JP2005101457A - Gallium-nitride semiconductor laser element and its manufacturing method - Google Patents
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- 239000004065 semiconductor Substances 0.000 title claims abstract description 74
- 229910002601 GaN Inorganic materials 0.000 title claims abstract description 71
- JMASRVWKEDWRBT-UHFFFAOYSA-N Gallium nitride Chemical compound [Ga]#N JMASRVWKEDWRBT-UHFFFAOYSA-N 0.000 title claims abstract description 53
- 238000004519 manufacturing process Methods 0.000 title claims description 13
- 239000000758 substrate Substances 0.000 claims abstract description 62
- 230000003287 optical effect Effects 0.000 claims abstract description 18
- 230000001629 suppression Effects 0.000 claims abstract description 6
- 238000005253 cladding Methods 0.000 claims description 27
- 239000000463 material Substances 0.000 claims description 20
- 238000000034 method Methods 0.000 claims description 12
- MCMNRKCIXSYSNV-UHFFFAOYSA-N Zirconium dioxide Chemical compound O=[Zr]=O MCMNRKCIXSYSNV-UHFFFAOYSA-N 0.000 claims description 10
- 238000010521 absorption reaction Methods 0.000 claims description 9
- 230000001681 protective effect Effects 0.000 claims description 8
- VYPSYNLAJGMNEJ-UHFFFAOYSA-N Silicium dioxide Chemical compound O=[Si]=O VYPSYNLAJGMNEJ-UHFFFAOYSA-N 0.000 claims description 6
- 229910052732 germanium Inorganic materials 0.000 claims description 6
- 229910052751 metal Inorganic materials 0.000 claims description 6
- 239000002184 metal Substances 0.000 claims description 6
- 230000005855 radiation Effects 0.000 claims description 6
- 229910052710 silicon Inorganic materials 0.000 claims description 6
- 229910052814 silicon oxide Inorganic materials 0.000 claims description 6
- 229910052581 Si3N4 Inorganic materials 0.000 claims description 5
- GWEVSGVZZGPLCZ-UHFFFAOYSA-N Titan oxide Chemical compound O=[Ti]=O GWEVSGVZZGPLCZ-UHFFFAOYSA-N 0.000 claims description 5
- PNEYBMLMFCGWSK-UHFFFAOYSA-N aluminium oxide Inorganic materials [O-2].[O-2].[O-2].[Al+3].[Al+3] PNEYBMLMFCGWSK-UHFFFAOYSA-N 0.000 claims description 5
- PMHQVHHXPFUNSP-UHFFFAOYSA-M copper(1+);methylsulfanylmethane;bromide Chemical compound Br[Cu].CSC PMHQVHHXPFUNSP-UHFFFAOYSA-M 0.000 claims description 5
- 229910000765 intermetallic Inorganic materials 0.000 claims description 5
- HQVNEWCFYHHQES-UHFFFAOYSA-N silicon nitride Chemical compound N12[Si]34N5[Si]62N3[Si]51N64 HQVNEWCFYHHQES-UHFFFAOYSA-N 0.000 claims description 5
- OGIDPMRJRNCKJF-UHFFFAOYSA-N titanium oxide Inorganic materials [Ti]=O OGIDPMRJRNCKJF-UHFFFAOYSA-N 0.000 claims description 5
- 238000002834 transmittance Methods 0.000 claims description 5
- 238000005530 etching Methods 0.000 claims description 4
- OKTJSMMVPCPJKN-UHFFFAOYSA-N Carbon Chemical compound [C] OKTJSMMVPCPJKN-UHFFFAOYSA-N 0.000 claims description 2
- 229910052799 carbon Inorganic materials 0.000 claims description 2
- 229910052733 gallium Inorganic materials 0.000 claims description 2
- GYHNNYVSQQEPJS-UHFFFAOYSA-N Gallium Chemical compound [Ga] GYHNNYVSQQEPJS-UHFFFAOYSA-N 0.000 claims 1
- 238000005121 nitriding Methods 0.000 claims 1
- 239000010410 layer Substances 0.000 description 120
- 230000000694 effects Effects 0.000 description 11
- XCZXGTMEAKBVPV-UHFFFAOYSA-N trimethylgallium Chemical compound C[Ga](C)C XCZXGTMEAKBVPV-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 9
- JLTRXTDYQLMHGR-UHFFFAOYSA-N trimethylaluminium Chemical compound C[Al](C)C JLTRXTDYQLMHGR-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 7
- 230000004888 barrier function Effects 0.000 description 6
- 230000010355 oscillation Effects 0.000 description 6
- 230000008569 process Effects 0.000 description 6
- 239000013078 crystal Substances 0.000 description 5
- 230000015572 biosynthetic process Effects 0.000 description 4
- 238000001704 evaporation Methods 0.000 description 4
- 230000008020 evaporation Effects 0.000 description 4
- IBEFSUTVZWZJEL-UHFFFAOYSA-N trimethylindium Chemical compound C[In](C)C IBEFSUTVZWZJEL-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 4
- 230000008901 benefit Effects 0.000 description 3
- 239000012159 carrier gas Substances 0.000 description 3
- 238000011835 investigation Methods 0.000 description 3
- 150000004767 nitrides Chemical class 0.000 description 3
- 238000001020 plasma etching Methods 0.000 description 3
- 230000002265 prevention Effects 0.000 description 3
- 238000002310 reflectometry Methods 0.000 description 3
- QGZKDVFQNNGYKY-UHFFFAOYSA-N Ammonia Chemical compound N QGZKDVFQNNGYKY-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- 238000004140 cleaning Methods 0.000 description 2
- 238000003776 cleavage reaction Methods 0.000 description 2
- 239000011248 coating agent Substances 0.000 description 2
- 238000000576 coating method Methods 0.000 description 2
- 150000001875 compounds Chemical class 0.000 description 2
- 238000000151 deposition Methods 0.000 description 2
- 230000006872 improvement Effects 0.000 description 2
- 238000002488 metal-organic chemical vapour deposition Methods 0.000 description 2
- 239000000203 mixture Substances 0.000 description 2
- 230000009467 reduction Effects 0.000 description 2
- 229910052594 sapphire Inorganic materials 0.000 description 2
- 239000010980 sapphire Substances 0.000 description 2
- 230000007017 scission Effects 0.000 description 2
- 238000001771 vacuum deposition Methods 0.000 description 2
- 229910002704 AlGaN Inorganic materials 0.000 description 1
- 229910000980 Aluminium gallium arsenide Inorganic materials 0.000 description 1
- IJGRMHOSHXDMSA-UHFFFAOYSA-N Atomic nitrogen Chemical compound N#N IJGRMHOSHXDMSA-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- -1 Si and Ge Chemical compound 0.000 description 1
- 229910004298 SiO 2 Inorganic materials 0.000 description 1
- BLRPTPMANUNPDV-UHFFFAOYSA-N Silane Chemical compound [SiH4] BLRPTPMANUNPDV-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 229910010413 TiO 2 Inorganic materials 0.000 description 1
- 230000002411 adverse Effects 0.000 description 1
- 229910052782 aluminium Inorganic materials 0.000 description 1
- 229910021529 ammonia Inorganic materials 0.000 description 1
- 238000005452 bending Methods 0.000 description 1
- 230000005540 biological transmission Effects 0.000 description 1
- 230000008859 change Effects 0.000 description 1
- 230000008878 coupling Effects 0.000 description 1
- 238000010168 coupling process Methods 0.000 description 1
- 238000005859 coupling reaction Methods 0.000 description 1
- 230000007547 defect Effects 0.000 description 1
