JP2004249675A - Surface pattern structure and its manufacturing method - Google Patents
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Abstract
Description
【0001】
【発明の属する技術分野】
本発明は、基材表面に付与する表面模様構造に関し、詳しくは積層する樹脂の表面張力差を利用して模様を形成してなる表面模様構造及びその製造方法に関する。
【0002】
【従来の技術】
樹脂の表面張力差やハジキ現象等を利用して基材表面に模様を形成する方法に関しては、従来次のような方法が開示されている。
【0003】
特許文献1は、フタル酸ジエステルを配合した印刷インキを基材の特定部分にのみ印刷し、更に不飽和ポリエステルを塗布し、フタル酸ジエステルと不飽和ポリエステルとのハジキ現象を利用して印刷部分に凹部を形成する方法を開示している。
【0004】
特許文献2は、表面基材上に塗装面を模様状に形成し、これら塗装面を含む表面基材上に電子線硬化型塗料又は光硬化型塗料を塗布して、濡れ易い部分を陥没させ、濡れ難い部分を***させ、電子線又は光を照射して凹凸面を形成する方法を開示している。
【0005】
また、特許文献3は、素材上に下塗りインキ又はクリアー塗料を塗設し、該下塗りインキ又はクリアー塗料上に、電子線又は紫外線硬化型クリアー塗料からなる上塗り塗料を塗設して印刷塗工物を形成する方法において、下塗りインキ又はクリアー塗料の表面張力を上塗り塗料の表面張力より小さく設定することにより、上塗り塗料を硬化せしめて前記インキ又はクリアー塗料を塗設した部分に凹凸模様を形成する表面加工印刷塗工物の形成方法を開示している。
【0006】
【特許文献1】
特開昭48−58068号
【特許文献2】
特公昭51−26937号
【特許文献3】
特開平6−278354号
【0007】
【発明が解決しようとする課題】
本発明は、基材表面に積層する樹脂の表面張力差を利用して樹脂表面に模様を形成する方法に新たな工夫を加え、従来存在しなかった表面模様構造、特に樹脂成形体、中でも透明樹脂成形体に優れた意匠を付与する表面模様構造及びその製造方法を提供せんとする。
【0008】
【課題を解決するための手段】
本発明は、透明樹脂からなる基材表面上に下地形成樹脂が部分的に積層され、当該基材表面上に、下地形成樹脂積層部と平面に見てこの下地形成樹脂積層部に囲まれた下地形成樹脂非積層部とを備え、
前記下地形成樹脂積層部上に模様形成樹脂が積層され、当該模様形成樹脂の表面は微細凹凸したエンボス面部とされ、
前記下地形成樹脂非積層部は、基材表面が露出した抜窓部とされた構成を備えた表面模様構造を提案する。
【0009】
かかる表面模様構造において、エンボス面部はマット面すなわち艶消し面とすることができ、これに囲まれる抜窓部と、艶、ヘーズ(光透過度)、光反射率などを含めた見た目において大きなコントラストをつけることができ、抜窓部の大きさ、形状、配置等を各種変更することによって従来存在しなかった新たな表面模様を形成することができ、例えば化粧品等を包装する包装用成形体などデザインが重視される容器や包装用成形体などに好適に利用することができる。
【0010】
上記の表面模様構造において、模様形成樹脂の表面をエンボス面部とする方法としては、下地形成樹脂と模様形成樹脂とのハジキ現象を利用して樹脂表面を凹凸とする方法、下地形成樹脂と模様形成樹脂との表面張力の差を利用して樹脂表面を凹凸とする方法、模様形成樹脂にちぢみインキを用いる方法、複数種類の下地形成樹脂と模様形成樹脂との濡れ易さの違いにより凹凸を形成する方法、表面に微細凹凸面を備えた賦型フィルム、メッキ板或いはエンボスロールを基材表面に加圧して樹脂表面に凹凸を付する方法など、従来公知の各種方法を採用することが可能であり特に制限するものではないが、本発明は、下地形成樹脂と模様形成樹脂との表面張力差によって基材表面上にエンボス面部を形成する方法をより好ましいと考え、次のような製造方法を提案する。
【0011】
即ち、本発明は、透明樹脂からなる基材表面上に、凸版印刷によって下地形成樹脂を部分的に積層させて、当該基材表面上に下地形成樹脂積層部と平面に見てこの下地形成樹脂積層部に囲まれた下地形成樹脂非積層部とを形成し、
