JP2004095822A - Semiconductor laser device - Google Patents
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Abstract
Description
【0001】
【発明の属する技術分野】
本発明は、半導体レーザ素子に関し、特に、光ファイバ増幅器の励起光源に適した半導体レーザ素子に関する。
【0002】
【従来の技術】
光通信システムでは、光信号を増幅するために光ファイバ増幅器が使用されることがある。光ファイバ増幅器の励起光源としては、一般に、半導体レーザ素子が使用される。半導体レーザ素子の特性は、例えば、「半導体レーザ」(伊賀健一編著、応用物理学会編、オーム社、1994年)の第11章「高出力レーザとその特性」で説明されている。
【0003】
半導体レーザ素子に電流を注入し、十分な反転分布が生じてレーザ発振に至ると、光出力は電流増加に対して線形的に増加していく。そのスロープ効率は、共振器損失αmと吸収損失αaを用いて、次式によって与えられる。
【0004】
【数1】
一般に、しきい値電流の十倍から数十倍のオーダーまで注入電流を増加させていくと、光出力はもはや増加しなくなる。半導体レーザ素子の光出力を制限する要因としては、素子の温度上昇による光出力の飽和や発光領域以外に流れるリーク電流の増加などが考えられる。
【0005】
【発明が解決しようとする課題】
光ファイバ増幅器の励起用レーザ素子に要求される光出力は、100mw以上である。この光出力を得るためには、100mA以上の電流注入を必要とする。さらに高出力の励起用レーザ素子では、1A以上もの電流注入が必要となる。しかし、注入電流が大電流となると、スロープ効率の劣化が顕著になり、光出力は飽和する。このため、所望の光出力が得られない可能性がある。
【0006】
そこで、この発明は、大電流が注入されても光出力が飽和しにくい半導体レーザ素子の提供を課題とする。
【0007】
【課題を解決するための手段】
この発明は、1.48μm帯の出力波長を有する半導体レーザ素子を提供する。このレーザ素子は、多重量子井戸構造を有する活性層と、活性層の上に配置された上部分離閉じ込めヘテロ構造層と、上部分離閉じ込めヘテロ構造層の上に配置されたキャリアストップ層と、キャリアストップ層の上に配置された上部クラッド層と、活性層の下に配置された下部分離閉じ込めヘテロ構造層と、下部分離閉じ込めヘテロ構造層の下に配置された下部クラッド層を備えている。活性層、上部分離閉じ込めヘテロ構造層および下部分離閉じ込めヘテロ構造層は、InGaAsPから構成されている。上部クラッド層は、p型のInPから構成されている。下部クラッド層は、n型のInPから構成されている。キャリアストップ層は、上部クラッド層のp型ドーパント濃度よりも高い濃度でp型ドーパントを含むp+型のInPから構成されている。キャリアストップ層の伝導帯の下端は、上部クラッド層の伝導帯の下端よりも高い。キャリアストップ層の厚みは、5nm以上である。キャリアストップ層のp型ドーパント濃度は、1.0×1018cm−3以上である。
【0008】
キャリアストップ層は、キャリアオーバーフローによって活性層から上部クラッド層へ向かう電子に対する電位障壁として機能する。したがって、キャリアストップ層は、キャリアオーバーフローによるリーク電流の上部クラッド層への侵入を抑制する。これにより、リーク電流が低減される。特に、キャリアストップ層の厚みが5nm以下であり、p型ドーパント濃度が1.0×1018cm−3以上だと、リーク電流が大きく低減される。リーク電流は半導体レーザ素子の光出力を飽和させる一要因なので、リーク電流が低減されれば、光出力は飽和しにくくなる。
【0009】
この発明のレーザ素子は、上部分離閉じ込めヘテロ構造層の上面に被着された中間層をさらに備えていてもよい。この場合、キャリアストップ層は、中間層の上面に被着される。中間層の存在により、上部分離閉じ込めヘテロ構造層とキャリアストップ層との間に距離が開く。これにより、キャリアストップ層のp型ドーパントの上部分離閉じ込めヘテロ構造層への拡散が抑えられる。
【0010】
中間層は、真性半導体、例えばi型のInP、から構成されていることが好ましい。中間層自身にドーパントが含まれないので、上部分離閉じ込めヘテロ構造層へのドーパントの拡散がいっそう抑えられる。
【0011】