- 239000007789 gas Substances 0.000 description 1
- 238000000227 grinding Methods 0.000 description 1
- 229910021478 group 5 element Inorganic materials 0.000 description 1
- 239000001257 hydrogen Substances 0.000 description 1
- 229910052739 hydrogen Inorganic materials 0.000 description 1
- 125000004435 hydrogen atom Chemical class [H]* 0.000 description 1
- 239000012535 impurity Substances 0.000 description 1
- 229910052738 indium Inorganic materials 0.000 description 1
- 238000002347 injection Methods 0.000 description 1
- 239000007924 injection Substances 0.000 description 1
- 230000031700 light absorption Effects 0.000 description 1
- QBJCZLXULXFYCK-UHFFFAOYSA-N magnesium;cyclopenta-1,3-diene Chemical compound [Mg+2].C1C=CC=[C-]1.C1C=CC=[C-]1 QBJCZLXULXFYCK-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 150000002739 metals Chemical class 0.000 description 1
- 230000004048 modification Effects 0.000 description 1
- 238000012986 modification Methods 0.000 description 1
- 239000013307 optical fiber Substances 0.000 description 1
- 238000005498 polishing Methods 0.000 description 1
- 238000003825 pressing Methods 0.000 description 1
- 239000002994 raw material Substances 0.000 description 1
- 238000007788 roughening Methods 0.000 description 1
- 229910000077 silane Inorganic materials 0.000 description 1
- 239000002356 single layer Substances 0.000 description 1
- 239000000243 solution Substances 0.000 description 1
- 239000000126 substance Substances 0.000 description 1
- 230000005469 synchrotron radiation Effects 0.000 description 1
- 239000010936 titanium Substances 0.000 description 1
- 238000007738 vacuum evaporation Methods 0.000 description 1
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Abstract
Description
本発明は窒化物系半導体レーザ素子に関し、特にGaN系半導体レーザ素子の信頼性を改善する技術に関するものである。 The present invention relates to a nitride semiconductor laser device, and more particularly to a technique for improving the reliability of a GaN semiconductor laser device.
Al、Ga、およびIn等のIII族元素と、V族元素であるNとの化合物からなるGaN系半導体は、そのエネルギバンド構造や化学的安定性の観点から発光素子用の半導体材料として期待されている。そして、近年では、次世代の光学情報記録再生装置用光源として、GaN系青色半導体レーザ素子がさかんに試作されている。光学情報記録再生装置に用いられる光ピックアップにおいては、光源としてのレーザ素子が60℃〜80℃のような高温で長時間駆動し得ることが求められるなどのように、レーザ素子の動作環境は厳しくなる一方である。そして、レーザ素子の信頼性を高くすることが強く望まれている。 A GaN-based semiconductor composed of a group III element such as Al, Ga, and In and a group V element N is expected as a semiconductor material for a light emitting device from the viewpoint of its energy band structure and chemical stability. ing. In recent years, GaN-based blue semiconductor laser elements have been experimentally produced as light sources for next-generation optical information recording / reproducing devices. In an optical pickup used in an optical information recording / reproducing apparatus, the operating environment of a laser element is severe, such as a laser element as a light source being required to be driven at a high temperature such as 60 ° C. to 80 ° C. for a long time. It is becoming. It is strongly desired to increase the reliability of the laser element.
このような信頼性の問題を解決する方策の一つとして、青色半導体レーザ構造を形成するための基板の材料にGaNを使用する試みがある。GaNはサファイア等に比べて熱伝導率が高いので、GaN基板はレーザ素子の高温動作に関して好ましいと考えられる。さらに、レーザ素子に含まれる複数の化合物半導体層をGaN基板上にエピタキシャル成長させれば、それらの半導体層と基板との間の格子定数差を小さくし得るので、エピ層の結晶欠陥や歪を減らし得ることが考えられる。したがって、GaN基板を用いることによって、高信頼性の要求に答え得る品質を備えた青色半導体レーザ素子を作製し得ると期待される。GaNを基板に用いたGaN系青色半導体レーザ素子の例は、Jpn.J.Appl.Phys.,Vol.39,2000,pp.L647−L650や、Jpn.J.Appl.Phys.,Vol.40,2001,pp.L925−L927等に開示されている。 One of the measures to solve such a reliability problem is an attempt to use GaN as a substrate material for forming a blue semiconductor laser structure. Since GaN has higher thermal conductivity than sapphire or the like, a GaN substrate is considered preferable for high temperature operation of the laser device. Furthermore, if a plurality of compound semiconductor layers included in a laser element are epitaxially grown on a GaN substrate, the lattice constant difference between the semiconductor layers and the substrate can be reduced, thereby reducing crystal defects and distortions in the epilayer. It is possible to get. Therefore, it is expected that by using a GaN substrate, a blue semiconductor laser element having a quality that can meet the demand for high reliability can be manufactured. An example of a GaN blue semiconductor laser device using GaN as a substrate is described in Jpn. J. et al. Appl. Phys. , Vol. 39, 2000, pp. L647-L650, Jpn. J. et al. Appl. Phys. , Vol. 40, 2001, pp. L925-L927 and the like.
図8の模式的斜視図は、GaN基板を含む従来の青色半導体レーザ素子の一例として、波長410nmで発振する窒化物系半導体レーザ素子を示している。この半導体レーザ素子80においては、n型GaN基板801上に、厚さ3μmのn型GaN下部コンタクト層802、厚さ0.5μmのn型Al0.07Ga0.93N下部クラッド層803、厚さ0.1μmのn型GaN下部ガイド層804、In0.1Ga0.9N/n型In0.02Ga0.98N(各膜厚4nm/8nm×3周期)量子井戸活性層805、厚さ20nmのp型Al0.2Ga0.8N蒸発防止層806、厚さ0.1μmのp型GaN上部ガイド層807、厚さ0.5μmのp型Al0.07Ga0.93N上部クラッド層808、および厚さ0.1μmのp型GaN上部コンタクト層809が順次積層されている。
The schematic perspective view of FIG. 8 shows a nitride semiconductor laser element that oscillates at a wavelength of 410 nm as an example of a conventional blue semiconductor laser element including a GaN substrate. In this
活性層805の上方では、上部コンタクト層809から上部クラッド層808に到達するまで部分的にエッチングすることによって、幅2μmのリッジ状ストライプが形成されている。すなわち、レーザ素子80において、活性層とその上下の光ガイド層とが上下のクラッド層に挟まれており、活性層で発光した光はリッジ状ストライプに対応する導波路構造(ストライプ状導波路)内に閉じ込められる。そして、レーザ素子80のストライプ状導波路の両端面はファブリ・ペロー共振器の端面ミラーとして働き、レーザ発振を生じさせる。
Above the
エッチングされた領域上には、その全面を覆うように、発振波長の光に対してほぼ透明な埋め込み層810が形成されている。正電極811は、上部コンタクト層809および埋め込み層810を覆うように形成されている。負電極812は、n型GaN基板801の裏側の概略全面上に形成されている。
半導体レーザ素子を光ピックアップの光源として用いる場合、戻り光雑音が問題になることが知られている。特に単一モード発振するレーザ素子におけるように可干渉性の大きい場合に、戻り光によってレーザ素子の相対強度雑音(RIN: Relative Intensity Noise)が非常に悪化し、光ディスク等に記録された情報の再生時の信号読み取りにエラーを生じる。したがって、レーザ素子における雑音は光ピックアップの信頼性を損なう大きな問題であり、光源たるレーザ素子の雑音を抑制するように改善することは、光ピックアップを実用に供するために必須の条件となる。 When a semiconductor laser element is used as a light source of an optical pickup, it is known that return light noise becomes a problem. In particular, when the coherence is large as in a laser element that oscillates in a single mode, the relative intensity noise (RIN: Relativity Intensity Noise) of the laser element is greatly deteriorated by the return light, and the information recorded on the optical disk or the like is reproduced. An error occurs in reading the signal at the time. Therefore, noise in the laser element is a serious problem that impairs the reliability of the optical pickup, and improvement to suppress the noise of the laser element as the light source is an essential condition for putting the optical pickup into practical use.
