JP2005007624A - Transfer sheet and its manufacturing method - Google Patents

Abstract

<P>PROBLEM TO BE SOLVED: To provide a transfer sheet having heat resistance even if the heat of about 150-250°C (200°C in average) due to ironing is applied after transfer, not damaged in its original visual sensation effect, producing no wrinkles or cloudiness and having a transfer layer designed so as to be capable of partial developing the original visual sensation effect to impart a rich design effect to a receiving body, and its manufacturing method. <P>SOLUTION: A heat-resistant protective layer 2 mainly comprising a polyamideimide resin with a Tg of 250°C and a diffraction lattice forming layer 3 mainly comprising a urethane resin are applied to a support 1 and a fine uneven pattern constituting a diffraction lattice is formed on the surface of the diffraction lattice forming layer 3 by a roll embossing method. Next, a diffraction effect layer 4 of metal reflectivity is formed and a heat-resistant mask layer 5 is subjected to pattern printing. This is immersed in a bath tank in which an Na0H solution is housed to etch the diffraction effect layer 4 of the part exposed from the absent part of the heat-resistant mask layer 5 and an adhesive layer 6 is subsequently formed to manufacture the transfer sheet. <P>COPYRIGHT: (C)2005,JPO&NCIPI

Description

【０００１】
【発明の属する技術分野】
本発明は、偽造、改ざん、又は、秘密にされるべき情報の盗み読み、等の不正の防止対策や、万一そのような不正が心配されても不正の有無の判別を容易とする対策、これらの対策を必要とされる技術分野に関係する［本明細書ではこれらの対策を偽造防止対策と総称する］。
【０００２】
より詳しくは、例えば、商品券やクレジットカード等の有価証券類の偽造防止対策とか、ブランド品や高級品等の一般に高価なものへ適用希望が多い真正品であることの証明をする為の偽造防止対策、これらのニーズに好適な技術、また、デザインによっては装飾性にも優れた視覚効果を得られる技術であって、ＯＶＤとの組合せでよりいっそう高い効果を得られる偽造防止転写シート及びその製造方法に関する。
【０００３】
【従来の技術】
近年、光学効果を発現させる技術の例として、反射光同士の干渉やこの反射光の分散を用いて立体画像や特殊な装飾画像とかあるいは特殊な色の変化などを表現し得るホログラムや回折格子、また、光学特性の異なる薄膜を光学的に適当な多層に重ねることによって見る角度により色の変化（カラーシフト）を生じる多層薄膜、等々の技術を利用した、いわゆるＯＶＤが利用されている。［ＯＶＤは、”Ｏｐｔｉｃａｌ（ｌｙ） Ｖａｒｉａｂｌｅ Ｄｅｖｉｃｅ”の略。尚、ＯＶＤの同義語にＤＯＶＩＤもあり、”Ｄｉｆｆｒａｃｔｉｖｅ Ｏｐｔｉｃａｌ（ｌｙ） Ｖａｒｉａｂｌｅ Ｉｍａｇｉｎｇ Ｄｅｖｉｃｅ”の略である。］。
【０００４】
尚、色の変化について云えば、材料自体による特定波長の色光の吸収に頼ることなく、ＯＶＤの材料や構造に起因して色を呈しまた色が変化する現象があり、光の波長によって光自体の性質が異なることに由来している。本明細書中ではこのような色を構造色と称している。構造色の発現に関わる光学現象としては、多層膜干渉、薄膜干渉、屈折、分散、光散乱、Ｍｉｅ散乱、回折、回折格子、等がある。これらＯＶＤには、真空蒸着やスパッタリング等の真空成膜技術で形成された膜厚１μｍ以下の光学薄膜が利用されることが多い。
【０００５】
このＯＶＤは高度な製造技術を要すること、独特な視覚効果を有し、一瞥で真偽が判定できることから有効な偽造防止手段としてクレジットカード、有価証券、証明書類等の一部にあるいは全面に形成され使用されている。最近では、有価証券以外にもスポーツ用品やコンピュータ部品をはじめとする電気製品ソフトウエアー等に貼り付けられ、その製品の真正さを証明する認証シールや、それら商品のパッケージに貼りつけられる封印シールとしても広く使われるようになってきた。
【０００６】
このようにＯＶＤは一般に精巧な偽造が難しく確認が容易な偽造防止手段であるが、商品券や紙幣、パスポート、若しくは株券等の紙媒体に添付する場合には張り替えが容易でない熱転写方式が多くの場合採用されている。熱転写されたＯＶＤを張り替えようとすると、このＯＶＤに利用されている光学薄膜が物理的に破壊されてしまい、本来の視覚効果が損なわれるため、その張替えの痕が歴然と残るのである。
【０００７】
しかしながら、この様に、従来からホログラム等の転写シートを用いて被転写材上に形成する場合、転写時の熱や圧力により転写シートに私用されている樹脂が収縮又は膨張し、この収縮・膨張についていくことのできない光学薄膜に細かいひび割れが生じて、その結果、光学薄膜が白化するという問題があった。
【０００８】
この問題に対し、転写時の熱に対して優れた効果を発揮するホログラム転写シートが提案されている［例えば特許文献１］。 これは、光学薄膜と接着層との間に熱硬化性樹脂による耐熱保護層を設けることにより、上記収縮・膨張を防止し、光学薄膜の白化を防止するものである。
【０００９】
【特許文献１】
特公平７−９２６３５号公報（第２頁）
【００１０】
【発明が解決しようとする課題】
しかしながら、上記の場合確かに転写時の熱白化防止に対して有効な手段であるが、転写された後の耐熱性に関しては考慮されていない。従来からのカード類へ添付される場合（多くの場合塩化ビニル製カード）には、被転写材（カード）の耐熱性（ガラス転移温度：７０℃前後）が比較的低く、高温にさらされることがないため、転写後の耐熱性は考慮する必要がなかった。
【００１１】
近年になり、紙媒体への転写が主流と変わりつつあり、特に商品券や紙幣を例に挙げると、サイフやポケットに入れておいたまま気づかずに洗濯してしまうことがある。この場合、多くの使用者はアイロンがけを行い再生を試みると想定される。また、流通の経路や使用者の取り扱いにより皺が発生した場合にも、アイロンがけを行い、皺伸ばしをする場合がある。
【００１２】
アイロンの表面温度は高温設定において、１５０℃〜２５０℃（平均２００℃）であり、当て布越しにアイロンが適用されること、及び水分の蒸発によって熱損失がおきることを考慮しても、光学薄膜の到達温度は１５０℃程度と見積もることができ、皺伸ばし等で直接アイロンがけを行う場合には、２００℃程度と見積もることができる。
【００１３】
従来例［特許文献１］にある、熱硬化性アクリル樹脂や熱硬化性ウレタン樹脂の場合、ガラス転移温度が−２０℃〜１０５℃（硬化前）程度であり、硬化後のガラス転移温度は、せいぜい１２０〜１３０℃が実用上限界である。硬化度の大きい（反応性の高い）材料を使用したり、高温長時間処理を行って、ガラス転移温度が１４０℃近辺の硬化膜を得ることも可能であるが、硬化時の収縮（体積変化）やフィルム基材の変形により光学薄膜を歪ませることとなり、本来の目的から大きく逸脱することとなる。また、熱硬化性樹脂は硬化剤を併用することにより実現されるものであるが、他の層（例えば、光学薄膜や接着層）との接着性を付与するための官能基が硬化剤との反応プロセスにより失われ、後に層間剥離を引き起こす等のトラブルも発生している。
【００１４】
また、保護層上に直接アイロンがけを行うと、保護層を構成する樹脂が軟化・溶融し、アイロン表面に付着後、ホログラムを破壊することになる。
【００１５】
この様に、使用者の不注意であるにしても、偽造防止用に添付されたＯＶＤ媒体が、日常生活で起こり得る可能性のある行為によって変形してしまったり、極端な例を言えば破壊・消失してしまったりすることは好ましくない。その結果、真正の有価証券類が偽造と誤解されることとなりかねないのである。有価証券の偽造は犯罪であるから、善良なる使用者が犯罪者との誤解を受けるなどの被害を被ることは絶対に避けねばならないのである。
【００１６】
本発明は従来の技術が抱える前記問題点に鑑み提案されたものであり、転写された後の耐熱性（アイロン掛けによる１５０〜２５０℃（平均２００℃）程度の熱がかかった場合［日常生活で起こりうる可能性もある］であっても、本来の視覚効果が損なわれることなく、また皺とか白濁の発生もなく、しかも、転写層は本来の視覚効果を部分的に発現できるようデザインされていて被転写体に意匠性に富む外観を転写シートおよびその製造方法を提供することを目的とする。
【００１７】
【課題を解決する為の手段】
前記課題を解決するために本発明が提供する手段を次に挙げる。
まず請求項１に示す発明は、シート状の支持体上に、該支持体に近い側から、少なくとも、
該支持体から剥離が可能な耐熱性保護層、
回折光を発生させるための微小な凹凸面を有する透明な回折構造形成層、
前記凹凸面の凹凸に密着して設けられた光学薄膜から成り、該回折構造形成層を透過してきた光を反射させる回折効果層、
該回折効果層を被覆して設けてある耐熱マスク層、
該耐熱マスク層を被覆して、これより大面積に設けてある接着層、
とを具備して構成される転写シートであって、
前記耐熱保護層は、ガラス転移温度が２００℃以上である樹脂から構成されていることを特徴とする転写シートである。
【００１８】
請求項２に示す発明は、前記回折構造形成層が、上記微小な凹凸面を部分的に有することを特徴とする請求項１に記載の転写シートである。
【００１９】
請求項３に示す発明は、前記耐熱マスク層が、前記光学薄膜のエッチング液である酸若しくはアルカリに対する耐性を有していることを特徴とする請求項１乃至２のいずれかに記載の転写シートである。
【００２０】
請求項４に示す発明は、前記耐熱マスク層が、ガラス転移温度が１５０℃以上である樹脂成分を６０％以上含んでいることを特徴とする請求項１乃至３のいずれかに記載の転写シートである。
【００２１】
請求項５に示す発明は、前記光学薄膜が光を反射する金属反射膜であることを特徴とする請求項１乃至４のいずれかに記載の転写シートである。
【００２２】
請求項６に示す発明は、前記光学薄膜が、前記回折構造形成層よりも屈折率が高く、光の透過性を有する透明反射膜であることを特徴とする請求項１乃至４のいずれかに記載の転写シートである。
【００２３】
請求項７に示す発明は、前記光学薄膜が、金属反射膜と、前記回折構造形成層よりも屈折率が高く光の透過性を有する透明反射膜との２種類以上の薄膜から構成されており、
該透明反射膜が存在し且つ金属反射膜の存在しない領域を有することを特徴とする請求項１乃至４のいずれかに記載の転写シートである。
【００２４】
請求項８に示す発明は、シート状の支持体上に、該支持体に近い側から、少なくとも、
該支持体から剥離が可能な耐熱性保護層、
部分的に設けられた光学薄膜から成り、この光学薄膜から構造色を有する色光を発生させるＯＶＤ層、
該ＯＶＤ層を被覆して設けてある耐熱マスク層、
該耐熱マスク層を被覆して、これより大面積に設けてある接着層、
とを具備して構成される転写シートであって、
前記耐熱保護層は、ガラス転移温度が２００℃以上である樹脂から構成されていることを特徴とする転写シートである。
【００２５】
請求項９に示す発明は、 シート状の支持体上に、該支持体に近い側から、少なくとも、
該支持体から剥離が可能であり、且つ、ガラス転移温度が２００℃以上である樹脂から構成される耐熱性保護層、
回折光を発生させるための微小な凹凸面を有する透明な回折構造形成層、
前記凹凸面の凹凸に密着して設けられた光学薄膜から成り、該回折構造形成層を透過してきた光を反射させて着色光の発生に関わる回折効果層、
該回折効果層を被覆して設けてある耐熱マスク層、
該耐熱マスク層を被覆して、これより大面積に設けてある接着層、
とを具備して構成される転写シートであって、
前記耐熱保護層は、ガラス転移温度が２００℃以上である樹脂から構成されていることを特徴とする転写シートの製造方法である。
