JP2004524666A - 陰極線管におけるマスクストランドの空間的な均一性を維持するための方法及び装置 - Google Patents

陰極線管におけるマスクストランドの空間的な均一性を維持するための方法及び装置 Download PDF

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Abstract

本発明は、陰極線管(10)のテンションマスクアセンブリ(30)でのテンションマスクストランド(44)間で間隔を維持する方法及び装置に関する。テンションマスクアセンブリは、マスクフレームの反対の端部に位置するフレーム要素(312A、312B)の第一のペアを有するマスクフレーム(300)を含む。複数のマスクストランドは、フレーム要素のペアの間に位置され、マスクストランドに張力を生じる手法でフレーム要素のペアに取り付けられる。テンションマスクアセンブリはまた、フレーム要素間のバリアリッジ(313A、313B)を含み、中間領域(402A、402B)で複数のマスクストランドと接触する。

Description

【技術分野】
【0001】
本発明は、一般的に色受像管に関し、より詳細には、色受像管におけるテンションマスクの組立ての方法及び装置に関する。
【背景技術】
【0002】
色受像管は、管のスクリーンに3つの電子ビームを形成し導くための電子銃を含む。スクリーンは、管の前板の内面に位置し、リン光体を放射する三つの異なる色のアレイ要素で構成される。ドーム型マスク又はテンションマスクの何れかであるアパーチャマスクは、かかる電子ビームと関連するリン光体要素だけを打ちつける各電子ビームを可能にするように銃とスクリーンとの間に置かれる。マスクは鋼などの金属の薄いシートであり、管の前板の内部表面に多少平行になるように輪郭づけされる。フォーカスマスクは、互いに垂直であり、絶縁体によって分離される、2セットの伝導性ラインを有する。マスクオープニングの各々で多数のフォーカスレンズを生成する2セットのラインに異なる電位が適用される場合、マスクはフォーカスマスクと呼ばれる。フォーカスマスクの一つのタイプがテンションフォーカスマスクであり、伝導性ラインのセットの少なくとも一つが張力下にある。一般的に、テンションフォーカスマスクにおいて、伝導性ライン又はストランドの垂直なセットは張力下にあり、電導性ライン又はワイヤーの水平セットはストランドに重なる。
【0003】
ストランド・テンションマスクのアセンブルにおいて、ストランド間の一定間隔を達成するために高精度でストランドをアセンブルすることが必要とされる。
【発明の開示】
【発明が解決しようとする課題】
【0004】
本発明は、テンションマスクのストランド間に均一間隔を維持するための方法及び装置を提供する。
【課題を解決するための手段】
【0005】
かかる装置は、バリアリッジのセットを提供することと、かかるバリアリッジのセットをテンションマスクに取り付けることとを含む。バリアリッジは、テンションマスクのストランドに対して垂直に整列され、テンションマスクの端部に近いフレームに固定される。バリアリッジは、テンションマスクの長さを通過し、マスク溶接及び後の熱処理中に適用されたストレスで面した場合、マスクストランドを並列で、等距離で互いから間隔を維持するように作用する。バリアリッジがフレームに取り付けられた後、テンションマスクはマスクフレームに取り付けられる。バリアリッジは、フレーム内で直接的にマスクストランドの下でマスクストランドと接触して、フレームに取り付けられる。テンションマスクがマスクフレームに設置された場合、バリアリッジはマスクフレーム内に位置され、さらにマスクフレームとスクリーンで可視できる画像を生じるテンションマスクのアレイ領域との間に位置される。マスクストランドは、バリアリッジと摩擦して接触している。マスクストランドはまた、カシル(Kasil)などの適切な接着剤によってリッジに付着される。
【0006】
マスクとフレームの溶接中において、マスクストランドはフレームのカンチレバーに直接溶接される。バリアリッジによって作用される摩擦力のために、溶接の接触ポイントに沿ってストランドに適用される機械的なストレスは、接触ポイントのストランドの領域へ分離される。したがって、バリアリッジ間のストランドの部分は、機械的なストレスによって影響されにくく、その位置を維持することが利点である。テンションマスクがマスクフレームに取り付けられた後、全体のマスクフレームのアセンブリは、色受像管の製造において使用される。そのようにして、アセンブリは一連の熱サイクルによって処理される、バリアリッジは、マスクフレームと一致して拡大し接触する。バリアリッジにテンションマスクストランドを取り付けることによって、ストランド間の空間的な完全性はストランドテンションマスクの製造、後の処理及び管の操作中に維持される。
【発明を実施するための最良の形態】
【0007】
