JP2005053105A - 光学フィルム、反射防止膜、偏光板及び表示装置 - Google Patents

Abstract

【課題】面状均一性が高い光学フィルム、十分な面状均一性を有し、反射防止性能と耐擦傷性能とを両立した反射防止膜（フィルム）、このような反射防止膜を用いた偏光板や表示装置を提供する。
【解決手段】透明支持体上に質量平均分子量が５０万以上５００万以下の超高分子量ポリマーを含有する光学機能層を有する光学フィルム、この光学フィルムのを利用した反射防止膜、反射防止膜を偏光板の保護フィルムに用いた偏光板、並びに反射防止膜または偏光板を低屈折率層が視認側になるように配置した表示装置。
【選択図】 なし

Description

本発明は、光学フィルム、反射防止膜、偏光板およびそれらを用いた表示装置に関する。

近年、各種コーティング法を用いた材料の開発が進んでおり、特に数μｍ〜数１０ｎｍレベルの薄層塗布技術は、光学フィルム、印刷、フォトリソグラフィーなどで必要であり、要求される塗布精度も薄膜化、基材の大型化、塗布の高速化などに伴い高くなってきている。特に光学フィルムの製造においては、膜厚の制御が光学性能を左右する非常に重要なポイントであり、精度を高く保ちつつ塗布速度の高速化を実現できる技術への要求は高くなってきている。

反射防止膜は、一般に、陰極管表示装置（ＣＲＴ）、プラズマディスプレイ（ＰＤＰ）、エレクトロルミネッセンスディスプレイ（ＥＬＤ）や液晶表示装置（ＬＣＤ）のような表示装置において、外光の反射によるコントラスト低下や像の映り込みを防止するために、光学干渉の原理を用いて反射率を低減するようディスプレイの最表面に配置される。

近年これら表示装置、特に従来のCRTに比べ奥行きの薄く、表示領域の大きな表示装置の普及に従って、より高精細化、より高品質な表示装置が要求されるようになっている。それに伴い反射防止膜の面状均一性が強く求められている。ここで言う面状均一性とは、反射防止性能に代表される光学性能のバラツキ、および耐擦傷性能などの膜物性のバラツキが表示装置の全画面内でないことを言う。
反射防止膜の製造方法としては、特許文献１にＣＶＤによる酸化硅素膜を用いたガスバリア性、防眩性、反射防止性に優れる防眩性反射防止膜が記載されているような無機蒸着法が挙げられるが、大量生産性の観点からはオールウェット塗布による反射防止膜の製造方法が有利である。

しかしながら、溶剤を用いたオールウェット塗布は生産性の観点からは非常に有利である反面、塗布直後の溶剤乾燥を一定に保つことが非常に困難で、面状ムラが生じやすい。ここで言う面状ムラとは溶剤乾燥速度差に起因する乾燥ムラや乾燥風で引き起こされる厚みムラである風ムラのことである。
塗布時のムラを低減させるためにはレベリング性を向上させることが有効であることが知られている。レベリング性を向上させる一つの手段として、塗布組成物中に界面活性剤を添加する方法が提案されている。塗布物に界面活性剤を添加すると表面張力が低下して被塗布物への濡れを改良し、塗膜形成過程での表面張力変化を小さく、または低下させて熱対流を防止して膜の均一性を改良するという機構に基づいている（非特許文献１参照）。目的とする塗布組成物中の溶剤、樹脂、各種添加剤との相溶性などにより最適な界面活性種は異なるが、溶剤を用いて塗布する場合には溶剤に可溶で表面張力低下能力が最も高いフッ素系界面活性剤を用いるのが有効である。

特許文献２に、炭素数６以下のパーフルオロアルキル基を有するフッ素系ポリマー型界面活性剤を用いて優れたレベリング性を実現できた例が開示されている。しかしながら、フッ素系界面活性剤を用いて塗布を行うとレベリング効果により均一な膜は出来るものの、乾燥後に出来る塗膜の表面自由エネルギーが低くなるため、その面を他の材料と貼り付けたり、その上に更に塗布を行ったりする場合には界面での密着が弱くなり耐擦傷性が悪化するという問題があった。反射防止フィルムでは屈折率の異なる複数の層を積層するので、層間の密着強度が低下すると耐擦傷性の悪化につながってしまい、実際、パーフルオロアルキル基を含有するフッ素系ポリマー型界面活性剤を添加すると耐擦傷性が悪化する傾向が見られた。

また、オールウェット塗布においてより生産性を向上させるために、塗布速度を高くすることは必須の技術である。だが単純に、塗布速度を高くすると相対的に乾燥風の風速も高くなり、また支持体の高速移動に伴う同伴風の影響も受け、風ムラは悪化することになる。こうして従来では光学性能、膜物性のバラツキを抑えた反射防止膜を得るためには、塗布速度をあまり高くすることはできなかった。均一な膜を形成しつつ、風ムラを防止するための一手段として、塗布後にすみやかに塗布液の粘度を高めることが考えられる。一般的にポリマー等の増粘剤を添加することにより塗布液の粘度を上昇させることができることが知られているが、単に塗布液の粘度を高めることは、レベリング性を悪化させることにつながる。また、機能性材料を塗布する場合には、機能発現を妨げずに粘度を制御することが好ましく、少ない添加量で塗布液の粘度を制御できることが望まれていた。
また、特許文献３には、重量平均分子量２０万以上のアクリル系樹脂を光透過性フィルムの粘着剤層に用いることが開示されているが、塗布性の改良や面状均一性を目的としたものではない。

特開平７−３３３４０４号公報 特開２００２−２４９７０６号公報 特開２００２−１０７５０７号公報 コーティング用添加剤の最新技術、桐生春雄監修、シーエムシー、２００１年

本発明の目的は、
（１）乾燥ムラや風ムラが低減され、面状均一性が高い光学フィルム、
（２）十分な反射防止性能と耐擦傷性能を両立した反射防止膜（反射防止フィルム）、
（３）上記反射防止膜を高い生産性で得ることのできる高速塗布製造方法、そして
（４）そのような反射防止フィルムを用いた偏光板や表示装置、
を提供することである。

本発明者らは、質量平均分子量が５０万以上５００万以下の超高分子量ポリマーを用いることにより、均一に塗布でき、塗布時に生じる乾燥ムラや風ムラを低減した塗布組成物を得られることを見出した。また、透明支持体上に少なくともハードコート層と低屈折率層からなる反射防止膜において、該ハードコート層に該質量平均分子量が５０万以上５００万以下の超高分子量ポリマーを含有させることにより、高速塗布した場合にも、光学性能や物理性能のバラツキが小さく、面状均一性の高い反射防止膜を得ることができることを発見した。

すなわち、本発明の目的は、下記構成の光学フィルム、反射防止膜、偏光板、表示装置の発明により達成される。
（１）透明支持体上に質量平均分子量が５０万以上５００万以下の超高分子量ポリマーを０．０１質量％以上１０質量％以下含有する光学機能層を少なくとも一層有することを特徴とする光学フィルム。
（２）超高分子量ポリマーがエチレン性不飽和モノマーより誘導される繰り返し単位を含むことを特徴とする上記（１）に記載の光学フィルム。
（３）透明支持体上に質量平均分子量が５０万以上５００万以下の超高分子量ポリマーと、有機微粒子および無機微粒子の少なくともいずれかとを含む光学機能層を少なくとも一層有することを特徴とする光学フィルム。
（４）超高分子量ポリマーが、２−ブタノンにポリマーを５質量％溶解した時の粘度が２５℃で２mPa・s以上５００mPa・sであることを特徴とする上記（１）〜（３）のいずれかに記載の光学フィルム。
（５）超高分子量ポリマーの質量平均分子量が７０万以上２５０万以下であることを特徴とする上記（１）〜（４）のいずれかに記載の光学フィルム。
（６）光学機能層を塗設するための塗布組成物に超高分子量ポリマーが添加され、超高分子量ポリマーの添加量が塗布組成物に対して０．０１質量％〜５．０質量％であることを特徴とする上記（１）〜（５）のいずれかに記載の光学フィルム。
（７）塗布組成物の水の含率が３０％以下であることを特徴とする上記（６）に記載の光学フィルム。
（８）塗布組成物が有機および／または無機微粒子分散物を含むことを特徴とする（６）または（７）に記載の光学フィルム。
（９）塗布組成物から塗設された光学機能層が最上層以外に少なくとも一層以上存在することを特徴とする（６）〜（８）のいずれかに記載の光学フィルム。
（１０）最上層以外に、複数の塗布組成物から塗設された複数の光学機能層が存在し、これら複数の光学機能層の屈折率がそれぞれ異なることを特徴とする上記（９）に記載の光学フィルム。
（１１）上記（９）または（１０）に記載の光学フィルムであって、反射防止能を有することを特徴とする反射防止膜。
（１２）最上層が低屈折率層であり、かつ少なくとも一つの光学機能層がハードコート層であることを特徴とする上記（１１）に記載の反射防止膜。
（１３）ハードコート層が防眩性であることを特徴とする上記（１２）記載の反射防止膜。
（１４）低屈折率層が下記一般式［１］で表されるオルガノシランの加水分解物および／またはその部分縮合物の少なくとも１種を含有することを特徴とする上記（１２）または（１３）に記載の反射防止膜。
一般式［１］：（Ｒ¹⁰）_mＳｉ（Ｘ）_4-m
（式中、Ｒ¹⁰は置換もしくは無置換のアルキル基または置換もしくは無置換のアリール基を表す。Ｘは水酸基または加水分解可能な基を表す。ｍは１〜３の整数を表す。）
（１５）防眩性ハードコート層の下層に、さらに防眩性を有しないハードコート層を有することを特徴とする上記（１３）または（１４）に記載の反射防止膜。
（１６）防眩性ハードコート層がバインダーと平均粒径１．０〜１０．０μｍのマット粒子から形成され、該バインダーの屈折率が１．４８〜２．００であることを特徴とする上記（１３）〜（１５）のいずれかに記載の反射防止膜。
（１７）マット粒子の平均粒子径より２０％以上大きな粒子径を持つマット粒子の数の割合がマット全粒子数の１％以下であることを特徴とする上記（１６）に記載の反射防止膜。
（１８）ハードコート層がジルコニウム、チタン、アルミニウム、インジウム、亜鉛、錫、アンチモン、およびケイ素のうちより選ばれる少なくとも１つの金属原子の酸化物からなる無機微粒子を含有することを特徴とする（１１）〜（１７）のいずれかに記載の反射防止膜、
（１９）低屈折率層がシリカおよびフッ化マグネシウムの少なくともいずれかの無機微粒子を含有することを特徴とする（１２）〜（１８）のいずれかに記載の反射防止膜。
（２０）低屈折率層が平均粒子径の異なる無機微粒子を含むことを特徴とする上記（１８）または（１９）に記載の反射防止膜。
（２１）防眩性ハードコート層より下層の防眩性を有しないハードコート層がシリカおよびアルミナの少なくともいずれかの無機微粒子を含有することを特徴とする上記（１５）〜（２０）のいずれかに記載の反射防止膜。
（２２）全てのハードコート層および低屈折率層に無機微粒子粒子を含有することを特徴とする上記（１２）〜（２１）のいずれかに記載の反射防止膜。
（２３）低屈折率層が含フッ素ポリマーを含むことを特徴とする上記（１２）〜（２２）のいずれかに記載の反射防止膜。
（２４）低屈折率層が含フッ素ポリマーを含み、該含フッ素ポリマーがパーフルオロオレフィン共重合体であることを特徴とする上記（１２）〜（２２）のいずれかに記載の反射防止膜。
（２５）低屈折率層に含まれる含フッ素ポリマーが側鎖にラジカル重合性基またはカチオン開環重合性基を有する繰り返し単位を有するポリマーであることを特徴とする上記（２３）に記載の反射防止膜。
（２６）反射防止能を機能する層群と透明支持体との間に少なくとも１層の前方散乱層を有することを特徴とする上記（１２）〜（２５）のいずれかに記載の反射防止膜。
（２７）透明支持体上に低屈折率層を形成した後、鹸化処理されたことを特徴とする上記（１２）〜（２６）のいずれかに記載の反射防止膜。
（２８）上記（１２）〜（２７）のいずれかに記載の反射防止膜の製造方法であって、ハードコート層を形成するための塗布液を１０ｍ／ｍｉｎ以上の塗布速度で塗布してハードコート層を塗設することを特徴とする反射防止膜の製造方法。
（２９）反射防止膜が質量平均分子量が５０万以上５００万以下のポリマーを含有する防眩性ハードコート層を有し、該防眩性ハードコート層を塗布法により塗設することを特徴とする上記（２８）に記載の反射防止膜の製造方法。
（３０）上記（１２）〜（２７）のいずれかに記載の反射防止膜の製造方法であり、低屈折率層が塗布工程により形成され、該低屈折率層用塗布液の溶媒が少なくとも１種の溶媒からなり、該溶媒の５０〜１００質量％が沸点１００℃以下の溶媒からなることを特徴とする反射防止膜の製造方法。
（３１）低屈折率層用塗布液の溶媒がケトン化合物および／またはエステル化合物であることを特徴とする上記（３０）に記載の反射防止膜の製造方法。
（３２）上記（１２）〜（２７）のいずれかに記載の反射防止膜または上記（２８）〜（３１）のいずれかに記載の製造方法により製造した反射防止膜を偏光板における偏光層の２枚の保護フィルムのうちの少なくとも一方に用いたことを特徴とする偏光板。
（３３）２枚の保護フィルムを偏光子の表面と裏面に貼り合わせた偏光板であり、上記（１２）〜（２７）のいずれかに記載の反射防止膜または上記（２８）〜（３２）のいずれかに記載の製造方法により製造した反射防止膜の低屈折率層の形成前または後に、アルカリ液を該反射防止膜の低屈折率層を形成する面の反対側の面に塗布し、加熱、水洗および／または中和することで、該反射防止膜の裏面だけを鹸化処理した反射防止膜を片面の保護フィルムのうちの少なくとも一方に用いたことを特徴とする偏光板。
（３４）２枚の保護フィルムのうち、反射防止膜を用いた保護フィルムとは別の保護フィルムが、光学異方層を含んでなる光学補償層を有する光学補償フィルムであり、該光学異方性層がディスコティック構造単位を有する化合物からなる層であり、該ディスコティック構造単位の円盤面が該表面保護フィルム面に対して傾いており、且つ該ディスコティック構造単位の円盤面と該表面保護フィルム面とのなす角度が、光学異方層の深さ方向において変化していることを特徴とする（３２）または（３３）に記載の偏光板。
（３５）上記（１２）〜（２７）のいずれかに記載の反射防止膜、上記（２８）〜（３１）のいずれかに記載の製造方法により製造した反射防止膜、または上記（３２）〜（３４）のいずれかに記載の偏光板を有する表示装置であり、低屈折率層が視認側になるように配置したことを特徴とする偏光板を用いる表示装置。
（３６）上記上記（１２）〜（２７）のいずれかに記載の反射防止膜または上記（２８）〜（３１）のいずれかに記載の製造方法により製造した反射防止膜を有する表示装置で、反射防止膜の低屈折率層が視認側になるように配置したことを特徴とする偏光板を持たない表示装置。
（３７）上記（３２）〜（３４）のいずれかに記載の偏光板を少なくとも１枚有するＴＮ、ＳＴＮ、ＶＡ、ＩＰＳ、ＯＣＢのモードの透過型、反射型、または半透過型の液晶表示装置。
（３８）上記（３２）〜（３４）のいずれかに記載の偏光板を少なくとも１枚有する透過型または半透過型の液晶表示装置であり、視認側とは反対側の偏光板とバックライトとの間に、偏光選択層を有する偏光分離フィルムを配置することを特徴とする液晶表示装置。
（３９）上記（３２）〜（３４）のいずれかに記載の偏光板の反射防止膜とは反対側の保護フィルムに、λ／４板を配置したことを特徴とする有機ＥＬディスプレイ用表面保護板。

