JP2004115324A - セラミック製品用焼成台 - Google Patents
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Abstract
【課題】セラミック製品の変形及び収縮不足を格段に改善し、焼成治具の製作、使用の必要がない焼成台を提供する。
【解決手段】セラミック製品1を焼成する際に載置する焼成台3であって、カーボンからなり、その両主面5、6に複数の溝4が交互に形成されている。
【選択図】図1
【解決手段】セラミック製品1を焼成する際に載置する焼成台3であって、カーボンからなり、その両主面5、6に複数の溝4が交互に形成されている。
【選択図】図1
Description
【0001】
【発明の属する技術分野】
半導体製造装置用部品、液晶製造装置用部品、加工機、ポンプバルブ、粉砕機等のセラミック製品の焼成時に使用する焼成台に関する。
【0002】
【従来の技術】
従来より、セラミック製品を焼成する際には、図3(a)に示すようにカーボンからなる平板の焼成台13にセラミック製品11及びその収縮を助ける同素材の平板からなる焼成治具12を置いて焼成していた。
【0003】
上記焼成台13としては、図3(b)のようにその表面に小さな凹凸を多数設けることにより、セラミック成形体からの脱バインダーを容易にすることが示されている(特許文献1参照)。
【0004】
さらに、図3(c)のように外縁部分から内側に向けて延びる溝14を設け、溝14のうち外縁部側の端部に該溝14の両側を連結する連結部が形成されていることが示されている(特許文献2参照)。
【0005】
【特許文献1】
特開昭60−243483号公報
【特許文献2】
特許第2828730号
【0006】
【発明が解決しようとする課題】
しかし、上記焼成治具12及びセラミック製品11もこれに倣って反ってしまい、歩留まり、研削加工の効率等に悪影響を及ぼしていた。
【0007】
また、比較的容易な形状の製品を焼成するにあたってもこの焼成治具12が必要で、その作製における原料使用量や切削加工時間がムダであった。
【0008】
また、焼成治具12が単なる平板であったことから、焼成台13が反っているとその上にある焼成治具12及びセラミック製品11も反り、歩留まり及び加工時間の効率が低下するという問題があった。
【0009】
本発明は、上述した課題に鑑みなされたものであってその目的は、カーボン製の焼成台を使用することにより、溝の間を均一にガスが流れ、変形及び収縮不足が格段に改善され、焼成治具を製作、使用する必要がなくなるものである。
【0010】
【課題を解決するための手段】
本発明のセラミック製品用焼成台は、セラミック製品を焼成する際に載置する焼成台であって、カーボンからなり、その両主面に複数の溝が交互に形成されていることを特徴とする。
【0011】
また、本発明のセラミック製品用焼成台は、上記溝の幅が焼成台の全長に対し2〜4%、深さが焼成台の厚みに対し22〜44%で底部が曲面状であることを特徴とする。
【0012】
さらに、本発明の上記セラミック製品が窒化珪素質セラミックスからなることを特徴とする。
【0013】
これにより、従来使用していた変形及び収縮不足防止のために用いていた焼成治具を使用する必要がなくなり、それにかかる切削加工時間及び原料使用量を削減できる。
【0014】
また、上記焼成台はカーボン製で、特性として耐高温・耐強度に優れ、施されている溝により炉内のガスの流れが均一になり、製品の変形や収縮不足を抑えることができ、また、両面に溝が施されていることで両面交互に使用することができる為、焼成台の反りを修正でき、製品の反りを抑えることができる。
【0015】
【発明の実施の形態】
以下、本発明の実施の形態を図面に基づいて説明する。
【0016】
図1(a)は、本発明のセラミック製品用焼成台3を示す正面図、(b)はその側面図であり、セラミック製品1を焼成する際に載置するためのものである。
【0017】
本発明の焼成台3は、カーボンからなり、各主面5、主面6に複数の溝4がそれぞれ交互に形成されており、図2に示すように焼成台3の主面5上にセラミック製品1を載置して焼成炉内で焼成するものである。
【0018】
