JP2004355975A

JP2004355975A - Manufacturing method of display device

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Publication number: JP2004355975A
Application number: JP2003153051A
Authority: JP
Inventors: Takanobu Shibazaki; 孝宜芝崎
Original assignee: Sony Corp
Current assignee: Sony Corp
Priority date: 2003-05-29
Filing date: 2003-05-29
Publication date: 2004-12-16

Abstract

<P>PROBLEM TO BE SOLVED: To provide a manufacturing method of a display device in which occurrence of defects of non-emission is prevented and the display quality can be improved. <P>SOLUTION: The total film thickness of a red color organic layer 16R, a green color organic layer 16G, and a blue color organic layer 16B are made in the order of the red color organic layer 16R, green color organic layer 16G, and blue color organic layer 16B from the thick side, and they are formed in the order from the color layer of the total film thickness. Thereby, occurrence of many defects of non-emission due to repeated contact with a vapor deposition mask 100 in the blue color organic layer 16B which becomes thinnest of the total film thickness when a resonator structure is introduced is prevented. <P>COPYRIGHT: (C)2005,JPO&NCIPI

Description

【０００１】
【発明の属する技術分野】
本発明は、表示装置の製造方法に係り、特に、有機発光素子を用いた表示装置の製造方法に関する。
【０００２】
【従来の技術】
従来から、有機発光素子の有機層を各色別に形成するため蒸着マスクをアライメントすると、先に蒸着された有機層に蒸着マスクが接触してしまい、有機層に傷を生じたり、蒸着マスクの異物が有機層に転写され、その結果、先に蒸着された有機層には、後から蒸着される有機層よりもダークスポットあるいは非発光欠陥が発生しやすくなることが知られている。この対策としては、非発光欠陥の周囲の輝度が高いと目立ってしまうことを考慮して、輝度の低い色から順に有機層を形成するということが行われている。通常、全白を表示した場合には、輝度が高い方から緑色，赤色，青色の順になるので、有機層の形成は、逆に輝度の低い方から青色，赤色，緑色の順に行うようにしている。
【０００３】
ところで、有機発光素子については、共振器構造を導入することによって、発光色の色純度を向上させたり、輝度を高めるなど、発光層で発生する光を制御する試みが行われてきた（例えば、特許文献１参照。）。
【０００４】
【特許文献１】
国際公開第０１／３９５５４号パンフレット
【０００５】
【発明が解決しようとする課題】
このような共振器構造を導入した有機発光素子では、発光波長に応じて有機層の総膜厚が制御され、厚い方から赤色，緑色，青色の順になる。しかしながら、有機層を形成する際に、従来のように輝度の低い方から青色，赤色，緑色の順にすると、総膜厚の比較的薄い青色の有機層が何度も蒸着マスクに接触してしまい、青色の有機発光素子に多くの非発光欠陥が生じてしまうおそれがあるという問題があった。
【０００６】
本発明はかかる問題点に鑑みてなされたもので、その目的は、非発光欠陥の発生を防止し、表示品質を高めることができる表示装置の製造方法を提供することにある。
【０００７】
【課題を解決するための手段】
本発明による表示装置の製造方法は、基板に、赤色発光層を含む赤色有機層を有する赤色有機発光素子と、緑色発光層を含む緑色有機層を有する緑色有機発光素子と、青色発光層を含む青色有機層を有する青色有機発光素子とを備え、赤色有機層，緑色有機層および青色有機層の総膜厚を互いに異ならせた表示装置を製造するものであって、赤色有機層のうち少なくとも赤色発光層と、緑色有機層のうち少なくとも緑色発光層と、青色有機層のうち少なくとも青色発光層とを、赤色有機層，緑色有機層および青色有機層の総膜厚の厚い色から順に、各色別に形成するものである。ここで「総膜厚」とは、赤色有機層，緑色有機層および青色有機層が、赤色発光層，緑色発光層または青色発光層を含む複数の層の積層構造を有する場合にはそれらの複数の層の積層方向の膜厚の和をいい、赤色発光層，緑色発光層または青色発光層のみを有する場合には赤色発光層，緑色発光層または青色発光層の積層方向の膜厚をいう。
【０００８】
本発明による表示装置の製造方法では、赤色有機層のうち少なくとも赤色発光層と、緑色有機層のうち少なくとも緑色発光層と、青色有機層のうち少なくとも青色発光層とが、赤色有機層，緑色有機層および青色有機層の総膜厚の厚い色から順に、各色別に形成される。よって、総膜厚の最も薄い色の発光層が最後に形成され、非発光欠陥の発生が防止される。
【０００９】
【発明の実施の形態】
以下、本発明の実施の形態について図面を参照して詳細に説明する。
【００１０】
図１ないし図５は、本発明の一実施の形態に係る表示装置の製造方法を表すものである。まず、図１（Ａ）に示したように、例えばガラスなどの絶縁材料よりなる基板１１を用意し、この基板１１の上にＴＦＴ１２を形成する。続いて、同じく図１（Ａ）に示したように、例えばポリイミドを塗布、露光、現像および焼成することにより、平坦化膜１３を形成する。露光の際には、コンタクトホール１３Ａを形成する。
【００１１】
次に、図１（Ｂ）に示したように、平坦化膜１３の上に、例えばスパッタ法により、例えばクロムよりなる膜を例えば１００ｎｍ〜１５０ｎｍの厚みで成膜する。続いて、レジストを塗布し、露光および現像することにより図示しないマスクを形成し、このマスクを用いてクロム膜を選択的にエッチングして第１電極１４を形成する。そののち、マスクを剥離する。
【００１２】
続いて、図１（Ｃ）に示したように、第１電極１４の上に、例えばポリイミドを塗布、露光、現像および焼成することにより、素子分離のための絶縁膜１５を形成すると共に、発光領域に対応して開口部１５Ａを形成する。絶縁膜１５の厚みＴは例えば１μｍ、開口部１５Ａの幅Ｗは例えば数十μｍ〜百数十μｍとすることができる。
【００１３】
そののち、窒素（Ｎ_２）雰囲気下でベークを行い、酸素（Ｏ_２）プラズマにより基板１１の前処理を行う。
【００１４】
続いて、図２（Ａ）ないし図３（Ａ）を参照して以下に詳細に説明するように、赤色有機発光素子１０Ｒの形成予定位置に、赤色発光層を含む赤色有機層１６Ｒを形成し、緑色有機発光素子１０Ｇの形成予定位置に、緑色発光層を含む緑色有機層１６Ｇを形成し、青色有機発光素子１０Ｂの形成予定位置に、青色発光層を含む青色有機層１６Ｂを形成する。赤色有機層１６Ｒ，緑色有機層１６Ｇおよび青色有機層１６Ｂの構成材料としては、例えば低分子材料を用いることができ、その場合、赤色有機層１６Ｒ，緑色有機層１６Ｇおよび青色有機層１６Ｂは、蒸着マスクを用いた蒸着法により、各色別に形成することが好ましい。
【００１５】
ここで、本実施の形態では、赤色有機層１６Ｒ，緑色有機層１６Ｇおよび青色有機層１６Ｂを形成する際に、それらの総膜厚を異ならせる。これは、赤色有機発光素子１０Ｒ，緑色有機発光素子１０Ｇおよび青色有機発光素子１０Ｂが後述するような共振器構造を有するようにするためである。すなわち、発光波長に応じて赤色有機層１６Ｒ，緑色有機層１６Ｇおよび青色有機層１６Ｂの総膜厚を制御し、厚い方から赤色有機層１６Ｒ，緑色有機層１６Ｇ，青色有機層１６Ｂの順とする。本実施の形態では、赤色有機層１６Ｒの総膜厚を例えば１５０ｎｍ、緑色有機層１６Ｇの総膜厚を例えば１１０ｎｍ、青色有機層１６Ｂの総膜厚を例えば７０ｎｍとする。
【００１６】
また、本実施の形態では、赤色有機層１６Ｒ，緑色有機層１６Ｇおよび青色有機層１６Ｂを、それらの総膜厚の厚い色から順に形成する。これは、共振器構造を導入した場合に総膜厚が最も薄くなる青色有機層１６Ｂに多くの非発光欠陥が発生するのを防止するためである。すなわち、まず、総膜厚の最も厚い赤色有機層１６Ｒを形成し、次に、総膜厚の二番目に厚い緑色有機層１６Ｇを形成し、最後に、総膜厚の最も薄い青色有機層１６Ｂを形成する。
【００１７】
まず、真空を破らずに基板１１を蒸着装置の蒸着室へと搬送し、図２（Ａ）に示したように、蒸着マスク１００をアライメントし、この蒸着マスク１００を用いて、第１電極１４の上に、赤色正孔注入層１６ＡＲ，赤色正孔輸送層１６ＢＲ，赤色発光層１６ＣＲおよび赤色電子輸送層１６ＤＲを順に積層し、赤色有機層１６Ｒを形成する。赤色正孔注入層１６ＡＲは、リークを防止するためのバッファ層であり、リークが支障のないレベルであれば省略可能である。赤色正孔輸送層１６ＢＲは、赤色発光層１６ＣＲへの正孔注入効率を高めるためのものである。赤色発光層１６ＣＲは、電界をかけることにより電子と正孔との再結合が起こり、光を発生するものであり、絶縁膜１５の開口部１５Ａに対応した領域で発光するようになっている。赤色電子輸送層１６ＤＲは、赤色発光層１６ＣＲへの電子注入効率を高めるためのものである。蒸着マスク１００は、厚みが十数μｍないし数十μｍであり、例えばニッケル（Ｎｉ）あるいはニッケルを含む合金など、着磁性のある材料により構成されている。
【００１８】
赤色正孔注入層１６ＡＲの構成材料としては例えば４，４’，４”−トリス（３−メチルフェニルフェニルアミノ）トリフェニルアミン（ｍ−ＭＴＤＡＴＡ）あるいは４，４’，４”−トリス（２−ナフチルフェニルアミノ）トリフェニルアミン（２−ＴＮＡＴＡ）を用い、厚みを例えば１５ｎｍ以上３００ｎｍ以下とすることができる。赤色正孔輸送層１６ＢＲの構成材料としては例えばビス［（Ｎ−ナフチル）−Ｎ−フェニル］ベンジジン（α−ＮＰＤ）を用い、厚みを例えば１５ｎｍ以上１００ｎｍ以下とすることができる。赤色発光層１６ＣＲの構成材料としては例えば８−キノリノールアルミニウム錯体（Ａｌｑ_３）に２，６−ビス［４−［Ｎ−（４−メトキシフェニル）−Ｎ−フェニル］アミノスチリル］ナフタレン−１，５−ジカルボニトリル（ＢＳＮ−ＢＣＮ）を４０体積％混合したものを用い、厚みを例えば１５ｎｍ以上１００ｎｍ以下とすることができる。赤色電子輸送層１６ＤＲの構成材料としては例えばＡｌｑ_３を用い、厚みを例えば１５ｎｍ以上１００ｎｍ以下とすることができる。
【００１９】
そののち、真空を破らずに基板１１を別の蒸着装置または蒸着室へと搬送し、図２（Ｂ）に示したように、蒸着マスク１００をアライメントし、この蒸着マスク１００を用いた蒸着法により、第１電極１４の上に、緑色正孔注入層１６ＡＧ，緑色正孔輸送層１６ＢＧ，緑色発光層１６ＣＧおよび緑色電子輸送層１６ＤＧを含む緑色有機層１６Ｇを形成する。緑色正孔注入層１６ＡＧは、リークを防止するためのバッファ層であり、リークが支障のないレベルであれば省略可能である。緑色正孔輸送層１６ＢＧは、緑色発光層１６ＣＧへの正孔注入効率を高めるためのものである。緑色発光層１６ＣＧは、電界をかけることにより電子と正孔との再結合が起こり、光を発生するものであり、絶縁膜１５の開口部１５Ａに対応した領域で発光するようになっている。緑色電子輸送層１６ＤＧは、緑色発光層１６ＣＧへの電子注入効率を高めるためのものである。なお、蒸着マスク１００は、赤色有機層１６Ｒの形成に用いたものと同じものを用いてもよいし、別のものを用いてもよい。
【００２０】
緑色正孔注入層１６ＡＧの構成材料としては例えばｍ−ＭＴＤＡＴＡあるいは２−ＴＮＡＴＡを用い、厚みを例えば１５ｎｍ以上３００ｎｍ以下とすることができる。緑色正孔輸送層１６ＢＧの構成材料としては例えばα−ＮＰＤを用い、厚みを例えば１５ｎｍ以上１００ｎｍ以下とすることができる。緑色発光層１６ＣＧの構成材料としては例えばＡｌｑ_３にクマリン６（Ｃｏｕｍａｒｉｎ６）を３体積％混合したものを用い、厚みを例えば１５ｎｍ以上１００ｎｍ以下とすることができる。緑色電子輸送層１６ＤＧの構成材料としては例えばＡｌｑ_３を用い、厚みを例えば１５ｎｍ以上１００ｎｍ以下とすることができる。
【００２１】
続いて、真空を破らずに基板１１を更に別の蒸着装置または蒸着室へと搬送し、図３（Ａ）に示したように、蒸着マスク１００をアライメントし、この蒸着マスク１００を用いた蒸着法により、第１電極１４の上に、青色正孔注入層１６ＡＢ，青色正孔輸送層１６ＢＢ，青色発光層１６ＣＢおよび青色電子輸送層１６ＤＢを含む青色有機層１６Ｂを形成する。青色正孔注入層１６ＡＢは、リークを防止するためのバッファ層であり、リークが支障のないレベルであれば省略可能である。青色正孔輸送層１６ＢＢは、青色発光層１６ＣＢへの正孔注入効率を高めるためのものである。青色発光層１６ＣＢは、電界をかけることにより電子と正孔との再結合が起こり、光を発生するものであり、絶縁膜１５の開口部１５Ａに対応した領域で発光するようになっている。青色電子輸送層１６ＤＢは、青色発光層１６ＣＢへの電子注入効率を高めるためのものである。なお、蒸着マスク１００は、赤色有機層１６Ｒまたは緑色有機層１６Ｇの形成に用いたものと同じものを用いてもよいし、別のものを用いてもよい。
【００２２】
青色正孔注入層１６ＡＢの構成材料としては例えばｍ−ＭＴＤＡＴＡあるいは２−ＴＮＡＴＡを用い、厚みを例えば１５ｎｍ以上３００ｎｍ以下とすることができる。青色正孔輸送層１６ＢＢの構成材料としては例えばα−ＮＰＤを用い、厚みを例えば１５ｎｍ以上１００ｎｍ以下とすることができる。青色発光層１６ＣＢの構成材料としては例えばスピロ６Φ（ｓｐｉｒｏ６Φ）を用い、厚みを例えば１５ｎｍ以上１００ｎｍ以下とすることができる。青色電子輸送層１６ＤＢの構成材料としては例えばＡｌｑ_３を用い、厚みを例えば１５ｎｍ以上１００ｎｍ以下とすることができる。
【００２３】
このような順序をとる場合、最初に形成される赤色有機層１６Ｒの上で蒸着マスク１００をアライメントしたり交換したりすることになる。しかし、赤色有機層１６Ｒは総膜厚が厚いため、従来のように青色有機層１６Ｂを最初に形成する場合に比較して蒸着マスク１００の接触による悪影響が小さくてすむ。
【００２４】
そののち、真空を破らずに基板１１を更に別の蒸着装置または蒸着室へと搬送し、図３（Ｂ）に示したように、図示しない蒸着マスクを用いて、例えばフッ化リチウム（ＬｉＦ）よりなる電子注入層１７およびマグネシウム（Ｍｇ）−銀（Ａｇ）合金よりなる半透過性電極１８Ａを順に形成する。電子注入層１７の厚みは例えば１ｎｍ、半透過性電極１８Ａの厚みは例えば１０ｎｍとすることができる。
【００２５】
続いて、真空を破らずに基板１１を更に別の蒸着装置または蒸着室へと搬送し、図４（Ａ）に示したように、半透過性電極１８Ａの形成に用いた蒸着マスクと同様の図示しない蒸着マスクを用いて、例えばインジウム（Ｉｎ）と亜鉛（Ｚｎ）と酸素（Ｏ）とを含む化合物（ＩＺＯ；ＩｎｄｉｕｍＺｉｎｃＯｘｉｄｅ）よりなる透明電極１８Ｂを形成する。透明電極１８Ｂは、半透過性電極１８Ａの電気抵抗を下げるためのものであり、その厚みは例えば１００ｎｍとすることができる。これにより、半透過性電極１８Ａと透明電極１８Ｂとが積層された第２電極１８を形成する。
【００２６】
そののち、真空を破らずに基板１１を更に別の蒸着装置または蒸着室へと搬送し、図４（Ｂ）に示したように、図示しない蒸着マスクを用いて、例えば窒化ケイ素（ＳｉＮ_ｘ）よりなる保護膜１９を形成する。保護膜１９の厚みは例えば１μｍとすることができる。
【００２７】
続いて、図５に示したように、保護膜１９の上に例えば熱硬化性樹脂よりなる接着層２０を形成し、この接着層２０を介して、基板１１とカラーフィルタ３２が形成された封止用基板３１とを貼り合わせる。そのとき、加熱などにより接着層２０を硬化させる前に、カラーフィルタ３２と赤色有機層１６Ｒ，緑色有機層１６Ｇおよび青色有機層１６Ｂとをアライメントしておくことが望ましい。以上により、基板１１に、赤色有機層１６Ｒを有する赤色有機発光素子１０Ｒ，緑色有機層１６Ｇを有する緑色有機発光素子１０Ｇおよび青色有機層１６Ｂを有する青色有機発光素子１０Ｂを備えた表示装置が完成する。
【００２８】
このようにして形成された赤色有機発光素子１０Ｒ，緑色有機発光素子１０Ｇおよび青色有機発光素子１０Ｂは、第１電極１４の赤色発光層１６ＣＲ，緑色発光層１６ＣＧまたは青色発光層１６ＣＢ側の端面を第１端部Ｐ１、半透過性電極１８Ａの赤色発光層１６ＣＲ，緑色発光層１６ＣＧまたは青色発光層１６ＣＢ側の端面を第２端部Ｐ２とし、赤色有機層１６Ｒ，緑色有機層１６Ｇまたは青色有機層１６Ｂを共振部として、赤色発光層１６ＣＲ，緑色発光層１６ＣＧまたは青色発光層１６ＣＢで発生した光を共振させて第２端部Ｐ２の側から取り出す共振器構造を有している。このように共振器構造を有するようにすれば、赤色発光層１６ＣＲ，緑色発光層１６ＣＧまたは青色発光層１６ＣＢで発生した光が多重干渉を起こし、一種の狭帯域フィルタとして作用することにより、取り出される光のスペクトルの半値幅が減少し、色純度を向上させることができるので好ましい。また、封止用基板３１から入射した外光についても多重干渉により減衰させることができ、カラーフィルタ３２との組合せにより赤色有機発光素子１０Ｒ，緑色有機発光素子１０Ｇおよび青色有機発光素子１０Ｂにおける外光の反射率を極めて小さくすることができるので好ましい。