本発明の光学フィルムは面状均一性が高く、この光学フィルムを利用して、高い面状均一性と共に十分な反射防止性能と耐擦傷性能を両立した反射防止膜を提供することができる。
また、本発明の反射防止膜の製造方法によれば、上記反射防止膜を高い生産性で安定して製造することができる。
さらにはこのような反射防止膜を用いた偏光板や表示装置は十分な反射防止性能を有し視認性にすぐれる。

以下、本発明に係る質量平均分子量が５０万以上５００万以下の超高分子量ポリマー（「超高分子量ポリマー」と略記することもある）について詳細に説明する。本願明細書において、「（数値１）〜（数値２）」という記載は「（数値１）以上（数値２）以下」の意味を表す。
本発明中に記載されている質量平均分子量の値は、ＴＳＫｇｅｌ ＧＭＨｘＬ、ＴＳＫｇｅｌ Ｇ４０００ＨｘＬ、ＴＳＫｇｅｌ Ｇ２０００ＨｘＬ（何れも東ソー(株)製）のカラムを使用したＧＰＣ分析装置により、溶媒テトラヒドロフラン（ＴＨＦ）、示差屈折計検出によるポリスチレン換算で表した分子量である。測定には固形分濃度が０.０１〜１質量％、好ましくは０．０３〜０．５質量％のＴＨＦに可溶な溶剤の溶液を用い、４０℃で測定を行った。
本発明において質量平均分子量が５０万以上５００万以下のポリマーとは前記測定方法により測定した結果、質量平均分子量が５０万以上５００万以下であるポリマーであることを意味する。

本発明において用いることが出来る超高分子量ポリマーは、構造には限定はない。重縮合反応により得られるポリエステル、ポリアミド、ポリイミド類、エチレン性不飽和モノマーの付加重合反応により得られるポリマー、更に重付加反応、付加縮合反応、開環重合により得られるポリマーはいずれも使用することが出来る。

これらの中では連鎖的に反応が進行する付加重合反応が高分子量のポリマーを得るために有利であり、重合方法はラジカル重合、カチオン重合、アニオン重合のいずれも利用できる。従って、本発明で用いる高分子量ポリマーとしては、前記重合方法で重合し得るエチレン性不飽和モノマーより誘導される繰り返し単位を含むポリマーが好ましい。エチレン性不飽和モノマーとしては、下記に例示したモノマー群の中から独立、かつ自由に組み合わせても良く、１種のモノマーから得られるポリマーであっても、複数のモノマーから得られるコポリマーであっても良い。使用可能なモノマーには特に制限はなく、通常のラジカル重合、カチオン重合、或いはアニオン重合反応が可能なものであれば好適に用いることが出来る。

モノマー群
（１）アルケン類
エチレン、プロピレン、１−ブテン、イソブテン、１−ヘキセン、１−ドデセン、１−オクタデセン、１−エイコセン、ヘキサフルオロプロペン、フッ化ビニリデン、クロロトリフルオロエチレン、３，３，３−トリフルオロプロピレン、テトラフルオロエチレン、塩化ビニル、塩化ビニリデンなど
（２）ジエン類
１，３−ブタジエン、イソプレン、１，３−ペンタジエン、２−エチル−１，３−ブタジエン、２−ｎ−プロピル−１，３−ブタジエン、２，３−ジメチル−１，３−ブタジエン、２−メチル−１，３−ペンタジエン、１−フェニル−１，３−ブタジエン、１−α−ナフチル−１，３−ブタジエン、１−β−ナフチル−１，３−ブタジエン、２−クロロ−１，３−ブタジエン、１−ブロモ−１，３−ブタジエン、１−クロロブタジエン、２−フルオロ−１，３−ブタジエン、２，３−ジクロロ−１，３−ブタジエン、１，１，２−トリクロロ−１，３−ブタジエン、２−シアノ−１，３−ブタジエン、１，４−ジビニルシクロヘキサンなど

（３）α，β−不飽和カルボン酸の誘導体
（3a）アルキルアクリレート類
メチルアクリレート、エチルアクリレート、ｎ−プロピルアクリレート、イソプロピルアクリレート、ｎ−ブチルアクリレート、イソブチルアクリレート、ｓｅｃ−ブチルアクリレート、ｔｅｒｔ−ブチルアクリレート、アミルアクリレート、ｎ−ヘキシルアクリレート、シクロヘキシルアクリレート、２−エチルへキシルアクリレート、ｎ−オクチルアクリレート、ｔｅｒｔ−オクチルアクリレート、ドデシルアクリレート、フェニルアクリレート、ベンジルアクリレート、２−クロロエチルアクリレート、２−ブロモエチルアクリレート、４−クロロブチルアクリレート、２−シアノエチルアクリレート、２−アセトキシエチルアクリレート、メトキシベンジルアクリレート、２−クロロシクロヘキシルアクリレート、フルフリルアクリレート、テトラヒドロフルフリルアクリレート、２−メトキシエチルアクリレート、ω−メトキシポリエチレングリコールアクリレート（ポリオキシエチレンの付加モル数：ｎ＝２ないし１００のもの）、３−メトキシブチルアクリレート、２−エトキシエチルアクリレート、２−ブトキシエチルアクリレート、２−（２−ブトキシエトキシ）エチルアクリレート、１−ブロモ−２−メトキシエチルアクリレート、１，１−ジクロロ−２−エトキシエチルアクリレート、グリシジルアクリレートなど）

（3b）アルキルメタクリレート類
メチルメタクリレート、エチルメタクリレート、ｎ−プロピルメタクリレート、イソプロピルメタクリレート、ｎ−ブチルメタクリレート、イソブチルメタクリレート、ｓｅｃ−ブチルメタクリレート、ｔｅｒｔ−ブチルメタクリレート、アミルメタクリレート、ｎ−ヘキシルメタクリレート、シクロヘキシルメタクリレート、２−エチルヘキシルメタクリレート、ｎ−オクチルメタクリレート、ステアリルメタクリレート、ベンジルメタクリレート、フェニルメタクリレート、アリルメタクリレート、フルフリルメタクリレート、テトラヒドロフルフリルメタクリレート、クレジルメタクリレート、ナフチルメタクリレート、２−メトキシエチルメタクリレート、３−メトキシブチルメタクリレート、ω−メトキシポリエチレングリコールメタクリレート（ポリオキシエチレンの付加モル数：ｎ＝２ないし１００のもの）、２−アセトキシエチルメタクリレート、２−エトキシエチルメタクリレート、２−ブトキシエチルメタクリレート、２−（２−ブトキシエトキシ）エチルメタクリレート、グリシジルメタクリレート、３−トリメトキシシリルプロピルメタクリレート、アリルメタクリレート、２−イソシアナトエチルメタクリレートなど

（3c）不飽和多価カルボン酸のジエステル類
マレイン酸ジメチル、マレイン酸ジブチル、イタコン酸ジメチル、タコン酸ジブチル、クロトン酸ジブチル、クロトン酸ジヘキシル、フマル酸ジエチル、フマル酸ジメチルなど

（3e）α、β−不飽和カルボン酸のアミド類
Ｎ，Ｎ−ジメチルアクリルアミド、Ｎ，Ｎ−ジエチルアクリルアミド、Ｎ−ｎ−プロピルアクリルアミド、Ｎ−ｔｅｒｔブチルアクリルアミド、Ｎ−ｔｅｒｔオクチルメタクリルアミド、Ｎ−シクロヘキシルアクリルアミド、Ｎ−フェニルアクリルアミド、Ｎ−（２−アセトアセトキシエチル）アクリルアミド、Ｎ−ベンジルアクリルアミド、Ｎ−アクリロイルモルフォリン、ジアセトンアクリルアミド、Ｎ−メチルマレイミドなど

（４）不飽和ニトリル類
アクリロニトリル、メタクリロニトリルなど
（５）スチレンおよびその誘導体
スチレン、ビニルトルエン、エチルスチレン、ｐ−ｔｅｒｔブチルスチレン、ｐ−ビニル安息香酸メチル、α−メチルスチレン、ｐ−クロロメチルスチレン、ビニルナフタレン、ｐ−メトキシスチレン、ｐ−ヒドロキシメチルスチレン、ｐ−アセトキシスチレンなど
（６）ビニルエステル類
酢酸ビニル、プロピオン酸ビニル、酪酸ビニル、イソ酪酸ビニル、安息香酸ビニル、サリチル酸ビニル、クロロ酢酸ビニル、メトキシ酢酸ビニル、フェニル酢酸ビニルなど

（７）ビニルエーテル類
メチルビニルエーテル、エチルビニルエーテル、ｎ−プロピルビニルエーテル、イソプロピルビニルエーテル、ｎ−ブチルビニルエーテル、イソブチルビニルエーテル、ｔｅｒｔ−ブチルビニルエーテル、ｎ−ペンチルビニルエーテル、ｎ−ヘキシルビニルエーテル、ｎ−オクチルビニルエーテル、ｎ−ドデシルビニルエーテル、ｎ−エイコシルビニルエーテル、２−エチルヘキシルビニルエーテル、シクロヘキシルビニルエーテル、フルオロブチルビニルエーテル、フルオロブトキシエチルビニルエーテルなど
（８）その他の重合性単量体
Ｎ−ビニルピロリドン、メチルビニルケトン、フェニルビニルケトン、メトキシエチルビニルケトン、２−ビニルオキサゾリン、２−イソプロペニルオキサゾリンなど

超高分子量ポリマーの好ましい例として下記一般式［３］で示される重合単位から構成されるポリマーが挙げられる。
一般式［３］

一般式［３］中、Ｘは単結合、または＊−ＣＯＯ−＊＊、＊−ＯＣＯ−＊＊、＊−ＣＯＮ（Ｒ³）−＊＊、あるいは＊−Ｏ−＊＊で示される２価の連結基を表し、２価の連結基が好ましい。ここで。＊は主鎖の炭素原子に結合する位置、＊＊はＲ²に結合する位置を各々示す。
Ｒ¹は、水素原子、炭素数１〜８のアルキル基、フッ素原子、または塩素原子を表し、水素原子、炭素数１〜４のアルキル基、またはフッ素原子がより好ましく、水素原子またはメチル基が更に好ましい。
Ｒ²およびＲ³は、それぞれ独立に、水素原子、置換基を有していても良い炭素数１〜２０の直鎖、分岐、または環状のアルキル基、ポリ（アルキレンオキシ）基を含むアルキル基、置換基を有していても良い炭素数６〜３０の芳香族基を表し、置換基を有していても良い炭素数１〜１２の直鎖、分岐、または環状のアルキル基、または置換基を有していても良い炭素数６〜２０芳香族基が好ましい。ａは各重合単位の質量比を表し、単一のモノマーからなるポリマーの場合にはａは１００を表す。
また、一般式［３］におけるＲ¹、Ｒ²、Ｒ³、Ｘのいずれかがが異なるモノマーを２種類以上用いて共重合させて得られる共重合体を用いても良い。

以下に一般式［３］で表される具体例を示すが、本発明はこれにより限定されるものではない。

上記化学式中、ａは各重合単位の質量比を表し、単一のモノマーからなるポリマーの場合にはａは１００を表す。

重合方法には特に制限は無いが、超高分子量ポリマーを得るために好ましい方法として、活性種が失活しないリビング重合が挙げられる。しかしながらリビング重合を行うためには、水、求核種および酸素などの活性種を失活させ得る化学種を系から十分に取り除く必要がある、或いは溶液中の反応であるので高分子量のポリマーが生成するにつれ反応液の粘度が急激に上昇してしまうといった製造上の制約があることが知られている。製造上の制約が小さいという観点では、一般的なラジカル重合反応が好ましく、溶液重合法、乳化重合法、懸濁重合法、塊状重合法などを採ることが可能である。ラジカル重合法に関しては例えば「高分子科学実験法」高分子学会編（東京化学同人、１９８１年）などに記載されている。これらのうち、溶液重合法で超高分子量ポリマーを合成すると、反応液の粘度が急激に上昇してしまい、取り扱いが困難になりやすい。一方、乳化重合法は一般に超高分子量のポリマーを得るのに有利な方法であり、本発明に用いる超高分子量ポリマーを合成する方法として好ましい方法である。超高分子量のポリマーを乳化重合により合成する方法が、特開平５−２１４００６号、特開２０００−２５６４２４号及び特開２００１−１０６７１５号などの各公報に開示されており、それらの方法により得られた超高分子量ポリマーも本発明に用いることが出来る。

乳化重合に用いるモノマーに特に制限は無く、乳化重合が進行しうるモノマーであればどのようなものでも良い。取り扱いの観点からは、ガラス転移温度（Tg）が室温以上であるものが好ましいが、特に制限するものではない。また、乳化重合を行うためには、水中にモノマーがいくらか溶解することが好ましい。しかし、水への溶解性が極めて低いモノマーであっても、アルコール類などの水に溶け、モノマーも溶解するような溶媒を添加すれば乳化重合を行うことが出来る。更に、室温で固体であるモノマーであっても、水に可溶な溶媒の溶液として反応に用いることにより乳化重合させることが出来る。
従って、前述したモノマーを好ましく使用することができる。なかでもアクリル酸誘導体、メタクリル酸誘導体、スチレン類、ビニルエステル類がより好ましく、アクリル酸誘導体、メタクリル酸誘導体が更に好ましい。

本発明の超高分子量ポリマーは、低分子量ポリマーと比較して少量添加で増粘効果が大きいことが特徴である。一般にポリマーの固有粘度とポリマーの分子量の関係は以下の式で表されることが知られており、分子量の増加に伴い指数関数的に固有粘度が高くなることがわかる（例えば高分子化学序論(第２版)、ｐ５１〜５５）。
[η]＝ＫＭ^a （Ｍは分子量、Ｋ、ａはポリマー種によって決まる定数）
従って、本発明の超高分子量ポリマーは塗布組成物に対して少量添加で大きな増粘効果を得ることが出来る。塗布組成物はある機能を発現する目的で作製されるので、増粘剤のような添加剤は添加量が少ない方が発現するべき機能への影響を小さくすることが出来るので、その点で本発明の超高分子量ポリマーは有利であると言える。

本発明の超高量ポリマーの質量平均分子量は、５０万以上４００万以下であることが好ましく、６０万以上３００万以下であることがより好ましく、７０万以上２５０万以下であることがさらに好ましい。
ポリマーの分子量が大きくなると、少量溶解するだけで大幅に粘度が上昇する。このことは、単に分子量だけでなく、溶解時に溶液中でポリマーが広がることも重要な因子と考えられる。これにより超高分子量ポリマーにおいて、溶液の濃度上昇に対する粘度上昇の効果がより大きくなると理解できる。例えば、２−ブタノンにポリマーを５質量％溶解した時の粘度が２５℃で２mPa・sより大きくなることが好ましく、３mPa・sより大きくなることがより好ましい。

本発明の光学フィルムを構成する光学機能層は、上記超高分子量ポリマーを含有する塗布組成物を調製した後、この塗布組成物を塗布して形成することが好ましい。
本発明の超高分子量ポリマーを塗布組成物中に添加する場合に添加量には特に制限はないが、塗布組成物中に、固形分換算で、好ましくは０．０１〜１０質量％、より好ましくは０．０３〜５質量％、さらに好ましくは０．０５〜２質量％添加する。また、本発明の超高分子量ポリマーを１種類のみ添加しても、複数種類添加しても良い。超高分子量ポリマーを過剰に添加すると塗布組成物の粘度が高くなりすぎて塗布性が悪化することになり、好ましくない。また、０．０１質量％未満であると、超高分子量ポリマーを配合する効果が発現しない。上記塗布組成物から形成された光学機能層には、上記範囲の量、超高分子量ポリマーが含有される。
本発明の超高分子量ポリマーは、２５℃における２−ブタノンに対する溶解度が２質量％以上であることが好ましく、５質量％以上であることがより好ましく、１０質量％以上であることがさらに好ましい。

