【０００１】
【発明の属する技術分野】
本発明は，フイルタから発生するガス状汚染物質を計測する方法に係り，特にクリーンルーム等で稼働しているフイルタのアウトガス（フイルタ由来のガス状汚染物質）を簡易に検出する方法に関する。
【０００２】
【従来の技術】
従来より，半導体製造において，クリーンルームエア中のガス状汚染物質がウェーハ等の表面上に付着して歩留り低下の原因になることが指摘されている。そのうち，高性能フイルタ（ＨＥＰＡフイルタ）や超高性能フイルタ（ＵＬＰＡ）さらにはケミカルフイルタの構成部材に由来するガス状汚染物質が特に問題視されている。
【０００３】
清浄空間を形成するには，これらＨＥＰＡフイルタやＵＬＰＡフイルタが不可欠であるが，これを構成する部材そのものから有害物質が発生し，吹き出される清浄空気に同伴することがある。例えば，フイルタの「ろ材」自身からは炭化水素類，フッ素化合物類，酸化防止剤，脂肪酸類，ボロン化合物などが，フイルタろ材の「スペーサー」からは炭化水素類，酸化防止剤などが，フイルタろ材の「サイドシール」からはトルエン，酸化防止剤などが，「エンドシール」からは炭化水素類，りん酸エステル，ＤＯＰ，脂肪酸類などが，「ガスケット」からは炭化水素類，酸化防止剤などが，発生することがあると言われている。
【０００４】
このようなことから，クリーンルームにおけるガス状汚染物質の評価方法が種々検討されており，クリーンルームを構成する材料とりわけフイルタ構成材料の選定のために，多くのデータが蓄積されつつある。
【０００５】
現実的には，クリーンルームを立ち上げるさいに，或いはクリーンルーム稼働中において，空気中のガス状汚染物質濃度がどの程度であるかを検出（定性・定量）することが必要とされるが，フイルタ由来のガス状汚染物質を測定することは必ずしも容易ではない。
【０００６】
例えば非特許文献１には，ケミカルフイルタを経た空気をＵＬＰＡに供給し，そのフイルタアウトガスをシリコンウェーハに供給する実験装置を組み立て，所定の条件で清浄空気を通気した場合のウェーハへの吸着物質をガスクロマトグラフ−質量分析計（ＧＣ−ＭＳ）などで評価する方法が提案されているが，クリーンルーム環境に見合った測定ではなく，フイルタ材料を実験室に持ち込んで評価するものであり，誰でも行えるというものではない。非特許文献２には，空気入側にケミカルフイルタを備えたチャンバー内に評価部材とウェーハを所定の装填したうえ，チャンバー内を通気することによってウェーハ表面の汚染を観測することにより，実際のクリーンルームでのウェーハの汚染を推定する方法が提案されている。この場合も，現実のクリーンルーム環境風速下でのガス状汚染物質濃度を測定するものではなく，フイルタ部材を実験用チャンバー内にセットするものである。したがって，クリーンルームを立ち上げた際や，稼働中の実際のフイルタからのガス状汚染物質濃度を評価することはできない。
【０００７】
【非特許文献１】野中ほか，第１９回空気清浄とコンタミネーションコントロール研究大会，Ｐ５３〜５５
【非特許文献２】石黒ほか，第１８回空気清浄とコンタミネーションコントロール研究大会，Ｐ１２〜１４
【０００８】
【発明が解決しようとする課題】
したがって本発明の課題は，クリーンルームを立ち上げた際や，クリーンルーム稼働中において，フイルタ（ＨＥＰＡフイルタ，ＵＬＰＡフイルタまたはケミカルフイルタ等）から吹き出されている清浄空気中に同伴するガス状汚染物質濃度を，フイルタごとに，外乱なく且つ実際のクリーンルーム内の風速において，簡易に計測できるようにすることにある。
【０００９】
【課題を解決するための手段】
本発明によれば，前記の課題を解決する方法として，高性能フイルタ，超高性能フイルタまたはケミカルフイルタを経て清浄空間に吹き出されている清浄空気流のうち，測定対象のフイルタから吹き出されている空気流の一部を他のフイルタからの空気流とは隔離してサンプリングし，このサンプリング空気中のガス状汚染物質を検出することからなるフイルタから発生するガス状汚染物質の計測方法を提供する。
【００１０】
