JP2004090390A - 樹脂層が形成された非晶質合金薄帯 - Google Patents
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Abstract
【解決手段】片面または両面に耐熱樹脂層が形成された非晶質合金薄帯において、該耐熱樹脂の吸水率が0.1重量%以下であることを特徴とする非晶質合金薄帯を用いることにより、積層体を製造するに際して積層体の表面に膨れが生じることなく、良好な積層体を製造することができる。
【選択図】 なし
Description
【産業上の利用分野】
本発明は、耐熱樹脂層が形成された非晶質合金薄帯に関する。
【0002】
【従来の技術】
非晶質合金薄帯は、各種金属を原材料に溶融状態から急激に冷却することで製造される非結晶の固体であり、通常は厚さ約0.01〜0.1ミリメートル程度の薄帯である。これら非晶質合金薄帯においては、原子は配列に規則性がないランダム構造であり、軟磁性材料として優れた特性を有している。特にCo元素を含むCo系非晶質合金薄帯は、高い透磁率を特徴とする材料であり、種々の磁気応用部品、例えばインダクタンス、各種コイル、各種トランス、ノイズフィルター、磁気センサー、磁気ヘッド、アンテナ、電波吸収体、モーター、各種コア、配線基板など、幅広い分野において用いられることが期待されている。
【0003】
非晶質合金薄帯は、その優れた磁気特性を発現させるために、予め所定の焼鈍熱処理を施す方法が一般に用いられている。焼鈍熱処理の条件は発現させたい磁気特性や非晶質合金の種類によって異なるが、概ね不活性雰囲気下において温度300〜500℃程度、時間0.1〜100時間程度の高温長時間で行われることが一般的である。ところが焼鈍熱処理によって優れた磁気特性を発現する反面、極めて脆弱な薄帯となり、物理的に取り扱いにくくなる問題を抱えている。
【0004】
この問題に対処する方法として、ポリイミド樹脂などの焼鈍温度に耐える耐熱性高分子化合物を接着剤として用い、非晶質合金薄帯を積層接着する方法が開示されている(特開昭58−175654)。この方法によれば、焼鈍と同時に耐熱性樹脂による接着積層ができるため、脆弱な薄帯を取り扱う問題を解決できる。
【0005】
しかし、片面または両面に耐熱樹脂層が形成された非晶質合金薄帯を積層接着して積層体を製造するに際し、積層体の表面に膨れが生じる問題があり、この問題を解決することが望まれている。
【0006】
【本発明が解決しようとする課題】
本発明の目的は、上記従来技術の問題点に鑑み、片面または両面に耐熱樹脂層が形成された非晶質合金薄帯を積層接着および焼鈍して積層体を製造するに際し、積層体の表面に膨れが生じない非晶質合金薄帯およびその製造方法を提供することにある。
【0007】
【課題を解決するための手段】
本発明者らは、前記課題を解決するために鋭意検討を重ねた結果、片面または両面に形成されている耐熱樹脂として、吸水率がある一定値よりも低い樹脂を用いることにより、積層体を製造するに際して積層体の表面に膨れが生じないことを見出し、本発明を完成した。
【0008】
本発明は、片面または両面に耐熱樹脂層が形成された非晶質合金薄帯において、該耐熱樹脂の吸水率が0.1重量%以下であることを特徴とする非晶質合金薄帯を提供する。
【0009】
本発明は耐熱樹脂として、フッ素を含む樹脂を用いた非晶質合金薄帯を提供する。
【0010】
本発明は、上記に記載した非晶質合金薄帯を積層させて製造される非晶質合金薄帯積層体を提供する。
【0011】
さらに、上記に記載した非晶質合金薄帯積層体を含んで構成される磁気応用部品は、本発明の態様の1つである。
【0012】
【発明の実施の形態】
本発明の非晶質合金薄帯は、片面または両面に耐熱樹脂層が形成された非晶質合金薄帯である。
【0013】
