特表平８−５１１８１２号公報に記載された、繰り返し単位が下記一般式（４７）または（４８）で示されるホモポリマーや、繰り返し単位が下記一般式（４９）で示されるポリイミド等があげられる。なお、下記式（４９）のポリイミドは、下記式（４７）のホモポリマーの好ましい形態である。

前記一般式（４７）〜（４９）中、ＧおよびＧ’は、例えば、共有結合、ＣＨ₂基、Ｃ(ＣＨ₃)₂基、Ｃ(ＣＦ₃)₂基、Ｃ(ＣＸ₃)₂基（ここで、Ｘは、ハロゲンである。）、ＣＯ基、Ｏ原子、Ｓ原子、ＳＯ₂基、Ｓｉ(ＣＨ₂ＣＨ₃)₂基、および、Ｎ(ＣＨ₃)基からなる群から、それぞれ独立して選択される基を表し、それぞれ同一でも異なってもよい。

前記式（４７）および式（４９）中、Ｌは、置換基であり、ｄおよびｅは、その置換数を表す。Ｌは、例えば、ハロゲン、Ｃ₁〜₃アルキル基、Ｃ₁〜₃ハロゲン化アルキル基、フェニル基、または、置換フェニル基であり、複数の場合、それぞれ同一であるかまたは異なる。前記置換フェニル基としては、例えば、ハロゲン、Ｃ₁〜₃アルキル基、およびＣ₁〜₃ハロゲン化アルキル基からなる群から選択される少なくとも一種類の置換基を有する置換フェニル基があげられる。また、前記ハロゲンとしては、例えば、フッ素、塩素、臭素またはヨウ素があげられる。ｄは、０から２までの整数であり、ｅは、０から３までの整数である。

前記式（４７）〜（４９）中、Ｑは置換基であり、ｆはその置換数を表す。Ｑとしては、例えば、水素、ハロゲン、アルキル基、置換アルキル基、ニトロ基、シアノ基、チオアルキル基、アルコキシ基、アリール基、置換アリール基、アルキルエステル基、および置換アルキルエステル基からなる群から選択される原子または基であって、Ｑが複数の場合、それぞれ同一であるかまたは異なる。前記ハロゲンとしては、例えば、フッ素、塩素、臭素およびヨウ素があげられる。前記置換アルキル基としては、例えば、ハロゲン化アルキル基があげられる。また前記置換アリール基としては、例えば、ハロゲン化アリール基があげられる。ｆは、０から４までの整数であり、ｇおよびｈは、それぞれ０から３および１から３までの整数である。また、gおよびｈは、１より大きいことが好ましい。

前記式（４８）中、Ｒ¹⁰およびＲ¹¹は、水素、ハロゲン、フェニル基、置換フェニル基、アルキル基、および置換アルキル基からなる群から、それぞれ独立に選択される基である。その中でも、Ｒ¹⁰およびＲ¹¹は、それぞれ独立に、ハロゲン化アルキル基であることが好ましい。

前記式（４９）中、Ｍ¹およびＭ²は、同一であるかまたは異なり、例えば、ハロゲン、Ｃ₁〜₃アルキル基、Ｃ₁〜₃ハロゲン化アルキル基、フェニル基、または、置換フェニル基である。前記ハロゲンとしては、例えば、フッ素、塩素、臭素およびヨウ素があげられる。また、前記置換フェニル基としては、例えば、ハロゲン、Ｃ₁〜₃アルキル基、およびＣ₁〜₃ハロゲン化アルキル基からなる群から選択される少なくとも一種類の置換基を有する置換フェニル基があげられる。

前記式（４７）に示すポリイミドの具体例としては、例えば、下記式（５０）で表されるもの等があげられる。

さらに、前記ポリイミドとしては、例えば、前述のような骨格（繰り返し単位）以外の酸二無水物やジアミンを、適宜共重合させたコポリマーがあげられる。

前記酸二無水物としては、例えば、芳香族テトラカルボン酸二無水物があげられる。前記芳香族テトラカルボン酸二無水物としては、例えば、ピロメリト酸二無水物、ベンゾフェノンテトラカルボン酸二無水物、ナフタレンテトラカルボン酸二無水物、複素環式芳香族テトラカルボン酸二無水物、２，２’−置換ビフェニルテトラカルボン酸二無水物等があげられる。

