JP2004246985A - 光磁気ディスクの製造方法および製造装置 - Google Patents
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Abstract
【課題】光磁気ディスクの潤滑性保護膜の形成に用いる紫外線硬化型樹脂液と潤滑剤液の使用効率を高めること。
【解決手段】(1)記録層を有する基板を、回転手段の有する基板保持部に着脱自在に固定し、前記回転手段により回転させて、該基板の有する記録層上に紫外線硬化型樹脂液をスピンコートして塗布層を形成する工程と、(2)該塗布層に紫外線を照射して硬化樹脂層を得る工程と、(3)前記硬化樹脂層が形成された基板を前記基板保持部に固定した状態で、前記硬化樹脂層を有する基板を前記回転手段で回転させることで該硬化樹脂層に対してインクジェットヘッドを相対的に移動させて、該インクジェットヘッドから該硬化樹脂層に潤滑剤液を付与する工程と、を有する光ディスクの製造方法とする。
【選択図】 図1
【解決手段】(1)記録層を有する基板を、回転手段の有する基板保持部に着脱自在に固定し、前記回転手段により回転させて、該基板の有する記録層上に紫外線硬化型樹脂液をスピンコートして塗布層を形成する工程と、(2)該塗布層に紫外線を照射して硬化樹脂層を得る工程と、(3)前記硬化樹脂層が形成された基板を前記基板保持部に固定した状態で、前記硬化樹脂層を有する基板を前記回転手段で回転させることで該硬化樹脂層に対してインクジェットヘッドを相対的に移動させて、該インクジェットヘッドから該硬化樹脂層に潤滑剤液を付与する工程と、を有する光ディスクの製造方法とする。
【選択図】 図1
Description
【0001】
【発明の属する技術分野】
本発明は、レーザー光を用いて高速で記録再生が可能な光磁気ディスクの製造方法および製造装置に関するものであり、特に記録時に磁気ヘッドも使用する磁界変調型の光磁気記録ディスクの製造方法および製造装置に関するものである。光磁気ディスクの用途は、音楽の記録再生に用いるMD(ミニディスク)、パソコンの外部記録に使用するMOディスクなどがあり、将来に需要が予測されるものとしてはビデオ記録用ディスクなどがある。
【0002】
【従来の技術】
従来の磁界変調型でない光磁気記録システムにおいては、レーザー部も着磁部もディスク(媒体)に直接接触する構造ではないため、ディスク表面は成型材料(PC樹脂やAPO樹脂など)のままか、外傷防止のハードコート処理がされているかが一般的であった。しかしながら、近年登場したMD(ミニディスク)に代表される磁界変調型の光磁気記録システムにおいては、少なくとも記録時にディスクの記録層側に磁気ヘッドが接触摺動しているために、潤滑・耐磨耗性能が要求されるようになってきた。そこで、記録層の上に、ハードコート処理後に潤滑剤を上塗りした潤滑性保護膜を設けることで、磁気ヘッドの摺動抵抗が下げる対処をしている。
【0003】
潤滑性保護膜の形成は、ウレタンアクリレートやエポキシアクリレートといった紫外線硬化樹脂の前駆体を含む紫外線硬化樹脂液をスピンコート法で塗布し、その後紫外線硬化装置で硬化する工程と、ハードコート処理後の基板を再度スピナーに戻しシリコーンオイルやフッ素オイル等を含む潤滑剤液をスピンコートし乾燥させる工程とで行われている。この際、紫外線硬化樹脂液は一般的に無溶剤タイプで粘度が20〜500mPa・s程度のことが多く、また潤滑剤液は一般的に溶剤希釈タイプで50mPa・s以下であることが多い。上記のように粘度やタイプが異なる液剤のスピンコートを同一のスピナーで行うと、振り切り後にスピナーハウス外壁に付着し回収タンクに流れ込む2種の液剤は混ざり合って分離不可となるため、再使用不能となり廃棄するしかなかった。廃棄する液剤量は、通常供給液剤の90%以上にもなるため、製品コストが高くなる欠点があった。
【0004】
二台のスピナーを用いてそれぞれの材料を塗布する方法も考えられるが、この場合、各材料は回収再使用できるものの、装置への投資が大きくなるため、結果的に製品コストは高くなってしまう。
【0005】
【発明が解決しようとする課題】
本発明はこの様な事情に鑑みてなされたものであり、その目的は、基板の上に記録層が形成され、その上に潤滑性保護膜が形成されてなる構造の光磁気ディスクの潤滑性保護膜を形成する際に、紫外線硬化型樹脂液と潤滑剤液の塗布を同一のスピナー中で行うことで各液剤の使用効率を向上させる光磁気ディスクの製造方法を提供することにある。また、上記のような製造方法を可能とする光磁気ディスクの製造装置を提供することにある。
【0006】
【課題を解決するための手段】
上記の目的は、本発明では以下の手段によって達成される。
【0007】
すなわち本発明は、基板と、該基板上に設けられた記録層と、該記録層上に設けられた潤滑性保護膜と、を有する光磁気ディスクの製造方法において、