【００２６】
請求項１０に示す発明は、前記回折構造形成層が、上記微小な凹凸面を部分的に有することを特徴とする請求項９に記載の転写シートの製造方法である。
【００２７】
請求項１１に示す発明は、シート状の支持体上に、該支持体に近い側から、少なくとも、
該支持体から剥離が可能である樹脂から構成される耐熱性保護層、
部分的に設けられた光学薄膜から成り、この光学薄膜から構造色を有する色光を発生させるＯＶＤ（Ｏｐｔｉｃａｌ Ｖａｒｉａｂｌｅ Ｄｅｖｉｃｅ）層、
該ＯＶＤ層を被覆して設けてある耐熱マスク層、
該耐熱マスク層を被覆して、これより大面積に設けてある接着層、
とを積層することを特徴とする転写シートの製造方法である。
【００２８】
【発明の実施の形態】
以下に、本発明の実施の形態を詳細に説明する。
図１、図２及び図３は、本発明に係る転写シートの一実施形態を示す断面図である。
【００２９】
図１〜図３に示したように、本発明による転写シートは、少なくとも、シート状の支持体１上に耐熱性保護層２、回折光を発生させるための微少な凹凸面を有する回折構造形成層３、部分的に設けられた回折効果層４、耐熱マスク層５、接着層６が少なくとも設けられたことを特徴とした構成である。なお、回折効果層４は、真空蒸着法、スパッタリング法等の薄膜形成方法によって形成された光学薄膜であって、この回折効果層４により構造色を有する色光である回折光を発生させる。
【００３０】
この転写シートを用いれば、ホットスタンプ等の手段を用いて、様々な物品から成る被転写材に対してかなりの自由度をもって、ほぼ任意の形状に形成可能となる。すなわち、被転写材に対し接着層６が接触するように転写シートを重ね、熱および圧を与えることによって接着させた後、不要な支持体１を剥してしまうことにより、偽造防止用の媒体を形成することが可能となる（図示せず）。
【００３１】
支持体１としては厚みが安定しており、かつ各層の塗布乾燥の際の熱に耐えられる耐熱性を有するポリエチレンテレフタレート樹脂フィルムを用いるのが一般的であるが、これに限るものではない。その他の材料としては、ポリエチレンナフタレート樹脂フィルム、ポリイミド樹脂フィルム等が耐熱性の高いフィルムとして知られており、同様の目的で使用することが可能である。また、他のフィルム、例えば、ポリエチレン、ポリプロピレン、耐熱塩化ビニル等の材料でも、塗液の塗工条件、さらに言えば乾燥条件が許せば使用可能である。
【００３２】
また、転写条件等により耐熱性保護層２の剥離が困難である場合には、支持体側に別途従来既知の離形層を設けても良く、剥離強度が小さすぎて、不用意に剥離してしまう場合には既知の易接着処理を行って剥離強度を調整しても良い。また、転写層への影響が無い限りは、帯電防止処理やマット加工、エンボス処理等の加工も何ら問題は無い。
【００３３】
耐熱性保護層２は、本発明において最も重要な層であって、支持体１から剥がれる層であり、さらに云えば、剥離した後は回折構造形成層３の上を覆うように形成されていることになって、機械的損傷や携帯時の擦り等の外部損傷、生活物質（酒、水等）に対する耐性を備え、外的要因（特に本発明においては、アイロン耐性）による損傷を保護する役目も兼ねている。
【００３４】
上記の目的を達成するために、筆者らの鋭意研究の結果、耐熱保護層の材料は、ガラス転移温度が２００℃以上である熱可塑性樹脂を使用することが重要であるとの結論に至った。ガラス転移温度が２００℃未満であると、アイロン等の熱がかかった場合に、結晶状態を保つことができずに耐熱保護層自体が軟化・溶融し、破壊されてしまうからである。中でも、５００ｎｍ波長における光線透過率が６０％以上である樹脂が好ましく使用できる。波長５００ｎｍにおける光線透過率が６０％未満であった場合には、着色や不透明度によりＯＶＤ画像としての認識が困難となる。ここで、光線透過率は厚み１０μｍにおける分光光度計の測定値で規定される値である。
【００３５】
耐熱保護層中には、耐摩擦性を付与する目的で従来既知の滑剤を２０重量部まで添加することが可能である。ここでは、滑剤に対する限定は行わない。
【００３６】
次に、ガラス転移温度２００℃以上の樹脂としては、汎用溶剤に溶解（エマルジョン型の場合には分散）可能であり、熱可塑性の樹脂であることが好ましい。ここで、使用可能な樹脂としては、ポリエーテルスルホン樹脂（Ｔｇ．２２５℃）、ポリエーテルイミド樹脂（Ｔｇ．２００℃以上）、ポリアミドイミド樹脂（Ｔｇ．２００℃以上）、ポリイミド樹脂（Ｔｇ．２５０℃以上）等を挙げることができるが、これに限定されるものではない。なお、これらの樹脂の５００ｎｍ波長における光線透過率は、一般に６０％以上であるが、ポリアミドイミド樹脂やポリイミド樹脂は、イミド結合が多いと光線透過率が６０％未満となることがあるから、適宜選択して使用することが好ましい。その他、硬化の際に光学薄膜を白化させないものであれば、熱硬化系、湿気硬化系、紫外線硬化系、電子線硬化系樹脂等を使用しても良い。
【００３７】
回折構造形成層３は、その表面に回折格子を構成する凹凸を付与し、この上に、かつ、この凹凸に沿って設けられる回折効果層４に凹凸を付与するものである。そして、回折効果層４の凹凸表面で反射された回折光は互いに干渉して構造色を有するに至る。一般に、この回折現象によって得られる構造色は、観察者の位置によって異なる色彩を有する。
【００３８】
回折構造形成層３は、その表面にプレス版にて前記凹凸を成形することが可能であるという性能が要求され、その主となる材質は熱可塑性樹脂、熱硬化性樹脂、紫外線あるいは電子線硬化性樹脂のいずれであっても良い。
【００３９】
回折構造形成層３に使用可能な材料は、例えば、アクリル系樹脂、エポキシ系樹脂、セルロース系樹脂、ビニル系樹脂等の熱可塑性樹脂や、反応性水酸基を有するアクリルポリオールやポリエステルポリオール等にポリイソシアネートを架橋剤として添加、架橋したウレタン樹脂や、メラミン系樹脂、フェノール系樹脂等の熱硬化樹脂、エポキシ（メタ）アクリル、ウレタン（メタ）アクリレート等の紫外線あるいは電子線硬化樹脂を、単独もしくはこれらを複合して使用できる。また、前記以外のものであっても、前記凹凸を形成可能であれば適宜使用してよい。
【００４０】
一方、微細凹凸形状を構成する回折格子としては、可干渉な二光線を干渉させて得られる干渉縞を感光材料に感光させるホログラフィ技術が利用できる。このホログラフィ技術によって、例えば、上記構造色を制御して、奥行き感のある立体的画像を構成することが可能である。
【００４１】
また、微小な画素毎にホログラフィ技術を適用して回折格子を形成し、これら回折格子を有する画素を多数配列して画面全体を構成することにより、高い輝感とコントラストを有する画像を表現することも可能である。なお、ホログラフィ技術に限らず、電子線により感光材料に回折格子を直接描画することにより、回折格子を有する前記画素を設けることも可能である。
【００４２】
なお、回折格子を有する画素をそれぞれ適当な形状（例えば、星型、等）で形成する手法や、これら画素で肉眼では見えない細かな文字（いわゆるマイクロ文字）を形成する手法、回折格子を使用していながらあたかも写真のように被写体の色彩を忠実に再現する手法、あるいは、回折格子を使用して、見る角度によって全く違う複数の画像を表現する手法等が開発されており、これら手法を利用することもできる。
【００４３】
回折効果層４は、前述のように、前記凹凸表面で入射光を反射回折させるもので、反射された回折光は互いに干渉して構造色を有するに至る。回折効果層４としては、金属反射膜７と透明反射膜８のどちらか１種若しくは２種の複合（図３ａ、図３ｂ、図３ｃ）膜が利用できる。いずれの場合にも、真空中で薄膜を付着形成させる真空成膜技術で形成することが望ましい。真空成膜法で形成された回折効果層４は、高輝度の回折光を発生して明瞭な構造色を再現できるからである。成膜法としては、例えば、真空蒸着法、スパッタリング法、あるいは化学的薄膜形成法（ＣＶＤ法）などが適用できる。真空成膜法で形成された回折効果層４の膜厚は５〜１０００ｎｍであり、このため、被転写材に転写された後、これを剥がそうとすると物理的に破壊され、被転写材の偽造を防止することができる。
【００４４】
回折効果層４に用いる材料を例示すると、金属反射膜７の場合、Ａｌ、Ｓｎ、Ｃｒ、Ｎｉ、Ｃｕ、又は、Ａｕ、等の金属材料の単体か、若しくは、その化合物が挙げられる。
【００４５】
透明反射膜８の回折効果層４の材料には、回折構造形成層３のレリーフ形成面を構成する材料よりも屈折率が高い高屈折率材料を使用する必要がある。その屈折率の差は、好ましくは、０．２以上である。屈折率の差を０．２以上取ることによって、回折構造形成層３との界面で屈折及び反射が起こり、透光性を有しつつ良好な光反射によって構造色を得ることができる。つまり、視覚的に実効性の高いホログラム（又は回折格子）を得ることができる。
【００４６】
透明反射膜８の回折効果層４の材料としては、例えば、Ｓｂ２Ｏ３（３．０）、Ｆｅ２Ｏ３（２．７）、ＴｉＯ２（２．６）、ＣｄＳ（２．６）、ＣｅＯ２（２．３）、ＺｎＳ（２．３）、ＰｂＣ１２（２．３）、ＣｄＯ（２．２）、Ｓｂ２Ｏ３（２．０）、ＷＯ３（２．０）、ＳｉＯ（２．０）、Ｓｉ２Ｏ３（２．５）、Ｉｎ２Ｏ３（２．０）、ＰｂＯ（２．６）、Ｔａ２Ｏ３（２．４）、ＺｎＯ（２．１）、ＺｒＯ２（２．０）、ＭｇＯ（１．６）、Ｓｉ２Ｏ２（１．５）、ＭｇＦ２（１．４）、ＣｅＦ３（１．６）、ＣａＦ２（１．３〜１．４）、ＡｌＦ３（１．６）、Ａｌ２Ｏ３（１．６）、ＧａＯ（１．７）、等がが使用可能である。
【００４７】
なお、真空成膜法以外の方法で前記回折効果層４を形成することもできる。回折効果層４が金属反射膜である場合には、例えば、アルミニウムや真鍮を５００ｎｍ以下に微粉砕し、バインダー樹脂に分散して作成された高輝性光反射インキを塗布又は印刷して回折効果層４を形成しても良い。塗布・印刷手段としては、グラビア印刷法、フレキソ印刷法、スクリーン印刷法等の公知印刷手段が適用できる。このような印刷方式にて回折効果層４を設ける場合には、乾燥後の膜厚が０．１〜１０μｍ程度になるように調整すれば良い。
【００４８】
また、回折効果層４が透明反射膜である場合には、粒子径が５００ｎｍ以下、屈折率２．０以上の高屈折微粉末材料をバインダー樹脂中に分散して得られる高輝性光透過インキを塗布又は印刷して透明反射膜を形成することができる。
【００４９】
なお、回折効果層４を部分的に設けることもできる。回折効果層４を部分的に設ける際にはその手法としては以下の手法が利用できる。
【００５０】
すなわち、回折構造形成層３上に、溶剤溶解性の樹脂を所望のパターンをネガパターンに形成、金属薄膜を設けた後、溶解性樹脂とその部分の金属薄膜層を溶剤（例えば、水）にて洗浄し除去する手法や、回折効果層４上に耐酸あるいは耐アルカリ性樹脂を用いてポジパターンを印刷した後、金属薄膜を酸やアルカリでエッチングする方法が挙げられる。さらには露光することによって、溶解するあるいは溶解し難くなる感光性樹脂材料を塗布し、所望のパターン状のマスク越しに露光した後、感光性樹脂材料の不要部分を洗浄して除去し、次にこの除去部分から露出した回折効果層４をエッチングで除去する手法が挙げられる。なお、感光性樹脂材料の不要部分と回折効果層４とは、一工程で同時に除去することも可能である。
【００５１】
また、回折構造形成層３上に密着の悪い樹脂をパターン状に形成、回折効果層４を設けた後、粘着ロール等に通過させ、前記密着の悪い樹脂形成部分の回折効果層４を除去する手法や、蒸着装置の釜内にマスク部を設け部分的に薄膜形成することも可能である。また、レーザー光などで回折効果層４を焼くことにより物理的に除去する手法なども可能な例として挙げられる。以上は一例であり、これらに限定されるものではなく、公知の部分的に金属薄膜を形成する技術であれば適宜利用可能である。
【００５２】
以上の部分的に設けた回折効果層は、例えば、明確な意味を持たないランダムなパターンでも良いが、任意の絵柄、図形、模様、文字、数字、記号、等を適宜用いたパターンである情報パターンに形成することにより、適宜に情報を付与させることも可能である。
【００５３】
更に、光反射膜７及び光透過膜８の複数層（２以上）の組合せによって回折効果層を構成することもできる。
【００５４】
図３ｂに示す転写シートはこのような実施形態であって、金属反射膜７を部分的に設け、この金属反射膜７を被覆して全面に透明反射膜８を設けたものである。この実施形態では、
該透明反射膜８が存在し且つ金属反射膜７の存在しない領域が存在するため、この領域で透明反射膜８による反射回折光が観察できると共に透視することが可能であり、他方金属反射膜７の存在する領域では金属反射膜７による反射回折光が観察でき透視は不可能である。
【００５５】
また、図３ｃはに示す転写シートは全面に透明反射膜８を設け、この透明反射膜８上に金属反射膜７を部分的に設けた実施形態である。この実施形態においても、図３ｂに示す実施形態と同様に、該透明反射膜８が存在し且つ金属反射膜７の存在しない領域が存在するため、この領域で透明反射膜８による反射回折光が観察できると共に透視することが可能であり、他方金属反射膜７の存在する領域では金属反射膜７による反射回折光が観察でき透視は不可能である。
【００５６】
