JP2004195864A - ゴム印字体の製造方法 - Google Patents
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Abstract
【課題】レーザ加工機を使用してゴム印字体を製造する従来の方法は、レーザ加工機で印材を彫刻する工程と印材を切断する工程が別々であるので非効率的であった。また、印材を彫刻した後、今度はレーザ加工機でベクター加工して印材を切断する方法も考えられるが、彫刻する工程と切断する工程が別々であることには変わりがなかった。
【解決手段】ゴム系材質からなる印材の表面をデータに基づいて出力を調節しながらレーザ光で加工するゴム印字体の製造方法であって、基底部、肩部、傾斜部、字面部からなるゴム印字体を一回のラスター加工によって切断と彫刻を同時に行なうことを特徴とするゴム印字体の製造方法。
【解決手段】ゴム系材質からなる印材の表面をデータに基づいて出力を調節しながらレーザ光で加工するゴム印字体の製造方法であって、基底部、肩部、傾斜部、字面部からなるゴム印字体を一回のラスター加工によって切断と彫刻を同時に行なうことを特徴とするゴム印字体の製造方法。
Description
【0001】
【発明の属する技術分野】
本発明は、レーザ光によるゴム印字体の製造方法に関し、更に詳しくは、天然ゴムやエラストマーなどゴム系材質の印材を加工してゴム印字体を製造する方法に関するものである。
【0002】
【従来の技術】
天然ゴムやエラストマーなどゴム系材質の印材に対して、レーザ加工機を使用して彫刻を施したゴム印字体としては、特開平3−35890、特開平6−234262などが公知となっている。
このような従来のゴム印字体を製造するには次のようなラスター加工法が用いられている。まず、シート状の印材をレーザ加工機のテーブル上にのせた後、制御装置に記憶させた加工データに従って、レーザ出力を調節しつつY軸方向に走査する。1ライン分を走査し終えたら、X軸方向に任意分移動し、また1ライン分Y軸方向に走査する。このようにして、字面、斜面、肩を彫刻する。
次に、彫刻後の印材を取り出し、洗浄機にて印材表面及び印材内部を洗浄しゴム屑やカーボン屑を除去した後、乾燥機にて印材を乾燥させた後、抜き型で所要の形状に切り取ってゴム印字体を得るのである。このような製造方法として特開2000−043391などが知られている。
【0003】
【特許文献1】
特開平3−35890号公報
【特許文献2】
特開平6−234262号公報
【特許文献3】
特開2000−043391号公報
【0004】
【発明が解決しようとする課題】
しかしながら従来の方法は、レーザ加工機で印材を彫刻する工程と印材を切断する工程が別々であるので非効率的であった。また、印材を彫刻した後、今度はレーザ加工機でベクター加工して印材を切断する方法も考えられるが、彫刻する工程と切断する工程が別々であることには変わりがない。
【0005】
【課題を解決するための手段】
前記課題を解決する為に、ゴム系材質からなる印材の表面をデータに基づいて出力を調節しながらレーザ光で加工するゴム印字体の製造方法であって、基底部、肩部、傾斜部、字面部からなるゴム印字体を一回のラスター加工によって切断と彫刻を同時に行なうことを特徴とするゴム印字体の製造方法を提供する。
【0006】
【発明の実施の形態】
以下、本発明を詳細に説明する。
本発明に用いられる印材としては、天然ゴム、アクリロニトリル−ブタジエンゴム、スチレン−ブタジエンゴム、シリコーンゴム、エチレン−プロピレン−ジエンゴム等の生ゴムと他の薬品を混練りしてシート状に成形し、これを加硫・架橋成形した非多孔質ゴムシートや、前記生ゴムと他の薬品と塩化ナトリウム等の水溶性物質を混練りしてシート状に成形し、これを加硫又は架橋成形し、前記水溶性物質を除去してスポンジ化した多孔質ゴムシートや、オレフィン系エラストマー等の樹脂と他の薬品と塩化ナトリウム等の水溶性物質を混練りしてシート状に成形し、これを加熱成形し、前記水溶性物質を除去してスポンジ化した多孔質エラストマーシートなどが用いられる。このように圧力を加えると容易に変形する軟質材を用いたゴム印字体は、主に認印・住所印に用いられる。
