JP2004287392A - 光学フィルム - Google Patents

Abstract

【課題】 本発明は，優れたハードコート性、高透明性を有し、かつ低コストで全可視光線領域における干渉縞防止効果を有する表面保護フィルムの製造方法を提供することを目的とするものである。さらには、高性能な反射防止機能付き光学フィルムの製造方法を提供することを目的とするものである。
【解決手段】 透明基材の表面にハードコート層を積層してなる光学フィルムにおいて、波長が３６０ｎｍ〜８００ｎｍの可視光線領域における反射スペクトルが極大値を持たないことを特徴とする光学フィルムとするものである。またさらに、波長が３６０ｎｍ〜８００ｎｍの可視光線領域における反射率と波長の関係を示した反射スペクトルの振幅（極大値―極小値）が，可視光線全域において０．５以下であることを特徴とするものである。
【選択図】図１

Description

本発明は，ワードプロセッサ，コンピュータ，テレビジョン等のディスプレイ、例えばＣＲＴディスプレイ、液晶ディスプレイ、プロジェクションディスプレイ、プラズマディスプレイ、ＥＬディスプレイ等の表面を保護する目的で使用されるプラスチックフィルムに関し、特に、プラスチックフィルムの干渉縞防止効果を有する光学フィルムおよびその製造方法に関するものである。

従来各種ディスプレイに用いられる光学フィルムは、高透明性や耐擦傷性、耐薬品性および耐候性を重視し、基材表面上に活性エネルギー線硬化型樹脂を用いたハードコート層を設けることが多かった。しかしこの活性エネルギー線硬化によって得られたハードコート層の屈折率（波長５５０ｎｍ）は、例えばアクリル樹脂系を例とすると１．４９と低く、用いられる基材の屈折率（波長５５０ｎｍ）、例えばポリエチレンテレフタレートの屈折率１．６５、とかけ離れた場合が多く、ハードコート層表面で反射する光と、ハードコート層と基材の界面で反射する光の干渉を起こし、反射スペクトルにおいて極大値と極小値を複数有することにより、虹色のムラ（干渉縞）を生じる。この干渉縞はディスプレイの視認性を低下させ、またディスプレイの美観を損なうものであった。従ってこの干渉縞を抑制することが重要であり、従来の干渉縞低減技術は、基材そのものおよび基材とハードコート層間の中間層に凹凸を設けることによってハードコート層と基材との界面での光の反射を散乱させる技術である（例えば、特許文献１参照。）。

しかし、光を散乱させるために凹凸が大きいと干渉縞は低減するが可視光線の透過率が低下するという問題が生じ、凹凸が小さすぎると光の散乱効果が弱まり干渉縞の低減効果が弱まるという問題が生じている。また、基材とハードコート層間に中間層を設けるという技術も提案されている（例えば、特許文献２参照。）。この技術では基材とハードコート層間に屈折率の異なる中間層を設けているが、これも段階的に屈折率が変化するために干渉縞は少なくなっても無くなるまでには至らないという問題が生じている。さらにこれらの技術は工程が増えることになるためコストアップにつながるという問題が生じている。また、基材とハードコート層の屈折率差を少なくすることにより干渉縞を防止する技術が提案されている（例えば、特許文献３参照。）。しかしながら、基材の屈折率波長分散を考慮すると、ある波長における屈折率差は小さくなっても全可視光線領域での屈折率は一致しないため、干渉縞が少なくなっても無くなるまでには至らないという問題が生じている。
特開平０８−１９７６７０号公報 特開２０００−１１１７０６号公報 特開平０７−１５１９０２号公報

本発明は，前記問題を解決するために優れたハードコート性、高透明性を有し、かつ低コストで全可視光線領域における干渉縞防止効果を有する表面保護フィルムの製造方法を提供することを目的とするものである。さらには、高性能な反射防止機能付き光学フィルムの製造方法を提供することを目的とするものである。

請求項１に記載の発明は、透明基材の表面にハードコート層を積層してなる光学フィルムにおいて、波長が３６０ｎｍ〜８００ｎｍの可視光線領域における反射スペクトルが極大値を持たないことを特徴とする光学フィルムである。

請求項２に記載の発明は、前記透明基材の表面にハードコート層を積層してなる光学フィルムにおいて、波長が３６０ｎｍ〜８００ｎｍの可視光線領域における反射率と波長の関係を示した反射スペクトルの振幅（極大値―極小値の差）が，可視光線領域全域において０．５以下であることを特徴とする光学フィルムである。

