JP2004212367A - 電磁界照射装置とそのインピーダンス整合方法 - Google Patents
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Abstract
【解決手段】電磁界照射装置において、電磁界を放射する送信アンテナ1と、照射対象物2とインピーダンス整合器を形成する誘電率および厚みを有する誘電体板3と、送信アンテナ1と照射対象物2との間に誘電体板3を介在支持する支持具4とを具備する電磁界照射装置とそのインピーダンス整合方法。
【選択図】 図1
Description
【産業上の利用分野】
この発明は、電磁界照射装置とそのインピーダンス整合方法に関し、特に、生物学的照射実験、イミュニティ試験その他の電磁界照射実験を実施するに使用される均一の電磁界を照射する電磁界照射装置とそのインピーダンス整合方法に関する。
【0002】
【従来の技術】
従来、生物学的照射実験、イミュニティ試験その他の電磁界照射実験において電磁界照射測定を実施するに際して電磁界がRF帯である場合、図14に示される如く、TEMセル、導波管その他の外導体91により密閉された閉空間内に電磁界を照射される照射対象物2を設置して電磁界を印加する方法が採用される。ここで、20は整合負荷、81は照射対象物2を励振する信号源、92は内導体を示す(非特許文献1 参照)。
また、図15に示される如く、送信アンテナ1から放射される電磁界の照射方向から見て照射対象物2の後方である背面に金属板70を配置し、金属板70による反射電磁界照射により生じる定在波を利用することにより、照射効率を上げる均一な電磁界照射を放射する方法も採用される。
【0003】
【非特許文献1】
Frank Schonborn,et al,“Design,Optimization,Realization,and Analysis of an In Vitro System for the Exposure of Embryonic Stem Cells at 1.71 GHz”,Bioelectromagnetics 21,372−384,2000
【0004】
【発明が解決しようとする課題】
以上の電磁界照射に使用するTEMセルおよび導波管は、内部に障害物がない状態で理想的な電磁界モードが形成されることを前提として設計されている。従って、セル内に障害物となる照射対象物2を配置した場合、内部の電磁界が乱れて、照対象物2に対する電磁界照射量を制御することが困難になる。
また、定在波を利用した電磁界照射は、照射対象物2の近傍に金属板70の如き導電体を配置するが、配置された導電体70が周囲の電磁界を乱し、照射対象物2に対する電磁界照射量を制御することが困難になる。
【0005】
この発明は、開空間電磁界照射において、電磁界照射源と照射対象物との間にインピーダンス整合器の役割を担う誘電体板を取り入れる(長谷部 望 著,“電波工学”,コロナ社,1995 参照)。これにより、照射対象物による反射波、不要な散乱波を低減し、インピーダンス整合を適用して電磁界照射を行うことにより照射効率を上げ、照射対象物に均一な電磁界を照射する均一電磁界を発生する電磁界照射装置を提供し、更に、この電磁界照射装置を使用して多サンプルに均一電磁界を照射する電磁界照射装置とそのインピーダンス整合方法を提供するものである。
【0006】
【課題を解決するための手段】
請求項1: 電磁界照射装置において、電磁界を放射する送信アンテナ1と、照射対象物2とインピーダンス整合器を形成する誘電率および厚みを有する誘電体板3と、送信アンテナ1と照射対象物2との間に誘電体板3を介在支持する支持具4とを具備する電磁界照射装置を構成した。
そして、請求項2:請求項1に記載される電磁界照射装置において、照射対象物2に対向して電波吸収体6を設置し、或いは反射板7を傾斜して設置した電磁界照射装置を構成した。
【0007】
また、請求項3:請求項1および請求項2の内の何れかに記載される電磁界照射装置において、複数の送信アンテナ11、12、13を具備し、これら送信アンテナ11、12、13を入力電力、位相を制御して励振する信号源81を具備する電磁界照射装置を構成した。
更に、請求項4:請求項1ないし請求項3の内の何れかに記載される電磁界照射装置において、誘電体板3および/或いは送信アンテナ1を支持具4に沿って位置決め調整する構成を具備する電磁界照射装置を構成した。
ここで、請求項5:請求項1ないし請求項4の内の何れかに記載される電磁界照射装置において、誘電体板3を同一誘電率を有する複数枚の薄厚誘電体板31で構成した電磁界照射装置を構成した。
【0008】