【0007】
次に、ゴム印字体を製造する方法について説明する。
本発明では、各種ハードウエアやソフトウエアを備えてなる版下作成装置によって版下を作成し、制御装置とレーザ加工機とからなる印面作成装置によって前記版下を基にレーザ光にて印材を切断彫刻してゴム印字体を製造する。
まず、主にコンピュータからなる版下作成装置を用いてデータ化された版下を作成、または、写植機などを用いて原稿となる版下を作成してこれをイメージスキャナでスキャニングしてデータ化した版下を作成する。
次に、主にコンピュータからなる制御装置にて当該データを基底部(ボディー)、肩部(ショルダー)、傾斜部(べヴェル)、字面部(フェイス)に分割し、立体的なデータ解析処理を行なう。基底部は印字体の基幹をなすものであって、傾斜部や字面部を保持するものである。基底部はレーザ光によって切断され形成されるものである。肩部は前記版下の文字や図形の存在しない空白部分が相当し、レーザ光によって彫刻され形成されるものである。肩部の深さは、傾斜部の高さと字面部の高さを合算した高さと同一となる。傾斜部は肩部から字面部までの立ち上がり部分に相当し、仰角θ=5°〜85°程度の角度になるようにレーザ光によって彫刻され形成されるものである。したがって、傾斜部の幅はレーザ光の走査送りピッチの3倍以上にする必要がある。走査送りピッチの3倍以上であれば傾斜部に照射可能なレーザ光は3走査以上を確保でき、傾斜部を彫刻することが可能だからである。また、傾斜部にはx2/a2+y2/b2=1の方程式で表すことができる円あるいは楕円の一部分である円弧又はそれに近似する形状などで形成される。実際に傾斜部を彫刻する際は、傾斜部を走査するレーザ光の出力を増減して各走査線上の傾斜部の高さを調節する。字面部は版下の文字や図形の存在する部分に相当するので、字面部の幅は版下の文字や図形の幅と同一に形成される。字面部に高さを与える必要は特になく通常は0mmでよいが、ある程度の高さを持つように形成することもできる。その際は、字面部の高さ:印字体の高さ(字面部の高さと傾斜部の高さと基底部の高さを合算した高さ)=1〜50:100に設定され、好ましくは、字面部の高さ:印字体の高さ=2〜20:100に設定される。
次に、以上の解析情報に基づいてラスター加工を行ない、前記印材を切断彫刻する。
適当な大きさにカッティングされたシート状の印材をレーザ加工機のX−Yテーブルに載せ、X−Y方向に移動可能なヘッドからレーザ光を照射し、前記印材上を走査する。走査ピッチは30〜60μが実用的な範囲である。レーザ光は炭酸ガスレーザ又はYAGレーザが好ましく使用され、スポットの大きさは50〜200μ程度のものが用いられる。レーザ光によるラスター加工が終了すると基底部、肩部、傾斜部、字面部が形成された印字体が得られる。
ここで、使用するレーザ加工機の一例を図1に示す。1は本体であって、内部にはレーザ発振機4、集塵機5、脱臭機6、吸引機7などを収容している。2はカバーであって、レーザ光を通さない素材からできており、レーザ光照射中はカバー2を閉じておく。3はテーブルであって、その上にはレール11がX軸方向(横向き)に2本設置してある。12はアームであって、前記レール11に垂直なY軸方向(縦向き)に設置してあり、その両端からは下方に向かって支持柱を設けた形状をしている。そして、前記支持柱が前記レール上に沿って移動可能に設置することにより、アーム12はX軸方向に移動可能となっている。13は前記アーム12に移動可能に支持されたヘッド部であって、Y軸方向にのみ移動可能となっている。前記ヘッド部13は、固定ミラー、レンズ、レーザ発射口からなるノズルを有しており、更に、吸引ホース18も支持固定している。