JP2005108600A - 液中プラズマ発生装置および液中プラズマ発生方法 - Google Patents
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- 239000007788 liquid Substances 0.000 title claims abstract description 73
- 238000000034 method Methods 0.000 title claims abstract description 21
- 230000001678 irradiating effect Effects 0.000 claims description 5
- 239000007864 aqueous solution Substances 0.000 claims description 3
- XLYOFNOQVPJJNP-UHFFFAOYSA-N water Substances O XLYOFNOQVPJJNP-UHFFFAOYSA-N 0.000 abstract description 9
- LFQSCWFLJHTTHZ-UHFFFAOYSA-N Ethanol Chemical compound CCO LFQSCWFLJHTTHZ-UHFFFAOYSA-N 0.000 abstract description 4
- 230000005855 radiation Effects 0.000 abstract description 3
- 239000000758 substrate Substances 0.000 description 7
- 239000000463 material Substances 0.000 description 6
- 239000000126 substance Substances 0.000 description 5
- 238000000151 deposition Methods 0.000 description 4
- 230000008021 deposition Effects 0.000 description 4
- 238000010586 diagram Methods 0.000 description 4
- 238000007740 vapor deposition Methods 0.000 description 4
- UHOVQNZJYSORNB-UHFFFAOYSA-N Benzene Chemical compound C1=CC=CC=C1 UHOVQNZJYSORNB-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 3
- OKTJSMMVPCPJKN-UHFFFAOYSA-N Carbon Chemical compound [C] OKTJSMMVPCPJKN-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 3
- 239000003990 capacitor Substances 0.000 description 3
- 239000002994 raw material Substances 0.000 description 3
- 238000011282 treatment Methods 0.000 description 3
- 229910001369 Brass Inorganic materials 0.000 description 2
- XMWRBQBLMFGWIX-UHFFFAOYSA-N C60 fullerene Chemical compound C12=C3C(C4=C56)=C7C8=C5C5=C9C%10=C6C6=C4C1=C1C4=C6C6=C%10C%10=C9C9=C%11C5=C8C5=C8C7=C3C3=C7C2=C1C1=C2C4=C6C4=C%10C6=C9C9=C%11C5=C5C8=C3C3=C7C1=C1C2=C4C6=C2C9=C5C3=C12 XMWRBQBLMFGWIX-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- NIXOWILDQLNWCW-UHFFFAOYSA-N acrylic acid group Chemical group C(C=C)(=O)O NIXOWILDQLNWCW-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- 150000001298 alcohols Chemical class 0.000 description 2
- 230000015572 biosynthetic process Effects 0.000 description 2
- 239000010951 brass Substances 0.000 description 2
- 238000006243 chemical reaction Methods 0.000 description 2
- 238000000354 decomposition reaction Methods 0.000 description 2
- 239000010432 diamond Substances 0.000 description 2
- SNRUBQQJIBEYMU-UHFFFAOYSA-N dodecane Chemical compound CCCCCCCCCCCC SNRUBQQJIBEYMU-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- 230000000694 effects Effects 0.000 description 2
- 238000010891 electric arc Methods 0.000 description 2
- 230000005672 electromagnetic field Effects 0.000 description 2
- 238000005516 engineering process Methods 0.000 description 2
- 229910003472 fullerene Inorganic materials 0.000 description 2
- VNWKTOKETHGBQD-UHFFFAOYSA-N methane Chemical compound C VNWKTOKETHGBQD-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- 239000012071 phase Substances 0.000 description 2
- 238000005268 plasma chemical vapour deposition Methods 0.000 description 2
- 238000003786 synthesis reaction Methods 0.000 description 2
- HGUFODBRKLSHSI-UHFFFAOYSA-N 2,3,7,8-tetrachloro-dibenzo-p-dioxin Chemical compound O1C2=CC(Cl)=C(Cl)C=C2OC2=C1C=C(Cl)C(Cl)=C2 HGUFODBRKLSHSI-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- XAGFODPZIPBFFR-UHFFFAOYSA-N aluminium Chemical compound [Al] XAGFODPZIPBFFR-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 229910052782 aluminium Inorganic materials 0.000 description 1
- 230000002238 attenuated effect Effects 0.000 description 1
- 229910052799 carbon Inorganic materials 0.000 description 1
- 239000002041 carbon nanotube Substances 0.000 description 1