次に耐熱マスク層５について説明する。耐熱マスク層５は、本発明において最も重要な第二の層であり、前記回折構造形成層３及び回折効果層４のレリーフ形状を、日常生活において起こりうる可能性のある外部からの熱的要因（例えばアイロンがけ）を受けた場合においても、上述した耐熱保護層と共にレリーフ形状を維持する役割を果たす。 上記の目的を達成するために、筆者らの鋭意研究の結果、耐熱マスク層の材料には、ガラス転移温度が１５０℃以上である樹脂成分を６０％以上含むことが重要であるとの結論に至った。ガラス転移温度が１５０℃未満であると、アイロン等の熱がかかった場合に、結晶状態を保つことができずに耐熱マスク層自体が軟化し、レリーフ形状を維持することができない。耐熱マスク層には、ガラス転移温度１５０℃以上の樹脂以外に４０％まで、従来既知の各種フィラー、充填剤、着色剤等を混ぜることができる。ここでは、特に材質に関しては限定しない。添加量に関して説明をすると、４０％を超えて着色剤等を添加した場合、分散性が悪く塗膜強度が低下するため耐熱性が劣る結果となる。また、印刷適性が悪い（塗液の流動性や版乾き等）、塗液の保存性（沈降、凝集等）が悪いなどの理由が挙げられる。添加量の４０％は、単純な重量比のことでは無く、比重を１と換算した場合の比率である。例えば、白色顔料である沈降性硫酸バリウム（比重５．５）を添加する場合には、比重１の樹脂成分６０重量部に対して、２２０重量部まで添加することが可能である。
【００５７】
次に、ガラス転移温度１５０℃以上の樹脂としては、汎用溶剤に溶解（若しくは分散：エマルジョン型）可能であり、熱可塑性の樹脂であることが好ましい。ここで、使用可能な樹脂としては、ポリカーボネート樹脂（Ｔｇ．１４０〜１５０℃）、ポリアリレート樹脂（Ｔｇ．１９３℃）、ポリスルホン樹脂（Ｔｇ．１９０℃）、ポリエーテルスルホン樹脂（Ｔｇ．２２５℃）、ポリエーテルイミド樹脂（Ｔｇ．２００℃以上）、環状ポリオレフィン共重合体（Ｔｇ．１７１℃）、変性ノルボルネン系樹脂（Ｔｇ．１７１℃）、ポリアミドイミド樹脂（Ｔｇ．２００℃以上）、ポリイミド樹脂（Ｔｇ．２５０℃以上）等を挙げることができるが、これに限定されるものでは無い。その他、収縮等の問題無き場合には、熱硬化系、湿気硬化系、紫外線硬化系、電子線硬化系樹脂等を使用しても良い。
【００５８】
耐熱マスク層５としては、酸やアルカリに対する耐久性を持っていることが好ましい。その理由としては、上述した回折効果層４を部分的に設ける手段として、耐熱マスク層５を設けた後にエッチング処理を施すと効率が良いからである（図１、図２の構成）。一般的な、エッチング手法として一例を挙げると、４０〜５０℃程度に熱した１．０Ｎ前後のＮａＯＨ溶液をエッチング液とし、この中に、１０〜２０秒浸すものであるため、２倍の４０秒程度浸して塗膜に変化なければ十分な耐性があると判断される。上述した耐熱材料は、十分な化学薬品に対する耐性を有している。
【００５９】
次に接着層６であるが、様々な被転写材（例えば、紙・プラスチック）に接した状態で熱および圧力を与えられることにより、被転写材に接着する機能を有する公知の感熱樹脂（感熱性接着材料）が使用される。
【００６０】
なお、接着層６に、下記のような検証機能を有する材料を適宜添加することにより、検証機能も備えた接着層である検証機能層兼接着層とすることも可能である。また、接着層６とは別に、検証機能を有する材料を含む検証機能層を設けることも可能である。これら検証機能層兼接着層や検証機能層により、偽造防止対策の効果を高めたり、又、さらに違った意匠性を得ることも可能になる。
【００６１】
検証機能とは、白色光環境下ではその存否が確認できないが、特殊な環境下で存否を確認できる機能をいい、例えば、画像が見える側の上部から外部刺激（紫外線、赤外線、等の１以上）を照射すると、（発光材料によるが、例えば紫外線の場合、又は、赤外線の場合に）検証機能層２が発光するのでその存在を確認できるとか、あるいは、（例えば赤外線吸収材料の場合に）赤外線で観察するとその部分で光が吸収されるのでその存在を確認できる、といったものである。この機能を有する転写シートを使用すると、転写シート自体の贋造が困難となり、より一層偽造防止対策の効果を高めることが可能となる。
【００６２】
ここで、検証機能を有する材料について少し詳しく説明すると、発光材料としては、外部刺激により可視域の光を発するものであり、紫外線、赤外線、電子線、Ｘ線、放射線、電界、あるいは化学反応、等の外部刺激により発光する蛍光体、燐光体、あるいは畜光体、等が挙げられる。上記発光材料は、検証機能層兼接着層や検証機能層を構成するバインダー樹脂に適宜添加して使用される。その添加量としては０．５％〜８０％の範囲内で添加するのが望ましい。０．５％未満の添加量では十分な発光が得られず、８０％を超える添加量になるとバインダー樹脂との結着力が弱くなり、最終製品としての耐性が弱くなる。
【００６３】
また、赤外線吸収材料としては、カーボンブラック等の可視領域までにも幅広い吸収を持つ材料と、赤外線領域で吸収波長を有し可視光線を吸収しにくい材料が挙げられる。その添加量としては、０．５％〜８０％の範囲内で添加するのが望ましい。０．５％未満の添加量では十分な吸収が得られず、８０％を超える添加量になると、バインダー樹脂との結着力が弱くなり、最終製品としての耐性が弱くなる。
【００６４】
以下では、前記発光材料に関してより詳しく説明する。
蛍光体は、外部からの刺激（励起）により可視域付近の光を発するものである。また、一般には、蛍光体と燐光体とを総称して蛍光体と呼ぶ場合もあるが、蛍光体と燐光体とを区別する場合は、残光が比較的長いものを燐光体と呼ぶ場合が多い。
特に、燐光体は、励起の停止後に目に感じられる程度（０．１ｓｅｃ程度）以上の残光が続くものを指す場合が一般に多い。
また畜光体は、一般に、残光が長時間続く長残光のものを云う。
【００６５】
蛍光性物質の例としては、次のものが挙げられる。
紫外線発光蛍光剤は、紫外線により励起され、これよりも低いエネルギー準位に戻るときに発するスペクトルのピークが青、緑、赤等の波長域にあるものであり、硫化亜鉛やアルカリ土類金属の硫化物の高純度蛍光体に、発光をより強くするために微量の金属（銅、銀、マンガン、ビスマス、鉛など）を付活剤として加えた後、高温焼成にて得られる。これらは、母体結晶と付活剤の組み合わせにより、色相、明るさ、色の減衰の度合いを調整できる。
【００６６】
また他に、赤外線発光蛍光剤もあって、これには、赤外線で励起して可視光の波長域で発光するもの（これを赤外可視変換蛍光剤と称する）、及び、赤外線で励起してより長波長域で発光するもの、がある。
前者の赤外可視変換蛍光剤は、非常に特殊な励起機構を持つ蛍光体であり、エネルギーの小さな赤外線の光子を複数個用いることによって可視発光の励起を行う。
【００６７】
これら（前記の赤外可視変換蛍光剤や、赤外線で励起してより長波長域で発光するもの）の発光機構には２つのタイプがあり、一方は付活剤イオンの多段階の励起によって、他方は増感剤からの複数回の共鳴エネルギー伝達によって、それぞれ高い励起が可能になる。先のタイプは、Ｅｒ３＋やＨｏ３＋を付活剤とする多くの母体結晶で観測され、後のタイプは増感剤Ｙｂ３＋が赤外線を吸収し、多段階のエネルギー伝達によって発光中心のＥｒ３＋、Ｔｍ３＋、あるいはＨｏ３＋、等を高い準位に励起する。
【００６８】
なお、母体結晶として硫化物（ＺｎＳ、ＣｄＳ）や酸硫化物（Ｙ２Ｏ２Ｓ）のように電子の移動度が大きく、光導電性を持った半導体的物質は、電子線励起蛍光体として使用することが可能である。
【００６９】
また、紫外線や赤外線の他に、Ｘ線あるいは粒子線などの放射線に対して効率の高い蛍光体（Ｚｎ、Ｃｄ）Ｓ：Ａｇや、電気エネルギーを直接ルミネッセンスに変える電界発光蛍光体も、本発明に使用可能な例として挙げることができる。
【００７０】
さらに、蛍光材料として上記の例以外にも、ジアミノスチルベンジルスルホン酸などのスチルベン系、ジアミノジフェニル系、イミダゾール系、チアゾール系、クマリン系、ナフタールイミド系、あるいは、チオフェン系、等の有機系の顔料や染料を使用しても良い。
【００７１】
これらの中では、例えば検証機の製作又は入手が比較的容易なことから、紫外線あるいは赤外線で発光する材料が好ましく、特には、前者（紫外線によって発光する発光材料）は低コストで入手できることから、よりいっそう好ましい。
【００７２】
それから、前記の赤外線吸収材料の例としては、リン酸塩系白色粉末や硫酸系白色結晶粉末が挙げられる。
【００７３】
もし、カーボンブラック等の黒色粉体をバインダー中に分散して設けた場合には、目視で存在を容易に確認されてしまうという問題があるが、上述した光透過性の回折効果層を透過した可視光を吸収するため、副屈折や散乱光の影響を事実上無視することができ、回折効果層の機能をより効果的に発現させることができる。また、白色系の粉末を使用した場合には、存在を目視で判別することが困難であることと、読み取り波長のスペクトルに影響の少ない色材を用いた印刷層を別途設けることが可能となり、デザインの幅が広がることとなり、意匠性もさらに向上させることが可能となる。
【００７４】
また、これらの例の他にも、例えば、フタロシアニン系の赤外線吸収性染料なども使用可能な例として挙げられる。
【００７５】
以上は例示であって、必ずしもこれらに限定されるものではなく、これら以外の赤外線吸収材料であっても、適宜、検討・選択して使用してよい。
【００７６】
なお、検証機能層兼接着層や検証機能層は前記の例以外にも、次のような、いくつかの構成例が考えられ、適宜採用してよい。すなわち、
（イ）発光材料を含む層および赤外線吸収材料を含む層から選択された２種以上の検証機能層兼接着層や検証機能層を積層して使用するタイプ。［ここで、発光材料又は赤外線吸収材料を含む２層の間に他の層（２層間の接着性を高めるアンカー層など）が介在してもよい。また、発光材料又は赤外線吸収材料を含む層同士が積層されていない箇所が部分的に在ってもよい。］
（ロ）発光材料を含む層および赤外線吸収材料を含む層から選択された２種以上の検証機能層兼接着層や検証機能層を２次元的に並べて設けて使用するタイプ。［ここで、発光材料又は赤外線吸収材料を含む層同士は、隣接しても又は隣接しなくても、いずれに設計してもよい。また、発光材料又は赤外線吸収材料を含む層同士は、部分的に重なる箇所が在ってもよい。］
（ハ）発光材料および赤外線吸収材料から選択された２種以上の材料を同一の層内に分散した層を、検証機能として使用するタイプ。 ［例えば発光材料や赤外線吸収材料を混ぜ合わせたうえで塗工することにより得られる。］
（ニ）前記の（イ）、（ロ）、（ハ）の中から２以上を組み合せによる検証機能を有するタイプ。
【００７７】
なお、さらに詳しくは、これら（イ）〜（ニ）の場合、それぞれ基本的に、発光材料（又はそれを含む層）と赤外線吸収材料（又はそれを含む層）、との組合せにより具体化するものが好ましい。
【００７８】
つまり、これとの比較対象する例として、（イ）〜（ニ）を、それぞれ異なる発光材料（又はそれを含む層）同士の組合せ、あるいは、異なる赤外線吸収材料（又はそれを含む層）との組合せによるタイプも考えられる。しかし、得られる効果を比較すると、発光材料（又はそれを含む層）と赤外線吸収材料（又はそれを含む層）との組合せによるタイプの方が、 効果が相対的に大変優れているからである。
【００７９】
ここで云う効果は、偽造防止対策の向上を図る効果、及び、視覚的な美しさとか印象深さ（特に発光材料による発光の影響が大）等、デザイン上の美的効果である。
【００８０】
また、これら以外の材料を検証に用いる材料として、さらに付け加えることも可能である。例えば、磁性材料、サーモクロミック材料、又は、フォトクロミック材料、等を、このような材料として採用することで、発光材料や赤外線吸収材料と、これらを適宜併用（例えば積層又は混錬）することも可能である。
【００８１】
次に、第２の実施形態を説明する。
図４は、本発明に係る転写シートの別の実施形態を示す断面図である。
【００８２】
図４に示したように、この実施形態に係る転写シートは、シート状の支持体１上に耐熱性保護層２、ＯＶＤ層９、耐熱マスク層５、接着層６が少なくとも設けられたことを特徴とした構成である。
【００８３】
この転写シートを用いれば、ホットスタンプ等の手段を用いて、様々な物品から成る被転写材に対してかなりの自由度をもって、ほぼ任意の形状に形成可能となる。すなわち、被転写材に対し接着層６が接触するように転写シートを重ね、熱および圧を与えることによって接着させた後、不要な支持体１を剥してしまうことにより、偽造防止用の媒体を形成することが可能となる（図示せず）。
【００８４】
この実施形態に係る支持体１、耐熱性保護層２、耐熱マスク層５および接着層６は、第１の実施形態のものと同様であるから、ＯＶＤ層９について説明する。
【００８５】
構造色を発現するＯＶＤ層９としては光の干渉を利用した画像を呈するものが例示でき、このＯＶＤ層９を利用すると、立体画像の表現や見る角度により色の変化を生じさせる（即ちカラーシフトする）ことができる。このようなＯＶＤ層９としては、コレステリック液晶を塗布したものや、光学多層干渉膜がある。
【００８６】
ここで、コレステリック液晶は、光学活性である液晶の構成分子は薄層内ではネマチック一軸配向しているが、隣接層間では相互に一定方向に一定角のねじれを起こしている螺旋構造を有する液晶である。
【００８７】