また、本発明の高分子量ポリマーよりも小さい分子量を有するポリマーを同時に添加しても良い。この場合、高分子量成分と低分子量成分をまとめて質量平均分子量を算出すると、その値が５０万以下になる場合もあるが、本発明はそのような場合も含むものである。即ち、ＧＰＣ分析の分子量分布に複数のピークが見られる場合には、その内の少なくとも一つのピークの質量平均分子量が５０万以上５００万以下であれば良い。

本発明の超高分子量ポリマーを含む塗布組成物は、光学機能層の機能を損なわない範囲で、特に制限無く該ポリマー以外の成分を含有することができる。
即ち、飽和炭化水素類（ｎ−ヘキサン、ｎ−オクタン等）、芳香族炭化水素類（トルエン、キシレン、クロロベンゼンなど）、ケトン類（アセトン、２−ブタノン、４−メチル−２−ペンタノン、イソホロン、シクロヘキサノンなど）、アルコール類（メチルアルコール、イソプロピルアルコール、ｎ−ブチルアルコール、２−メトキシエタノール、１−メトキシ−２−プロパノール、セロソルブ、ブチルセロソルブ、ブチルカルビトール、カルビトールアセテートなど）、エステル類（酢酸メチル、酢酸エチル、酢酸ブチルなど）、アミド類（Ｎ，Ｎ−ジメチルホルムアミド、Ｎ，Ｎ−ジメチルアセトアミド、Ｎ，Ｎ−ジメチルイミダゾリノンなど）、ハロゲン系溶剤（１，１，１−トリクロロエタン、クロロホルム、パーフルオロオクタンなど）、エーテル類（テトラヒドロフラン、ジオキサンなど）等の有機溶剤、水、また、アクリル樹脂、ウレタン樹脂、フェノール樹脂、ポリエステル樹脂、アルキッド樹脂、エポキシ樹脂、オレフィン樹脂、ビニル樹脂、フッ素樹脂等の各種樹脂類、有機・無機顔料、染料、カ−ボン等の着色剤、シリカ、酸化チタン、酸化亜鉛、酸化アルミニウム、酸化ジルコニウム、酸化カルシウム、炭酸カルシウム等の無機粉末、高級脂肪酸、ポリ（フッ化ビニリデン）、ポリ（テトラフロロエチレン）、ポリエチレン等の有機微粉末、感光剤、耐光性向上剤、耐候性向上剤、酸化防止剤、耐熱安定剤、消泡剤、粘度調整剤、艶調整剤、フッ素系界面活性剤、シリコーン系界面活性剤、炭化水素系界面活性剤等の各種添加剤等を、目的に応じて選択した各種成分を使用することが可能である。

本発明の光学フィルムの一形態として好適な反射防止膜の基本的な構成を図面を参照しながら説明する。

図１に模式的に示される態様は本発明の反射防止膜の一例を示す断面図であり、この場合、反射防止膜１は、透明支持体２、ハードコート層３、防眩性ハードコート層４、そして屈折率が最も低い低屈折率層５の順序の層構成を有する。防眩性ハードコート層４には、微粒子６が分散しており、防眩性ハードコート層４の微粒子６以外の部分の素材の屈折率が１．４８〜２．００の範囲にあることが好ましく、低屈折率層５の屈折率は１．３８〜１．４９の範囲にあることが好ましい。本発明においてはハードコート層はこのように防眩性を有するハードコート層でもよいし、防眩性を有しないハードコート層でもよく、１層でもよいし、複数層、例えば２層乃至４層で構成されていてもよい。従って図１に示したハードコート層３は必須ではないがフィルム強度付与のために塗設されることが好ましい。同様に低屈折率層においても１層で構成されていてもよいし、複数層で構成されていてもよい。

本発明のハードコート層は、特に塗布ムラ、乾燥ムラ、点欠陥等の面状均一性を確保するために、超高分子量ポリマーを含有させた塗布液を塗布して、形成することが特徴である。超高分子量ポリマーの添加によりこのような効果が得られる理由についてはよくわかっていないが、塗布後の組成物から溶媒が失われる過程での粘度上昇が、より低分子量のポリマーに比べて大きいことが推定される。これにより、面状均一性を高めつつ、高速塗布適性を持たせて、生産性を高めることができたと考えられる。

本発明のハードコート層と低屈折率層のうちの少なくとも１層には、層間密着力を強化するために、オルガノシラン化合物、その加水分解物およびその部分縮合物の少なくともいずれか、いわゆるゾル成分（以降このようにも称する）を含有する。特に低屈折率層は、反射防止能と耐擦傷性を両立させるために、オルガノシラン化合物の加水分解物およびその部分縮合物の少なくともいずれかを含有することが好ましく、ハードコート層は、オルガノシラン化合物、その加水分解物およびその部分縮合物の少なくともいずれかを含有することが好ましい。
オルガノシラン化合物は、下記一般式［１］で表される。
一般式[１]： （Ｒ¹⁰）_m Ｓｉ（Ｘ）₄一_m
上記一般式［１］において、Ｒ¹⁰は、置換もしくは無置換のアルキル基、置換もしくは無置換のアリール基を表す。アルキル基としてはメチル、エチル、プロピル、イソプロピル、ヘキシル、ｔ‐ブチル、sec‐ブチル、ヘキシル、デシル、ヘキサデシル等が挙げられる。アルキル基として好ましくは炭素数１〜３０、より好ましくは炭素数１〜１６、特に好ましくは１〜６のものである。アリール基としてはフェニル、ナフチル等が挙げられ、好ましくはフェニル基である。

Ｘは、水酸基または加水分解可能な基を表し加水分解可能な基として、例えばアルコキシ基（炭素数1〜５のアルコキシ基が好ましい。例えばメトキシ基、エトキシ基等が挙げられる）、ハロゲン原子（例えばＣｌ、Ｂｒ、Ｉ等）、又はＲ²ＣＯＯ−（Ｒ²は水素原子または炭素数１〜５のアルキル基が好ましい。例えばＣＨ₃ＣＯＯ、Ｃ₂Ｈ₅ＣＯＯ等が挙げられる）が挙げられ、好ましくはアルコキシ基であり、特に好ましくはメトキシ基またはエトキシ基である。
ｍは１〜３の整数を表す。Ｒ¹⁰もしくはＸが複数存在するとき、複数のＲ¹⁰もしくはＸは、それぞれ同じであっても異なっていても良い。ｍとして好ましくは１または２であり、特に好ましくは１である。

Ｒ¹⁰に含まれる置換基としては、特に制限はないが、ハロゲン原子（フッ素原子、塩素原子、臭素原子等）、水酸基、メルカプト基、カルボキシル基、エポキシ基、アルキル基（メチル、エチル、ｉ‐プロピル、プロピル、ｔ‐ブチル等）、アリール基（フェニル、ナフチル等）、芳香族ヘテロ環基（フリル、ピラゾリル、ピリジル等）、アルコキシ基（メトキシ、エトキシ、ｉ‐プロピルオキシ、ヘキシルオキシ等）、アリールオキシ（フェノキシ等）、アルキルチオ基（メチルチオ、エチルチオ等）、アリールチオ基（フェニルチオ等）、アルケニル基（ビニル、１‐プロペニル等）、アシルオキシ基（アセトキシ、アクリロイルオキシ、メタクリロイルオキシ等）、アルコキシカルボニル基（メトキシカルボニル、エトキシカルボニル等）、アリールオキシカルボニル基（フェノキシカルボニル等）、カルバモイル基（カルバモイル、Ｎ‐メチルカルバモイル、Ｎ，Ｎ‐ジメチルカルバモイル、Ｎ‐メチル‐Ｎ‐オクチルカルバモイル等）、アシルアミノ基（アセチルアミノ、ベンゾイルアミノ、アクリルアミノ、メタクリルアミノ等）等が挙げられ、これら置換基は更に置換されていても良い。
Ｒ¹⁰が複数ある場合は、少なくとも一つが、置換アルキル基もしくは置換アリール基であることが好ましく、中でも、下記一般式［２］で表されるビニル重合性の置換基を有するオルガノシラン化合物が好ましい。
一般式［２］

一般式［２］において、Ｒ¹は水素原子もしくはメチル基、メトキシ基、アルコキシカルボニル基、シアノ基、フッ素原子又は塩素原子を表す。アルコキシカルボニル基としては、メトキシカルボニル基、エトキシカルボニル基などが挙げられる。中でも、水素原子、メチル基、メトキシ基、メトキシカルボニル基、シアノ基、フッ素原子又は塩素原子が好ましく、水素原子、メチル基、メトキシカルボニル基、フッ素原子又は塩素原子が更に好ましく、水素原子又はメチル基が特に好ましい。
Ｙは単結合もしくは＊−ＣＯＯ−＊＊、＊−ＯＣＯ−＊＊、＊−ＣＯＮＨ−＊＊又は＊−Ｏ−＊＊を表し、単結合、＊−ＣＯＯ−＊＊および＊−ＣＯＮＨ−＊＊が好ましく、単結合および＊−ＣＯＯ−＊＊が更に好ましく、＊−ＣＯＯ−＊＊が特に好ましい。＊は＝Ｃ（Ｒ¹）−に結合する位置を、＊＊はＬに結合する位置を表す。

Ｌは２価の連結基を表す。具体的には、置換もしくは無置換のアルキレン基、置換もしくは無置換のアリーレン基、内部に連結基（例えば、エーテル、エステル、アミド結合）を有する置換もしくは無置換のアルキレン基、内部に連結基を有する置換もしくは無置換のアリーレン基が挙げられ、置換もしくは無置換の炭素数２〜１０のアルキレン基、置換もしくは無置換の炭素数６〜２０のアリーレン基、内部に連結基を有する炭素数３〜１０のアルキレン基が好ましく、無置換のアルキレン基、無置換のアリーレン基、内部にエーテルまたはエステル連結基を有するアルキレン基が更に好ましく、無置換のアルキレン基、内部にエーテルまたはエステル連結基を有するアルキレン基が特に好ましい。置換基は、ハロゲン、水酸基、メルカプト基、カルボキシル基、エポキシ基、アルキル基、アリール基等が挙げられ、これら置換基は更に置換されていても良い。

ｎは０または１を表す。複数存在するＸは、それぞれ同じであっても異なっていても良い。ｎとして好ましくは０である。
Ｒ¹⁰は、一般式［１］と同義であり、置換もしくは無置換のアルキル基、無置換のアリール基が好ましく、無置換のアルキル基、無置換のアリール基が更に好ましい。
Ｘは一般式［１］と同義であり、ハロゲン、水酸基、無置換のアルコキシ基が好ましく、塩素、水酸基、無置換の炭素数１〜６のアルコキシ基が更に好ましく、水酸基、炭素数１〜３のアルコキシ基が更に好ましく、メトキシ基が特に好ましい。

一般式［１］または一般式［２］で表される化合物は２種類以上を併用しても良い。以下に一般式［１］または一般式［２］で表される化合物の具体例を示すが、本発明はこれらに限定されるものではない。

これらの具体例の中で、（Ｍ−１）、（Ｍ−２）、（Ｍ−３）、（Ｍ−１２）、（Ｍ−２５）、（Ｍ−２６）、（Ｍ−３１）、（Ｍ−３２）、（Ｍ−３９）、および（Ｍ−４２）が好ましく、（Ｍ−１）、（Ｍ−２）、（Ｍ−２５）、（Ｍ−３１）、および（Ｍ−４２）がより好ましく、（Ｍ−１）、（Ｍ−２）、および（Ｍ−２５）等が特に好ましい。

本発明の効果を得るためには、オルガノシランの加水分解物および／またはその部分縮合物に占める前記ビニル重合性基を含有するオルガノシランの加水分解物および／またはその部分縮合物の割合は、３０質量％〜１００質量％が好ましく、５０質量％〜１００質量％がより好ましく、７０質量％〜１００質量％が更に好ましく、９０質量％〜１００質量％が特に好ましい。前記ビニル重合性基を含有するオルガノシランの含有量が３０質量％より少ないと、固形分が生じたり、液が濁ったり、経時安定性が悪化したり、分子量の制御が困難（分子量の増大）であったり、重合性基の含有量が少ないために重合処理を行った場合の性能（例えば反射防止膜の耐傷性）の向上が得られにくいために好ましくない。

ビニル重合性基を含有するオルガノシランを含有するオルガノシランの加水分解物および／またはその部分縮合物の質量平均分子量は、分子量が３００未満の成分を除いた場合に、１０００〜２００００が好ましく、１０００〜１００００がより好ましく、１１００〜５０００が更に好ましく、１２００〜３０００が更に好ましく、１２００〜２０００が更に好ましい。
オルガノシランの加水分解物および／またはその部分縮合物における分子量が３００以上の成分のうち、分子量が２００００より大きい成分は２０質量％以下であることが好ましく、１５質量％以下であることがより好ましく、１０質量％以下であることが更に好ましく、６質量％以下であることが更に好ましく、４質量％以下であることが特に好ましい。
また、オルガノシランの加水分解物および／またはその部分縮合物における分子量３００以上の成分のうち、分子量１０００〜２００００の成分は８０質量％以上であることが好ましい。８０質量％未満であると、そのようなオルガノシランの加水分解物および／またはその部分縮合物を含有する硬化性組成物を硬化させて得られる硬化皮膜は、透明性や基板との密着性が劣る場合がある。

ここで、質量平均分子量及び分子量は、ＴＳＫgel ＧＭＨxL、ＴＳＫgel Ｇ4000ＨxL、ＴＳＫgel Ｇ2000ＨxL（何れも東ソー(株)製の商品名）のカラムを使用したＧＰＣ分析装置により、溶媒ＴＨＦ、示差屈折計検出によるポリスチレン換算で表した分子量であり、含有量は、分子量が３００以上の成分のピーク面積を１００％とした場合の、前記分子量範囲のピークの面積％である。

オルガノシランの加水分解物および／またはその部分縮合物の分散度（質量平均分子量／数平均分子量）は３．０〜１．１が好ましく、２．５〜１．１がより好ましく、２．０〜１．１が更に好ましく、１．５〜１．１が特に好ましい。

オルガノシランの加水分解物の部分縮合物の²⁹Ｓｉ‐ＮＭＲ分析により、一般式［１］または［２］のＸが−ＯＳｉの形で縮合している状態を確認できる。
この時、Ｓｉの３つの結合が−ＯＳｉの形で縮合している場合（Ｔ３）、Ｓｉの２つの結合が−ＯＳｉの形で縮合している場合（Ｔ２）の比率（Ｔ３／Ｔ２）を縮合度とした場合に、オルガノシランの加水分解物の縮合度は０．５〜３．５が好ましく、０．５〜３．０がより好ましく、０．７〜２．５がとくに好ましい。
縮合度が０．５より小さいと加水分解や縮合が十分でなく、モノマー成分が増えるため硬化が十分でなく、３．５より大きいと加水分解や縮合が進みすぎ、加水分解可能な基が消費されてしまうため、バインダーポリマー、樹脂基板、無機微粒子などの相互作用が低下してしまい、これらを用いても効果が得られにくくなる。