(1)記録層を有する基板を、回転手段の有する基板保持部に着脱自在に固定し、前記回転手段により回転させて、該基板の有する記録層上に紫外線硬化型樹脂液をスピンコートして塗布層を形成する工程と、
(2)該塗布層に紫外線を照射して硬化樹脂層を得る工程と、
(3)前記硬化樹脂層が形成された基板を前記基板保持部に固定した状態で、前記硬化樹脂層を有する基板を前記回転手段で回転させることで該硬化樹脂層に対してインクジェットヘッドを相対的に移動させて、該インクジェットヘッドから該硬化樹脂層に潤滑剤液を付与する工程と、
を有することを特徴とする光ディスクの製造方法である。
【0008】
上記の紫外線硬化型樹脂液の粘度は10〜1000mPa・sの範囲であることが好ましい。また、上記の潤滑剤液の粘度は100mPa・sを超えないものであることが好ましい。また、前記潤滑剤液の表面張力は35mN/mを超えないものであることがこの好ましい。
【0009】
【発明の実施の形態】
本発明の光磁気ディスクの製造方法では、最初に塗布する紫外線硬化型樹脂液はスピンコート法で塗布し、後で塗布する潤滑剤液にはスピンコート法を用いず、インクジェットヘッドを用いて基板を低速回転させながら必要十分量だけを、硬化樹脂層の表面の所定部、例えばその全面にわたって吐出させることで塗布する方法である。潤滑剤液の回転振り切りは行わないために、スピナーハウス内や外壁に潤滑剤液が飛散し、先にスピンコート塗布しスピナーハウス外壁に飛散した紫外線硬化型樹脂液と混ざり合うことは一切ない。このため、回収タンクに流れ込むのは紫外線硬化型樹脂液のみであり、回収後に簡単にフィルターリングをするだけで再使用可能である。スピンコート塗布工程において、樹脂液の供給量に対する基板上への塗布量は一般に10%以下であり、回収できない場合のロスは非常に大きいが、本発明の製造方法によれば、回収ロスやフィルターロスを考慮に入れても5回程度またはそれ以上の再使用が可能となる。なお、紫外線硬化型樹脂液の粘度は10〜1000mPa・sの範囲であることが好ましい。紫外線硬化型樹脂液としては、ウレタンアクリレートやエポキシアクリレートを主材とする大日本インキ化学や日本化薬など各社から市販されている光ディスク用紫外線硬化型保護コート剤などが使用できる。
【0010】
また、本発明の光磁気ディスクの製造方法では、潤滑剤液を、その吐出供給量の微細な制御が可能であるインクジェットヘッドにより供給するため、潤滑材層を形成するのに必要十分量の潤滑剤液しか吐出しないようにすることができるため、従来のスピンコート法に比べて、供給量そのものを例えば9分の1以下に大きく減らすことができる。なお、インクジェットヘッドから吐出された直後の潤滑剤液の液滴は、ディスク全面を覆うものではなく、隣接する液滴の付着部(ドット)が一定距離をおいて点在しているが、潤滑剤液は一般に粘度が低く(好ましくは0.2mPa・s以上で100mPa・sを超えず、より好ましくは20mPa・sを超えない。)、また表面張力も一般に低い(好ましくは35mN/mを超えず、より好ましくは25mN/mを超えない。)ために、自己レベリングしてディスク全面を覆う均一な膜となる。潤滑剤液としては、信越化学やGE東芝シリコーンなど各社から販売されているジメチルシリコーンオイルや変性シリコーンオイル、そしてデュポン社やアウジモント社などから販売されているフッ素系オイルの原液もしくは溶剤での希釈液などが使用できる。
【0011】
以上述べた理由から、本発明を用いれば、光磁気ディスクの潤滑性保護膜の形成において、紫外線硬化型樹脂液と潤滑剤液の使用効率を大幅に向上させることができ、従来よりも低コストで光磁気ディスクを製造することが可能となる。
【0012】
上記の本発明の製造方法を実現するための装置としては、例えば、
基板と、該基板上に設けられた記録層と、該記録層上に設けられた潤滑性保護膜と、を有する光磁気ディスクを製造するための装置において、
基板を着脱自在に保持し得る基板保持部を有し、該基板保持部に保持した基板を回線速度を制御しながら回転させるための回転手段と、
前記基板保持部に保持されて前記回転手段により回転している基板上の記録層上に紫外線硬化型樹脂液を供給して塗布層を形成するための樹脂液供給手段と、
前記塗布層に紫外線を照射して硬化樹脂層とするための紫外線照射手段と、
前記基板保持部に保持されている基板上の前記硬化樹脂層に潤滑剤液を付与するためのインクジェットヘッドと
を有する光磁気ディスク製造装置を挙げることができる。
【0013】
回転手段としては、回線速度を制御しながら基板を回転できるスピンドルを有する構成のものが、樹脂液供給手段としては、先端がニードル型のディスペンサーヘッドを有するものが、インクジェットヘッドとしては直径が100μmを超えない吐出孔を複数個持つインクジェットヘッドを好適に用いることができる。