前記ピロメリト酸二無水物としては、例えば、ピロメリト酸二無水物、３，６−ジフェニルピロメリト酸二無水物、３，６−ビス(トリフルオロメチル)ピロメリト酸二無水物、３，６−ジブロモピロメリト酸二無水物、３，６−ジクロロピロメリト酸二無水物等があげられる。前記ベンゾフェノンテトラカルボン酸二無水物としては、例えば、３，３’,４，４’−ベンゾフェノンテトラカルボン酸二無水物、２，３，３’，４’−ベンゾフェノンテトラカルボン酸二無水物、２，２’，３，３’−ベンゾフェノンテトラカルボン酸二無水物等があげられる。前記ナフタレンテトラカルボン酸二無水物としては、例えば、２，３，６，７−ナフタレン−テトラカルボン酸二無水物、１，２，５，６−ナフタレン−テトラカルボン酸二無水物、２，６−ジクロロ−ナフタレン−１，４，５，８−テトラカルボン酸二無水物等があげられる。前記複素環式芳香族テトラカルボン酸二無水物としては、例えば、チオフェン−２，３，４，５−テトラカルボン酸二無水物、ピラジン−２，３，５，６−テトラカルボン酸二無水物、ピリジン−２，３，５，６−テトラカルボン酸二無水物等があげられる。前記２，２’−置換ビフェニルテトラカルボン酸二無水物としては、例えば、２，２’−ジブロモ−４，４’，５，５’−ビフェニルテトラカルボン酸二無水物、２，２’−ジクロロ−４，４’，５，５’−ビフェニルテトラカルボン酸二無水物、２，２’−ビス(トリフルオロメチル)−４，４’，５，５’−ビフェニルテトラカルボン酸二無水物等があげられる。

また、前記芳香族テトラカルボン酸二無水物のその他の例としては、３，３’,４，４’−ビフェニルテトラカルボン酸二無水物、ビス(２，３−ジカルボキシフェニル)メタン二無水物、ビス(２，５，６−トリフルオロ−３，４−ジカルボキシフェニル)メタン二無水物、２，２−ビス(３，４−ジカルボキシフェニル)−１，１，１，３，３，３−ヘキサフルオロプロパン二無水物、４，４’−(３，４−ジカルボキシフェニル)−２，２−ジフェニルプロパン二無水物、ビス(３，４−ジカルボキシフェニル)エーテル二無水物、４，４’−オキシジフタル酸二無水物、ビス(３，４−ジカルボキシフェニル)スルホン酸二無水物(３，３’,４，４’−ジフェニルスルホンテトラカルボン酸二無水物)、４，４’−［４，４’−イソプロピリデン−ジ(ｐ−フェニレンオキシ)］ビス(フタル酸無水物）、Ｎ，Ｎ−(３，４−ジカルボキシフェニル)−Ｎ−メチルアミン二無水物、ビス(３，４−ジカルボキシフェニル)ジエチルシラン二無水物等があげられる。

これらの中でも、前記芳香族テトラカルボン酸二無水物としては、２，２’−置換ビフェニルテトラカルボン酸二無水物が好ましく、より好ましくは、２，２’−ビス(トリハロメチル)−４，４’，５，５’−ビフェニルテトラカルボン酸二無水物であり、さらに好ましくは、２，２’−ビス(トリフルオロメチル)−４，４’，５，５’−ビフェニルテトラカルボン酸二無水物である。

前記ジアミンとしては、例えば、芳香族ジアミンがあげられ、具体例としては、ベンゼンジアミン、ジアミノベンゾフェノン、ナフタレンジアミン、複素環式芳香族ジアミン、およびその他の芳香族ジアミンがあげられる。