中間層の厚みは、好ましくは30nm以下である。この場合、p型ドーパントの拡散が十分に防がれるとともに、キャリアストップ層によってリーク電流が十分に低減される。中間層の厚みは、より好ましくは10nm以下である。この場合、リーク電流が特に大きく低減される。
【0012】
【発明の実施の形態】
本発明の実施形態を説明する前に、従来技術と比較をしながら本発明の概要を説明する。
【0013】
図8は、従来の1.48μm帯レーザ素子200の一例を示す斜視図である。図9は、レーザ素子200の伝導帯を示すエネルギーバンド図である。レーザ素子200の活性層10は、多重量子井戸構造を有している。活性層10の上下には、分離閉じ込めヘテロ構造(SCH)層12および14が被着されている。活性層10およびSCH層12、14は、GaInAsPから構成されている。上部SCH層12の上面には、上部クラッド層16が被着されている。下部SCH層14の下面には、下部クラッド層18が被着されている。上部クラッド層16は、p−InPから構成されている。下部クラッド層18は、n−InPから構成されている。図8の符号20および22は、それぞれp型電流ブロック層およびn型電流ブロック層である。上部クラッド層16の上面は、コンタクト層24によって覆われている。図8の符号26は絶縁層であり、符号28はp電極、符号30はn電極である。
【0014】
p電極28に接続された導線40およびn電極30に接続された導線42を介してレーザ素子200に電流を流すと、その電流は、活性層10に注入される。これにより、活性層10のキャリア密度が高まる。キャリア密度がしきい値を超えると、活性層10で発生する光が増幅されるようになる。最終的には、レーザ素子200の端面からレーザ光35が放出される。
【0015】
注入電流を増加させていくと、出力パワーは、当初、増加する。しかし、従来のレーザ素子200では、注入電流がしきい値電流の十倍から数十倍のオーダーに達すると、光出力はもはや増加しなくなる。このような光出力の飽和の理由としては、リーク電流の増大によって活性層10に有効に電流が注入されなくなることが考えられる。
【0016】
図10は、レーザ素子200内のリーク電流を示す概略図である。ここで、符号70は、導線42を介して活性層10に注入される電子電流を示し、符号74は、導線40を介してレーザ素子200から流出する電子電流を示している。
【0017】
図10に示されるように、リーク電流には、主に三つある。すなわち、(1)活性層10からのリーク電流61、(2)電流ブロック層20、22におけるリーク電流62、および(3)活性層10の両側のリークパスにおけるリーク電流63である。このうち(1)活性層10からのリーク電流61は、キャリアオーバーフローと呼ばれる現象に起因する。キャリアオーバーフローとは、活性層10に注入されたキャリアが活性層10からあふれ出てしまい、活性層10に有効に注入されずに上部クラッド16へ到達してしまう現象を指す。
【0018】
本発明では、キャリアオーバーフローを抑えるために、上部SCH層と上部クラッド層との間にキャリアストップ層を設ける。このキャリアストップ層の伝導帯の下端は、上部クラッド層の伝導帯の下端よりも高い。このため、キャリアストップ層は、上部クラッド層へ向かう電子に対する電位障壁となる。これにより、上部クラッド層へ電子が流出しにくくなる。したがって、キャリアオーバーフローを抑制し、リーク電流を低減することができる。
【0019】
以下、添付図面を参照しながら本発明の実施形態を詳細に説明する。なお、図面の説明において同一の要素には同一の符号を付し、重複する説明を省略する。また、図示の便宜上、図面の寸法比率は説明のものと必ずしも一致しない。
【0020】
(第1実施形態)
図1は、本発明の第1の実施形態に係る半導体レーザ素子100の構造を示す斜視図である。レーザ素子100は、1.48μm帯の出力波長を有している。したがって、レーザ素子100は、光ファイバ増幅器の1.48μm帯励起光源として使用できる。レーザ素子100の前端面2には、AR(Anti−Reflection:無反射)コートが施されている。前端面2の反対側に位置する後端面4には、HR(High Reflection:高反射)コートが施されている。レーザ素子100で生成されたレーザ光35は、前端面2から出射する。レーザ素子100の幅は、300μmであり、長さ(共振器長)は、900μmである。
【0021】