上記焼成台3の溝4が各主面5、6にそれぞれ交互に施されていることにより、炉内のガスの流れが均一になり、セラミック製品1の変形や収縮不足を抑えることができる。また、主面5、6に溝4が施されていることで両面を交互に使用することができ、焼成台3の反りを修正できるとともに、セラミック製品1の反りを抑えることができる。
【0019】
また、上記焼成台3の溝4の幅Hは、焼成台3の全長Lに対し2〜4%、深さVが焼成台3の厚みTに対し22〜44%であることが好ましい。
【0020】
これにより、従来使用していた変形及び収縮不足防止の為の焼成治具の作製、使用の必要がなくなり、それにかかる切削加工時間及び原料使用量を削減できる。また、上記溝4の幅H、溝4の深さV寸法であればガスの流れがスムーズになり、変形、収縮不足が少ない。また、セラミック製品1と焼成台3の接地面積が十分に確保され、変形・垂れは少なくなり、機械的強度の低下も解消される。
【0021】
ここで、溝4の幅Hが焼成台3の全長Lに対し2%未満となると、炉内のガスの流れが不均一になり、焼成台上のセラミック製品1が変形し、また収縮不足になる。
【0022】
また、溝4の幅Hが焼成台3の全長Lに対し4%を超えると、セラミック製品1と焼成台3の接地面積が小さくなり、接していない部分、つまり溝の上にある部分が垂れてしまい反りが発生する。
【0023】
さらに、溝4の深さVが焼成台3の厚みTに対し22%未満となると、上記溝4の幅Hが焼成台3の全長Lに対し2%未満である場合と同じように炉内のガスの流れが悪くなるため、セラミック製品1の変形及び収縮不足という結果を引き起してしまう。
【0024】
また、溝4の深さVが焼成台3の厚みTに対し44%を超えると、焼成台3の両面に溝4があるという構造上、焼成台3の強度が低下し寿命が短くなってしまう。
【0025】
さらに、上記溝4の底部1aが曲面状を成すことが好ましい。これにより、炉内のガスはセラミック製品1と焼成台3との間を滑らかに流れ、変形及び収縮不足をより効果的に防止することができる。
【0026】
このような焼成台3を用いることによって、窒化珪素質セラミックスからなるセラミック製品1においても変形及び収縮不足をより効果的に防止することができる。窒化珪素質セラミックスは、脱バインダーが難しくクラック等が生じやすい画、焼成台3とセラミック製品1との間にガスがスムーズに流れることから、収縮過程が円滑に行われるためである。
【0027】
上述のようなセラミック製品用の焼成台3を製造するには、先ず、単なる平板焼成台13に溝加工を施し、その後、真空炉にて二度焼き込みを行うことによって得られる。
【0028】
焼成台3はカーボンからなり、例えば最大粒子径が2.3mm、かさ比重1.7g/cm3、熱膨張係数3.6M/K、熱伝導率186W/mKの特性のものが好ましい。
【0029】
そして、先ず平板に溝4を加工した後、真空炉にて二度、焼き込みを行う。これは、焼き込みを一度もしないまま焼成台3として用いると、窒化珪素質セラミックス等のセラミック製品となるセラミック成形体を焼成する際にカーボンからなる焼成台3とが反応してしまいセラミック製品1が焼結しない。これに対し、焼成台3に二度の焼き込みを行うことで焼成炉内の窒化珪素の雰囲気によりカーボンからなる焼成台3の表面がコーティングされ、特に窒化珪素質セラミックスからなるセラミック製品1と焼成台3の反応を極力抑えることができるためである。
【0030】
また、焼成台3の大きさはセラミック製品1の大きさに対し120%程度の大きさとすることが好ましく、セラミック製品1となるセラミック成形体の端部が焼成台3から垂れて反りを発生することなく高精度なセラミック製品1を得ることができる。
【0031】
さらに、焼成台3の主面5、6は、その表面粗さが(Ra)1.6〜6.3μmであることが好ましく、セラミック製品1となるセラミック成形体の表面に影響を及ぼすことなく、色むら等を防止できる。
【0032】
なお、本発明のセラミック製品用焼成台3は、上述の実施形態に限定されることはなく、本発明の要旨を逸脱しない範囲であれば種々の変更は可能である。
【0033】
【実施例】
本発明による焼成台3の効果を確認するため以下の試験を実施した。
【0034】
先ず、本発明の焼成台3を作製するため、図1に示すような格子状の溝を有する焼成台を用意する。
【0035】
先ず、最大粒子径が2.3mm、かさ比重1.7g/cm3、熱膨張係数3.6M/K、熱伝導率186W/mKのカーボンを用いて平板を形成し、切削工具にて溝加工を施す。その後、真空炉にて二度、焼き込みを行う。