当該下地形成樹脂積層部上に、下地形成樹脂よりも表面張力の高い模様形成樹脂を凸版印刷によって積層させ、必要に応じて模様形成樹脂に対する硬化処理を行い、当該模様形成樹脂の表面を微細凹凸させてエンボス面部とし、
前記下地形成樹脂非積層部は、基材表面が露出した抜窓部とすることを特徴とする表面模様構造の製造方法を提案する。
【0012】
このような製造方法によれば、下地形成樹脂非積層部(すなわち下地形成樹脂を積層しないで残す部分)を所望の形状に残すようにして下地形成樹脂を基材表面上に積層し、その上に模様形成樹脂をほぼ均一に塗布し、必要に応じて模様形成樹脂硬化処理を行うだけで、エンボス面部内にそれとはコントラストの大きな透明な抜窓部を形成することができ、しかも、下地形成樹脂非積層部の形状を変化させることで基材表面の模様を自在にデザインすることができ、また、下地形成樹脂と模様形成樹脂との表面張力差を種々変化させることでエンボス面部の微細凹凸の大きさ及び形状等を自在に変えることができる。
【0013】
なお、本発明において「透明樹脂」とは無色透明及び有色透明の樹脂のいずれも包含する意である。
【0014】
【発明の実施の形態】
以下、本発明の実施形態について説明する。
なお、本実施形態では、下地形成樹脂と模様形成樹脂との表面張力差を利用する実施形態について説明するが、本発明がそれに制限されるものではない。
【0015】
本実施形態の一例に係る表面模様構造10は、図1及び図2に示すように、基材1の表面上に下地形成樹脂2を部分的に(すなわち、基材1の全面ではない部分内に、部分的に非積層部2Bを残して)積層し、基材1表面上に、下地形成樹脂積層部2Aと、平面に見てこの下地形成樹脂積層部2Aに囲まれた下地形成樹脂非積層部2Bとを形成し、当該下地形成樹脂積層部2A上には模様形成樹脂3を積層して、この模様形成樹脂3の表面、即ち模様形成樹脂積層部3Aの表面を微細凹凸したエンボス面部4とし、下地形成樹脂非積層部2Bは基材1表面が露出した抜窓部5とし、基材1の表面全体で見ると、エンボス面部4内に囲まれて所望の絵柄や文字等を呈する抜窓部5が配置された構成となっている。
【0016】
かかる構成を備えた表面模様構造10において、エンボス面部4の平均表面粗さ(Ra)は0.5〜50μm(10点の実測値1.9〜3.5μm)が好ましく、十点平均粗さ(Rz)は0.5〜50μm(10点の実測値12〜22μm)が好ましく、最大高さ(Rmax)は2〜50μm(10点の実測値14〜27.5μm)が好ましく、山数(Pc)は2〜50μm(10点の実測値16〜32μm)が好ましい(以上の数値は、いずれも触針2μm、荷重70mgにて測定した場合の値)。
また、エンボス面部4のJIS K−7105による鏡面光沢度(60°×60°)は1〜80(10点の実測値14〜59)が好ましく、JIS K−7105による45°光線反射率(全反射)は1〜50%(10点の実測値6.2〜21.0%)が好ましく、JIS K−7105による45°光線反射率(拡散反射)は1〜50%(10点の実測値4.9〜17.8%)が好ましく、JISK−7105による光線透過率(全透過)は5〜98%(10点の実測値16.5〜90.4%)が好ましく、JIS K−7105による光線透過率(拡散透過)は1〜80%(10点の実測値7.0〜35.7%)が好ましく、JISK−7105によるヘーズは10〜90%(10点の実測値25.6〜43.0%)が好ましい。
【0017】
また、表面模様構造10において、図3に示すように、下地形成樹脂非積層部2Bを囲む縁に沿って模様形成樹脂3を積層しない模様形成樹脂非積層部3Bを下地形成樹脂積層部2A上に僅かな幅をもって形成するのが好ましい。このような模様形成樹脂非積層部3Bを形成することで、抜窓部5を縁どることができ、エンボス面部4と抜窓部5とのコントラストをより一層綺麗に見せることができる。
この際、模様形成樹脂非積層部3Bの幅は、特に限定するものはないが、0.1mm〜1mm程度とするのが好ましい。また、この模様形成樹脂非積層部3Bを形成する場合には、下地形成樹脂2として透明樹脂を使用するのが好ましい。
【0018】
また、図3に示すように、下地形成樹脂非積層部2Bを囲む下地形成樹脂積層部2Aの縁2Aaを、その内側部分よりも高く形成するのが好ましい。この際、縁2Aaを他の部分よりもどの位高くするかについて特に限定するものはないが、0.2〜20μm程度とするのが好ましい。