そして、請求項6:請求項1ないし請求項4の内の何れかに記載される電磁界照射装置において、誘電体板3を互いに誘電率および/或いは厚みを異にする複数枚の誘電体板で構成した電磁界照射装置を構成した。
また、請求項7:請求項1ないし請求項4の内の何れかに記載される電磁界照射装置において、誘電体板3は照射対象物2との間のインピーダンス整合条件に適う誘電率を有する第1の誘電体領域30と、整合条件とは異なる誘電率を有する第2の誘電体領域30’で構成した電磁界照射装置を構成した。
更に、請求項8:請求項1ないし請求項4の内の何れかに記載される電磁界照射装置において、照射対象物2の後方に整合条件を満足する後方誘電体板34を設置し、或いは、照射対象物2の後方および周辺に亘って整合条件を満足する後方周辺誘電体板35を設置した電磁界照射装置を構成した。
【0009】
請求項9:請求項1ないし請求項8の内の何れかに記載される電磁界照射装置において、照射対象物2は個別に配列支持された複数の照射対象物より成る電磁界照射装置を構成した。
そして、請求項10:請求項1ないし請求項9の内の何れかに記載される電磁界照射装置において、誘電体板3と照射対象物2とを一括して細胞培養容器40内に収容した電磁界照射装置を構成した。
ここで、請求項11:請求項1ないし請求項10の内の何れかに記載される電磁界照射装置において、インピーダンス整合器としての誘電体板を液状誘電体で構成した電磁界照射装置を構成した。
【0010】
更に、請求項12:請求項1ないし請求項4の内の何れかに記載される電磁界照射装置において、電磁界入射側の空気層、誘電体板3、照射対象物2および照射対象物2の後方である終端側の空気層迄をも含む領域Sに着目し、誘電体板3の厚みと誘電率を調節することにより、誘電体板3下面における入射側から終端側を見込んでインピーダンス整合をとって構成した電磁界照射装置を構成した。
請求項13:請求項12に記載される電磁界照射装置において、照射対象物2と誘電体板3の間に損失性媒質層39を介在させた電磁界照射装置を構成した。
請求項14:請求項13に記載される電磁界照射装置において、損失性媒質層39を照射対象物2の周囲に迄延伸形成した電磁界照射装置を構成した。
【0011】
請求項15:請求項13および請求項14の内の何れかに記載される電磁界照射装置において、照射対象物2の個数を複数とした電磁界照射装置を構成した。
請求項16:請求項12ないし請求項15の内の何れかに記載される電磁界照射装置において、損失性媒質層と誘電体板の一方或いは双方を液状の物質により置換した電磁界照射装置を構成した。
請求項17:請求項12に記載される電磁界照射装置において、誘電体板3を容器に収容した誘電性液体により置換し、容器に誘電性液体を循環せしめる循環器を付加した電磁界照射装置を構成した。
【0012】
請求項18:請求項13ないし請求項15の内の何れかに記載される電磁界照射装置において、損失性媒質層を容器に収容した損失性液体により置換し、容器に損失性液体を循環せしめる循環器を付加した電磁界照射装置を構成した。
請求項19:電磁界照射装置のインピーダンス整合方法において、電磁界入射側の空気層、誘電体板3、照射対象物2および照射対象物2の後方である終端側の空気層迄をも含む領域Sに着目し、誘電体板3の厚みと誘電率を調節することにより、誘電体板3下面における入射側から終端側を見込んでインピーダンス整合をとる電磁界照射装置のインピーダンス整合方法を構成した。
【0013】
【発明の実施の形態】
図16は水より成る照射対象物2に対して平面波を照射した場合の電界分布を示す。この場合、空気層と照射対象物2の誘電率差により反射波が生じ、大きな定在波が形成される。反射波が大きく照射効率が悪いことに加えて、定在波により周囲の電磁界に乱れが引き起こされる。そこで、図17に示される如く、空気層と照射対象物2である水との境界にインピーダンス整合器の一例としてλ/4インピーダンス変換器の厚み、誘電率を有する誘電体板3を装着した場合、インピーダンスが整合して定在波は発生せず、反射波は打ち消される。反射波が生じないところから照射効率は上昇し、更に、周囲の電磁界の乱れは減少する。インピーダンス整合器となる誘電体板3は2GHz帯の電磁波照射の場合、比誘電率はεr =8.8であり、厚みd:λg /4=12.6mm(λg : 誘電体内波長)である。水の比誘電率はεr=78.0 である。この発明は、電磁波を放射する送信アンテナ、空気と照射対象物との間でインピーダンス整合器として動作する誘電率と厚みを有する誘電体板、およびこれらを取付け支持する支持具を具備している。図18を参照するに、送信アンテナ1の形状をホーンアンテナと仮定すると、誘電体板存在しない場合は、照射対象物2に照射された電磁界は空気と照射対象物2の誘電率差から大きな反射波を生じる。また、照射対象物2が有限長の場合大きな回折波が生じる。しかし、図19に示される如くインピーダンス整合の役割を担う誘電体板3を設置した場合、空気と誘電体板3の間、そして誘電体板3と照射対象物2の間でインピーダンス整合するので反射波が生ぜずに、効率よく均一な電磁界が照射対象物2へ照射される。図20に示される如く照射対象物2と比較して充分に大きな誘電体板3を設置した場合、回り込む透過波が低減するので回折波の影響も低減する。更に、不要な散乱波を減少させ電磁界分布を乱すことがなくなり、照射対象物2に対する電磁界照射量を制御することができる。