この螺旋のピッチは数１００ｎｍから無限大まで分布する。この螺旋構造によりコレステリック液晶は光との特異な相互作用を起こす。一つは螺旋軸に沿って屈折率が周期的に変動し、そのため螺旋ピッチに相応した波長の光を選択的に反射すること、二つ目は螺旋の掌性に依存して、反射光が左円偏光か右円偏光を示し、更に青から赤まできらびやかな色彩を放つこと、三つ目は、大きな旋光度を示すことである。
【００８８】
次に、光学多層干渉膜は、互いに異なる光学特性を有する多数の光学薄膜を積層した多層薄膜からなるものである。
【００８９】
すなわち、金属薄膜、セラミックス薄膜、又は、それらを併設してなる複合薄膜など、各層の光学特性と層の組合せの関係に基づいて決定される適当な数の層が積層されたものである。例えば、屈折率の異なる薄膜を積層する場合、高屈折率の薄膜と低屈折率の薄膜とを組み合わせても良く、また特定の組み合わせを交互に積層するようにしても、いずれでもよい。それらの層による光学的条件を満たす適当な組み合わせにより、所望の光学的効果（ここでは構造色）を発現する光学多層干渉膜を得ることができる。
【００９０】
この多層薄膜は、セラミックスや金属などの材料が用いられ、高屈折率材料の層数がおおよそ２以上の薄膜と、屈折率がおよそ１．５程度の低屈折率材料の薄膜とを、それぞれ光学的に適当な膜厚で適宜積層したものである。
【００９１】
この薄膜に用いられる材料の例を以下に挙げる。但しここで化学式の後ろに続くカッコ内の数値は、それぞれの屈折率ｎを示す。なお、金属の屈折率は金属薄膜の状態や形成条件などにより変化するため、その屈折率の表示を省略している。
【００９２】
まず、セラミックスとしては、Ｓｂ２Ｏ３（３．０）、Ｆｅ２Ｏ３（２．７）、ＴｉＯ２（２．６）、ＣｄＳ（２．６）、ＣｅＯ２（２．３）、ＺｎＳ（２．３）、ＰｂＣ１２（２．３）、ＣｄＯ（２．２）、Ｓｂ２Ｏ３（２．０）、ＷＯ３（２．０）、ＳｉＯ（２．０）、Ｓｉ２Ｏ３（２．５）、Ｉｎ２Ｏ３（２．０）、ＰｂＯ（２．６）、Ｔａ２Ｏ３（２．４）、ＺｎＯ（２．１）、ＺｒＯ２（２．０）、ＭｇＯ（１．６）、Ｓｉ２Ｏ２（１．５）、ＭｇＦ２（１．４）、ＣｅＦ３（１．６）、ＣａＦ２（１．３〜１．４）、ＡｌＦ３（１．６）、Ａｌ２Ｏ３（１．６）、ＧａＯ（１．７）、等があり、また、金属系の材料としては、Ａｌ、Ｆｅ、Ｍｇ、Ｚｎ、Ａｕ、Ａｇ、Ｃｒ、Ｎｉ、Ｃｕ、Ｓｉ、等の金属単体もしくは合金が挙げられる。
【００９３】
また、低屈折率の材料としては、例えば有機ポリマーのうち、ポリエチレン（１．５１）、ポリプロピレン（１．４９）、ポリテトラフロロエチレン（１．３５）、ポリメチルメタアクリレート（１．４９）、ポリスチレン（１．６０）等がある。但し、ここでカッコ内の数値はそれぞれの屈折率ｎを示す。
【００９４】
これらの高屈折率材料もしくは光透過率２０％〜７０％の金属薄膜から少なくとも一種を選択し、かつ、低屈折率材料から少なくとも一種を選択し、これら高屈折率材料もしくは金属薄膜と低屈折率材料とを、それぞれ所定の厚さで、交互に積層させることにより、特定の波長の可視光を選択的に透過屈折あるいは反射するようになる。そして選択的に反射される可視光が構造色を構成する。
【００９５】
多層薄膜の形成方法としては公知の手法を用いることができ、膜厚、成膜速度、積層数、あるいは光学膜厚などの制御が可能な、真空蒸着法、スパッタリング法、ＣＶＤ法等、真空チャンバー内でそれぞれの材料又はその原料を蒸発させ、基体シート上に付着凝集させる真空成膜法を使用することで形成できる。
尚、ここで云う光学膜厚はｎとｄの積で与えられる量であり、ｎは屈折率、またｄは膜厚である。
【００９６】
また、還元二酸化チタン被覆雲母や酸化鉄被覆雲母の粉末をバインダー中に分散したインキを塗布・印刷して得られる膜もＯＶＤ層７として利用することができ、見る角度により微妙な色変化を与える（フリップフロップ効果）ことができる。
【００９７】
なお、偽造防止策の手法として、回折構造形成層には、上述したＯＶＤを、お互いの機能を阻害しない限り、複数組み合わせて使用することが可能である。また、耐熱保護層２及び回折構造形成層３の層間に別途ＯＶＤ機能を付与しても良い（図示せず）。
【００９８】
以上、一実施例を説明してきたが、意匠性を向上すべく各層を着色することや表面もしくは層間に印刷を施す等、使用の目的により適宜利用可能である。
【００９９】
また、各層の接着性を鑑み、各層間に接着アンカー層を設けることや、コロナ放電処理・プラズマ処理・フレーム処理等の各種易接着処理を施すことも可能である。
【０１００】
【実施例】
本発明を、具体的な実施例をあげて詳細に説明する。
【０１０１】
＜実施例１＞
本実施例においては、図１の構成を代表例として説明する。
厚み２５μｍの透明ポリエチレンテレフタレート（ＰＥＴ）フィルムから成る支持体１に耐熱保護層２として下記組成物からなるインキを、乾燥後の膜厚が２μｍとなるように塗布乾燥した。次に、回折構造形成層３として、下記組成物からなるインキを、乾燥後の膜厚が１μｍとなるように、塗布し、かつ、１５０℃、１０ｓｅｃの条件で焼き付けた。次いで、ロールエンボス法により、回折格子を構成する微小凹凸のレリーフパターンを回折構造形成層３の表面に形成（図示せず）した。次に、金属反射性の回折効果層４として、アルミニウムを真空蒸着法にて５０ｎｍの膜厚となるように形成した。次に、耐熱マスク層５として以下の組成物からなるインキを乾燥後の膜厚が１μｍとなるようにパターン印刷した。次に、５０℃に加熱された１．５ＮのＮａＯＨ溶液が入った浴槽に１０秒間浸すことにより、上記耐熱マスク層５不存在部から露出した部分の回折効果層４をエッチングした後、０．１ＮのＨＣｌ溶液にて中和し、その後水洗・乾燥工程を経て所望の部分的に形成された回折効果層４及び、耐熱マスク層５を得た。ここで、耐熱マスク層５は、回折効果層４上にしか存在していないことが、確認された。最後に、回折構造形成層３及び耐熱マスク層５の全面を覆うように下記組成物からなる接着性インキを、乾燥後の膜厚が３μｍとなるように、塗布・乾燥して接着層６を形成して、転写シートを製造した。
【０１０２】
「耐熱保護層インキ組成物」
ポリアミドイミド樹脂（Ｔｇ．２５０℃） １９．２重量部
ポリエチレンパウダー ０．８重量部
ジメチルアセトアミド ４５．０重量部
トルエン ３５．０重量部
【０１０３】
「回折構造形成層インキ組成物」
ウレタン樹脂 ２０．０重量部
メチルエチルケトン ５０．０重量部
酢酸エチル ３０．０重量部
【０１０４】
「耐熱マスク層インキ組成物」
変性ノルボルネン樹脂（Ｔｇ．１７１℃） ２０．０重量部
沈降性硫酸バリウム（比重５．５） １０．０重量部
メチルエチルケトン ４０．０重量部
トルエン ３０．０重量部
【０１０５】
「接着層インキ組成物」
塩化ビニル酢酸ビニル共重合樹脂 １５．０重量部
アクリル樹脂（Ｔｇ．２０℃） １０．０重量部
シリカ １．０重量部
メチルエチルケトン ４４．０重量部
トルエン ３０．０重量部
【０１０６】
＜実施例２＞
実施例２として、接着層６に検証用物質を含有させた点を除き、全て実施例１と同一の組成・加工にて部分的回折構造転写シートを得た。なお、接着層インキの組成物は以下に記す。
【０１０７】
「接着層インキ組成物」
塩化ビニル酢酸ビニル共重合樹脂 １２．０重量部
アクリル樹脂（Ｔｇ．２０℃） ８．０重量部
無機蛍光顔料 ８．０重量部
メチルエチルケトン ４６．０重量部
トルエン ２６．０重量部
【０１０８】
＜比較例１＞
比較例１にとして、実施例１における転写シートの耐熱保護層を以下に記す材料に変更し、耐熱マスク層５及びエッチング処理を除いた従来の転写シートの構成で作成した。
【０１０９】
「耐熱保護層インキ組成物」
アクリル樹脂（Ｔｇ．１０５℃） １９．２重量部
ポリエチレンパウダー ０．８重量部
メチルエチルケトン ４５．０重量部
トルエン ３５．０重量部
【０１１０】
＜比較例２＞
比較例２にとして、比較例１で作成した転写シートの回折効果層上（接着層との層間）に以下の組成物からなる熱硬化性樹脂を全面に塗布した。乾燥後の膜厚は１μｍになるように調整し、接着層６を塗布する前に８０℃環境で１週間の熱処理（エージング）を行った。なお、本比較例２においては、実施例２の検証用材料入りの接着層を用いた。
【０１１１】
［熱硬化性樹脂インキ組成物］
アクリルポリオール １５．０重量部
エポキシ樹脂 ３．０重量部
メチルエチルケトン ５２．０重量部
トルエン ３０．０重量部
【０１１２】
上記製造された転写シートの評価を行った。
【０１１３】
［転写適性の評価］
被転写材として厚み約２００μｍの上質紙上に、版面温度１２０℃、２０００ｋｇ／ｃｍ^２の圧力と、１４０℃、１５００ｋｇ／ｃｍ^２の２条件でホットスタンプした（加圧時間は０．３秒）。ＯＶＤ画像の状態を目視観察し、ＯＶＤ画像の白化や皺、クラック等の変化があったものを×とした。
【０１１４】
［耐熱性の評価］
次に、上記添付されたＯＶＤ形成物を石鹸水（市販粉石鹸を水道水に５％濃度で作成）中に１０分間浸した後、２００℃に加熱したアイロンを用いて、当て布越しに加熱（アイロン自重：約１．２ｋｇ、１０秒間）した。ここでも、ＯＶＤ画像の状態を目視観察し、ＯＶＤ画像の白化や皺、クラック等の変化があったものを×とした。
さらに、意図的に皺を発生させたＯＶＤ添付物に対して、直接アイロンがけを行い皺伸ばしを行った。ここでは、ＯＶＤ画像の破壊があったものを×とした。
【０１１５】
［検証機能の評価］
最後に、実施例２及び比較例２で作成した転写シートについて、検証を行った。ここでは、３６５ｎｍのブラックランプを用いて、被転写材への添付前／後でそれぞれの蛍光発光有無を確認した。ここでは、蛍光の発光が確認できなかったものについて、×とした。それぞれの結果を＜表１＞に記す。
【０１１６】
【表１】

【０１１７】
以上のように、実施例１及び２は転写時の耐熱性のみならず、転写後にも十分な耐熱性を有している。一方、比較例１では転写時の熱及び圧力により、ＯＶＤ画像が破壊されており、使用に耐えられるものではなかった。比較例２においては、転写時の熱及び圧力に対しては十分な耐熱性を有しているが、転写後の耐熱性が十分でなく、実生活環境において可能性の高いアイロン試験に耐えられるものではなかった。また、実施例１及び２の構成は、回折光を発生させる領域を部分的に有しているため、検証機能を組み入れることが可能である。実施例２の場合は、転写シート内部に組み入れたが、実施例１の場合は、被転写材に組み入れることも可能である。比較例２においては、検証機能を内部に組み入れたが、物品に添付した後には、反射層により機能を阻害され、外部検証は不可能であった。
【０１１８】
【発明の効果】
以上、本発明によれば、物品への添付後も優れた耐熱性を有し、かつ検証機能を付与することが可能である部分的回折構造転写シート及びその製造方法を提供することができる。
【図面の簡単な説明】
【図１】図１は本発明による転写シートの一実施形態を示す断面図である。
【図２】図２は本発明による転写シートの一実施形態を示す断面図である。
【図３】ａ、ｂ、ｃは、それぞれ、本発明による転写シートの一実施形態を示す断面図である。
【図４】図４は本発明による転写シートの別の実施形態を示す断面図である。
【符号の説明】
１・・・支持体
２・・・耐熱保護層
３・・・回折構造形成層
４・・・回折効果層
５・・・耐熱マスク層
６・・・接着層
７・・・反射膜
８・・・透明膜
９・・・ＯＶＤ層[0001]
BACKGROUND OF THE INVENTION
The present invention includes measures for preventing fraud such as counterfeiting, falsification, or theft of information that should be kept secret, and measures for facilitating the determination of fraud even if such fraud is concerned. [In this specification, these measures are collectively referred to as anti-counterfeiting measures].
[0002]
More specifically, for example, counterfeiting measures to prevent counterfeiting of securities such as gift certificates and credit cards, and counterfeiting to prove that they are genuine products that are often applied to generally expensive items such as branded products and luxury products. Anti-counterfeiting transfer sheet which is a technique suitable for these needs, a technique capable of obtaining a visual effect excellent in decorativeness depending on the design, and capable of obtaining a higher effect in combination with OVD It relates to a manufacturing method.