【0036】
溝は焼成台3の全長Lに対し幅2〜4%、焼成台3の厚みTに対し深さVが22%〜44%とし、底部を曲面状とした。
【0037】
比較例として、図3(a)に示すような焼成台13を同様なカーボンから作製し、窒化珪素質セラミックスからなる焼成治具を用意した。
【0038】
そしてこれらの焼成台、焼成治具上に窒化珪素質セラミックスからなる成形体を載置して1700〜1800℃にて48時間焼成した。
【0039】
その後、得られたセラミック焼結体に研削加工を施し、450mm角のセラミック製品を20個作製した。
【0040】
焼成治具の切削加工時間、原料使用量、及び得られたセラミック製品の反り、研削加工時間の平均値及び歩留まりを調査した。
【0041】
結果を表1に示す。
【0042】
【表1】
【0043】
表1の結果より、本発明は焼成治具を作製する必要が無いことから、従来それにかかっていた切削加工時間及び原料使用量が短縮できる。
【0044】
また、得られたセラミック製品は、平均の反りが0.2mm、研削加工時間が0.75時間と大幅に削減できており、歩留りも96%と非常に高いことがわかる。
【0045】
これに対し、従来の焼成台及び焼成治具を用いた場合には、焼成治具の加工2時間を要し、得られたセラミック製品の平均の反りが0.7mmと大きく、研削加工時間が1.5時間と長時間を要し、その歩留りが82%と低いものであった。
【0046】
【発明の効果】
本発明のセラミック製品用焼成台によれば、セラミック製品を焼成する際に載置する焼成台であって、カーボンからなり、その両主面に複数の溝が交互に形成されていることから、耐高温・耐強度に優れたカーボンからなり、炉内のガスの流れが均一になり、製品の変形や収縮不足を抑えることができ、また、両面に溝が施されていることで両面交互に使用することができるため、焼成台の反りを修正でき、製品の反りを抑えることができる。
【0047】
また、上記焼成台は、窒化珪素質セラミックス製品の焼成に用いられることにより、脱バインダーが難しくクラック等の入りやすいセラミック製品の焼結を容易に行うことができる。
【図面の簡単な説明】
【図1】(a)は本発明のセラミック製品用焼成台の一実施形態を示す正面図であり、(b)はX−X線における断面図である。
【図2】本発明のセラミック製品用焼成台の上にセラミック製品を載置した状態を示す側面図である。
【図3】(a)は従来の焼成台及び焼成治具を用いてセラミック製品を焼成する様子を示した側面断面図であり、(b)は従来の焼成台を示す側面図、(c)は従来の焼成台の他の例を示す正面図である。
【符号の説明】
1:セラミック製品
1a:溝底部
3:焼成台
4:溝
5:主面
6:主面
11:セラミック製品
12:焼成治具
13:焼成台
14:溝
H:溝幅
V:溝深さ
L:全長
T:厚み
【発明の属する技術分野】
半導体製造装置用部品、液晶製造装置用部品、加工機、ポンプバルブ、粉砕機等のセラミック製品の焼成時に使用する焼成台に関する。
【0002】
【従来の技術】
従来より、セラミック製品を焼成する際には、図3(a)に示すようにカーボンからなる平板の焼成台13にセラミック製品11及びその収縮を助ける同素材の平板からなる焼成治具12を置いて焼成していた。
【0003】
上記焼成台13としては、図3(b)のようにその表面に小さな凹凸を多数設けることにより、セラミック成形体からの脱バインダーを容易にすることが示されている(特許文献1参照)。
【0004】
さらに、図3(c)のように外縁部分から内側に向けて延びる溝14を設け、溝14のうち外縁部側の端部に該溝14の両側を連結する連結部が形成されていることが示されている(特許文献2参照)。
【0005】
【特許文献1】
特開昭60−243483号公報
【特許文献2】
特許第2828730号
【0006】
【発明が解決しようとする課題】
しかし、上記焼成治具12及びセラミック製品11もこれに倣って反ってしまい、歩留まり、研削加工の効率等に悪影響を及ぼしていた。
【0007】
また、比較的容易な形状の製品を焼成するにあたってもこの焼成治具12が必要で、その作製における原料使用量や切削加工時間がムダであった。
【0008】