オルガノシランの加水分解および／または縮合反応は、無溶媒でも、溶媒中でも行うことができ、硬化性組成物を調製することができる。溶媒を用いる場合はオルガノシランの加水分解物および／またはその部分縮合物の濃度を適宜に定めることができる。溶媒としては成分を均一に混合するために有機溶媒を用いることが好ましく、例えばアルコール類、芳香族炭化水素類、エーテル類、ケトン類、エステル類などが好適である。
溶媒はオルガノシランと触媒を溶解させるものが好ましい。また、有機溶媒が塗布液あるいは塗布液の一部として用いられることが工程上好ましく、含フッ素ポリマーなどのその他の素材と混合した場合に、溶解性あるいは分散性を損なわないものが好ましい。

このうち、アルコール類としては、例えば１価アルコールまたは２価アルコールを挙げることができ、このうち１価アルコールとしては炭素数１〜８の飽和脂肪族アルコールが好ましい。これらのアルコール類の具体例としては、メタノール、エタノール、ｎ‐プロピルアルコール、ｉ‐プロピルアルコール、ｎ‐ブチルアルコール、sec ‐ブチルアルコール、tert‐ブチルアルコール、エチレングリコール、ジエチレングリコール、トリエチレングリコール、エチレングリコールモノブチルエーテル、酢酸エチレングリコールモノエチルエーテルなどを挙げることができる。

また、芳香族炭化水素類の具体例としては、ベンゼン、トルエン、キシレンなどを、エーテル類の具体例としては、テトラヒドロフラン、ジオキサンなど、ケトン類の具体例としては、アセトン、メチルエチルケトン、メチルイソブチルケトン、ジイソブチルケトンなどを、エステル類の具体例としては、酢酸エチル、酢酸プロピル、酢酸ブチル、炭酸プロピレンなどを挙げることができる。
これらの有機溶媒は、１種単独であるいは２種以上を混合して使用することもできる。該反応における溶媒に対する固形分の濃度は特に限定されるものではないが通常１質量％〜９０質量％の範囲であり、好ましくは２０質量％〜７０質量％の範囲である。

オルガノシランの加水分解反応および／または縮合反応は、触媒の存在下で行われることが好ましい。触媒としては、塩酸、硫酸、硝酸等の無機酸類；シュウ酸、酢酸、ギ酸、メタンスルホン酸、トルエンスルホン酸等の有機酸類；水酸化ナトリウム、水酸化カリウム、アンモニア等の無機塩基類；トリエチルアミン、ピリジン等の有機塩基類；トリイソプロポキシアルミニウム、テトラブトキシジルコニウム等の金属アルコキシド類等が挙げられるが、ゾル液の製造安定性やゾル液の保存安定性の点から、本発明においては、酸触媒（無機酸類、有機酸類）が用いられる。無機酸では塩酸、硫酸、有機酸では、水中での酸解離定数(ｐＫa値（２５℃））が４．５以下のものが好ましく、塩酸、硫酸、水中での酸解離定数が３．０以下の有機酸がより好ましく、塩酸、硫酸、水中での酸解離定数が２．５以下の有機酸が更に好ましく、水中での酸解離定数が２．５以下の有機酸が更に好ましく、メタンスルホン酸、シュウ酸、フタル酸、マロン酸が更に好ましく、シュウ酸が特に好ましい。

加水分解および／または縮合反応は、通常、オルガノシランの加水分解性基１モルに対して０．３〜２モル、好ましくは０．５〜１モルの水を添加し、上記溶媒の存在下あるいは非存在下に、そして酸触媒の存在下に、２５〜１００℃で、撹拌することにより行われる。
加水分解性基がアルコキシドで酸触媒が有機酸の場合には、有機酸のカルボキシル基やスルホ基がプロトンを供給するために、水の添加量を減らすことができ、オルガノシランのアルコキシド基１モルに対する水の添加量は、０〜２モル、好ましくは０〜１．５モル、より好ましくは０〜１モル、特に好ましくは、０〜０．５モルである。アルコールを溶媒に用いた場合には、実質的に水を添加しない場合も好適である。

酸触媒の使用量は、酸触媒が無機酸の場合には加水分解性基に対して０．０１〜１０モル％、好ましくは０．１〜５モル％であり、酸触媒が有機酸の場合には、水の添加量によって最適な使用量が異なるが、水を添加する場合には加水分解性基に対して０．０１〜１０モル％、好ましくは０．１〜５モル％であり、実質的に水を添加しない場合には、加水分解性基に対して０．０１〜５００モル％、好ましくは１〜２００モル％であり、より好ましくは２０〜２００モル％であり、更に好ましくは５０〜１５０モル％であり、特に好ましくは５０〜１２０モル％である。
反応は２５〜１００℃で撹拌することにより行われるがオルガノシランの反応性により調節されることが好ましい。

オルガノシランのゾルの含有量は、添加する層によっても異なるが、低屈折率層の添加量は含有層（添加層）の全固形分の０．１〜５０質量％が好ましく、０．５〜２０質量％がより好ましく、１〜１０質量％が特に好ましい。低屈折率層以外の層への添加量は、含有層（添加層）の全固形分の０．００１〜５０質量％が好ましく、０．０１〜２０質量％がより好ましく、０．０５〜１０質量％が更に好ましく、０．１〜５質量％が特に好ましい。

低屈折率層に含有され、詳しくは後述される含フッ素ポリマーに対するオルガノシランのゾルの使用量は、５〜１００質量％が好ましく、５〜４０質量％がより好ましく、８〜３５質量％が更に好ましく、１０〜３０質量％が特に好ましい。使用量が少なすぎると本発明の効果が得にくく、使用量が多すぎると屈折率が増加したり、膜の形状・面状が悪化したりするので好ましくない。

本発明の反射防止膜は、透明支持体上にハードコート層を有し、さらにその上に低屈折率層を有するが、要求される性能に応じ、該ハードコートの一層を防眩性ハードコート層とした反射防止膜とすることができる。
本発明の反射防止膜では膜強度を向上させる目的で防眩性ハードコート層の下層にさらに防眩性ではないハードコート層を設けることもできる。

さらに支持体上の各層に無機微粒子（フィラー）を添加することが好ましい。各層に添加する無機微粒子はそれぞれ同じでも異なっていても良く、各層の屈折率、膜強度、膜厚、塗布性などの必要性能に応じて、種類、添加量は調節されることが好ましい。
本発明に使用する無機微粒子形状は特に制限されるものではなく、例えば、球状、板状、繊維状、棒状、不定形、中空等のいずれも好ましく用いられるが、球状が分散性がよくより好ましい。また、無機微粒子の種類についても特に制限されるものではないが、非晶質のものが好ましく用いられ、金属の酸化物、窒化物、硫化物またはハロゲン化物からなることが好ましく、金属酸化物が特に好ましい。金属原子としては、Ｎａ、Ｋ、Ｍｇ、Ｃａ、Ｂａ、Ａｌ、Ｚｎ、Ｚｒ、Ｆｅ、Ｃｕ、Ｔｉ、Ｓｎ、Ｉｎ、Ｗ、Ｙ、Ｓｂ、Ｍｎ、Ｇａ、Ｖ、Ｎｂ、Ｔａ、Ａｇ、Ｓｉ、Ｂ、Ｂｉ、Ｍｏ、Ｃｅ、Ｃｄ、Ｂｅ、ＰｂおよびＮｉ等が挙げられ、Ａｌ、Ｚｎ、Ｚｒ、Ｔｉ、Ｓｎ、Ｉｎ、およびＳｂより選ばれる少なくとも１種類の金属原子が好ましい。
無機微粒子の平均粒子径は、透明な硬化膜を得るためには、０.００１〜０．２μｍの範囲内の値とするのが好ましく、より好ましくは０．００１〜０．１μｍ、さらに好ましくは０．００１〜０．０６μｍである。ここで、粒子の平均粒径はコールターカウンターにより測定される。
本発明における無機微粒子の使用方法は特に制限されるものではないが、例えば、乾燥状態で使用することができるし、あるいは水もしくは有機溶媒に分散した状態で使用することもできる。

本発明において、無機微粒子の凝集、沈降を抑制する目的で、分散安定化剤を併用することも好ましい。分散安定化剤としては、ポリビニルアルコール、ポリビニルピロリドン、セルロース誘導体、ポリアミド、リン酸エステル、ポリエーテル、界面活性剤および、前記一般式［１］で表されるオルガノシランの加水分解物および／またはその部分縮合物も含め、シランカップリング剤、チタンカップリング剤等を使用することができる。特にシランカップリング剤が硬化後の皮膜が強いため好ましく、前記一般式［１］で表されるオルガノシラン、その加水分解物およびその部分縮合物のうち少なくとも１種を好ましく用いることができる。分散安定化剤としてのシランカップリング剤の添加量は特に制限されるものではないが、例えば、無機微粒子１００質量部に対して、１質量部以上の値とするのが好ましい。また、分散安定化剤の添加方法も特に制限されるものではないが、予め加水分解したものを添加することもできるし、あるいは、分散安定化剤であるシランカップリング剤と無機微粒子とを混合後、さらに加水分解および縮合する方法を採ることができるが、後者の方がより好ましい。

また本発明の前記一般式［１］で表されるオルガノシランの加水分解物および／またはその部分縮合物は、無機微粒子の分散安定化剤として用いられる以外に、さらに各層のバインダー構成成分の一部として、塗布液調製時の添加剤としても用いることが好ましい。
各層に適する無機微粒子についてはそれぞれ後述する。

本発明の防眩性ハードコート層について以下に説明する。
防眩性ハードコート層はハードコート性を付与するためのバインダー、防眩性を付与するためのマット粒子、および高屈折率化、架橋収縮防止、高強度化のための無機微粒子、から形成される。
バインダーとしては、飽和炭化水素鎖またはポリエーテル鎖を主鎖として有するポリマーであることが好ましく、飽和炭化水素鎖を主鎖として有するポリマーであることがさらに好ましい。
また、バインダーポリマーは架橋構造を有することが好ましい。飽和炭化水素鎖を主鎖として有するバインダーポリマーとしては、エチレン性不飽和モノマーの重合体が好ましい。飽和炭化水素鎖を主鎖として有し、かつ架橋構造を有するバインダーポリマーとしては、二個以上のエチレン性不飽和基を有するモノマーの（共）重合体が好ましい。
高屈折率にするには、このモノマーの構造中に芳香族環や、フッ素以外のハロゲン原子、硫黄原子、リン原子、及び窒素原子から選ばれた少なくとも１種の原子を含むことが好ましい。

二個以上のエチレン性不飽和基を有するモノマーとしては、多価アルコールと（メタ）アクリル酸とのエステル（例、エチレングリコールジ（メタ）アクリレート、１，４−シクロヘキサンジアクリレート、ペンタエリスリトールテトラ（メタ）アクリレート）、ペンタエリスリトールトリ（メタ）アクリレート、トリメチロールプロパントリ（メタ）アクリレート、トリメチロールエタントリ（メタ）アクリレート、ジペンタエリスリトールテトラ（メタ）アクリレート、ジペンタエリスリトールペンタ（メタ）アクリレート、ジペンタエリスリトールヘキサ（メタ）アクリレート、ペンタエリスリトールヘキサ（メタ）アクリレート、１，２，３−シクロヘキサンテトラメタクリレート、ポリウレタンポリアクリレート、ポリエステルポリアクリレート）、ビニルベンゼンおよびその誘導体（例、１，４−ジビニルベンゼン、４−ビニル安息香酸−２−アクリロイルエチルエステル、１，４−ジビニルシクロヘキサノン）、ビニルスルホン（例、ジビニルスルホン）、アクリルアミド（例、メチレンビスアクリルアミド）およびメタクリルアミドが挙げられる。上記モノマーは２種以上併用してもよい。

高屈折率モノマーの具体例としては、ビス（４−メタクリロイルチオフェニル）スルフィド、ビニルナフタレン、ビニルフェニルスルフィド、４−メタクリロキシフェニル−４'−メトキシフェニルチオエーテル等が挙げられる。これらのモノマーも２種以上併用してもよい。

これらのエチレン性不飽和基を有するモノマーの重合は、光ラジカル開始剤あるいは熱ラジカル開始剤の存在下、電離放射線の照射または加熱により行うことができる。
従って、エチレン性不飽和基を有するモノマー、光ラジカル開始剤あるいは熱ラジカル開始剤、マット粒子および無機微粒子を含有する塗液を調製し、該塗液を透明支持体上に塗布後電離放射線または熱による重合反応により硬化して反射防止膜を形成することができる。

光ラジカル重合開始剤としては、アセトフェノン類、ベンゾイン類、ベンゾフェノン類、ホスフィンオキシド類、ケタール類、アントラキノン類、チオキサントン類、アゾ化合物、過酸化物類、２，３−ジアルキルジオン化合物類、ジスルフィド化合物類、フルオロアミン化合物類や芳香族スルホニウム類が挙げられる。アセトフェノン類の例には、２，２−ジエトキシアセトフェノン、ｐ−ジメチルアセトフェノン、１−ヒドロキシジメチルフェニルケトン、１−ヒドロキシシクロヘキシルフェニルケトン、２−メチル−４−メチルチオ−２−モルフォリノプロピオフェノンおよび２−ベンジル−２−ジメチルアミノ−１−（４−モルフォリノフェニル）−ブタノンが含まれる。ベンゾイン類の例には、ベンゾインベンゼンスルホン酸エステル、ベンゾイントルエンスルホン酸エステル、ベンゾインメチルエーテル、ベンゾインエチルエーテルおよびベンゾインイソプロピルエーテルが含まれる。ベンゾフェノン類の例には、ベンゾフェノン、２，４−ジクロロベンゾフェノン、４，４−ジクロロベンゾフェノンおよびｐ−クロロベンゾフェノンが含まれる。ホスフィンオキシド類の例には、２，４，６−トリメチルベンゾイルジフェニルフォスフィンオキシドが含まれる。
最新ＵＶ硬化技術（P．159，発行人；高薄一弘，発行所；（株）技術情報協会，１９９１年発行）にも種々の例が記載されており本発明に有用である。
市販の光開裂型の光ラジカル重合開始剤としては、日本チバガイギー（株）製の商品名イルガキュア（６５１，１８４，９０７）等が好ましい例として挙げられる。
光重合開始剤は、多官能モノマー１００質量部に対して、０．１〜１５質量部の範囲で使用することが好ましく、より好ましくは１〜１０質量部の範囲である。

光重合開始剤に加えて、光増感剤を用いてもよい。光増感剤の具体例として、ｎ−ブチルアミン、トリエチルアミン、トリ−ｎ−ブチルホスフィン、ミヒラーのケトンおよびチオキサントンを挙げることができる。

熱ラジカル開始剤としては、有機あるいは無機過酸化物、有機アゾ及びジアゾ化合物等を用いることができる。
具体的には、有機過酸化物として過酸化ベンゾイル、過酸化ハロゲンベンゾイル、過酸化ラウロイル、過酸化アセチル、過酸化ジブチル、クメンヒドロぺルオキシド、ブチルヒドロぺルオキシド、無機過酸化物として、過酸化水素、過硫酸アンモニウム、過硫酸カリウム等、アゾ化合物として２−アゾ−ビス−イソブチロニトリル、２−アゾ−ビス−プロピオニトリル、２−アゾ−ビス−シクロヘキサンジニトリル等、ジアゾ化合物としてジアゾアミノベンゼン、ｐ−ニトロベンゼンジアゾニウム等を挙げることができる。

ポリエーテル鎖を主鎖として有するポリマーとしては、多官能エポシキシ化合物の開環重合体が好ましい。多官能エポシキ化合物の開環重合は、光酸発生剤あるいは熱酸発生剤の存在下、電離放射線の照射または加熱により行うことができる。
従って、多官能エポシキシ化合物、光酸発生剤あるいは熱酸発生剤、マット粒子および無機微粒子を含有する塗液を調製し、該塗液を透明支持体上に塗布後電離放射線または熱による重合反応により硬化して反射防止膜を形成することができる。