戻り光雑音は、レーザ素子から射出されたレーザ光が外部の光学部品、光ファイバ、光ディスクなどで反射されてそのレーザ素子に戻ったときに発生する。このような雑音の問題を避けるために、二通りの方向で改善を図ることが考えられる。一つは、例えばAlGaAs系半導体レーザ素子におけるように、自励発振や高周波重畳などを利用して縦多モード発振を発生させて可干渉性を低下させ、レーザ素子に光が戻ってもRINが極端に悪化しないようにすることである。もう一つは、不所望な外部共振器の形成を避けるようにレーザ素子の外部に種々の反射端が生じることを極力防止する、レーザ光の放射様式を改善するなどして、不所望な戻りレーザ光の発生を極力防止するとである。 The return light noise is generated when the laser light emitted from the laser element is reflected by an external optical component, an optical fiber, an optical disk or the like and returned to the laser element. In order to avoid such a noise problem, improvement can be considered in two directions. For example, as in an AlGaAs-based semiconductor laser element, for example, longitudinal multimode oscillation is generated using self-excited oscillation or high-frequency superposition to reduce coherence, and RIN does not change even when light returns to the laser element. It is to prevent it from getting worse. The other is to prevent unwanted reflections from occurring on the outside of the laser element so as to avoid the formation of unwanted external resonators, improve the laser radiation pattern, etc. This is to prevent the generation of laser light as much as possible.
以上の事情に鑑み、本発明は、雑音の問題が改善されたGaN系青色半導体レーザ素子を提供し、特に不所望な光の放射が抑制されるように改善されたレーザ素子を提供することを目的としている。 In view of the above circumstances, the present invention provides a GaN-based blue semiconductor laser device in which the problem of noise is improved, and in particular, provides an improved laser device so that unwanted light emission is suppressed. It is aimed.
本発明によれば、窒化ガリウム系半導体レーザ素子は、基板上においてコンタクト層、下部クラッド層、活性層、および上部クラッド層をこの順序で含み、かつストライプ状光導波路構造を含み、そのレーザ素子のレーザ光射出端面側において基板の端面は活性層から基板内に漏れ出た光が外部へ放射されることを抑制するための光漏洩抑制構造を含むことを特徴としている。 According to the present invention, a gallium nitride based semiconductor laser device includes a contact layer, a lower cladding layer, an active layer, and an upper cladding layer in this order on a substrate, and includes a striped optical waveguide structure. On the laser light emission end face side, the end face of the substrate includes a light leakage suppressing structure for suppressing light leaking from the active layer into the substrate to the outside.
なお、基板は、コンタクト層に比べて実質的に同等以上の屈折率を有し得る。また、基板は、窒化ガリウム系半導体であり得る。 The substrate can have a refractive index substantially equal to or higher than that of the contact layer. The substrate can be a gallium nitride based semiconductor.
光漏洩抑制構造としては、基板の端面の少なくとも一部領域が不透光膜で覆われいればよい。不透光膜で覆われている領域は、基板の端面内においてストライプ状光導波路直下の中央部を含み、その端面の35%以上の面積を占めていることが好ましい。 As the light leakage suppression structure, it is only necessary that at least a partial region of the end face of the substrate is covered with the opaque film. It is preferable that the region covered with the opaque film includes a central portion directly under the stripe-shaped optical waveguide in the end face of the substrate and occupies an area of 35% or more of the end face.
不透光膜は、高反射膜であり得る。高反射膜は、酸化珪素、酸化チタニウム、ジルコニア、アルミナ、窒化珪素、窒化アルミニウム、Si、Ge、金属、および金属間化合物から選択される材料の少なくとも一層を含み得る。高反射膜は、50%以下の光透過率を有することが好ましい。 The opaque film may be a highly reflective film. The highly reflective film may include at least one material selected from silicon oxide, titanium oxide, zirconia, alumina, silicon nitride, aluminum nitride, Si, Ge, metal, and an intermetallic compound. The highly reflective film preferably has a light transmittance of 50% or less.
不透光膜は、高吸収膜であってもよい。高吸収膜は、酸化珪素、酸化チタニウム、ジルコニア、アルミナ、窒化珪素、窒化アルミニウム、Si、Ge、金属、金属間化合物、および炭素から選択される材料の少なくとも一層を含み得る。高吸収膜も、50%以下の光透過率を有することが好ましい。 The opaque film may be a high absorption film. The high absorption film may include at least one material selected from silicon oxide, titanium oxide, zirconia, alumina, silicon nitride, aluminum nitride, Si, Ge, metal, an intermetallic compound, and carbon. The high absorption film also preferably has a light transmittance of 50% or less.
光漏洩抑制構造として、基板の端面の少なくとも一部領域がストライプ状光導波路に直交する面から傾斜させられていてもよい。その傾斜は、10度以上であり得る。また、その傾斜は、20度以上であることがより好ましい。基板端面の傾斜させられた領域上に、さらに不透光膜が形成されていてもよい。 As the light leakage suppression structure, at least a partial region of the end face of the substrate may be inclined from a plane orthogonal to the stripe optical waveguide. The inclination can be 10 degrees or more. Further, the inclination is more preferably 20 degrees or more. An opaque film may be further formed on the inclined region of the substrate end face.
さらに、窒化ガリウム系半導体レーザ素子において、下部クラッド層の下面側への放射損失に関して、1次横モードの損失が基本次横モードに比べて10cm-1以上大きくなるように設計することができる。 Furthermore, the gallium nitride based semiconductor laser device can be designed so that the loss in the primary transverse mode is 10 cm −1 or more larger than the fundamental transverse mode with respect to the radiation loss to the lower surface side of the lower cladding layer.