前記ベンゼンジアミンとしては、例えば、ｏ−、ｍ−およびｐ−フェニレンジアミン、２，４−ジアミノトルエン、１，４−ジアミノ−２−メトキシベンゼン、１，４−ジアミノ−２−フェニルベンゼンおよび１，３−ジアミノ−４−クロロベンゼンのようなベンゼンジアミンから成る群から選択されるジアミン等があげられる。前記ジアミノベンゾフェノンの例としては、２，２’−ジアミノベンゾフェノン、および３，３’−ジアミノベンゾフェノン等があげられる。前記ナフタレンジアミンとしては、例えば、１，８−ジアミノナフタレン、および１，５−ジアミノナフタレン等があげられる。前記複素環式芳香族ジアミンの例としては、２，６−ジアミノピリジン、２，４−ジアミノピリジン、および２，４−ジアミノ−Ｓ−トリアジン等があげられる。

また、前記芳香族ジアミンとしては、これらの他に、４，４’−ジアミノビフェニル、４，４’−ジアミノジフェニルメタン、４，４’−(９−フルオレニリデン)−ジアニリン、２，２’−ビス(トリフルオロメチル)−４，４’−ジアミノビフェニル、３，３’−ジクロロ−４，４’−ジアミノジフェニルメタン、２，２’−ジクロロ−４，４’−ジアミノビフェニル、２，２’，５，５’−テトラクロロベンジジン、２，２−ビス(４−アミノフェノキシフェニル)プロパン、２，２−ビス(４−アミノフェニル)プロパン、２，２−ビス(４−アミノフェニル)−１，１，１，３，３，３−ヘキサフルオロプロパン、４，４’−ジアミノジフェニルエーテル、３，４’−ジアミノジフェニルエーテル、１，３−ビス(３−アミノフェノキシ)ベンゼン、１，３−ビス(４−アミノフェノキシ）ベンゼン、１，４−ビス(４−アミノフェノキシ)ベンゼン、４，４’−ビス(４−アミノフェノキシ)ビフェニル、４，４’−ビス(３−アミノフェノキシ）ビフェニル、２，２−ビス[４−(４−アミノフェノキシ)フェニル]プロパン、２，２−ビス[４−(４−アミノフェノキシ)フェニル)−１，１，１，３，３，３−へキサフルオロプロパン、４，４’−ジアミノジフェニルチオエーテル、４，４’−ジアミノジフェニルスルホン等があげられる。

前記光学補償層の材料となる前記ポリエーテルケトンとしては、例えば、特開２００１−４９１１０号公報に記載された、下記一般式（５１）で表されるポリアリールエーテルケトンがあげられる。

前記式（５１）中、Ｘは、置換基を表し、ｑは、その置換数を表す。Ｘは、例えば、ハロゲン原子、低級アルキル基、ハロゲン化アルキル基、低級アルコキシ基、または、ハロゲン化アルコキシ基であり、Ｘが複数の場合、それぞれ同一であるかまたは異なる。

前記ハロゲン原子としては、例えば、フッ素原子、臭素原子、塩素原子およびヨウ素原子があげられ、これらの中でも、フッ素原子が好ましい。前記低級アルキル基としては、例えば、Ｃ₁〜₆の直鎖または分岐鎖を有する低級アルキル基が好ましく、より好ましくはＣ₁〜₄の直鎖または分岐鎖のアルキル基である。具体的には、メチル基、エチル基、プロピル基、イソプロピル基、ブチル基、イソブチル基、sec−ブチル基、および、tert−ブチル基が好ましく、特に好ましくは、メチル基およびエチル基である。前記ハロゲン化アルキル基としては、例えば、トリフルオロメチル基等の前記低級アルキル基のハロゲン化物があげられる。前記低級アルコキシ基としては、例えば、Ｃ₁〜₆の直鎖または分岐鎖のアルコキシ基が好ましく、より好ましくはＣ₁〜₄の直鎖または分岐鎖のアルコキシ基である。具体的には、メトキシ基、エトキシ基、プロポキシ基、イソプロポキシ基、ブトキシ基、イソブトキシ基、sec−ブトキシ基、および、tert−ブトキシ基が、さらに好ましく、特に好ましくはメトキシ基およびエトキシ基である。前記ハロゲン化アルコキシ基としては、例えば、トリフルオロメトキシ基等の前記低級アルコキシ基のハロゲン化物があげられる。