二個以上のエチレン性不飽和基を有するモノマーの代わりにまたはそれに加えて、架橋性官能基を有するモノマーを用いてポリマー中に架橋性官能基を導入し、この架橋性官能基の反応により、架橋構造をバインダーポリマーに導入してもよい。
架橋性官能基の例には、イソシアナート基、エポキシ基、アジリジン基、オキサゾリン基、アルデヒド基、カルボニル基、ヒドラジン基、カルボキシル基、メチロール基および活性メチレン基が含まれる。ビニルスルホン酸、酸無水物、シアノアクリレート誘導体、メラミン、エーテル化メチロール、エステルおよびウレタン、テトラメトキシシランのような金属アルコキシドも、架橋構造を導入するためのモノマーとして利用できる。ブロックイソシアナート基のように、分解反応の結果として架橋性を示す官能基を用いてもよい。すなわち、本発明において架橋性官能基は、すぐには反応を示すものではなくとも、分解した結果反応性を示すものであってもよい。
これら架橋性官能基を有するバインダーポリマーは塗布後、加熱することによって架橋構造を形成することができる。

防眩性ハードコート層には、防眩性付与の目的で、フィラー粒子より大きな平均粒径が１〜１０μｍ、好ましくは１．５〜７．０μｍのマット粒子、例えば無機化合物の粒子または有機微粒子が含有される。
上記マット粒子の具体例としては、例えばシリカ粒子、ＴｉＯ₂粒子等の無機化合物の粒子；架橋アクリル粒子、架橋スチレン粒子、メラミン樹脂粒子、ベンゾグアナミン樹脂粒子等の有機微粒子が好ましく挙げられる。なかでも架橋ポリメタクリル酸メチルのような架橋アクリル粒子が好ましい。

また、粒子径の異なる２種以上のマット粒子を併用して用いてもよい。より大きな粒子径のマット粒子で防眩性を付与し、より小さな粒子径のマット粒子で別の光学特性を付与することが可能である。例えば、１３３ｐｐｉ以上の高精細ディスプレイに反射防止膜を貼り付けた場合にギラツキと呼ばれる光学性能が要求される。これはフィルム表面に微妙に存在する凹凸により、画素が拡大もしくは縮小され、表示性能の均一性を失うことに由来するが、これは防眩性を付与するマット粒子よりも５〜５０％粒子径の小さなマット粒子を併用することにより大きく改善することができる。

さらに、上記マット粒子の粒子径分布としては単分散であることが好ましく、全粒子の粒子径は同一に近ければ近いほど良い。例えば平均粒子径よりも２０％以上粒子径の異なる粒子を粗大粒子と規定した場合には、この粗大粒子の割合は全粒子数の１％以下であることが好ましく、より好ましくは０．１％以下であり、さらに好ましくは０．０１％以下である。このような粒子径分布を持つマット粒子は通常の合成反応後に、分級によって得られ、分級の回数を上げることやその程度を強くすることにより、より好ましい分布のマット剤を得ることができる。

防眩性ハードコート層には、層の屈折率を高めるために、上記のマット粒子に加えて、チタン、ジルコニウム、アルミニウム、インジウム、亜鉛、錫、アンチモンのうちより選ばれる少なくとも１種の金属の酸化物からなり、平均粒径が０．５ｎｍ〜０．２μｍ、好ましくは１ｎｍ〜０．１μｍ、より好ましくは１ｎｍ〜０．０６μｍ以下である無機微粒子が含有されることが好ましい。
また反対に、マット粒子との屈折率差を大きくするために、高屈折率マット粒子を用いた防眩性ハードコート層では層の屈折率を低目に保つためにケイ素の酸化物を用いることも好ましい。好ましい粒径は前述の無機微粒子と同じである。
防眩性ハードコート層に用いられる無機微粒子の具体例としては、ＴｉＯ₂、ＺｒＯ₂、Ａｌ₂Ｏ₃、Ｉｎ₂Ｏ₃、ＺｎＯ、ＳｎＯ₂、Ｓｂ₂Ｏ₃、ＩＴＯ（インジウム−スズ酸化物）とＳｉＯ₂等が挙げられる。ＴｉＯ₂およびＺｒＯ₂が高屈折率化の点で特に好ましい。該無機微粒子は表面をシランカップリング処理又はチタンカップリング処理されることも好ましく、フィラー表面にバインダー種と反応できる官能基を有する表面処理剤が好ましく用いられる。
これらの無機微粒子の添加量は、防眩性ハードコート層の全質量の１０〜９０％であることが好ましく、より好ましくは２０〜８０％であり、特に好ましくは３０〜７５％である。
なお、このようなフィラーは、粒径が光の波長よりも十分小さいために散乱が生じず、バインダーポリマーに該フィラーが分散した分散体は光学的に均一な物質として振舞う。

本発明の防眩性ハードコート層のバインダーおよび無機微粒子の混合物の合計の屈折率は、１．４８〜２．００であることが好ましく、より好ましくは１．５０〜１．８０である。屈折率を上記範囲とするには、バインダー及び無機微粒子の種類及び量の割合を選択すればよい。どのように選択するかは、予め実験的に知ることができる。

防眩性ハードコート層の膜厚は１〜１０μｍが好ましく、１．２〜６μｍがより好ましい。

本発明の反射防止膜では、フィルム強度向上の目的で防眩性ではないいわゆる平滑なハードコート層も好ましく用いられ、透明支持体と防眩性ハードコート層の間に塗設される。
平滑なハードコート層に用いる素材は防眩性付与のためのマット粒子を用いないこと以外は防眩性ハードコート層において挙げたものと同様であり、バインダーと無機微粒子から形成される。
本発明の平滑なハードコート層では、無機微粒子としては、強度および汎用性の点でシリカ、アルミナが好ましく、特にシリカが好ましい。また該無機微粒子は表面をシランカップリング処理されることが好ましく、フィラー表面にバインダー種と反応できる官能基を有する表面処理剤が好ましく用いられる。
これらの無機微粒子の添加量は、ハードコート層の全質量の１０〜９０％であることが好ましく、より好ましくは２０〜８０％であり、特に好ましくは３０〜７５％である。平滑なハードコート層の膜厚は１〜１０μｍが好ましく、１．２〜６μｍがより好ましい。

本発明の低屈折率層について以下に説明する。
本発明の反射防止膜の低屈折率層の屈折率は、好ましくは１．３８〜１．４９であり、より好ましくは１．３８〜１．４４の範囲にある。
さらに、低屈折率層は下記数式（Ｉ）を満たすことが低反射率化の点で好ましい。

数式（Ｉ）：（ｍλ／４）×０．７＜ｎ₁ｄ₁＜（ｍλ／４）×１．３

式中、ｍは正の奇数であり、ｎ₁は低屈折率層の屈折率であり、そして、ｄ₁は低屈折率層の膜厚（ｎｍ）である。また、λは波長であり、５００〜５５０ｎｍの範囲の値である。
なお、上記数式（Ｉ）を満たすとは、上記波長の範囲において数式（Ｉ）を満たすｍ（正の奇数、通常１である）が存在することを意味している。

本発明の低屈折率層を形成する素材について以下に説明する。
本発明の低屈折率層には、低屈折率バインダーとして、含フッ素ポリマーを含む。含フッ素ポリマーとしては動摩擦係数０．０３〜０．１５、水に対する接触角９０〜１２０°の熱または電離放射線により架橋する含フッ素ポリマーが好ましい。本発明の低屈折率層には膜強度向上のための無機微粒子を用いることもできる。

低屈折率層に用いられる含フッ素ポリマーとしてはパーフルオロアルキル基含有シラン化合物（例えば（ヘプタデカフルオロ−１，１，２，２−テトラヒドロデシル）トリエトキシシラン）の加水分解、脱水縮合物の他、含フッ素モノマーの重合単位と架橋反応性付与のための重合単位を構成成分とする含フッ素共重合体が挙げられる。

含フッ素モノマーの具体例としては、例えばフルオロオレフィン類（例えばフルオロエチレン、ビニリデンフルオライド、テトラフルオロエチレン、ヘキサフルオロプロピレン、パーフルオロ−２，２−ジメチル−１，３−ジオキソール等）、（メタ）アクリル酸の部分または完全フッ素化アルキルエステル誘導体類（例えばビスコート６ＦＭ（商品名、大阪有機化学製）やＭ−２０２０（商品名、ダイキン製）等）、完全または部分フッ素化ビニルエーテル類等が挙げられるが、好ましくはパーフルオロオレフィン類であり、屈折率、溶解性、透明性、入手性等の観点から特に好ましくはヘキサフルオロプロピレンである。

架橋反応性付与のための重合単位としては、グリシジル（メタ）アクリレート、グリシジルビニルエーテルのように分子内にあらかじめ自己架橋性官能基を有するモノマーの重合によって得られる重合単位、カルボキシル基やヒドロキシ基、アミノ基、スルホ基等を有するモノマー（例えば（メタ）アクリル酸、メチロール（メタ）アクリレート、ヒドロキシアルキル（メタ）アクリレート、アリルアクリレート、ヒドロキシエチルビニルエーテル、ヒドロキシブチルビニルエーテル、マレイン酸、クロトン酸等）の重合によって得られる重合単位、これらの重合単位に高分子反応によって（メタ）アクリルロイル基等の架橋反応性基を導入した重合単位（例えばヒドロキシ基に対してアクリル酸クロリドを作用させる等の手法で導入できる）が挙げられる。

また上記含フッ素モノマーの重合単位、架橋反応性付与のための重合単位以外に溶剤への溶解性、皮膜の透明性等の観点から適宜フッ素原子を含有しないモノマーの重合単位を共重合体成分とすることもできる。併用可能なモノマーには特に限定はなく、例えばオレフィン類（エチレン、プロピレン、イソプレン、塩化ビニル、塩化ビニリデン等）、アクリル酸エステル類（アクリル酸メチル、アクリル酸メチル、アクリル酸エチル、アクリル酸２−エチルヘキシル）、メタクリル酸エステル類（メタクリル酸メチル、メタクリル酸エチル、メタクリル酸ブチル、エチレングリコールジメタクリレート等）、スチレン誘導体（スチレン、ジビニルベンゼン、ビニルトルエン、α−メチルスチレン等）、ビニルエーテル類（メチルビニルエーテル、エチルビニルエーテル、シクロヘキシルビニルエーテル等）、ビニルエステル類（酢酸ビニル、プロピオン酸ビニル、桂皮酸ビニル等）、アクリルアミド類（Ｎ−ｔｅｒｔブチルアクリルアミド、Ｎ−シクロヘキシルアクリルアミド等）、メタクリルアミド類、アクリロニトリル誘導体等を挙げることができる。

上記のポリマーに対しては特開平１０−２５３８８号公報および特開平１０−１４７７３９号公報に記載のごとく適宜硬化剤を併用しても良い。

本発明で特に有用な含フッ素ポリマーは、パーフルオロオレフィンとビニルエーテル類またはビニルエステル類のランダム共重合体である。特に単独で架橋反応可能な基（（メタ）アクリロイル基等のラジカル反応性基、エポキシ基、オキセタニル基等の開環重合性基等）を有していることが好ましい。これらの架橋反応性基含有重合単位はポリマーの全重合単位の５〜７０ｍｏｌ％を占めていることが好ましく、特に好ましくは３０〜６０ｍｏｌ％の場合である。

また本発明の含フッ素ポリマーには防汚性を付与する目的で、ポリシロキサン構造が導入されていることが好ましい。ポリシロキサン構造の導入方法に制限はないが例えば特開平１１−１８９６２１号、同１１−２２８６３１号、特開２０００−３１３７０９号の各公報に記載のごとくシリコーンマクロアゾ開始剤を用いてポリシロキサンブロック共重合成分を導入する方法、特開平２−２５１５５５号、同２−３０８８０６号に記載のごとくシリコーンマクロマーを用いてポリシロキサングラフト共重合成分を導入する方法が好ましい。これらのポリシロキサン成分はポリマー中の０.５〜１０質量％であることが好ましく、特に好ましくは１〜５質量％である。

防汚性付与に対しては、上記以外にも反応性基含有ポリシロキサン（例えばKF-100T,X-22-169AS,KF-102,X-22-3701IE,X-22-164B,X-22-5002,X-22-173B,X-22-174D,X-22-167B,X-22-161AS(以上商品名、信越化学工業社製)、AK-5,AK-30,AK-32（以上商品名、東亜合成社製）、サイラプレーンFM0725,サイラプレーンFM0721(以上商品名、チッソ社製)等）を添加する手段も好ましい。この際これらのポリシロキサンは低屈折率層全固形分の０.５〜１０質量％の範囲で添加されることが好ましく、特に好ましくは１〜５質量％の場合である。

低屈折率層に用いられる無機微粒子としては低屈折率のものが好ましく用いられ、好ましい無機微粒子は、シリカ、フッ化マグネシウムであり、特にシリカが好ましい。
該無機微粒子の平均粒径は０．００１〜０．２μｍであることが好ましく、０．００１〜０．０５μｍであることがより好ましい。フィラーの粒径はなるべく均一（単分散）であることが好ましい。

該無機微粒子は粒子径の異なる２種類のフィラーを併用しても良い。特に粒子径が０．０２〜０．０５μｍの無機微粒子と粒子径が０．０１μｍ以下の無機微粒子を併用することにより、反射率と耐擦傷性を両立させることができる。粒子径の異なる２種類の無機微粒子それぞれの添加量の割合は、所望の反射率と耐擦傷性のバランスに従って変化させることが可能である。反射率を低減させたい場合には粒子径の小さな無機微粒子が大部分を占めることが好ましく、耐擦傷性を強化したい場合には粒子径の大きな無機微粒子の割合を上げてゆくことが好ましい。
該無機微粒子の添加量は、低屈折率層の全質量の５〜９０質量％であることが好ましく、１０〜７０質量％であると更に好ましく、１０〜５０質量％が特に好ましい。
該無機微粒子は表面処理を施して用いることも好ましい。表面処理法としてはプラズマ放電処理やコロナ放電処理のような物理的表面処理とカップリング剤を使用する化学的表面処理があるが、カップリング剤の使用が好ましい。カップリング剤としては、前記一般式［１］で表されるオルガノシラン、加水分解物およびその部分縮合物のうち少なくとも１種を含むアルコキシメタル化合物（例、チタンカップリング剤、シランカップリング剤）が好ましく用いられる。該無機微粒子がシリカの場合はシランカップリング処理が特に有効である。
発明に係る前記一般式［１］で表されるオルガノシランの加水分解物および／またはその部分縮合物は、低屈折率層の無機微粒子の表面処理剤として低屈折率層塗布液調製以前にあらかじめ表面処理を施すために用いてもよいが、該層塗布液調製時にさらに添加剤として添加して該層に含有させることが好ましい。

本発明に係るハードコート層、低屈折率層を形成するために用いる塗布液の溶媒種としては有機溶剤でも有機溶剤と水の混合溶剤でも良いが、水の含率は低いことが好ましく、０〜３０質量％が好ましく、０〜１０質量％が更に好ましい。
前記塗布液の溶媒組成としては、単独および混合のいずれでもよく、全溶媒中、沸点が１００℃以下の溶媒が５０〜１００質量％を占めることが好ましく、より好ましくは８０〜１００質量％、より好ましくは９０〜１００質量％、さらに好ましくは１００質量％である。沸点が１００℃以下の溶媒が５０質量％以下であると、乾燥速度が非常に遅くなり、塗布面状が悪化し、塗布膜厚にもムラが生じるため、反射率などの光学特性も悪化するおそれがあり好ましいものではない。本発明では、沸点が１００℃以下の溶媒を多く含む塗布液を用いる事により、この問題を解決することができる。