19は反射ミラーであって、レーザ発振機4から発射されたレーザ光を複数のミラーを経由して前記レール12に平行に反射するものである。20及び21はアームの末端に設置された可動ミラーA及び可動ミラーBであって、反射ミラー19から反射されてきたレーザ光を可動ミラーA20で反射させてレーザ光を可動ミラーB21に当て、次に、可動ミラーB21で反射されたレーザ光を前記固定ミラーに反射するものである。また、テーブル3の中央部分には無数の孔が空けてあり、印材をのせた後テーブル下から吸引し印材を固定させることができる。印材をのせる部分のテーブルは、昇降可能にしてあり、前記レーザ発射口と印材表面との距離を1インチに保つよう昇降させることができる。8はレーザ加工の制御指令を行う制御装置であって、版下データの実行ファイル変換、加工位置検出、レーザ入切操作、レーザ出力制御、加工に伴う各種装置の同調操作などを操作を行なう。
本発明では印材の彫刻だけでなく、同時に印材の切断も行なう必要があるので、大きなレーザ出力が求められる。1機のレーザ発振機で大きなレーザ出力が得られない場合は、2機のレーザ発振機を用い、ビームコンバイナでレーザ光の結合を行なってレーザ出力を高めても良い。
ここで、レーザ光は、スポットの中心部の出力が強く、スポットの外側に向かって出力が弱くなる特性があるので、スポット100μの炭酸ガスレーザ光を50μピッチごとで走査すると、滑らかな形状を形成することが可能である。
【0008】
【実施例】
以下、本発明の実施例を説明する。
本実施例では、アクリロニトリル−ブタジエンゴム(NBR)と充填剤・加硫材・加硫助剤・塩化ナトリウム等を混練りしてシート状に成形し、これを加硫した後前記水溶性物質を除去してスポンジ化した5mm厚の多孔質ゴムシートを印材として用い、また、X−Y方向に移動可能なヘッドから出力30W・スポット100μの炭酸ガスレーザ光を照射可能であって、走査ピッチ50μで走査できるレーザ加工機を使用する。
まず、コンピュータを用いて、文字や図形の存在する部分は黒いドット、文字や図形の存在しない部分は白いドットで表現する版下を作成し、次に、コンピュータにて当該データを基底部(ボディー)、肩部(ショルダー)、傾斜部(ベヴェル)、字面部(フェイス)に分割した立体的なデータ解析処理を行なう。
字面部は、文字や図形の存在する黒いドットの部分が字面部に相当するので、前記版下の文字や図形の幅と同一にし、彫刻しないようにレーザ出力0%の指令を出すように設定する。次に、字面部の外周0.6mm分を傾斜部領域として確保し、字面部の高さが0.2mm、傾斜部の高さが0.8mmとなるようにレーザ出力を設定し、かつ、傾斜部の幅0.6mmを0.05mmごとに12分割し、傾斜部がストレートになるように各ピッチのレーザ出力を設定する。字面部から数えて最初の0.05mm分(第1ピッチ目)のレーザ出力は、字面部の高さを決定するものであって、本実施例ではゴム印字体5%に設定する。次の0.05mm分(第2ピッチ目)以降のレーザ出力は、前記傾斜部の形状に従って徐々に出力が増減される。次に、肩部としては、文字や図形の存在しない白いドット部分が相当し、レーザ出力は20%に設定される。次に、基底部を形成するときのレーザ出力は100%に設定される。
コンピュータ解析処理が終了した後、前記多孔質ゴムシートを前記レーザ加工機のX−Yテーブルの上に載せ、先程のデータ解析処理によるデータに基づきレーザ光を照射する。
まず、レーザ光が基底部の位置に差し掛かると出力が100%となり多孔質ゴムシートが切断される。次のピッチでレーザ出力が20%になり深さ1.0mmの肩部が彫刻される。次に、レーザ光が傾斜部の位置に差し掛かると出力を20%から5%まで段階的に下げ、更に多孔質ゴムシートを彫刻し、幅0.6mm、高さ0.8mmの傾斜部が形成される。次にレーザ光が字面部の位置に差し掛かると出力が0%となり多孔質ゴムシートは彫刻されなくなり、高さ0.2mmの字面部が形成される。次に、レーザ光が傾斜部の位置に差し掛かるとレーザ出力を5%とし、次のピッチから20%まで段階的にレーザ出力を上げ、多孔質ゴムシートを彫刻し、幅0.6mm、高さ0.8mmの傾斜部が形成される。次のピッチからレーザ出力を20%に保持し、深さ1.0mmの肩部が彫刻される。最後にレーザ光が基底部の位置に差し掛かるとレーザ出力が100%となり多孔質ゴムシートが切断される。そして、以上の工程をX−Y各方向に繰り返すことによって、本実施例のゴム印字体が得られる。