図1は、長方形の前板パネル14と、長方形の漏斗18によって接続された管状の首16とを含むガラス包12を有する陰極線管10を示す。漏斗18は、陽極ボタン20から首16に延在する、内部の伝導性コーティング(示されていない)を有する。パネル14は、視る前板22と、ガラスの密封フリット26によって漏斗に密封された周辺のフランジ又は側壁24を含む。3色のリン光体スクリーン28は、前板22の内部表面によって保持される。スクリーン28は三構造で配置されるリン光体ラインを備えるラインスクリーンであり、各三構造は各々3色のリン光体ラインを含む。円筒状のテンションマスク30は、スクリーン28に関して所定間隔で取り外し式に設置される。マスクは、テンションフォーカスマスクか、又はテンションマスクのいずれかであってよい。電子銃(図1の点線によって概略的に示される)32は、スクリーン28に対してマスク30を通過する集中経路に沿って3つのインライン電子ビームと、センタービームと、及び2つのサイドビームを生成するように首16内の中心に設置される。
【0008】
管10は、首の結合に対して漏斗の近隣で示されるヨーク34として、外部の磁気偏向ヨークで使用されるように設計される。活性化された場合、ユーク34は、スクリーン28上の長方形のラスターにおいて水平及び垂直に走査するビームを引き起こす、磁場に対して3つのビームを当てる。
【0009】
図2でより詳細に示されるストランドテンションフォーカスマスク30は、2つの長い側36及び38と、2つの短い側40及び42とを含む。マスクの2つの長い側36及び38は、管の中央の主軸xに平行である。テンションマスク30は2セットの伝導性ラインを含み、それらは、中央の副軸yに対して平行であり、互いに平行であるストランド44と、中央の主軸xに平行であり、互いに平行であるクロスワイヤー46である。クロスワイヤ46は、バスバー(示されていない)に末端部で接続されており、マスクストランド上に位置する。一つの実施態様において、ストランド44は、約13mils及び約2milsの厚さを有し、垂直に延在するフラットストリップであり、クロスワイヤー46は、ほぼ1milの直径を有する円形のクロス部分を有し、水平に延在する。完成されたマスクにおいて、ストランド44とクロスワイヤー46は、リードフリットなどの適切な絶縁体によって互いに分離される。
【0010】
図3は、図2と同様のマスクフレーム300の正面図である。マスクフレーム300は、一般的に長方形状を形成するように共に取り付けられたペアになった部分から構成される。部分302及び304は、マスクフレーム300の垂直要素を表す。マスクフレーム300は、水平な部分306及び308を有する。要素310は、マスクフレーム300内部に形成されたアパーチャを示すものである。カンチレバー312A及び312Bは、マスクフレーム300の外側部分である。かかるカンチレバー312A及び312Bは、図4の単独で立っているテンションマスク400のストランド44が溶接されるエリアである。図3に示されるバリアリッジ313A及び313Bは、マスクフレーム300に取り付けられて、水平部分306と308の一部をなすように支援する。図6は、どのようにしてテンションマスク400がマスクフレーム300に一般的に取り付けられるかを表す。
【0011】
図4は、図2の配置でアセンブルされた場合に使用される、単独で立っているテンションマスク400の正面図である。フリーのテンションマスク400は、2つのエッジ部分404Aと404Bとの間に複数のストランド44を形成するためにエッチングされた物質の平らで薄いシートから形成される。エッジ404Aと404Bは、マスクフレームの溶接前における処理目的のために使用されて、後で削除されるか切断される。図5は、バリアリッジ313A及び313Bと摩擦接触する、フリーのテンションマスク400における取り付けポイント402A及び402Bの位置を描写する、図4のテンションマスクの正面図である。バリアリッジ313A及び313Bは、マスクストランド44に対して一般的に垂直で整列される(下記に議論される)。次ぎに、図6は本発明によるテンションマスクアセンブリの正面図であり、かかる図面はマスクフレーム300の位置と、バリアリッジ313A及び313Bと、エッジ部分404A及び404Bと、ボーダー404A及び404Bの***以前の取り付けポイント402A及び402Aとの位置間における関係を例示している。
【0012】
本発明を最良に理解するために、読み手は図3、4、5及び6を同時に参照するべきである。マスクストランド44が通過する、マスクアパーチャエリア又は可視できるアレイ領域406は、マスクフレームアセンブリ30及び受像管10のアセンブル中にマスクフレーム300に関係する適切な空間的な完全性を維持するマスクストランド44において不可欠なエリアである。適切な空間的な完全性が個々のマスクストランド44とマスクフレーム300との間に維持されない場合、電子銃は、その意図したリン光体ターゲットに関して、電子ビームを誤登録させ、それによって、リン光体スクリーン28上に、典型的には色純度を影響し又は可視できる流れを引き起こす、可視の光学異常を生成する。したがって、マスクストランド44間に平行で均一な間隔を維持することが望ましい。共通に使用されるマスクフレーム300の物質は、下記に限定しないが、鋼合金又は鉄のニッケル合金を含む。