また、焼成治具12が単なる平板であったことから、焼成台13が反っているとその上にある焼成治具12及びセラミック製品11も反り、歩留まり及び加工時間の効率が低下するという問題があった。
【0009】
本発明は、上述した課題に鑑みなされたものであってその目的は、カーボン製の焼成台を使用することにより、溝の間を均一にガスが流れ、変形及び収縮不足が格段に改善され、焼成治具を製作、使用する必要がなくなるものである。
【0010】
【課題を解決するための手段】
本発明のセラミック製品用焼成台は、セラミック製品を焼成する際に載置する焼成台であって、カーボンからなり、その両主面に複数の溝が交互に形成されていることを特徴とする。
【0011】
また、本発明のセラミック製品用焼成台は、上記溝の幅が焼成台の全長に対し2〜4%、深さが焼成台の厚みに対し22〜44%で底部が曲面状であることを特徴とする。
【0012】
さらに、本発明の上記セラミック製品が窒化珪素質セラミックスからなることを特徴とする。
【0013】
これにより、従来使用していた変形及び収縮不足防止のために用いていた焼成治具を使用する必要がなくなり、それにかかる切削加工時間及び原料使用量を削減できる。
【0014】
また、上記焼成台はカーボン製で、特性として耐高温・耐強度に優れ、施されている溝により炉内のガスの流れが均一になり、製品の変形や収縮不足を抑えることができ、また、両面に溝が施されていることで両面交互に使用することができる為、焼成台の反りを修正でき、製品の反りを抑えることができる。
【0015】
【発明の実施の形態】
以下、本発明の実施の形態を図面に基づいて説明する。
【0016】
図1(a)は、本発明のセラミック製品用焼成台3を示す正面図、(b)はその側面図であり、セラミック製品1を焼成する際に載置するためのものである。
【0017】
本発明の焼成台3は、カーボンからなり、各主面5、主面6に複数の溝4がそれぞれ交互に形成されており、図2に示すように焼成台3の主面5上にセラミック製品1を載置して焼成炉内で焼成するものである。
【0018】
上記焼成台3の溝4が各主面5、6にそれぞれ交互に施されていることにより、炉内のガスの流れが均一になり、セラミック製品1の変形や収縮不足を抑えることができる。また、主面5、6に溝4が施されていることで両面を交互に使用することができ、焼成台3の反りを修正できるとともに、セラミック製品1の反りを抑えることができる。
【0019】
また、上記焼成台3の溝4の幅Hは、焼成台3の全長Lに対し2〜4%、深さVが焼成台3の厚みTに対し22〜44%であることが好ましい。
【0020】
これにより、従来使用していた変形及び収縮不足防止の為の焼成治具の作製、使用の必要がなくなり、それにかかる切削加工時間及び原料使用量を削減できる。また、上記溝4の幅H、溝4の深さV寸法であればガスの流れがスムーズになり、変形、収縮不足が少ない。また、セラミック製品1と焼成台3の接地面積が十分に確保され、変形・垂れは少なくなり、機械的強度の低下も解消される。
【0021】
ここで、溝4の幅Hが焼成台3の全長Lに対し2%未満となると、炉内のガスの流れが不均一になり、焼成台上のセラミック製品1が変形し、また収縮不足になる。
【0022】
また、溝4の幅Hが焼成台3の全長Lに対し4%を超えると、セラミック製品1と焼成台3の接地面積が小さくなり、接していない部分、つまり溝の上にある部分が垂れてしまい反りが発生する。
【0023】
さらに、溝4の深さVが焼成台3の厚みTに対し22%未満となると、上記溝4の幅Hが焼成台3の全長Lに対し2%未満である場合と同じように炉内のガスの流れが悪くなるため、セラミック製品1の変形及び収縮不足という結果を引き起してしまう。
【0024】
また、溝4の深さVが焼成台3の厚みTに対し44%を超えると、焼成台3の両面に溝4があるという構造上、焼成台3の強度が低下し寿命が短くなってしまう。
【0025】
さらに、上記溝4の底部1aが曲面状を成すことが好ましい。これにより、炉内のガスはセラミック製品1と焼成台3との間を滑らかに流れ、変形及び収縮不足をより効果的に防止することができる。
【0026】
このような焼成台3を用いることによって、窒化珪素質セラミックスからなるセラミック製品1においても変形及び収縮不足をより効果的に防止することができる。窒化珪素質セラミックスは、脱バインダーが難しくクラック等が生じやすい画、焼成台3とセラミック製品1との間にガスがスムーズに流れることから、収縮過程が円滑に行われるためである。