沸点が１００℃以下の溶媒としては、例えば、ヘキサン（沸点６８．７℃、以下「℃」を省略する）、ヘプタン（９８．４）、シクロヘキサン（８０．７）、ベンゼン（８０．１）などの炭化水素類、ジクロロメタン（３９．８）、クロロホルム（６１．２）、四塩化炭素（７６．８）、１，２−ジクロロエタン（８３．５）、トリクロロエチレン（８７．２）などのハロゲン化炭化水素類、ジエチルエーテル（３４．６）、ジイソプロピルエーテル（６８．５）、ジプロピルエーテル（９０．５）、テトラヒドロフラン（６６）などのエーテル類、ギ酸エチル（５４．２）、酢酸メチル（５７．８）、酢酸エチル（７７．１）、酢酸イソプロピル（８９）などのエステル類、アセトン（５６．１）、２−ブタノン（＝メチルエチルケトン、７９．６）などのケトン類、メタノール（６４．５）、エタノール（７８．３）、２−プロパノール（８２．４）、１−プロパノール（９７．２）などのアルコール類、アセトニトリル（８１．６）、プロピオニトリル（９７．４）などのシアノ化合物類、二硫化炭素（４６．２）、などがある。このうちケトン類、エステル類が好ましく、特に好ましくはケトン類である。ケトン類の中では２−ブタノンが特に好ましい。

沸点が１００℃以上の溶媒としては、例えば、オクタン（１２５．７）、トルエン（１１０．６）、キシレン（１３８）、テトラクロロエチレン（１２１．２）、クロロベンゼン（１３１．７）、ジオキサン（１０１．３）、ジブチルエーテル（１４２．４）、酢酸イソブチル（１１８）、シクロヘキサノン（１５５．７）、２−メチル−４−ペンタノン（ＭＩＢＫ、１１５．９）、１−ブタノール（１１７．７）、Ｎ，Ｎ−ジメチルホルムアミド（１５３）、 Ｎ，Ｎ−ジメチルアセトアミド（１６６）、ジメチルスルホキシド（１８９）、などがある。好ましくは、シクロヘキサノン、２−メチル−４−ペンタノン、である。

本発明に係るハードコート層、低屈折率層成分を前述の組成の溶媒で希釈することにより、それらの層用塗布液が調製される。塗布液濃度は、塗布液の粘度、層素材の比重などを考慮して調節される事が好ましいが、０．１〜２０質量％が好ましく、より好ましくは１〜１０質量％である。

本発明の反射防止膜の透明支持体としては、プラスチックフィルムを用いることが好ましい。プラスチックフィルムを形成するポリマーとしては、セルロースエステル（例、トリアセチルセルロース、ジアセチルセルロース、代表的には富士写真フィルム社製 商品名ＴＡＣ−ＴＤ８０Ｕ，ＴＤ８０ＵＦなど）、ポリアミド、ポリカーボネート、ポリエステル（例、ポリエチレンテレフタレート、ポリエチレンナフタレート）、ポリスチレン、ポリオレフィン、ノルボルネン系樹脂（アートン：商品名、ＪＳＲ社製）、非晶質ポリオレフィン（ゼオネックス：商品名、日本ゼオン社製）、などが挙げられる。このうちトリアセチルセルロース、ポリエチレンテレフタレート、ポリエチレンナフタレート、が好ましく、特にトリアセチルセルロースが好ましい。
トリアセチルセルロースは、単層または複数の層からなる。単層のトリアセチルセルロースは、特開平７−１１０５５号公報等で開示されているドラム流延、あるいはバンド流延等により作成され、後者の複数の層からなるトリアセチルセルロースは、特開昭６１−９４７２５号公報、特公昭６２−４３８４６号公報等で開示されている、いわゆる共流延法により作成される。すなわち、原料フレークをハロゲン化炭化水素類（ジクロロメタン等、アルコール類（メタノール、エタノール、ブタノール等）、エステル類（蟻酸メチル、酢酸メチル等）、エーテル類（ジオキサン、ジオキソラン、ジエチルエーテル等）等の溶剤にて溶解し、これに必要に応じて可塑剤、紫外線吸収剤、劣化防止剤、滑り剤、剥離促進剤等の各種の添加剤を加えた溶液（ドープと称する）を、水平式のエンドレスの金属ベルトまたは回転するドラムからなる支持体の上に、ドープ供給手段（ダイと称する）により流延する際、単層ならば単一のドープを単層流延し、複数の層ならば高濃度のセルロースエステルドープの両側に低濃度ドープを共流延し、支持体上である程度乾燥して剛性が付与されたフィルムを支持体から剥離し、次いで各種の搬送手段により乾燥部を通過させて溶剤を除去することからなる方法である。

上記のような、トリアセチルセルロースを溶解するための溶剤としては、ジクロロメタンが代表的である。しかし地球環境や作業環境の観点から、溶剤はジクロロメタン等のハロゲン化炭化水素を実質的に含まないことが好ましい。「実質的に含まない」とは、有機溶剤中のハロゲン化炭化水素の割合が５質量％未満（好ましくは２質量％未満）であることを意味する。ジクロロメタン等を実質的に含まない溶剤を用いてトリアセチルセルロースのドープを調製する場合には、後述するような特殊な溶解法が必須となる。

第一の溶解法は、冷却溶解法と称され、以下に説明する。まず室温近辺の温度（−１０〜４０℃）で溶剤中にトリアセチルセルロースを撹拌しながら徐々に添加する。次に、混合物は−１００〜−１０℃（好ましくは−８０〜−１０℃、さらに好ましくは−５０〜−２０℃、最も好ましくは−５０〜−３０℃）に冷却する。冷却は、例えば、ドライアイス・メタノール浴（−７５℃）や冷却したジエチレングリコール溶液（−３０〜−２０℃）中で実施できる。このように冷却すると、トリアセチルセルロースと溶剤の混合物は固化する。さらに、これを０〜２００℃（好ましくは０〜１５０℃、さらに好ましくは０〜１２０℃、最も好ましくは０〜５０℃）に加温すると、溶剤中にトリアセチルセルロースが流動する溶液となる。昇温は、室温中に放置するだけでもよし、温浴中で加温してもよい。

第二の方法は、高温溶解法と称され、以下に説明する。まず室温近辺の温度（−１０〜４０℃）で溶剤中にトリアセチルセルロースを撹拌しながら徐々に添加される。本発明のトリアセチルセルロース溶液は、各種溶剤を含有する混合溶剤中にトリアセチルセルロースを添加し予め膨潤させることが好ましい。本法において、トリアセチルセルロースの溶解濃度は３０質量％以下が好ましいが、フィルム製膜時の乾燥効率の点から、なるべく高濃度であることが好ましい。次に有機溶剤混合液は、０．２ＭＰａ〜３０ＭＰａの加圧下で７０〜２４０℃に加熱される（好ましくは８０〜２２０℃、更に好ましく１００〜２００℃、最も好ましくは１００〜１９０℃）。次にこれらの加熱溶液はそのままでは塗布できないため、使用された溶剤の最も低い沸点以下に冷却する必要がある。その場合、−１０〜５０℃に冷却して常圧に戻すことが一般的である。冷却はトリアセチルセルロース溶液が内蔵されている高圧高温容器やラインを、室温に放置するだけでもよく、更に好ましくは冷却水などの冷媒を用いて該装置を冷却してもよい。ジクロロメタン等のハロゲン化炭化水素を実質的に含まないセルロースアセテートフィルムおよびその製造法については発明協会公開技報（公技番号２００１−１７４５、２００１年３月１５日発行、以下公開技報２００１−１７４５号と略す）に記載されている。
本発明の反射防止膜を液晶表示装置に用いる場合、片面に粘着層を設ける等してディスプレイの最表面に配置する。該透明支持体がトリアセチルセルロースの場合は偏光板の偏光層を保護する保護フィルムとしてトリアセチルセルロースが用いられるため、本発明の反射防止膜をそのまま保護フィルムに用いることがコストの上では好ましい。

本発明の反射防止膜は、片面に粘着層を設ける等してディスプレイの最表面に配置したり、そのまま偏光板用保護フィルムとして使用される場合には、十分に接着させるためには透明支持体上に含フッ素ポリマーを主体とする最外層を形成した後、鹸化処理を実施することが好ましい。鹸化処理は、公知の手法、例えば、アルカリ液の中に該フィルムを適切な時間浸漬して実施される。アルカリ液に浸漬した後は、該フィルムの中にアルカリ成分が残留しないように、水で十分に水洗したり、希薄な酸に浸漬してアルカリ成分を中和することが好ましい。
鹸化処理することにより、最外層を有する側とは反対側の透明支持体の表面が親水化される。
親水化された表面は、ポリビニルアルコールを主成分とする偏向膜との接着性を改良するのに特に有効である。また、親水化された表面は、空気中の塵埃が付着しにくくなるため、偏向膜と接着させる際に偏向膜と反射防止膜の間に塵埃が入りにくく、塵埃による点欠陥を防止するのに有効である。
鹸化処理は、最外層を有する側とは反対側の透明支持体の表面の水に対する接触角が４０゜以下になるように実施することが好ましい。更に好ましくは３０゜以下、特に好ましくは２０゜以下である。

アルカリ鹸化処理の具体的手段としては、下記（１）および（２）の手段から選択することができる。汎用のトリアセチルセルロースフィルムと同一の工程で処理できる点で（１）が優れているが、反射防止膜面まで鹸化処理されるため、表面がアルカリ加水分解されて膜が劣化する点、鹸化処理液が残ると汚れになる点が問題になり得る。その場合には、特別な工程となるが、（２）が優れる。
（１）透明支持体上に反射防止層を形成後に、アルカリ液中に少なくとも１回浸漬することで、該フィルムの裏面を鹸化処理する。
（２）透明支持体上に反射防止層を形成する前または後に、アルカリ液を該反射防止膜の反射防止膜を形成する面とは反対側の面に塗布し、加熱、水洗および／または中和することで、該フィルムの裏面だけを鹸化処理する。

本発明の反射防止膜は、以下の方法で各層を透明支持体上に塗設し製造することができるが、この方法に制限されない。
まず、各層を形成するための成分を含有した塗布液が調製される。次に、ハードコート層を形成するための塗布液を、ディップコート法、エアーナイフコート法、カーテンコート法、ローラーコート法、ワイヤーバーコート法、グラビアコート法やエクストルージョンコート法（米国特許２６８１２９４号明細書参照）により透明支持体上に塗布し、加熱・乾燥するが、ワイヤーバーコート法、グラビアコート法およびエクストルージョンコート法が好ましく、ワイヤーバーコート法およびグラビアコート法がさらに好ましく、グラビアコート法が特に好ましい。その後、光照射あるいは加熱して、防眩性ハードコート層を形成するためのモノマーを重合して硬化する。これによりハードコート層が形成される。
ここで、必要であればハードコート層を複数層とし、防眩性ハードコート層塗布の前に同様な方法で平滑なハードコート層塗布および硬化を行うことができる。
次に、同様にして低屈折率層を形成するための塗布液をハードコート層上に塗布し、光照射あるいは加熱し低屈折率層が形成される。このようにして、本発明の反射防止膜が得られる。

本発明で用いられるマイクログラビアコート法とは、直径が約１０〜１００ｍｍ、好ましくは約２０〜５０ｍｍで全周にグラビアパターンが刻印されたグラビアロールを支持体の下方に、かつ支持体の搬送方向に対してグラビアロールを逆回転させると共に、該グラビアロールの表面からドクターブレードによって余剰の塗布液を掻き落として、定量の塗布液を前記支持体の上面が自由状態にある位置におけるその支持体の下面に塗布液を転写させて塗工することを特徴とするコート法である。ロール形態の透明支持体を連続的に巻き出し、該巻き出された支持体の一方の側に、少なくともハードコート層乃至含フッ素ポリマーを含む低屈折率層の内の少なくとも一層をマイクログラビアコート法によって塗工することができる。

マイクログラビアコート法による塗工条件としては、グラビアロールに刻印されたグラビアパターンの線数は５０〜８００本/インチが好ましく、１００〜３００本/インチがより好ましく、グラビアパターンの深度は１〜６００μｍが好ましく、５〜２００μｍがより好ましく、グラビアロールの回転数は３〜８００ｒｐｍであることが好ましく、５〜２００ｒｐｍであることがより好ましく、支持体の搬送速度は０．５〜１００ｍ/分であることが好ましく、１〜５０ｍ/分がより好ましい。
このようにして形成された本発明の反射防止膜は、ヘイズ値が好ましくは３．０〜６０．０％の範囲にあり、そして４５０ｎｍから６５０ｎｍの波長の光に対する平均反射率が好ましくは３．０％以下、より好ましくは２．５％以下である。
本発明の反射防止膜が上記範囲のヘイズ値及び平均反射率であることにより、透過画像の劣化を伴なわずに良好な防眩性および反射防止性が得られる。

偏光板は、偏光膜を両面から挟む２枚の保護フィルムで主に構成される。本発明の反射防止膜は、偏光膜を両面から挟む２枚の保護フィルムのうち少なくとも１枚に用いることが好ましい。本発明の反射防止膜が保護フィルムを兼ねることで、偏光板の製造コストを低減できる。また、本発明の反射防止膜を最表層に使用することにより、外光の映り込み等が防止され、耐傷性、防汚性等も優れた偏光板とすることができる。

偏光膜としては公知の偏光膜や、偏光膜の吸収軸が長手方向に平行でも垂直でもない長尺の偏光膜から切り出された偏光膜を用いてもよい。偏光膜の吸収軸が長手方向に平行でも垂直でもない長尺の偏光膜は以下の方法により作成される。 即ち、連続的に供給されるポリマーフィルムの両端を保持手段により保持しつつ張力を付与して延伸した偏光膜で、少なくともフィルム幅方向に１．１〜２０．０倍に延伸し、フィルム両端の保持装置の長手方向進行速度差が３％以内であり、フィルム両端を保持する工程の出口におけるフィルムの進行方向と、フィルムの実質延伸方向のなす角が、２０〜７０゜傾斜するようにフィルム進行方向を、フィルム両端を保持させた状態で屈曲させてなる延伸方法によって製造することができる。特に４５°傾斜させたものが生産性の観点から好ましく用いられる。
偏光膜の延伸方法は特開２００２−８６５５４号公報に記載の方法に従うことができる。

本発明の反射防止膜およびこの反射防止膜を低屈折率層が最表面になるように配置して用いた前記本発明の偏光板は、表示装置、例えば液晶表示装置（ＬＣＤ）、プラズマディスプレイパネル（ＰＤＰ）、エレクトロルミネッセンスディスプレイ（ＥＬＤ）や陰極管表示装置（ＣＲＴ）のような画像表示装置に適用することができる。本発明の反射防止膜は透明支持体を有しているので、透明支持体側を画像表示装置の画像表示面に接着して用いられる。本発明の偏光板の場合は、低屈折率層が表示装置の最表面になるように表示装置の表示面に接着して用いられる。

本発明の反射防止膜は、偏光膜の表面保護フィルムの片側として用いた場合、 ツイステットネマチック（ＴＮ）、スーパーツイステットネマチック（ＳＴＮ）、バーティカルアライメント（ＶＡ）、インプレインスイッチング（ＩＰＳ）、オプティカリーコンペンセイテットベンドセル（ＯＣＢ）、電界制御複屈折（Electrically Controlled Birefigence（ＥＣＢ））等のモードの透過型、反射型、または半透過型の液晶表示装置に好ましく用いることができる。