[0003]
[Prior art]
In recent years, holograms and diffraction gratings that can express three-dimensional images, special decorative images, or special color changes using interference between reflected light and dispersion of the reflected light, as examples of techniques for expressing optical effects, In addition, so-called OVD using a technique such as a multilayer thin film that causes a color change (color shift) depending on the viewing angle by stacking thin films having different optical characteristics on optically appropriate multilayers is used. [OVD is an abbreviation for “Optical (ly) Variable Device”. Note that DOVID is also a synonym for OVD, and is an abbreviation for “Differential Optical (ly) Variable Imaging Device”. ].
[0004]
Regarding the color change, there is a phenomenon in which the color changes due to the material and structure of the OVD without depending on the absorption of the colored light of a specific wavelength by the material itself. It comes from the different nature of. In the present specification, such a color is referred to as a structural color. Examples of optical phenomena related to the expression of structural colors include multilayer film interference, thin film interference, refraction, dispersion, light scattering, Mie scattering, diffraction, and diffraction grating. In these OVDs, an optical thin film having a thickness of 1 μm or less formed by a vacuum film forming technique such as vacuum deposition or sputtering is often used.
[0005]
This OVD requires advanced manufacturing technology, has a unique visual effect, and can determine authenticity at a glance, so it can be formed on a part or all of credit cards, securities, certificates, etc. as an effective counterfeiting measure. Is being used. Recently, in addition to securities, it is affixed to sports equipment, computer parts and other electrical product software, etc., as an authentication sticker that proves the authenticity of the product, and as a seal sticker that is affixed to the package of those products Has also become widely used.
[0006]
As described above, OVD is generally an anti-counterfeiting means that is difficult to elaborate and easy to check, but there are many thermal transfer methods that are not easy to replace when attached to paper media such as gift certificates, banknotes, passports, or stock certificates. The case has been adopted. If an attempt is made to replace the thermally transferred OVD, the optical thin film used in the OVD is physically destroyed, and the original visual effect is impaired, so that the reprint marks remain clearly.
[0007]
However, when a transfer sheet such as a hologram is conventionally used to form a transfer material, the resin used for the transfer sheet contracts or expands due to heat or pressure during transfer, and this contraction / expansion occurs. There was a problem that fine cracks were generated in the optical thin film that cannot keep up with the expansion, resulting in whitening of the optical thin film.
[0008]
In response to this problem, a hologram transfer sheet that exhibits an excellent effect on heat during transfer has been proposed [for example, Patent Document 1]. In this method, by providing a heat-resistant protective layer made of a thermosetting resin between the optical thin film and the adhesive layer, the shrinkage / expansion is prevented and whitening of the optical thin film is prevented.
[0009]
[Patent Document 1]
Japanese Patent Publication No. 7-92635 (2nd page)
[0010]
[Problems to be solved by the invention]
However, in the above case, it is certainly an effective means for preventing thermal whitening during transfer, but heat resistance after transfer is not considered. When attached to conventional cards (in many cases, vinyl chloride cards), the heat resistance (glass transition temperature: around 70 ° C) of the material to be transferred (card) is relatively low and exposed to high temperatures. Therefore, it was not necessary to consider the heat resistance after transfer.
[0011]
In recent years, transfer to a paper medium has been changing to the mainstream, and in particular, when a gift certificate or banknote is taken as an example, it may be washed without being noticed in a wallet or pocket. In this case, it is assumed that many users attempt ironing and reproduction. Also, when wrinkles occur due to the distribution route or the handling of the user, ironing may be performed to stretch the wrinkles.
[0012]
The surface temperature of the iron is 150 ° C. to 250 ° C. (average 200 ° C.) at a high temperature setting, and even if the iron is applied through the application cloth and heat loss occurs due to evaporation of moisture, The ultimate temperature of the thin film can be estimated to be about 150 ° C., and can be estimated to be about 200 ° C. when direct ironing is performed by stretching or the like.
[0013]
In the case of the thermosetting acrylic resin and thermosetting urethane resin in the conventional example [Patent Document 1], the glass transition temperature is about −20 ° C. to 105 ° C. (before curing), and the glass transition temperature after curing is At most, 120 to 130 ° C. is the practical limit. It is possible to obtain a cured film with a glass transition temperature of around 140 ° C by using a material with a high degree of curing (high reactivity) or by performing high-temperature and long-time treatment. ) And deformation of the film base material distorts the optical thin film, which greatly deviates from the original purpose. Moreover, although thermosetting resin is implement | achieved by using together a hardening | curing agent, the functional group for providing adhesiveness with another layer (for example, an optical thin film or an adhesive layer) is with a hardening | curing agent. Troubles such as loss due to the reaction process and subsequent delamination have also occurred.
[0014]
Further, when ironing directly on the protective layer, the resin constituting the protective layer is softened and melted, and after adhering to the iron surface, the hologram is destroyed.
[0015]
In this way, even if it is careless by the user, the OVD medium attached for the purpose of preventing forgery may be deformed by an action that may occur in daily life, or, in extreme cases, destruction. -It is not desirable to disappear. As a result, genuine securities may be misunderstood as counterfeit. Forgery of securities is a crime, so it must be avoided that a good user suffers damage such as being misunderstood as a criminal.
[0016]
The present invention has been proposed in view of the above-described problems of the prior art, and when it is heat-resistant after transfer (when heated to about 150 to 250 ° C. (average 200 ° C.) by ironing) However, the original visual effect is not impaired, no wrinkles or cloudiness occurs, and the transfer layer is designed to partially express the original visual effect. It is an object of the present invention to provide a transfer sheet and a method for producing the same, with an appearance that is rich in design on the transfer target.
[0017]
[Means for solving the problems]
Means provided by the present invention in order to solve the above-mentioned problems are as follows.
First, the invention shown in claim 1 is provided on a sheet-like support, at least from the side close to the support,
A heat-resistant protective layer capable of being peeled off from the support,
A transparent diffractive structure forming layer having a minute uneven surface for generating diffracted light,
A diffraction effect layer that consists of an optical thin film provided in close contact with the unevenness of the uneven surface, and reflects light transmitted through the diffraction structure forming layer,
A heat-resistant mask layer provided so as to cover the diffraction effect layer;
An adhesive layer that covers the heat-resistant mask layer and is provided in a larger area;
A transfer sheet comprising:
The heat-resistant protective layer is a transfer sheet comprising a resin having a glass transition temperature of 200 ° C. or higher.
[0018]
The invention according to claim 2 is the transfer sheet according to claim 1, wherein the diffraction structure forming layer partially has the minute uneven surface.
[0019]
The transfer sheet according to any one of claims 1 to 2, wherein the heat-resistant mask layer has resistance to an acid or alkali that is an etching solution for the optical thin film. It is.
[0020]
4. The transfer sheet according to claim 1, wherein the heat-resistant mask layer contains 60% or more of a resin component having a glass transition temperature of 150 ° C. or higher. It is.
[0021]
A fifth aspect of the present invention is the transfer sheet according to any one of the first to fourth aspects, wherein the optical thin film is a metal reflective film that reflects light.
[0022]
The invention shown in claim 6 is characterized in that the optical thin film is a transparent reflective film having a refractive index higher than that of the diffractive structure forming layer and having light transmittance. It is a transfer sheet of description.
[0023]
According to a seventh aspect of the invention, the optical thin film is composed of two or more types of thin films: a metal reflective film and a transparent reflective film having a refractive index higher than that of the diffractive structure forming layer and having light transmittance. ,
5. The transfer sheet according to claim 1, wherein the transfer sheet has a region in which the transparent reflective film is present and no metal reflective film is present.
[0024]
The invention shown in claim 8 is, on the sheet-like support, at least from the side close to the support,
A heat-resistant protective layer capable of being peeled off from the support,
An OVD layer consisting of a partially provided optical thin film and generating colored light having a structural color from the optical thin film;
A heat-resistant mask layer provided by covering the OVD layer;
An adhesive layer that covers the heat-resistant mask layer and is provided in a larger area;
A transfer sheet comprising:
The heat-resistant protective layer is a transfer sheet comprising a resin having a glass transition temperature of 200 ° C. or higher.
[0025]
The invention shown in claim 9 is, on the sheet-like support, from the side close to the support, at least,
A heat-resistant protective layer composed of a resin that can be peeled off from the support and has a glass transition temperature of 200 ° C. or higher;
A transparent diffractive structure forming layer having a minute uneven surface for generating diffracted light,
A diffraction effect layer that is composed of an optical thin film provided in close contact with the unevenness of the uneven surface, and that reflects the light transmitted through the diffraction structure forming layer to generate colored light;
A heat-resistant mask layer provided so as to cover the diffraction effect layer;
An adhesive layer that covers the heat-resistant mask layer and is provided in a larger area;
A transfer sheet comprising:
The heat-resistant protective layer is composed of a resin having a glass transition temperature of 200 ° C. or higher.
[0026]
A tenth aspect of the present invention is the transfer sheet manufacturing method according to the ninth aspect, wherein the diffractive structure forming layer partially has the minute uneven surface.
[0027]
The invention shown in claim 11 is provided on a sheet-like support, at least from the side close to the support,
A heat-resistant protective layer composed of a resin that can be peeled off from the support,
An OVD (Optical Variable Device) layer that is composed of a partially provided optical thin film and generates colored light having a structural color from the optical thin film,
A heat-resistant mask layer provided by covering the OVD layer;
An adhesive layer that covers the heat-resistant mask layer and is provided in a larger area;
Is a method for producing a transfer sheet.
[0028]
DETAILED DESCRIPTION OF THE INVENTION
Hereinafter, embodiments of the present invention will be described in detail.
1, 2 and 3 are sectional views showing an embodiment of a transfer sheet according to the present invention.
[0029]
As shown in FIGS. 1 to 3, the transfer sheet according to the present invention has at least a heat-resistant protective layer 2 on a sheet-like support 1 and a diffractive structure having a minute uneven surface for generating diffracted light. The layer 3, the diffraction effect layer 4 provided partially, the heat-resistant mask layer 5, and the adhesive layer 6 are provided at least. The diffraction effect layer 4 is an optical thin film formed by a thin film formation method such as a vacuum evaporation method or a sputtering method, and the diffraction effect layer 4 generates diffracted light that is a color light having a structural color.
[0030]
If this transfer sheet is used, it becomes possible to form an almost arbitrary shape with a considerable degree of freedom with respect to a material to be transferred composed of various articles by means of a hot stamp or the like. That is, the transfer sheet is stacked so that the adhesive layer 6 is in contact with the material to be transferred, adhered by applying heat and pressure, and then the unnecessary support 1 is peeled off. It can be formed (not shown).
[0031]
As the support 1, it is common to use a polyethylene terephthalate resin film having a stable thickness and having heat resistance capable of withstanding the heat during coating and drying of each layer, but is not limited thereto. As other materials, polyethylene naphthalate resin films, polyimide resin films, and the like are known as films having high heat resistance, and can be used for the same purpose. In addition, other films such as polyethylene, polypropylene, heat-resistant vinyl chloride, and the like can be used if coating conditions for the coating liquid, more specifically, drying conditions permit.
[0032]
In addition, when it is difficult to peel off the heat-resistant protective layer 2 due to transfer conditions or the like, a conventionally known release layer may be provided on the support side, and the peel strength is too small to cause careless peeling. In such a case, the peel strength may be adjusted by performing a known easy adhesion treatment. In addition, as long as there is no influence on the transfer layer, there is no problem with processing such as antistatic treatment, mat processing, and emboss processing.
[0033]
The heat-resistant protective layer 2 is the most important layer in the present invention, and is a layer that is peeled off from the support 1, and more specifically, is formed so as to cover the top of the diffraction structure forming layer 3 after peeling. In other words, it has resistance to mechanical damage, external damage such as rubbing when carrying, and resistance to living substances (such as liquor and water), and protects damage caused by external factors (especially iron resistance in the present invention). Also serves.
[0034]
In order to achieve the above object, as a result of intensive studies by the authors, it has been concluded that it is important to use a thermoplastic resin having a glass transition temperature of 200 ° C. or higher as the material of the heat-resistant protective layer. . If the glass transition temperature is less than 200 ° C., the heat-resistant protective layer itself is softened and melted and destroyed when the iron or the like is heated and the crystalline state cannot be maintained. Among these, a resin having a light transmittance at a wavelength of 500 nm of 60% or more can be preferably used. When the light transmittance at a wavelength of 500 nm is less than 60%, recognition as an OVD image becomes difficult due to coloring and opacity. Here, the light transmittance is a value defined by the measured value of the spectrophotometer at a thickness of 10 μm.
[0035]
In the heat-resistant protective layer, it is possible to add up to 20 parts by weight of a conventionally known lubricant for the purpose of imparting friction resistance. Here, there is no limitation on the lubricant.
[0036]
Next, the resin having a glass transition temperature of 200 ° C. or higher can be dissolved in a general-purpose solvent (dispersed in the case of an emulsion type), and is preferably a thermoplastic resin. Here, usable resins include polyethersulfone resin (Tg. 225 ° C.), polyether imide resin (Tg. 200 ° C. or higher), polyamide imide resin (Tg. 200 ° C. or higher), polyimide resin (Tg. 250). However, it is not limited to this. The light transmittance of these resins at a wavelength of 500 nm is generally 60% or more. However, the polyamideimide resin or polyimide resin may have a light transmittance of less than 60% if there are many imide bonds. It is preferable to select and use. In addition, as long as the optical thin film is not whitened during curing, a thermosetting system, a moisture curing system, an ultraviolet curing system, an electron beam curing resin, or the like may be used.