そして，本発明によれば，前記の計測方法に使用するチャンバーとして，フイルタの空気吹出側に脱着可能に取付けるチャンバーであって，フイルタの吹出面と直交する壁で囲われ且つ両端が開口した胴部本体と，該胴部本体の一方の開口部に取付けられたフイルタ部材との接続具と，該胴部本体の他方の開口近くに該壁と直交する方向に張り渡された多孔部材と，一方の開口部から該多孔部材に至る間の胴部本体内の空間に空気吸込口をもつように取付けられた空気吸引用チューブとからなる，フイルタから発生するガス状汚染物質計測用チャンバー提供する。このチャンバー内には，シリコンウェーハやガラス基盤等をセットして空気流に暴露し，その表面に付着した汚染物質濃度を検出するという現実に則した測定にも使用できる。
【００１１】
【発明の実施の形態】
本発明は，非特許文献１や２のように，フイルタから発生するアウトガスの試験を実際の環境とは異なった状態で行うのではなく，クリーンルームにセットされたフイルタから実際に空気が吹き出されている状態において，測定対象とするフイルタからの吹出気流（フイルタのアウトガス）を他の気流の影響を受けないように採集してガス状汚染物質の検出（定性・定量）を行ない，また他の気流の影響を受けないようにウェーハやガラス基盤等へのガス状汚染物質の付着の程度を評価するものである。とくに，ファンフイルタユニット（ＦＦＵ）を天井部に配列して，各ＦＦＵから清浄空気流を垂直層流式に吹き出すクリーンルームにあっては，そのＦＦＵごとにそのユニット由来のガス状汚染物質を評価するものである。
【００１２】
図１は，クリーンルーム１の天井部にファンフイルタユニット２（ＦＦＵ）を配置し，天井裏空間の空気を各ＦＦＵ２を経てクリーンルーム１内に吹き出す一般的な垂直層流方式のクリーンルームを示している。このようなＦＦＵ２を用いたクリーンルームにおいて，ＦＦＵ由来のガス状汚染物質を検出するために，本発明においては，まず，ＦＦＵごとにその吹出面にチャンバー３を脱着可能にセットし，このチャンバー３内に流れる空気流の一部をポンプ４で吸引し，その空気流に同伴するガス状汚染物質を例えば捕集剤や吸収液を用いて採集する。
【００１３】
図２は，図１における計測対象の１個のＦＦＵ２の部分を拡大して示したものである。ＦＦＵ２は，フアン５とＨＥＰＡ（またはＵＬＰＡ）フイルタ６を方形のケーシング７内に一体的にセットしたもので，この一体品のＦＦＵ２が天井フレーム枠８の上に載置され，フアン５が稼働されると天井裏空間の空気がケーシング７内に取り入れられ，フイルタ６を経た清浄空気がクリーンルーム内に吹き出される。本発明においては，ＦＦＵ２のフイルタ６の空気吹出側に脱着可能にチャンバー３を取付けるのであるが，このチャンバー３は，フイルタ６の吹出面と直交する壁９で囲われ且つ両端が開口した胴部本体１０と，該胴部本体１０の一方（上方）の開口部に取付けられたフイルタ部材との接続具１１と，該胴部本体１０の他方（下方）の開口近くに該壁９と直交する方向に張り渡された多孔部材１２とからなる。そして，前記の一方（上方）の開口部から多孔部材１２に至る間の胴部本体１０内の空間に空気吸込用開口をもつように取付けられた空気サンプリング用チューブ１４が設置される。
【００１４】
チャンバー３の胴部本体１０は，フイルタ６の一単位とほぼ同等の内部断面積を有しており，これにより，フイルタ６からチャンバー３内に吹き出される清浄空気流は，その壁９によって囲われてはいても，チャンバー３内において，整流を保ちながら他方（下方）の開口部に向けて流れる。接続具１１としては，本例では枠状の金具が用いられている。この枠状金具１１は，ＦＦＵ２を載置する一単位の天井フレーム枠８の方形開口に相当する方形の枠体からなり，この枠体の上縁には，天井フレーム枠８に懸架するフランジ部１５を有している。チャンバー３の接続具は，本例のような枠状金具１１に限られるものではなく，例えば，チャンバー３の壁９の上縁に，直接的に天井フレーム枠８に係止できるフック等を設けてもよい。
【００１５】