上述のような窒化ガリウム系半導体レーザ素子を製造するための方法において、レーザ積層構造が形成されたウエハから分割されたレーザバーの分割面のうちで少なくとも活性層および上下クラッド層を覆うことができる治具にそのバーを取り付ける工程と、分割面のうちで治具で覆われていない領域に不透光膜を形成する工程を含むことが好ましい。 In the method for manufacturing the gallium nitride based semiconductor laser device as described above, at least the active layer and the upper and lower cladding layers can be covered among the divided surfaces of the laser bar divided from the wafer on which the laser laminated structure is formed. It is preferable to include a step of attaching the bar to the tool and a step of forming an opaque film in a region of the divided surface that is not covered with the jig.
また、上述のような窒化ガリウム系半導体レーザ素子を製造するための方法において、レーザ積層構造が形成されたウエハの上面からストライプ状導波路に直交する溝をエッチングで形成してその溝の側面を共振器端面とする工程と、その溝を保護材で埋め込む工程と、保護材を剥離させることなく保護材をも含めて溝に沿ってウエハを複数のレーザバーに分割する工程と、バーの分割面上に不透光膜を形成する工程と、保護材を除去する工程とを含むことも好ましい。 In the method for manufacturing a gallium nitride based semiconductor laser device as described above, a groove perpendicular to the stripe-shaped waveguide is formed by etching from the upper surface of the wafer on which the laser laminated structure is formed, and the side surface of the groove is formed. A step of making the resonator end face, a step of embedding the groove with a protective material, a step of dividing the wafer into a plurality of laser bars along the groove including the protective material without peeling off the protective material, and a dividing surface of the bar It is also preferable to include a step of forming an opaque film on the surface and a step of removing the protective material.
本発明によれば、基板端面から不所望な光の放射が抑制され、戻り光雑音を生じにくい高信頼性の窒化ガリウム系半導体レーザ素子を得ることができる。 According to the present invention, it is possible to obtain a highly reliable gallium nitride based semiconductor laser device that suppresses unwanted light emission from the end face of the substrate and hardly generates return light noise.
(用語の定義)
本明細書において、「クラッド層」とは、活性層で発生した光を閉じ込めて導波する機能を有する層を意味する。すなわち、活性層は2つのクラッド層に挟まれており、各クラッド層は導波する光のモード屈折率よりも小さい屈折率を有している。なお、各クラッド層は単層であってもよいし、複数のサブ層を含んでいてもよい。
(Definition of terms)
In this specification, the “cladding layer” means a layer having a function of confining and guiding light generated in the active layer. That is, the active layer is sandwiched between two cladding layers, and each cladding layer has a refractive index smaller than the mode refractive index of the guided light. Each clad layer may be a single layer or may include a plurality of sub-layers.
(問題が生ずる原因の調査)
本発明者らは、GaN基板を用いた従来のGaN系青色半導体レーザ素子において、雑音に関する問題がどの程度生じる可能性があるか調査した。図7のグラフは、GaN基板上のGaN系青色半導体レーザ素子の垂直方向ファー・フィールド・パターン(FFP)を測定した結果を示している。このグラフの横軸は活性層に平行な方向から垂直方向への偏角(deg.:度)を表し、縦軸は光強度(a.u.:任意単位)を表している。その横軸における角度が正の方向は活性層から基板側への偏角を表し、負の方向は活性層からストライプ状リッジ側への偏角を表している。
(Investigation of the cause of problems)
The present inventors investigated how much noise-related problems may occur in a conventional GaN blue semiconductor laser device using a GaN substrate. The graph of FIG. 7 shows the result of measuring the vertical far field pattern (FFP) of the GaN-based blue semiconductor laser element on the GaN substrate. In this graph, the horizontal axis represents the declination (deg .: degree) from the direction parallel to the active layer to the vertical direction, and the vertical axis represents the light intensity (au: arbitrary unit). The direction in which the angle on the horizontal axis is positive represents the deflection angle from the active layer to the substrate side, and the negative direction represents the deflection angle from the active layer to the stripe ridge side.
図7に示されているように、偏角20°〜40°の範囲内において複数の鋭いサブピークが観察された。これらのサブピークが生じる原因を調査したところ、レーザ素子の導波路構造内を通る光の一部が位相のそろった光として基板内に漏れ出し、基板端面に到達後にレーザ光として放射されていることが分った。さらに調査を進めたところ、従来のレーザ構造において、下部クラッド層よりも基板側のn型GaN下部コンタクト層とn型GaN基板との屈折率が等しいので、漏れ光が基板端面にまで到達することが分った。 As shown in FIG. 7, a plurality of sharp sub-peaks were observed in the range of the deflection angle of 20 ° to 40 °. As a result of investigating the cause of these sub-peaks, it was found that a part of the light passing through the waveguide structure of the laser element leaked into the substrate as light having the same phase, and was emitted as laser light after reaching the end face of the substrate. I found out. As a result of further investigation, in the conventional laser structure, the refractive index of the n-type GaN lower contact layer and the n-type GaN substrate on the substrate side with respect to the lower cladding layer is equal, so that the leaked light reaches the substrate end face. I found out.
他方、レーザ素子の上部側では、導波路の中心から数百nm程度の近い距離にある電極金属で漏洩光が吸収されるので、図7から分かるようにFFP測定においてサブピークが出るほどの漏洩光は観察されない。 On the other hand, on the upper side of the laser element, leakage light is absorbed by the electrode metal at a distance of about several hundreds of nanometers from the center of the waveguide. Therefore, as can be seen from FIG. Is not observed.
光ピックアップにおいて半導体レーザ素子を利用する場合には、図7のFFPにおいて偏角0°を中心とする主放射ピークのみをレンズで集光するので、偏角20°〜40°におけるサブピークは集光特性に影響を与えない。しかしながら、それらのサブピークの光は、基板端面から放射された後に周囲から反射され、戻り光としてレーザ素子に悪影響を及ぼす可能性がある。 When a semiconductor laser element is used in the optical pickup, only the main radiation peak centering on the deflection angle of 0 ° is collected by the lens in the FFP of FIG. 7, so that the sub-peak at the deflection angle of 20 ° to 40 ° is condensed. Does not affect the characteristics. However, the light of those sub-peaks is reflected from the surroundings after being emitted from the end face of the substrate, and may adversely affect the laser element as return light.
ところで、基板としてサファイア等の屈折率の低い材料を使用すれば、光が基板中に漏れ出さず、図7に示されているようなサブピークが生じることがない。しかし、その場合には、下部コンタクト層がその上下の層に比べて高い屈折率を有し、しかも数百nm以上もの厚さを有するので、下部コンタクト層内において光の導波が生じ得る。下部クラッド層と基板との間に活性層から漏れた光の導波が存在する場合、レーザ放出光の主放射ピークに乱れが生じ、その乱れた主放射ピークがレンズで集光されるので、前述の問題とは異なった問題が別に生じ得る。しかし、この問題の解決策としては、特許第3375042号公報に述べられているように、下部コンタクト層の端面に工夫を施して導波光が漏れないようにすれば十分である。 By the way, if a material having a low refractive index such as sapphire is used as the substrate, light does not leak into the substrate, and a sub-peak as shown in FIG. 7 does not occur. However, in that case, since the lower contact layer has a higher refractive index than the upper and lower layers and has a thickness of several hundred nm or more, light can be guided in the lower contact layer. When there is a waveguide of light leaking from the active layer between the lower cladding layer and the substrate, the main emission peak of the laser emission light is disturbed, and the disturbed main emission peak is collected by the lens. There may be other problems that are different from those described above. However, as a solution to this problem, as described in Japanese Patent No. 3375042, it is sufficient to devise the end face of the lower contact layer so that the guided light does not leak.
