JP2005189677A - ビーム整形偏光ビームスプリッタ及び光ピックアップ - Google Patents

ビーム整形偏光ビームスプリッタ及び光ピックアップ Download PDF

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Abstract

【課題】 透過率が高く、光ピックアップ装置への組み付けが容易なビーム整形偏光ビームスプリッタを提供する。
【解決手段】 互いに屈折率が異なる第1及び第2のプリズム31,32と、その間に挟まれた偏光膜33とを有するビーム整形偏光ビームスプリッタにおいて、入射面311へのレーザビームの入射方向と、第1の出射面321からのレーザビームの出射方向とを平行にする。また、第1の出射面321とそこから出射するレーザビームの出射方向との成す角度を90°とし、第2の出射面322とそこから出射するレーザビームの出射方向との成す角度を90°とする。
【選択図】図4

Description

本発明は、ビーム整形偏光ビームスプリッタに関し、特に、光ディスク装置の光ピックアップに用いられるビーム整形偏光ビームスプリッタに関する。
光ディスクの記録密度を向上させるためには、記録・再生に用いられるレーザビームの合焦点におけるスポットサイズを小さくする必要がある。そして、レーザビームのスポットサイズを小さくするには、レーザビームの波長(レーザダイオードの発振波長)を短くし、対物レンズの開口数(NA:Numerical Aperture)を大きくすればよい。しかしながら、レーザビームの短波長化及び対物レンズの開口数の増大によるスポットサイズの小径化には限界がある。
例えば、高密度記録が可能なブルーレイディスク(Blu-ray Disc)のトラックピッチは0.32μmであり、良好な記録・再生特性を得るためには、0.40〜0.41μm程度のスポットサイズが必要とされる。ところが、レーザビームの波長を405nm、対物レンズの開口数NAを0.85としても、このようなスポットサイズを得ることはできない。また、これ以上のレーザビームの短波長化、及び対物レンズの高開口数化は、実現が極めて困難である。
レーザビームの波長及び対物レンズの開口数とは別に、スポットサイズを小さくする方法として、対物レンズへ入射するレーザビームのリム見込み角を小さくし、リム強度を上げることが考えられる。しかしながら、この方法は、レーザダイオードから出射したレーザビームの中央部(強度が高い部分)のみを対物レンズに入射させ、残りの部分を廃棄することになるので、レーザビームの利用効率が悪い。しかも、レーザダイオードから出射する光が楕円ビームなので、その利用効率を最大にするために、遠視野像(FFP:Far Field Pattern)の短軸(一般的には水平方向の軸)の長さを基準にしても、長軸(一般的には垂直方向の軸)方向のレーザビームの損失は大きい。
そこで、従来から、光路上にウェッジプリズムを用いたビーム整形プリズムを配置してビーム整形を行い、レーザビームの形状を円形に近づけることによって、その利用効率を高めることが行われている。
従来のビーム整形プリズムは、図1に示すように構成されている(例えば、特許文献1、2または3参照。)。
詳述すると、図1のビーム整形プリズム10は、互いに屈折率の異なる2個のウェッジプリズム(硝材)11,12と、それらの間に配置された偏光膜13とを備えている。即ち、図1のビーム整形プリズムは、偏光ビームスプリッタとして構成されている。
図1のビーム整形プリズム10に、左上方より入射角αで入射したレーザビームは、2つのウェッジプリズム11,12の鏡界で一軸方向(図の上下方向)に拡大され、その形状が円形に近づけられる。円形に近づけられたレーザビームは、図の右方向へ屈折角γで出射する。レーザビームが所定周波数のとき、屈折角γが0°となるようにしておくことで、色収差による影響を抑制することができる。即ち、温度変化等によりレーザビームの周波数変動が生じた場合に、屈折率が変化して出射角γが変化するのを抑えることができる。また、図の右側から入射するレーザビームは、2つのプリズム11,12の間に配置された偏光膜13で反射され、図の下方へ出射する。その屈折角もまた、色収差を抑えるように、所定周波数のレーザビームに関して0°とされている。
また、従来のビーム整形プリズムとして、図2に示すように構成されたものもある(例えば、特許文献4参照)。
図2のビーム整形プリズム20も、図1のものと同様に、互いに屈折率の異なる2個のウェッジプリズム21、22を組み合わせ、ビーム形状を円形に近づけるように、また、色収差を抑えるように構成されている。このビーム整形プリズムでは、プリズム22の頂角を45°以下にし、入射角βでプリズム21に入射したレーザビームが、プリズム22から屈折角0°で、入射方向と平行に出射するようにしてある。ただし、このビーム整形プリズムは、2つのプリズム21,22の間に偏光膜を備えていない。つまり、このビーム整形プリズム20は、偏光ビームスプリッタとして利用することについて全く考慮されていない。