前記式（５１）中、ｑは、０から４までの整数である。前記式（５１）においては、ｑ＝０であり、かつ、ベンゼン環の両端に結合したカルボニル基とエーテルの酸素原子とが互いにパラ位に存在することが好ましい。

また、前記式（５１）中、Ｒ¹は、下記式（５２）で表される基であり、ｍは、０または１の整数である。

前記式（５２）中、Ｘ’は置換基を表し、例えば、前記式（５１）におけるＸと同様である。前記式（５２）において、Ｘ’が複数の場合、それぞれ同一であるかまたは異なる。ｑ’は、前記Ｘ’の置換数を表し、０から４までの整数であって、ｑ’＝０が好ましい。また、ｐは、０または１の整数である。

前記式（５２）中、Ｒ²は、２価の芳香族基を表す。この２価の芳香族基としては、例えば、ｏ−、ｍ−もしくはｐ−フェニレン基、または、ナフタレン、ビフェニル、アントラセン、ｏ−、ｍ−もしくはｐ−テルフェニル、フェナントレン、ジベンゾフラン、ビフェニルエーテル、もしくは、ビフェニルスルホンから誘導される２価の基等があげられる。これらの２価の芳香族基において、芳香族に直接結合している水素が、ハロゲン原子、低級アルキル基または低級アルコキシ基で置換されてもよい。これらの中でも、前記Ｒ²としては、下記式（５３）〜（５９）からなる群から選択される芳香族基が好ましい。

前記式（５１）中、前記Ｒ¹としては、下記式（６０）で表される基が好ましく、下記式（６０）において、Ｒ²およびｐは前記式（５２）と同義である。

さらに、前記式（５１）中、ｎは重合度を表し、例えば、２〜５０００の範囲であり、好ましくは、５〜５００の範囲である。また、その重合は、同じ構造の繰り返し単位からなるものであってもよく、異なる構造の繰り返し単位からなるものであってもよい。後者の場合には、繰り返し単位の重合形態は、ブロック重合であってもよいし、ランダム重合でもよい。

さらに、前記式（５１）で示されるポリアリールエーテルケトンの末端は、ｐ−テトラフルオロベンゾイレン基側がフッ素であり、オキシアルキレン基側が水素原子であることが好ましく、このようなポリアリールエーテルケトンは、例えば、下記一般式（６１）で表すことができる。なお、下記式において、ｎは前記式（５１）と同様の重合度を表す。

前記式（５１）で示されるポリアリールエーテルケトンの具体例としでは、下記式（６２）〜（６５）で表されるもの等があげられ、下記各式において、ｎは、前記式（５１）と同様の重合度を表す。

また、これらの他に、前記光学補償層の材料である前記ポリアミドまたはポリエステルとしては、例えば、特表平１０−５０８０４８号公報に記載されるポリアミドやポリエステルがあげられ、それらの繰り返し単位は、例えば、下記一般式（６６）で表すことができる。

前記式（６６）中、Ｙは、ＯまたはＮＨである。また、Ｅは、例えば、共有結合、Ｃ₂アルキレン基、ハロゲン化Ｃ₂アルキレン基、ＣＨ₂基、Ｃ(ＣＸ₃)₂基（ここで、Ｘはハロゲンまたは水素である。）、ＣＯ基、Ｏ原子、Ｓ原子、ＳＯ₂基、Ｓｉ(Ｒ)₂基、および、Ｎ(Ｒ)基からなる群から選ばれる少なくとも一種類の基であり、それぞれ同一でもよいし異なってもよい。前記Ｅにおいて、Ｒは、Ｃ₁〜₃アルキル基およびＣ₁〜₃ハロゲン化アルキル基の少なくとも一種類であり、カルボニル官能基またはＹ基に対してメタ位またはパラ位にある。