以上のような本発明者らによる調査から、基板を介して漏れ出す不所望なレーザ光に起因する雑音に対する対策を施さなければならないことが明らかとなった。この問題は特にクラッド層より基板側の端面からの漏洩レーザ光によって引き起こされていることから、クラッド層より基板側の層または基板端面に工夫を施して不所望なレーザ光放射を防止することが雑音対策上重要となる。 From the above investigations by the present inventors, it has become clear that countermeasures against noise caused by undesired laser light leaking through the substrate must be taken. This problem is caused in particular by leakage laser light from the end surface on the substrate side of the cladding layer. Therefore, it is possible to prevent unwanted laser light emission by devising the layer on the substrate side or the substrate end surface from the cladding layer. This is important for noise countermeasures.
(実施形態1)
図1は、実施形態1におけるGaN系半導体レーザ素子を模式的に示す斜視図である。また、図2は、図1のレーザ素子の製造工程の一部を模式的に図解する正面図である。なお、本願の各図において、同一の参照符号は同一部分または相当部分を示している。
(Embodiment 1)
FIG. 1 is a perspective view schematically showing a GaN-based semiconductor laser device in the first embodiment. FIG. 2 is a front view schematically illustrating a part of the manufacturing process of the laser device of FIG. In each figure of the present application, the same reference numerals indicate the same or corresponding parts.
図1のレーザ素子の作製に際しては、まず(0001)主面を有する厚さ400μm のn型GaN基板101を洗浄し、MOCVD装置内において水素(H2)雰囲気中で約1100℃の高温クリーニングを行う。その後、レーザ発振に必要な構造を形成するための複数の化合物半導体層を基板上にエピ成長させる。
In manufacturing the laser element of FIG. 1, first, the 400 μm-thick n-
すなわち、高温クリーニングの終了したGaN基板101を約1050℃まで降温させ、キャリアガスのH2とともに、アンモニア(NH3)、トリメチルガリウム(TMG)、およびシラン(SiH4)を導入して、n型GaN基板101の第一主面上にn型GaN下部コンタクト層102を厚さ4μmに成長させる。次に、これらガスに加えてトリメチルアルミニウム(TMA)を所定量導入して、厚さ0.95μmのn型Al0.1Ga0.9N下部クラッド層103を形成する。続いてTMAの供給を停止し、n型GaN下部ガイド層106を厚さ0.1μmに形成する。次に、TMGの供給を停止してキャリアガスをH2から窒素(N2)に代え、NH3を流しながら基板温度を700℃まで降温した後、トリメチルインジウム(TMI)とTMGを導入し、InwGa1-wN(0≦w≦0.2)の障壁層を成長させる。その後、TMIの供給を所定量にまで増加させ、InvGa1-vN(0≦w<v≦0.2)の井戸層を成長させる。これらの障壁層とN井戸層との成長を繰り返して、交互積層構造(障壁層/井戸層/・・・井戸層/障壁層)の多重量子井戸活性層107を形成する。障壁層と井戸層とに関するInGaNの組成比と膜厚は、発光波長が370〜430nmの範囲内になるように設計し、井戸層の数は例えば3層にされることが好ましい。多重量子井戸活性層107の形成が終了すれば、TMIとTMGの供給を停止して、基板温度を再び1050℃まで昇温し、キャリアガスを再びN2からH2に代えてTMG、TMA、およびp型ドーピング原料のビスシクロペンタジエニルマグネシウム(Cp2Mg)を供給し、厚さ0.02μmのp型Al0.2Ga0.8N蒸発防止層108を成長させる。続いて、TMAの供給を停止し、厚さ0.1μmのp型GaN上部ガイド層109を成長させる。次に、TMAを所定量導入してTMGの流量を調整し、厚さ0.5μmのp型Al0.1Ga0.9N上部クラッド層110を形成する。最後に、TMAの供給を停止してTMGの供給量を調整し、厚さ0.1μmのp型GaN上部コンタクト層111を形成し、結晶成長を終了させる。その後、TMGとCp2Mgの供給を停止して基板温度が下げられ、結晶成長の終了したウエハが室温においてMOCVD装置から取り出される。
That is, the temperature of the
結晶成長の終了したウエハは、複数のレーザ素子にするために加工される。まず、ストライプ状導波路を形成するために、p型GaN上部コンタクト層111上において幅2μmのストライプ状レジストがGaN基板の<1−100>方向に沿って形成される。その後、反応性イオンエッチング(RIE)などによって、レジストで保護されていない領域をウェハの上面から掘り込んで、p型AlGaNクラッド層110とp型GaNコンタクト層111を含むリッジストライプ112を形成する。続いて、酸化珪素膜を蒸着してリフトオフし、リッジストライプ112の頂部のみから電流注入を行うための埋め込み層113をそのリッジストライプの両側に設ける。これにより、ストライプ状導波路が作製される。
The wafer on which crystal growth has been completed is processed to form a plurality of laser elements. First, in order to form a striped waveguide, a striped resist having a width of 2 μm is formed on the p-type GaN
リッジストライプ112上には、真空蒸着などによってPd/Mo/Auをこの順に堆積したp型用電極114が形成される。ウェハ上には多くの平行なリッジストライプが形成されるので、p型用電極は、それぞれのリッジストライプ同士間で電気的に分離されるように形成することが望ましい。続いて、基板101の第二主面側を研磨などで削ることによってウエハ全体の厚みを120μm程度に調整し、その後にその第二主面上に真空蒸着などによってTi/Alをこの順で堆積してn型用電極115を形成する。さらに、LD(レーザダイオード)のマウント時の密着性向上のために、n型用電極115上にMo/Auをこの順で真空蒸着してレーザウェハの形成を完了する。なお、以後においては、GaN基板101上に形成された複数の層は、レーザ構造120としてまとめて表現されることもある(図1参照)。
On the
次に、GaN基板の<11−20>方向に沿ってウエハをバー状に劈開して分割し、リッジストライプ方向の両端にレーザ共振器端面を形成する。実施形態1では、共振器長は例えば500μmに設定され得る。その場合、分割されたレーザバーの幅が500μmになるように設定される。 Next, the wafer is cleaved into bars along the <11-20> direction of the GaN substrate and divided to form laser cavity end faces at both ends in the ridge stripe direction. In the first embodiment, the resonator length can be set to 500 μm, for example. In that case, the width of the divided laser bar is set to 500 μm.