レーザ素子100は、多重量子井戸−分離閉じ込め構造を有している。すなわち、レーザ素子100は、多重量子井戸(MQW)構造を有する活性層10と、その上下に配置された分離閉じ込めヘテロ構造(SCH)層12および14を有している。上部SCH層12は、活性層10の上面全体に被着されている。下部SCH層14は、活性層10の下面全体に被着されている。活性層10およびSCH層12、14は、GaInAsPから構成されている。活性層10の厚みは、50nmであり、SCH層12および14の厚みは、それぞれ30nmである。活性層10の幅は、2.0μmである。
【0022】
上部SCH層12の上には、キャリアストップ層15を挟んで上部クラッド層16が配置されている。上部クラッド層16は、キャリアストップ層15の上に順次に積層された第1層16aおよび第2層16bから構成されている。第1層16aは、キャリアストップ層15の上面に被着されている。第2層16bは、第1層16aの上面に被着されており、第1層16aよりも広い面積を有している。第1および第2層16a、16bは、どちらもp−InPから構成されている。これらの層には、p型ドーパントとしてZnがドープされている。Znの濃度は、第2層16bの方が第1層16aよりも高い。この結果、第2層16bは、第1層16aよりも高いp型導電性を有している。第1層16aの厚みは、300nmであり、第2層16bの厚みは、1500nmである。
【0023】
上述のように、上部SCH層12と上部クラッド層16の間には、キャリアストップ層15が配置されている。キャリアストップ層15は、上部SCH層12の上面に被着されている。キャリアストップ層15は、p+−InPから構成されている。すなわち、キャリアストップ層15には、p型ドーパントとしてZnが極めて高い濃度でドープされている。この結果、キャリアストップ層15は、上部クラッド層16よりも高いp型導電性を有している。キャリアストップ層15の詳細については、後述する。
【0024】
下部SCH層14の下には、下部クラッド層18が配置されている。下部クラッド層18は、下部SCH層14の下に順次に配置された第1層18aおよび第2層18bから構成されている。第1層18aは、下部SCH層14の下面に被着されている。第2層18bは、第1層18aの下面に被着されており、第1層18aよりも広い面積を有している。第2層18bは、レーザ素子100の基板である。第1および第2層18a、18bは、どちらもp−InPから構成されている。第1層18aの厚みは、300nmであり、第2層18bの厚みは、100μmである。
【0025】
第1下部クラッド層18a、下部SCH層14、活性層10、上部SCH層12、キャリアストップ層15、および第1上部クラッド層16aは、メサ構造を成している。このメサ構造の両側面は、p型電流ブロック層20によって覆われている。電流ブロック層20は、p−InPから構成されている。p型電流ブロック層20の上には、n型電流ブロック層22が配置されている。n型電流ブロック層22は、n−InPから構成されている。第1上部クラッド層16a、埋め込み層20、およびn型電流ブロック層22の上には、第2上部クラッド層16bが被着されている。このように、n型電流ブロック層22は、p型の第2上部クラッド層16bとp型電流ブロック層20との間に介在している。
【0026】
第2上部クラッド層16bの上面全体は、コンタクト層24によって覆われている。コンタクト層24は、p+−GaInAsから構成されている。コンタクト層24の厚みは、0.3μmである。
【0027】
コンタクト層24の上面の一部には、p型電極(陽極)28が被着されている。p型電極28は、メッキ形成されたオーミック電極である。コンタクト層24の上面の残りの部分とp型電極28との間には、絶縁層26が介在している。絶縁層26は、SiO2から構成されている。絶縁層26の厚みは、0.1μmである。
【0028】
第2下部クラッド層18bの下面の全体には、n型電極(陰極)30が被着されている。n型電極30は、メッキ形成されたオーミック電極である。
【0029】
レーザ素子100の動作時には、p型電極28に導線40が接続され、n型電極30に導線42が接続される。導線40は、図示しない駆動電源のプラス端子に接続される。導線42は、同じ駆動電源のマイナス端子に接続され、あるいは駆動電源のマイナス端子とともに接地される。駆動電源からレーザ素子100に駆動電圧が印加されると、導線40および42を介して活性層10に電流が注入される。これにより、レーザ素子100の前端面2からレーザ光35が放出される。