ＶＡモードの液晶セルには、（１）棒状液晶性分子を電圧無印加時に実質的に垂直に配向させ、電圧印加時に実質的に水平に配向させる狭義のＶＡモードの液晶セル（特開平２−１７６６２５号公報記載）に加えて、（２）視野角拡大のため、ＶＡモードをマルチドメイン化した（ＭＶＡモードの）液晶セル（ＳＩＤ９７、Digest of tech. Papers（予稿集）２８（１９９７）８４５記載）、（３）棒状液晶性分子を電圧無印加時に実質的に垂直配向させ、電圧印加時にねじれマルチドメイン配向させるモード（ｎ−ＡＳＭモード）の液晶セル（日本液晶討論会の予稿集５８〜５９（１９９８）記載）および（４）ＳＵＲＶＡＩＶＡＬモードの液晶セル（ＬＣＤインターナショナル９８で発表）が含まれる。

ＯＣＢモードの液晶セルは、棒状液晶性分子を液晶セルの上部と下部とで実質的に逆の方向に（対称的に）配向させるベンド配向モードの液晶セルを用いた液晶表示装置であり、米国特許４５８３８２５号、同５４１０４２２号の各明細書に開示されている。棒状液晶性分子が液晶セルの上部と下部とで対称的に配向しているため、ベンド配向モードの液晶セルは、自己光学補償機能を有する。そのため、この液晶モードは、ＯＣＢ(Optically Compensatory Bend) 液晶モードとも呼ばれる。ベンド配向モードの液晶表示装置は、応答速度が速いとの利点がある。

ＥＣＢモードの液晶セルでは、電圧無印加時に棒状液晶性分子が実質的に水平配向しており、カラーＴＦＴ液晶表示装置として最も多く利用されており、多数の文献に記載がある。例えば「EL、PDP、LCDディスプレイ」東レリサーチセンター発行（２００１）などに記載されている。

特にＴＮモードやＩＰＳモードの液晶表示装置に対しては、特開2001-100043号公報等に記載されているように、視野角拡大効果を有する光学補償フィルムを偏光膜の裏表２枚の保護フィルムの内の本発明の反射防止膜とは反対側の面に用いることにより、1枚の偏光板の厚みで反射防止効果と視野角拡大効果を有する偏光板を得ることができ、特に好ましい。

本発明を実施例に基づきさらに詳細に説明するが、本発明はこれらに限定されるものではない。
（合成例１）超高分子量ポリエチルメタクリレート（Ｐ−６）の合成
攪拌装置、モノマー供給槽、温度計、冷却管、窒素ガス導入管を備えた１０００ｍｌの三口フラスコに、オレイン酸ナトリウム１．３２ｇ、炭酸水素ナトリウム０．１８ｇを蒸留水３３２ｇに加え、窒素雰囲気下で６５℃に加熱した。次に過硫酸カリウム３８ｍｇを蒸留水３０ｇに溶解して添加し、３０分間攪拌した。続いてメタクリル酸エチル１３２ｇを５．５時間かけて滴下し、滴下終了後更に６時間加熱攪拌を続けた。室温に冷却して不溶分をろ過した後、０．０５モル／ｄｍ³の希硫酸に滴下し、１時間攪拌した。析出した固体をろ過し、十分水で洗ってから減圧下で乾燥して超高分子量ポリエチルメタクリレート（Ｐ−６）を得た。テトラヒドロフラン溶媒を用いたゲルパーミエーションクロマトグラフィー（ＧＰＣ）による分子量測定では、ポリスチレン換算の質量平均分子量は１．０×１０⁶であった。

（合成例２）超高分子量ポリイソブチルメタクリレート（Ｐ−８）の合成
用いるモノマーをエチルメタクリレートからイソブチルメタクリレートに変更した以外は合成例１と同様にして合成を行い、超高分子量ポリイソブチルメタクリレート（Ｐ−８）を得た。テトラヒドロフラン溶媒を用いたゲルパーミエーションクロマトグラフィー（ＧＰＣ）による分子量測定では、ポリスチレン換算の質量平均分子量は１．５×１０⁶であった。

（パーフルオロオレフィン共重合体（１）の合成）

内容量１００ｍｌのステンレス製撹拌機付オートクレーブに酢酸エチル４０ｍｌ、ヒドロキシエチルビニルエーテル１４．７ｇおよび過酸化ジラウロイル０．５５ｇを仕込み、系内を脱気して窒素ガスで置換した。さらにヘキサフルオロプロピレン（ＨＦＰ）２５ｇをオートクレーブ中に導入して６５℃まで昇温した。オートクレーブ内の温度が６５℃に達した時点の圧力は５．４ｋｇ／ｃｍ²であった。該温度を保持し８時間反応を続け、圧力が３．２ｋｇ／ｃｍ²に達した時点で加熱をやめ放冷した。室温まで内温が下がった時点で未反応のモノマーを追い出し、オートクレーブを開放して反応液を取り出した。得られた反応液を大過剰のヘキサンに投入し、デカンテーションにより溶剤を除去することにより沈殿したポリマーを取り出した。さらにこのポリマーを少量の酢酸エチルに溶解してヘキサンから２回再沈殿を行うことによって残存モノマーを完全に除去した。乾燥後ポリマー２８ｇを得た。次に該ポリマーの２０ｇをＮ,Ｎ−ジメチルアセトアミド１００ｍｌに溶解、氷冷下アクリル酸クロライド１１．４ｇを滴下した後、室温で１０時間攪拌した。反応液に酢酸エチルを加え水洗、有機層を抽出後濃縮し、得られたポリマーをヘキサンで再沈殿させることによりパーフルオロオレフィン共重合体（１）を１９ｇ得た。得られたポリマーの屈折率は１．４２１、質量平均分子量は１３万であった。

（パーフルオロオレフィン共重合体（２）の合成）

内容量１００ｍｌのステンレス製撹拌機付オートクレーブに酢酸エチル３０ｍｌ、グリシジルビニルエーテル１１．５ｇおよび過酸化ジラウロイル０．４２ｇを仕込み、系内を脱気して窒素ガスで置換した。さらにヘキサフルオロプロピレン（ＨＦＰ）２１ｇをオートクレーブ中に導入して６５℃まで昇温した。オートクレーブ内の温度が６５℃に達した時点の圧力は６．２ｋｇ／ｃｍ²であった。該温度を保持し８時間反応を続け、圧力が３．６ｋｇ／ｃｍ²に達した時点で加熱をやめ放冷した。室温まで内温が下がった時点で未反応のモノマーを追い出し、オートクレーブを開放して反応液を取り出した。反応液を大過剰のヘキサンに投入し、デカンテーションにより溶剤を除去することにより沈殿したポリマーを取り出した。さらにこのポリマーを少量の酢酸エチルに溶解してヘキサンから２回再沈殿を行うことによって残存モノマーを完全に除去した。乾燥後パーフルオロオレフィン共重合体（２）を２１ｇ得た。得られたポリマーの屈折率は１.４２４、質量平均分子量は３．５万であった。

（ゾル液ａの調製）
攪拌機、還流冷却器を備えた反応器、アクリロイルオキシプロピルトリメトキシシラン１６１質量部、シュウ酸 １２３質量部、エタノール４１５質量部を加え混合したのち、７０℃で４時間反応させた後、室温まで冷却し、本発明の硬化性組成物として透明なゾル液ａを得た。質量平均分子量は１６００であり、オリゴマー成分以上の成分のうち、分子量が１０００〜２００００の成分は１００％であった。また、ガスクロマトグラフィー分析から、原料のアクリロイルオキシプロピルトリメトキシシランは全く残存していなかった。

（ゾル液ｂの調製）
攪拌機、還流冷却器を備えた反応器、メタクリロイルオキシプロピルトリメトキシシラン１６１質量部、シュウ酸 ８０質量部、エタノール４１５質量部を加え混合したのち、７０℃で４時間反応させた後室温まで冷却し、エタノール４３質量部加え、本発明の硬化性組成物として透明なゾル液ｂを得た。質量平均分子量は１４００であり、オリゴマー成分以上の成分のうち、分子量が１０００〜２００００の成分は１００％であった。また、ガスクロマトグラフィー分析から、原料のメタクリロイルオキシプロピルトリメトキシシランは全く残存していなかった。

（ハードコート層Ｈ１用塗布液Ａの調製）
ジペンタエリスリトールペンタアクリレートとジペンタエリスリトールヘキサアクリレートの混合物（ＤＰＨＡ、日本化薬（株）製）１３５ｇをメチルエチルケトン／シクロヘキサノン＝５０／５０％の混合溶媒１９６ｇに溶解した。得られた溶液に、シリカゾル３０％メチルエチルケトン分散物（ＭＥＫ−ＳＴ、日産化学社製、平均粒径約１５ｎｍ）３００ｇ、ゾル液aを２５ｇを加え、光重合開始剤（イルガキュア９０７、チバガイギー社製）７．５ｇおよび光増感剤（カヤキュアーＤＥＴＸ、日本化薬（株）製）５．０ｇを８２ｇのメチルエチルケトンに溶解した溶液を加えた。

（ハードコート層Ｈ２用塗布液Ａの調製）
市販ジルコニア含有ＵＶ硬化型ハードコート液（デソライトＺ７４０４、ＪＳＲ社製、固形分濃度約６１．２％、固形分中ＺｒＯ₂含率約６９．６％、重合性モノマー、重合開始剤含有）９５．２ｇ、ジペンタエリスリトールペンタアクリレートとジペンタエリスリトールヘキサアクリレートの混合物（ＤＰＨＡ、日本化薬（株）製）２８．８ｇ、アクリロイルオキシプロピルトリメトキシシラン（ＫＢＭ５１０３（商品名）；信越化学工業社製）を９．６ｇを加え、本発明の超高分子ポリマー（Ｐ−６）１．０ｇを添加、さらにメチルイソブチルケトン２０．１ｇ、２−ブタノン ５．４ｇで希釈した。この溶液を塗布、紫外線硬化して得られた塗膜の屈折率は１．６２であった。
さらにこの溶液に平均粒径１．５μｍのシリカ粒子（商品名：シーホスターKE−P150、日本触媒（株）製）の３０％メチルイソブチルケトン分散液をポリトロン分散機にて１００００ｒｐｍで２０分間分散して得た分散液を２９．５ｇ加え、次いで平均粒径３μｍの分級強化架橋ポリメタアクリル酸メチル粒子（商品名：MXS−3００、綜研化学（株）製）の３０％メチルイソブチルケトン分散液をポリトロン分散機にて１００００ｒｐｍで３０分分散し、1週間経時させた分散液を11．3ｇ加えた。
上記混合液を孔径３０μｍのポリプロピレン製フィルターでろ過してハードコートＨ２層の塗布液Ａを調製した。

（ハードコート層Ｈ２用塗布液Ｂの調製）
上記、防眩性ハードコート層用塗布液Ａに、超高分子ポリマー（Ｐ−６）の代わりに超高分子ポリマー（Ｐ−８）を添加した以外は、添加量も含め上記塗布液Ａと全く同様にして防眩性ハードコート層用塗布液Ｂを調製した。

（ハードコート層Ｈ２用塗布液Ｃの調製）
上記、防眩性ハードコート層用塗布液Ａに、超高分子ポリマー（Ｐ−６）の代わりにアルドリッチ社製ポリエチルメタクリレート（質量平均分子量３４万）を添加した以外は、添加量も含め上記塗布液Ａと全く同様にして防眩性ハードコート層用塗布液Ｃを調製した。

（ハードコート層Ｈ２用塗布液Ｄの調製）
上記、防眩性ハードコート層用塗布液Ａにつき、超高分子ポリマー（Ｐ−６）を未添加にした以外は、上記塗布液Ａと全く同様にして防眩性ハードコート層用塗布液Ｄを調製した。

（低屈折率層用塗布液Ａの調製）
パーフルオロオレフィン共重合体（１）の１５．２ｇに反応性シリコーンＸ−22−164B（商品名；信越化学工業社製）０．３ｇ、ゾル液a ７．３ｇ、光重合開始剤（イルガキュア９０７（商品名）、チバガイギー社製）０．７６ｇ、メチルエチルケトン３０１ｇ、シクロヘキサノン９．０ｇを添加、攪拌の後、孔径５μｍのポリプロピレン製フィルターでろ過して、低屈折率層用塗布液Ａを調製した。

（低屈折率層用塗布液Ｂの調製）
パーフルオロオレフィン共重合体（２）の１５．２ｇに反応性シリコーンX−22−169AS（商品名；信越化学工業社製）０．３ｇ、ゾル液ｂ ７．３ｇ、光重合開始剤（ＵＶＩ６９９０、ユニオンカーバイド社製）１．５２ｇ、メチルエチルケトン２８８ｇ、シクロヘキサノン９．０ｇを添加、攪拌の後、孔径５μｍのポリプロピレン製フィルターでろ過して、低屈折率層用塗布液Ｂを調製した。

（低屈折率層用塗布液Ｃの調製）
屈折率１．４２の熱架橋性含フッ素ポリマー（ＪＮ−７２２８、質量平均分子量約６．５万、固形分濃度６％、ＪＳＲ（株）製）１７７ｇにシリカゾル（ＭＥＫ−ＳＴ、平均粒径１０〜２０ｎｍ、固形分濃度３０％、日産化学社製）６．９ｇ、粒径違いのシリカゾル(ＭＥＫ−ＳＴ−Ｌ、平均粒径約５０ｎｍ、固形分濃度３０％、日産化学社製)８．３ｇ、a ７．３ｇおよびメチルエチルケトン９０ｇ、シクロヘキサノン９．０ｇを添加、攪拌の後、孔径１μｍのポリプロピレン製フィルターでろ過して、低屈折率層用塗布液Ｃを調製した。

［実施例１］
ハードコート層Ｈ１用塗布液Ａ、ハードコート層Ｈ２用塗布液Ａ〜Ｄ、低屈折率層用塗布液Ａ〜Ｃをそれぞれを以下のようにして塗布し、反射防止膜試料を得た。積層の組み合わせは表１に記載のとおりに行った。
（１）ハードコート層Ｈ１の塗設
８０μｍの厚さのトリアセチルセルロースフィルム（ＴＡＣ−ＴＤ８０Ｕ、商品名、富士写真フィルム（株）製）をロール形態で巻き出して、上記のハードコート層用塗布液を線数１８０本/インチ、深度４０μｍのグラビアパターンを有する直径５０ｍｍのマイクログラビアロールとドクターブレードを用いて、グラビアロール回転数３０ｒｐｍ、搬送速度１０ｍ/分の条件で塗布し、１２０℃、２分の条件で乾燥後、酸素濃度０．１％以下の窒素パージ下で１６０Ｗ／ｃｍの空冷メタルハライドランプ（アイグラフィックス（株）製）を用いて、照度４００ｍＷ／ｃｍ²、照射量３００ｍＪ／ｃｍ²の紫外線を照射して塗布層を硬化させ、厚さ２．５μｍのハードコート層を形成し、巻き取った。
（２）ハードコート層の高速塗設
高速塗設は、グラビアロール回転数９０ｒｐｍ、搬送速度を３０ｍ/分の条件で塗布したこと以外は（１）と同じ条件で行った。

（３）ハードコート層Ｈ２の塗設
上記ハードコート層Ｈ１を塗設したトリアセチルセルロースフィルムを再び巻き出して、上記の防眩性ハードコート層用塗布液を線数１８０本/インチ、深度４０μｍのグラビアパターンを有する直径５０ｍｍのマイクログラビアロールとドクターブレードを用いて、グラビアロール回転数３０ｒｐｍ、搬送速度５ｍ/分の条件で塗布し、１２０℃で４分乾燥の後、窒素パージ下で１６０Ｗ／ｃｍの空冷メタルハライドランプ（アイグラフィックス（株）製）を用いて、照度４００ｍＷ／ｃｍ²、照射量３００ｍＪ／ｃｍ²の紫外線を照射して塗布層を硬化させ、厚さ１．５〜４．５μｍの防眩性もしくは非防眩性のハードコート層Ｈ２を形成し、巻き取った。
（４）ハードコート層Ｈ２の高速塗設
高速塗設は、グラビアロール回転数９０ｒｐｍ、搬送速度を１５ｍ/分の条件で塗布したこと以外は（３）と同じ条件で行った。
（５）ハードコート層Ｈ２のコロナ処理
ハードコート層Ｈ２塗布後、低屈折率層を塗布する前に、コロナ処理を行った。コロナ処理の条件は、目標とする表面自由エネルギーが得られるように調節したが、例えば、放電周波数１０ｋHz、電極と誘電体ロールのギャップクリアランス１ｍｍ、処理強度０．０１KV・A・分／ｍ²で行った。