【0014】
この装置を用いた潤滑性保護膜の形成手順は、たとえば以下に示す手順となる。最初に記録層を上面にしたディスク基板をスピンドルに載せ所定の低速回転数で回しながら、ニードル型のディスペンサーヘッドより基板内周部に紫外線硬化型樹脂液を所定量供給し液リングを形成し、その後所定の高回転数にて余分な樹脂液を振り切り展開し塗膜を形成させる。その後、この樹脂膜を紫外線照射機構を用いて短時間で硬化させる。次に、このディスク基板をスピンドル上で低速回転させながら、インクジェットヘッドを基板の半径方向に移動させて基板の全面にムラの無いように吐出塗布する。以上の一連の塗布作業が終わったディスク基板はマガジンに収納するが、インクジェットヘッドで塗布された潤滑剤は既に自己レベリングし均一な膜となっている。
【0015】
上記装置における紫外線照射機構の形態は制限しないが、ランプ照射型の場合はスピナーハウス内で照射すると振り切り後回収されるはずの樹脂液も硬化してしまう不具合が生じるので、スピナーハウス外に照射ゾーンを設けて硬化させ、硬化後再度スピナーハウスに戻して潤滑剤液を塗布する形態が好ましい。あるいは、光ファイバーを使用して、スピナーハウス内で紫外線の照射を行う手法も可能である。この場合、紫外線硬化型樹脂液の塗布後、ディスクはスピンドルに装着したまま回しながら光ファイバーを近接させて半径方向に走査することで全面を硬化させる。そして、続いてディスクをスピンドルに装着したまま潤滑剤の塗布に移ることができる。
【0016】
上記の潤滑剤液のインクジェット塗布および光ファイバーによる紫外線照射における更なる詳細を述べるなら、ディスクの内外周全面に渡ってより均一な処理を行うために、ディスクを一定回転数で回す場合にはインクジェットヘッドおよび光ファイバーを半径方向に移動走査するスピードを内周では速く外周では遅くする方法が挙げられる。あるいは、一定スピードで半径方向に移動走査する場合は、ディスク回転速度を内周では速く外周では遅くする方法が挙げられる。このようにして走査速度と回転線速度(周速)を一定の比例関係に保つことでより均一な処理が可能となる。
【0017】
【実施例】
実施例1
図1に、光磁気ディスクの潤滑性保護膜を形成するための製造装置を示す。本製造装置は、回転速度を制御可能なスピンドル(101)、紫外線硬化型樹脂液のストックタンク(102)、潤滑剤液のストックタンク(103)、ディスペンサーヘッド(104)、インクジェットヘッド(105)、紫外線照射ファイバー(ライトガイド)(106)、余剰液回収タンク(107)、光源(108)を有する。ここで、紫外線硬化型樹脂液のストックタンクとディスペンサーヘッド、および潤滑剤液のストックタンクとインクジェットヘッドは駆動装置を介して輸液チューブ(109)でつながっている。ディスペンサーヘッド、インクジェットヘッド、紫外線照射ファイバーは、可動式である。
【0018】
実施例2
実施例1の装置を用いて、以下の手順で光磁気ディスクを製造した。
【0019】
あらかじめ、紫外線硬化型樹脂液のストックタンクには紫外線硬化型樹脂液として日本化薬製のOVD−327Z(粘度340mPa・s)を、潤滑剤液のストックタンクにはGE東芝シリコーン製のジメチルシリコーンオイルTSF451−1000のヘキサン希釈液(粘度6.2mPa・s、表面張力19.0mN/m)を充填しておいた。そして、図2に示す構成の磁界変調型光磁気ディスク用の記録層付きポリカーボネート製基板(直径86mm、PC基板厚み1.2mm)を準備し、記録層面を上向きにしてスピンドルに装着し50rpmにて回転させながら、ディスペンサーヘッドから0.8mlの紫外線硬化型樹脂液をディスク基板の最内周部(r=18mm(rはディスク基板の中心からの距離を意味する。以下同じ))にドーナツ状に供給した。
【0020】
続いて回転数を6000rpmに上げ振り切り塗布し、4秒後に停止させた。この後、ディスペンサーヘッドをディスク基板上からスタンバイ位置まで後退待避させ、代わりに紫外線照射ファイバーをディスク基板上とのクリアランスを10mmに保ちながら最内周部(r=18mm)まで入れ、照射開始し最外周部(r=43mm)まで走査し照射終了した。このとき、光源は200W水銀キセノンランプを用い、紫外線照射ファイバー(ライトガイド)先端の直径は7.5mmのものを用いた。基板面での紫外線の照度を3000mW/cm2に設定し、ディスク回転数は600rpmで一定、走査速度は初速8.47mm/sで最終速度3.55mm/sになるようリニアに変化させた(トータル照射時間は約5秒)。
【0021】