【0009】
【発明の効果】
以上の通り、一回のラスター加工で基底部の切断と、肩部、傾斜部、字面部の彫刻を行なうことができるので、効率良くかつ版下に忠実なゴム印字体を得ることができる。
【図面の簡単な説明】
【図1】レーザ加工機の例
【図2】実施例の断面図
【符号の説明】
1 本体
2 カバー
3 テーブル
4 レーザ発振機
5 集塵機
6 脱臭機
7 吸引機
8 制御装置
11 レール
12 アーム
13 ヘッド部
18 吸引ホース
19 反射ミラー
20 可動ミラーA
21 可動ミラーB
51 字面部
52 傾斜部
53 肩部
54 基底部
55 傾斜部の幅
56 字面部の高さ
57 傾斜部の高さ
58 基底部の高さ
【発明の属する技術分野】
本発明は、レーザ光によるゴム印字体の製造方法に関し、更に詳しくは、天然ゴムやエラストマーなどゴム系材質の印材を加工してゴム印字体を製造する方法に関するものである。
【0002】
【従来の技術】
天然ゴムやエラストマーなどゴム系材質の印材に対して、レーザ加工機を使用して彫刻を施したゴム印字体としては、特開平3−35890、特開平6−234262などが公知となっている。
このような従来のゴム印字体を製造するには次のようなラスター加工法が用いられている。まず、シート状の印材をレーザ加工機のテーブル上にのせた後、制御装置に記憶させた加工データに従って、レーザ出力を調節しつつY軸方向に走査する。1ライン分を走査し終えたら、X軸方向に任意分移動し、また1ライン分Y軸方向に走査する。このようにして、字面、斜面、肩を彫刻する。
次に、彫刻後の印材を取り出し、洗浄機にて印材表面及び印材内部を洗浄しゴム屑やカーボン屑を除去した後、乾燥機にて印材を乾燥させた後、抜き型で所要の形状に切り取ってゴム印字体を得るのである。このような製造方法として特開2000−043391などが知られている。
【0003】
【特許文献1】
特開平3−35890号公報
【特許文献2】
特開平6−234262号公報
【特許文献3】
特開2000−043391号公報
【0004】
【発明が解決しようとする課題】
しかしながら従来の方法は、レーザ加工機で印材を彫刻する工程と印材を切断する工程が別々であるので非効率的であった。また、印材を彫刻した後、今度はレーザ加工機でベクター加工して印材を切断する方法も考えられるが、彫刻する工程と切断する工程が別々であることには変わりがない。
【0005】
【課題を解決するための手段】
前記課題を解決する為に、ゴム系材質からなる印材の表面をデータに基づいて出力を調節しながらレーザ光で加工するゴム印字体の製造方法であって、基底部、肩部、傾斜部、字面部からなるゴム印字体を一回のラスター加工によって切断と彫刻を同時に行なうことを特徴とするゴム印字体の製造方法を提供する。
【0006】
【発明の実施の形態】
以下、本発明を詳細に説明する。
本発明に用いられる印材としては、天然ゴム、アクリロニトリル−ブタジエンゴム、スチレン−ブタジエンゴム、シリコーンゴム、エチレン−プロピレン−ジエンゴム等の生ゴムと他の薬品を混練りしてシート状に成形し、これを加硫・架橋成形した非多孔質ゴムシートや、前記生ゴムと他の薬品と塩化ナトリウム等の水溶性物質を混練りしてシート状に成形し、これを加硫又は架橋成形し、前記水溶性物質を除去してスポンジ化した多孔質ゴムシートや、オレフィン系エラストマー等の樹脂と他の薬品と塩化ナトリウム等の水溶性物質を混練りしてシート状に成形し、これを加熱成形し、前記水溶性物質を除去してスポンジ化した多孔質エラストマーシートなどが用いられる。このように圧力を加えると容易に変形する軟質材を用いたゴム印字体は、主に認印・住所印に用いられる。