また、前記（６６）中、ＡおよびＡ’は、置換基であり、ｔおよびｚは、それぞれの置換数を表す。また、ｐは、０から３までの整数であり、ｑは、１から３までの整数であり、ｒは、０から３までの整数である。

前記Ａは、例えば、水素、ハロゲン、Ｃ₁〜₃アルキル基、Ｃ₁〜₃ハロゲン化アルキル基、ＯＲ（ここで、Ｒは、前記定義のものである。）で表されるアルコキシ基、アリール基、ハロゲン化等による置換アリール基、Ｃ₁〜₉アルコキシカルボニル基、Ｃ₁〜₉アルキルカルボニルオキシ基、Ｃ₁〜₁₂アリールオキシカルボニル基、Ｃ₁〜₁₂アリールカルボニルオキシ基およびその置換誘導体、Ｃ₁〜₁₂アリールカルバモイル基、ならびに、Ｃ₁〜₁₂アリールカルボニルアミノ基およびその置換誘導体からなる群から選択され、複数の場合、それぞれ同一であるかまたは異なる。前記Ａ’は、例えば、ハロゲン、Ｃ₁〜₃アルキル基、Ｃ₁〜₃ハロゲン化アルキル基、フェニル基および置換フェニル基からなる群から選択され、複数の場合、それぞれ同一であるかまたは異なる。前記置換フェニル基のフェニル環上の置換基としては、例えば、ハロゲン、Ｃ_1-3アルキル基、Ｃ_1-3ハロゲン化アルキル基およびこれらの組み合わせがあげられる。前記tは、０から４までの整数であり、前記ｚは、０から３までの整数である。

前記式（６６）で表されるポリアミドまたはポリエステルの繰り返し単位の中でも、下記一般式（６７）で表されるものが好ましい。

前記式（６７）中、Ａ、Ａ’およびＹは、前記式（６６）で定義したものであり、ｖは０から３の整数、好ましくは、０から２の整数である。ｘおよびｙは、それぞれ０または１であるが、共に０であることはない。

斯かる構成の光学補償層２を前記偏光膜保護フィルム１に積層するには、粘着剤又は接着剤を使用することができる。中でも、光学補償層付き偏光板の薄型化を図ることができるという観点から、接着剤を使用することが好ましい。

前記粘着剤としては、透明性に優れ、適度な濡れ性と凝集性と接着性のある粘着特性を示すものが好ましく、例えば、ゴム系、アクリル系、シリコーン系の粘着剤を使用することができる。

また、前記接着剤としては、エポキシ系、アクリル系、アクリルウレタン系の接着剤等を使用することができる。
接着剤によって偏光膜保護フィルムと光学補償層とが積層されている場合、製造された光学補償層付き偏光板は薄型軽量性に優れたものとなり、モバイル用途に用いられる画像表示装置に好適な光学補償層付き偏光板となる。

光学補償層保護フィルム３は、後段のケン化処理において光学補償層２の表面が悪影響を及ぼされない程度にアルカリ耐性があり、ケン化処理後に剥がせるものであれば、特に限定されない。
該光学補償層保護フィルム３としては、例えば、ポリオレフィン系やポリエステル系のポリマー等を広く使用することができるが、中でも、アルカリ耐性に優れるという観点から、ポリエチレン或いはポリエチレンテレフタレートが好ましい。
尚、該光学補償層保護フィルム３は、ケン化処理後すぐに剥がしても良く、また、偏光膜４との積層前に剥がしても良く、或いは偏光膜４との積層後に剥がしてもよい。
但し、ケン化処理後の工程において高温に加熱される工程を経る場合には、耐熱性に優れた光学補償層保護フィルムとすることが好ましい。

光学補償層保護フィルムを光学補償層に貼り合わせる方法については特に限定されず、例えば、ケン化処理の際に光学補償層保護フィルムが剥がれることがなく、ケン化処理後にはこれを容易に剥がし得るようなものを好適に使用できる。斯かる方法としては、ゴム系、アクリル系、シリコーン系の粘着剤を介して貼りつける方法が挙げられる。