分割されたバーの劈開面上には、コーティングが施される。まず、分割されたバーに含まれるレーザ共振器の一方端面側において、劈開面の全面に渡ってSiO2/TiO2の積層構造からなる反射率95%の高反射膜116が真空蒸着により形成され、これが共振器のリア側端面ミラーとして作用する。このとき、高反射膜116がバーのレーザ構造120上面にまでかかるように形成されれば、その剥れ落ちが防止できて好ましい(図1参照)。共振器のフロント端面側においては、GaN基板101の端面のうちでその底辺から約80%の面積を覆うように厚さ100nmのSi膜を蒸着して不透光膜117を形成する。このような不透光膜は、以下のようにして形成することができる。
A coating is applied on the cleavage plane of the divided bar. First, on one end face side of the laser resonator included in the divided bar, a highly
まず、図2(a)の正面図に示すように、幅25μmの支持部151を有するL字型の治具150を用意する。次に、図2(b)に示すように、レーザバーのレーザ構造120側が治具150の支持部151上に載せられて保持され、支持部151側から(図2(b)の下方側から)基板端面上にSi膜を蒸着する。このようにすれば、支持部151で覆われたレーザ構造120中の導波路端面にはSi膜が蒸着されず、基板端面の底面側から約80%の面積を覆う不透光膜117を形成することが可能となる。なお、図2(b)に示すように、治具150とレーザバーとの複数対を連続配置させて蒸着を行なうことが可能である。
First, as shown in the front view of FIG. 2A, an L-shaped
不透光膜117の形成が終了すれば、バーがリッジストライプ方向に平行に分割され、これによって複数のレーザ素子が得られる。このような分割は、スクライブ時の針圧(ウェハに針を押し当てる時の荷重)を大きくして、バーを押し割ることによって行われ得る。以上のプロセスにて完成したレーザ素子10が、図1に示されている。なお、素子分割後のチップは放熱板を兼ねた支持基体上にマウントされ、最終的なレーザ装置として完成させられる。
When the formation of the
上述ように、本実施形態1によるレーザ素子においては、レーザ光が放出されるフロント端面側において、基板端面の約80%が不透光膜により覆われているので、図7において偏角20°〜40°の範囲に存在するサブピークの強度を劇的に減少させることが可能となる。このことによって、レーザ素子においてサブピークに起因する戻り光雑音が発生する危険性を劇的に減少させることができる。 As described above, in the laser device according to the first embodiment, about 80% of the substrate end surface is covered with the light-impermeable film on the front end surface side from which the laser light is emitted. It is possible to dramatically reduce the intensity of sub-peaks existing in the range of ˜40 °. This can dramatically reduce the risk of return light noise due to sub-peaks in the laser element.
(実施形態2)
図3の模式的斜視図は、図1に類似しているが、実施形態2によるGaN系半導体レーザ素子を示している。また、図4は、図3のレーザ素子の製造工程の一部を模式的に図解する斜視図である。本実施形態2に特徴的な点は、レーザ素子20の共振器端面がエッチドミラーで形成されていることである。この特徴によって、不透光膜117の形成がより簡単に行なわれ得るという利点が生じる。
(Embodiment 2)
The schematic perspective view of FIG. 3 is similar to FIG. 1, but shows a GaN-based semiconductor laser device according to the second embodiment. FIG. 4 is a perspective view schematically illustrating a part of the manufacturing process of the laser device of FIG. A characteristic point of the second embodiment is that the cavity end face of the
このようなレーザ素子20は、以下のような工程によって容易に作製することができる。まず、図4(a)に示されているように、実施形態1と同様のプロセスで完成したレーザウェハ上のリッジストライプ112に直交する方向すなわち<11−20>方向に沿って、幅500μmのレジストストライプ201が互いに20μmの間隔を空けて配置されるようにフォトプロセスを利用して形成される。続いて、図4(b)に示されているように、レジストストライプ201で保護されていない領域において、下部コンタクト層102に到達する深さまでRIE等でエッチングしてエッチドミラーを形成する(図3をも参照)。その後、図4(c)に示されているように、レジストストライプ201を剥離し、エッチドミラー部が完全に保護されるように新たなレジスト202が塗布される。続いて、レジスト202が剥離しないようにしながらそのレジストと共にウエハを分割して、図4(d)に示されているように、レジスト202が残存維持された複数のバーを形成する。得られた各バーの一方の分割面上において、Siを堆積して不透光膜117を形成し、レジスト202を剥離して共振器のフロント側端面を露出させる。そして、バーの他方の分割面側のレジスト202をも剥離して、その他方の分割面側を覆うように反射率95%の高反射膜116が形成され、これが共振器のリア側ミラーとして作用する。
Such a
このバーをリッジストライプに平行に複数の素子に分割すれば、レーザ光が射出されるフロント端面側において、GaN基板101端面が実施形態1よりもさらに広い面積にわたって不透光膜117で覆われた本実施形態2の半導体レーザ素子20が得られる(図3参照)。
If this bar is divided into a plurality of elements parallel to the ridge stripe, the end face of the
本実施形態2による上述のプロセスにおいては、不透光膜117のコーティングの際にフロント側端面を覆い隠すための付加的な治具を使用する必要がないので、バーのセッティングが容易であることが大きな利点となる。さらに、エッチドミラーの作製時に掘り込む深さに依存してGaN基板端面が不透光膜117で覆い隠される面積が決定されるので、より広い面積に不透光膜を形成することができ、実施形態1に比べて戻り光雑音の低減効果をより大きくすることが可能となる。
In the above-described process according to the second embodiment, it is not necessary to use an additional jig for covering the front-side end face when coating the
(実施形態3)
図5の模式的斜視図も、図1に類似しているが、実施形態3によるGaN系半導体レーザ素子を示している。本実施形態3に特徴的な点は、レーザ素子30の共振器の両端面側において、GaN基板101の端面が傾斜していることである。この場合、基板側に漏れ出た光は、傾いた基板端面により反射されてn型用電極115側で吸収される。したがって、本実施形態3による図5の構造を有するレーザ素子においても、実施形態1と同様な雑音低減効果が得られる。なお、十分な光漏れ防止効果を得るためには、この基板端面の傾きを十分に大きくする必要がある。その傾斜角の適切な大きさは、導波路から染み出す光の放射角に依存するので、導波路構造の差異によって異なる。しかし、一般には、その傾斜角は、導波路に直交する通常の端面に対して約10度以上であればよく、20度以上であることが好ましい。
(Embodiment 3)
The schematic perspective view of FIG. 5 is also similar to FIG. 1, but shows a GaN-based semiconductor laser device according to the third embodiment. A characteristic point of the third embodiment is that the end face of the
このように傾斜した基板端面は、以下のようなプロセスで形成可能である。まず、本実施形態3においても、実施形態2の場合と同様に、図4(a)および図4(b)に相当するプロセスまでを行う。続いて、ウェハから複数のバーの切り出しをレーザスクライブにて行なう。この際に、レーザによる切断面の法線とリッジストライプ方向とがなす角が例えば20度になるように、ウェハを傾けてレーザスクライブで切断する。 Such an inclined substrate end surface can be formed by the following process. First, in the third embodiment, as in the second embodiment, the processes corresponding to FIGS. 4A and 4B are performed. Subsequently, a plurality of bars are cut out from the wafer by laser scribing. At this time, the wafer is tilted and cut by laser scribe so that the angle formed by the normal of the cut surface by the laser and the ridge stripe direction is, for example, 20 degrees.