- 229910021393 carbon nanotube Inorganic materials 0.000 description 1
- 239000003985 ceramic capacitor Substances 0.000 description 1
- 238000005229 chemical vapour deposition Methods 0.000 description 1
- KYKAJFCTULSVSH-UHFFFAOYSA-N chloro(fluoro)methane Chemical compound F[C]Cl KYKAJFCTULSVSH-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 229910003460 diamond Inorganic materials 0.000 description 1
- 229910002804 graphite Inorganic materials 0.000 description 1
- 239000010439 graphite Substances 0.000 description 1
- 238000010438 heat treatment Methods 0.000 description 1
- 125000002887 hydroxy group Chemical group [H]O* 0.000 description 1
- 239000007791 liquid phase Substances 0.000 description 1
- 229910052710 silicon Inorganic materials 0.000 description 1
- 239000010703 silicon Substances 0.000 description 1
- HBMJWWWQQXIZIP-UHFFFAOYSA-N silicon carbide Chemical compound [Si+]#[C-] HBMJWWWQQXIZIP-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 229910010271 silicon carbide Inorganic materials 0.000 description 1
- 230000002194 synthesizing effect Effects 0.000 description 1
- 239000012808 vapor phase Substances 0.000 description 1
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- Plasma Technology (AREA)
- Carbon And Carbon Compounds (AREA)
- Chemical Vapour Deposition (AREA)
Abstract
【解決手段】課題を解決するために、本発明に係る液中プラズマ発生装置1は、液体3を保持するための容器2と、液体3中に電磁波を照射するための電磁波照射手段4と、液体中で気泡9を発生させるための気泡発生手段と、気泡9を電磁波照射手段4の近くに保持するための気泡保持手段を有するものである。
【選択図】図1
Description
2.容器
3.液体
4.電磁波照射手段
5a、5b.電極
6.高周波供給装置
7.超音波照射手段
8.超音波反射板
9.気泡
10.マイクロ波集中装置
11,12,18 コイル
13,16,17 コンデンサ
Claims (8)
- 液体を保持するための容器と、液体中に電磁波を照射するための電磁波照射手段と、液体中で気泡を発生させるための気泡発生手段と、気泡を電磁波照射手段の近くに保持するための気泡保持手段を有する液中プラズマ発生装置。
- 前記気泡保持手段が気泡を挟んで上下に配置された超音波照射手段と超音波反射板の対である請求項1に記載の液中プラズマ発生装置。
- 前記気泡保持手段が気泡を上部より保持する保持板である請求項1に記載の液中プラズマ発生装置。
- 前記気泡保持手段が気泡を挟んで上下に配置された電磁波照射のための電極である請求項1に記載の液中プラズマ発生装置。
- 導電性の液体中で気泡を発生させるとともにその気泡を電磁波照射手段の近くに保持し、気泡に電磁波を照射して気泡中にプラズマを発生させる液中プラズマ発生方法。
- 上下に配置された超音波照射手段と超音波反射板の対によって気泡を保持する請求項5に記載の液中プラズマ発生方法。
- 上下に配置された電磁波照射のための電極の対によって気泡を保持する請求項5に記載の液中プラズマ発生方法。
- 導電性の液体として水溶液を用いる請求項5ないし請求項7のいずれかに記載の液中プラズマ発生方法。
Priority Applications (1)
Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
---|---|---|---|
JP2003339641A JP4446030B2 (ja) | 2003-09-30 | 2003-09-30 | 液中プラズマ発生装置および液中プラズマ発生方法 |
Applications Claiming Priority (1)
Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
---|---|---|---|
JP2003339641A JP4446030B2 (ja) | 2003-09-30 | 2003-09-30 | 液中プラズマ発生装置および液中プラズマ発生方法 |
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Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
---|---|---|---|
JP2009114083A Division JP4517098B2 (ja) | 2009-05-11 | 2009-05-11 | 液中プラズマ発生方法 |
Publications (2)
Publication Number | Publication Date |
---|---|
JP2005108600A true JP2005108600A (ja) | 2005-04-21 |
JP4446030B2 JP4446030B2 (ja) | 2010-04-07 |
Family
ID=34534778
Family Applications (1)
Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
---|---|---|---|
JP2003339641A Expired - Lifetime JP4446030B2 (ja) | 2003-09-30 | 2003-09-30 | 液中プラズマ発生装置および液中プラズマ発生方法 |
Country Status (1)
Country | Link |
---|---|
JP (1) | JP4446030B2 (ja) |
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US9440213B2 (en) | 2011-04-28 | 2016-09-13 | National University Corporation Ehime University | Nanometer-size-particle production apparatus, nanometer-size-particle production process, nanometer-size particles, zinc/zinc oxide nanometer-size particles, and magnesium hydroxide nanometer-size particles |
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Publication number | Publication date |
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JP4446030B2 (ja) | 2010-04-07 |
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