また、下地形成樹脂非積層部2Bを囲む模様形成樹脂積層部3Aの縁3Aaを、その内側部よりも高く形成するのが好ましい。この際、縁3Aaを他の部分よりもどの位高くするかについて特に限定するものはないが、0.2〜20μm程度とするのが好ましい。
下地形成樹脂積層部2Aの縁2Aa或いは模様形成樹脂積層部3Aの縁3Aaを、その内側部よりも高く形成することによりエンボス面部4と抜窓部5とのコントラストをより一層綺麗に見せることができる。
【0019】
また、下地形成樹脂非積層部2Bを囲む模様形成樹脂積層部3Aの縁3Aaを、その内側部よりも色濃くすることによって、エンボス面部4と抜窓部5とのコントラストをより一層明確にすることもできる。
【0020】
なお、エンボス面部4、或いは抜窓部5上に保護層などを積層することは可能である。また、基材1の裏面の構造は任意である。
【0021】
基材1は、透明な樹脂であれば特にその種類を問うものではない。例えば、ポリエチレンテレフタレート、ポリプロピレン、ポリエチレン、ポリアクリル酸エステル、ポリエーテルケトン、ポリイミド、ポリカーボネート、ポリスルホン、ポリスチレン、ポリエーテル、ポリ乳酸、その他の非晶質樹脂からなる透明なシート乃至フィルムを挙げることができる。中でも、成形性や耐折性などの点を考慮すると、ポリエチレンテレフタレート、ポリプロピレン、ポリスチレンなどが好ましく、その中でも特に透明性及び剛性等の点からポリエチレンテレフタレート(PET)、例えばアモルファスPET(「A−PET」とも言う。)などが好ましい。
【0022】
基材1の表面は、フレーム処理、コロナ放電処理、薬品処理、プライマー処理等の表面処理を行い、下地形成樹脂2や模様形成樹脂3との付着性を高めるようにしてもよい。
【0023】
下地形成樹脂2及び模様形成樹脂3は、両者のJIS K−6768による表面張力の差が10μN/cm以上、好ましくは20μN/cm以上、中でも特に40μN/cm以上とするのが好ましい。この際の上限値は、現在の技術水準においては現実的には400μN/cm程度が上限であるが、理論的には上限値を定めるものではない。
表面張力差が10μN/cm以上であれば、下地形成樹脂2上に模様形成樹脂3を均一に塗布するだけで自然にその表面を好適なエンボス面とすることができる。
【0024】
下地形成樹脂2のJIS K−6768による表面張力は、320μN/cm以下、中でも300μN/cm以下であるのが好ましい。この際の下限値は、現在の技術水準においては現実的には200μN/cm程度が下限であるが、理論的には下限値を定めるものではない。
また、下地形成樹脂2の接触角は70〜90°、中でも特に75〜90°であるのが好ましい。
【0025】
下地形成樹脂2としては、基材1に付着可能であればその種類を限定するものではないが、透明樹脂を用いるのが好ましい。例えば、アクリル酸及びそのエステル,メタアクリル酸及びそのエステル,スチレン,エチレン,酢酸ビニール,塩化ビニール等のモノマーの少なくとも一種類以上を重合した樹脂、塩素化ポリプロピレン樹脂,塩化ゴム,飽和ポリエステル樹脂を単独又は2〜4種類混合したものをトルエン,キシレン,酢酸エチル,酢酸メチル,酢酸nプロピル,酢酸イソプロピル,酢酸ブチル,酢酸イソブチル,アセトン,キシレン,酢酸メチル,イソプロピルアルコール,エタノール等の溶剤に溶解した樹脂(ワニス)、水及びアルコールを単独又は混合した溶媒に溶解又は分散した樹脂(ワニス)に炭化水素化合物,シリコーン化合物,フッ素化合物等の撥油剤を添加した樹脂などを挙げることができる。中でも、基材表面に光沢を付与したり、耐磨耗性を向上させたりする等の目的で一般的に使用されているオーバープリントニス(OPニス)が好ましい。
【0026】
下地形成樹脂積層部2Aにおける下地形成樹脂2の厚さは、特に制限するものではないが、一般的には0.2〜20μmとするのが好ましい。
【0027】
他方、模様形成樹脂3は、上記下地形成樹脂2よりも表面張力が大きい樹脂であることが必要であり、JIS K−6768による表面張力が、240μN/cm以上、中でも300μN/cm以上であるのが好ましい。この際の上限値は、現在の技術水準においては現実的には200μN/cm程度が下限であるが、理論的には上限値を定めるものではない。