偏光膜保護フィルムのケン化処理方法については特に限定されず、偏光膜保護フィルムと偏光膜との接着に使用される接着剤や、偏光膜保護フィルムの種類に応じて適宜公知の方法から最適な条件（アルカリへの浸漬時間、アルカリ溶液の温度、アルカリ溶液の濃度など）を選択すればよい。

次いで、斯かるケン化処理によってケン化された偏光膜保護フィルム表面を介し、光学補償層付偏光膜保護フィルムと偏光膜とを接着する。接着剤としては、例えば、ポリビニルアルコールとその架橋剤を含む水溶液や、イソシアネート系接着剤などを使用できる。

また、本発明の液晶表示装置は、上述のような本発明の光学補償層付き偏光板を備えたものである。液晶表示装置の形式は特に限定されず、例えばＳＴＮ（ＳｕｐｅｒＴｗｉｓｔｅｄ Ｎｅｍａｔｉｃ）セル、ＴＮ（Ｔｗｉｓｔｅｄ Ｎｅｎａｔｉｃ）セル、ＶＡ（Ｖｅｒｔｉｃａｌ Ａｌｉｇｎｅｄ）セル、ＯＣＢ（Ｏｐｔｉｃａｌｌｙ Ｃｏｎｔｒｏｌｅｄ Ｂｉｒｅｆｒｉｎｇｅｎｃｅ）セル、ＨＡＮ（Ｈｙｂｒｉｄ Ａｌｉｇｎｅｄ Ｎｅｍａｔｉｃ）セル、及びこれらに規則正しい配向分割を施したもの、ランダムな配向分割を行ったもの等の、各種のセルを含むものとすることができ、また、単純マトリックス方式、ＴＦＴ（Ｔｈｉｎ Ｆｉｌｍ Ｔｒａｎｓｉｓｔｏｒ）電極やＭＩＭ（Ｍｅｔａｌ Ｉｎｓｕｌａｔｏｒ Ｍｅｔａｌ）電極等を用いたアクティブマトリックス方式、セルの面内方向に駆動電圧を印加するＩＰＳ（Ｉｎ−Ｐｌａｎｅ Ｓｗｉｔｃｈｉｎｇ）方式、プラズマアドレッシング方式等の各種の駆動方式を採るものとすることができる。また、バックライトシステムを備えた透過型のもの、あるいは反射板を供えた反射型のもの、さらには投射型のものとすることもできる。

本発明の液晶表示装置においては、前記光学補償層付き偏光板を備える態様は特に限定されないが、通常、偏光膜と駆動セルとの間に光学補償層が位置するように、駆動セルの上側及び／又は下側の位置に、１枚若しくは複数枚の前記光学補償層付き偏光板を配置する態様を挙げることができる。また、別の光学用フィルム、例えば本発明の光学フィルムとは異なる屈折率構造を有する位相差フィルム、散乱フィルム、レンズシート等と組み合わせた態様とすることもできる。

また、本発明の光学補償層付き偏光板は、有機エレクトロルミネセンス装置のような他の画像表示装置においても用いることができる。
有機エレクトロルミネセンス装置は、例えば、電圧の印加によって発光する有機発光層の表面側に透明電極を備えるとともに、該有機発光層の裏面側に金属電極を備えてなるものである。斯かる構成の有機エレクトロルミネセンス装置においては、例えば、透明電極の表面側に、本発明の光学補償層付き偏光板を設けることができ、好ましくは、透明電極と偏光膜との間に光学補償層が位置するように設けることができる。