次に、紫外線照射ファイバーをスタンバイ位置まで後退待避させ、代わりにインクジェットヘッドをディスク基板上とのクリアランスを5mmに保ちながら最内周部(r=18mm)まで入れ、潤滑剤液の吐出を開始し最外周部(r=43mm)まで走査し吐出を終了した。このとき、用いたインクジェットヘッドは、構造を図3に示すように直径30μmの孔100個が50μmピッチで径方向に一列に並んでいるものを用いた。
【0022】
ディスク回転数は600rpmで一定、吐出の駆動周波数は1.2kHzに設定し、走査速度はディスクの半径方向に初速8.47mm/sで最終速度3.55mm/sになるようリニアに変化させた(トータル吐出時間は約5秒)。なお、潤滑剤液の吐出塗布が終わったディスクにおいて、溶剤として添加してあったヘキサンは速やかに基板表面から蒸発し、残留したジメチルシリコーンオイルは1時間程度で自己レベリングし均一な厚みの膜となった。図4に塗布直後とレベリング後の様態を模式化して示した。
【0023】
以上述べた一連の工程手順により、記録膜付きポリカーボネート製基板上に、潤滑性保護膜が形成され、磁界変調型の光磁気ディスクを製造できた。
【0024】
実施例3
実施例1に示した装置を用い、実施例2に示した方法での光磁気ディスクの製造を連続的に実施し、5000枚の光磁気ディスクを製造した。そのとき供給消費した紫外線硬化型樹脂液は4000mlであった。塗布終了後、スピナーハウス外壁から装置下部にセットしてあった余剰液回収タンクに溜まっていた紫外線硬化型樹脂液を0.3μm口径のフィルターでろ過したところ、3300mlの紫外線硬化型樹脂液が再使用できる状態で回収できた。供給量から再生量を差し引いた実使用量は700mlであり、ディスク1枚当たりでは0.14mlの実使用量であった。これは従来法の振り切り使い捨ての場合の0.8mlに比べると1/5.7の使用量と非常に少なかった。また、インクジェットヘッドから供給した潤滑剤の総量は250mlで、ディスク1枚当たりでは0.05mlの使用量であった。これは従来法の振り切り使い捨ての場合の0.5mlに比べると1/10の使用量と非常に少なかった。
【0025】
【発明の効果】
以上説明したとおり、本発明によれば、基板の上に記録層が形成され、その上に潤滑性保護膜が形成されてなる構造の光磁気ディスクの潤滑性保護膜を形成する際に、紫外線硬化型樹脂液と潤滑剤液の塗布を同一のスピナー内で行っても、紫外線硬化型樹脂液の余剰液は再使用可能であり、潤滑剤液の使用量は少量となる。すなわち、両液剤の実使用量を減らすことができ、より安価に光磁気ディスクを製造することができるようになる。また、上記のような製造方法を可能とする光磁気ディスクの製造装置を提供できる。
【図面の簡単な説明】
【図1】本発明の一実施例である光磁気ディスクの製造装置の構成図である。
【図2】本発明の一実施例で使用する光磁気ディスク基板の層構成図である。
【図3】本発明の一実施例で使用するインクジェットヘッドのノズル構成図である。
【図4】本発明における潤滑性保護膜の様態変化を示す模式図である。
【符号の説明】
101:スピンドル
102:紫外線硬化型樹脂液のストックタンク
103:潤滑剤液のストックタンク
104:ディスペンサーヘッド
105:インクジェットヘッド
106:紫外線照射ファイバー(ライトガイド)
107:余剰液回収タンク
108:光源
109:輸液チューブ
201:PC基板
202:誘電体層
203:磁性層
204:誘電体層
205:反射層
206:記録層
301:基板
306:記録層
307:紫外線硬化型樹脂
308:潤滑剤
401:インクジェットヘッドアッセンブリー
402:吐出孔
【発明の属する技術分野】
本発明は、レーザー光を用いて高速で記録再生が可能な光磁気ディスクの製造方法および製造装置に関するものであり、特に記録時に磁気ヘッドも使用する磁界変調型の光磁気記録ディスクの製造方法および製造装置に関するものである。光磁気ディスクの用途は、音楽の記録再生に用いるMD(ミニディスク)、パソコンの外部記録に使用するMOディスクなどがあり、将来に需要が予測されるものとしてはビデオ記録用ディスクなどがある。
【0002】
【従来の技術】
従来の磁界変調型でない光磁気記録システムにおいては、レーザー部も着磁部もディスク(媒体)に直接接触する構造ではないため、ディスク表面は成型材料(PC樹脂やAPO樹脂など)のままか、外傷防止のハードコート処理がされているかが一般的であった。しかしながら、近年登場したMD(ミニディスク)に代表される磁界変調型の光磁気記録システムにおいては、少なくとも記録時にディスクの記録層側に磁気ヘッドが接触摺動しているために、潤滑・耐磨耗性能が要求されるようになってきた。そこで、記録層の上に、ハードコート処理後に潤滑剤を上塗りした潤滑性保護膜を設けることで、磁気ヘッドの摺動抵抗が下げる対処をしている。
【0003】