また、模様形成樹脂3の接触角は10〜85°、中でも特に30〜80°であるのが好ましい。
なお、表面張力の調整は、シリコン系やアクリル系などの表面調整剤を使うこによっても行なうことができる。
模様形成樹脂3の厚さは、特に制限するものではないが、一般的には0.2〜20μmとするのが好ましい。
【0028】
模様形成樹脂3として用いる樹脂は、上記の表面張力を備えたものであればよいが、製造効率などの点からエネルギー線硬化型樹脂、すなわち、分子を重合乃至架橋し得るエネルギー量子を有する電磁波又は荷電粒子線、例えば可視光線、紫外線(近紫外線、真空紫外線等)X線、電子線、イオン線等の照射によって硬化し得る樹脂を好ましく用いることができる。
【0029】
下地形成樹脂2及び模様形成樹脂3ともに、本発明の目的を阻害しない限り、通常使用されるその他の各種添加剤を配合することは任意である。
【0030】
(製造方法)
以下、表面模様構造10の製造方法について説明する。
【0031】
先ず、基材1の表面内に、積層しない部分(非積層部2B)を残すように部分的に下地形成樹脂2を積層し、下地形成樹脂2を積層しない部分(非積層部2B)を下地形成樹脂積層部2Aで囲むようにする。
この際、下地形成樹脂非積層部2Bを囲む下地形成樹脂積層部2Aの縁2Aaを、その内側部分よりも高くするのが好ましい。
【0032】
下地形成樹脂2を積層する方法としては、それぞれを押出成形する方法、下地形成樹脂2からなるフィルムを圧着ラミネートする方法、下地形成樹脂2を塗工する方法など様々な方法を採用することができるが、所定の非積層部2Bを残しながら下地形成樹脂2を積層する点を考慮すると、下地形成樹脂2を塗工する方法が好適である。具体的には、グラビアコート、グラビアリバースコート、グラビアオフセットコート、メイヤーバーコート、エアーナイフコート、スピンナーコート、ロールコート、リバースロールコート、キスコート、ホイラーコート、シルクスクリーンによるベタコート、フローコート、スプレーコート等の公知の塗工手段を用いることができるが、中でも、所定形状の転写部を備えたロールを用いて樹脂を塗工する方法が好適である。
また、下地形成樹脂積層部2Aの縁2Aaをその内側部分よりも高くすることを考慮すると、平圧式凸版印刷或いは輪転式凸版印刷で塗工するのが好ましい。
【0033】
次に、下地形成樹脂積層部2A上に、下地形成樹脂2よりも表面張力の高い模様形成樹脂3をほぼ均一に塗布し、所定時間経過後必要に応じて模様形成樹脂硬化処理を行う。これによって模様形成樹脂積層部3Aの表面は自然に微細凹凸したエンボス面部4となる。
この際、模様形成樹脂3は、0.2〜20μmの厚さに塗布するのが好ましい。
また、下地形成樹脂非積層部2Bを囲む縁に沿って下地形成樹脂積層部2A上に適宜幅の模様形成樹脂非積層部3Bを形成するようにするのが好ましい。
さらにまた、下地形成樹脂非積層部2Bを囲む模様形成樹脂積層部3Aの縁3Aaを、その内側部よりも高くするのが好ましい。
【0034】
模様形成樹脂3を塗布する方法としては、下地形成樹脂2の塗工方法として挙げられた方法を採用することができ、同じように下地形成樹脂非積層部2Bを囲む模様形成樹脂積層部3Aの縁3Aaをその内側部よりも高くすることを考慮すると、平圧式凸版印刷或いは輪転式凸版印刷で塗工するのが好ましい。
【0035】
なお、模様形成樹脂3は、下地形成樹脂2を充分に乾燥させた後塗布するようにしてもよいし、また、乾燥しないうちに塗布するようにしてもよい。
【0036】
必要に応じて行う模様形成樹脂硬化処理は、模様形成樹脂3としてエネルギー線硬化型樹脂を用いる場合は、紫外線、γ線などのエネルギー線を照射可能な装置を用いてそれらを照射するようにすればよい。
【0037】
このような方法によって表面模様構造を製造すれば、基材1上に非積層部2Bを残しながら下地形成樹脂2を積層し、その上に模様形成樹脂3をほぼ均一に塗布し、必要に応じて模様形成樹脂硬化処理を行うだけで、下地形成樹脂積層部2Aの模様形成樹脂表面を微細凹凸したエンボス面部4とし、下地形成樹脂非積層部2Bを抜窓部5とすることができる。
しかも、下地形成樹脂積層部2A或いは下地形成樹脂非積層部2Bの形状を変化させることで自在に表面模様をデザインすることができ、また、下地形成樹脂2と模様形成樹脂3の表面張力差を種々変化させることでエンボス面部4の微細凹凸の大きさ及び形状を変化させてその風合い等を変化させることができる。
