JP2005062721A - Liquid crystal display - Google Patents
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Abstract
Description
本発明は液晶表示装置に係り、たとえばプロジェクタに備えられる液晶表示装置に関する。 The present invention relates to a liquid crystal display device, for example, a liquid crystal display device provided in a projector.
液晶表示装置は、液晶を介して対向配置される各基板を外囲器とし、該液晶の広がり方向に多数の画素が形成されて構成されている。 The liquid crystal display device is configured by using each substrate opposed to the liquid crystal as an envelope and forming a large number of pixels in the liquid crystal spreading direction.
各画素はそれぞれ独立にその液晶の光透過率が制御されるようになっており、このことから、各画素の集合体から構成される画像を目視するには光源を必要とする。 The light transmittance of the liquid crystal is controlled independently for each pixel. From this, a light source is required to view an image composed of an aggregate of each pixel.
液晶表示装置を備えるプロジェクタにおいても光源を備え、その光源からの光は該液晶表示装置内の液晶に照射され、該液晶表示装置内に形成された反射膜によって反射させることにより、該プロジェクタから離間して配置されるスクリーン上に画像を映像させている。 A projector including a liquid crystal display device also includes a light source, and the light from the light source is irradiated on the liquid crystal in the liquid crystal display device and reflected by a reflective film formed in the liquid crystal display device, thereby being separated from the projector. Images are displayed on the screen.
したがって、該スクリーンに鮮明な画像を表示させるために、前記光源の光は比較的その照度が大きいのが通常である。 Therefore, in order to display a clear image on the screen, the light from the light source usually has a relatively high illuminance.
しかし、このようなプロジェクタにおいて、液晶表示装置を原因とする表示不良が生じることが確認された。 However, it has been confirmed that such a projector has a display defect caused by the liquid crystal display device.
この原因を追求した結果、液晶表示装置に強い光が照射されるため、該液晶表示装置内の液晶あるいは配向膜からイオン性の分解物が生成され、これにより液晶の電圧保持率が低下するからであることが判明した。 As a result of pursuing this cause, since the liquid crystal display device is irradiated with strong light, an ionic decomposition product is generated from the liquid crystal or alignment film in the liquid crystal display device, thereby reducing the voltage holding ratio of the liquid crystal. It turned out to be.
本発明は、このような事情に基づいてなされたもので、その目的は、表示不良の生じることのない液晶表示装置を提供することにある。 The present invention has been made based on such circumstances, and an object of the present invention is to provide a liquid crystal display device in which display defects do not occur.
本願において開示される発明のうち、代表的なものの概要を簡単に説明すれば、以下のとおりである。
手段１．
本発明による液晶表示装置は、たとえば、液晶を介して対向する各基板のうち少なくともその一方の基板の液晶側の基板の表面に配向膜とこの配向膜の下に絶縁膜を備えるものであって、
前記配向膜と絶縁膜との間にイオン吸着膜を介在させていることを特徴とするものである。
Of the inventions disclosed in this application, the outline of typical ones will be briefly described as follows.
The liquid crystal display device according to the present invention comprises, for example, an alignment film on the surface of the liquid crystal side of at least one of the substrates facing each other through the liquid crystal, and an insulating film below the alignment film. ,
An ion adsorption film is interposed between the alignment film and the insulating film.
手段２．
本発明による液晶表示装置は、たとえば、手段１の構成を前提とし、前記イオン吸着膜はアルミナ膜であることを特徴とするものである。
Mean 2.
The liquid crystal display device according to the present invention is characterized in that, for example, the configuration of the
手段３．
本発明による液晶表示装置は、たとえば、手段１の構成を前提とし、前記アルミナ膜は少なくとも画素の集合で構成される表示部の全域に形成されていることを特徴とするものである。
Means 3.
The liquid crystal display device according to the present invention is, for example, on the premise of the configuration of the
手段４．
本発明による液晶表示装置は、たとえば、手段１、２、３のいずれかの構成を前提とし、プロジェクタに用いられるものであって、各画素領域における前記絶縁膜の下方に光反射機能を有する画素電極が設けられていることを特徴とするものである。
Means 4.