請求項３に記載の発明は、前記透明基材と前記ハードコート層との屈折率差が４％以内の範囲であることを特徴とする光学フィルムである。

請求項４に記載の発明は、前記透明基材が汎用溶剤により浸食されにくい基材であり，かつハードコート層の乾燥膜厚が５〜１５μｍの範囲であることを特徴とする光学フィルムである。

請求項５に記載の発明は、前記透明基材が汎用溶剤により浸食されやすい基材であり，かつ基材を溶解または膨潤させる溶剤を用いてハードコート層を積層することを特徴とする光学フィルムである。

請求項６に記載の発明は、前記ハードコート層が，微粒子を含むことを特徴とする請求項１〜５のいずれかに記載の光学フィルムである。

請求項７に記載の発明は、前記ハードコート層が，紫外線および電子線硬化型樹脂を含むことを特徴とする請求項１〜５のいずれかに記載の光学フィルムである。

請求項８に記載の発明は，前記ハードコート層上に反射防止層を設けたことを特徴とする請求項１〜７のいずれかに記載の光学フィルムである。

本発明は、優れたハードコート性、高透明性を有し、かつ低コストで全可視光線領域における干渉縞防止効果を有する光学フィルムの製造方法を提供することができる。さらには、高性能な反射防止機能付き光学フィルムの製造方法を提供することができる。

以下に，本発明の実施形態について詳細に説明する。

本発明における前記光学フィルムは、基材とハードコート層との屈折率差が４％以内と小さいために、可視光領域（波長３６０〜８００ｎｍ）での反射率と波長の関係を示した反射スペクトルにおける振幅（極大値―極小値）が小さい。そのうえ，汎用溶剤により浸食されにくい基材を用いた場合には，膜厚を５〜１５μｍとすると極大値の山と極小値の谷部分が可視光線領域において増加するため、一つには、混色平均化して巨視的には無彩色となること、もう一つは、目や測定器の感度を越えてしまうために反射率が平均化されることにより、干渉縞の無い，視認性に優れたフィルムが得られる。

前述範囲外の基材とハードコート層との屈折率差４％以上の際には、反射スペクトルにおける振幅が大きいため、色のコントラストが強く混色平均化しにくく、膜厚を１５μｍ以上にすることにより反射率が平均化されるが、最小曲げ試験によるクラックが発生しやすくなり、また、透過率が低下してしまう。

汎用溶剤により浸食されやすい基材を用いた場合には，基材を溶解または膨潤させる溶剤を含む樹脂を用いてハードコート層を設けることにより，基材とハードコート層の界面において基材とハードコート層との成分が混じり合い，界面近傍の屈折率を連続的に変化させることこができるため，界面における反射光がなく，干渉縞の無い，視認性に優れたフィルムが得られる。

前述範囲外の基材とハードコート層との屈折率差４％以上の際には、基材をより溶解または膨潤させる必要があるために，生産性が悪くなることやハードコートとしての性能が満たされなくなるという問題が発生する。

本発明に用いる基材としては、公知の基材を用いることができる。例えば、透光性の種々の有機高分子からなるフィルムもしくはシート等からなる基材を用いることができる。ディスプレイ等の光学部材に使用する場合、透明性や光の屈折率等の光学特性、さらには耐衝撃性、耐熱性、耐久性などの諸物性を考慮する必要がある。

このようなものとして、ポリオレフィン系（ポリエチレン、ポリプロピレン，ポリシクロオレフィン等）、ポリエステル系（ポリエチレンテレフタレート、ポリブチレンテレフタレート、ポリエチレンナルタレート等）、セルロース系（トリアセチルセルロース、ジアセチルセルロース、セロファン等）、ポルアミド系（ナイロン−６、ナイロン−６６等）、アクリル系（ポリメチルメタクリレート等）、ポリスチレン、ポリ塩化ビニル、ポリイミド、ポリビニルアルコール、エチレンビニルアルコール，ポリカーボネート等の有機高分子が用いられる。

本発明における汎用溶剤に浸食されにくい基材としては，ポリエチレンテレフタレートフィルム（延伸された結晶化フィルム）やポリシクロオレフィンフィルム等が挙げられ，汎用溶剤に浸食されやすい基材としては，ポリメチルメタクリレートフィルム，トリアセチルセルコースフィルム、ポリエチレンテレフタレートフィルム（無延伸の非結晶化フィルム）やポリカーボネートフィルム等が挙げられる。