【0038】
【実施例】
厚さ0.3mmのアモルファスPET(「A−PET」ヘーズ0.8%)の表面に、図1及び図2に示すように、所定の絵柄若しくは文字等(図では「ABC」の輪郭)を残すように(すなわち非積層部2Bを形成するように)、下地形成樹脂としてOPニス(アクリル酸プレポリマー及びアクリル酸オリゴマーを含有するOPニス;大日本インキ化学工業製 ダイキュアRT−8、JIS K−6768による表面張力300μN/cm以下、接触角85°)を厚さ1μmで塗工して下地形成樹脂積層部2Aを形成し、該下地形成樹脂積層部2A上に紫外線硬化樹脂インキ(アクリル酸プレポリマー及びアクリル酸オリゴマーを含有する紫外線硬化樹脂インキ;大日本インキ化学工業製 ダイキュアクリア UV−1601EM、JIS K−6768による表面張力340μN/cm、接触角74°)を略均一に厚さ3μmに塗布し、塗布後20mmSEC後に紫外線照射装置で紫外線照射して模様付シートを得た。
【0039】
得られた模様付シートの表面は、図1の如く、エンボス面部4内に囲まれた透明な抜窓部5(図の「ABC」の輪郭)を備えている。
そのエンボス面部4は、平均表面粗さRa3.5μm、光沢度(60°)24、表面の60°グロス値24、光線透過率16.5%、ヘーズ42.3%、光線反射率6.2%であった。
【0040】
なお、本発明(実施例含む)において、鏡面光沢度は、JIS K−7105に従い、デジタル変角光度計(光源:標準光C)を用いて、標準光をワークの入射角60°の方向から照射し、反射角60°の方向で首記装置で反射した光を測定した値である。
本発明(実施例含む)において、表面粗さ(Ra、Rz、Rmax及びPc)は、JIS−B0651に規定の触針式表面粗さ測定器を用い、触針2μm、荷重70mg、測定長8mmで測定した場合の値である。
本発明(実施例含む)において、接触角は、接触角計を使用し、試験液として蒸留水を用いて、滴下後30秒後の値を測定した値である。
本発明(実施例含む)において、光線透過率(全透過、拡散透過及びヘーズ)は、JIS K−7105に従い、ヘーズメータを使用して測定した値である。
【図面の簡単な説明】
【図1】本発明の一実施形態の一例に係る表面模様構造を備えたシート体を示した斜視図である。
【図2】本発明の一実施形態の一例に係る表面模様構造を備えたシート体の要部の一部断面斜視図である。
【図3】本発明の一実施形態の一例に係る表面模様構造を備えたシート体の要部の断面図である。
【符号の説明】
1 基材
2 下地形成樹脂
2A 下地形成樹脂積層部
2Aa 縁
2B 下地形成樹脂非積層部
3 模様形成樹脂
3A 模様形成樹脂積層部
3Aa 縁
3B 模様形成樹脂非積層部
4 エンボス面部
5 抜窓部
10 表面模様構造[0001]
TECHNICAL FIELD OF THE INVENTION
The present invention relates to a surface pattern structure provided on a substrate surface, and more particularly, to a surface pattern structure formed by using a difference in surface tension of a resin to be laminated, and a method for manufacturing the same.
[0002]
[Prior art]
With respect to a method of forming a pattern on the surface of a base material using a difference in surface tension of a resin, a repelling phenomenon, or the like, the following methods have conventionally been disclosed.
[0003]
[0004]
[0005]
Further,
[0006]
[Patent Document 1]
JP-A-48-58068 [Patent Document 2]
JP-B-51-26937 [Patent Document 3]