【0014】
【実施例】
この発明の実施例を図を参照して説明する。
図1および図2を参照して請求項1に対応する実施例を説明する。電磁界照射装置の第1の実施例は、電磁界を放射する送信アンテナ1、空気層と照射対象物2との間のインピーダンス整合器を構成する誘電体板3(誘電率と厚みを有する誘電体板)、これら構成部材を収容保持する支持具4より成る。支持具4の上部には誘電体板支持片41が突出形成されている。支持具4および誘電体板支持片41はアクリル、テフロン(登録商標)の如き周囲の電磁界を乱さない低誘電率材料により構成される。
【0015】
図1において、送信アンテナ1は電磁界を上に向けて放射し、照射対象物2を電磁界照射する。インピーダンス整合器の役割を担う誘電体板3を、支持具4内の空気層と照射対象物2との間に設置することにより、空気層と誘電体板3との間のインピーダンス整合をとると共に、誘電体板3と照射対象物2との間のインピーダンス整合をとる。これらのインピーダンス整合をとることにより反射波が生ぜず、効率よく均一な電磁界を照射対象物2に照射することができる。
図2を参照して説明するに、支持具4の中間部には誘電体板支持片41が突出形成され、誘電体板3はこれに支持されている。支持具4の誘電体板支持片41より下側には、対象物支持部材42が形成され、照射対象物2はこれによりを支えられている。送信アンテナ1は電磁界を下に向けて放射し、照射対象物2を電磁界照射する。対象物支持部材42も、アクリル、テフロン(登録商標)の如き周囲の電磁界を乱さない低誘電率材料により構成される。インピーダンス整合器の役割を担う誘電体板3を空気層と照射対象物2との間に設置することにより、空気層と誘電体板3との間のインピーダンス整合をとると共に、誘電体板3と照射対象物2との間のインピーダンスを整合をとる。これらのインピーダンス整合をとることにより反射波が生ぜず、効率よく均一な電磁界を照射対象物2に照射することができる。
【0016】
図3および図4を参照して請求項2に対応する実施例を説明する。誘電体板支持片41は支持具4の中間部に突出形成され、誘電体板3を支持している。支持具4はその上端に上板5を取り付けている。この上板5の下面には電波吸収体6が被着せしめられている。
支持具4の上端の上板5に電波吸収体6を被着せしめることにより、照射対象物2を透過した透過波および照射対象物2の反射波を吸収して不要な散乱波を低減させることができる。
図4を参照して説明するに、支持具4の上端は、電磁界の照射方向の延長線上に傾斜して反射板7を取り付けて覆われている。
【0017】
支持具4の上端に傾斜して反射板7を取り付けることにより、これに到来入射する照射対象物2を透過した透過波および照射対象物2の反射波を照射対象物2に無関係の方向へ反射させ、照射対象物2に対する不要な散乱波を低減させる。
更に、照射対象物2に照射されずに周囲の物体、支持具4の壁面により散乱した電磁界についても、電波吸収体6による吸収或いは反射板7による反射により再び照射対象物2に入射することを阻止することができる。
図5を参照して請求項3に対応する実施例を説明する。電磁界を照射する放射源が複数の送信アンテナ11、12、13により構成される。各送信アンテナ11、12、13の給電回路装置は、信号源81、信号源81から供給される電力を分配する分配器82、給電電力を制御する減衰器831、832、833、位相を制御する位相器841、842、843より成る。これら給電回路装置を制御することにより、各送信アンテナ11、12、13の放射する電磁界のビームパターンを形成する。
【0018】
図5はホーンアンテナを放射源とした例である。各送信アンテナ12を調整することによりビームパターンを制御し、誘電体板3に広範囲で均一な電磁界を入射させることによって、照射対象物2に対して広範囲な均一電磁界を照射することができる。