【0030】
図2は、レーザ素子100の伝導帯を示すエネルギーバンド図である。図2に示されるように、活性層10は、複数の井戸層50および複数のバリア層52が交互に積層された多重量子井戸構造を有している。各井戸層50は、1.48μmのバンドギャップ波長を有している。
【0031】
SCH層12および14は、異なるバンドギャップを有する3層からそれぞれ構成されている。上部SCH層12は、順次に積層された第1層53、第2層54および第3層55から構成されている。第1層53、第2層54および第3層55のバンドギャップ波長は、それぞれ1.2μm、1.1μmおよび1.05μmである。同様に、下部SCH層14は、順次に積層された第1層56、第2層57および第3層58から構成されている。第1層56、第2層57および第3層58のバンドギャップ波長は、それぞれ1.2μm、1.1μmおよび1.05μmである。
【0032】
キャリアストップ層15は、第3上部SCH層55と第1上部クラッド層16aの間に配置されている。図2に示されるように、キャリアストップ層15の伝導帯の下端は、第1上部クラッド層16aの伝導帯の下端よりも高い。このため、キャリアストップ層15は、上部クラッド層16へ向かう電子に対する電位障壁として機能する。
【0033】
図3は、レーザ素子100中の電子電流を示す概略図である。図2および図3において矢印70で示されるように、導線42およびn型電極30を介して注入された電子の一部は、活性層10に入り、そこで光に変換される。他の電子は、矢印72で示されるように、上部SCH層12を通過して、上部クラッド層16へ向かう。キャリアストップ層15は、この電子を遮断する。これにより、キャリアオーバーフローが抑えられる。
【0034】
発明者は、本実施形態におけるキャリアオーバーフロー抑制効果をシミュレーションにより確認した。図4は、一次元解析を行った結果を示すグラフである。注入電流は2Aに設定した。
【0035】
図4に示されるように、キャリアストップ層15のドーパント濃度が0.3×1018cm−3のときは、キャリアオーバーフローによるリーク電流は632mAにもなる。しかし、キャリアストップ層15のドーパント濃度が1.0×1018cm−3になると、リーク電流は急激に減少する。ドーパント濃度が2.0×1018cm−3になると、リーク電流は200mA以下にまで低減される。同じドーパント濃度では、キャリアストップ層15が厚いほど、リーク電流が大きく低減される。キャリアストップ層15の厚みが20nm、ドーパント濃度が1.5×1018cm−3の場合、リーク電流は約半分に減少する。なお、ドーパント濃度が2.5×1018cm−3を超えると、ドーパント濃度を高くしてもリーク電流の低減効果はそれほど上昇しない。
【0036】
発明者は、キャリアオーバーフローによるリーク電流を効果的に低減できるキャリアストップ層15の構造パラメータを特定した。すなわち、キャリアストップ層15のドーパント濃度が1.0×1018cm−3以上であり、かつキャリアストップ層15の厚みが5nm以上であれば、リーク電流を効率良く低減できる。図4に示されるように、ドーパント濃度が1.0×1018cm−3以上であると、リーク電流が大きく低減される。このリーク電流の低減効果は、キャリアストップ層15の厚みが5nm以上であれば十分に発揮される。
【0037】
このように、レーザ素子100では、キャリアストップ層15がキャリアオーバーフローによるリーク電流を大きく低減する。したがって、レーザ素子100は、大電流が注入されても、その光出力が飽和しにくい。
【0038】
なお、リーク電流を低減させるために、ブロック層20、22のドーパント濃度を高める手法も考えられる。この手法によれば、ブロック層からのリーク電流が低減される。しかし、この手法では、キャリアオーバーフローによるリーク電流は低減されない。したがって、ブロック層のドーパント濃度を高める場合でも、キャリアストップ層を設けることは有効である。
【0039】
(第2実施形態)
第1実施形態のように、キャリアストップ層15は、上部SCH層12と上部クラッド層16の境界に配置することが効果的である。しかし、キャリアストップ層15には、p型ドーパントであるZnが高い濃度でドープされている。Znは、半導体中で拡散しやすく、約20〜30nm拡散すると言われている。Znが上部SCH層12まで拡散してしまうのは、好ましくない。そこで、第2実施形態では、上部SCH層12とキャリアストップ層15との間に中間層を配置し、キャリアストップ層15中のp型ドーパントが上部SCH層12に拡散することを防ぐ。