[0037]
The diffractive structure forming layer 3 is provided with irregularities constituting a diffraction grating on the surface thereof, and irregularities are imparted to the diffraction effect layer 4 provided thereon and along the irregularities. And the diffracted light reflected by the uneven surface of the diffraction effect layer 4 interferes with each other and has a structural color. In general, the structural color obtained by this diffraction phenomenon has different colors depending on the position of the observer.
[0038]
The diffractive structure forming layer 3 is required to have the performance of being capable of forming the unevenness on its surface with a press plate. The main material thereof is thermoplastic resin, thermosetting resin, ultraviolet ray or electron beam curing. Any of the functional resins may be used.
[0039]
Examples of materials that can be used for the diffractive structure forming layer 3 include polyisocyanates such as thermoplastic resins such as acrylic resins, epoxy resins, cellulose resins, and vinyl resins, acrylic polyols having a reactive hydroxyl group, polyester polyols, and the like. As a cross-linking agent, UV resins such as melamine resins and phenol resins, UV or electron beam curable resins such as epoxy (meth) acryl, urethane (meth) acrylate, etc. Can be used in combination. Moreover, even if it is a thing other than the above, as long as the said unevenness | corrugation can be formed, you may use it suitably.
[0040]
On the other hand, as the diffraction grating constituting the fine concavo-convex shape, a holographic technique can be used in which an interference fringe obtained by causing interference of two coherent light beams is exposed to a photosensitive material. With this holographic technique, for example, the structural color can be controlled to form a stereoscopic image with a sense of depth.
[0041]
In addition, a holographic technique is applied to each minute pixel to form a diffraction grating, and a large number of pixels having these diffraction gratings are arranged to form the entire screen, thereby expressing an image having high brightness and contrast. Is also possible. The pixel having the diffraction grating can be provided by directly drawing the diffraction grating on the photosensitive material with an electron beam, not limited to the holography technique.
[0042]
In addition, a method for forming each pixel having a diffraction grating in an appropriate shape (for example, a star shape, etc.), a method for forming fine characters (so-called micro characters) that cannot be seen with the naked eye, and a diffraction grating are used. In addition, methods have been developed to faithfully reproduce the colors of the subject as if they were photographs, or to express multiple images that differ completely depending on the viewing angle using a diffraction grating. You can also
[0043]
As described above, the diffraction effect layer 4 reflects and diffracts incident light on the uneven surface, and the reflected diffracted light interferes with each other and has a structural color. As the diffraction effect layer 4, one or two composite (FIG. 3 a, FIG. 3 b, and FIG. 3 c) films of the metal reflection film 7 and the transparent reflection film 8 can be used. In any case, it is desirable to form by a vacuum film forming technique in which a thin film is deposited and formed in a vacuum. This is because the diffraction effect layer 4 formed by the vacuum film forming method can generate high-intensity diffracted light and reproduce a clear structural color. As the film formation method, for example, a vacuum deposition method, a sputtering method, a chemical thin film formation method (CVD method), or the like can be applied. The film thickness of the diffraction effect layer 4 formed by the vacuum film formation method is 5 to 1000 nm. Therefore, after being transferred to the transfer material, if it is peeled off, it is physically destroyed, and the transfer material Counterfeiting can be prevented.
[0044]
When the material used for the diffraction effect layer 4 is illustrated, in the case of the metal reflective film 7, a single metal material such as Al, Sn, Cr, Ni, Cu, or Au, or a compound thereof may be used.
[0045]
As the material of the diffraction effect layer 4 of the transparent reflection film 8, it is necessary to use a high refractive index material having a higher refractive index than the material constituting the relief forming surface of the diffraction structure forming layer 3. The difference in refractive index is preferably 0.2 or more. By taking a difference in refractive index of 0.2 or more, refraction and reflection occur at the interface with the diffractive structure forming layer 3, and a structural color can be obtained by good light reflection while having translucency. That is, a visually effective hologram (or diffraction grating) can be obtained.
[0046]
Examples of the material of the diffraction effect layer 4 of the transparent reflective film 8 include Sb2O3 (3.0), Fe2O3 (2.7), TiO2 (2.6), CdS (2.6), and CeO2 (2.3). ZnS (2.3), PbC12 (2.3), CdO (2.2), Sb2O3 (2.0), WO3 (2.0), SiO (2.0), Si2O3 (2.5), In2O3 (2.0), PbO (2.6), Ta2O3 (2.4), ZnO (2.1), ZrO2 (2.0), MgO (1.6), Si2O2 (1.5), MgF2 (1.4), CeF3 (1.6), CaF2 (1.3 to 1.4), AlF3 (1.6), Al2O3 (1.6), GaO (1.7), etc. can be used. It is.
[0047]
The diffraction effect layer 4 can also be formed by a method other than the vacuum film formation method. When the diffraction effect layer 4 is a metal reflection film, for example, the diffraction effect layer is formed by applying or printing a high-brightness light reflection ink prepared by pulverizing aluminum or brass to 500 nm or less and dispersing it in a binder resin. 4 may be formed. As the coating / printing means, known printing means such as gravure printing, flexographic printing, and screen printing can be applied. When the diffraction effect layer 4 is provided by such a printing method, the film thickness after drying may be adjusted to be about 0.1 to 10 μm.
[0048]
Further, when the diffraction effect layer 4 is a transparent reflective film, a highly bright light transmitting ink obtained by dispersing a high refractive fine powder material having a particle diameter of 500 nm or less and a refractive index of 2.0 or more in a binder resin is used. A transparent reflective film can be formed by coating or printing.
[0049]
In addition, the diffraction effect layer 4 can also be provided partially. When the diffraction effect layer 4 is partially provided, the following method can be used.
[0050]
That is, a solvent-soluble resin is formed in a negative pattern on the diffractive structure forming layer 3, a metal thin film is provided, and then the soluble resin and the metal thin film layer of the portion are formed in a solvent (for example, water). And a method of etching and removing the metal thin film with an acid or alkali after printing a positive pattern on the diffraction effect layer 4 using an acid resistant or alkaline resistant resin. Further, by applying a photosensitive resin material that dissolves or becomes difficult to dissolve by exposure, exposure is performed through a mask having a desired pattern, and then unnecessary portions of the photosensitive resin material are washed and removed. A method of removing the diffraction effect layer 4 exposed from the removed portion by etching is exemplified. The unnecessary portion of the photosensitive resin material and the diffraction effect layer 4 can be removed simultaneously in one step.
[0051]
Further, a resin having poor adhesion is formed in a pattern on the diffractive structure forming layer 3, and after providing the diffraction effect layer 4, it is passed through an adhesive roll or the like to remove the diffraction effect layer 4 in the resin formation part having poor adhesion. It is also possible to partially form a thin film by providing a mask part in the method or in the pot of the vapor deposition apparatus. Another possible example is a method of physically removing the diffraction effect layer 4 by baking with laser light or the like. The above is an example, and the present invention is not limited to these. Any known technique for partially forming a metal thin film can be used as appropriate.
[0052]
The diffraction effect layer provided partially as described above may be, for example, a random pattern having no clear meaning, but information that is a pattern appropriately using any picture, figure, pattern, letter, number, symbol, etc. Information can be appropriately given by forming the pattern.
[0053]
Further, the diffraction effect layer can be constituted by a combination of a plurality of layers (two or more) of the light reflection film 7 and the light transmission film 8.
[0054]
The transfer sheet shown in FIG. 3b is such an embodiment, in which a metal reflection film 7 is partially provided, and the metal reflection film 7 is covered and a transparent reflection film 8 is provided on the entire surface. In this embodiment,
Since there is a region where the transparent reflective film 8 exists and the metal reflective film 7 does not exist, the reflected diffracted light from the transparent reflective film 8 can be observed and seen through in this region, while the metal reflective film 7 is visible. In the region where the light is present, the reflected diffracted light from the metal reflective film 7 can be observed, and it is impossible to see through.
[0055]
FIG. 3C shows an embodiment in which a transparent reflection film 8 is provided on the entire surface of the transfer sheet shown in FIG. 3C and a metal reflection film 7 is partially provided on the transparent reflection film 8. Also in this embodiment, as in the embodiment shown in FIG. 3b, there is a region where the transparent reflective film 8 is present and the metal reflective film 7 is not present. In addition to being observable, it is possible to see through. On the other hand, in the region where the metal reflecting film 7 exists, the reflected diffracted light from the metal reflecting film 7 can be observed and the see-through is impossible.
[0056]
Next, the heat resistant mask layer 5 will be described. The heat-resistant mask layer 5 is the most important second layer in the present invention, and the relief shapes of the diffraction structure forming layer 3 and the diffraction effect layer 4 are caused by external thermal factors that may occur in daily life. Even when receiving (for example, ironing), it plays the role of maintaining the relief shape together with the heat-resistant protective layer described above. In order to achieve the above object, as a result of intensive studies by the authors, it is concluded that it is important that the material of the heat-resistant mask layer contains at least 60% of a resin component having a glass transition temperature of 150 ° C. or higher. It came. When the glass transition temperature is less than 150 ° C., when heat from an iron or the like is applied, the crystalline state cannot be maintained, the heat-resistant mask layer itself is softened, and the relief shape cannot be maintained. In the heat-resistant mask layer, conventionally known various fillers, fillers, colorants and the like can be mixed up to 40% in addition to a resin having a glass transition temperature of 150 ° C. or higher. Here, the material is not particularly limited. The amount of addition will be described. When a colorant or the like is added in excess of 40%, the dispersibility is poor and the coating strength is lowered, resulting in poor heat resistance. Further, there are reasons such as poor printability (flowability of coating liquid, plate drying, etc.) and poor storage stability (precipitation, aggregation, etc.) of the coating liquid. 40% of the added amount is not a simple weight ratio but a ratio when the specific gravity is converted to 1. For example, in the case of adding precipitated barium sulfate (specific gravity 5.5), which is a white pigment, it is possible to add up to 220 parts by weight with respect to 60 parts by weight of the resin component having a specific gravity of 1.
[0057]
Next, the resin having a glass transition temperature of 150 ° C. or higher is preferably a thermoplastic resin that can be dissolved (or dispersed in an emulsion type) in a general-purpose solvent. Here, usable resins include polycarbonate resin (Tg. 140 to 150 ° C.), polyarylate resin (Tg. 193 ° C.), polysulfone resin (Tg. 190 ° C.), and polyether sulfone resin (Tg. 225 ° C.). , Polyetherimide resin (Tg. 200 ° C. or higher), cyclic polyolefin copolymer (Tg. 171 ° C.), modified norbornene resin (Tg. 171 ° C.), polyamideimide resin (Tg. 200 ° C. or higher), polyimide resin ( Tg. 250 ° C. or higher), but is not limited thereto. In addition, when there is no problem such as shrinkage, a thermosetting system, a moisture curing system, an ultraviolet curing system, an electron beam curing resin, or the like may be used.
[0058]
The heat-resistant mask layer 5 preferably has durability against acids and alkalis. The reason is that, as a means for partially providing the above-described diffraction effect layer 4, it is efficient to perform an etching process after providing the heat-resistant mask layer 5 (configuration in FIGS. 1 and 2). As an example of a general etching method, a NaOH solution of about 1.0 N heated to about 40 to 50 ° C. is used as an etching solution, and is immersed in this for 10 to 20 seconds. If it is immersed for about 2 seconds and does not change to a coating film, it is judged to have sufficient resistance. The heat-resistant material described above has sufficient resistance to chemicals.
[0059]
Next, the adhesive layer 6 is a known heat sensitive resin (heat sensitive) having a function of adhering to the transfer material by applying heat and pressure in contact with various transfer materials (for example, paper / plastic). Adhesive material) is used.
[0060]
It should be noted that a material having a verification function as described below is appropriately added to the adhesive layer 6 so as to be a verification function / adhesive layer that is an adhesive layer having a verification function. In addition to the adhesive layer 6, a verification function layer including a material having a verification function can be provided. By these verification function layer / adhesion layer and verification function layer, it becomes possible to enhance the effect of the anti-counterfeiting measure and to obtain a different design.
[0061]
The verification function refers to a function that cannot be confirmed in a white light environment but can be confirmed in a special environment. For example, one or more external stimuli (ultraviolet rays, infrared rays, etc.) from the upper part on the side where an image can be seen. ) Is irradiated (depending on the light emitting material, for example, in the case of ultraviolet rays or in the case of infrared rays), the verification function layer 2 emits light, so that its presence can be confirmed, or (for example, in the case of an infrared absorbing material) infrared rays When observed with, light is absorbed at that part, so its presence can be confirmed. When a transfer sheet having this function is used, it becomes difficult to forge the transfer sheet itself, and the effect of anti-counterfeiting measures can be further enhanced.
[0062]
Here, the material having the verification function will be described in detail. As the luminescent material, light in the visible range is emitted by an external stimulus, and ultraviolet, infrared, electron beam, X-ray, radiation, electric field, or chemical reaction, Examples thereof include phosphors, phosphors, and daylights that emit light upon external stimulation. The light emitting material is used by appropriately adding to the binder resin constituting the verification functional layer / adhesion layer or the verification functional layer. The addition amount is preferably within a range of 0.5% to 80%. When the addition amount is less than 0.5%, sufficient light emission cannot be obtained. When the addition amount exceeds 80%, the binding force with the binder resin is weakened, and the durability as a final product is weakened.