【００２９】
そのためには、共振器の第１端部Ｐ１と第２端部Ｐ２との間の光学的距離Ｌは数２を満たすようにし、共振器の共振波長（取り出される光のスペクトルのピーク波長）と、取り出したい光のスペクトルのピーク波長とを一致させることが好ましい。光学的距離Ｌは、実際には、数２を満たす正の最小値となるように選択することが好ましい。
【００３０】
【数２】
（２Ｌ）／λ＋Φ／（２π）＝ｍ
（式中、Ｌは第１端部Ｐ１と第２端部Ｐ２との間の光学的距離、Φは第１端部Ｐ１で生じる反射光の位相シフトΦ_１と第２端部Ｐ２で生じる反射光の位相シフトΦ_２との和（Φ＝Φ_１＋Φ_２）（ｒａｄ）、λは第２端部Ｐ２の側から取り出したい光のスペクトルのピーク波長、ｍはＬが正となる整数をそれぞれ表す。なお、数２においてＬおよびλは単位が共通すればよいが、例えば（ｎｍ）を単位とする。）
【００３１】
この表示装置では、第１電極１４と第２電極１８との間に所定の電圧が印加されると、赤色発光層１６ＣＲ，緑色発光層１６ＣＧまたは青色発光層１６ＣＢに電流が注入され、正孔と電子とが再結合することにより、発光が起こる。この光は、第１端部Ｐ１と第２端部Ｐ２との間で多重反射し、第２電極１８，カラーフィルタ３２および封止用基板３１を透過して取り出される。このとき、赤色有機層１６Ｒ，緑色有機層１６Ｇおよび青色有機層１６Ｂのうち総膜厚の最も薄い青色有機層１６Ｂが最後に形成されているので、蒸着マスク１００との度重なる接触に起因する青色有機層１６Ｂのキズあるいは異物混入が防止されている。よって、青色有機層１６Ｂに多くの非発光欠陥が発生することが防止される。
【００３２】
このように、本実施の形態では、赤色有機層１６Ｒ，緑色有機層１６Ｇおよび青色有機層１６Ｂを、それらの総膜厚の厚い色から順に、各色別に形成するようにしたので、総膜厚の最も薄い青色有機層１６Ｂを最後に形成し、非発光欠陥の発生を防止して表示品質を高めることができる。
【００３３】
〔変形例１〜変形例３〕
以下、本実施の形態の変形例１〜変形例３について説明する。
【００３４】
本実施の形態において、赤色有機層１６Ｒ，緑色有機層１６Ｇおよび青色有機層１６Ｂのうち材料または厚みの同じ層がある場合には、赤色有機層１６Ｒ，緑色有機層１６Ｇおよび青色有機層１６Ｂに共通に形成するようにしてもよい。このようにすることにより、材料が共通化されると共に製造工程が単純化されるので、製造効率を高めることができ、量産体制の確立に有利である。以下の変形例１ないし変形例３はその具体例であるが、必ずしもこれらに限られるものではない。
【００３５】
（変形例１）
例えば、図６（Ａ）に示したように、赤色正孔注入層１６ＡＲ，緑色正孔注入層１６ＢＲおよび青色正孔注入層１６ＡＢの材料および厚みを同じにして、赤色有機層１６Ｒ，緑色有機層１６Ｇおよび青色有機層１６Ｂに共通の連続正孔注入層４６Ａを形成する。そののち、図６（Ｂ）に示したように、赤色正孔輸送層１６ＢＲ，赤色発光層１６ＣＲおよび赤色電子輸送層１６ＤＲを形成し、総膜厚の最も厚い赤色有機層１６Ｒを形成する。次に、図７（Ａ）に示したように、緑色正孔輸送層１６ＢＧ，緑色発光層１６ＣＧおよび緑色電子輸送層１６ＤＧを形成し、総膜厚の二番目に厚い緑色有機層１６Ｇを形成する。最後に、図７（Ｂ）に示したように、青色正孔輸送層１６ＢＢ，青色発光層１６ＣＢおよび青色電子輸送層１６ＤＢを形成し、総膜厚の最も薄い青色有機層１６Ｂを形成する。なお、連続正孔注入層４６Ａは赤色有機層１６Ｒ，緑色有機層１６Ｇおよび青色有機層１６Ｂのすべてに形成する必要はなく、それらのうち必要な色のみ、少なくとも２色に共通であればよい。
【００３６】
（変形例２）
あるいは、赤色電子輸送層１６ＤＲ，緑色電子輸送層１６ＤＲおよび青色電子輸送層１６ＤＢの材料および厚みを同じにしてもよい。この場合、まず、図８（Ａ）に示したように、総膜厚の最も厚い赤色有機層１６Ｒのうち赤色正孔注入層１６ＡＲ，赤色正孔輸送層１６ＢＲおよび赤色発光層１６ＣＲを形成する。次に、図８（Ｂ）に示したように、総膜厚の二番目に厚い緑色有機層１６Ｇのうち緑色正孔注入層１６ＡＧ，緑色正孔輸送層１６ＢＧおよび緑色発光層１６ＣＧを形成する。続いて、図９（Ａ）に示したように、総膜厚の最も薄い青色有機層１６Ｂのうち青色正孔注入層１６ＡＢ，青色正孔輸送層１６ＢＢおよび青色発光層１６ＣＢを形成する。最後に、図９（Ｂ）に示したように、赤色有機層１６Ｒ，緑色有機層１６Ｇおよび青色有機層１６Ｂに共通の連続電子輸送層４６Ｄを形成する。なお、連続電子輸送層４６Ｄは赤色有機層１６Ｒ，緑色有機層１６Ｇおよび青色有機層１６Ｂのすべてに形成する必要はなく、それらのうち必要な色のみ、少なくとも２色に共通であればよい。
【００３７】
（変形例３）
更に、変形例１と変形例２とを重畳して行うようにしてもよい。例えば、赤色有機層１６Ｒ，緑色有機層１６Ｇおよび青色有機層１６Ｂに共通の連続正孔注入層４６Ａを形成する。そののち、総膜厚の最も厚い赤色有機層１６Ｒのうち赤色正孔輸送層１６ＢＲおよび赤色発光層１６ＣＲを形成し、次に、総膜厚の二番目に厚い緑色有機層のうち緑色正孔輸送層１６ＢＧおよび緑色発光層１６ＣＧを形成し、続いて、総膜厚の最も薄い青色有機層１６Ｂのうち青色正孔輸送層１６ＢＢおよび青色発光層１６ＣＢを形成し、最後に、赤色有機層１６Ｒ，緑色有機層１６Ｇおよび青色有機層１６Ｂに共通の連続電子輸送層４６Ｄを形成する。
【００３８】
【実施例】
更に、本発明の具体的な実施例について説明する。
【００３９】
上記実施の形態と同様にして、表示装置を作製した。その際、赤色有機層１６Ｒの総膜厚を１５０ｎｍ、緑色有機層１６Ｇの総膜厚を１１０ｎｍ、青色有機層１６Ｂの総膜厚を７０ｎｍとし、それらの総膜厚の厚い色から順に、すなわち赤色有機層１６Ｒ，緑色有機層１６Ｇ，青色有機層１６Ｂの順で、各色別に形成した。
【００４０】
本実施例に対する比較例として、従来のように輝度の低い色から順に、すなわち青色有機層１６Ｂ，赤色有機層１６Ｒ，緑色有機層１６Ｇの順で、各色別に形成したことを除き、本実施例と同様にして表示装置を作製した。
【００４１】
得られた実施例および比較例の表示装置について、所定の電流値で連続点灯させた場合の非発光欠陥の経時変化を調べた。その結果を図１０に示す。図１０では、比較例における３６０時間連続点灯させたときの青色の非発光欠陥の数を１００として、実施例および比較例における各色の非発光欠陥の経時変化を表している。
【００４２】
本実施例と比較例との初期特性を比較したところ、発光効率および色度は同等であったが、本実施例の方が比較例に比べて初期の非発光欠陥が少なかった。また、連続点灯させた場合の非発光欠陥の経時変化を比較したところ、比較例では特に青色で非発光欠陥が著しく増加したのに対して、本実施例では青色の非発光欠陥はほとんど増加せず、大幅に改善することができた。すなわち、赤色有機層，緑色有機層および青色有機層を、それらの総膜厚の厚い色から順に、各色別に形成するようにすれば、非発光欠陥の増加を抑えることができることが分かった。
【００４３】
以上、実施の形態および実施例を挙げて本発明を説明したが、本発明は上記実施の形態および実施例に限定されるものではなく、種々変形が可能である。例えば、上記実施の形態では、赤色有機層１６Ｒ，緑色有機層１６Ｇおよび青色有機層１６Ｂのすべての層を、総膜厚の厚い色から順に、各色別に形成するようにした場合について説明したが、赤色有機層１６Ｒ，緑色有機層１６Ｇおよび青色有機層１６Ｂのうち材料または厚みの異なる層のみを、赤色有機層１６Ｒ，緑色有機層１６Ｇおよび青色有機層１６Ｂの総膜厚の厚い色から順に、各色別に形成すれば足りる。
【００４４】
具体的には、例えば、赤色有機層１６Ｒのうち少なくとも赤色正孔輸送層１６ＢＲおよび赤色発光層１６ＣＲと、緑色有機層１６Ｇのうち少なくとも緑色正孔輸送層１６ＢＧおよび緑色発光層１６ＣＧと、青色有機層１６Ｂのうち少なくとも青色正孔輸送層１６ＢＢおよび青色発光層１６ＣＢとを、赤色有機層１６Ｒ，緑色有機層１６Ｇおよび青色有機層１６Ｂの総膜厚の厚い色から順に、各色別に形成するようにしてもよい。なぜなら、赤色有機層１６Ｒ，緑色有機層１６Ｇおよび青色有機層１６Ｂの総膜厚は、実際には、赤色正孔輸送層１６ＢＲおよび赤色発光層１６ＣＲ，緑色正孔輸送層１６ＢＧおよび緑色発光層１６ＣＧ，ならびに青色正孔輸送層１６ＢＢおよび青色発光層１６ＣＢの厚みのみを変えることにより、光学的距離Ｌが数２を満たすように制御することが可能な場合があるからである。また、赤色正孔注入層１６ＡＲ，緑色正孔注入層１６ＡＧあるいは青色正孔注入層１６ＡＢ、または赤色電子輸送層１６ＢＲ，緑色電子輸送層１６ＤＧあるいは青色電子輸送層１６ＤＢは、しばしば省略され、あるいは、すべての色の有機発光素子に設けられるとは限らないからである。
【００４５】
また、赤色有機層１６Ｒ，緑色有機層１６Ｇおよび青色有機層１６Ｂの総膜厚を、赤色発光層１６ＣＲ，緑色発光層１６ＣＧおよび青色発光層１６ＣＢの厚みのみを変えることにより、光学的距離Ｌが数２を満たすように制御することが可能な場合には、赤色有機層１６Ｒのうち少なくとも赤色発光層１６ＣＲと、緑色有機層１６Ｇのうち少なくとも緑色発光層１６ＣＧと、青色有機層１６Ｂのうち少なくとも青色発光層１６ＣＢとを、赤色有機層１６Ｒ，緑色有機層１６Ｇおよび青色有機層１６Ｂの総膜厚の厚い色から順に、各色別に形成するようにしてもよい。
【００４６】
更にまた、上記実施の形態および実施例では、赤色有機層１６Ｒ，緑色有機層１６Ｇおよび青色有機層１６Ｂを低分子材料により構成する場合について説明したが、本発明は、有機層に高分子材料を用いる場合にも適用することができる。ここで高分子材料とは、分子量１００００以上のものである。この場合、例えば、赤色有機層は赤色正孔輸送層および赤色発光層を含み、緑色有機層は緑色正孔輸送層および緑色発光層を含み、青色有機層は青色正孔輸送層および青色発光層を含む構成とすることができる。また、共振器構造を導入する場合には、赤色有機層，緑色有機層および青色有機層の総膜厚は、赤色発光層，緑色発光層および青色発光層の厚みのみを変えることにより、光学的距離Ｌが数２を満たすように制御することが可能である。よって、赤色有機層のうち少なくとも赤色発光層と、緑色有機層のうち少なくとも緑色発光層と、青色有機層のうち少なくとも青色発光層とを、赤色有機層，緑色有機層および青色有機層の総膜厚の厚い色から順に、各色別に形成するようにすれば足りる。
【００４７】
加えてまた、例えば、上記実施の形態において説明した各層の材料および厚み、または成膜方法および成膜条件などは限定されるものではなく、他の材料および厚みとしてもよく、または他の成膜方法および成膜条件としてもよい。例えば、上記実施の形態においては、基板１１の上に、第１電極１４，赤色有機層１６Ｒ，緑色有機層１６Ｇおよび青色有機層１６Ｂ，ならびに第２電極１８を基板１１の側から順で積層し、封止用基板３１の側から光を取り出すようにした場合について説明したが、積層順序を逆にして、基板１１の上に、第２電極１８，赤色有機層１６Ｒ，緑色有機層１６Ｇおよび青色有機層１６Ｂ，ならびに第１電極１４を基板１１の側から順に積層し、基板１１の側から光を取り出すようにすることもできる。
【００４８】
更にまた、例えば、上記実施の形態では、第１電極１４を陽極、第２電極１８を陰極とする場合について説明したが、陽極および陰極を逆にして、第１電極１４を陰極、第２電極１８を陽極としてもよい。さらに、第１電極１４を陰極、第２電極１８を陽極とすると共に、基板１１の上に、第２電極１８，赤色有機層１６Ｒ，緑色有機層１６Ｇおよび青色有機層１６Ｂ，ならびに第１電極１４を基板１１の側から順に積層し、基板１１の側から光を取り出すようにすることもできる。
【００４９】
加えてまた、上記実施の形態では、赤色有機発光素子１０Ｒ，緑色有機発光素子１０Ｇおよび青色有機発光素子１０Ｂの構成を具体的に挙げて説明したが、全ての層を備える必要はなく、また、他の層を更に備えていてもよい。例えば、第１電極１４と赤色有機層１６Ｒ，緑色有機層１６Ｇおよび青色有機層１６Ｂとの間に、酸化クロム（ＩＩＩ）（Ｃｒ_２Ｏ_３），ＩＴＯ（Ｉｎｄｉｕｍ−ＴｉｎＯｘｉｄｅ：インジウム（Ｉｎ）およびスズ（Ｓｎ）の酸化物混合膜）などからなる正孔注入用薄膜層を備えていてもよい。また、例えば第１電極１４を、誘電体多層膜またはＡｌなどの反射膜の上部に透明導電膜を積層した２層構造とすることもできる。この場合、この反射膜の発光層側の端面が共振部の端部を構成し、透明導電膜は共振部の一部を構成することになる。
【００５０】
更にまた、上記実施の形態では、第２電極１８が半透過性電極１８Ａと透明電極１８Ｂとが第１電極１４の側から順に積層されている場合について説明したが、第２電極１４は、半透過性電極１８Ａのみを有する構成としてもよい。
【００５１】
加えてまた、上記実施の形態において、半透過性電極１８Ａを一方の端部とし、透明電極１８Ｂを挟んで半透過性電極１８Ａに対向する位置に他方の端部を設け、透明電極１８Ｂを共振部とする共振器構造を形成するようにしてもよい。さらに、そのような共振器構造を設けた上で、赤色有機発光素子１０Ｒ，緑色有機発光素子１０Ｇおよび青色有機発光素子１０Ｂを保護膜１９で覆うようにし、この保護膜１９を、透明電極１８Ａを構成する材料と同程度の屈折率を有する材料により構成すれば、保護膜１９を共振部の一部とすることができ、好ましい。
【００５２】
更にまた、本発明は、第２電極１８を透明電極１８Ｂにより構成すると共に、この透明電極１８Ｂの赤色有機層１６Ｒ，緑色有機層１６Ｇおよび青色有機層１６Ｂと反対側の端面の反射率が大きくなるように構成し、第１電極１４の赤色発光層１６Ｒ，緑色発光層１６Ｇおよび青色発光層１６Ｂ側の端面を第１端部、透明電極１８Ｂの赤色有機層１６Ｒ，緑色有機層１６Ｇおよび青色有機層１６Ｂと反対側の端面を第２端部とした共振器構造を構成した場合についても適用することができる。例えば、透明電極１８Ｂを大気層に接触させ、透明電極１８Ｂと大気層との境界面の反射率を大きくして、この境界面を第２端部としてもよい。また、接着層２０との境界面での反射率を大きくして、この境界面を第２端部としてもよい。更に、保護膜１９との境界面での反射率を大きくして、この境界面を第２端部としてもよい。
【００５３】
【発明の効果】
以上説明したように本発明の表示装置の製造方法によれば、赤色有機層のうち少なくとも赤色発光層と、緑色有機層のうち少なくとも緑色発光層と、青色有機層のうち少なくとも青色発光層とを、赤色有機層，緑色有機層および青色有機層の総膜厚の厚い色から順に、各色別に形成するようにしたので、総膜厚の最も薄い色の発光層を最後に形成し、非発光欠陥の発生を防止して表示品質を高めることができる。
【図面の簡単な説明】
【図１】本発明の一実施の形態に係る表示装置の製造方法を工程順に表す断面図である。
【図２】図１に続く工程を表す断面図である。
【図３】図２に続く工程を表す断面図である。
【図４】図３に続く工程を表す断面図である。
【図５】図４に続く工程を表す断面図である。
【図６】本発明の変形例１に係る表示装置の製造方法を工程順に表す断面図である。
【図７】図６に続く工程を表す断面図である。
【図８】本発明の変形例２に係る表示装置の製造方法を工程順に表す断面図である。
【図９】図８に続く工程を表す断面図である。
【図１０】本発明の実施例および比較例における非発光欠陥の数の経時変化を表す図である。
【符号の説明】
１０Ｒ…赤色有機発光素子、１０Ｇ…緑色有機発光素子、１０Ｂ…青色有機発光素子、１１…基板、１２…ＴＦＴ、１３…平坦化膜、１３Ａ…コンタクトホール、１４…第１電極、１５…絶縁膜、１６Ｒ…赤色有機層、１６ＡＲ…赤色正孔注入層、１６ＢＲ…赤色正孔輸送層、１６ＣＲ…赤色発光層、１６ＤＲ…赤色電子輸送層、１６Ｇ…緑色有機層、１６ＡＧ…緑色正孔注入層、１６ＢＧ…緑色正孔輸送層、１６ＣＧ…緑色発光層、１６ＤＧ…緑色電子輸送層、１６Ｂ…青色有機層、１６ＡＢ…青色正孔注入層、１６ＢＢ…青色正孔輸送層、１６ＣＢ…青色有機層、１６ＤＢ…青色電子輸送層、１７…電子注入層、１８…第２電極、１８Ａ…半透過性電極、１８Ｂ…透明電極、１９…保護膜、２０…接着層、３１…封止用基板、３２…カラーフィルタ、１００…蒸着マスク[0001]
TECHNICAL FIELD OF THE INVENTION
The present invention relates to a method for manufacturing a display device, and more particularly, to a method for manufacturing a display device using an organic light emitting device.
[0002]
[Prior art]
Conventionally, when an evaporation mask is aligned in order to form an organic layer of an organic light emitting element for each color, the evaporation mask comes into contact with the previously deposited organic layer, causing damage to the organic layer or foreign matter in the evaporation mask. It is known that dark spots or non-light-emitting defects are more likely to occur in an organic layer that has been transferred to an organic layer, and as a result, an organic layer that has been deposited earlier than an organic layer that is deposited later. As a countermeasure, an organic layer is formed in order from a color having a low luminance in consideration of the fact that the luminance around a non-luminous defect becomes prominent when the luminance is high. Normally, when displaying all white, the luminance becomes higher in the order of green, red and blue, so that the organic layer is formed in the order of blue, red and green in the order of lower luminance. I have.