図6を参照して請求項4に対応する実施例を説明する。43はアンテナ保持体を示す。このアンテナ保持体43は送信アンテナ1を担持した状態で支持具4に沿って上下方向に可動位置決めされる構成を有している。41’は誘電体板可動支持片であり、支持具4に沿って上下方向に可動位置決めされる構成を有している。更に、送信アンテナ1をも支持具4に沿って上下方向に可動位置決めする。
【0019】
送信アンテナ1をアンテナ保持体43により支持具4に沿って上下方向に可動調整位置決めすると共に、誘電体板3を誘電体板可動支持片41’により支持具4に沿って上下方向に可動調整位置決めする構成を採用することにより、送信アンテナ1と誘電体板3との間の距離を変化調整することにより、誘電体板3に入射する電磁界分布が変化し、照射対象物2を載置する面における照射電磁界分布を制御することができる。
図7を参照して請求項5に対応する実施例を説明する。インピーダンス整合器の役割を担う誘電体板3を、整合条件を満足する厚みより薄く構成して同一誘電率を有する薄厚誘電体板31を複数枚積層して形成し、薄厚誘電体板31の複数枚全体の厚みで整合条件を満足する構成としている。インピーダンス整合器の役割を担う誘電体板3の厚みは照射電磁界の周波数により異なるものであるところから、使用周波数により薄厚誘電体板31の枚数を変化させて誘電体板3の厚みを調整することにより、任意の周波数で照射対象物2との間のインピーダンス整合をとることを容易にしている。
【0020】
図8を参照して請求項6に対応する実施例を説明する。インピーダンス整合器の役割を担う誘電体板3が、相異なる誘電率、厚みを有する複数枚の薄厚誘電体板31、32、33で形成され、複数段のインピーダンス整合をとる構成とされている。空気層と照射対象物2との間を一段でインピーダンス整合しようとせずに、インピーダンス整合を多段にすることにより、最終的に照射対象物2と照射電磁界のインピーダンス整合を得る。数段に分けてインピーダンス整合を行うことにより整合条件を得る誘電率の選択範囲が広がり、薄厚誘電体板31、32、33として採用し得る誘電材料の選択が容易になる。図8の如く、空気層と薄厚誘電体板32の間のインピーダンス整合を薄厚誘電体板31で行い、薄厚誘電体板31と薄厚誘電体板33のインピーダンス整合を薄厚誘電体板32で行い、そして、最後に、薄厚誘電体板32と照射対象物2との間のインピーダンス整合を薄厚誘電体板33で行う。ここで、薄厚誘電体板32が高誘電率、低損失であった場合、入射電磁界の波長短縮が大きくなり、誘電体板3を置かない場合と比較して送信アンテナ1から照射対象物2までの伝播距離を多くとることができるところから、入射電磁界はより平面波に近づき、より均一な電磁界照射をすることができる。
【0021】
図9を参照して請求項7に対応する実施例を説明する。設置する誘電体板3はその一部は空気層と照射対象物2との間のインピーダンス整合条件に適う誘電率を有する第1の誘電体領域30とし、その他の部分は整合条件とは異なる誘電率を有する第2の誘電体領域30’で構成される。整合条件を満足する第1の誘電率領域30を変化させることにより、整合させて効率良く照射する領域を制御することができる。即ち、図9の場合の如く、照射対象物2に接する第1の誘電率領域30のみ整合条件に適う誘電率を有する誘電体板とし、その他の第2の誘電体領域30’を損失の大きい誘電体板とすることにより第2の誘電体領域30’において回折波の削減効果を発揮させることができる。
【0022】
図10および図11を参照して請求項8に対応する実施例を説明する。電磁界の照射側から見て照射対象物2の後方にも整合条件を満足する誘電率の後方誘電体板34を設置する構成を採用する。或いは、図11に示される如く、照射対象物2の後方および周辺に亘って、整合条件を満足する誘電率の後方周辺誘電体板35を配置する構成を採用する。
これらの構成を採用することにより、入射電磁界だけではなく、透過波或いは回折波との間のインピーダンス整合をもとることができ、不要な散乱波をより少なくすることができる。
【0023】
図12を参照して請求項9に対応する実施例を説明する。この実施例は、図1の実施例において、電磁界照射装置に複数の照射対象物2を設置したものに相当する。照射対象物2と送信アンテナ1との間にインピーダンス変換器を構成する誘電体板3を介在させることにより、複数のサンプルである照射対象物2に対して効率よく均一な電磁界を同時に照射することができる。そして、インピーダンス整合がとれていることにより反射波が低減され、照射対象物2の数が増加しても周囲電磁界の乱れは小さい。図9ないし図11の実施例においても、同様に、複数の照射対象物2を設置して上述した効果と同様な効果を奏す。
【0024】