多孔部材１２としては，本例ではステンレス鋼線からなるメッシュ１２ａとステンレス鋼板からなるパンチング板１２ｂが用いられている。このような多孔部材１２を設けても，ＦＦＵ２からの清浄空気流に圧損が生じたり層流が大きく乱れたりしないように，その多孔部材１２の開口率は十分に大きなものとしておく。このメッシュ１２ａは，その上にシリコンウェーハやガラス基盤等をセットするのに使用される。これによって，シリコンウェーハやガラス基盤が層流中に暴露されることになり，これに付着する物質の評価を行うことができる。このように外部から各種物品を出し入れできるように，そのチャンバー壁９の一つに開閉扉１７が設けてある。
【００１６】
また，このメッシュ１２ａの上方の空間に流れる清浄空気流中のガス状汚染物質を検出するために，捕集管 （例えばＴｅｎａｘ 等のガス状物質を捕集する捕集剤を装填したもの） １３が，空気吸引用チューブ１４の空気吸込用開口に取付けられる。この捕集管１３は，捕集剤が装填された両端開口の管からなり，その一方の開口から空気吸引用チユーブ１４を経てポンプ４で吸引されることにより，他方の開口から管内に空気が導かれ，管内の捕集剤にガス状汚染物質が捕集される。そのさい，該物質の濃度を計測するには，サンプリングする空気量を測定することが必要となるが，これは通気する空気量を積算流量計１８で計測することができる。
【００１７】
捕集管１３でガス状汚染物質を捕集する方法に代えて，吸収液（超純水など）を収容したインピンジャー１９を用いて捕集することもできる。この場合には，捕集管１３を外し，チューブ１４の開口端をチャンバー内の層流域に開放したうえ，チューブ１４の他端をインピンジャー１９に接続し，さらにポンプ４および積算流量計１８に接続すればよい。これにより，インピンジャー１９内の吸収液がガス状汚染物質が吸収される。このような液体吸収方式は酸性或いは塩基性のガスさらにはボロンやリンを含むガスを捕集するのに適する。ガス状汚染物質を捕集した捕集管１３やインピンジャー１９は分析室に運んで，その物質を分析すればよい。捕集管１３については，ガス状汚染物質の成分毎にその成分を検出できる個別の捕集管等を使用すれば，クリーンルーム現場でその濃度を検出することも可能である。
【００１８】
図面には示されていないが，ＦＦＵ２において，フアン５とフイルタ６との間にケミカルフイルタを設置して，フイルタ６に取り入れられる空気の全てがこのケミカルフイルタを予め経るようにすることができる。具体的には，フイルタ６の空気入側にケミカルフイルタを積層載置して，フイルタ６を通過する空気は全てケミカルフイルタを経たものであるようにするのがよい。このように，ケミカルフイルタをフアン５とフイルタ６との間に介装することにより，ＦＦＵ２のアウトガス中のガス状汚染物質はフイルタ６由来のものであると推定することができる。また，フアン５への空気取入口にケミカルフイルタを介装すれば，ＦＦＵ２のアウトガス中のガス状汚染物質はフアン５とフイルタ６に由来すると推定することができる。
【００１９】
図１〜２の例ではファンフイルタユニット（ＦＦＵ）ごとにチャンバー３を取り付ける態様を示したが，本発明はＦＦＵに限られるものではなく，所望の場所に取付けられたＨＥＰＡフイルタ，ＵＬＰＡフイルタもしくはケミカルフイルタから清浄空気が吹き出されているところであれば，そのフイルタの必要単位ごとにチャンバー３を取付けることによって，ＦＦＵの場合と同様にして吹出空気中のガス状汚染物質の濃度を定量することができる。
【００２０】
チャンバー３内のメッシュ１２ａ の上にウェーハ等をセットし，フイルタから吹き出される清浄空気によってウェーハに付着するガス状汚染物質を検出する場合には，ウェーハ面を吹出気流と平行な方向にチャンバー内にセットできるスタンドを用いるなどして，クリーンルーム内での実際のウェーハの処理環境に近似させるようにセットするのがよい。もちろん，ウェーハに限らず，ガラス基盤その他の部材もチャンバー３内にセットしてそれに付着するガス状汚染物質を検出することができる。
【００２１】
【発明の効果】
以上説明したように，本発明によると，実稼働しているクリーンルームやクリーンベンチにおいて，実際のクリーンルームに近い風速環境下で，フイルタから吹き出されている空気に同伴するガス状汚染物質を原位置で検出（定性・定量）することができる。しかも，その検出（定性・定量）は，併存する他のフイルタからの影響を除外して，フイルタ単位ごとに行うことができ，その操作も簡単である。また，ケミカルフイルタの併用によって，フイルタ由来のガス状汚染物質，或いはフイルタおよびフアン由来のガス状汚染物質を正確に把握することもできる。加えて，ウェーハ等をチャンバー内にセットすることにより，実際の環境に近い状態で，それらに付着するガス状汚染物質を検出（定性・定量）することができる。