【0040】
図5は、第2実施形態の半導体レーザ素子120の構造を示す斜視図である。図6は、レーザ素子120の伝導帯を示すエネルギーバンド図である。図5および図6に示されるように、この実施形態では、上部SCH層12の上面に中間層80が被着されている。中間層80は、真性半導体であるi−InPから構成されている。キャリアストップ層15は、中間層80の上面に被着されている。他の構成は、第1実施形態の半導体レーザ素子100と同じである。したがって、重複する説明を省略する。
【0041】
中間層80が存在することにより、上部SCH層12とキャリアストップ層15との間に距離が開く。これにより、キャリアストップ層15中のZnが上部SCH層12まで拡散しにくくなる。中間層80が厚くなるにつれて、ドーパント拡散抑制効果は高まるが、その一方で、キャリアストップ層15のリーク電流低減効果は低くなる。したがって、中間層80は、ドーパントの拡散を十分に抑制できるのであれば、薄い方が好ましい。上述のように、Znは30nmにわたって拡散しうるので、中間層80の厚みは、好ましくは30nm以下である。
【0042】
中間層80の厚みは、10nm以下であることが特に好ましい。中間層80の厚みが10nm以下なら十分なリーク電流遮断効果を得られることが、シミュレーションにより確認されている。発明者は、キャリアストップ層15のドーパント濃度とキャリアオーバーフローによるリーク電流との関係を、様々な厚みの中間層80について調べた。図7は、その結果を示すグラフである。図7に示されるように、ドーパント濃度が1×1018cm−3以上の場合、中間層80の厚みが10nm以下であれば、リーク電流が大きく低減される。
【0043】
なお、上部SCH層12へのドーパントの拡散を防ぐため、中間層80には、ドーパントが添加されていないことが好ましい。しかし、十分に低濃度であれば、ドーパントが添加されていても、上部SCH層12への影響は少ない。したがって、中間層80は、真性半導体に限られず、弱いp型またはn型導電性を有する半導体であってもよい。
【0044】
以上、本発明をその実施形態に基づいて詳細に説明した。しかし、本発明は上記実施形態に限定されるものではない。本発明は、その要旨を逸脱しない範囲で様々な変形が可能である。
【0045】
【発明の効果】
本発明の半導体レーザ素子は、適切なドーパント濃度と厚みを有するキャリアストップ層を備えているので、キャリアオーバーフローによるリーク電流を大きく低減できる。したがって、この発明の半導体レーザ素子は、大電流が注入されても、光出力が飽和しにくい。
【図面の簡単な説明】
【図1】第1実施形態の半導体レーザ素子の構造を示す斜視図である。
【図2】第1実施形態の半導体レーザ素子の伝導帯を示すエネルギーバンド図である。
【図3】第1実施形態の半導体レーザ素子中の電子電流を示す概略図である。
【図4】第1実施形態の半導体レーザ素子について、キャリアストップ層のドーパント濃度とキャリアオーバーフローによるリーク電流との関係を示す図である。
【図5】第2実施形態の半導体レーザ素子の構造を示す斜視図である。
【図6】第2実施形態の半導体レーザ素子の伝導帯を示すエネルギーバンド図である。
【図7】第2実施形態の半導体レーザ素子について、キャリアストップ層のドーパント濃度とキャリアオーバーフローによるリーク電流との関係を示す図である。
【図8】従来技術の半導体レーザ素子の構造を示す斜視図である。
【図9】従来技術の半導体レーザ素子の伝導帯を示すエネルギーバンド図である。
【図10】従来技術の半導体レーザ素子中のリーク電流を示す概略図である。
【符号の説明】
2…前端面、4…後端面、10…活性層、12…上部SCH層、14…下部SCH層、15…キャリアストップ層、16…上部クラッド層、18…下部クラッド層、80…中間層、100…半導体レーザ素子。[0001]
TECHNICAL FIELD OF THE INVENTION
The present invention relates to a semiconductor laser device, and more particularly to a semiconductor laser device suitable for an excitation light source of an optical fiber amplifier.