図13を参照して請求項10に対応する実施例を説明する。照射対象物2は細胞培養器40内に収容配列された複数の細胞培養皿とされている。細胞培養器40内にはインピーダンス整合器として誘電体板3を設置し、その上にサンプルである細胞培養液で満たされた容器である細胞培養皿を複数配列設置している。誘電体板3により、細胞培養液とのインピーダンス整合がとれ、放射された電磁界は効率よく均一に細胞に照射される。そして、各サンプルから放射される散乱波も低減されるので、周囲の電磁界の乱れが小さく、各サンプル内に照射される電磁界照射量を制御することができる。
【0025】
ところで、以上の実施例において、誘電体板3は、何れも、固体材料より成るものであったが、これをインピーダンス整合条件に適う誘電率と厚みを有する液状誘電体により構成することができる。必要な厚みを有する薄型の容器を準備して、これに液状誘電体を充填して形成する。
図1ないし図13の実施例について説明してきたが、これの説明においては、何れも、照射対象物2の大きさおよび厚みに関して格別の考慮は払われていなかった。照射対象物2の大きさおよび厚みが大である場合は、電磁界入射側の空気層、誘電体板3、照射対象物2に着目し、誘電体板3下面における入射側から照射対象物2を見込んだインピーダンスの整合を得て効率よく照射対象物2に電磁界を照射することができる。この場合、誘電体板3の厚みと誘電率を調整することにより、誘電体板3の厚みを誘電体板内部の電磁界波長の1/4に設定することを実施していた。しかし、照射対象物2の大きさが小さく厚みが薄い場合、誘電体板3の後方の空気層の影響が現れて、誘電体板3の厚みを内部の電磁界波長の1/4に設定しても、誘電体板3下面における入射側から照射対象物2を見込んだインピーダンスの整合を得ることができないことが解った。
【0026】
ここで、図21の実施例を参照するに、電磁界入射側の空気層、誘電体板3、照射対象物2および照射対象物2の後方である終端側の空気層迄をも含む領域Sに着目し、誘電体板3の厚みと誘電率を調節することにより、誘電体板3下面における入射側から終端側を見込んだインピーダンスの整合をとる電磁界照射装置のインピーダンス整合方法を採用して、照射対象物2に効率よく電磁界を照射することができた。誘電体板3の厚みと誘電率の調節は電子計算機によるシミュレーションを実施しながら行うことができる。以上の通りにして、照射対象物2の大きさおよび厚みに無関係にインピーダンスの整合を得ることができる。
【0027】
図22の実施例は、図21の実施例において、誘電体板3に載置される照射対象物2の数を複数としたものに相当する。図21の場合と同様に、電磁界入射側の空気層、誘電体板3、照射対象物2および照射対象物2の後方である終端側の空気層迄をも含む領域Sに着目し、誘電体板3の厚みと誘電率を調節することにより、誘電体板3下面における入射側から終端側を見込んだインピーダンスの整合を得て、複数の照射対象物2に効率よく電磁界を照射することができる。
ここで、図23を参照して更なる実施例を説明する。これは照射対象物2と誘電体板3の間に損失性媒質層39を介在させている。これにより、照射対象物2から放射される不要な散乱波を除去する。損失性媒質層39と誘電体板3の厚みと誘電率を調整することにより、電磁界入射側の空気層、誘電体板3、損失性媒質層39、照射対象物2、そして終端側の空気層迄をも含む領域Sについて、誘電体板3下面における入射側から終端側を見込んだインピーダンスの整合を得て効率よく電磁界を照射することができる。
【0028】
図24を参照して複数の照射対象物に効率よく電磁界を照射する実施例を説明する。図23におけると同様に、損失性媒質層39と誘電体板3の厚みと誘電率を調整することにより電磁界入射側の空気層、誘電体板3、損失性媒質層39、照射対象物2、そして終端側の空気層迄をも含む領域Sについて、誘電体板3下面における入射側から終端側を見込んだインピーダンスの整合を得て効率よく、複数の照射対象物に電磁界を照射する。
図25の実施例においては、照射対象物2の周囲に照射対象物と同じ高さまで損失性媒質39を延伸形成し、照射対象物2からの不要な散乱波を除去する。即ち、損失性媒質層39と誘電体板3の厚みと誘電率を調節し、電磁界入射側の空気層、誘電体板3,損失性媒質層39、照射対象物2、および終端側の空気層までを含む領域Sについて、誘電体板3下面における入射側から終端側を見込んだインピーダンスの整合を得て効率よく照射対象物2に電磁界を照射する。
【0029】
図26の実施例は、図25の実施例において損失性媒質層39に載置される照射対象物2の数を複数としたものに相当する。図25の実施例の場合と同様に、損失性媒質層39と誘電体板3の厚みと誘電率を調節して、電磁界入射側の空気層、誘電体板3、損失性媒質層39、照射対象物2、および終端側の空気層までを含む領域Sについて、誘電体板3下面における入射側から終端側を見込んだインピーダンスの整合を得て効率よく複数の照射対象物2に電磁界を照射する。損失性媒質39を図示される通りに形成することにより、複数位置した照射対象物2間の干渉を低減することができる。