以下、実施例を挙げることにより、本発明についてさらに詳細に説明する。

実施例１
（１）厚さ５６μｍの光学補償層が積層されたトリアセチルセルロースフィルム（新日本石油社製、ＬＣフィルム）を用い、該光学補償層に光学補償層保護フィルム（サンエー化研社製）を貼り合わせた後、該積層フィルムをケン化浴に浸漬し、前記トリアセチルセルロースフィルムの表面をケン化処理することにより、光学補償層付偏光膜保護フィルム５を作製した。
（２）ポリビニルアルコールフィルム（クラレ社製）を３０℃の純水に１分間浸漬しながら２．７倍に延伸した。次いで、ヨウ素濃度３％の水溶液中に３０℃で１分間浸漬しながら１．４倍に延伸した。次いで、ホウ酸濃度４％、ヨウ素濃度３％のホウ酸とヨウ素の混合水溶液中に５５℃で２分間浸漬しながら１．７倍に延伸した。更にヨウ素濃度３．４％の水溶液中に３０℃で５秒間浸漬した。その後、２７℃で７分間、空気中で乾燥させ偏光膜４を作製した。
（３）さらに、偏光膜保護フィルム１’として、別途、ケン化処理済のトリアセチルセルロースフィルム（富士フィルム社製、フジタック）を用意した。
これら５、４、１’のフィルムおよび膜をその順に貼り合わせることにより、実施例１の光学補償層付き偏光板を作製した。

実施例１の光学補償層付き偏光板を調べたところ、全体の厚みは１２１μｍであり、光学補償層の侵食は認められなかった。

比較例１
前記光学補償層付偏光膜保護フィルム５において、光学補償層に光学補償層保護フィルムを貼り合わせずにケン化処理する点を除き、他は実施例１と同様にして比較例１の光学補償層付き偏光板を作製した。
比較例１の光学補償層付き偏光板を調べたところ、その全体の厚みは１２１μｍであったが、光学補償層はケン化により、溶出したものとなっていた。

比較例２
前記偏光膜４に、前記偏光膜保護フィルム１’を両面から貼り合わせることにより、偏光板を作製した。該偏光板に、前記光学補償層付偏光膜保護フィルム５の光学補償層とは反対側の面に粘着剤（アクリル系、２０μｍ）を塗布したものを貼り合わせ、比較例２の光学補償層付き偏光板を作製した。
比較例２の光学補償層付き偏光板を調べたところ、その全体の厚みは１８１μｍであった。

比較例３
前記偏光膜４に、前記偏光膜保護フィルム１’を両面から貼り合わせることにより、偏光板を作製した。次に、ポリエチレンテレフタレートフィルム上に液晶ポリマーを厚み１６μｍに塗布し、更にその上に粘着剤（アクリル系）を２０μｍに塗布したものを貼り合わせ、その後、ポリエチレンテレフタレートフィルムを剥離することによって光学補償層を偏光板に転写し、比較例３の光学補償層付き偏光板を作製した。
比較例３の光学補償層付き偏光板を調べたところ、その全体の厚みは１４１μｍであった。

本発明の一実施形態を示したフロー図。

符号の説明

１、１’ 偏光膜保護フィルム
１ａ ケン化された偏光膜保護フィルム表面
２ 光学補償層
３ 光学補償層保護フィルム
４ 偏光膜
５ 光学補償層付偏光膜保護フィルム

Claims (7)

1. 偏光膜保護フィルムの上に光学補償層と光学補償層保護フィルムとが順に積層されてなる光学補償層付偏光膜保護フィルムをケン化処理し、ケン化された偏光膜保護フィルム表面にて該光学補償層付偏光膜保護フィルムを偏光膜に貼り合わせることにより、光学補償層付きの偏光板を製造することを特徴とする光学補償層付き偏光板の製造方法。
2. 前記光学補償層が、接着剤を介して偏光膜保護フィルムに積層されていることを特徴とする請求項１記載の光学補償層付き偏光板の製造方法。
3. 前記光学補償層が、液晶ポリマーを含んでなることを特徴とする請求項１又は２に記載の光学補償層付き偏光板の製造方法。
4. 前記偏光膜保護フィルムが、トリアセチルセルロースフィルムであることを特徴とする請求項１〜３の何れかに記載の光学補償層付き偏光板の製造方法。
5. 前記偏光膜保護フィルムの厚みが、３０〜５０μｍであることを特徴とする請求項１〜４の何れかに記載の光学補償層付き偏光板の製造方法。
6. 請求項１〜５の何れかに記載の製造方法によって得られた光学補償層付き偏光板。
7. 請求項６記載の光学補償層付き偏光板が備えられたことを特徴とする画像表示装置。