特開平10−62611号公報 特開平11−126363号公報 特開平11−154344号公報 特開2001−305319号公報
従来の図1に示すような偏光ビームスプリッタは、レーザビームの入射角αが比較的大きいため、入射面で反射される割合が多く、そのためレーザビームの透過率が低いという問題点がある。また、このビーム整形プリズムは、レーザビームの入射角αのわずかなずれが、出射角γの大きなずれとなって表れるため、光ピックアップ装置への組み付けが困難であるという問題点もある。
また、図2に示すようなビーム整形プリズムは、レーザビームの入射角αが比較的小さい上、入射方向と出射方向とを平行にできるので、図1の偏光ビームスプリッタが有する上記問題点は軽少であるが、偏光膜と組み合わせて偏光ビームスプリッタとして構成することができないという問題点がある。
そこで、本発明は、透過率が高く、光ピックアップ装置への組み付けが容易なビーム整形偏光ビームスプリッタを提供することを目的とする。
本発明によれば、互いに異なる屈折率を有する第1及び第2のプリズム(31,32)と、これら第1及び第2のプリズム(31,32)の間に挟まれた偏光膜(33)とを有し、前記第1のプリズム(31)に入射する第1のレーザビームが前記偏光膜(33)を透過して前記第2のプリズム(32)の第1の出射面(321)から出射し、該第1の出射面(321)に入射した第2のレーザビームが前記偏光膜(33)で反射されて前記第2のプリズム(32)の第2の出射面(322)から出射するように構成されたビーム整形偏光ビームスプリッタ(30)において、
前記第1のレーザビームが前記第1のプリズム(31)に入射する方向と前記第1の出射面(311)から出射する方向とが平行となるようにしたことを特徴とするビーム整形偏光ビームスプリッタ(30)が得られる。
このビーム整形偏光ビームスプリッタ(30)は、前記第1の出射面(311)と前記第1のレーザビームの出射方向との成す角度が90°になり、かつ、前記第2の出射面(322)と前記第2のレーザビームの出射方向との成す角度が90°になるように構成される。
また、本発明によれば、上記ビーム性経緯偏光ビームスプリッタを備えた光ピックアップが得られる。
なお、上記カッコ内の数字は、本発明の理解を容易にするために付したものであり、何ら本発明を限定するものではない。
本発明によれば、ビーム整形偏光ビームスプリッタにおいて、入射方向と出射方向とを平行にすることで、入射角を小さくすることができ、それによって透過率を高くすることができる。また、入射方向と出射方向とが平行なので、光ピックアップへの組み付けが容易である。
以下、図面を参照して、本発明の実施の形態について詳細に説明する。
図3(a),(b)及び(c)に、本発明の一実施の形態に係るビーム整形偏光ビームスプリッタ30の正面図、右側面図、及び底面図をそれぞれ示す。
図3(a)に示すように、本実施の形態に係るビーム整形偏光ビームスプリッタ30は、互いに異なる屈折率を有する第1及び第2のプリズム31,32と、これらの間に挟まれた偏光膜33とを有している。
第1のプリズム31は、図の左側か右方向へ向かうレーザビームが入射する入射面311を備えている。
また、第2のプリズム32は、第1のプリズム31の入射面311に入射し、かつ偏光膜33を透過したレーザビームが出射する第1の出射面321と、図の右側から第1の出射面321に入射し、かつ偏光膜33で反射されたレーザビームを出射する第2の出射面322とを備えている。
入射面311、第1の出射面321及び第2の出射面の表面には、夫々反射防止コートが施されている。
偏光膜33は、直線偏光であるP偏光を透過させ、S偏光を反射するか、あるいは、S偏光を透過させ、P偏光を反射する。以下では、P偏光を透過させ、S偏光を反射する場合について説明する。
第1及び第2のプリズム31,32の各々の形状及び屈折率は、次の(1)〜(4)の条件を満たすように決定される。
(1)入射面311に入射したレーザビームのビーム形状(楕円)が、第1の出射面321から出射する際に円形となるように、一軸方向に関して拡大される(ビーム形状が整形される)。
(2)入射面311へのレーザビームの入射方向と第1の出射面321からのレーザビームの出射方向とが平行になる。
(3)第1の出射面321から出射するレーザビームの方向が第1の出射面321に対して実質上90°(屈折角=0°)の角度を成す。
(4)第1の出射面321に入射角0°で入射したレーザビームが、偏光膜33で反射され、第2の出射面322に対して実質上90度の角度(屈折角=0°)で出射する。
上記条件と満たすビーム整形偏光ビームスプリッタは、例えば、以下のように構成すればよい。
即ち、第1のプリズム31を構成する硝材として、屈折率n=1.533934(波長=405nm)のS−NSL36(OHARA製)を用い、また、第2のプリズム32を構成する硝材として、屈折率n=1.751073のS−LAL18(同じくOHARA製)を用いる。そして、入射面311と偏光膜33とが成す角度を105.35°とし、第1の出射面321及び第2の出射面のそれぞれと偏光膜33とが成す角度をともに58.6°とすればよい。この場合、入射面311へのレーザビームの入射角度は、46.75°である。なお、上記各面が成す角度は、それぞれ多少の誤差が許容される。