【0030】
図27を参照するに、これは損失性媒質層39を照射対象物2の全表面に亘って延伸形成している。これにより、照射対象物2から不要な散乱波が放射されるのを除去することができる。損失性媒質層39と誘電体板3の厚みと誘電率を調節して、電磁界入射側の空気層、誘電体板3、損失性媒質層39、照射対象物2および終端側の空気層までを含む領域Sについて、誘電体板3下面における入射側から終端側を見込んだインピーダンスの整合を得て効率よく照射対象物2に電磁界を照射することができる。
図28を参照するに、これは図27の実施例において照射対象物2の数を複数としたものに相当する。図27の実施例の場合と同様に、損失性媒質層39と誘電体板3の厚みと誘電率を調節し、電磁界入射側の空気層、誘電体板3、損失性媒質層39、照射対象物2および終端側の空気層までを含む領域Sについて、誘電体板3下面における入射側から終端側を見込んだインピーダンスの整合を得て複数の照射対象物に効率よく電磁界を照射することができる。損失性媒質39を図示される通りに配置することにより、複数配置した照射対象物の相互間の干渉を低減することができる。
【0031】
ここで、図21ないし図28により図示説明される電磁界照射装置において、損失性媒質層と誘電体板の一方或いは双方を液状の物質により置換した電磁界照射装置を構成した。
一例として、損失性媒質を液状の損失性媒質に置き換える。誘電体板を容器の形状に構成し、この容器内に液状の損失媒質を注入保持する。或いは、それぞれを薄い低損失誘電体容器で保持する。
そして、図21ないし図28により図示説明される電磁界照射装置において、誘電体板を容器に収容した誘電性液体により置換し、誘電性液体を循環せしめる循環器を容器に付加した電磁界照射装置を構成した。誘電性液体を循環させることにより照射対象物の温度を一定に保持する。循環する誘電性液体による冷却効果により、高出力の電磁界照射を行っても照射対象物の熱上昇を抑えることができ、適正な実験を実施することができる。
【0032】
また、図23ないし図28により図示説明される電磁界照射装置実施例において、損失性媒質層を容器に収容した損失性液体により置換し、容器に損失性液体を循環せしめる循環器を付加した電磁界照射装置を構成した。液状損失性媒質を循環させることにより照射対象物の温度を一定に保持する。
循環する液状損失性媒質の冷却効果により、高出力の電磁界照射を行っても照射対象物の熱上昇を抑えることができ、適正な実験を実施することができる。
図29を参照するに、これは照射対象物2と誘電体板3の間に損失性媒質層39を介在させた組み合わせ体を、先に図13を参照して説明した細胞培養器40内に収容した実施例を説明する図である。損失性媒質層39と誘電体板3の厚みと誘電率を調節し、電磁界入射側の空気層、誘電体板3、損失性媒質層39、照射対象物2および終端側の空気層までを含む領域Sについて、誘電体板3下面における入射側から終端側を見込んだインピーダンスの整合を得て複数の照射対象物に効率よく電磁界を照射することができる。図23ないし図28の実施例に適用して実施することができる。
【0033】
図30を参照するに、これは、図29と同様に、照射対象物2と誘電体板3の間に損失性媒質層39を介在させた組み合わせ体を、細胞培養器40内に収容した実施例を説明する図である。図30の場合、損失性媒質層39と誘電体板3の厚みと誘電率を調節し、照射対象物2、損失性媒質層39、誘電体板3と周囲の空気層に加えて、細胞培養器40迄を含めたインピーダンスを整合させる領域Sについて、細胞培養器40下面における入射側から終端側を見込んだインピーダンスの整合を得て複数の照射対象物に効率よく電磁界を照射することができる。図23ないし図28の実施例に適用して実施することができる。
【0034】
図31を参照するに、これは照射対象物2を容器200内に収容した実施例を説明する図である。この容器は図21ないし図29の実施例の照射対象物2に適用して実施することができる。そして、照射対象物2を容器200内に収容して整合を得ることにより、照射対象物2が液状の場合についてもこの発明を適用することができる。
【0035】
【発明の効果】