さらに、これらの有機高分子に公知の添加剤、たとえば、帯電防止剤、紫外線吸収剤、赤外線吸収剤、可塑剤、滑剤、着色剤、酸化防止剤、難燃剤等を添加し、機能を付加させたものも使用できる。また、この基材は上記物質単体、もしくは複数の物質を積層もしくは混合させたものでもよい。また、基材の厚みは表面保護フィルムを用いる用途によって適宜選択することができ、２５〜３００μｍが好ましい。しかしこれに限定するものではない。また，基材上にもうけられるハードコート層との密着性を向上させる目的で、表面処理を施すことができる。この表面処理方法としては、例えばサンドブラスト法や溶剤処理法などによる表面の凹凸化処理、あるいはコロナ放電処理、クロム酸処理、火炎処理、熱風処理、オゾン・紫外線照射処理などの表面の酸化処理などが挙げられる。

本発明の光学フィルムは、前記プラスチックフィルムの上にハードコート層を有するものであって、このハードコート層は屈折率を調整する必要があるため紫外線および電子線硬化型樹脂単体、またはこの硬化物中にコロイド状金属酸化物微粒子が均質に分散されたものである。

前記ハードコート層に用いる紫外線および電子線硬化型樹脂としては基材の表面改質を目的として、光学フィルムのスチールウールラビング試験による耐擦傷性、鉛筆ひっかき試験による硬度、セロテープ剥離試験による密着性、最小曲げ試験によるクラック性等の諸特性を要求されるスペックを満足させ、屈折率の調整を行えるように樹脂を選択して使用することが出来る。この紫外線硬化型樹脂は、光重合性プレポリマー、光重合性モノマー、光重合開始剤等を含有するものである。

また、電子線硬化型樹脂は、光重合性プレポリマー、光重合性モノマーを含有するものである。

前記光重合性プレポリマーとしては、例えばポリエステルアクリレート系、エポキシアクリレート系、ウレタンアクリレート系、ポリオールアクリレート系等が挙げられる。これらの光重合性プレポリマーは１種用いても良いし、２種以上を組み合わせて用いても良い。

また，光重合性モノマーとしては、例えばポリメチロールプロパントリ（メタ）アクリレート、ヘキサンジオール（メタ）アクリレート、トリプロピレングリコールジ（メタ）アクリレート、ジエチレングリコールジ（メタ）アクリレート、ペンタエリスリトールトリ（メタ）アクリレート、ジペンタエリスリトールヘキサ（メタ）アクリレート、１，６−ヘキサンジオールジ（メタ）アクリレート、ネオペンチルグリコールジ（メタ）アクリレート等が挙げられる。

また、これらの屈折率は１．５前後であるが、屈折率が高いモノマーとしては、環状基を有するものさらに／またはフッ素原子以外のハロゲン原子やＳ、Ｎ、Ｐ等の原子を含むものが挙げられる。環状基には芳香族基、複素環基および脂肪族環基が含まれる。例えば、ビス（４−メタクリロイルチオフェノキシ）スルフィド、ビニルフェニルスルフィド、ビスフェノキシエタノールフルオレンジアクリレート、テトラブロモビスフェノールＡジエポキシアクリレートなどが挙げられる。特に本発明では、プレポリマーとしてウレタンアクリレート系、モノマーとしてジペンタエリスリトールヘキサ（メタ）アクリレート、ビスフェノキシエタノールフルオレンジアクリレート等を用いることが好ましい。

さらに、光重合開始剤としては、例えば、アセトフェノン類、ベンゾイン類、ベンゾフェノン類、ホスフィンオキシド類、ケタール類、アントラキノン類、チオキサントン類等が挙げられる。