[0003]
By the way, with respect to the organic light emitting device, attempts have been made to control the light generated in the light emitting layer, for example, by improving the color purity of the emitted light or increasing the luminance by introducing a resonator structure (for example, See Patent Document 1.).
[0004]
[Patent Document 1]
International Publication No. 01/39554 pamphlet
[0005]
[Problems to be solved by the invention]
In an organic light-emitting device incorporating such a resonator structure, the total thickness of the organic layer is controlled according to the emission wavelength, and the order of red, green, and blue is from the thicker. However, when forming the organic layer, if the order of blue, red, and green is as low as the conventional one, the blue organic layer having a relatively thin total thickness comes into contact with the deposition mask many times. There is a problem that many non-light emitting defects may occur in the blue organic light emitting element.
[0006]
The present invention has been made in view of such a problem, and an object of the present invention is to provide a method for manufacturing a display device capable of preventing non-light-emitting defects from occurring and improving display quality.
[0007]
[Means for Solving the Problems]
The method for manufacturing a display device according to the present invention includes a substrate, a red organic light emitting element having a red organic layer including a red light emitting layer, a green organic light emitting element having a green organic layer including a green light emitting layer, and a blue light emitting layer. A display device comprising a blue organic light-emitting element having a blue organic layer, wherein the total thickness of the red organic layer, the green organic layer, and the blue organic layer is different from each other. The light-emitting layer, at least the green light-emitting layer of the green organic layer, and at least the blue light-emitting layer of the blue organic layer are arranged in order from the color having the largest total thickness of the red organic layer, the green organic layer, and the blue organic layer for each color. To form. Here, the “total film thickness” means a plurality of layers when the red organic layer, the green organic layer, and the blue organic layer have a laminated structure of a plurality of layers including a red light emitting layer, a green light emitting layer, and a blue light emitting layer. In the case of having only a red light emitting layer, a green light emitting layer, or a blue light emitting layer, it refers to a film thickness in the stacking direction of a red light emitting layer, a green light emitting layer, or a blue light emitting layer.
[0008]
In the method for manufacturing a display device according to the present invention, at least the red light emitting layer of the red organic layer, at least the green light emitting layer of the green organic layer, and at least the blue light emitting layer of the blue organic layer are formed of a red organic layer and a green organic layer. The layers are formed for each color in order from the color having the largest total film thickness of the layer and the blue organic layer. Therefore, the light emitting layer having the lightest color in the total film thickness is formed last, and the occurrence of non-light emitting defects is prevented.
[0009]
BEST MODE FOR CARRYING OUT THE INVENTION
Hereinafter, embodiments of the present invention will be described in detail with reference to the drawings.
[0010]
1 to 5 show a method for manufacturing a display device according to an embodiment of the present invention. First, as shown in FIG. 1A, a substrate 11 made of an insulating material such as glass is prepared, and a TFT 12 is formed on the substrate 11. Subsequently, as shown in FIG. 1A, for example, a flattening film 13 is formed by applying, exposing, developing, and firing polyimide. At the time of exposure, a contact hole 13A is formed.
[0011]
Next, as shown in FIG. 1B, a film made of, for example, chromium is formed on the flattening film 13 by, for example, a sputtering method so as to have a thickness of, for example, 100 nm to 150 nm. Subsequently, a resist (not shown) is formed by applying a resist, exposing and developing, and the chrome film is selectively etched using the mask to form the first electrode 14. After that, the mask is peeled off.
[0012]
Subsequently, as shown in FIG. 1C, an insulating film 15 for element isolation is formed on the first electrode 14 by applying, exposing, developing, and firing polyimide, for example, and light emission is performed. An opening 15A is formed corresponding to the region. The thickness T of the insulating film 15 can be, for example, 1 μm, and the width W of the opening 15A can be, for example, several tens μm to one hundred and several tens μm.
[0013]
After that, nitrogen (N ₂ Bake) in an atmosphere and oxygen (O ₂ 2.) Pre-treating the substrate 11 with plasma.
[0014]
Subsequently, as described in detail below with reference to FIGS. 2A to 3A, a red organic layer 16R including a red light emitting layer is formed at a position where the red organic light emitting element 10R is to be formed. The green organic layer 16G including the green light emitting layer is formed at the position where the green organic light emitting element 10G is to be formed, and the blue organic layer 16B including the blue light emitting layer is formed at the position where the blue organic light emitting element 10B is to be formed. As a constituent material of the red organic layer 16R, the green organic layer 16G, and the blue organic layer 16B, for example, a low molecular material can be used. In this case, the red organic layer 16R, the green organic layer 16G, and the blue organic layer 16B are formed by evaporation. It is preferable to form each of the colors by an evaporation method using a mask.
[0015]
Here, in the present embodiment, when forming the red organic layer 16R, the green organic layer 16G, and the blue organic layer 16B, the total thickness thereof is made different. This is because the red organic light emitting element 10R, the green organic light emitting element 10G, and the blue organic light emitting element 10B have a resonator structure as described later. That is, the total thickness of the red organic layer 16R, the green organic layer 16G, and the blue organic layer 16B is controlled according to the emission wavelength, and the red organic layer 16R, the green organic layer 16G, and the blue organic layer 16B are arranged in order from the thicker. . In the present embodiment, the total thickness of the red organic layer 16R is, for example, 150 nm, the total thickness of the green organic layer 16G is, for example, 110 nm, and the total thickness of the blue organic layer 16B is, for example, 70 nm.
[0016]
Further, in the present embodiment, the red organic layer 16R, the green organic layer 16G, and the blue organic layer 16B are formed in order from the color having the larger total thickness. This is to prevent the occurrence of many non-light emitting defects in the blue organic layer 16B having the smallest total film thickness when the resonator structure is introduced. That is, first, the red organic layer 16R having the largest total thickness is formed, the green organic layer 16G having the second largest total thickness is formed, and finally, the blue organic layer 16B having the smallest total thickness is formed. To form