【0007】
次に、ゴム印字体を製造する方法について説明する。
本発明では、各種ハードウエアやソフトウエアを備えてなる版下作成装置によって版下を作成し、制御装置とレーザ加工機とからなる印面作成装置によって前記版下を基にレーザ光にて印材を切断彫刻してゴム印字体を製造する。
まず、主にコンピュータからなる版下作成装置を用いてデータ化された版下を作成、または、写植機などを用いて原稿となる版下を作成してこれをイメージスキャナでスキャニングしてデータ化した版下を作成する。
次に、主にコンピュータからなる制御装置にて当該データを基底部(ボディー)、肩部(ショルダー)、傾斜部(べヴェル)、字面部(フェイス)に分割し、立体的なデータ解析処理を行なう。基底部は印字体の基幹をなすものであって、傾斜部や字面部を保持するものである。基底部はレーザ光によって切断され形成されるものである。肩部は前記版下の文字や図形の存在しない空白部分が相当し、レーザ光によって彫刻され形成されるものである。肩部の深さは、傾斜部の高さと字面部の高さを合算した高さと同一となる。傾斜部は肩部から字面部までの立ち上がり部分に相当し、仰角θ=5°〜85°程度の角度になるようにレーザ光によって彫刻され形成されるものである。したがって、傾斜部の幅はレーザ光の走査送りピッチの3倍以上にする必要がある。走査送りピッチの3倍以上であれば傾斜部に照射可能なレーザ光は3走査以上を確保でき、傾斜部を彫刻することが可能だからである。また、傾斜部にはx2/a2+y2/b2=1の方程式で表すことができる円あるいは楕円の一部分である円弧又はそれに近似する形状などで形成される。実際に傾斜部を彫刻する際は、傾斜部を走査するレーザ光の出力を増減して各走査線上の傾斜部の高さを調節する。字面部は版下の文字や図形の存在する部分に相当するので、字面部の幅は版下の文字や図形の幅と同一に形成される。字面部に高さを与える必要は特になく通常は0mmでよいが、ある程度の高さを持つように形成することもできる。その際は、字面部の高さ:印字体の高さ(字面部の高さと傾斜部の高さと基底部の高さを合算した高さ)=1〜50:100に設定され、好ましくは、字面部の高さ:印字体の高さ=2〜20:100に設定される。
次に、以上の解析情報に基づいてラスター加工を行ない、前記印材を切断彫刻する。
適当な大きさにカッティングされたシート状の印材をレーザ加工機のX−Yテーブルに載せ、X−Y方向に移動可能なヘッドからレーザ光を照射し、前記印材上を走査する。走査ピッチは30〜60μが実用的な範囲である。レーザ光は炭酸ガスレーザ又はYAGレーザが好ましく使用され、スポットの大きさは50〜200μ程度のものが用いられる。レーザ光によるラスター加工が終了すると基底部、肩部、傾斜部、字面部が形成された印字体が得られる。
ここで、使用するレーザ加工機の一例を図1に示す。1は本体であって、内部にはレーザ発振機4、集塵機5、脱臭機6、吸引機7などを収容している。2はカバーであって、レーザ光を通さない素材からできており、レーザ光照射中はカバー2を閉じておく。3はテーブルであって、その上にはレール11がX軸方向(横向き)に2本設置してある。12はアームであって、前記レール11に垂直なY軸方向(縦向き)に設置してあり、その両端からは下方に向かって支持柱を設けた形状をしている。そして、前記支持柱が前記レール上に沿って移動可能に設置することにより、アーム12はX軸方向に移動可能となっている。13は前記アーム12に移動可能に支持されたヘッド部であって、Y軸方向にのみ移動可能となっている。前記ヘッド部13は、固定ミラー、レンズ、レーザ発射口からなるノズルを有しており、更に、吸引ホース18も支持固定している。