また、光増感剤としてｎ−ブチルアミン、トリエチルアミン、ポリ− ｎ−ブチルホスフィン等を混合して用いることができる。

本発明の光学フィルムにおける、ハードコート層に用いられる金属酸化物微粒子は、例えば、ＴｉＯ_２（屈折率：２．３〜２．７）、ＺｒＯ_２（屈折率：２．０）、Ｌａ_２Ｏ_３（屈折率：２．０）、Ｙ_２Ｏ_５（屈折率：１．９）、ＳｎＯ_２（屈折率：１．９）、Ａｌ_２Ｏ_３（屈折率：１．６）、ＳｉＯ_２（屈折率：１．５）などの金属酸化物微粒子、或いはこれら２種以上の複合金属酸化物微粒子やＡＴＯ（アンチモン−錫酸化物）やＩＴＯ（インジウム−錫酸化物）などの導電性金属酸化物超微粒子を挙げることができ、これらの金属酸化物超微粒子の添加量を調整することにより、基材プラスチックフィルムとハードコート層の屈折率を同等なものに調整することができる。金属酸化物微粒子のは，透明性，分散性の問題から粒径１〜１００ｎｍであることが好ましい。しかしながらこれに限定されるものではない。粒径が１００ｎｍを越えるとレイリー散乱によって光が著しく反射され，膜が白くなって透明性の低下がみられ，また１ｎｍ未満では粒子間の凝集による膜の不均一性等の問題が生じる。

本発明の光学フィルムにおけるハードコート層においては、金属酸化物超微粒子の含有量は、屈折率調整の面から、紫外線および電子線硬化型樹脂の硬化物１００重量部に対して０〜６００重量部の範囲にあることが好ましい。さらに、超微粒子表面には表面処理を施してバインダーである有機物との親和性を高めることが好ましい。表面処理には、プラズマ放電処理やコロナ放電処理のような物理表面処理と、カップリング剤を使用する化学的表面処理に分類できる。化学的表面処理のみ、または物理的／化学的表面処理両方で実施することが好ましい。カップリング剤としては、オルガノアルコキシメタル化合物であるシランカップリング剤やチタンカップリング剤などが好ましい。カップリング剤による表面処理には、触媒として無機酸（例えば、硫酸、塩酸、硝酸、クロム酸、次亜塩素酸、炭酸など）、有機酸（例、酢酸、ポリアクリル酸、ポリグルタミン酸など）を用いることが好ましい。

また、ハードコート層の硬度は、５００ｇ荷重の鉛筆硬度で３Ｈ以上であるのが好ましく、ハードコートフィルムに必要な耐擦傷性を備えることができる。

ハードコート層形成用のハードコート剤の調整において、各成分の配合順序については特に制限はなく、各種溶媒中に紫外線および電子線硬化型樹脂と金属酸化物超微粒子と光重合開始剤等を加えて混合する。

溶剤としては、基材を浸食するかどうかを確認した後，適宜選択することができる。溶剤はメチルエチルケトン、アセトン、メチルイソプチルケトン等のケトン類、酢酸メチル、酢酸エチル、酢酸ブチル等のエステル類、トルエン、キシレン等の芳香族化合物類、ジエチルエーテル、テトラヒドロフラン等のエーテル類、メタノール、エタノール、イソプロパノール等のアルコール類等を挙げることができる。また、このハードコート剤には、所望により消泡剤やレベリング剤等の公知の添加剤を配合することができる。ハードコート剤の固形分濃度については特に制限はなく、塗工性、乾燥性、経済性等の面から１０〜７０重量％の範囲が好ましく、特に３０〜５０重量％の範囲が好適である。

ハードコート剤の基材への塗工方法については特に制限はなく、バーコート法、ナイフコート法、ロールコート法、ブレードコート法、ダイコート法等を用いることができる。

この塗工層の厚さは、ハードコート剤の固形分濃度および硬化後における防眩層の密度から必要なハードコート剤の塗工量を算出することにより、制御する事ができる。

また、乾燥後の塗工層に窒素パージした雰囲気下で紫外線および電子線を照射して硬化させ、酸素障害が少なく、表面硬度の高いハードコート層を形成しても良い。

硬化に用いる紫外線照射装置については、特に制限はなく、例えば高圧水銀ランプ、キセノンランプ、メタルハライドランプ、フュージョンランプ等を用いた公知の紫外線照射装置を使用することができる。

紫外線照射量は、通常１００〜８００ｍＪ／ｃｍ^２程度である。電子線照射装置については特に制限はなく、加速電圧は通常５０〜３００ｋＶである。

このようにして得られた光学フィルムは、ハードコート性、透明性および干渉縞防止性に優れ、かつ各種ディスプレイに使用した際に視認性が良好である。従って、各種ディスプレイの保護用フィルムとして使用することができる。