[0017]
First, the substrate 11 is transported to the deposition chamber of the deposition apparatus without breaking the vacuum, and the deposition mask 100 is aligned as shown in FIG. On top of this, a red hole injection layer 16AR, a red hole transport layer 16BR, a red light emitting layer 16CR, and a red electron transport layer 16DR are sequentially stacked to form a red organic layer 16R. The red hole injection layer 16AR is a buffer layer for preventing a leak, and can be omitted as long as the leak does not cause a problem. The red hole transport layer 16BR is for increasing the efficiency of hole injection into the red light emitting layer 16CR. The red light-emitting layer 16CR generates light by recombination of electrons and holes when an electric field is applied, and emits light in a region corresponding to the opening 15A of the insulating film 15. The red electron transport layer 16DR is for increasing the efficiency of injecting electrons into the red light emitting layer 16CR. The vapor deposition mask 100 has a thickness of about several tens μm to several tens μm, and is made of a magnetizable material such as nickel (Ni) or an alloy containing nickel.
[0018]
As a constituent material of the red hole injection layer 16AR, for example, 4,4 ', 4 "-tris (3-methylphenylphenylamino) triphenylamine (m-MTDATA) or 4,4', 4" -tris (2- Using (naphthylphenylamino) triphenylamine (2-TNATA), the thickness can be, for example, 15 nm or more and 300 nm or less. As a constituent material of the red hole transport layer 16BR, for example, bis [(N-naphthyl) -N-phenyl] benzidine (α-NPD) is used, and the thickness can be, for example, 15 nm or more and 100 nm or less. As a constituent material of the red light emitting layer 16CR, for example, an 8-quinolinol aluminum complex (Alq ₃ ) Is mixed with 40% by volume of 2,6-bis [4- [N- (4-methoxyphenyl) -N-phenyl] aminostyryl] naphthalene-1,5-dicarbonitrile (BSN-BCN). The thickness can be, for example, 15 nm or more and 100 nm or less. As a constituent material of the red electron transport layer 16DR, for example, Alq ₃ And the thickness can be, for example, 15 nm or more and 100 nm or less.
[0019]
After that, the substrate 11 is transferred to another evaporation apparatus or evaporation chamber without breaking the vacuum, and as shown in FIG. 2B, the evaporation mask 100 is aligned, and the evaporation method using the evaporation mask 100 is performed. Thereby, a green organic layer 16G including a green hole injection layer 16AG, a green hole transport layer 16BG, a green light emitting layer 16CG, and a green electron transport layer 16DG is formed on the first electrode 14. The green hole injection layer 16AG is a buffer layer for preventing leakage, and can be omitted as long as the leakage does not hinder. The green hole transport layer 16BG is for increasing the efficiency of hole injection into the green light emitting layer 16CG. In the green light emitting layer 16CG, the recombination of electrons and holes occurs when an electric field is applied to generate light, and light is emitted in a region corresponding to the opening 15A of the insulating film 15. The green electron transport layer 16DG is for increasing the efficiency of injecting electrons into the green light emitting layer 16CG. In addition, the same thing as the thing used for formation of the red organic layer 16R may be used for the vapor deposition mask 100, and another thing may be used.
[0020]
As a constituent material of the green hole injection layer 16AG, for example, m-MTDATA or 2-TNATA is used, and the thickness can be, for example, 15 nm or more and 300 nm or less. As the constituent material of the green hole transport layer 16BG, for example, α-NPD is used, and the thickness can be, for example, 15 nm or more and 100 nm or less. As a constituent material of the green light emitting layer 16CG, for example, Alq ₃ And a thickness of, for example, 15 nm or more and 100 nm or less, which is obtained by mixing coumarin 6 with 3% by volume. As a constituent material of the green electron transport layer 16DG, for example, Alq ₃ And the thickness can be, for example, 15 nm or more and 100 nm or less.
[0021]
Subsequently, the substrate 11 is transported to another vapor deposition apparatus or vapor deposition chamber without breaking vacuum, and the vapor deposition mask 100 is aligned as shown in FIG. The blue organic layer 16B including the blue hole injection layer 16AB, the blue hole transport layer 16BB, the blue light emitting layer 16CB, and the blue electron transport layer 16DB is formed on the first electrode 14 by the method. The blue hole injection layer 16AB is a buffer layer for preventing a leak, and can be omitted as long as the leak does not cause a problem. The blue hole transport layer 16BB is for increasing the efficiency of hole injection into the blue light emitting layer 16CB. In the blue light emitting layer 16CB, the recombination of electrons and holes occurs when an electric field is applied, and light is generated. The blue light emitting layer 16CB emits light in a region corresponding to the opening 15A of the insulating film 15. The blue electron transport layer 16DB is for increasing the efficiency of injecting electrons into the blue light emitting layer 16CB. Note that the same evaporation mask as that used for forming the red organic layer 16R or the green organic layer 16G may be used, or another evaporation mask may be used.
[0022]
As a constituent material of the blue hole injection layer 16AB, for example, m-MTDATA or 2-TNATA is used, and the thickness can be, for example, 15 nm or more and 300 nm or less. As a constituent material of the blue hole transport layer 16BB, for example, α-NPD is used, and the thickness can be, for example, 15 nm or more and 100 nm or less. As a constituent material of the blue light emitting layer 16CB, for example, spiro 6Φ (spiro6Φ) is used, and the thickness can be, for example, 15 nm or more and 100 nm or less. As a constituent material of the blue electron transport layer 16DB, for example, Alq ₃ And the thickness can be, for example, 15 nm or more and 100 nm or less.
[0023]
In such an order, the deposition mask 100 is to be aligned or replaced on the red organic layer 16R to be formed first. However, since the total thickness of the red organic layer 16R is large, the adverse effect due to the contact with the deposition mask 100 is smaller than in the case where the blue organic layer 16B is first formed as in the related art.
[0024]
Thereafter, the substrate 11 is transported to another vapor deposition apparatus or vapor deposition chamber without breaking the vacuum, and as shown in FIG. 3B, for example, lithium fluoride (LiF) An electron injection layer 17 made of and a semi-permeable electrode 18A made of a magnesium (Mg) -silver (Ag) alloy are formed in order. The thickness of the electron injection layer 17 can be, for example, 1 nm, and the thickness of the translucent electrode 18A can be, for example, 10 nm.
[0025]
Subsequently, the substrate 11 is transported to another vapor deposition apparatus or vapor deposition chamber without breaking the vacuum, and as shown in FIG. 4A, the same as the vapor deposition mask used to form the semi-transparent electrode 18A. Using a vapor deposition mask (not shown), a transparent electrode 18B made of, for example, a compound containing indium (In), zinc (Zn), and oxygen (O) (IZO; Indium Zinc Oxide) is formed. The transparent electrode 18B is for lowering the electric resistance of the semi-transmissive electrode 18A, and the thickness thereof can be, for example, 100 nm. Thereby, the second electrode 18 in which the semi-transparent electrode 18A and the transparent electrode 18B are stacked is formed.