The liquid crystal display device according to the present invention is, for example, used in a projector on the premise of the configuration of any one of
手段５．
本発明による液晶表示装置は、たとえば、手段４の構成を前提とし、前記絶縁膜はシリコン酸化膜、シリコン窒化膜、およびシリコン酸化膜の順次積層体から構成されていることを特徴とするものである。
Means 5.
The liquid crystal display device according to the present invention is characterized in that, for example, on the premise of the configuration of the means 4, the insulating film is composed of a sequentially laminated body of a silicon oxide film, a silicon nitride film, and a silicon oxide film. is there.
手段６．
本発明による液晶表示装置は、たとえば、手段４の構成を前提とし、前記画素電極は、ゲート信号線からの走査信号によってオンされるスイッチング素子を介してドレイン信号線からの映像信号が供給されることを特徴とするものである。
Means 6.
The liquid crystal display device according to the present invention is premised on the configuration of the means 4, for example, and the pixel electrode is supplied with a video signal from the drain signal line via a switching element that is turned on by a scanning signal from the gate signal line. It is characterized by this.
なお、本発明は以上の構成に限定されず、本発明の技術思想を逸脱しない範囲で種々の変更が可能である。 In addition, this invention is not limited to the above structure, A various change is possible in the range which does not deviate from the technical idea of this invention.
手段１の構成によれば、光の照射によってたとえ液晶および配向膜からイオン性分解物が生成されても、そのイオン性分解物はイオン吸着膜によって吸着され、液晶の電圧保持率を低下させるのを回避できるようになる。
According to the configuration of the
手段２の構成によれば、イオン吸着膜として安価で形成の容易な材料を選択でき、イオン吸着において信頼性を有するようになる。
According to the configuration of the
手段３の構成によれば、イオン吸着膜は表示に寄与する表示部の全域に形成されていることから、表示不良を確実に回避することができるようになる。 According to the configuration of the means 3, since the ion adsorption film is formed over the entire area of the display portion contributing to display, it becomes possible to reliably avoid display defects.
手段４の構成によれば、液晶表示装置に比較的強度の大きな光を照射させなければならないプロジェクタに該液晶表示装置を用いていることから、該液晶表示装置の表示不良を信頼性よく回避することができるようになる。 According to the configuration of the means 4, since the liquid crystal display device is used in a projector that has to irradiate the liquid crystal display device with light having a relatively high intensity, display defects of the liquid crystal display device can be avoided reliably. Will be able to.
手段５の構成によれば、反射型の液晶表示装置として光源からの光の反射率を向上させることができるようになる。 According to the configuration of the means 5, the reflectance of light from the light source can be improved as a reflective liquid crystal display device.
手段６の構成によれば、いわゆるアクティブ・マトリクス型のものに適用でき、表示のコントラストを良好にすることができるようになる。 According to the configuration of the means 6, it can be applied to a so-called active matrix type, and the display contrast can be improved.
以下、本発明による液晶表示装置の実施例を図面を用いて説明をする。
図２は、本発明による液晶表示装置の表示部の一実施例を示す等価回路図である。同図は等価回路であるが、実際の幾何学的配置に対応させて描いている。
Hereinafter, embodiments of a liquid crystal display device according to the present invention will be described with reference to the drawings.
FIG. 2 is an equivalent circuit diagram showing an embodiment of the display unit of the liquid crystal display device according to the present invention. This figure is an equivalent circuit, but is drawn corresponding to the actual geometric arrangement.
液晶を介して対向配置される各基板のうち一方の基板の液晶側の面にて、そのｘ方向に延在しｙ方向に並設されるゲート信号線ＧＬとｙ方向に延在しｘ方向に並設されるドレイン信号線ＤＬとがあり、これら各信号線によって囲まれる矩形状の各領域を画素領域としている。 The gate signal line GL, which extends in the x direction and is juxtaposed in the y direction, extends in the y direction on the liquid crystal side surface of one of the substrates opposed to each other via the liquid crystal. The drain signal lines DL are arranged in parallel to each other, and each rectangular area surrounded by these signal lines is a pixel area.