本発明において用いる非晶質合金薄帯は、軟磁性材料が対象となる。例えば、Fe系やCo系などの非晶質金属材料、Fe系やCo系などのナノ結晶質金属材料などが挙げられる。具体的には例えば、Fe系非晶質金属材料としては、Fe−Si−B系、Fe−B系、Fe−P−C系などのFe−半金属系非晶質金属材料や、Fe−Zr系、Fe−Hf系、Fe−Ti系などのFe−遷移金属系非晶質金属材料などを挙げることができ、またCo系非晶質金属材料としては、Co−Si−B系、Co−B系などの非晶質金属材料を挙げることができる。また、非晶質金属材料を熱処理によりナノサイズに結晶化させたナノ結晶質金属材料においては、Fe−Si−B−Cu−Nb系、Fe−B−Cu−Nb系、Fe−Zr−B−(Cu)系、Fe−Zr−Nb−B−(Cu)系、Fe−Zr−P−(Cu)系、Fe−Zr−Nb−P−(Cu)系、Fe−Ta−C系、Fe−Al−Si−Nb−B系、Fe−Al−Si−Ni−Nb−B系、Fe−Al−Nb−B系、Co−Ta−C系などを挙げることができる。これらはいずれも、特定の磁気特性を発現させるために、通常使用される前に所定の条件において焼鈍熱処理を施す。焼鈍熱処理の条件は用いる材料の種類や発現させたい磁気特性によって異なるが、非晶質金属材料では温度範囲が概ね300〜500℃、ナノ結晶質金属材料では温度範囲が概ね400〜700℃とするのが一般的である。
【0014】
本発明において用いる非晶質合金薄帯の厚さは、特に限定されるものではないが、5〜50ミクロンであることが好ましく、10〜30ミクロンであることがより好ましい。
【0015】
本発明において用いる耐熱樹脂は、吸水率が0.1重量%以下である樹脂である。好ましくは吸水率が0.08重量%以下であり、より好ましくは吸水率が0.05重量%以下である。吸水率が0.1重量%を超えると、非晶質合金薄帯を積層接着して積層体を製造した際に、積層体表面に膨れが生じる恐れがある。なお、吸水率の下限は特に定められるものではなく、実質的に零であっても本発明の効果は十分に得ることができる。本発明において樹脂層の吸水率は、ASTM―D570に従って測定される。
【0016】
本発明において用いる耐熱樹脂としては、フッ素を含む樹脂を好適に用いることができ、具体的には、フッ素を含むポリイミド系樹脂、フッ素を含むポリエーテルイミド系樹脂、フッ素を含むポリアミドイミド系樹脂、フッ素を含むポリアミド系樹脂、フッ素を含むポリスルホン系樹脂、フッ素を含むポリエーテルケトン系樹脂を好適に用いることができる。含まれるフッ素の量は、本発明の効果が得られれば特に限定されるものではないが、樹脂全体に対して2〜40重量%の範囲が好適に用いることができる。より具体的には、化学式(1)〜(2)で表される繰り返し単位を主鎖骨格に有する樹脂を好適に用いることができる。
【0017】
【化1】
【0018】
但し、化学式(2)においてa、bおよびcは、1〜4の整数を示し、Zは、直接結合、エーテル結合、イソプロピリデン結合、スルフィド結合、スルホン結合、並びにカルボニル結合から選ばれる結合基である。
【0019】
本発明の非晶質合金薄帯を用いることにより、膨れがない良好な非晶質合金薄帯積層体を製造することができ、この非晶質合金薄帯積層体は、それを含んで構成される磁気応用部品として好適に用いることができる。より具体的には、例えばインダクタンス、各種コイル、各種トランス、ノイズフィルター、磁気センサー、磁気ヘッド、アンテナ、電波吸収体、モーター、各種コア、配線基板に好適に用いることができる。
【0020】
【実施例】
以下、本発明を実施例により詳細に説明する。
【0021】
【合成例1】
化学式(3)で示されるテトラカルボン酸二無水物と化学式(4)で示されるジアミンを用い、N,N−ジメチルアセトアミドを溶媒として、化学式(5)で表される繰り返し単位を主鎖骨格に有するポリアミド酸溶液を作成した。この溶液をガラス基板上に厚さ0.3ミリメートルでキャストし、250℃で2時間加熱することで、厚さ50ミクロンの化学式(6)で表される繰り返し単位を主鎖骨格に有するポリイミド樹脂のフィルムを得た。この樹脂の吸水率をASTM―D570に従って測定したところ、0.04重量%であった。