[0026]
After that, the substrate 11 is transported to another vapor deposition apparatus or vapor deposition chamber without breaking the vacuum, and as shown in FIG. 4B, for example, silicon nitride (SiN _x ) Is formed. The thickness of the protective film 19 can be, for example, 1 μm.
[0027]
Subsequently, as shown in FIG. 5, an adhesive layer 20 made of, for example, a thermosetting resin is formed on the protective film 19, and the sealing substrate on which the substrate 11 and the color filter 32 are formed is formed via the adhesive layer 20. The stop substrate 31 is bonded. At this time, it is desirable that the color filter 32 be aligned with the red organic layer 16R, the green organic layer 16G, and the blue organic layer 16B before the adhesive layer 20 is cured by heating or the like. As described above, a display device including the red organic light emitting element 10R having the red organic layer 16R, the green organic light emitting element 10G having the green organic layer 16G, and the blue organic light emitting element 10B having the blue organic layer 16B on the substrate 11 is completed. .
[0028]
The red organic light-emitting element 10R, the green organic light-emitting element 10G, and the blue organic light-emitting element 10B formed as described above have the first electrode 14 on the side of the red light-emitting layer 16CR, the green light-emitting layer 16CG, or the blue light-emitting layer 16CB. One end P1, the end face of the translucent electrode 18A on the side of the red light emitting layer 16CR, the green light emitting layer 16CG or the blue light emitting layer 16CB is a second end P2, and the red organic layer 16R, the green organic layer 16G or the blue organic layer 16B. Is used as a resonance portion, a resonator structure is provided that resonates light generated in the red light emitting layer 16CR, the green light emitting layer 16CG, or the blue light emitting layer 16CB and extracts the light from the second end P2 side. With such a resonator structure, light generated in the red light emitting layer 16CR, the green light emitting layer 16CG or the blue light emitting layer 16CB causes multiple interference, and acts as a kind of narrow band filter, thereby being extracted. This is preferable because the half width of the light spectrum can be reduced and the color purity can be improved. External light incident from the sealing substrate 31 can also be attenuated by multiple interference, and in combination with the color filter 32, external light in the red organic light emitting element 10R, the green organic light emitting element 10G, and the blue organic light emitting element 10B. Is preferable because the reflectance of the film can be extremely reduced.
[0029]
For this purpose, the optical distance L between the first end P1 and the second end P2 of the resonator is set so as to satisfy Equation 2, and the resonance wavelength of the resonator (the peak wavelength of the extracted light spectrum) It is preferable to match the peak wavelength of the spectrum of the light to be extracted. In practice, it is preferable that the optical distance L is selected so as to be a positive minimum value that satisfies Expression 2.
[0030]
(Equation 2)
(2L) / λ + Φ / (2π) = m
(Where L is the optical distance between the first end P1 and the second end P2, and Φ is the phase shift Φ of the reflected light generated at the first end P1. ₁ And the phase shift Φ of the reflected light generated at the second end P2 ₂ (Φ = Φ ₁ + Φ ₂ ), (Rad) and λ are peak wavelengths of the spectrum of light to be extracted from the side of the second end P2, and m is an integer where L is positive. Note that, in Expression 2, L and λ may have the same unit, but for example, the unit is (nm). )
[0031]
In this display device, when a predetermined voltage is applied between the first electrode 14 and the second electrode 18, a current is injected into the red light emitting layer 16CR, the green light emitting layer 16CG, or the blue light emitting layer 16CB, and holes and holes are removed. Light is emitted by recombination with electrons. This light is multiple-reflected between the first end P1 and the second end P2, passes through the second electrode 18, the color filter 32, and the sealing substrate 31, and is extracted. At this time, since the blue organic layer 16B having the smallest total thickness among the red organic layer 16R, the green organic layer 16G, and the blue organic layer 16B is formed last, the blue color resulting from repeated contact with the deposition mask 100 is obtained. The organic layer 16B is prevented from being scratched or mixed with foreign matter. Therefore, generation of many non-light-emitting defects in the blue organic layer 16B is prevented.
[0032]
As described above, in the present embodiment, the red organic layer 16R, the green organic layer 16G, and the blue organic layer 16B are formed for each color in order from the color having the largest total film thickness. The thinnest blue organic layer 16B is formed last, thereby preventing non-light emitting defects from occurring and improving display quality.
[0033]
[Modifications 1 to 3]
Hereinafter, Modification Examples 1 to 3 of the present embodiment will be described.
[0034]
In the present embodiment, when there is a layer having the same material or thickness among the red organic layer 16R, the green organic layer 16G, and the blue organic layer 16B, the red organic layer 16R, the green organic layer 16G, and the blue organic layer 16B are common. May be formed. By doing so, the material is shared and the manufacturing process is simplified, so that the manufacturing efficiency can be increased and it is advantageous for establishing a mass production system. The following Modifications 1 to 3 are specific examples, but are not necessarily limited thereto.
[0035]
(Modification 1)
For example, as shown in FIG. 6A, the materials and thicknesses of the red hole injection layer 16AR, the green hole injection layer 16BR, and the blue hole injection layer 16AB are the same, and the red organic layer 16R and the green organic layer 16AR. A continuous hole injection layer 46A common to 16G and the blue organic layer 16B is formed. After that, as shown in FIG. 6B, a red hole transport layer 16BR, a red light emitting layer 16CR, and a red electron transport layer 16DR are formed, and a red organic layer 16R having the largest total film thickness is formed. Next, as shown in FIG. 7A, a green hole transport layer 16BG, a green light emitting layer 16CG, and a green electron transport layer 16DG are formed, and a green organic layer 16G having the second largest total thickness is formed. . Finally, as shown in FIG. 7B, a blue hole transport layer 16BB, a blue light emitting layer 16CB, and a blue electron transport layer 16DB are formed, and a blue organic layer 16B having the smallest total thickness is formed. The continuous hole injection layer 46A does not need to be formed on all of the red organic layer 16R, the green organic layer 16G, and the blue organic layer 16B, and it is sufficient that only necessary colors among them are common to at least two colors.
[0036]
(Modification 2)
Alternatively, the materials and thicknesses of the red electron transport layer 16DR, the green electron transport layer 16DR, and the blue electron transport layer 16DB may be the same. In this case, first, as shown in FIG. 8A, a red hole injection layer 16AR, a red hole transport layer 16BR, and a red light emitting layer 16CR of the red organic layer 16R having the largest total film thickness are formed. Next, as shown in FIG. 8B, a green hole injection layer 16AG, a green hole transport layer 16BG, and a green light emitting layer 16CG of the second thickest green organic layer 16G having the total thickness are formed. Subsequently, as shown in FIG. 9A, a blue hole injection layer 16AB, a blue hole transport layer 16BB, and a blue light emitting layer 16CB are formed among the blue organic layers 16B having the smallest total thickness. Finally, as shown in FIG. 9B, a continuous electron transport layer 46D common to the red organic layer 16R, the green organic layer 16G, and the blue organic layer 16B is formed. The continuous electron transport layer 46D does not need to be formed on all of the red organic layer 16R, the green organic layer 16G, and the blue organic layer 16B, and it is sufficient that only necessary colors among them are common to at least two colors.