[0002]
[Prior art]
In optical communication systems, an optical fiber amplifier may be used to amplify an optical signal. Generally, a semiconductor laser device is used as an excitation light source of an optical fiber amplifier. The characteristics of the semiconductor laser device are described, for example, in Chapter 11 “High-power laser and its characteristics” of “Semiconductor laser” (edited by Kenichi Iga, edited by the Japan Society of Applied Physics, Ohmsha, 1994).
[0003]
When a current is injected into the semiconductor laser element and a sufficient population inversion occurs to cause laser oscillation, the optical output increases linearly with an increase in the current. The slope efficiency is given by the following equation using the resonator loss αm and the absorption loss αa.
[0004]
(Equation 1)
Generally, when the injection current is increased from the order of ten times to several tens times the threshold current, the light output no longer increases. Factors that limit the optical output of the semiconductor laser device include saturation of the optical output due to an increase in the temperature of the device and an increase in leak current flowing outside the light emitting region.
[0005]
[Problems to be solved by the invention]
The optical output required for the pump laser element of the optical fiber amplifier is 100 mw or more. In order to obtain this light output, a current injection of 100 mA or more is required. Further, a high-output excitation laser element requires current injection of 1 A or more. However, when the injection current becomes large, the slope efficiency is significantly deteriorated, and the optical output is saturated. For this reason, a desired light output may not be obtained.
[0006]
Therefore, an object of the present invention is to provide a semiconductor laser device whose optical output hardly saturates even when a large current is injected.
[0007]
[Means for Solving the Problems]
The present invention provides a semiconductor laser device having an output wavelength in the 1.48 μm band. The laser device includes an active layer having a multiple quantum well structure, an upper isolation confinement heterostructure layer disposed on the active layer, a carrier stop layer disposed on the upper isolation confinement heterostructure layer, and a carrier stop layer. An upper cladding layer disposed over the layer, a lower isolation confinement heterostructure layer disposed below the active layer, and a lower cladding layer disposed below the lower isolation confinement heterostructure layer. The active layer, the upper isolation confinement heterostructure layer and the lower isolation confinement heterostructure layer are composed of InGaAsP. The upper cladding layer is made of p-type InP. The lower cladding layer is made of n-type InP. The carrier stop layer is made of p + -type InP containing a p-type dopant at a higher concentration than the p-type dopant concentration of the upper cladding layer. The lower end of the conduction band of the carrier stop layer is higher than the lower end of the conduction band of the upper cladding layer. The thickness of the carrier stop layer is 5 nm or more. The p-type dopant concentration of the carrier stop layer is 1.0 × 10 18 cm −3 or more.
[0008]
The carrier stop layer functions as a potential barrier for electrons from the active layer to the upper cladding layer due to carrier overflow. Therefore, the carrier stop layer suppresses leakage current from entering the upper clad layer due to carrier overflow. Thereby, the leak current is reduced. In particular, when the thickness of the carrier stop layer is 5 nm or less and the p-type dopant concentration is 1.0 × 10 18 cm −3 or more, the leak current is significantly reduced. Since the leak current is one factor that saturates the optical output of the semiconductor laser device, if the leak current is reduced, the optical output is less likely to be saturated.
[0009]
The laser device of the present invention may further include an intermediate layer applied on the upper surface of the upper isolation confinement heterostructure layer. In this case, the carrier stop layer is applied on the upper surface of the intermediate layer. The presence of the intermediate layer increases the distance between the upper isolation confinement heterostructure layer and the carrier stop layer. This suppresses the diffusion of the p-type dopant in the carrier stop layer into the upper isolation confinement heterostructure layer.
[0010]
The intermediate layer is preferably made of an intrinsic semiconductor, for example, i-type InP. Since the intermediate layer itself contains no dopant, diffusion of the dopant into the upper isolation confinement heterostructure layer is further suppressed.