【0013】
上に言及したように、フリーのテンションマスク400は、2つのエッジ部分404間に複数のストランド44を形成するようにエッチングされる物質の平らで薄いシートから形成される。各ストランド44は他のストランドに対して実質的に平行であり、さらに各ストランド44は他のストランドから離れて正確な距離で間隔が置かれる。フリーのテンションマスク400は、一般的に、鋼又は鉄のニッケル合金である。
【0014】
カンチレバー312A及び312Bに対する各マスクストランド44の直接溶接は、管の組立て及び操作中に他のマスクストランド44から分離されるように各個々のマスクストランド44を可能にすることが必要である。マスクストランド44が摩擦接触にある、バリアリッジ313A及び313Bは、マスクストランド44をカンチレバー312A及び312Bに対する溶接中に他のマスクストランド44から各マスクストランド44を分離する。
【0015】
図5は、本発明のフリーなテンションマスク400におけるバリアリッジ313A及び313Bの取り付けポイント402A及び402Bの位置を描写する、図4のテンションマスク400の背面図である。マスクストランド44は、上に記載のようにバリアリッジ313A及び313Bに対して垂直に取り付けられる。バリアリッジは、マスクフレーム300の機械的な構成部分である。カンチレバー312A及び312Bと同様に、バリアリッジ313A及び313Bは、正確な輪郭を有する。
【0016】
マスクストランド44に接触するバリアリッジ313A及び313Bは、バリアリッジ313A及び313Bのエリアにおけるマスクストランドが互いに関して、さらにマスクフレーム300に関して空間的な完全性を失うことを防ぐ。マスクストランド44とバリアリッジ313A及び313Bとの間の摩擦は、カンチレバー312A又は312Bのそれぞれに対してマスクストランドの溶接処理中にマスクストランド44が横に移動することを阻止する。ストランド44は、ストランド44の横の移動をさらに阻止するためのケイ酸塩ガラスなどの適切な接着剤又はバインダーを使用してバリアリッジ313A及び313Bに加えてよい。
【0017】
図6は、本発明によるテンションマスクアセンブリ30の上面図であり、かかる図面はマスクフレーム300の位置と、バリアリッジ313A及び313Bと、マスクエッジ部分404A及び404Bとの関係を例示する。フリーのテンションマスク400は、ストレッチング据え付け設備(明白には示されていない)によって挿入されて、張力下に置かれる。ストレッチング据え付け設備によって生じた張力は、マスクストランド44の空間的な完全性を維持する。次いで、テンションマスク400は、マスクフレーム300を横切って位置し、マスクフレーム300に接触する。この点において、フリーのテンションマスク400の位置又は取り付けポイント402A及び402Bは、バリアリッジ313A及び313Bと接触する。
【0018】
次いで、ストランド44は、溶接又は他の取り付け方法によって、カンチレバー312A及び312Bに取り付けられる。マスクフレーム300に対してストランド44を溶接する方法は、下記に限定しないが、シーム溶接、抵抗溶接、スポット溶接、レーザー溶接、仮付け溶接によって成される。マスクストランド44がカンチレバー312A及び312Bに取り付けられた後、全体のマスクフレームアセンブリ30はさらなる処理のために調整される。
【0019】
本発明の教示を組み込む実施態様が示されて詳細に記載されたが、当業者にとって本発明の趣旨を逸脱せずに、かかる教示をさらに組み込む、多くの他の変形された実施態様を容易に考案できる。
【図面の簡単な説明】
【0020】
【図1】本発明によるストランドテンションフォーカスマスクフレームアセンブリを含む、色受像管の軸部分における部分的な側面図である。
【図2】図1のストランドテンションフォーカスマスクフレームアセンブリの斜視図である。
【図3】ストランドテンションマスクの取り付けに先立ち、図2のテンションマスクフレームの正面図である。
【図4】テンションマスクフレームへの溶接に先立ち、図2のストランドテンションマスクの正面図である。
【図5】マスクフレームのバリアリッジに接触するであろうテンションマスクの位置を描写する、図4のテンションマスクの正面図である。
【図6】マスクフレームの位置と、バリアリッジ及びマスクスカートとの関係を例示する、本発明によるテンションマスクアセンブリの正面図である。