[0037]
(Modification 3)
Further, Modification 1 and Modification 2 may be performed in an overlapping manner. For example, a continuous hole injection layer 46A common to the red organic layer 16R, the green organic layer 16G, and the blue organic layer 16B is formed. After that, the red hole transport layer 16BR and the red light emitting layer 16CR of the red organic layer 16R having the largest total film thickness are formed, and then the green hole transport layer of the second thickest green organic layer having the total film thickness is formed. A blue hole transport layer 16BB and a blue light emitting layer 16CB of a blue organic layer 16B having the smallest total thickness, and finally, a red organic layer 16R and a green light emitting layer 16CG. A continuous electron transport layer 46D common to the organic layer 16G and the blue organic layer 16B is formed.
[0038]
【Example】
Further, specific examples of the present invention will be described.
[0039]
A display device was manufactured in the same manner as in the above embodiment. At that time, the total thickness of the red organic layer 16R is 150 nm, the total thickness of the green organic layer 16G is 110 nm, and the total thickness of the blue organic layer 16B is 70 nm. An organic layer 16R, a green organic layer 16G, and a blue organic layer 16B were formed in this order for each color.
[0040]
As a comparative example with respect to the present embodiment, the present embodiment is different from the present embodiment except that the color is formed for each color in order from the color having the lowest luminance, that is, in the order of the blue organic layer 16B, the red organic layer 16R, and the green organic layer 16G. A display device was manufactured in the same manner.
[0041]
With respect to the obtained display devices of the example and the comparative example, the change with time of the non-light-emitting defect when continuously lit at a predetermined current value was examined. The result is shown in FIG. FIG. 10 shows the change over time of the non-light emitting defect of each color in the example and the comparative example, with the number of blue non-light emitting defects in the comparative example being continuously lit for 360 hours as 100.
[0042]
When the initial characteristics of this example and the comparative example were compared, the luminous efficiency and the chromaticity were equivalent, but the initial non-light-emitting defect was smaller in this example than in the comparative example. Further, when the non-light-emitting defects in the case of continuous lighting were compared with time, the non-light-emitting defects in blue in the comparative example increased remarkably, whereas the non-light-emitting defects in blue hardly increased in this example. But could be greatly improved. That is, it has been found that the non-light-emitting defect can be suppressed from increasing by forming the red organic layer, the green organic layer, and the blue organic layer in order from the color having the largest total thickness of each color.
[0043]
As described above, the present invention has been described with reference to the embodiment and the example. However, the present invention is not limited to the above-described embodiment and example, and can be variously modified. For example, in the above-described embodiment, a case has been described in which all of the red organic layer 16R, the green organic layer 16G, and the blue organic layer 16B are formed for each color in order from the color having the largest total film thickness. Of the red organic layer 16R, the green organic layer 16G, and the blue organic layer 16B, only layers having different materials or thicknesses are arranged in order from the color having the larger total thickness of the red organic layer 16R, the green organic layer 16G, and the blue organic layer 16B. It is sufficient if it is formed separately.
[0044]
Specifically, for example, at least the red hole transport layer 16BR and the red light emitting layer 16CR of the red organic layer 16R, at least the green hole transport layer 16BG and the green light emitting layer 16CG of the green organic layer 16G, and the blue organic layer At least the blue hole transport layer 16BB and the blue light emitting layer 16CB of the 16B are formed for each color in order from the color having the largest total thickness of the red organic layer 16R, the green organic layer 16G, and the blue organic layer 16B. Good. This is because the total thickness of the red organic layer 16R, the green organic layer 16G, and the blue organic layer 16B is actually the red hole transport layer 16BR and the red light emitting layer 16CR, the green hole transport layer 16BG, and the green light emitting layer 16CG, Also, by changing only the thicknesses of the blue hole transport layer 16BB and the blue light emitting layer 16CB, it may be possible to control the optical distance L to satisfy Equation 2. Further, the red hole injection layer 16AR, the green hole injection layer 16AG, or the blue hole injection layer 16AB, or the red electron transport layer 16BR, the green electron transport layer 16DG, or the blue electron transport layer 16DB is often omitted, or all of them are omitted. This is because the color is not necessarily provided in the organic light emitting element of the color.
[0045]
Further, by changing the total thickness of the red organic layer 16R, the green organic layer 16G, and the blue organic layer 16B only by changing the thicknesses of the red light emitting layer 16CR, the green light emitting layer 16CG, and the blue light emitting layer 16CB, the optical distance L is reduced. 2, it is possible to control at least the red light emitting layer 16CR of the red organic layer 16R, at least the green light emitting layer 16CG of the green organic layer 16G, and at least the blue light emitting of the blue organic layer 16B. The layer 16CB may be formed for each color in order from the color having the largest total thickness of the red organic layer 16R, the green organic layer 16G, and the blue organic layer 16B.
[0046]
Furthermore, in the above-described embodiments and examples, the case where the red organic layer 16R, the green organic layer 16G, and the blue organic layer 16B are made of a low molecular material has been described. It can also be applied when used. Here, the polymer material has a molecular weight of 10,000 or more. In this case, for example, the red organic layer includes a red hole transport layer and a red light emitting layer, the green organic layer includes a green hole transport layer and a green light emitting layer, and the blue organic layer includes a blue hole transport layer and a blue light emitting layer. May be included. When a resonator structure is introduced, the total thickness of the red organic layer, the green organic layer, and the blue organic layer is changed by changing only the thicknesses of the red, green, and blue light emitting layers. It is possible to control so that the distance L satisfies Equation 2. Therefore, at least a red light emitting layer of the red organic layer, at least a green light emitting layer of the green organic layer, and at least a blue light emitting layer of the blue organic layer are formed as a total film of a red organic layer, a green organic layer, and a blue organic layer. It is sufficient to form each color in order from the thickest color.