上述した通りであって、空気中に配置された照射対象物に電磁界を照射した場合、空気中と照射対象物の誘電率差が存在するところから照射対象物内に効率よく均一な電磁界を形成することは非常に困難であるが、この発明によれば、電磁界照射実験を実施するに使用される電磁界照射装置においてインピーダンス整合器として誘電体板を使用することにより、照射対象物から放射される反射波および不要な散乱波を低減し、照射効率を上げ、照射対象物に対して均一な電磁界を照射することができる。そして、この発明の電磁界照射装置は、誘電体板と照射対象物とを一括して細胞培養容器内に収容してこれを照射対象物とすることにより、細胞培養容器内の複数のサンプルに対して均一電磁界を同時に照射することができる。
【0036】
更に、電磁界入射側の空気層、誘電体板、照射対象物および照射対象物の後方である終端側の空気層迄をも含む領域に着目し、誘電体板の厚みと誘電率を調節することにより、誘電体板下面における入射側から終端側を見込んだインピーダンスの整合を得る構成を採用することにより、誘電体板の厚みと誘電率の調節を電子計算機によるシミュレーションを実施しながら、照射対象物の大きさおよび厚みに無関係に電磁界照射装置のインピーダンスの整合をとることができる。
【図面の簡単な説明】
【図1】電磁波を上に向けて照射する場合のインピーダンス整合する電磁界照射装置の基本構成を説明する図 。
【図2】電磁波を下に向けて照射する場合のインピーダンス整合する電磁界照射装置の基本構成を説明する図 。
【図3】電波吸収体を設置した電磁界照射装置を説明する図。
【図4】反射板を設置した電磁界照射装置を説明する図。
【図5】電磁界放射源として複数の送信アンテナを使用する電磁界照射装置を説明する図。
【図6】送信アンテナおよび/或いは誘電体板の位置調整をする電磁界照射装置を説明する図。
【図7】誘電体板を同じ誘電率を有する複数枚の薄厚誘電体板で形成した電磁界照射装置を説明する図。
【図8】誘電体板を異なる誘電率および厚みを有する複数枚の誘電体板で形成した電磁界照射装置を説明する図。
【図9】空気層と照射対象物との間のインピーダンス整合条件に適う誘電率を有する第1の誘電体領域と整合条件とは異なる誘電率を有する第2の誘電体領域で誘電体板を構成した電磁界照射装置を説明する図。
【図10】照射対象物の後方に後方誘電体板を付加配置した電磁界照射装置を説明する図。
【図11】照射対象物に後方周辺誘電体板を配置した電磁界照射装置を説明する図。
【図12】照射対象物を複数とした電磁界照射装置を説明する図。
【図13】内部に複数の細胞培養皿を収容配列した細胞培養器を照射対象物とした電磁界照射装置を説明する図。
【図14】TEMセルを説明する図。
【図15】照射対象物の背面に金属導体を配置し定在波を利用した照射を説明する図。
【図16】照射対象物による定在波の発生を説明する図。
【図17】インピーダンス整合器を照射対象物に装着した場合の電界分布を説明する図。
【図18】照射対象物に電磁界を照射した場合の電磁界の様子を説明する図。
【図19】インピーダンス整合条件を満たす誘電体板を装着した場合の電磁界の様子を説明する図。
【図20】寸法の大きな誘電体板を装着した場合の電磁界の様子を説明する図。
【図21】実施例においてインピーダンスを整合させる領域を示す図。
【図22】図21の実施例において照射対象物を複数とした実施例を説明する図。
【図23】損失性媒質層を介在させた実施例を説明する図。
【図24】図23の実施例において照射対象物を複数とした実施例を説明する図。
【図25】照射対象物の周囲にまで損失性媒質を延伸形成した実施例を説明する図。
【図26】図25の実施例において照射対象物を複数とした実施例を説明する図。
【図27】損失性媒質層を照射対象物の全表面に亘り延伸形成した実施例を説明する図。
【図28】図27の実施例において照射対象物を複数とした実施例を説明する図。
【図29】照射対象物と誘電体板の間に損失性媒質層を介在させた組み合わせ体を培養器内に収容した実施例を説明する図。
【図30】図29において、培養器下面においてインピーダンスを整合をとるところを説明する図。
【図31】照射対象物を容器内に収容した実施例を説明する図。
【符号の説明】
1 送信アンテナ 2 照射対象物
3 誘電体板 4 支持具
Claims (19)
- 電磁界照射装置において、
電磁界を放射する送信アンテナと、
照射対象物とインピーダンス整合器を形成する誘電率および厚みを有する誘電体板と、
送信アンテナと照射対象物との間に誘電体板を介在支持する支持具とを具備することを特徴とする電磁界照射装置。 - 請求項1に記載される電磁界照射装置において、
照射対象物に対向して電波吸収体6を設置し、或いは反射板を傾斜して設置したことを特徴とする電磁界照射装置。 - 請求項1および請求項2の内の何れかに記載される電磁界照射装置において、
複数の送信アンテナを具備し、