なお、n型用電極115側での光吸収効果を高めるために、その電極を形成する面または電極自身に微細な凹凸を設けてもよい。また、図5においてはレーザ素子のリア側においても基板端面が傾斜させられているが、リア側の導波路端面に相当する部分が導波路に垂直に形成されていれば、素子作製上の都合等の理由でその他の部分が傾き有していてもよいことは言うまでもない。
In order to enhance the light absorption effect on the n-
(実施形態4)
図6は、実施形態4によるGaN系半導体レーザ素子の層構造を示す模式的断面図である。本実施形態6に特徴的な点は、レーザ素子の下部クラッド層の屈折率が、基本次横モードの等価屈折率n0と1次横モードの等価屈折率n1との間に設定されていることである。その結果、下部クラッド層側への1次横モードの放射損失が、基本次横モードに比べて10cm-1以上大きくなる。そして、GaN系半導体レーザはより基本次モードで動作しやすくなり、レーザの動作電流・光出力特性における折れ曲がり(キンク)の発生点をより高出力まで引き上げることが可能となる。したがって、より高出力なキンクフリーレーザ素子を作製することができるという大きな利点が得られる。しかしながら、高次モード光を優先的に基板側に逃がすのであるから、前述の戻り光雑音の問題がより強く懸念されることになる。そこで、本実施形態4におけるレーザ素子のような構造において、本発明の特徴である不透光膜の重要性がより顕著になる。
(Embodiment 4)
FIG. 6 is a schematic cross-sectional view showing a layer structure of a GaN-based semiconductor laser device according to the fourth embodiment. Characteristic feature of the present embodiment 6, the refractive index of the lower cladding layer of the laser element, set between the equivalent refractive index n 1 of the equivalent refractive index n 0 in the basic transverse mode and first-order transverse mode It is that you are. As a result, the radiation loss of the primary transverse mode toward the lower cladding layer is increased by 10 cm −1 or more compared to the fundamental transverse mode. The GaN-based semiconductor laser becomes easier to operate in the fundamental order mode, and it is possible to raise the generation point of bending (kinks) in the operating current / optical output characteristics of the laser to a higher output. Therefore, a great advantage that a higher-power kink-free laser element can be produced is obtained. However, since the higher-order mode light is preferentially released to the substrate side, the above-described problem of return light noise is strongly concerned. Therefore, in the structure like the laser element in the fourth embodiment, the importance of the opaque film which is a feature of the present invention becomes more remarkable.
なお、本実施形態4の特徴を有するGaN系レーザ素子40の層構造は種々に設計され得る。その一例においては、GaN基板101上に、n型GaN下部コンタクト層402、n型Alx1Ga1-x1N(0.04≦x1<x2≦0.15、例えばx1=0.06)の下部第1クラッド層403(膜厚0.8μm以上、例えば1.5μm)、n型Alx2Ga1-x2N(0.04≦x1<x2≦0.15、例えばx2=0.1)の下部第二クラッド層404(層厚0.05〜0.3μm、例えば0.2μm)、n型Alx3Ga1-x3N(0.04≦x3<x2≦0.15、例えばx3=0.06)の下部第三クラッド層405(層厚0.01〜0.3μm、例えば0.1μm)、n型GaN下部ガイド層406(膜厚0〜0.15μm、例えば0.1μm)、InwGa1-wN(v<w≦0.2)井戸層とn型InvGa1-vN(0≦v<w)障壁層の交互積層構造からなる多重量子井戸活性層407(発振波長370〜430nm、総膜厚5〜100nm、例えば平均混晶比0.03、平均周期130nm×5周期)、p型AlzGa1-zN蒸発防止層408(膜厚0〜0.1μm、例えば0.02μm)、p型GaN上部ガイド層409(膜厚0.05〜0.15μm、例えば0.1μm)、p型AlyGa1-yN(0.04≦y≦0.15、例えば0.06)の上部クラッド層410(膜厚0.4μm以上、例えば0.5μm)、およびp型GaN上部コンタクト層411(膜厚0.01〜10μm、例えば0.1μm)がこの順に積層される。
The layer structure of the GaN-based laser element 40 having the characteristics of the fourth embodiment can be designed in various ways. In one example, an n-type GaN lower contact layer 402 and an n-type Al x1 Ga 1-x1 N (0.04 ≦ x1 <x2 ≦ 0.15, for example, x1 = 0.06) are formed on a
それらの半導体層の堆積は、実施形態1の場合と同様に行い得る。また、半導体層の堆積後のレーザ素子の形成方法も、実施形態1または2の場合と同様に行えばよい。本実施形態4においては、レーザ素子が基板側に光を漏らす構造を有しているので、実施形態1または2における不透光膜117を適用することによる雑音低減効果がより重要かつ顕著なものとなる。
The semiconductor layers can be deposited in the same manner as in the first embodiment. Further, the method for forming the laser element after the semiconductor layer is deposited may be performed in the same manner as in the first or second embodiment. In the fourth embodiment, since the laser element has a structure that leaks light to the substrate side, the noise reduction effect by applying the
なお、上述の種々の実施形態は本発明をより具体化した例示であって、本発明の範囲内において種々の部分的変更が可能である。例えば、窒化ガリウム系半導体層を成長させる基板の材料は窒化ガリウムに限定されず、下部コンタクト層に比べて屈折率の高い材料を用いれば本発明の効果が大きくなり得る。 The various embodiments described above are exemplifications of the present invention, and various partial modifications are possible within the scope of the present invention. For example, the material of the substrate on which the gallium nitride based semiconductor layer is grown is not limited to gallium nitride, and the effect of the present invention can be enhanced if a material having a higher refractive index than that of the lower contact layer is used.
また、レーザ素子を構成する複数の半導体層は、それぞれ組成の異なる層を組み合わせて同様の機能を持たせるようにしてもよく、不純物が部分的に混入されていてもよい。下部コンタクト層と基板との間には、それらに比べて高い屈折率を有する厚さ0.05μm以下の層が付加的に挿入されていてもよい。このような場合、その高屈折率の層が導波作用を生じ得るが、その層が非常に薄いので活性層から漏れた光との結合効率が非常に低く、活性層からの漏れ光がその高屈折率の層で導波される割合は非常に低くなる。すなわち、活性層からの漏れ光はほとんど基板側に放射される。 In addition, the plurality of semiconductor layers constituting the laser element may have the same function by combining layers having different compositions, and impurities may be partially mixed therein. Between the lower contact layer and the substrate, a layer having a refractive index higher than them and having a thickness of 0.05 μm or less may be additionally inserted. In such a case, the high-refractive index layer can cause a waveguiding effect, but since the layer is very thin, the coupling efficiency with the light leaked from the active layer is very low, and the leaked light from the active layer The rate of wave guiding in the high refractive index layer is very low. That is, most of the leakage light from the active layer is radiated to the substrate side.