JP-A-6-278354
[Problems to be solved by the invention]
The present invention provides a new method for forming a pattern on a resin surface by utilizing a difference in surface tension of a resin laminated on a substrate surface, and a surface pattern structure that has not existed conventionally, particularly a resin molded body, especially transparent. An object of the present invention is to provide a surface pattern structure that gives an excellent design to a resin molded product and a method for producing the same.
[0008]
[Means for Solving the Problems]
According to the present invention, the base forming resin is partially laminated on the surface of the base made of a transparent resin, and is surrounded by the base forming resin laminated portion and the base forming resin laminated portion as viewed in plan on the base material surface. An underlayer forming resin non-laminated portion,
A pattern forming resin is laminated on the base forming resin laminated portion, and the surface of the pattern forming resin is an embossed surface portion having fine irregularities,
The present invention proposes a surface pattern structure in which the base-forming resin non-laminated portion has a configuration in which the base material surface is an exposed window portion.
[0009]
In such a textured structure, the embossed surface portion can be a matte surface, that is, a matte surface, and has a large contrast in appearance between the window portion surrounded by the embossed surface portion and gloss, haze (light transmittance), light reflectance, and the like. By changing the size, shape, arrangement, etc. of the window section, it is possible to form a new surface pattern that did not exist conventionally, for example, a molded article for packaging cosmetics etc. It can be suitably used for a container or a molded package for which design is important.