これら送信アンテナを入力電力、位相を制御して励振する信号源を具備することを特徴とする電磁界照射装置。 - 請求項1ないし請求項3の内の何れかに記載される電磁界照射装置において、
誘電体板および/或いは送信アンテナを支持具に沿って位置決め調整する構成を具備することを特徴とする電磁界照射装置。 - 請求項1ないし請求項4の内の何れかに記載される電磁界照射装置において、
誘電体板を同一誘電率を有する複数枚の薄厚誘電体板で構成したことを特徴とする電磁界照射装置。 - 請求項1ないし請求項4の内の何れかに記載される電磁界照射装置において、
誘電体板を互いに誘電率および/或いは厚みを異にする複数枚の誘電体板で構成したことを特徴とする電磁界照射装置。 - 請求項1ないし請求項4の内の何れかに記載される電磁界照射装置において、
誘電体板は照射対象物との間のインピーダンス整合条件に適う誘電率を有する第1の誘電体領域と、整合条件とは異なる誘電率を有する第2の誘電体領域で構成したことを特徴とする電磁界照射装置。 - 請求項1ないし請求項4の内の何れかに記載される電磁界照射装置において、
照射対象物の後方に整合条件を満足する後方誘電体板を設置し、或いは、照射対象物の後方および周辺に亘って整合条件を満足する後方周辺誘電体板を設置したことを特徴とする電磁界照射装置。 - 請求項1ないし請求項8の内の何れかに記載される電磁界照射装置において、
照射対象物は個別に配列支持された複数の照射対象物より成ることを特徴とする電磁界照射装置。 - 請求項1ないし請求項9の内の何れかに記載される電磁界照射装置において、
誘電体板と照射対象物とを一括して細胞培養容器内に収容したことを特徴とする電磁界照射装置。 - 請求項1ないし請求項10の内の何れかに記載される電磁界照射装置において、
インピーダンス整合器としての誘電体板を液状誘電体で構成したことを特徴とする電磁界照射装置。 - 請求項1ないし請求項4の内の何れかに記載される電磁界照射装置において、
電磁界入射側の空気層、誘電体板、照射対象物および照射対象物の後方である終端側の空気層迄をも含む領域に着目し、誘電体板の厚みと誘電率を調節することにより、誘電体板下面における入射側から終端側を見込んでインピーダンス整合をとって構成したことを特徴とする電磁界照射装置。 - 請求項12に記載される電磁界照射装置において、
照射対象物と誘電体板の間に損失性媒質層を介在させたことを特徴とする電磁界照射装置。 - 請求項13に記載される電磁界照射装置において、
損失性媒質層を照射対象物の周囲に迄延伸形成したことを特徴とする電磁界照射装置。 - 請求項13および請求項14の内の何れかに記載される電磁界照射装置において、
照射対象物の個数を複数としたことを特徴とする電磁界照射装置。 - 請求項12ないし請求項15の内の何れかに記載される電磁界照射装置において、
損失性媒質層と誘電体板の一方或いは双方を液状の物質により置換したことを特徴とする電磁界照射装置。 - 請求項12に記載される電磁界照射装置において、
誘電体板を容器に収容した誘電性液体により置換し、容器に誘電性液体を循環せしめる循環器を付加したことを特徴とする電磁界照射装置。 - 請求項13ないし請求項15の内の何れかに記載される電磁界照射装置において、
損失性媒質層を容器に収容した損失性液体により置換し、容器に損失性液体を循環せしめる循環器を付加したことを特徴とする電磁界照射装置。 - 電磁界照射装置のインピーダンス整合方法において、電磁界入射側の空気層、誘電体板、照射対象物および照射対象物の後方である終端側の空気層迄をも含む領域に着目し、誘電体板の厚みと誘電率を調節することにより、誘電体板下面における入射側から終端側を見込んでインピーダンス整合をとることを特徴とする電磁界照射装置のインピーダンス整合方法。
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JP2006061047A (ja) * | 2004-08-26 | 2006-03-09 | Kyushu Hitachi Maxell Ltd | ハイブリダイゼーション装置 |
KR101074533B1 (ko) | 2009-10-15 | 2011-10-17 | 한국항공우주연구원 | 고출력 rf 안테나 시스템 검증용 안테나 햇 |
JP2019186942A (ja) * | 2018-04-11 | 2019-10-24 | アップル インコーポレイテッドApple Inc. | 誘電体層に搭載された電子デバイスのアンテナアレイ |
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