[0011]
The thickness of the intermediate layer is preferably 30 nm or less. In this case, the diffusion of the p-type dopant is sufficiently prevented, and the leakage current is sufficiently reduced by the carrier stop layer. The thickness of the intermediate layer is more preferably 10 nm or less. In this case, the leakage current is particularly greatly reduced.
[0012]
BEST MODE FOR CARRYING OUT THE INVENTION
Before describing the embodiments of the present invention, the outline of the present invention will be described in comparison with the prior art.
[0013]
FIG. 8 is a perspective view showing an example of a conventional 1.48 μm
[0014]
When a current is applied to the
[0015]
As the injection current is increased, the output power initially increases. However, in the
[0016]
FIG. 10 is a schematic diagram showing a leak current in the
[0017]
As shown in FIG. 10, there are mainly three leakage currents. That is, (1) a leak current 61 from the
[0018]
In the present invention, a carrier stop layer is provided between the upper SCH layer and the upper clad layer in order to suppress carrier overflow. The lower end of the conduction band of the carrier stop layer is higher than the lower end of the conduction band of the upper cladding layer. For this reason, the carrier stop layer serves as a potential barrier for electrons traveling toward the upper cladding layer. This makes it difficult for electrons to flow to the upper cladding layer. Therefore, carrier overflow can be suppressed and leak current can be reduced.
[0019]
Hereinafter, embodiments of the present invention will be described in detail with reference to the accompanying drawings. In the description of the drawings, the same elements will be denoted by the same reference symbols, without redundant description. In addition, for convenience of illustration, the dimensional ratios in the drawings do not always match those described.
[0020]
(1st Embodiment)
FIG. 1 is a perspective view showing a structure of a
[0021]
The
[0022]
On the
[0023]
As described above, the
[0024]
Below the
[0025]
The first
[0026]
The entire upper surface of the second
[0027]
On a part of the upper surface of the
[0028]
An n-type electrode (cathode) 30 is provided on the entire lower surface of the second
[0029]
During operation of the
[0030]
FIG. 2 is an energy band diagram showing a conduction band of the
[0031]
The SCH layers 12 and 14 are each composed of three layers having different band gaps. The
[0032]
The
[0033]
FIG. 3 is a schematic diagram showing an electron current in the
[0034]
The inventor has confirmed the effect of suppressing carrier overflow in the present embodiment by simulation. FIG. 4 is a graph showing the result of one-dimensional analysis. The injection current was set at 2A.
[0035]
As shown in FIG. 4, when the dopant concentration of the
[0036]
The inventor has specified the structural parameters of the
[0037]
Thus, in the
[0038]
In order to reduce the leak current, a method of increasing the dopant concentration of the block layers 20 and 22 may be considered. According to this method, the leak current from the block layer is reduced. However, this technique does not reduce the leakage current due to carrier overflow. Therefore, even when increasing the dopant concentration of the block layer, it is effective to provide the carrier stop layer.
[0039]
(2nd Embodiment)
As in the first embodiment, it is effective that the
[0040]
FIG. 5 is a perspective view illustrating the structure of the
[0041]
The presence of the
[0042]
The thickness of the
[0043]
In order to prevent diffusion of the dopant into the
[0044]
The present invention has been described in detail based on the embodiments. However, the present invention is not limited to the above embodiment. The present invention can be variously modified without departing from the gist thereof.
[0045]
【The invention's effect】
Since the semiconductor laser device of the present invention includes the carrier stop layer having an appropriate dopant concentration and thickness, the leakage current due to carrier overflow can be greatly reduced. Therefore, in the semiconductor laser device of the present invention, even when a large current is injected, the light output is hardly saturated.
[Brief description of the drawings]
FIG. 1 is a perspective view illustrating a structure of a semiconductor laser device according to a first embodiment.
FIG. 2 is an energy band diagram showing a conduction band of the semiconductor laser device of the first embodiment.
FIG. 3 is a schematic diagram showing an electron current in the semiconductor laser device of the first embodiment.
FIG. 4 is a diagram showing a relationship between a dopant concentration of a carrier stop layer and a leak current due to carrier overflow in the semiconductor laser device of the first embodiment.