【図面の簡単な説明】
【図１】クリーンルームのファンフイルタユニット（ＦＦＵ）に対して本発明を適用する例を示す略断面図である。
【図２】図１のＦＦＵに対して本発明を適用する状態を示した拡大略断面図である。
【符号の説明】
１ クリーンルーム
２ ファンフイルタユニット（ＦＦＵ）
３ チャンバー
４ ポンプ
５ フアン
６ ＨＥＰＡフイルタまたはＵＬＰＡフイルタ
７ ケーシング
８ 天井フレーム枠
９ チャンバーの壁
１０ チャンバーの胴部本体
１１ 接続具
１２ 多孔部材（メッシュ１２ａ，パンチング板１２ｂ）
１３ 捕集管
１４ 空気吸引用チューブ
１５ フランジ部
１７ 開閉扉
１８ 積算流量計
１９ インピンジャー[0001]
TECHNICAL FIELD OF THE INVENTION
The present invention relates to a method for measuring gaseous pollutants generated from a filter, and more particularly to a method for easily detecting outgas (a gaseous pollutant derived from a filter) of a filter operating in a clean room or the like.
[0002]
[Prior art]
It has been pointed out that in semiconductor manufacturing, gaseous contaminants in clean room air adhere to the surface of a wafer or the like and cause a reduction in yield. Among them, gaseous contaminants derived from components of high-performance filters (HEPA filters), ultra-high-performance filters (ULPA), and chemical filters are particularly problematic.
[0003]
In order to form a clean space, these HEPA filters and ULPA filters are indispensable. However, harmful substances are generated from members constituting the HEPA filters and ULPA filters, and may be accompanied by the blown clean air. For example, hydrocarbons, fluorine compounds, antioxidants, fatty acids, boron compounds, etc. are obtained from the filter media, and hydrocarbons, antioxidants, etc. are obtained from the filter media spacers. Toluene, antioxidants, etc. from the "side seal", hydrocarbons, phosphates, DOP, fatty acids, etc. from the "end seal", and hydrocarbons, antioxidants, etc. from the "gasket". , It is said that it may occur.