【0027】
上述のようなセラミック製品用の焼成台3を製造するには、先ず、単なる平板焼成台13に溝加工を施し、その後、真空炉にて二度焼き込みを行うことによって得られる。
【0028】
焼成台3はカーボンからなり、例えば最大粒子径が2.3mm、かさ比重1.7g/cm3、熱膨張係数3.6M/K、熱伝導率186W/mKの特性のものが好ましい。
【0029】
そして、先ず平板に溝4を加工した後、真空炉にて二度、焼き込みを行う。これは、焼き込みを一度もしないまま焼成台3として用いると、窒化珪素質セラミックス等のセラミック製品となるセラミック成形体を焼成する際にカーボンからなる焼成台3とが反応してしまいセラミック製品1が焼結しない。これに対し、焼成台3に二度の焼き込みを行うことで焼成炉内の窒化珪素の雰囲気によりカーボンからなる焼成台3の表面がコーティングされ、特に窒化珪素質セラミックスからなるセラミック製品1と焼成台3の反応を極力抑えることができるためである。
【0030】
また、焼成台3の大きさはセラミック製品1の大きさに対し120%程度の大きさとすることが好ましく、セラミック製品1となるセラミック成形体の端部が焼成台3から垂れて反りを発生することなく高精度なセラミック製品1を得ることができる。
【0031】
さらに、焼成台3の主面5、6は、その表面粗さが(Ra)1.6〜6.3μmであることが好ましく、セラミック製品1となるセラミック成形体の表面に影響を及ぼすことなく、色むら等を防止できる。
【0032】
なお、本発明のセラミック製品用焼成台3は、上述の実施形態に限定されることはなく、本発明の要旨を逸脱しない範囲であれば種々の変更は可能である。
【0033】
【実施例】
本発明による焼成台3の効果を確認するため以下の試験を実施した。
【0034】
先ず、本発明の焼成台3を作製するため、図1に示すような格子状の溝を有する焼成台を用意する。
【0035】
先ず、最大粒子径が2.3mm、かさ比重1.7g/cm3、熱膨張係数3.6M/K、熱伝導率186W/mKのカーボンを用いて平板を形成し、切削工具にて溝加工を施す。その後、真空炉にて二度、焼き込みを行う。
【0036】
溝は焼成台3の全長Lに対し幅2〜4%、焼成台3の厚みTに対し深さVが22%〜44%とし、底部を曲面状とした。
【0037】
比較例として、図3(a)に示すような焼成台13を同様なカーボンから作製し、窒化珪素質セラミックスからなる焼成治具を用意した。
【0038】
そしてこれらの焼成台、焼成治具上に窒化珪素質セラミックスからなる成形体を載置して1700〜1800℃にて48時間焼成した。
【0039】
その後、得られたセラミック焼結体に研削加工を施し、450mm角のセラミック製品を20個作製した。
【0040】
焼成治具の切削加工時間、原料使用量、及び得られたセラミック製品の反り、研削加工時間の平均値及び歩留まりを調査した。
【0041】
結果を表1に示す。
【0042】
【表1】
【0043】
表1の結果より、本発明は焼成治具を作製する必要が無いことから、従来それにかかっていた切削加工時間及び原料使用量が短縮できる。
【0044】
また、得られたセラミック製品は、平均の反りが0.2mm、研削加工時間が0.75時間と大幅に削減できており、歩留りも96%と非常に高いことがわかる。
【0045】
これに対し、従来の焼成台及び焼成治具を用いた場合には、焼成治具の加工2時間を要し、得られたセラミック製品の平均の反りが0.7mmと大きく、研削加工時間が1.5時間と長時間を要し、その歩留りが82%と低いものであった。
【0046】
【発明の効果】
本発明のセラミック製品用焼成台によれば、セラミック製品を焼成する際に載置する焼成台であって、カーボンからなり、その両主面に複数の溝が交互に形成されていることから、耐高温・耐強度に優れたカーボンからなり、炉内のガスの流れが均一になり、製品の変形や収縮不足を抑えることができ、また、両面に溝が施されていることで両面交互に使用することができるため、焼成台の反りを修正でき、製品の反りを抑えることができる。
【0047】
また、上記焼成台は、窒化珪素質セラミックス製品の焼成に用いられることにより、脱バインダーが難しくクラック等の入りやすいセラミック製品の焼結を容易に行うことができる。
【図面の簡単な説明】