次に、上記条件を満たすビーム整形偏光ビームスプリッタの作用について、図4を参照して説明する。
図4の左側から右方向に向かって進行するレーザビーム(P偏光)が、第1のプリズム31の入射面311に入射したとする。入射面311に入射したレーザビーム(P偏光)は、第1のプリズム31の内部に進入する際に屈折し、その進行方向を上向きに変え、偏光膜33に入射する。
偏光膜33は、入射したレーザビーム(P偏光)を透過させ、第2のプリズム32に入射させる。
第2のプリズム32に入射する際、レーザビーム(P偏光)は再び屈折し、その進行方向は入射面311に入射するレーザビームと平行になる。また、偏光膜33が、入射面311からのレーザビームが大きな入射角で入射するように設けられているので、第1のプリズム側から第2のプリズムに進入したレーザビームは、図の上下方向に関して拡大される。
偏光膜33から第2のプリズム32に入射したレーザビーム(P偏光)は、第1の出射面321から屈折することなく外部へ出射する。
また、図4の右側から左方向に向かって進行するレーザビーム(S偏光)は、入射角=0°で第1の出射面321に入射し、屈折することなく偏光膜33に入射する。
偏光膜33は、第1の出射面321からレーザビーム(S偏光)を、第2の出射面に入射角0°で入射するように反射する。反抗膜33で反射されたレーザビーム(S偏光)は、屈折することなく第2の出射面から外部へ出射する。
以上のように、本実施の形態に係るビーム整形偏光ビームスプリッタでは、入射面にレーザビームが入射する方向と、第1の出射面からレーザビームが出射する方向とが平行なので、光ピックアップへの組み付けが容易に行える。
また、入射面へのレーザビームの入射角が比較的小さいので、反射が少なく、高い透過率を実現できる。
次に、図3のビーム整形偏光ビームスプリッタを用いた光ピックアップについて、図5を参照して説明する。
図5の光ピックアップは、図3のビーム整形ビームスプリッタ30と、その入射面311側に配されたレーザダイオード51及びコリメータレンズ52と、第1の出射面321側に配された1/4波長板53、立ち上げミラー54及び対物レンズ55と、第2の出射面側322に配されたコリメータレンズ56、センサレンズ57及びフォトダイオード58とを備えている。
レーザダイオード51は、直線偏光(ここでは、P偏光)のレーザビームを発生させる。レーザダイオード51から出射したレーザビームは、コリメータレンズ51に入射する。
コリメータレンズ52は、入射するレーザビームを平行光に変換して出射させる。コリメータレンズ52から出射したレーザビームは、ビーム整形ビームスプリッタ30の入射面311に入射し、第1の出射面321から出射する。第1の出射面321から出射したレーザビームは、1/4波長板53に入射する。
1/4波長板は、入射するレーザビームの偏光状態を円偏光に変化させ、立ち上げミラー54に入射させる。
立ち上げミラー54は、1/4波長板からのレーザビームの進行方向を変え、対物レンズ55に入射させる。
対物レンズ55は、立ち上げミラー54からレーザビームを光ディスク59に集光させる。また、対物レンズは、光ディスク59からの反射レーザビームを平行光に変換し、立ち上げミラー54に入射させる。
立ち上げミラー54は、対物レンズ55からの反射レーザビームを1/4波長板53に入射させる。
1/4波長板53は、反射レーザビームの偏光状態を円偏光からS偏光に変化させ、ビーム整形ビームスプリッタ30に入射させる。ビーム整形ビームスプリッタ30に入射した反射レーザビームは、第2の出射面322から出射し、コリメータレンズ56に入射する。
コリメータレンズ56は、入射する反射レーザビームを収束光に変換し、センサレンズ57に入射させる。
センサレンズ57は、入射する反射レーザビームに非点収差を与え(調節し)、フォトダイオード58に入射させる。
フォトダイオード58は、入射する反射レーザビームを検出して電気信号に変換する。
以上のように、図3のビーム整形ビームスプリッタ30は、光ディスク装置の光ピックアップに利用される。
従来のビーム整形プリズムの正面図である。 従来の他のビーム整形プリズムの正面図である。 本発明の一実施の形態に係るビーム整形スプリッタ30の(a)正面図、(b)右側面図、及び(c)底面図である。 図3のビーム整形スプリッタ30の作用を説明するための図である。 図3のビーム整形スプリッタ30を含む光ピックアップの構成を示す概略図である。
符号の説明
10,20 ビーム整形プリズム
11,12,21,22 ウェッジプリズム
13 偏光膜
30 ビーム整形偏光ビームスプリッタ
31,32 プリズム
33 偏光膜
311 入射面
321 第1の出射面
322 第2の出射面
51 レーザダイオード
52 コリメータレンズ
53 1/4波長板
54 立ち上げミラー
55 対物レンズ
56 コリメータレンズ
57 センサレンズ
58 フォトダイオード
59 光ディスク