潤滑性保護膜の形成は、ウレタンアクリレートやエポキシアクリレートといった紫外線硬化樹脂の前駆体を含む紫外線硬化樹脂液をスピンコート法で塗布し、その後紫外線硬化装置で硬化する工程と、ハードコート処理後の基板を再度スピナーに戻しシリコーンオイルやフッ素オイル等を含む潤滑剤液をスピンコートし乾燥させる工程とで行われている。この際、紫外線硬化樹脂液は一般的に無溶剤タイプで粘度が20〜500mPa・s程度のことが多く、また潤滑剤液は一般的に溶剤希釈タイプで50mPa・s以下であることが多い。上記のように粘度やタイプが異なる液剤のスピンコートを同一のスピナーで行うと、振り切り後にスピナーハウス外壁に付着し回収タンクに流れ込む2種の液剤は混ざり合って分離不可となるため、再使用不能となり廃棄するしかなかった。廃棄する液剤量は、通常供給液剤の90%以上にもなるため、製品コストが高くなる欠点があった。
【0004】
二台のスピナーを用いてそれぞれの材料を塗布する方法も考えられるが、この場合、各材料は回収再使用できるものの、装置への投資が大きくなるため、結果的に製品コストは高くなってしまう。
【0005】
【発明が解決しようとする課題】
本発明はこの様な事情に鑑みてなされたものであり、その目的は、基板の上に記録層が形成され、その上に潤滑性保護膜が形成されてなる構造の光磁気ディスクの潤滑性保護膜を形成する際に、紫外線硬化型樹脂液と潤滑剤液の塗布を同一のスピナー中で行うことで各液剤の使用効率を向上させる光磁気ディスクの製造方法を提供することにある。また、上記のような製造方法を可能とする光磁気ディスクの製造装置を提供することにある。
【0006】
【課題を解決するための手段】
上記の目的は、本発明では以下の手段によって達成される。
【0007】
すなわち本発明は、基板と、該基板上に設けられた記録層と、該記録層上に設けられた潤滑性保護膜と、を有する光磁気ディスクの製造方法において、
(1)記録層を有する基板を、回転手段の有する基板保持部に着脱自在に固定し、前記回転手段により回転させて、該基板の有する記録層上に紫外線硬化型樹脂液をスピンコートして塗布層を形成する工程と、
(2)該塗布層に紫外線を照射して硬化樹脂層を得る工程と、
(3)前記硬化樹脂層が形成された基板を前記基板保持部に固定した状態で、前記硬化樹脂層を有する基板を前記回転手段で回転させることで該硬化樹脂層に対してインクジェットヘッドを相対的に移動させて、該インクジェットヘッドから該硬化樹脂層に潤滑剤液を付与する工程と、
を有することを特徴とする光ディスクの製造方法である。
【0008】
上記の紫外線硬化型樹脂液の粘度は10〜1000mPa・sの範囲であることが好ましい。また、上記の潤滑剤液の粘度は100mPa・sを超えないものであることが好ましい。また、前記潤滑剤液の表面張力は35mN/mを超えないものであることがこの好ましい。
【0009】
【発明の実施の形態】
本発明の光磁気ディスクの製造方法では、最初に塗布する紫外線硬化型樹脂液はスピンコート法で塗布し、後で塗布する潤滑剤液にはスピンコート法を用いず、インクジェットヘッドを用いて基板を低速回転させながら必要十分量だけを、硬化樹脂層の表面の所定部、例えばその全面にわたって吐出させることで塗布する方法である。潤滑剤液の回転振り切りは行わないために、スピナーハウス内や外壁に潤滑剤液が飛散し、先にスピンコート塗布しスピナーハウス外壁に飛散した紫外線硬化型樹脂液と混ざり合うことは一切ない。このため、回収タンクに流れ込むのは紫外線硬化型樹脂液のみであり、回収後に簡単にフィルターリングをするだけで再使用可能である。スピンコート塗布工程において、樹脂液の供給量に対する基板上への塗布量は一般に10%以下であり、回収できない場合のロスは非常に大きいが、本発明の製造方法によれば、回収ロスやフィルターロスを考慮に入れても5回程度またはそれ以上の再使用が可能となる。なお、紫外線硬化型樹脂液の粘度は10〜1000mPa・sの範囲であることが好ましい。紫外線硬化型樹脂液としては、ウレタンアクリレートやエポキシアクリレートを主材とする大日本インキ化学や日本化薬など各社から市販されている光ディスク用紫外線硬化型保護コート剤などが使用できる。
【0010】
また、本発明の光磁気ディスクの製造方法では、潤滑剤液を、その吐出供給量の微細な制御が可能であるインクジェットヘッドにより供給するため、潤滑材層を形成するのに必要十分量の潤滑剤液しか吐出しないようにすることができるため、従来のスピンコート法に比べて、供給量そのものを例えば9分の1以下に大きく減らすことができる。なお、インクジェットヘッドから吐出された直後の潤滑剤液の液滴は、ディスク全面を覆うものではなく、隣接する液滴の付着部(ドット)が一定距離をおいて点在しているが、潤滑剤液は一般に粘度が低く(好ましくは0.2mPa・s以上で100mPa・sを超えず、より好ましくは20mPa・sを超えない。)、また表面張力も一般に低い(好ましくは35mN/mを超えず、より好ましくは25mN/mを超えない。)ために、自己レベリングしてディスク全面を覆う均一な膜となる。潤滑剤液としては、信越化学やGE東芝シリコーンなど各社から販売されているジメチルシリコーンオイルや変性シリコーンオイル、そしてデュポン社やアウジモント社などから販売されているフッ素系オイルの原液もしくは溶剤での希釈液などが使用できる。