ハードコート層の上に設ける反射防止層は、低屈折率層と高屈折率層を有する構成からなる。本発明においては、低屈折率層単層が好ましい。例えば、本発明の基材をポリエチレンテレフタレートフィルムとした場合にはハードコート層を有する基材全体の屈折率が高く、低屈折率層との屈折率差が大きくなり、反射防止性能が向上するためである。

ここで、低屈折率層は，例えば、屈折率の低い微粒子であるＭｇＦ_２（屈折率；１．４）、ＳｉＯ_２（屈折率；１．５）等を分散した、紫外線および電子線硬化型樹脂からなるもの、あるいは、シランカップリング剤とフッ素系シランカップリング剤の混合物を触媒により加水分解したオリゴマーからなる各種ゾルとする。しかしながら，これに限定されるものではない。

低屈折率層の形成方法としては、前述の各種塗工方法により、硬化膜厚が、０．０１〜１μｍになるように塗工し、乾燥処理を行った後、必要に応じて紫外線および電子線照射を行う。

前記低屈折率層の他の形成方法は、真空蒸着法、スパッタリング法、反応性スパッタリング法、イオンプレーディング法、電気めっき法等の適宜な手段であってもよく、例えば、前記以外の反射防止塗料の塗膜、膜厚０．１μｍ程度のＭｇＦ_２等の極薄膜や金属蒸着膜、あるいはＳｉＯ_ｘやＭｇＦ_２の蒸着膜により形成しても良い。

また、本発明の反射防止層における高屈折率層は，屈折率の高い微粒子であるＴｉＯ_２（屈折率；２．３〜２．７）、Ｙ_２Ｏ_３（屈折率；１．９）、Ｌａ_２Ｏ_３（屈折率；２．０）、ＺｒＯ_２（屈折率；２．１）、Ａｌ_２Ｏ_３（屈折率；１．６）等を分散した紫外線または電子線硬化型樹脂からなるものが挙げられるが，これに限定されるものではない。

高屈折率層形成方法としては，前述の各種塗工方法により、硬化膜厚が０．０１〜１μｍになるように塗工し、乾燥処理を行った後、必要に応じて紫外線および電子線照射を行う。

前記高屈折率層の他の形成方法は、真空蒸着法、スパッタリング法、反応性スパッタリング法、イオンプレーディング法、電気めっき法等の適宜な手段であってもよく、例えば前記以外の反射防止塗料の塗膜、膜厚０．１μｍ程度のＴｉＯ_２等の極薄膜や金属蒸着膜により形成しても良い。