Claims (5)

  1. 互いに異なる屈折率を有する第1及び第2のプリズムと、これら第1及び第2のプリズムの間に挟まれた偏光膜とを有し、前記第1のプリズムに入射する第1のレーザビームが前記偏光膜を透過して前記第2のプリズムの第1の出射面から出射し、該第1の出射面に入射した第2のレーザビームが前記偏光膜で反射されて前記第2のプリズムの第2の出射面から出射するように構成されたビーム整形偏光ビームスプリッタにおいて、
    前記第1のレーザビームが前記第1のプリズムに入射する方向と前記第1の出射面から出射する方向とが平行になるようにしたことを特徴とするビーム整形偏光ビームスプリッタ。
  2. 請求項1に記載されたビーム整形偏光ビームスプリッタにおいて、
    前記第1の出射面と前記第1のレーザビームの出射方向との成す角度が90°になり、かつ、前記第2の出射面と前記第2のレーザビームの出射方向との成す角度が90°になるようにしたことを特徴とするビーム整形偏光ビームスプリッタ。
  3. 請求項1または請求項2に記載のビーム整形偏光ビームスプリッタを備えたことを特徴とする光ピックアップ。
  4. 請求項3に記載の光ピックアップにおいて、
    前記第1のレーザビームを発生するレーザダイオードと、該レーザダイオードからの前記第1のレーザビームを平行光に変換して前記第1のプリズムに入射させる第1のコリメータレンズと、前記第1の出射面から出射する前記第1のレーザビーム及び前記第1の出射面へ入射する前記第2のレーザビームの偏光状態をそれぞれ変化させる1/4波長板と、該1/4波長板からの前記第1のレーザビームを光ディスクへ向かわせるとともに前記光ディスクからの前記第2のレーザビームを前記1/4波長板へ向かわせる立ち上げミラーと、該立ち上げミラーから前記光ディスクへ向かう前記第1のレーザビームを集光するとともに前記光ディスクから前記立ち上げミラーへ向かう前記第2のレーザビームを平行光に変換する対物レンズと、第2の出射面から出射された前記第2のレーザビームを収束光に変換するコリメータレンズと、該コリメートレンズからの前記第2のレーザビームを調節するセンサレンズ、及び該センサレンズからの前記第2のレーザビームを検出するフォトダイオードとを備えることを特徴とする光ピックアップ。
  5. 請求項4に記載の光ピックアップにおいて、
    前記レーザダイオードからの前記第1のレーザビームがP偏光またはS偏光であることを特徴とする光ピックアップ。

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