[0063]
Examples of the infrared absorbing material include a material having a wide absorption up to the visible region such as carbon black, and a material having an absorption wavelength in the infrared region and hardly absorbing visible light. The addition amount is desirably within a range of 0.5% to 80%. When the addition amount is less than 0.5%, sufficient absorption cannot be obtained. When the addition amount exceeds 80%, the binding force with the binder resin is weakened, and the resistance as the final product is weakened.
[0064]
Hereinafter, the light emitting material will be described in more detail.
The phosphor emits light in the vicinity of the visible range by external stimulation (excitation). In general, phosphors and phosphors are sometimes collectively referred to as phosphors. However, when distinguishing between phosphors and phosphors, phosphors having a relatively long afterglow are sometimes referred to as phosphors. Many.
In particular, in many cases, the phosphor generally refers to a phosphor having an afterglow of an extent that can be perceived by the eye after excitation is stopped (approximately 0.1 sec).
The daylight is generally a long afterglow with long afterglow.
[0065]
The following are mentioned as an example of a fluorescent substance.
Ultraviolet-emitting fluorescent agents are those that are excited by ultraviolet rays and have spectral peaks in the blue, green, red, etc. wavelength range when returning to lower energy levels. After a trace amount of metal (copper, silver, manganese, bismuth, lead, etc.) is added as an activator in order to enhance the emission of light to a high-purity phosphor of sulfide, it can be obtained by high-temperature firing. These can adjust the hue, brightness, and degree of color attenuation by the combination of the base crystal and the activator.
[0066]
In addition, there are infrared emitting fluorescent agents, which are excited by infrared rays and emit light in the visible wavelength range (referred to as infrared visible conversion fluorescent agents), and excited by infrared rays. Some emit light in the longer wavelength range.
The former infrared-visible conversion fluorescent agent is a phosphor having a very special excitation mechanism, and excites visible light emission by using a plurality of low-energy infrared photons.
[0067]
There are two types of light emission mechanisms of these (the infrared visible conversion fluorescent agent and those that emit light in a longer wavelength region when excited by infrared rays), one of which is based on multi-stage excitation of activator ions, On the other hand, a plurality of resonance energy transmissions from the sensitizer each enable high excitation. The former type is observed in many host crystals that use Er3 + or Ho3 + as an activator, and the latter type absorbs infrared rays by the sensitizer Yb3 +, and the luminescence center Er3 +, Tm3 +, or Ho3 +, etc. are excited to a high level.
[0068]
Note that a semiconducting substance having a high electron mobility such as sulfide (ZnS, CdS) or oxysulfide (Y2O2S) as a base crystal and having photoconductivity can be used as an electron beam-excited phosphor. Is possible.
[0069]
In addition to ultraviolet rays and infrared rays, phosphors (Zn, Cd) S: Ag having high efficiency with respect to radiation such as X-rays or particle rays, and electroluminescent phosphors that directly change electric energy into luminescence are also included in the present invention. Can be cited as examples that can be used.
[0070]
Further, in addition to the above examples as fluorescent materials, organic pigments such as stilbene series such as diaminostilbenzyl sulfonic acid, diaminodiphenyl series, imidazole series, thiazole series, coumarin series, naphthalimide series, or thiophene series, etc. A dye may be used.
[0071]
Among these, for example, since it is relatively easy to manufacture or obtain a verification machine, a material that emits light by ultraviolet rays or infrared rays is preferable, and in particular, the former (light emitting material that emits light by ultraviolet rays) can be obtained at low cost. Even more preferable.
[0072]
Then, examples of the infrared absorbing material include phosphate-based white powder and sulfuric acid-based white crystal powder.
[0073]
If black powder such as carbon black is dispersed in a binder, there is a problem that the presence can be easily confirmed visually, but the light-transmitting diffraction effect layer described above is transmitted. Since visible light is absorbed, the influence of sub-refraction and scattered light can be virtually ignored, and the function of the diffraction effect layer can be expressed more effectively. In addition, when using a white powder, it is difficult to visually determine the presence, and it is possible to separately provide a printing layer using a color material that has little influence on the spectrum of the reading wavelength, The width of the design will be expanded, and the design properties can be further improved.
[0074]
In addition to these examples, phthalocyanine-based infrared absorbing dyes can also be used.
[0075]
The above is an example, and the present invention is not necessarily limited to these, and infrared absorbing materials other than these may be appropriately studied and selected for use.
[0076]
In addition to the above-described example, the verification function layer / adhesion layer and the verification function layer may have several configuration examples as follows, and may be appropriately employed. That is,
(A) A type in which two or more verification function layers / adhesion layers and verification function layers selected from a layer containing a light emitting material and a layer containing an infrared absorbing material are stacked. [Here, another layer (an anchor layer or the like for improving adhesion between the two layers) may be interposed between the two layers containing the light emitting material or the infrared absorbing material. Moreover, the location where the layers containing a light emitting material or an infrared rays absorption material are not laminated | stacked may exist partially. ]
(B) A type in which two or more types of verification function / adhesion layers and verification function layers selected from a layer containing a light emitting material and a layer containing an infrared absorbing material are two-dimensionally arranged and used. [Here, the layers containing the light emitting material or the infrared absorbing material may be designed to be adjacent or not adjacent. In addition, the layers containing the light emitting material or the infrared absorbing material may have a portion that partially overlaps. ]
(C) A type in which a layer in which two or more materials selected from a light emitting material and an infrared absorbing material are dispersed in the same layer is used as a verification function. [For example, it can be obtained by coating after mixing light emitting material and infrared absorbing material. ]
(D) A type having a verification function by combining two or more of the above (a), (b), and (c).
[0077]
In more detail, in each of the cases (a) to (d), the invention is basically realized by a combination of a light emitting material (or a layer containing it) and an infrared absorbing material (or a layer containing it). Those are preferred.
[0078]
That is, as an example to be compared with this, (i) to (d) are combined with different light emitting materials (or layers containing them) or with different infrared absorbing materials (or layers containing them). Combination types are also conceivable. However, when the effects obtained are compared, the type of the combination of the light emitting material (or the layer containing it) and the infrared absorbing material (or the layer containing it) has a relatively superior effect. .
[0079]
The effects referred to here are aesthetic effects in design such as an effect of improving anti-counterfeiting measures and visual beauty or impression depth (in particular, the influence of light emission by the luminescent material is large).
[0080]
Further, other materials can be added as materials used for verification. For example, by using a magnetic material, a thermochromic material, a photochromic material, or the like as such a material, a light emitting material or an infrared absorbing material can be used in combination (for example, lamination or kneading) as appropriate. It is.
[0081]
Next, a second embodiment will be described.
FIG. 4 is a cross-sectional view showing another embodiment of the transfer sheet according to the present invention.
[0082]
As shown in FIG. 4, the transfer sheet according to this embodiment includes at least a heat-resistant protective layer 2, an OVD layer 9, a heat-resistant mask layer 5, and an adhesive layer 6 provided on a sheet-like support 1. This is a characteristic configuration.
[0083]
If this transfer sheet is used, it becomes possible to form an almost arbitrary shape with a considerable degree of freedom with respect to a material to be transferred composed of various articles by means of a hot stamp or the like. That is, the transfer sheet is stacked so that the adhesive layer 6 is in contact with the material to be transferred, adhered by applying heat and pressure, and then the unnecessary support 1 is peeled off. It can be formed (not shown).
[0084]
Since the support 1, the heat-resistant protective layer 2, the heat-resistant mask layer 5 and the adhesive layer 6 according to this embodiment are the same as those of the first embodiment, the OVD layer 9 will be described.
[0085]
Examples of the OVD layer 9 that expresses structural colors include those that exhibit an image using light interference. When this OVD layer 9 is used, a color change is caused depending on the representation of the stereoscopic image and the viewing angle (that is, color shift). can do. Examples of such OVD layer 9 include those coated with cholesteric liquid crystal and optical multilayer interference films.
[0086]
Here, the cholesteric liquid crystal is a liquid crystal having a helical structure in which constituent molecules of an optically active liquid crystal are nematically uniaxially oriented in a thin layer, but are twisted at a certain angle in a certain direction with each other between adjacent layers. is there.
[0087]
The pitch of this spiral is distributed from several hundred nm to infinity. This helical structure causes the cholesteric liquid crystal to have a unique interaction with light. One is that the refractive index fluctuates periodically along the helix axis, and therefore selectively reflects light with a wavelength corresponding to the helix pitch, and the second depends on the handedness of the helix. It shows left circular polarization or right circular polarization and emits a brilliant color from blue to red. The third is to show a large optical rotation.
[0088]
Next, the optical multilayer interference film is composed of a multilayer thin film in which a large number of optical thin films having different optical characteristics are laminated.
[0089]
That is, an appropriate number of layers determined on the basis of the relationship between the optical characteristics of each layer and the combination of layers, such as a metal thin film, a ceramic thin film, or a composite thin film formed by combining them, are laminated. For example, when thin films having different refractive indexes are stacked, a high refractive index thin film and a low refractive index thin film may be combined, or a specific combination may be stacked alternately. An optical multilayer interference film exhibiting a desired optical effect (here, a structural color) can be obtained by an appropriate combination that satisfies the optical conditions of these layers.
[0090]
This multilayer thin film is made of a material such as ceramics or metal, and a thin film having a high refractive index material having approximately two or more layers and a thin film having a low refractive index material having a refractive index of approximately 1.5 are optically separated. In other words, the film is appropriately laminated with an appropriate film thickness.
[0091]
Examples of materials used for this thin film are given below. However, the numerical value in the parenthesis following the chemical formula here indicates the respective refractive index n. In addition, since the refractive index of a metal changes with the conditions, formation conditions, etc. of a metal thin film, the display of the refractive index is abbreviate | omitted.
[0092]
First, as ceramics, Sb2O3 (3.0), Fe2O3 (2.7), TiO2 (2.6), CdS (2.6), CeO2 (2.3), ZnS (2.3), PbC12 ( 2.3), CdO (2.2), Sb2O3 (2.0), WO3 (2.0), SiO (2.0), Si2O3 (2.5), In2O3 (2.0), PbO (2 .6), Ta2O3 (2.4), ZnO (2.1), ZrO2 (2.0), MgO (1.6), Si2O2 (1.5), MgF2 (1.4), CeF3 (1. 6), CaF2 (1.3 to 1.4), AlF3 (1.6), Al2O3 (1.6), GaO (1.7), and the like, and examples of metal-based materials include Al, Examples include simple metals or alloys such as Fe, Mg, Zn, Au, Ag, Cr, Ni, Cu, and Si. That.
[0093]
Moreover, as a low refractive index material, for example, among organic polymers, polyethylene (1.51), polypropylene (1.49), polytetrafluoroethylene (1.35), polymethyl methacrylate (1.49), Polystyrene (1.60) and the like. However, the numerical value in parenthesis shows each refractive index n here.
[0094]
At least one selected from these high refractive index materials or metal thin films having a light transmittance of 20% to 70% and at least one selected from low refractive index materials, these high refractive index materials or metal thin films and low refractive index By alternately laminating materials with predetermined thicknesses, visible light having a specific wavelength is selectively transmitted or refracted or reflected. The visible light selectively reflected constitutes a structural color.
[0095]
As a method for forming the multilayer thin film, a known method can be used, and the vacuum chamber, sputtering method, CVD method, etc., which can control the film thickness, film forming speed, number of layers, or optical film thickness, vacuum chamber, etc. It can form by using the vacuum film-forming method which evaporates each material or its raw material, and adheres and aggregates on a base sheet.
The optical film thickness referred to here is an amount given by the product of n and d, where n is the refractive index and d is the film thickness.
[0096]
In addition, a film obtained by applying and printing ink in which powder of reduced titanium dioxide-coated mica or iron oxide-coated mica is dispersed in a binder can be used as the OVD layer 7 and gives a subtle color change depending on the viewing angle. (Flip-flop effect).
[0097]
As a method for preventing forgery, a plurality of OVDs described above can be used in combination in the diffraction structure forming layer as long as the functions of the OVDs are not inhibited. Further, an OVD function may be separately provided between the heat-resistant protective layer 2 and the diffraction structure forming layer 3 (not shown).
[0098]
Although one embodiment has been described above, it can be used as appropriate depending on the purpose of use, such as coloring each layer to improve the design or printing on the surface or between layers.
[0099]
Moreover, in view of the adhesiveness of each layer, it is possible to provide an adhesion anchor layer between each layer, and to perform various easy adhesion treatments such as corona discharge treatment, plasma treatment, and flame treatment.
[0100]
【Example】
The present invention will be described in detail with specific examples.
[0101]
<Example 1>
In this embodiment, the configuration of FIG. 1 will be described as a representative example.
An ink composed of the following composition as a heat-resistant protective layer 2 was applied and dried on a support 1 composed of a transparent polyethylene terephthalate (PET) film having a thickness of 25 μm so that the film thickness after drying was 2 μm. Next, as the diffraction structure forming layer 3, an ink composed of the following composition was applied and baked under the conditions of 150 ° C. and 10 seconds so that the film thickness after drying was 1 μm. Next, a relief pattern of minute irregularities constituting the diffraction grating was formed on the surface of the diffraction structure forming layer 3 by a roll embossing method (not shown). Next, as the metal reflective diffraction effect layer 4, aluminum was formed by a vacuum vapor deposition method so as to have a film thickness of 50 nm. Next, the ink which consists of the following compositions as the heat-resistant mask layer 5 was pattern-printed so that the film thickness after drying might be set to 1 micrometer. Next, the portion of the diffraction effect layer 4 exposed from the non-existing portion of the heat-resistant mask layer 5 is etched by immersing in a bath containing a 1.5N NaOH solution heated to 50 ° C. for 10 seconds. Neutralization was performed with a 1N HCl solution, and then a desired partially formed diffraction effect layer 4 and heat-resistant mask layer 5 were obtained through a water washing and drying process. Here, it was confirmed that the heat-resistant mask layer 5 exists only on the diffraction effect layer 4. Finally, an adhesive ink made of the following composition is applied and dried so as to cover the entire surface of the diffraction structure forming layer 3 and the heat-resistant mask layer 5 so that the film thickness after drying becomes 3 μm, and the adhesive layer 6 is formed. Formed to produce a transfer sheet.