本発明の光学フィルムにはさらに他の層を積層してもよい。例えば、帯電防止層や防汚層などが挙げられる。

以下、本発明を具体的な実験例を元に詳細に説明する。

各実験例で作成した光学フィルムの性能は，下記の方法に従って評価した。
＜分光反射率＆フリンジ幅＞
自動分光光度計（日立製作所製、Ｕ−４０００）を用い、入射角５°における分光反射率を測定した。このスペクトルデータから反射率の隣り合う極大値と極小値の差の絶対値をフリンジ幅とした。なお、測定の際には塗布面と反対の面をにつや消し黒色塗料を塗布し、反射防止の処置を行った。
（目視評価）
２０Ｗ蛍光灯から２０ｃｍの距離でハードコート表面に蛍光灯の光を入射し、干渉縞の目視評価を行った。なお、評価の際には、塗布面と反対の面をにつや消し黒色塗料を塗布し、反射防止の処置を行った。
（耐擦傷性）
＃００００のスチールウールを用い、２５０ｇ荷重で１０往復表面を擦り、傷の有無を目視評価した。
（全光線透過率およびヘイズ値）
表面保護フィルムを写像性測定器［日本電色工業（株）製，ＮＤＨ−２０００］を使用して測定した。
（鉛筆硬度）
ＪＩＳ Ｋ５４００に準拠し、試験機法により１ｋｇ荷重で評価した。
＜実験例１＞
基材として厚み７５μｍ、屈折率（５５０ｎｍ）１．６５の汎用溶剤に浸食されにくいポリエチレンテレフタレートフィルム（全光線透過率：８８．７％、ヘイズ値：０．７％）を用いて、
ペンタエリスリトールトリアクリレート ６重量部
酸化ジルコニウム超微粒子（粒径１０〜１５ｎｍ）４重量部
イルガキュアー１８４ ０．２重量部
メチルエチルケトン １０重量部
を攪拌、混合した塗布液を、グラビアコーティング法によりＷＥＴ膜厚６、１０、２０μｍ（乾燥後のＤＲＹ膜厚３、５、１０μｍ）になるように塗布、乾燥させ、高圧水銀灯により１０００ｍＪの紫外線を照射しハードコート層を形成し、光学フィルムを作製した。ハードコート層の屈折率（５５０ｎｍ）は１．６１であった。この光学フィルムの性能評価結果を表１に示す。
＜実験例２＞
ペンタエリスリトールトリアクリレート４重量部、酸化ジルコニウム超微粒子６重量部とした以外は実施例１と同様にして光学フィルムを作製した。ハードコート層の屈折率（５５０ｎｍ）は１．６５であった。この光学フィルムの性能評価結果を表１に示す。
＜実験例３＞
ペンタエリスリトールトリアクリレート３重量部、酸化ジルコニウム超微粒子７重量部とした以外は実施例１と同様にして光学フィルムを作製した。ハードコート層の屈折率（５５０ｎｍ）は１．６９であった。この光学フィルムの性能評価結果を表１に示す。
＜実験例４＞
基材として厚み８０μｍ、屈折率（５５０ｎｍ）１．４９の汎用溶剤に浸食されやすいトリアセチルセルロースフィルム（全光線透過率：９４．１％、ヘイズ値：０．１％）を用い、溶剤として，基材を溶解または膨潤するメチルエチルケトン，酢酸メチルを用いて，
ペンタエリスリトールトリアクリレート ５重量部
ウレタンアクリレート ５重量部
イルガキュアー１８４ ０．５重量部
メチルエチルケトン ５重量部
酢酸メチル ５重量部
を攪拌、混合した塗布液を、グラビアコーティング法によりＷＥＴ膜厚１０μｍ（乾燥後のＤＲＹ膜厚５μｍ）になるように塗布、乾燥させ、高圧水銀灯により１０００ｍＪの紫外線を照射しハードコート層を形成し、光学フィルムを作製した。ハードコート層の屈折率（５５０ｎｍ）は１．５１であった。この光学フィルムの性能評価結果を表１に示す。
＜実験例５＞
基材として厚み７５μｍ、屈折率（５５０ｎｍ）１．６５のポリエチレンテレフタレートフィルムを用いて、
ペンタエリスリトールトリアクリレート ５重量部
ウレタンアクリレートプレポリマー ５重量部
イルガキュアー１８４ ０．５重量部
メチルエチルケトン １０重量部
を攪拌、混合した塗布液を、グラビアコーティング法によりＷＥＴ膜厚６、１６、２４μｍ（乾燥後のＤＲＹ膜厚３、８、１２μｍ）になるように塗布、乾燥させ、高圧水銀灯により１０００ｍＪの紫外線を照射しハードコート層を形成し、光学フィルムを作製した。ハードコート層の屈折率（５５０ｎｍ）は１．５０であった。この光学フィルムの性能評価結果を表１に示す。
＜実験例６＞
基材として厚み８０μｍ、屈折率（５５０ｎｍ）１．４９のトリアセチルセルロースフィルムを用い、溶剤として基材を浸食しないイソプロピルアルコールを用いて，
ペンタエリスリトールトリアクリレート ７．５重量部
酸化ジルコニウム超微粒子 ２．５重量部
イルガキュアー１８４ ０．５重量部
イソプロピルアルコール １０重量部
を攪拌、混合した塗布液を、グラビアコーティング法によりＷＥＴ膜厚６μｍ（乾燥後のＤＲＹ膜厚３μｍ）になるように塗布、乾燥させ、高圧水銀灯により１０００ｍＪの紫外線を照射しハードコート層を形成し、光学フィルムを作製した。ハードコート層の屈折率（５５０ｎｍ）は１．５５であった。この光学フィルムの性能評価結果を表１に示す。