【0011】
以上述べた理由から、本発明を用いれば、光磁気ディスクの潤滑性保護膜の形成において、紫外線硬化型樹脂液と潤滑剤液の使用効率を大幅に向上させることができ、従来よりも低コストで光磁気ディスクを製造することが可能となる。
【0012】
上記の本発明の製造方法を実現するための装置としては、例えば、
基板と、該基板上に設けられた記録層と、該記録層上に設けられた潤滑性保護膜と、を有する光磁気ディスクを製造するための装置において、
基板を着脱自在に保持し得る基板保持部を有し、該基板保持部に保持した基板を回線速度を制御しながら回転させるための回転手段と、
前記基板保持部に保持されて前記回転手段により回転している基板上の記録層上に紫外線硬化型樹脂液を供給して塗布層を形成するための樹脂液供給手段と、
前記塗布層に紫外線を照射して硬化樹脂層とするための紫外線照射手段と、
前記基板保持部に保持されている基板上の前記硬化樹脂層に潤滑剤液を付与するためのインクジェットヘッドと
を有する光磁気ディスク製造装置を挙げることができる。
【0013】
回転手段としては、回線速度を制御しながら基板を回転できるスピンドルを有する構成のものが、樹脂液供給手段としては、先端がニードル型のディスペンサーヘッドを有するものが、インクジェットヘッドとしては直径が100μmを超えない吐出孔を複数個持つインクジェットヘッドを好適に用いることができる。
【0014】
この装置を用いた潤滑性保護膜の形成手順は、たとえば以下に示す手順となる。最初に記録層を上面にしたディスク基板をスピンドルに載せ所定の低速回転数で回しながら、ニードル型のディスペンサーヘッドより基板内周部に紫外線硬化型樹脂液を所定量供給し液リングを形成し、その後所定の高回転数にて余分な樹脂液を振り切り展開し塗膜を形成させる。その後、この樹脂膜を紫外線照射機構を用いて短時間で硬化させる。次に、このディスク基板をスピンドル上で低速回転させながら、インクジェットヘッドを基板の半径方向に移動させて基板の全面にムラの無いように吐出塗布する。以上の一連の塗布作業が終わったディスク基板はマガジンに収納するが、インクジェットヘッドで塗布された潤滑剤は既に自己レベリングし均一な膜となっている。
【0015】
上記装置における紫外線照射機構の形態は制限しないが、ランプ照射型の場合はスピナーハウス内で照射すると振り切り後回収されるはずの樹脂液も硬化してしまう不具合が生じるので、スピナーハウス外に照射ゾーンを設けて硬化させ、硬化後再度スピナーハウスに戻して潤滑剤液を塗布する形態が好ましい。あるいは、光ファイバーを使用して、スピナーハウス内で紫外線の照射を行う手法も可能である。この場合、紫外線硬化型樹脂液の塗布後、ディスクはスピンドルに装着したまま回しながら光ファイバーを近接させて半径方向に走査することで全面を硬化させる。そして、続いてディスクをスピンドルに装着したまま潤滑剤の塗布に移ることができる。
【0016】
上記の潤滑剤液のインクジェット塗布および光ファイバーによる紫外線照射における更なる詳細を述べるなら、ディスクの内外周全面に渡ってより均一な処理を行うために、ディスクを一定回転数で回す場合にはインクジェットヘッドおよび光ファイバーを半径方向に移動走査するスピードを内周では速く外周では遅くする方法が挙げられる。あるいは、一定スピードで半径方向に移動走査する場合は、ディスク回転速度を内周では速く外周では遅くする方法が挙げられる。このようにして走査速度と回転線速度(周速)を一定の比例関係に保つことでより均一な処理が可能となる。
【0017】
【実施例】
実施例1
図1に、光磁気ディスクの潤滑性保護膜を形成するための製造装置を示す。本製造装置は、回転速度を制御可能なスピンドル(101)、紫外線硬化型樹脂液のストックタンク(102)、潤滑剤液のストックタンク(103)、ディスペンサーヘッド(104)、インクジェットヘッド(105)、紫外線照射ファイバー(ライトガイド)(106)、余剰液回収タンク(107)、光源(108)を有する。ここで、紫外線硬化型樹脂液のストックタンクとディスペンサーヘッド、および潤滑剤液のストックタンクとインクジェットヘッドは駆動装置を介して輸液チューブ(109)でつながっている。ディスペンサーヘッド、インクジェットヘッド、紫外線照射ファイバーは、可動式である。
【0018】
実施例2
実施例1の装置を用いて、以下の手順で光磁気ディスクを製造した。