それぞれの画素領域には、片側のゲート信号線ＧＬからの走査信号によって駆動されるスイッチングトランジスタＳＴと、このスイッチングトランジスタＳＴを介して片側のドレイン信号線ＤＬからの映像信号が供給される画素電極ＰＸとを備えている。さらに、画素電極ＰＸに供給される映像信号を蓄積させるため、この画素電極ＰＸと容量信号線ＣＬとの間に容量素子Ｃｓｔｇを備えている。 In each pixel region, a switching transistor ST driven by a scanning signal from one side gate signal line GL, and a pixel electrode PX to which a video signal from one side drain signal line DL is supplied via this switching transistor ST. And. Further, in order to accumulate a video signal supplied to the pixel electrode PX, a capacitive element Cstg is provided between the pixel electrode PX and the capacitive signal line CL.
容量信号線ＣＬは、たとえばｘ方向に並設される各画素の画素群に共通に、ゲート信号線ＧＬと平行に配置されて形成されている。そして、各画素群のそれぞれ容量信号線ＣＬは表示部外の領域にて共通に接続され、所定の電圧が印加されるようになっている。 The capacitance signal line CL is formed in parallel with the gate signal line GL, for example, in common with the pixel groups of the pixels arranged in parallel in the x direction. The capacitance signal lines CL of the pixel groups are connected in common in a region outside the display unit, and a predetermined voltage is applied.
なお、この図では示されていないが、各ゲート信号線ＧＬのそれぞれの少なくとも一端に接続される走査信号駆動回路を有し、この走査信号駆動回路によって各走査信号線ＧＬに走査信号を順次走査して供給するようになっている。 Although not shown in this figure, each scanning signal line has a scanning signal driving circuit connected to at least one end of each gate signal line GL, and the scanning signal driving circuit sequentially scans the scanning signal lines GL. To supply.
同様に、各ドレイン信号線ＤＬのそれぞれの少なくとも一端に接続される映像信号駆動回路を有し、この映像信号駆動回路によって各ドレイン信号線ＤＬに映像信号を前記走査信号の供給のタイミングに合わせて供給するようになっている。 Similarly, it has a video signal drive circuit connected to at least one end of each drain signal line DL, and this video signal drive circuit matches the video signal to each drain signal line DL in accordance with the timing of supplying the scanning signal. It comes to supply.
また、図示されていないが、各画素領域の画素電極ＰＸはたとえば他方の基板の液晶側の面に各画素領域に共通に形成された対向電極との間に電界を生じせしめ、この電界によって当該画素領域の液晶を挙動させるようになっている。 Although not shown, the pixel electrode PX in each pixel region generates an electric field between, for example, the counter electrode formed in common in each pixel region on the liquid crystal side surface of the other substrate, and the electric field The liquid crystal in the pixel area is made to behave.
図１は、本発明による液晶表示装置の画素の一実施例を示す断面図であり、該液晶表示装置は、プロジェクタに用いられるそれで、いわゆる反射型と称されるものを示している。 FIG. 1 is a cross-sectional view showing an embodiment of a pixel of a liquid crystal display device according to the present invention. The liquid crystal display device is used for a projector, and so-called a reflection type.
まず、たとえばＳｉからなる半導体基板ＳＵＢ１があり、この基板内には、液晶表示装置を駆動させる回路が形成され、これにより液晶表示装置自体を小さく形成できるようになっている。 First, there is a semiconductor substrate SUB1 made of, for example, Si, and a circuit for driving the liquid crystal display device is formed in the substrate, whereby the liquid crystal display device itself can be formed small.
前記回路としては、前記走査信号駆動回路、映像信号駆動回路、およびスイッチングトランジスタＳＴ等である。 Examples of the circuit include the scanning signal driving circuit, the video signal driving circuit, and the switching transistor ST.
前記回路が組み込まれた半導体基板ＳＵＢ１の表面にはたとえばシリコン酸化膜等からなる第１絶縁膜ＩＮＳ１が形成され、この第１絶縁膜ＩＮＳ１の上面には、幾つかの導体層と絶縁層との積層構造が形成されている。 A first insulating film INS1 made of, for example, a silicon oxide film is formed on the surface of the semiconductor substrate SUB1 in which the circuit is incorporated, and several conductor layers and insulating layers are formed on the upper surface of the first insulating film INS1. A laminated structure is formed.