表１，図２および図３から明らかなように、実験例１〜３と６の結果比較において、汎用溶剤により浸食されにくい基材を用いた場合には，屈折率および膜厚を制御することによりハードコート性能は十分な性能を保ちつつも、高透明で干渉縞のない光学フィルムを作製することができる。さらに、表１、図４および図５から明らかなように，実験例４と６の結果比較において、汎用溶剤により浸食されやすい基材を用いた場合には，屈折率の制御および溶剤選定によりハードコート性能は十分な性能を保ちつつも，高透明で干渉縞のない光学フィルムを作製することができる。
＜実験例７＞
実験例１と同様にしてハードコート層を積層した光学フィルムを作成した。次いで，テトラエトキシシランと、フッ化アルキルシランをモル比９５：５で混合し、この溶液の０．２２倍重量の溶媒（２−メトキシエタノール：イソプロピルアルコール＝１：１）により希釈した。この溶液に、前記シランに対し７．５倍モルの１規定塩酸（水重量換算による）を加えて１時間の攪拌により、加水分解してゾル溶液とた。そして，ここに上記の溶媒を加えて、固形分濃度４％としたものを反射防止層の塗工液とした。光学フィルム上に、前記反射防止層の塗工液を硬化膜厚が０．１μｍになるように塗工し、１２０℃で５分間加熱処理を行い、反射防止を単層で積層した光学フィルムを作成した。この光学フィルムを自動分光光度計（日立製作所製、Ｕ−４０００）を用い、入射角５°における分光反射率を測定した。なお、測定の際には塗布面と反対の面をにつや消し黒色塗料を塗布し、反射防止の処置を行った。ハードコート層膜厚１０μｍの分光反射率グラフを図６に示す。
＜実験例８＞
実験例７と同様にしてハードコート層を積層した光学フィルムを作成した。実施例５と同様にして反射防止を単層で積層した光学フィルムを作成した。この光学フィルムを自動分光光度計（日立製作所製、Ｕ−４０００）を用い、入射角５°における分光反射率を測定した。なお、測定の際には塗布面と反対の面をにつや消し黒色塗料を塗布し、反射防止の処置を行った。ハードコート層膜厚８μｍの分光反射率グラフを図７に示す。

図６、７の比較からも明らかなように、反射防止層を積層した場合でも本発明品は光の干渉が起こっておらず、視認性に優れている。また、同じ反射防止層を形成した場合においても，光の干渉が起こっていないため、視感平均反射率は低くなり，反射防止性能が向上していることがわかる。

本発明の実施の一形態に係わる光学フィルムを示す断面図。 実験例２（膜厚１０μｍ）で作成した光学フィルムの分光反射率を示すグラフである。 実験例５（膜厚８μｍ）で作成した光学フィルムの分光反射率を示すグラフである。 実験例４で作成した光学フィルムの分光反射率を示すグラフである。 実験例６で作成した光学フィルムの分光反射率を示すグラフである。 実験例７で作成した反射防止機能付き光学フィルムの分光反射率を示すグラフである。 実験例８で作成した反射防止機能付き光学フィルムの分光反射率を示すグラフである。

符号の説明

１ 透明基材
２ 樹脂
３ ハードコート層
４ 金属酸化物微粒子
５ 反射防止層
６ 光学フィルム

Claims (8)

1. 透明基材の表面にハードコート層を積層してなる光学フィルムにおいて、波長が３６０ｎｍ〜８００ｎｍの可視光線領域における反射スペクトルが極大値を持たないことを特徴とする光学フィルム。
2. 前記透明基材の表面にハードコート層を積層してなる光学フィルムにおいて、波長が３６０ｎｍ〜８００ｎｍの可視光線領域における反射率と波長の関係を示した反射スペクトルの振幅（極大値―極小値の差）が，可視光線領域全域において０．５以下であることを特徴とする光学フィルム。
3. 前記透明基材と前記ハードコート層との屈折率差が４％以内の範囲であることを特徴とする光学フィルム。
4. 前記透明基材が汎用溶剤により浸食されにくい基材であり，かつハードコート層の乾燥膜厚が５〜１５μｍの範囲であることを特徴とする光学フィルム。
5. 前記透明基材が汎用溶剤により浸食されやすい基材であり，かつ基材を溶解または膨潤させる溶剤を用いてハードコート層を積層することを特徴とする光学フィルム。
6. 前記ハードコート層が，微粒子を含むことを特徴とする請求項１〜５のいずれかに記載の光学フィルム。
7. 前記ハードコート層が，紫外線および電子線硬化型樹脂を含むことを特徴とする請求項１〜５のいずれかに記載の光学フィルム。
8. 前記ハードコート層上に反射防止層を設けたことを特徴とする請求項１〜７のいずれかに記載の光学フィルム。

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