[0010]
In the above surface pattern structure, as a method of making the surface of the pattern forming resin an embossed surface portion, a method of making the resin surface uneven by utilizing the repelling phenomenon between the base forming resin and the pattern forming resin, Method of making the resin surface uneven by utilizing the difference in surface tension with the resin, Method of using the ink for the pattern forming resin, Forming the unevenness due to the difference in wettability between the plural types of base forming resin and the pattern forming resin It is possible to adopt various conventionally known methods, such as a method of forming, a shaping film having a fine uneven surface on its surface, a method of pressing a base plate surface with a plating plate or an embossing roll to impart unevenness to a resin surface, and the like. Although it is not particularly limited, the present invention considers that a method of forming an embossed surface portion on a substrate surface by a surface tension difference between a base forming resin and a pattern forming resin is more preferable. To propose a cormorant Do manufacturing method.
[0011]
That is, the present invention provides a method of forming a base-forming resin by partially laminating a base-forming resin by letterpress printing on the surface of a base made of a transparent resin, Forming a base forming resin non-laminated portion surrounded by the laminated portion,
A pattern forming resin having a higher surface tension than the base forming resin is laminated by letterpress printing on the base forming resin laminated portion, and a curing process is performed on the pattern forming resin as necessary, and the surface of the pattern forming resin is finely uneven. To make the embossed surface,
The method of manufacturing a surface pattern structure is characterized in that the non-laminated portion of the base forming resin is a window opening in which the surface of the base material is exposed.
[0012]
According to such a manufacturing method, the base-forming resin is laminated on the surface of the base material such that the non-laminated part of the base-forming resin (that is, a part to be left without laminating the base-forming resin) is left in a desired shape. By applying a pattern-forming resin to the surface almost evenly and curing the pattern-forming resin as needed, a transparent window with a large contrast can be formed in the embossed surface, and the base is formed. The pattern on the substrate surface can be freely designed by changing the shape of the resin non-laminated portion, and the fine irregularities on the embossed surface can be changed by variously changing the surface tension difference between the base forming resin and the pattern forming resin. Can be freely changed in size and shape.
[0013]
In the present invention, “transparent resin” is intended to include both colorless and transparent resins.
[0014]
BEST MODE FOR CARRYING OUT THE INVENTION
Hereinafter, embodiments of the present invention will be described.
In the present embodiment, an embodiment utilizing a difference in surface tension between the base forming resin and the pattern forming resin will be described, but the present invention is not limited thereto.
[0015]
As shown in FIGS. 1 and 2, the
[0016]
In the
Further, the specular glossiness (60 ° × 60 °) of the embossed
[0017]
In the
At this time, the width of the pattern forming resin
[0018]
Further, as shown in FIG. 3, it is preferable that the edge 2Aa of the base forming resin laminated
Further, it is preferable that the edge 3Aa of the pattern forming resin laminated
By forming the edge 2Aa of the base-forming resin laminated
[0019]
Further, by making the edge 3Aa of the pattern forming resin laminated
[0020]
Note that a protective layer or the like can be laminated on the
[0021]
The type of the
[0022]
The surface of the
[0023]
The difference between the surface tensions of the
If the surface tension difference is 10 μN / cm or more, the surface can be naturally formed into a suitable embossed surface simply by uniformly applying the
[0024]
The surface tension of the base-forming
Further, the contact angle of the
[0025]
The kind of the
[0026]
The thickness of the
[0027]
On the other hand, the
The contact angle of the
The surface tension can also be adjusted by using a silicon-based or acrylic-based surface conditioner.