[0004]
For this reason, various methods of evaluating gaseous pollutants in a clean room have been studied, and a lot of data is being accumulated for selection of a material constituting the clean room, especially a filter constituent material.
[0005]
In reality, it is necessary to detect (qualitatively and quantitatively) the concentration of gaseous pollutants in the air when starting up the clean room or during operation of the clean room. It is not always easy to measure gaseous pollutants.
[0006]
For example, in Non-Patent Document 1, an experimental apparatus for supplying air passing through a chemical filter to ULPA and supplying the filter out gas to a silicon wafer is assembled, and adsorbed substances on the wafer when clean air is ventilated under predetermined conditions. A method of evaluating with a gas chromatograph-mass spectrometer (GC-MS) has been proposed, but it is not a measurement suitable for a clean room environment, but a filter material is brought into a laboratory and evaluated. Not something. Non-Patent Document 2 discloses that an evaluation member and a wafer are loaded in a chamber provided with a chemical filter on the air inlet side, and that contamination of the wafer surface is observed by ventilating the chamber, thereby realizing an actual clean room. A method has been proposed for estimating the contamination of a wafer in the US. In this case, too, the filter member is set in an experimental chamber instead of measuring the concentration of gaseous pollutants under the wind speed of an actual clean room environment. Therefore, it is not possible to evaluate the concentration of gaseous pollutants from the start of a clean room or from an actual filter in operation.
[0007]
[Non-Patent Document 1] Nonaka et al., 19th Air Purification and Contamination Control Research Conference, P53-55
[Non-Patent Document 2] Ishiguro et al., 18th Air Purification and Contamination Control Research Conference, P12-14
[0008]
[Problems to be solved by the invention]
Therefore, an object of the present invention is to reduce the concentration of gaseous pollutants accompanying clean air blown from a filter (such as a HEPA filter, ULPA filter, or a chemical filter) when a clean room is started or during operation of the clean room. An object of the present invention is to easily measure the wind speed in a clean room without any disturbance for each filter.
[0009]
[Means for Solving the Problems]
According to the present invention, as a method for solving the above-mentioned problem, of a clean air flow blown into a clean space via a high-performance filter, an ultra-high-performance filter, or a chemical filter, the clean air flow is blown from a filter to be measured. Provided is a method for measuring gaseous pollutants generated from a filter, which comprises sampling a part of an airflow separately from an airflow from another filter and detecting the gaseous pollutants in the sampled air. .
[0010]
According to the present invention, as a chamber used in the above-mentioned measuring method, a chamber detachably mounted on the air blowing side of the filter, wherein the chamber is surrounded by a wall orthogonal to the blowing surface of the filter and has both ends opened. A connector for connecting the main body, a filter member attached to one opening of the body main body, a porous member extending in a direction orthogonal to the wall near the other opening of the body main body, Provided is a chamber for measuring gaseous pollutants generated from a filter, comprising: an air suction tube attached to a space in a body main body between one opening and the porous member so as to have an air suction port. . In this chamber, a silicon wafer, a glass substrate, or the like is set and exposed to an air stream, and the measurement can be used for a measurement based on the reality of detecting the concentration of contaminants attached to the surface.
[0011]
BEST MODE FOR CARRYING OUT THE INVENTION
According to the present invention, as in Non-Patent Documents 1 and 2, a test for outgas generated from a filter is not performed in a state different from an actual environment, but air is actually blown from a filter set in a clean room. In this condition, the airflow from the filter to be measured (filter outgas) is collected so as not to be affected by other airflows, and gaseous pollutants are detected (qualitative / quantitative). This is to evaluate the degree of adhesion of gaseous contaminants to wafers, glass substrates, and the like so as not to be affected by the above. In particular, in a clean room in which a fan filter unit (FFU) is arranged on the ceiling and a clean laminar flow is blown out from each FFU in a vertical laminar flow type, gaseous pollutants derived from the unit are evaluated for each FFU. Things.