[0047]
In addition, for example, the material and thickness of each layer described in the above embodiment, or the film forming method and the film forming conditions are not limited, and other materials and thicknesses may be used. The method and the film forming conditions may be used. For example, in the above-described embodiment, the first electrode 14, the red organic layer 16R, the green organic layer 16G and the blue organic layer 16B, and the second electrode 18 are sequentially stacked on the substrate 11 from the substrate 11 side. Although the case where light is extracted from the side of the sealing substrate 31 has been described, the stacking order is reversed, and the second electrode 18, the red organic layer 16R, the green organic layer 16G, and the blue The organic layer 16 </ b> B and the first electrode 14 may be sequentially stacked from the substrate 11 side, and light may be extracted from the substrate 11 side.
[0048]
Further, for example, in the above embodiment, the case where the first electrode 14 is an anode and the second electrode 18 is a cathode has been described. However, the anode and the cathode are reversed, and the first electrode 14 is a cathode, and the second electrode 18 is a cathode. 18 may be used as the anode. Further, while the first electrode 14 is a cathode and the second electrode 18 is an anode, the second electrode 18, the red organic layer 16R, the green organic layer 16G and the blue organic layer 16B, and the first electrode 14 are formed on the substrate 11. Can be stacked in order from the substrate 11 side, and light can be extracted from the substrate 11 side.
[0049]
In addition, in the above-described embodiment, the configurations of the red organic light emitting element 10R, the green organic light emitting element 10G, and the blue organic light emitting element 10B have been specifically described. However, it is not necessary to include all the layers. Other layers may be further provided. For example, between the first electrode 14 and the red organic layer 16R, the green organic layer 16G, and the blue organic layer 16B, chromium (III) oxide (Cr ₂ O ₃ ), ITO (Indium-Tin Oxide: mixed oxide film of indium (In) and tin (Sn)) or the like. Further, for example, the first electrode 14 may have a two-layer structure in which a transparent conductive film is laminated on a dielectric multilayer film or a reflective film such as Al. In this case, the end face of the reflection film on the light emitting layer side constitutes the end of the resonance part, and the transparent conductive film constitutes a part of the resonance part.
[0050]
Furthermore, in the above-described embodiment, the case where the second electrode 18 has the semi-transmissive electrode 18A and the transparent electrode 18B laminated in order from the side of the first electrode 14 has been described. A configuration having only the transmissive electrode 18A may be adopted.
[0051]
In addition, in the above-described embodiment, the semi-transmissive electrode 18A is used as one end, and the other end is provided at a position facing the semi-transmissive electrode 18A with the transparent electrode 18B interposed therebetween. A resonator structure serving as a portion may be formed. Further, after providing such a resonator structure, the red organic light-emitting element 10R, the green organic light-emitting element 10G, and the blue organic light-emitting element 10B are covered with a protective film 19, and the protective film 19 is covered with a transparent electrode 18A. It is preferable that the protective film 19 be made of a material having the same refractive index as the constituent material, since the protective film 19 can be a part of the resonance part.
[0052]
Furthermore, in the present invention, the second electrode 18 is constituted by the transparent electrode 18B, and the reflectance of the transparent electrode 18B at the end face on the side opposite to the red organic layer 16R, the green organic layer 16G, and the blue organic layer 16B is increased. The first light emitting layer 16R, the green light emitting layer 16G, and the blue light emitting layer 16B side of the first electrode 14 have the first end, the red organic layer 16R, the green organic layer 16G, and the blue organic layer of the transparent electrode 18B. The present invention can also be applied to a case where a resonator structure having the end face opposite to 16B as the second end is formed. For example, the transparent electrode 18B may be brought into contact with the atmosphere layer to increase the reflectance at the interface between the transparent electrode 18B and the atmosphere layer, and this interface may be used as the second end. Alternatively, the reflectance at the interface with the adhesive layer 20 may be increased, and this interface may be used as the second end. Further, the reflectance at the interface with the protective film 19 may be increased, and this interface may be used as the second end.
[0053]
【The invention's effect】
As described above, according to the display device manufacturing method of the present invention, at least the red light emitting layer of the red organic layer, at least the green light emitting layer of the green organic layer, and at least the blue light emitting layer of the blue organic layer , Red organic layer, green organic layer, and blue organic layer are formed for each color in order from the color having the largest total thickness. Can be prevented and display quality can be improved.
[Brief description of the drawings]
FIG. 1 is a cross-sectional view illustrating a method of manufacturing a display device according to an embodiment of the present invention in the order of steps.
FIG. 2 is a cross-sectional view illustrating a process following the process in FIG.
FIG. 3 is a sectional view illustrating a step following the step of FIG. 2;
FIG. 4 is a sectional view illustrating a step following FIG. 3;
FIG. 5 is a sectional view illustrating a step following FIG. 4;
FIG. 6 is a cross-sectional view illustrating a method of manufacturing a display device according to Modification Example 1 of the present invention in the order of steps.
FIG. 7 is a cross-sectional view illustrating a process following the process in FIG.
FIG. 8 is a cross-sectional view illustrating a method of manufacturing a display device according to Modification 2 of the present invention in the order of steps.
FIG. 9 is a cross-sectional view illustrating a process following the process in FIG.
FIG. 10 is a diagram illustrating a change over time in the number of non-light-emitting defects in an example of the present invention and a comparative example.
[Explanation of symbols]
10R: Red organic light emitting element, 10G: Green organic light emitting element, 10B: Blue organic light emitting element, 11: Substrate, 12: TFT, 13: Flattening film, 13A: Contact hole, 14: First electrode, 15: Insulating film , 16R: red organic layer, 16AR: red hole injection layer, 16BR: red hole transport layer, 16CR: red light emitting layer, 16DR: red electron transport layer, 16G: green organic layer, 16AG: green hole injection layer, 16BG: green hole transport layer, 16CG: green light emitting layer, 16DG: green electron transport layer, 16B: blue organic layer, 16AB: blue hole injection layer, 16BB: blue hole transport layer, 16CB: blue organic layer, 16DB ... blue electron transport layer, 17 ... electron injection layer, 18 ... second electrode, 18A ... semi-transparent electrode, 18B ... transparent electrode, 19 ... protective film, 20 ... adhesive layer, 31 ... sealing substrate, 32 ... color Filter, 100 ... deposition mask

