JP2005091001A - スケールの製造方法及び光電式エンコーダ - Google Patents
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Abstract
【解決手段】 基板17上にイオンプレーティング装置を用いて第1のクロム層21を成膜する。この装置のパワーを下げて第2のクロム層23を成膜する。エッチングレートが小さい第1のクロム層21をエッチングストッパとして、エッチングレートが大きい第2のクロム層23を選択的にエッチングして、光学格子19を形成する。
【選択図】 図6
Description
Claims (6)
- 第1のクロム層及びこの層の上に選択的に形成されると共に前記第1のクロム層よりもエッチングレートが大きい第2のクロム層を有する反射型の光学格子が配置されたスケールと、
前記光学格子に照射する光を発生する光源部と、
前記光学格子で反射又は回折された前記光源部からの光を受光すると共に前記光源部と一緒に前記スケールに対して相対移動可能である受光部と、
を備えることを特徴とする光電式エンコーダ。 - 前記第2のクロム層は、前記第1のクロム層よりも光反射率が低い、
ことを特徴とする請求項1に記載の光電式エンコーダ。 - 前記スケールには、前記第1及び第2のクロム層を覆う光反射層が形成されている、
ことを特徴とする請求項1又は2に記載の光電式エンコーダ。 - イオンプレーティング法を用いて基板上に第1のクロム層を成膜する第1工程と、
前記第1工程よりも成膜装置のパワーを下げて前記第1のクロム層上に第2のクロム層を成膜する第2工程と、
前記第1のクロム層をエッチングストッパとして、前記第2のクロム層を選択的にエッチングすることにより反射型の光学格子を形成する第3工程と、
を備えることを特徴とする光電式エンコーダのスケールの製造方法。 - 前記第2工程の成膜にはスパッタ法を用いる、
ことを特徴とする請求項4に記載の光電式エンコーダのスケールの製造方法。 - 前記第1及び第2のクロム層を同一真空内で成膜する、
ことを特徴とする請求項4又は5に記載の光電式エンコーダのスケールの製造方法。
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