【図1】(a)は本発明のセラミック製品用焼成台の一実施形態を示す正面図であり、(b)はX−X線における断面図である。
【図2】本発明のセラミック製品用焼成台の上にセラミック製品を載置した状態を示す側面図である。
【図3】(a)は従来の焼成台及び焼成治具を用いてセラミック製品を焼成する様子を示した側面断面図であり、(b)は従来の焼成台を示す側面図、(c)は従来の焼成台の他の例を示す正面図である。
【符号の説明】
1:セラミック製品
1a:溝底部
3:焼成台
4:溝
5:主面
6:主面
11:セラミック製品
12:焼成治具
13:焼成台
14:溝
H:溝幅
V:溝深さ
L:全長
T:厚み
Claims (3)
- セラミック製品を焼成する際に載置する焼成台であって、カーボンからなり、その両主面に複数の溝が交互に形成されていることを特徴とするセラミック製品用焼成台。
- 上記溝の幅が焼成台の全長に対し2〜4%、深さが焼成台の厚みに対し22〜44%で底部が曲面状であることを特徴とする請求項1に記載のセラミック製品用焼成台。
- 上記セラミック製品が窒化珪素質セラミックスからなることを特徴とする請求項1または2に記載のセラミック製品用焼成台。
Priority Applications (1)
Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
---|---|---|---|
JP2002281928A JP2004115324A (ja) | 2002-09-26 | 2002-09-26 | セラミック製品用焼成台 |
Applications Claiming Priority (1)
Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
---|---|---|---|
JP2002281928A JP2004115324A (ja) | 2002-09-26 | 2002-09-26 | セラミック製品用焼成台 |
Publications (1)
Publication Number | Publication Date |
---|---|
JP2004115324A true JP2004115324A (ja) | 2004-04-15 |
Family
ID=32276251
Family Applications (1)
Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
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JP2002281928A Pending JP2004115324A (ja) | 2002-09-26 | 2002-09-26 | セラミック製品用焼成台 |
Country Status (1)
Country | Link |
---|---|
JP (1) | JP2004115324A (ja) |
Cited By (1)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
WO2009110400A1 (ja) * | 2008-03-05 | 2009-09-11 | 日本碍子株式会社 | セラミック焼成用窯道具板 |
-
2002
- 2002-09-26 JP JP2002281928A patent/JP2004115324A/ja active Pending
Cited By (3)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
WO2009110400A1 (ja) * | 2008-03-05 | 2009-09-11 | 日本碍子株式会社 | セラミック焼成用窯道具板 |
CN101960245A (zh) * | 2008-03-05 | 2011-01-26 | 日本碍子株式会社 | 陶瓷烧成用窑工具板 |
US9279618B2 (en) | 2008-03-05 | 2016-03-08 | Ngk Insulators, Ltd. | Kiln tool plate for firing ceramic material |
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