すなわち、前記第１絶縁膜ＩＮＳ１の表面に、第１金属層ＭＴＬ１が所定のパターンで形成されている。この第１金属層ＭＴＬ１は前記基板ＳＵＢ１内に形成された前記回路からの信号が伝達され、最終的には後述する画素電極ＰＸへ該信号を伝達させる導電層として機能する。 That is, the first metal layer MTL1 is formed in a predetermined pattern on the surface of the first insulating film INS1. The first metal layer MTL1 functions as a conductive layer that transmits a signal from the circuit formed in the substrate SUB1 and finally transmits the signal to a pixel electrode PX, which will be described later.
前記第１絶縁膜ＩＮＳ１の表面には、該第１金属層ＭＴＬ１をも被って第２絶縁膜ＩＮＳ２が形成されており、この第２絶縁膜ＩＮＳ２の表面には、第２金属層ＭＴＬ２が所定のパターンで形成されている。 A second insulating film INS2 is formed on the surface of the first insulating film INS1 so as to cover the first metal layer MTL1, and a second metal layer MTL2 is formed on the surface of the second insulating film INS2. The pattern is formed.
ここで、この第２金属層ＭＴＬ２は第２絶縁膜ＩＮＳ２に形成したスルーホールＴＨ１を通して前記第１金属層ＭＴＬ１に電気的に接続されている。第１金属層ＭＴＬ１に供給された信号を第２金属層ＭＴＬ２に伝達させるためである。 Here, the second metal layer MTL2 is electrically connected to the first metal layer MTL1 through a through hole TH1 formed in the second insulating film INS2. This is because the signal supplied to the first metal layer MTL1 is transmitted to the second metal layer MTL2.
第２金属層ＭＴＬ２は、たとえば後述する第３金属層ＭＴＬ３との間に前記容量素子Ｃｓｔｇを形成する一方の電極としての機能を有し、その面積は比較的広く形成されている。該容量素子Ｃｓｔｇは、後述する画素電極ＰＸに映像信号が供給された場合、その蓄積を行なうために設けられるものである。 The second metal layer MTL2 has a function as one electrode for forming the capacitive element Cstg between, for example, a third metal layer MTL3 described later, and has a relatively large area. The capacitive element Cstg is provided to perform accumulation when a video signal is supplied to a pixel electrode PX, which will be described later.
また、第１金属層ＭＴＬ１と接続されたこの第２金属層ＭＴＬ２のうち、第２絶縁膜ＩＮＳ２に形成したスルーホールＴＨ２を通して接続されるものは他の第２金属層ＭＴＬ２と電気的に分離されて形成されている。該スルーホールＴＨ２を通して形成される該第２金属層ＭＴＬ２は、第１金属層ＭＴＬ１と後述する第３金属層ＭＴＬ３との接続を図るための中間層として機能するためである。 Of the second metal layer MTL2 connected to the first metal layer MTL1, the one connected through the through hole TH2 formed in the second insulating film INS2 is electrically separated from the other second metal layer MTL2. Is formed. This is because the second metal layer MTL2 formed through the through hole TH2 functions as an intermediate layer for connection between the first metal layer MTL1 and a third metal layer MTL3 described later.
第２金属層ＭＴＬ２をも被って第１絶縁膜ＩＮＳ１の上面には第３絶縁膜ＩＮＳ３が形成され、この第３絶縁膜ＩＮＳ３の表面には第３金属層ＭＴＬ３が所定のパターンで形成されている。この第３金属層ＭＴＬ３はその一部において第３絶縁膜ＩＮＳ３に形成したスルーホールＴＨ３を通して前記第２金属層ＭＴＬ２に電気的に接続されている。第２金属層ＭＴＬ２に供給された信号を第３金属層ＭＴＬ３に伝達させるためである。 A third insulating film INS3 is formed on the upper surface of the first insulating film INS1 so as to cover the second metal layer MTL2, and a third metal layer MTL3 is formed in a predetermined pattern on the surface of the third insulating film INS3. Yes. A portion of the third metal layer MTL3 is electrically connected to the second metal layer MTL2 through a through hole TH3 formed in the third insulating film INS3. This is because the signal supplied to the second metal layer MTL2 is transmitted to the third metal layer MTL3.