The thickness of the
[0028]
The resin used as the
[0029]
As long as the object of the present invention is not impaired, the
[0030]
(Production method)
Hereinafter, a method for manufacturing the
[0031]
First, the
At this time, it is preferable that the edge 2Aa of the base forming resin laminated
[0032]
As a method of laminating the
Further, in consideration of making the edge 2Aa of the base-forming resin laminated
[0033]
Next, a
At this time, it is preferable to apply the
Further, it is preferable that the pattern forming resin
Furthermore, it is preferable that the edge 3Aa of the pattern forming resin laminated
[0034]
As a method of applying the
[0035]
The
[0036]
In the case where an energy ray-curable resin is used as the pattern-forming
[0037]
If the surface pattern structure is manufactured by such a method, the
In addition, the surface pattern can be freely designed by changing the shape of the base forming resin laminated
[0038]
【Example】
As shown in FIGS. 1 and 2, a predetermined pattern or character (the outline of “ABC” in the figures) is formed on the surface of an amorphous PET (“A-PET” haze 0.8%) having a thickness of 0.3 mm. An OP varnish (OP varnish containing an acrylic acid prepolymer and an acrylic acid oligomer; Daicure RT-8 manufactured by Dainippon Ink and Chemicals, JIS K) as a base-forming resin so as to leave (that is, to form the
[0039]
As shown in FIG. 1, the surface of the obtained patterned sheet is provided with a transparent window portion 5 (the outline of “ABC” in the figure) surrounded by the embossed
The embossed
[0040]
In the present invention (including examples), the specular gloss is measured in accordance with JIS K-7105 by using a digital variable-angle photometer (light source: standard light C) from the direction of the incident angle of the workpiece of 60 °. This is a value obtained by measuring the light irradiated and reflected by the inscription device in the direction of the reflection angle of 60 °.
In the present invention (including examples), the surface roughness (Ra, Rz, Rmax, and Pc) was measured using a stylus type surface roughness measuring instrument prescribed in JIS-B0651, a
In the present invention (including Examples), the contact angle is a value obtained by measuring a value 30 seconds after the addition using a contact angle meter and distilled water as a test liquid.
In the present invention (including Examples), the light transmittance (total transmission, diffuse transmission and haze) is a value measured using a haze meter according to JIS K-7105.
[Brief description of the drawings]
FIG. 1 is a perspective view showing a sheet body having a surface pattern structure according to an example of an embodiment of the present invention.
FIG. 2 is a partial cross-sectional perspective view of a main part of a sheet body having a surface pattern structure according to an example of an embodiment of the present invention.
FIG. 3 is a cross-sectional view of a main part of a sheet body having a surface pattern structure according to an example of an embodiment of the present invention.
[Explanation of symbols]
REFERENCE SIGNS
Claims (7)
前記下地形成樹脂積層部上に模様形成樹脂が積層され、当該模様形成樹脂の表面は微細凹凸したエンボス面部とされ、
前記下地形成樹脂非積層部は、基材表面が露出した抜窓部とされた構成を備えた表面模様構造。The base forming resin is partially laminated on the surface of the base material made of a transparent resin, and the base forming resin non-enclosed by the base forming resin laminated portion and the base forming resin laminated portion when viewed in plan on the base material surface. With a laminated part,
A pattern forming resin is laminated on the base forming resin laminated portion, and the surface of the pattern forming resin is an embossed surface portion having fine irregularities,
A surface pattern structure having a configuration in which the base-forming resin non-laminated portion is a window opening in which the base material surface is exposed.
当該下地形成樹脂積層部上に、下地形成樹脂よりも表面張力の高い模様形成樹脂を凸版印刷によって積層させ、必要に応じて模様形成樹脂に対する硬化処理を行い、当該模様形成樹脂の表面を微細凹凸させてエンボス面部とし、
前記下地形成樹脂非積層部は、基材表面が露出した抜窓部とすることを特徴とする表面模様構造の製造方法。On the surface of the base material made of transparent resin, the base forming resin was partially laminated by letterpress printing, and surrounded by this base forming resin laminated portion when viewed in plan with the base forming resin laminated portion on the base material surface. Forming a base-forming resin non-lamination part,
A pattern forming resin having a higher surface tension than the base forming resin is laminated by letterpress printing on the base forming resin laminated portion, and a curing process is performed on the pattern forming resin as necessary, and the surface of the pattern forming resin is finely uneven. To make the embossed surface,
The method of manufacturing a surface pattern structure, wherein the non-laminated portion of the base forming resin is a window portion where the surface of the base material is exposed.
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