Claims

基板に、赤色発光層を含む赤色有機層を有する赤色有機発光素子と、緑色発光層を含む緑色有機層を有する緑色有機発光素子と、青色発光層を含む青色有機層を有する青色有機発光素子とを備え、前記赤色有機層，前記緑色有機層および前記青色有機層の総膜厚を互いに異ならせた表示装置の製造方法であって、
前記赤色有機層のうち少なくとも前記赤色発光層と、前記緑色有機層のうち少なくとも前記緑色発光層と、前記青色有機層のうち少なくとも前記青色発光層とを、前記赤色有機層，前記緑色有機層および前記青色有機層の総膜厚の厚い色から順に、各色別に形成する
ことを特徴とする表示装置の製造方法。On the substrate, a red organic light emitting element having a red organic layer including a red light emitting layer, a green organic light emitting element having a green organic layer including a green light emitting layer, and a blue organic light emitting element having a blue organic layer including a blue light emitting layer A method for manufacturing a display device, wherein the total thickness of the red organic layer, the green organic layer, and the blue organic layer is different from each other,
At least the red light emitting layer of the red organic layer, at least the green light emitting layer of the green organic layer, and at least the blue light emitting layer of the blue organic layer, the red organic layer, the green organic layer and A method for manufacturing a display device, comprising forming a blue organic layer for each color in order from the color having the largest total thickness.

前記赤色有機発光素子，前記緑色有機発光素子および前記青色有機発光素子は、前記赤色発光層，前記緑色発光層および前記青色発光層で発生した光を第１端部と第２端部との間で共振させる共振器構造を有するものである
ことを特徴とする請求項１記載の表示装置の製造方法。The red organic light emitting element, the green organic light emitting element, and the blue organic light emitting element emit light generated in the red light emitting layer, the green light emitting layer, and the blue light emitting layer between a first end and a second end. 2. The method for manufacturing a display device according to claim 1, wherein the method has a resonator structure that resonates at a time.

前記第１端部で生じる反射光の位相シフトと前記第２端部で生じる反射光の位相シフトとの和をΦ、前記第１端部と前記第２端部との間の光学的距離をＬ、前記第２端部の側から取り出したい光のスペクトルのピーク波長をλとすると、前記光学的距離が数１を満たすようにする
ことを特徴とする請求項２記載の表示装置の製造方法。

The sum of the phase shift of the reflected light generated at the first end and the phase shift of the reflected light generated at the second end is Φ, and the optical distance between the first end and the second end is Φ. 3. The method of manufacturing a display device according to claim 2, wherein the optical distance satisfies Equation 1 where L is a peak wavelength of a spectrum of light to be extracted from the side of the second end. .

前記赤色有機層，前記緑色有機層および前記青色有機層の総膜厚を、厚い方から赤色有機層，緑色有機層，青色有機層の順とする
ことを特徴とする請求項３記載の表示装置の製造方法。4. The display device according to claim 3, wherein the total thickness of the red organic layer, the green organic layer, and the blue organic layer is, in order from a thicker one, a red organic layer, a green organic layer, and a blue organic layer. Manufacturing method.

前記赤色有機層のうち少なくとも前記赤色発光層および赤色正孔輸送層と、前記緑色有機層のうち少なくとも前記緑色発光層および緑色正孔輸送層と、前記青色有機層のうち少なくとも前記青色発光層および青色正孔輸送層とを、前記赤色有機層，前記緑色有機層および前記青色有機層の総膜厚の厚い色から順に、各色別に形成する
ことを特徴とする請求項１記載の表示装置の製造方法。At least the red light emitting layer and the red hole transport layer of the red organic layer, at least the green light emitting layer and the green hole transport layer of the green organic layer, and at least the blue light emitting layer of the blue organic layer 2. The manufacturing method of a display device according to claim 1, wherein the blue hole transport layer is formed for each color in order from a color having a larger total thickness of the red organic layer, the green organic layer, and the blue organic layer. Method.

前記赤色有機層，前記緑色有機層および前記青色有機層のうち材料および厚みの同じ層を、前記赤色有機層，前記緑色有機層および前記青色有機層のうち少なくとも２色に共通の連続層として形成する
ことを特徴とする請求項１記載の表示装置の製造方法。A layer having the same material and thickness among the red organic layer, the green organic layer, and the blue organic layer is formed as a continuous layer common to at least two colors of the red organic layer, the green organic layer, and the blue organic layer. The method for manufacturing a display device according to claim 1, wherein:

前記赤色有機層，前記緑色有機層および前記青色有機層を、低分子材料により構成する
ことを特徴とする請求項１記載の表示装置の製造方法。2. The method according to claim 1, wherein the red organic layer, the green organic layer, and the blue organic layer are made of a low molecular material.

前記赤色有機層，前記緑色有機層および前記青色有機層を、蒸着マスクを用いた蒸着法により、各色別に形成する
ことを特徴とする請求項１記載の表示装置の製造方法。The method according to claim 1, wherein the red organic layer, the green organic layer, and the blue organic layer are formed for each color by an evaporation method using an evaporation mask.