また、この第３金属層ＭＴＬ３はその一部分において、前記第２絶縁膜ＩＮＳ２に形成したスルーホールＴＨ２とその中心軸を同じにして形成された第３絶縁膜ＩＮＳ３に形成したスルーホールＴＨ４を通して第２金属層ＭＬＴ２に接続されている。この第２金属層ＭＬＴ２は第１金属層ＭＬＴ１に接続されているもので、これにより、第１金属層ＭＴＬ１に供給された信号を第３金属層ＭＴＬ３に伝達できるようになる。 In addition, the third metal layer MTL3 is partially in the second through a through hole TH4 formed in the third insulating film INS3 formed with the same central axis as the through hole TH2 formed in the second insulating film INS2. It is connected to the metal layer MLT2. The second metal layer MLT2 is connected to the first metal layer MLT1, so that the signal supplied to the first metal layer MTL1 can be transmitted to the third metal layer MTL3.
なお、この第３金属層ＭＴＬ３は、比較的広い範囲にわたって前記第２金属層ＭＴＬ２と重ね合わされて形成され、該第２金属層ＭＴＬ２との間に第３絶縁膜ＩＮＳ３を誘電体膜とする前記容量素子Ｃｓｔｇの一方の電極を構成するようになっている。 The third metal layer MTL3 is formed so as to overlap the second metal layer MTL2 over a relatively wide range, and the third insulating film INS3 is used as a dielectric film between the second metal layer MTL2. One electrode of the capacitive element Cstg is configured.
第３金属層ＭＴＬ３をも被って第３絶縁膜ＩＮＳ３の表面には第４絶縁膜ＩＮＳ４が形成され、この第４絶縁膜ＩＮＳ４の表面には画素電極ＰＸが形成されている。この画素電極ＰＸは上述したように光反射率の良好な金属層で構成されるようになっている。また、この画素電極ＰＸは、該第４絶縁膜ＩＮＳ４に形成したスルーホールＴＨ５を通して前記第３金属層ＭＴＬ３に電気的に接続されている。これにより、第３金属層ＭＴＬ３に供給された信号を画素電極ＰＸに伝達できるようになる。 A fourth insulating film INS4 is formed on the surface of the third insulating film INS3 so as to cover the third metal layer MTL3, and a pixel electrode PX is formed on the surface of the fourth insulating film INS4. As described above, the pixel electrode PX is composed of a metal layer having a good light reflectance. The pixel electrode PX is electrically connected to the third metal layer MTL3 through a through hole TH5 formed in the fourth insulating film INS4. As a result, the signal supplied to the third metal layer MTL3 can be transmitted to the pixel electrode PX.
このように構成された基板ＳＵＢ１の表面には該画素電極ＰＸをも被って第５絶縁膜ＩＮＳ５が形成されている。この第５絶縁膜ＩＮＳ５はたとえば該画素電極ＰＸ側からシリコン酸化膜（ＳｉＯ）、シリコン窒化膜（ＳｉＮ）、シリコン酸化膜（ＳｉＯ）の順に積層された積層体によって構成されている。 A fifth insulating film INS5 is formed on the surface of the substrate SUB1 thus configured so as to cover the pixel electrode PX. The fifth insulating film INS5 is formed of, for example, a stacked body in which a silicon oxide film (SiO), a silicon nitride film (SiN), and a silicon oxide film (SiO) are stacked in this order from the pixel electrode PX side.