【0019】
あらかじめ、紫外線硬化型樹脂液のストックタンクには紫外線硬化型樹脂液として日本化薬製のOVD−327Z(粘度340mPa・s)を、潤滑剤液のストックタンクにはGE東芝シリコーン製のジメチルシリコーンオイルTSF451−1000のヘキサン希釈液(粘度6.2mPa・s、表面張力19.0mN/m)を充填しておいた。そして、図2に示す構成の磁界変調型光磁気ディスク用の記録層付きポリカーボネート製基板(直径86mm、PC基板厚み1.2mm)を準備し、記録層面を上向きにしてスピンドルに装着し50rpmにて回転させながら、ディスペンサーヘッドから0.8mlの紫外線硬化型樹脂液をディスク基板の最内周部(r=18mm(rはディスク基板の中心からの距離を意味する。以下同じ))にドーナツ状に供給した。
【0020】
続いて回転数を6000rpmに上げ振り切り塗布し、4秒後に停止させた。この後、ディスペンサーヘッドをディスク基板上からスタンバイ位置まで後退待避させ、代わりに紫外線照射ファイバーをディスク基板上とのクリアランスを10mmに保ちながら最内周部(r=18mm)まで入れ、照射開始し最外周部(r=43mm)まで走査し照射終了した。このとき、光源は200W水銀キセノンランプを用い、紫外線照射ファイバー(ライトガイド)先端の直径は7.5mmのものを用いた。基板面での紫外線の照度を3000mW/cm2に設定し、ディスク回転数は600rpmで一定、走査速度は初速8.47mm/sで最終速度3.55mm/sになるようリニアに変化させた(トータル照射時間は約5秒)。
【0021】
次に、紫外線照射ファイバーをスタンバイ位置まで後退待避させ、代わりにインクジェットヘッドをディスク基板上とのクリアランスを5mmに保ちながら最内周部(r=18mm)まで入れ、潤滑剤液の吐出を開始し最外周部(r=43mm)まで走査し吐出を終了した。このとき、用いたインクジェットヘッドは、構造を図3に示すように直径30μmの孔100個が50μmピッチで径方向に一列に並んでいるものを用いた。
【0022】
ディスク回転数は600rpmで一定、吐出の駆動周波数は1.2kHzに設定し、走査速度はディスクの半径方向に初速8.47mm/sで最終速度3.55mm/sになるようリニアに変化させた(トータル吐出時間は約5秒)。なお、潤滑剤液の吐出塗布が終わったディスクにおいて、溶剤として添加してあったヘキサンは速やかに基板表面から蒸発し、残留したジメチルシリコーンオイルは1時間程度で自己レベリングし均一な厚みの膜となった。図4に塗布直後とレベリング後の様態を模式化して示した。
【0023】
以上述べた一連の工程手順により、記録膜付きポリカーボネート製基板上に、潤滑性保護膜が形成され、磁界変調型の光磁気ディスクを製造できた。
【0024】
実施例3
実施例1に示した装置を用い、実施例2に示した方法での光磁気ディスクの製造を連続的に実施し、5000枚の光磁気ディスクを製造した。そのとき供給消費した紫外線硬化型樹脂液は4000mlであった。塗布終了後、スピナーハウス外壁から装置下部にセットしてあった余剰液回収タンクに溜まっていた紫外線硬化型樹脂液を0.3μm口径のフィルターでろ過したところ、3300mlの紫外線硬化型樹脂液が再使用できる状態で回収できた。供給量から再生量を差し引いた実使用量は700mlであり、ディスク1枚当たりでは0.14mlの実使用量であった。これは従来法の振り切り使い捨ての場合の0.8mlに比べると1/5.7の使用量と非常に少なかった。また、インクジェットヘッドから供給した潤滑剤の総量は250mlで、ディスク1枚当たりでは0.05mlの使用量であった。これは従来法の振り切り使い捨ての場合の0.5mlに比べると1/10の使用量と非常に少なかった。
【0025】
【発明の効果】
以上説明したとおり、本発明によれば、基板の上に記録層が形成され、その上に潤滑性保護膜が形成されてなる構造の光磁気ディスクの潤滑性保護膜を形成する際に、紫外線硬化型樹脂液と潤滑剤液の塗布を同一のスピナー内で行っても、紫外線硬化型樹脂液の余剰液は再使用可能であり、潤滑剤液の使用量は少量となる。すなわち、両液剤の実使用量を減らすことができ、より安価に光磁気ディスクを製造することができるようになる。また、上記のような製造方法を可能とする光磁気ディスクの製造装置を提供できる。
【図面の簡単な説明】
【図1】本発明の一実施例である光磁気ディスクの製造装置の構成図である。
【図2】本発明の一実施例で使用する光磁気ディスク基板の層構成図である。
【図3】本発明の一実施例で使用するインクジェットヘッドのノズル構成図である。
【図4】本発明における潤滑性保護膜の様態変化を示す模式図である。
【符号の説明】
101:スピンドル
102:紫外線硬化型樹脂液のストックタンク
103:潤滑剤液のストックタンク