[0012]
FIG. 1 shows a general vertical laminar flow type clean room in which a fan filter unit 2 (FFU) is arranged on the ceiling of a clean room 1 and air in the space above the ceiling is blown into the clean room 1 through each FFU 2. In order to detect gaseous pollutants derived from FFU in a clean room using such an FFU 2, in the present invention, first, a chamber 3 is set to be detachable from its blowing surface for each FFU. A part of the airflow flowing through the airflow is sucked by the pump 4, and gaseous pollutants accompanying the airflow are collected using, for example, a collecting agent or an absorbing solution.
[0013]
FIG. 2 is an enlarged view of a portion of one FFU 2 to be measured in FIG. The FFU 2 has a fan 5 and a HEPA (or ULPA) filter 6 set integrally in a rectangular casing 7, and the integrated FFU 2 is placed on a ceiling frame 8, and the fan 5 is operated. Then, the air in the space above the ceiling is taken into the casing 7, and the clean air that has passed through the filter 6 is blown into the clean room. In the present invention, the chamber 3 is detachably mounted on the air blow-out side of the filter 6 of the FFU 2, and this chamber 3 is surrounded by a wall 9 orthogonal to the blow-out surface of the filter 6 and has a body portion open at both ends. A connector 11 for connecting the main body 10 and a filter member attached to one (upper) opening of the body main body 10, and orthogonal to the wall 9 near the other (lower) opening of the body main body 10. And a porous member 12 stretched in the direction. An air sampling tube 14 is installed in the space in the body 10 between the one (upper) opening and the porous member 12 so as to have an air suction opening.
[0014]
The body main body 10 of the chamber 3 has an internal cross-sectional area substantially equal to one unit of the filter 6, whereby the clean air flow blown into the chamber 3 from the filter 6 is surrounded by the wall 9. Even though it flows, it flows toward the other (lower) opening in the chamber 3 while maintaining rectification. In this example, a frame-shaped metal fitting is used as the connecting tool 11. The frame-shaped fitting 11 is formed of a rectangular frame corresponding to a rectangular opening of a unit ceiling frame 8 on which the FFU 2 is mounted, and a flange portion suspended from the ceiling frame 8 is provided on an upper edge of the frame. 15. The connection tool of the chamber 3 is not limited to the frame-shaped metal fitting 11 as in the present embodiment. For example, a hook or the like that can be directly locked to the ceiling frame 8 is provided on the upper edge of the wall 9 of the chamber 3. May be.
[0015]
As the porous member 12, in this example, a mesh 12a made of a stainless steel wire and a punched plate 12b made of a stainless steel plate are used. Even if such a porous member 12 is provided, the aperture ratio of the porous member 12 is set to be sufficiently large so that a pressure loss does not occur in the clean air flow from the FFU 2 and the laminar flow is not significantly disturbed. The mesh 12a is used for setting a silicon wafer, a glass substrate, and the like thereon. As a result, the silicon wafer and the glass substrate are exposed in the laminar flow, and the substance adhering thereto can be evaluated. An opening / closing door 17 is provided on one of the chamber walls 9 so that various articles can be taken in and out from the outside.
[0016]
Further, in order to detect gaseous pollutants in the clean air flow flowing in the space above the mesh 12a, a collecting tube (for example, one loaded with a collecting agent for collecting gaseous substances such as Tenax) 13 Is attached to the air suction opening of the air suction tube 14. The collecting tube 13 is formed of a tube having both ends opened and loaded with a collecting agent, and one of the openings is suctioned by the pump 4 through an air suction tube 14, so that air is injected into the tube from the other opening. It is guided and gaseous pollutants are collected by the collecting agent in the pipe. At that time, in order to measure the concentration of the substance, it is necessary to measure the amount of air to be sampled. The amount of air to be ventilated can be measured by the integrating flow meter 18.