19は反射ミラーであって、レーザ発振機4から発射されたレーザ光を複数のミラーを経由して前記レール12に平行に反射するものである。20及び21はアームの末端に設置された可動ミラーA及び可動ミラーBであって、反射ミラー19から反射されてきたレーザ光を可動ミラーA20で反射させてレーザ光を可動ミラーB21に当て、次に、可動ミラーB21で反射されたレーザ光を前記固定ミラーに反射するものである。また、テーブル3の中央部分には無数の孔が空けてあり、印材をのせた後テーブル下から吸引し印材を固定させることができる。印材をのせる部分のテーブルは、昇降可能にしてあり、前記レーザ発射口と印材表面との距離を1インチに保つよう昇降させることができる。8はレーザ加工の制御指令を行う制御装置であって、版下データの実行ファイル変換、加工位置検出、レーザ入切操作、レーザ出力制御、加工に伴う各種装置の同調操作などを操作を行なう。
本発明では印材の彫刻だけでなく、同時に印材の切断も行なう必要があるので、大きなレーザ出力が求められる。1機のレーザ発振機で大きなレーザ出力が得られない場合は、2機のレーザ発振機を用い、ビームコンバイナでレーザ光の結合を行なってレーザ出力を高めても良い。
ここで、レーザ光は、スポットの中心部の出力が強く、スポットの外側に向かって出力が弱くなる特性があるので、スポット100μの炭酸ガスレーザ光を50μピッチごとで走査すると、滑らかな形状を形成することが可能である。
【0008】
【実施例】
以下、本発明の実施例を説明する。
本実施例では、アクリロニトリル−ブタジエンゴム(NBR)と充填剤・加硫材・加硫助剤・塩化ナトリウム等を混練りしてシート状に成形し、これを加硫した後前記水溶性物質を除去してスポンジ化した5mm厚の多孔質ゴムシートを印材として用い、また、X−Y方向に移動可能なヘッドから出力30W・スポット100μの炭酸ガスレーザ光を照射可能であって、走査ピッチ50μで走査できるレーザ加工機を使用する。
まず、コンピュータを用いて、文字や図形の存在する部分は黒いドット、文字や図形の存在しない部分は白いドットで表現する版下を作成し、次に、コンピュータにて当該データを基底部(ボディー)、肩部(ショルダー)、傾斜部(ベヴェル)、字面部(フェイス)に分割した立体的なデータ解析処理を行なう。
字面部は、文字や図形の存在する黒いドットの部分が字面部に相当するので、前記版下の文字や図形の幅と同一にし、彫刻しないようにレーザ出力0%の指令を出すように設定する。次に、字面部の外周0.6mm分を傾斜部領域として確保し、字面部の高さが0.2mm、傾斜部の高さが0.8mmとなるようにレーザ出力を設定し、かつ、傾斜部の幅0.6mmを0.05mmごとに12分割し、傾斜部がストレートになるように各ピッチのレーザ出力を設定する。字面部から数えて最初の0.05mm分(第1ピッチ目)のレーザ出力は、字面部の高さを決定するものであって、本実施例ではゴム印字体5%に設定する。次の0.05mm分(第2ピッチ目)以降のレーザ出力は、前記傾斜部の形状に従って徐々に出力が増減される。次に、肩部としては、文字や図形の存在しない白いドット部分が相当し、レーザ出力は20%に設定される。次に、基底部を形成するときのレーザ出力は100%に設定される。
コンピュータ解析処理が終了した後、前記多孔質ゴムシートを前記レーザ加工機のX−Yテーブルの上に載せ、先程のデータ解析処理によるデータに基づきレーザ光を照射する。
まず、レーザ光が基底部の位置に差し掛かると出力が100%となり多孔質ゴムシートが切断される。次のピッチでレーザ出力が20%になり深さ1.0mmの肩部が彫刻される。次に、レーザ光が傾斜部の位置に差し掛かると出力を20%から5%まで段階的に下げ、更に多孔質ゴムシートを彫刻し、幅0.6mm、高さ0.8mmの傾斜部が形成される。次にレーザ光が字面部の位置に差し掛かると出力が0%となり多孔質ゴムシートは彫刻されなくなり、高さ0.2mmの字面部が形成される。次に、レーザ光が傾斜部の位置に差し掛かるとレーザ出力を5%とし、次のピッチから20%まで段階的にレーザ出力を上げ、多孔質ゴムシートを彫刻し、幅0.6mm、高さ0.8mmの傾斜部が形成される。次のピッチからレーザ出力を20%に保持し、深さ1.0mmの肩部が彫刻される。最後にレーザ光が基底部の位置に差し掛かるとレーザ出力が100%となり多孔質ゴムシートが切断される。そして、以上の工程をX−Y各方向に繰り返すことによって、本実施例のゴム印字体が得られる。