[0102]
"Heat-resistant protective layer ink composition"
Polyamideimide resin (Tg. 250 ° C.) 19.2 parts by weight
Polyethylene powder 0.8 parts by weight
Dimethylacetamide 45.0 parts by weight
35.0 parts by weight of toluene
[0103]
"Diffraction structure forming layer ink composition"
Urethane resin 20.0 parts by weight
Methyl ethyl ketone 50.0 parts by weight
30.0 parts by weight of ethyl acetate
[0104]
"Heat-resistant mask layer ink composition"
Modified norbornene resin (Tg. 171 ° C.) 20.0 parts by weight
Precipitated barium sulfate (specific gravity 5.5) 10.0 parts by weight
40.0 parts by weight of methyl ethyl ketone
30.0 parts by weight of toluene
[0105]
"Adhesive layer ink composition"
15.0 parts by weight of vinyl chloride vinyl acetate copolymer resin
Acrylic resin (Tg. 20 ° C) 10.0 parts by weight
Silica 1.0 part by weight
44.0 parts by weight of methyl ethyl ketone
30.0 parts by weight of toluene
[0106]
<Example 2>
As Example 2, a partially diffractive structure transfer sheet was obtained with the same composition and processing as Example 1 except that the verification layer was included in the adhesive layer 6. The composition of the adhesive layer ink is described below.
[0107]
"Adhesive layer ink composition"
12.0 parts by weight of vinyl chloride vinyl acetate copolymer resin
Acrylic resin (Tg. 20 ° C) 8.0 parts by weight
Inorganic fluorescent pigment 8.0 parts by weight
46.0 parts by weight of methyl ethyl ketone
Toluene 26.0 parts by weight
[0108]
<Comparative Example 1>
As Comparative Example 1, the heat-resistant protective layer of the transfer sheet in Example 1 was changed to the material described below, and the transfer sheet was prepared with a conventional transfer sheet structure excluding the heat-resistant mask layer 5 and etching treatment.
[0109]
"Heat-resistant protective layer ink composition"
Acrylic resin (Tg. 105 ° C) 19.2 parts by weight
Polyethylene powder 0.8 parts by weight
45.0 parts by weight of methyl ethyl ketone
35.0 parts by weight of toluene
[0110]
<Comparative example 2>
As Comparative Example 2, a thermosetting resin comprising the following composition was applied over the entire surface of the diffraction effect layer (interlayer with the adhesive layer) of the transfer sheet prepared in Comparative Example 1. The film thickness after drying was adjusted to 1 μm, and heat treatment (aging) was performed for 1 week in an 80 ° C. environment before applying the adhesive layer 6. In Comparative Example 2, the adhesive layer containing the verification material of Example 2 was used.
[0111]
[Thermosetting resin ink composition]
Acrylic polyol 15.0 parts by weight
3.0 parts by weight of epoxy resin
Methyl ethyl ketone 52.0 parts by weight
30.0 parts by weight of toluene
[0112]
The manufactured transfer sheet was evaluated.
[0113]
[Evaluation of transfer aptitude]
As a material to be transferred, on a high-quality paper having a thickness of about 200 μm, a plate surface temperature of 120 ° C. and 2000 kg / cm ² Pressure, 140 ° C., 1500 kg / cm ² Hot stamping was performed under the two conditions (pressurization time was 0.3 seconds). The state of the OVD image was visually observed, and an OVD image that was changed in whitening, wrinkles, cracks, or the like was rated as x.
[0114]
[Evaluation of heat resistance]
Next, after immersing the attached OVD formation in soapy water (commercial powder soap is prepared in tap water at a concentration of 5%) for 10 minutes, it is heated through a patch using an iron heated to 200 ° C. (Iron weight: about 1.2 kg, 10 seconds). Here also, the state of the OVD image was visually observed, and the case where the OVD image was changed in whitening, wrinkles, cracks, or the like was rated as x.
Further, the OVD attachment that intentionally generated wrinkles was directly ironed and stretched. Here, the case where the OVD image was destroyed was marked with x.
[0115]
[Evaluation of verification function]
Finally, the transfer sheets prepared in Example 2 and Comparative Example 2 were verified. Here, using a 365 nm black lamp, the presence or absence of each fluorescent emission was confirmed before / after attachment to the transfer material. Here, the case where the emission of fluorescence could not be confirmed was marked as x. Each result is shown in <Table 1>.
[0116]
[Table 1]

[0117]
As described above, Examples 1 and 2 have sufficient heat resistance not only after transfer but also after transfer. On the other hand, in Comparative Example 1, the OVD image was destroyed due to heat and pressure during transfer, and it could not be used. In Comparative Example 2, although it has sufficient heat resistance against heat and pressure during transfer, the heat resistance after transfer is not sufficient, and it can withstand an iron test that is highly likely in a real life environment. It was not a thing. In addition, since the configurations of the first and second embodiments partially have a region for generating diffracted light, a verification function can be incorporated. In the case of Example 2, it was incorporated in the transfer sheet, but in Example 1, it can also be incorporated into the material to be transferred. In Comparative Example 2, the verification function was incorporated inside, but after being attached to the article, the function was inhibited by the reflective layer, and external verification was impossible.
[0118]
【The invention's effect】
As described above, according to the present invention, it is possible to provide a partially diffractive structure transfer sheet that has excellent heat resistance even after being attached to an article and that can be provided with a verification function, and a method for manufacturing the same.
[Brief description of the drawings]
FIG. 1 is a cross-sectional view showing an embodiment of a transfer sheet according to the present invention.
FIG. 2 is a cross-sectional view showing an embodiment of a transfer sheet according to the present invention.
FIGS. 3a, 3b, and 3c are cross-sectional views showing an embodiment of a transfer sheet according to the present invention.
FIG. 4 is a cross-sectional view showing another embodiment of a transfer sheet according to the present invention.
[Explanation of symbols]
1 ... Support
2 ... Heat-resistant protective layer
3 ... Diffraction structure forming layer
4 ... Diffraction effect layer
5 ... Heat-resistant mask layer
6 ... Adhesive layer
7 ... Reflective film
8 ... Transparent film
9 ... OVD layer

Claims (11)

シート状の支持体上に、該支持体に近い側から、少なくとも、
該支持体から剥離が可能な耐熱性保護層、
回折光を発生させるための微小な凹凸面を有する透明な回折構造形成層、
前記凹凸面の凹凸に密着して設けられた光学薄膜から成り、該回折構造形成層を透過してきた光を反射させる回折効果層、
該回折効果層を被覆して設けてある耐熱マスク層、
該耐熱マスク層を被覆して、これより大面積に設けてある接着層、
とを具備して構成される転写シートであって、
前記耐熱保護層は、ガラス転移温度が２００℃以上である樹脂から構成されていることを特徴とする転写シート。On the sheet-like support, at least from the side close to the support,
A heat-resistant protective layer capable of being peeled off from the support,
A transparent diffractive structure forming layer having a minute uneven surface for generating diffracted light,
A diffraction effect layer that consists of an optical thin film provided in close contact with the unevenness of the uneven surface, and reflects light transmitted through the diffraction structure forming layer,
A heat-resistant mask layer provided so as to cover the diffraction effect layer;
An adhesive layer that covers the heat-resistant mask layer and is provided in a larger area;
A transfer sheet comprising:
The heat-resistant protective layer is composed of a resin having a glass transition temperature of 200 ° C. or higher. 前記回折構造形成層が、上記微小な凹凸面を部分的に有することを特徴とする請求項１に記載の転写シート。The transfer sheet according to claim 1, wherein the diffraction structure forming layer partially has the minute uneven surface. 前記耐熱マスク層が、前記光学薄膜のエッチング液である酸若しくはアルカリに対する耐性を有していることを特徴とする請求項１乃至２のいずれかに記載の転写シート。The transfer sheet according to claim 1, wherein the heat-resistant mask layer has resistance to an acid or alkali that is an etching solution for the optical thin film. 前記耐熱マスク層が、ガラス転移温度が１５０℃以上である樹脂成分を６０％以上含んでいることを特徴とする請求項１乃至３のいずれかに記載の転写シート。The transfer sheet according to any one of claims 1 to 3, wherein the heat-resistant mask layer contains 60% or more of a resin component having a glass transition temperature of 150 ° C or higher. 前記光学薄膜が光を反射する金属反射膜であることを特徴とする請求項１乃至４のいずれかに記載の転写シート。The transfer sheet according to claim 1, wherein the optical thin film is a metal reflective film that reflects light. 前記光学薄膜が、前記回折構造形成層よりも屈折率が高く、光の透過性を有する透明反射膜であることを特徴とする請求項１乃至４のいずれかに記載の転写シート。5. The transfer sheet according to claim 1, wherein the optical thin film is a transparent reflective film having a refractive index higher than that of the diffractive structure forming layer and having light transmittance. 前記光学薄膜が、金属反射膜と、前記回折構造形成層よりも屈折率が高く光の透過性を有する透明反射膜との２種類以上の薄膜から構成されており、
該透明反射膜が存在し且つ金属反射膜の存在しない領域を有することを特徴とする請求項１乃至４のいずれかに記載の転写シート。The optical thin film is composed of two or more kinds of thin films of a metal reflective film and a transparent reflective film having a refractive index higher than that of the diffractive structure forming layer and having light transmittance,
The transfer sheet according to any one of claims 1 to 4, wherein the transfer sheet has a region where the transparent reflective film is present and no metal reflective film is present. シート状の支持体上に、該支持体に近い側から、少なくとも、
該支持体から剥離が可能な耐熱性保護層、
部分的に設けられた光学薄膜から成り、この光学薄膜から構造色を有する色光を発生させるＯＶＤ層、
該ＯＶＤ層を被覆して設けてある耐熱マスク層、
該耐熱マスク層を被覆して、これより大面積に設けてある接着層、
とを具備して構成される転写シートであって、
前記耐熱保護層は、ガラス転移温度が２００℃以上である樹脂から構成されていることを特徴とする転写シート。On the sheet-like support, at least from the side close to the support,
A heat-resistant protective layer capable of being peeled off from the support,
An OVD layer consisting of a partially provided optical thin film and generating colored light having a structural color from the optical thin film;
A heat-resistant mask layer provided by covering the OVD layer;
An adhesive layer that covers the heat-resistant mask layer and is provided in a larger area;
A transfer sheet comprising:
The heat-resistant protective layer is composed of a resin having a glass transition temperature of 200 ° C. or higher. シート状の支持体上に、該支持体に近い側から、少なくとも、
該支持体から剥離が可能であり、且つ、ガラス転移温度が２００℃以上である樹脂から構成される耐熱性保護層、
回折光を発生させるための微小な凹凸面を有する透明な回折構造形成層、
前記凹凸面の凹凸に密着して設けられた光学薄膜から成り、該回折構造形成層を透過してきた光を反射させて着色光の発生に関わる回折効果層、
該回折効果層を被覆して設けてある耐熱マスク層、
該耐熱マスク層を被覆して、これより大面積に設けてある接着層、
とを具備して構成される転写シートであって、
前記耐熱保護層は、ガラス転移温度が２００℃以上である樹脂から構成されていることを特徴とする転写シートの製造方法。On the sheet-like support, at least from the side close to the support,
A heat-resistant protective layer composed of a resin that can be peeled off from the support and has a glass transition temperature of 200 ° C. or higher;
A transparent diffractive structure forming layer having a minute uneven surface for generating diffracted light,
A diffraction effect layer that is composed of an optical thin film provided in close contact with the unevenness of the uneven surface, and that reflects the light transmitted through the diffraction structure forming layer to generate colored light;
A heat-resistant mask layer provided so as to cover the diffraction effect layer;
An adhesive layer that covers the heat-resistant mask layer and is provided in a larger area;
A transfer sheet comprising:
The heat-resistant protective layer is made of a resin having a glass transition temperature of 200 ° C. or higher. 前記回折構造形成層が、上記微小な凹凸面を部分的に有することを特徴とする請求項９に記載の転写シートの製造方法。The method for producing a transfer sheet according to claim 9, wherein the diffraction structure forming layer partially has the minute uneven surface. シート状の支持体上に、該支持体に近い側から、少なくとも、
該支持体から剥離が可能である樹脂から構成される耐熱性保護層、
部分的に設けられた光学薄膜から成り、この光学薄膜から構造色を有する色光を発生させるＯＶＤ層、
該ＯＶＤ層を被覆して設けてある耐熱マスク層、
該耐熱マスク層を被覆して、これより大面積に設けてある接着層、
とを積層することを特徴とする転写シートの製造方法。On the sheet-like support, at least from the side close to the support,
A heat-resistant protective layer composed of a resin that can be peeled off from the support,
An OVD layer consisting of a partially provided optical thin film and generating colored light having a structural color from the optical thin film;
A heat-resistant mask layer provided by covering the OVD layer;
An adhesive layer that covers the heat-resistant mask layer and is provided in a larger area;
And a method for producing a transfer sheet.

Images