該第５絶縁膜ＩＮＳ５のこのように構成するのは、外部の光源から後述する基板ＳＵＢ２、液晶ＬＱ、画素電極ＰＸに光が入射し、該画素電極ＰＸで反射して再び液晶ＬＱ、基板ＳＵＢ２と出射される光路において、特に画素電極ＰＸにおける反射効率を向上させるためである。 The fifth insulating film INS5 is configured in this way because light is incident on the substrate SUB2, the liquid crystal LQ, and the pixel electrode PX, which will be described later, from an external light source, reflected by the pixel electrode PX, and then again the liquid crystal LQ and the substrate SUB2. This is to improve the reflection efficiency particularly in the pixel electrode PX in the emitted light path.
そして、この第５絶縁膜ＩＮＳ５の上面にはイオン吸着膜ＩＡＦが形成されている。このイオン吸着膜ＩＡＦは、後述する配向膜ＯＲＩ１、および液晶ＬＱに比較的長時間にわたって光源からの光が照射された場合にイオン性の分解物が生成されることから、このイオン性の分解物を吸着させる機能を有するものである。該イオン性の分解物は液晶の電圧保持率を低下させ、表示不良を引き起こすことから、その前の段階で該イオン性の分解物を前記イオン吸着膜ＩＡＦにトラップさせるようにしている。 An ion adsorption film IAF is formed on the upper surface of the fifth insulating film INS5. The ion adsorption film IAF generates an ionic decomposition product when the alignment film ORI1 and the liquid crystal LQ, which will be described later, are irradiated with light from a light source for a relatively long time. It has a function to adsorb. Since the ionic decomposition product lowers the voltage holding ratio of the liquid crystal and causes display defects, the ionic decomposition product is trapped in the ion adsorption film IAF in the previous stage.
このことから、イオン吸着膜ＩＡＦは少なくとも表示部（各画素の集合体からなる領域）の全域にわたって形成することが好ましいが、必ずしもこれに限定されることはなく、たとえば各画素ごとに独立して（物理的に）形成するようにしてもよいことはいうまでもない。 For this reason, it is preferable to form the ion adsorption film IAF over at least the entire display portion (region made up of an aggregate of each pixel). However, the present invention is not necessarily limited thereto. Needless to say, it may be (physically) formed.
このイオン吸着膜ＩＡＦとしてたとえばアルミナ膜が選択される。このアルミナ膜はその下層に配置される前記第５絶縁膜ＩＮＳ５の無機材に対しても、後述するように上層に配置される配向膜ＯＲＩ１の有機材にたいしても接着強度が強い性質を有するという効果も奏する。 For example, an alumina film is selected as the ion adsorption film IAF. This alumina film has a property that it has a strong adhesive strength with respect to the inorganic material of the fifth insulating film INS5 disposed in the lower layer as well as the organic material of the alignment film ORI1 disposed in the upper layer as described later. Also play.
また、このアルミナ膜からなるイオン吸着膜ＩＡＦは、たとえばアルミキレート処理法によって形成できる。この処理法を用いることによって、アルミナをスピン塗布し、その後において焼成するだけで済み、作業効率の向上を図ることができる。 The ion adsorption film IAF made of this alumina film can be formed by, for example, an aluminum chelate treatment method. By using this treatment method, it is only necessary to spin-apply alumina and then fire it, and work efficiency can be improved.
このように、液晶側の基板ＳＢ１の表面に配向膜ＯＲＩ１とこの配向膜ＯＲＩ１の下に絶縁膜（第５絶縁膜ＩＮＳ５）を備えるものであって、前記配向膜ＯＲＩ１と絶縁膜との間にイオン吸着膜ＩＡＦを介在させることによって、該配向膜ＯＲＩ１および液晶ＬＱに光源からの光が照射された場合に生成されるイオン性の分解物を前記イオン吸着膜ＩＡＦによって吸収でき、液晶の汚染を回避できるようになる。 As described above, the surface of the substrate SB1 on the liquid crystal side is provided with the alignment film ORI1 and the insulating film (fifth insulating film INS5) under the alignment film ORI1, and between the alignment film ORI1 and the insulating film. By interposing the ion adsorption film IAF, the ion adsorption film IAF can absorb the ionic decomposition products generated when the alignment film ORI1 and the liquid crystal LQ are irradiated with light from the light source, thereby preventing contamination of the liquid crystal. It can be avoided.