（６）低屈折率層の塗設
ハードコート層Ｈ１とハードコート層Ｈ２を塗設したトリアセチルセルロースフィルムを再び巻き出して、上記低屈折率層用塗布液を線数１８０本/インチ、深度４０μｍのグラビアパターンを有する直径５０ｍｍのマイクログラビアロールとドクターブレードを用いて、グラビアロール回転数３０ｒｐｍ、搬送速度１０ｍ/分の条件で塗布し、８０℃で２分乾燥の後、さらに窒素パージ下で２４０Ｗ／ｃｍの空冷メタルハライドランプ（アイグラフィックス（株）製）を用いて、照度４００ｍＷ／ｃｍ²、照射量６００ｍＪ／ｃｍ²の紫外線を照射し、１２０℃で２．５分乾燥の後、さらに１４０℃で８〜２０分乾燥させて、厚さ０．０９６μｍの低屈折率層を形成し、巻き取った。

以上の如くして、反射防止膜試料１０１〜１１６を作製した。用いたハードコート層Ｈ１用塗布液、ハードコート層Ｈ２用塗布液、塗布速度、低屈折率層用塗布液を下記表１に示した。

（反射防止膜の評価）
作製した反射防止膜試料について、以下の項目の評価を行った。
（１）平均反射率
分光光度計（日本分光（株）製）を用いて、３８０〜７８０ｎｍの波長領域において、入射角５°における分光反射率を測定した。結果には４５０〜６５０ｎｍの積分球平均反射率を用いた。
（２）ヘイズ
作製した試料のヘイズをヘイズメーターＭＯＤＥＬ １００１ＤＰ（商品名、日本電色工業（株）製）を用いて測定した。
（３）鉛筆硬度評価
耐傷性の指標としてＪＩＳ Ｋ ５４００に記載の鉛筆硬度評価を行った。反射防止膜を温度２５℃、湿度６０％ＲＨで２時間調湿した後、ＪＩＳ Ｓ ６００６に規定する３Ｈの試験用鉛筆を用いて、１ｋｇの荷重にて、
ｎ＝５の評価において傷が全く認められない ：○
ｎ＝５の評価において傷が１または２つ ：△
ｎ＝５の評価において傷が３つ以上 ：×
（４）接触角、指紋付着性評価
表面の耐汚染性の指標として、反射防止膜を温度２５℃、湿度６０％ＲＨで２時間調湿した後、水に対する接触角を測定した。またこのサンプル表面に指紋を付着させてから、それをクリーニングクロスで拭き取ったときの状態を観察して、以下のように指紋付着性を評価した。
指紋が完全に拭き取れる ：○
指紋がやや見える ：△
指紋がほとんど拭き取れない ：×

（５）動摩擦係数測定
表面滑り性の指標として動摩擦係数にて評価した。動摩擦係数は試料を２５℃、相対湿度６０％で２時間調湿した後、ＨＥＩＤＯＮ−１４（商品名）動摩擦測定機により５ｍｍステンレス鋼球、荷重１００ｇ、速度６０ｃｍ／ｍｉｎにて測定した値を用いた。
（６）防眩性評価
作製した試料にルーバーなしのむき出し蛍光灯（８０００ｃｄ／ｍ²）を映し、その反射像のボケの程度を以下の基準で評価した。
蛍光灯の輪郭が全くわからない ：◎
蛍光灯の輪郭がわずかにわかる ：○
蛍光灯はぼけているが、輪郭は識別できる ：△
蛍光灯がほとんどぼけない ：×
（７）ギラツキ評価
作製した試料にルーバーありの蛍光灯拡散光を映し、表面のギラツキを以下の基準で評価した。
ほとんどギラツキが見られない ：○
わずかにギラツキがある ：△
目で識別できるサイズのギラツキがある ：×

（８）スチールウール耐傷性評価
ラビングテスターを用いて、以下の条件でこすりテストをおこなった。
試料調湿条件： ２５℃、６０％RH、２時間以上。
こすり材： 試料と接触するテスターのこすり先端部（１ｃｍ×１ｃｍ）にスチールウール（日本スチールウール製、ゲレードNo.００００）を巻いて、動かないようバンド固定した。
移動距離（片道）：１３ｃｍ、 こすり速度：１３ｃｍ／秒、 荷重：２００ｇ／ｃｍ²、 先端部接触面積：１ｃｍ×１ｃｍ、 こすり回数：２０往復。
こすり終えた試料の裏側に油性黒インキを塗り、反射光で目視観察して、こすり部分の傷を、以下の基準で評価した。
非常に注意深く見ても、全く傷が見えない。 ： ◎
非常に注意深く見ると僅かに弱い傷が見える。 ： ○
弱い傷が見える。 ： ○△
中程度の傷が見える。 ： △
一目見ただけで強い傷が見える。 ： ×

（９）水綿棒こすり耐性評価
ラビングテスターのこすり先端部に綿棒を固定し、平滑皿中で試料の上下をクリップで固定し、室温２５℃で、試料と綿棒を２５℃の水に浸し、綿棒に５００ｇの荷重をかけて、こすり回数を変えてこすりテストを行った。こすり条件は以下のとおり。
こすり距離（片道）：１ｃｍ、 こすり速度：約２往復／秒
こすり終えた試料を観察して、膜剥がれが起こった回数で、こすり耐性を以下のように評価した。
０〜１０往復で膜剥がれ ：×
１０〜３０往復で膜剥がれ ：×△
３０〜５０往復で膜剥がれ ：△
５０〜１００往復で膜剥がれ ：○△
１００〜１５０往復で膜剥がれ ：○
１５０往復でも膜剥がれなし ：◎

（１０）塗布面状ムラ
塗布面側を上にして、裏面側から上記蛍光灯を照射して、透過目視面検にてハジキ、ブツ等の点欠陥、塗布ムラ、乾燥ムラ等の面状ムラの発生頻度について、１０ｍ²だけ検査し、その値を１０で割って１ｍ²当たりの面状ムラの数を算出した。

上記試料中の本発明の全試料において、塗布面状ムラが改良され、ハードコート層Ｈ２用塗布液に本発明の超高分子量ポリマーを添加する効果が確認できた。また本発明の全試料において、指紋付着性は○で、ギラツキは○であり、反射防止性能と鉛筆硬度も防眩性反射防止フィルムに必要とされる性能レベルを越えていた。防眩性の評価は試料１０５、１０６、１０９〜１１２について行い、すべて◎であった。
その他の評価結果について表２に示す。

次に、本発明の試料１０１、１０２、１０５，１０６、１０９〜１１２の試料を偏光板における偏光層の保護フィルムとして用いて反射防止機能付き偏光板を作成した。この偏光板を用いて反射防止膜の低屈折率層が最表層になるように配置した液晶表示装置を作製したところ、外光の映り込みがないために優れたコントラストが得られ、防眩性により反射像が目立たず優れた視認性を有していた。
さらに同様にして、上記本発明の試料を偏光子、透明支持体およびディスコティック液晶の配向を固定した光学異方層から構成される光学補償フィルム、並びに光散乱層からなる偏光板と組み合わせて液晶表示装置を作製して視認性を評価したところ、外光の映り込みがなく、優れたコントラストが得られ、防眩性により反射像が目立たず優れた性能を有していた。
なお、上記試料はいずれもワイヤーバーコート法、エクストルージョンコート法によっても製造することができ、上記マイクログラビアコート法で製造したフィルムと同等の性能を示すフィルムを得ることができた。

（反射防止膜の鹸化処理）
前記試料１０１〜１１６について、以下の処理を行った。
１．５モル／ｌの水酸化ナトリウム水溶液を調製し、５０℃に保温した。０．０１モル／ｌの希硫酸水溶液を調製した。作製した反射防止膜を上記の水酸化ナトリウム水溶液に２分間浸漬した後、水に浸漬し水酸化ナトリウム水溶液を十分に洗い流した。次いで、上記の希硫酸水溶液に１分間浸漬した後、水に浸漬し希硫酸水溶液を十分に洗い流した。さらに反射防止膜を１００℃で十分に乾燥させた。
このようにして、鹸化処理済み反射防止膜を作製した。

（１１）鹸化処理による膜の剥がれの評価
鹸化処理過程での膜の剥がれ評価した。１００枚の反射防止膜を鹸化処理した。鹸化処理前と鹸化処理後における膜の剥がれの有無を目視で観察し、下記の３段階評価を行った。
１００枚全てにおいて剥がれが全く認められなかったもの ：〇
剥がれが認められたものが５枚以内のもの ：△
剥がれが認められたものが５枚をこえたもの ：×
（１２）碁盤目密着の評価
偏光板用保護フィルム（反射防止膜）を温度２５℃、相対湿度６０％の条件で２時間調湿した。偏光板用保護フィルムの最外層を有する側の表面において、カッターナイフで碁盤目状に縦１１本、横１１本の切り込みを入れ、日東電工（株）製のポリエステル粘着テープ（ＮＯ．３１Ｂ）における密着試験を同じ場所で繰り返し３回行った。膜の剥がれの有無を目視で観察し、下記の３段階評価を行った。
１００枡において剥がれが全く認められなかったもの ：〇
剥がれが認められたものが２枡以内のもの ：△
剥がれが認められたものが２枡をこえたもの ：×

いずれの試料においても、鹸化処理による膜の剥がれの評価は○であり、および碁盤目密着の評価も○でありいずれの評価試験も膜の剥がれは、観察されなかった。
また、防眩性ハードコート層および低屈折率層とは支持体を挟んだ反対側面の水に対する接触角を測定したところ、いずれの試料においても４０°から３０°の範囲に入っていた。

［実施例２］
実施例１で作製した本発明の試料１０１、１０２、１０５，１０６、１０９〜１１２の鹸化処理したフィルムを特開２００２−８６５５４号公報の実施例１に記載の方法を用いて作製した４５°吸収軸が傾斜した偏光板と貼り合わせて反射防止膜付き偏光板を作製した。この偏光板を用いて反射防止膜の低屈折率層が最表層になるように配置した液晶表示装置を作製したところ、外光の映り込みがないために優れたコントラストが得られた。試料１０５、１０６、１０９〜１１２を用いて作製したものは、防眩性により反射像が目立たず優れた視認性を有していた。

［実施例３］
特許文献２の４５°吸収軸が傾斜した偏光板作製の中の、「富士写真フィルム（株）製フジタック（セルローストリアセテート、レターデーション値３．０ｎｍ）」の代わりに、実施例１で作製した本発明の試料１０１、１０２、１０５，１０６、１０９〜１１２の鹸化処理した試料を張り合わせて防眩性反射防止膜付き偏光板を作製した。この偏光板を用いて反射防止膜の低屈折率層が最表層になるように配置した液晶表示装置を作製したところ、実施例２同様に、外光の映り込みがないために優れたコントラストが得られた。試料１０５、１０６、１０９〜１１２を用いて作製したものは、防眩性により反射像が目立たず優れた視認性を有していた。

［実施例４］
実施例１で作製した本発明の試料１０１、１０２、１０５，１０６、１０９〜１１２を、１．５モル／ｌ、５５℃のＮａＯＨ水溶液中に２分間浸漬したあと中和、水洗してフィルムの裏面のトリアセチルセルロース面を鹸化処理し、８０μｍの厚さのトリアセチルセルロースフィルム（ＴＡＣ−ＴＤ８０Ｕ、富士写真フィルム（株）製）を同条件で鹸化処理したフィルムにポリビニルアルコールにヨウ素を吸着させ、延伸して作製した偏光子の両面を接着、保護して偏光板を作製した。このようにして作製した偏光板を、反射防止膜の低屈折率層側が最表面となるように透過型ＴＮ液晶表示装置搭載のノートパソコンの液晶表示装置（偏光選択層を有する偏光分離フィルムである住友３M（株）製のＤ−ＢＥＦ（商品名）をバックライトと液晶セルとの間に有する）の視認側の偏光板と貼り代えたところ、背景の映りこみが極めて少なく、表示品位の非常に高い表示装置が得られた。

［実施例５］
実施例１で作製した本発明の試料１０１、１０２、１０５，１０６、１０９〜１１２を、低屈折率層が最表層になるように貼りつけた透過型ＴＮ液晶セルにおいて、視認側の偏光板の液晶セル側の保護フィルムおよびバックライト側の偏光板の液晶セル側の保護フィルムに、ディスコティック構造単位の円盤面が透明支持体面に対して傾いており、且つ該ディスコティック構造単位の円盤面と透明支持体面とのなす角度が、光学異方層の深さ方向において変化している光学補償層を有する視野角拡大フィルム（ＷＶ Ａ １２Ｂ、商品名、富士写真フィルム（株）製）を用いたところ、明室でのコントラストに優れ、且つ、上下左右の視野角が非常に広く、極めて視認性に優れ、表示品位の高い液晶表示装置が得られた。

［実施例６］
実施例１で作製した本発明の試料１０１、１０２、１０５，１０６、１０９〜１１２を、低屈折率層が最表層になるように有機ＥＬ表示装置の表面のガラス板に粘着剤を介して貼り合わせたところ、ガラス表面での反射が抑えられ、視認性の高い表示装置が得られえた。

［実施例７］
実施例１で作製した本発明の試料１０１、１０２、１０５，１０６、１０９〜１１２を用いて、低屈折率層が最表層になるように片面反射防止膜付き偏光板を作製した。この偏光板の反射防止膜を有している側の反対面にλ／４板を張り合わせて、得られた偏光板を低屈折率層が最表層になるように有機ＥＬ表示装置の表面のガラス板に貼り付けたところ、表面反射および、表面ガラスの内部からの反射がカットされ、極めて視認性の高い表示が得られた。

防眩性反射防止膜の層構成を示す断面模式図である。

符号の説明

１ 防眩性反射防止膜
２ 透明支持体
３ ハードコート層
４ 防眩性ハードコート層
５ 低屈折率層
６ マット粒子

Claims (7)

1. 透明支持体上に質量平均分子量が５０万以上５００万以下の超高分子量ポリマーを０．０１質量％以上１０質量％以下含有する光学機能層を少なくとも一層有することを特徴とする光学フィルム。
2. 超高分子量ポリマーがエチレン性不飽和モノマーより誘導される繰り返し単位を含むことを特徴とする請求項１に記載の光学フィルム。
3. 透明支持体上に質量平均分子量が５０万以上５００万以下の超高分子量ポリマーと、有機微粒子および無機微粒子の少なくともいずれかとを含む光学機能層を少なくとも一層有することを特徴とする光学フィルム。
4. 請求項３に記載の光学フィルムであり、該光学フィルムの光学機能層がハードコート層であり、さらに低屈折率層を有することを特徴とする反射防止膜。
5. 請求項４に記載の反射防止膜を、偏光板における偏光層の２枚の保護フィルムのうち少なくとも一方に用いたことを特徴とする偏光板。
6. 請求項４に記載の反射防止膜または請求項５に記載の偏光板を、低屈折率層が視認側になるように配置したことを特徴とする表示装置。
7. 反射防止膜を有し、偏光板を持たないことを特徴とする請求項６に記載の表示装置。

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