FIG. 5 is a perspective view illustrating a structure of a semiconductor laser device according to a second embodiment.
FIG. 6 is an energy band diagram showing a conduction band of the semiconductor laser device of the second embodiment.
FIG. 7 is a diagram illustrating a relationship between a dopant concentration of a carrier stop layer and a leakage current due to carrier overflow in the semiconductor laser device according to the second embodiment.
FIG. 8 is a perspective view showing the structure of a conventional semiconductor laser device.
FIG. 9 is an energy band diagram showing a conduction band of a conventional semiconductor laser device.
FIG. 10 is a schematic diagram showing a leakage current in a conventional semiconductor laser device.
[Explanation of symbols]
2 front end face 4 rear end face 10
Claims (5)
多重量子井戸構造を有する活性層と、
前記活性層の上に配置された上部分離閉じ込めヘテロ構造層と、
前記上部分離閉じ込めヘテロ構造層の上に配置されたキャリアストップ層と、
前記キャリアストップ層の上に配置された上部クラッド層と、
前記活性層の下に配置された下部分離閉じ込めヘテロ構造層と、
前記下部分離閉じ込めヘテロ構造層の下に配置された下部クラッド層と、
を備え、
前記活性層、上部分離閉じ込めヘテロ構造層および下部分離閉じ込めヘテロ構造層は、InGaAsPから構成され、
前記上部クラッド層は、p型のInPから構成され、
前記下部クラッド層は、n型のInPから構成され、
前記キャリアストップ層は、前記上部クラッド層のp型ドーパント濃度よりも高い濃度でp型ドーパントを含むp+型のInPから構成され、
前記キャリアストップ層の伝導帯の下端は、前記上部クラッド層の伝導帯の下端よりも高く、
前記キャリアストップ層の厚みは、5nm以上であり、
前記キャリアストップ層のp型ドーパント濃度は、1.0×1018cm−3以上である
半導体レーザ素子。1. A semiconductor laser device having an output wavelength in the 1.48 μm band,
An active layer having a multiple quantum well structure;
An upper isolation confinement heterostructure layer disposed on the active layer;
A carrier stop layer disposed on the upper isolation confinement heterostructure layer;
An upper cladding layer disposed on the carrier stop layer,
A lower isolation confinement heterostructure layer disposed below the active layer;
A lower cladding layer disposed below the lower isolation confinement heterostructure layer;
With
The active layer, the upper isolation confinement heterostructure layer and the lower isolation confinement heterostructure layer are composed of InGaAsP;
The upper cladding layer is made of p-type InP,
The lower cladding layer is made of n-type InP,
The carrier stop layer is made of p + -type InP containing a p-type dopant at a higher concentration than the p-type dopant concentration of the upper cladding layer,
The lower end of the conduction band of the carrier stop layer is higher than the lower end of the conduction band of the upper cladding layer,
The thickness of the carrier stop layer is 5 nm or more,
A semiconductor laser device wherein the p-type dopant concentration of the carrier stop layer is 1.0 × 10 18 cm −3 or more.
前記キャリアストップ層は、前記中間層の上面に被着されている
請求項1記載の半導体レーザ素子。2. The semiconductor laser device according to claim 1, further comprising an intermediate layer applied on an upper surface of the upper isolation confinement heterostructure layer.
2. The semiconductor laser device according to claim 1, wherein said carrier stop layer is attached to an upper surface of said intermediate layer.
請求項2記載の半導体レーザ素子。3. The semiconductor laser device according to claim 2, wherein said intermediate layer is made of an intrinsic semiconductor.
請求項2記載の半導体レーザ素子。3. The semiconductor laser device according to claim 2, wherein said intermediate layer has a thickness of 30 nm or less.
請求項2記載の半導体レーザ素子。3. The semiconductor laser device according to claim 2, wherein the thickness of the intermediate layer is 10 nm or less.
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JP2006253212A (en) * | 2005-03-08 | 2006-09-21 | Sumitomo Electric Ind Ltd | Semiconductor laser |
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-
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- 2002-08-30 JP JP2002254388A patent/JP2004095822A/en active Pending
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