[0017]
Instead of the method of collecting gaseous pollutants by the collection pipe 13, the gaseous pollutants can be collected by using an impinger 19 containing an absorbing liquid (ultra pure water or the like). In this case, the collection tube 13 is removed, the open end of the tube 14 is opened to the laminar flow region in the chamber, and the other end of the tube 14 is connected to the impinger 19, and further connected to the pump 4 and the integrating flow meter 18. Just connect. As a result, the absorbing liquid in the impinger 19 absorbs gaseous pollutants. Such a liquid absorption method is suitable for collecting an acidic or basic gas and a gas containing boron or phosphorus. The collection tube 13 and the impinger 19 that have collected the gaseous pollutant may be transported to an analysis room to analyze the substance. As for the collection tube 13, if an individual collection tube or the like capable of detecting each component of the gaseous pollutant is used, the concentration can be detected at the clean room site.
[0018]
Although not shown in the drawing, a chemical filter can be installed between the fan 5 and the filter 6 in the FFU 2 so that all the air taken into the filter 6 passes through the chemical filter in advance. Specifically, it is preferable that a chemical filter is stacked and mounted on the air inlet side of the filter 6 so that all the air passing through the filter 6 has passed through the chemical filter. Thus, by interposing the chemical filter between the fan 5 and the filter 6, it can be estimated that the gaseous pollutants in the outgas of the FFU 2 are derived from the filter 6. If a chemical filter is interposed at the air inlet to the fan 5, it can be estimated that the gaseous pollutants in the outgas of the FFU 2 originate from the fan 5 and the filter 6.
[0019]
In the examples of FIGS. 1 and 2, the mode in which the chamber 3 is attached to each fan filter unit (FFU) is shown. However, the present invention is not limited to the FFU, and the HEPA filter, ULPA filter, or chemical attached to a desired place If clean air is blown from the filter, the concentration of gaseous pollutants in the blown air can be determined in the same manner as in the case of FFU by installing the chamber 3 for each required unit of the filter. .
[0020]
When a wafer or the like is set on the mesh 12a in the chamber 3 and gaseous contaminants adhering to the wafer are detected by the clean air blown from the filter, the wafer surface is moved in the chamber in a direction parallel to the blown air flow. For example, it is preferable to use a stand that can be set in such a way as to approximate the actual wafer processing environment in the clean room. Of course, not only wafers but also glass substrates and other members can be set in the chamber 3 to detect gaseous contaminants adhering thereto.
[0021]
【The invention's effect】
As described above, according to the present invention, in a clean room or a clean bench in operation, gaseous pollutants entrained in the air blown from the filter are in situ under a wind speed environment close to the actual clean room. It can be detected (qualitative and quantitative). In addition, the detection (qualitative / quantitative) can be performed for each filter, excluding the influence from other coexisting filters, and the operation is simple. Further, by using a chemical filter in combination, gaseous pollutants originating from the filter or gaseous pollutants originating from the filter and the fan can be accurately grasped. In addition, by setting a wafer or the like in the chamber, it is possible to detect (qualitatively / quantitatively) gaseous contaminants adhering thereto in a state close to the actual environment.
[Brief description of the drawings]
FIG. 1 is a schematic sectional view showing an example in which the present invention is applied to a fan filter unit (FFU) of a clean room.
FIG. 2 is an enlarged schematic cross-sectional view showing a state in which the present invention is applied to the FFU of FIG.
[Explanation of symbols]
1 Clean room 2 Fan filter unit (FFU)
Reference Signs List 3 chamber 4 pump 5 fan 6 HEPA filter or ULPA filter 7 casing 8 ceiling frame 9 chamber wall 10 chamber body 11 connector 12 porous member (mesh 12a, punching plate 12b)
13 Collection Tube 14 Air Suction Tube 15 Flange 17 Opening / Closing Door 18 Integrated Flow Meter 19 Impinger