【0009】
【発明の効果】
以上の通り、一回のラスター加工で基底部の切断と、肩部、傾斜部、字面部の彫刻を行なうことができるので、効率良くかつ版下に忠実なゴム印字体を得ることができる。
【図面の簡単な説明】
【図1】レーザ加工機の例
【図2】実施例の断面図
【符号の説明】
1 本体
2 カバー
3 テーブル
4 レーザ発振機
5 集塵機
6 脱臭機
7 吸引機
8 制御装置
11 レール
12 アーム
13 ヘッド部
18 吸引ホース
19 反射ミラー
20 可動ミラーA
21 可動ミラーB
51 字面部
52 傾斜部
53 肩部
54 基底部
55 傾斜部の幅
56 字面部の高さ
57 傾斜部の高さ
58 基底部の高さ
Claims (1)
- ゴム系材質からなる印材の表面をデータに基づいて出力を調節しながらレーザ光で加工するゴム印字体の製造方法であって、基底部、肩部、傾斜部、字面部からなるゴム印字体を一回のラスター加工によって切断と彫刻を同時に行なうことを特徴とするゴム印字体の製造方法。
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---|---|---|---|
JP2002368683A JP2004195864A (ja) | 2002-12-19 | 2002-12-19 | ゴム印字体の製造方法 |
Applications Claiming Priority (1)
Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
---|---|---|---|
JP2002368683A JP2004195864A (ja) | 2002-12-19 | 2002-12-19 | ゴム印字体の製造方法 |
Publications (1)
Publication Number | Publication Date |
---|---|
JP2004195864A true JP2004195864A (ja) | 2004-07-15 |
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ID=32765188
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---|---|---|---|
JP2002368683A Pending JP2004195864A (ja) | 2002-12-19 | 2002-12-19 | ゴム印字体の製造方法 |
Country Status (1)
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Citations (4)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
JPH08132259A (ja) * | 1994-09-13 | 1996-05-28 | Rikagaku Kenkyusho | レーザー加工方法およびレーザー加工装置 |
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- 2002-12-19 JP JP2002368683A patent/JP2004195864A/ja active Pending
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