104:ディスペンサーヘッド
105:インクジェットヘッド
106:紫外線照射ファイバー(ライトガイド)
107:余剰液回収タンク
108:光源
109:輸液チューブ
201:PC基板
202:誘電体層
203:磁性層
204:誘電体層
205:反射層
206:記録層
301:基板
306:記録層
307:紫外線硬化型樹脂
308:潤滑剤
401:インクジェットヘッドアッセンブリー
402:吐出孔
Claims (1)
- 基板と、該基板上に設けられた記録層と、該記録層上に設けられた潤滑性保護膜と、を有する光磁気ディスクの製造方法において、
(1)記録層を有する基板を、回転手段の有する基板保持部に着脱自在に固定し、前記回転手段により回転させて、該基板の有する記録層上に紫外線硬化型樹脂液をスピンコートして塗布層を形成する工程と、
(2)該塗布層に紫外線を照射して硬化樹脂層を得る工程と、
(3)前記硬化樹脂層が形成された基板を前記基板保持部に固定した状態で、前記硬化樹脂層を有する基板を前記回転手段で回転させることで該硬化樹脂層に対してインクジェットヘッドを相対的に移動させて、該インクジェットヘッドから該硬化樹脂層に潤滑剤液を付与する工程と、
を有することを特徴とする光ディスクの製造方法。
Priority Applications (1)
Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
---|---|---|---|
JP2003036542A JP2004246985A (ja) | 2003-02-14 | 2003-02-14 | 光磁気ディスクの製造方法および製造装置 |
Applications Claiming Priority (1)
Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
---|---|---|---|
JP2003036542A JP2004246985A (ja) | 2003-02-14 | 2003-02-14 | 光磁気ディスクの製造方法および製造装置 |
Publications (1)
Publication Number | Publication Date |
---|---|
JP2004246985A true JP2004246985A (ja) | 2004-09-02 |
Family
ID=33021599
Family Applications (1)
Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
---|---|---|---|
JP2003036542A Pending JP2004246985A (ja) | 2003-02-14 | 2003-02-14 | 光磁気ディスクの製造方法および製造装置 |
Country Status (1)
Country | Link |
---|---|
JP (1) | JP2004246985A (ja) |
Cited By (3)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
JP2009233544A (ja) * | 2008-03-26 | 2009-10-15 | Japan Crown Cork Co Ltd | 塗布装置 |
JP2010044834A (ja) * | 2008-08-14 | 2010-02-25 | Fuji Electric Device Technology Co Ltd | 磁気記録媒体の製造方法 |
US11630367B2 (en) | 2011-03-16 | 2023-04-18 | View, Inc. | Driving thin film switchable optical devices |
-
2003
- 2003-02-14 JP JP2003036542A patent/JP2004246985A/ja active Pending
Cited By (4)
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US8399050B2 (en) | 2008-08-14 | 2013-03-19 | Fuji Electric Co., Ltd. | Method of manufacturing a magnetic recording medium |
US11630367B2 (en) | 2011-03-16 | 2023-04-18 | View, Inc. | Driving thin film switchable optical devices |
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