なお、配向膜ＯＲＩ１は液晶と直接に接触する膜で該液晶の分子の初期配向方向を決定づけるようになっている。 The alignment film ORI1 is a film that is in direct contact with the liquid crystal and determines the initial alignment direction of the molecules of the liquid crystal.
また、この半導体基板ＳＵＢ１は該液晶ＬＱを介して他の透明な基板ＳＵＢ２と対向配置され、この透明な基板の液晶側の面に形成した透明導電膜からなる対向電極ＣＴと前記画素電極ＰＸとの間に電界を発生させ、この電界によって液晶の光透過率を制御させるようになっている。 The semiconductor substrate SUB1 is disposed opposite to the other transparent substrate SUB2 via the liquid crystal LQ, and the counter electrode CT made of a transparent conductive film and the pixel electrode PX formed on the liquid crystal side surface of the transparent substrate. An electric field is generated between them, and the light transmittance of the liquid crystal is controlled by this electric field.
上述した実施例では、液晶を介して対向配置される各基板のうち一方の基板ＳＵＢ１が半導体基板で構成されているものであるが、この半導体基板がガラス基板であっても同様に適用できることはいうまでもない。このような場合であっても、光源からの光によって液晶および配向膜からイオン性の分解物が生成され、液晶の電圧保持率が低下する事情において全く同じであるからである。 In the above-described embodiment, one of the substrates facing each other with the liquid crystal interposed between them is one substrate SUB1, which is a semiconductor substrate. Needless to say. This is because even in such a case, the ionic decomposition products are generated from the liquid crystal and the alignment film by the light from the light source, and the voltage holding ratio of the liquid crystal is exactly the same.
また、上述した実施例では、プロジェクタに用いられる液晶表示装置について説明したものである。しかし、これに限らず他の用途に用いられる液晶表示装置においても適用できることはいうまでもない。液晶表示装置はその画像を認識するために光源を必要とし、その光によって液晶および配向膜からイオン性の分解物が生成され、液晶の電圧保持率が低下する事情において全く同じであるからである。 In the above-described embodiment, the liquid crystal display device used for the projector is described. However, it is needless to say that the present invention can be applied not only to this but also to a liquid crystal display device used for other purposes. This is because the liquid crystal display device requires a light source for recognizing the image, and the ionic decomposition products are generated from the liquid crystal and the alignment film by the light, which is exactly the same in the situation where the voltage holding ratio of the liquid crystal is lowered. .
さらに、液晶を介した対向配置される各基板のうち一方の基板に限らず他方の基板にも適用でき、それら双方の基板にも適用できることはいうまでもない。 Furthermore, it cannot be overemphasized that it can apply not only to one board | substrate among the board | substrates opposingly arranged through a liquid crystal but to the other board | substrate, and it can apply also to those both board | substrates.
ＳＵＢ１、ＳＵＢ２…基板、ＧＬ…ゲート信号線、ＤＬ…ドレイン信号線、ＣＬ…容量信号線、ＰＸ…画素電極、ＣＴ…対向電極、Ｃｓｔｇ…容量素子、ＩＡＦ…イオン吸着膜、ＬＱ…液晶、ＯＲＩ１、ＯＲＩ２…配向膜。
SUB1, SUB2 ... Substrate, GL ... Gate signal line, DL ... Drain signal line, CL ... Capacitance signal line, PX ... Pixel electrode, CT ... Counter electrode, Cstg ... Capacitor element, IAF ... Ion adsorption film, LQ ... Liquid crystal, ORI1 ORI2 ... alignment film.
Claims (6)
前記配向膜と絶縁膜との間にイオン吸着膜を介在させていることを特徴とする液晶表示装置。 Among the substrates facing each other through the liquid crystal, at least one of the substrates is provided with an alignment film on the surface of the liquid crystal side substrate and an insulating film under the alignment film,
A liquid crystal display device, wherein an ion adsorption film is interposed between the alignment film and the insulating film.
5. The liquid crystal display device according to claim 4, wherein the pixel electrode is supplied with a video signal from a drain signal line through a switching element that is turned on by a scanning signal from a gate signal line.
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