Claims (14)

  1. 陰極線管(10)のテンションマスクアセンブリ(30)であって、該テンションマスクアセンブリは、
    マスクフレームの反対の端部にそれぞれ位置されたフレーム要素(312A、312B)の第一ペアを含むマスクフレーム(300)と、
    前記フレーム要素のペア間に位置されて、マスクストランドで張力を生じる手法で前記フレーム要素のペアに取り付けられた前記複数のマスクストランド(44)と、
    前記フレーム要素のペア間で前記マスクストランドの第一の中間領域(402A)で前記複数のマスクストランドを支持するための第三の要素(313A)とを含むことを特徴とするテンションマスクアセンブリ。
  2. 前記第三の要素は、前記フレーム要素のペアの一つの方向に対して平行方向で位置されて、前記フレーム要素のペアのもう一方よりも前記フレーム要素のペアの前記一つに近接していることを特徴とする請求項1に記載のテンションマスクアセンブリ。
  3. 前記フレーム要素のペア間で前記マスクストランドの第二の中間領域(402B)で前記複数のマスクストランドを支持するための第四の要素(313B)をさらに含むことを特徴とする請求項2に記載のテンションマスクアセンブリ。
  4. 前記マスクストランドは、エッチングされたストランド物質からなることを特徴とする請求項1に記載のテンションマスクアセンブリ。
  5. 前記複数のマスクストランドは、単独で立っている状態において、各端部にエッチングされていないボーダー物質(404A、404B)を備えて、互いに接続されることを特徴とする請求項1に記載のテンションマスクアセンブリ。
  6. 前記第三の要素は、前記マスクストランドに対して垂直に位置されることを特徴とする請求項1に記載のテンションマスクアセンブリ。
  7. フレーム要素の第二のペアは、長方形状の前記マスクフレームを形成する前記フレーム要素の第一のペアに取り付けられることを特徴とする請求項1に記載のテンションマスクアセンブリ。
  8. 前記第三の要素は、前記マスクストランドに対する摩擦力を適用することを特徴とする請求項1に記載のテンションマスクアセンブリ。
  9. 前記第四の要素は、前記マスクストランドに対する摩擦力を適用することを特徴とする請求項8に記載のテンションマスクアセンブリ。
  10. 前記第三の要素は、接着剤によって前記マスクストランドに取り付けられることを特徴とする請求項1に記載のテンションマスクアセンブリ。
  11. テンションマスクアセンブリ(30)の形成方法であって、該方法は、
    (a)2つのそれぞれの端部(404A、404B)間に垂直に位置された複数のエッチングされたマスクストランド(44)を備えるテンションマスク(400)を提供する段階と、
    (b)複数のバリアリッジ要素(313A、313B)を前記テンションマスクに取り付ける段階と、
    (c)前記テンションマスクを取り付ける段階とを有することを特徴とする方法。
  12. 前記マスクストランドに対して垂直に前記バリアリッジ要素を配列する段階をさらに含むことを特徴とする請求項11に記載の方法。
  13. 前記マスクストランド及び前記バリアリッジ要素に対して垂直な前記マスクフレームに対して前記マスクストランド及び前記バリアリッジ要素を配列する段階をさらに含むことを特徴とする請求項11に記載の方法。
  14. 前記マスクストランドが前記マスクフレームに取り付けられた後に、前記マスクフレーム(300)の外部に水平な前記マスクストランドを整える段階をさらに含むことを特徴とする請求項11に記載の方法。
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