レーザ素子のフロント側端面に形成する不透光膜としては、レーザ光の波長付近で高反射率を有する膜または大きな吸収係数を有する膜の二種類を使用することが可能である。高反射率を有する膜を構成する材料は、酸化珪素、酸化チタニウム、ジルコニア、アルミナ等の酸化物、窒化珪素、窒化アルミニウム等の窒化物、Si、Ge等の半導体、金属、および金属間化合物等から選択でき、それらの単独または複数の材料を組み合わせて同様の効果を生じせしめるように任意に設計可能である。また、大きな吸収係数を有する膜の材料としては、C等の軽元素、SiやGe等の半導体等から選択でき、さらに、膜を凝集させて表面積を増やして吸収効果を高めるなどの操作を行なうことも可能である。また、レーザ素子のリア側端面に形成する高反射膜については、高反射率を有する膜に使用できる材料から任意に選択することができる。 As the opaque film formed on the front side end face of the laser element, two types of films having a high reflectance near the wavelength of the laser beam or a film having a large absorption coefficient can be used. Materials constituting the film having high reflectivity include oxides such as silicon oxide, titanium oxide, zirconia, and alumina, nitrides such as silicon nitride and aluminum nitride, semiconductors such as Si and Ge, metals, and intermetallic compounds. And can be arbitrarily designed to produce a similar effect by combining a single material or a plurality of materials. The material of the film having a large absorption coefficient can be selected from light elements such as C, semiconductors such as Si and Ge, and the like. Further, the film is agglomerated to increase the surface area and increase the absorption effect. It is also possible. Further, the high reflection film formed on the rear side end face of the laser element can be arbitrarily selected from materials that can be used for the film having high reflectivity.
不透光膜は、50%以下の光透過率を有することが望ましい。そのような低い光透過率によって、雑音を生じさせる可能性のある放射光パターンのサブピーク強度を半減させることが可能である。また、不透光膜で覆われるべき領域は、リッジストライプ直下の基板中央部を含む35%以上とすることが望ましい。放射光パターンにサブピークを生じさせる漏れ光は、リッジストライプ直下の基板端面で最も強度が高くなり、リッジストライプ直下から水平方向に遠ざかるほど減衰するので、漏れ光強度が高い領域に不透光膜が形成されていれば、基板端面の全体を覆わなくても十分な効果を得ることが期待できる。 It is desirable that the opaque film has a light transmittance of 50% or less. Such low light transmission can halve the sub-peak intensity of the emitted light pattern, which can cause noise. Further, it is desirable that the region to be covered with the opaque film is 35% or more including the central portion of the substrate immediately below the ridge stripe. The leakage light that causes a sub-peak in the synchrotron radiation pattern has the highest intensity at the substrate end face immediately below the ridge stripe, and attenuates as it moves away from the position directly below the ridge stripe in the horizontal direction. If formed, sufficient effects can be expected without covering the entire substrate end face.
各実施形態の特徴は、他の実施形態の特徴と組み合わせることも可能である。また、例えば基板端面を傾けてさらに不透光膜を適用する場合には、基板端面の傾きの方向は実施形態3に述べたものにとどまらず、作製できる限りの任意の方向を向いていてもよい。さらに、不透光膜を適用すべき基板端面を荒らすなどの操作を行なってもよい。 The features of each embodiment can be combined with the features of other embodiments. Further, for example, in the case of applying a light-impermeable film by tilting the substrate end surface, the direction of tilt of the substrate end surface is not limited to that described in the third embodiment, and may be in any direction as long as possible. Good. Furthermore, operations such as roughening the end face of the substrate to which the opaque film is to be applied may be performed.
なお、窒化ガリウム系レーザ素子を構成する各半導体層の導電型を逆にしても同様の効果が得られることは言うまでもない。 It goes without saying that the same effect can be obtained even if the conductivity type of each semiconductor layer constituting the gallium nitride laser element is reversed.
本発明によれば、基板端面からの不所望な光の放射を抑制することによって、戻り光による雑音の問題が改善された高信頼性のGaN系半導体レーザ素子を提供することができる。 According to the present invention, it is possible to provide a highly reliable GaN-based semiconductor laser device in which the problem of noise due to return light is improved by suppressing the emission of unwanted light from the end face of the substrate.
10、20、30、40、80 窒化ガリウム系半導体レーザ素子、101、801 GaN基板、102、402、802 下部コンタクト層、103、403、404、405、803 下部クラッド層、106、406、804 下部ガイド層、107、407、805 活性層、108、408、806 蒸発防止層、109、409、807 上部ガイド層、110、410、808 上部クラッド層、111、411、809 上部コンタクト層、113、810 埋め込み層、114、811 p型用電極、115、812 n型用電極、112 リッジストライプ、116 高反射膜、117 不透光膜、201、202 レジスト層。 10, 20, 30, 40, 80 Gallium nitride semiconductor laser element, 101, 801 GaN substrate, 102, 402, 802 Lower contact layer, 103, 403, 404, 405, 803 Lower cladding layer, 106, 406, 804 Lower Guide layer, 107, 407, 805 Active layer, 108, 408, 806 Evaporation prevention layer, 109, 409, 807 Upper guide layer, 110, 410, 808 Upper clad layer, 111, 411, 809 Upper contact layer, 113, 810 Buried layer, 114, 811 p-type electrode, 115, 812 n-type electrode, 112 ridge stripe, 116 highly reflective film, 117 opaque film, 201, 202 resist layer.
Claims (18)
Priority Applications (1)
Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
---|---|---|---|
JP2003335659A JP4318519B2 (en) | 2003-09-26 | 2003-09-26 | Method for manufacturing gallium nitride based semiconductor laser device |
Applications Claiming Priority (1)
Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
---|---|---|---|
JP2003335659A JP4318519B2 (en) | 2003-09-26 | 2003-09-26 | Method for manufacturing gallium nitride based semiconductor laser device |
Publications (2)
Publication Number | Publication Date |
---|---|
JP2005101457A true JP2005101457A (en) | 2005-04-14 |
JP4318519B2 JP4318519B2 (en) | 2009-08-26 |
Family
ID=34462988
Family Applications (1)
Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
---|---|---|---|
JP2003335659A Expired - Fee Related JP4318519B2 (en) | 2003-09-26 | 2003-09-26 | Method for manufacturing gallium nitride based semiconductor laser device |
Country Status (1)
Country | Link |
---|---|
JP (1) | JP4318519B2 (en) |
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JP4318519B2 (en) | 2009-08-26 |
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Legal Events
Date | Code | Title | Description |
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A621 | Written request for application examination |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A621 Effective date: 20050810 |
|
A977 | Report on retrieval |
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A131 | Notification of reasons for refusal |
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|
A521 | Request for written amendment filed |
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A61 | First payment of annual fees (during grant procedure) |
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|
FPAY | Renewal fee payment (event date is renewal date of database) |
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|
R150 | Certificate of patent or registration of utility model |
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|
FPAY | Renewal fee payment (event date is renewal date of database) |
Free format text: PAYMENT UNTIL: 20120605 Year of fee payment: 3 |
|
FPAY | Renewal fee payment (event date is renewal date of database) |
Free format text: PAYMENT UNTIL: 20130605 Year of fee payment: 4 |
|
S111 | Request for change of ownership or part of ownership |
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|
S531 | Written request for registration of change of domicile |
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|
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R371 | Transfer withdrawn |
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R350 | Written notification of registration of transfer |
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