【0022】
【合成例2】
化学式(7)で示されるテトラカルボン酸二無水物と化学式(8)で示されるジアミンを用い、N,N−ジメチルアセトアミドを溶媒として、化学式(9)で表される繰り返し単位を主鎖骨格に有するポリアミド酸溶液を作成した。この溶液をガラス基板上に厚さ0.3ミリメートルでキャストし、250℃で2時間加熱することで、厚さ51ミクロンの化学式(10)で表される繰り返し単位を主鎖骨格に有するポリイミド樹脂のフィルムを得た。この樹脂の吸水率をASTM―D570に従って測定したところ、0.06重量%であった。
【0023】
【合成例3】
化学式(7)で示されるテトラカルボン酸二無水物と化学式(4)で示されるジアミンを用い、N,N−ジメチルアセトアミドを溶媒として、化学式(11)で表される繰り返し単位を主鎖骨格に有するポリアミド酸溶液を作成した。この溶液をガラス基板上に厚さ0.3ミリメートルでキャストし、250℃で2時間加熱することで、厚さ50ミクロンの化学式(12)で表される繰り返し単位を主鎖骨格に有するポリイミド樹脂のフィルムを得た。この樹脂の吸水率をASTM―D570に従って測定したところ、0.28重量%であった。
【0024】
【化2】
【0025】
【実施例1】
米国ハネウェル社製の非晶質合金薄帯Metglas2714A(元素比Co:Fe:Ni:Si:B=66:4:1:15:14)の片面に、化学式(5)で表される繰り返し単位を主鎖骨格に有するポリアミド酸が20重量%溶解した溶液(溶媒:N,N―ジメチルアセトアミド)を薄く塗布し、窒素流通下、温度130℃、時間1分の条件で、予備乾燥を行い、複合薄帯を得た。この薄帯を内径25ミリメートル、外径40ミリメートルに打ち抜き、リング状の複合薄帯を得た。このリング状の複合薄帯を、窒素流通下、温度280℃、時間15秒の条件で加熱してイミド化した。次いで温度30℃、湿度60%の条件で1週間放置した。このリング状の複合薄帯を5枚重ね合わせ、窒素流通下、圧力10MPa、温度250℃、時間30分の条件で積層接着して積層体を得た。次いで窒素流通下、無加圧、温度420℃、時間60分の条件で、積層体を焼鈍した。焼鈍後の積層体の表面には膨れがなく、良好な部品であった。
【0026】
【実施例2】
米国ハネウェル社製の非晶質合金薄帯Metglas2714A(元素比Co:Fe:Ni:Si:B=66:4:1:15:14)の片面に、化学式(9)で表される繰り返し単位を主鎖骨格に有するポリアミド酸が20重量%溶解した溶液(溶媒:N,N―ジメチルアセトアミド)を薄く塗布し、窒素流通下、温度130℃、時間1分の条件で、予備乾燥を行い、複合薄帯を得た。この薄帯を内径25ミリメートル、外径40ミリメートルに打ち抜き、リング状の複合薄帯を得た。このリング状の複合薄帯を、窒素流通下、温度280℃、時間15秒の条件で加熱してイミド化した。次いで温度30℃、湿度60%の条件で1週間放置した。このリング状の複合薄帯を5枚重ね合わせ、窒素流通下、圧力10MPa、温度250℃、時間30分の条件で積層接着して積層体を得た。次いで窒素流通下、無加圧、温度420℃、時間60分の条件で、積層体を焼鈍した。焼鈍後の積層体の表面には膨れがなく、良好な部品であった。
【0027】
【比較例1】
米国ハネウェル社製の非晶質合金薄帯Metglas2714A(元素比Co:Fe:Ni:Si:B=66:4:1:15:14)の片面に、化学式(9)で表される繰り返し単位を主鎖骨格に有するポリアミド酸が20重量%溶解した溶液(溶媒:N,N―ジメチルアセトアミド)を薄く塗布し、窒素流通下、温度130℃、時間1分の条件で、予備乾燥を行い、複合薄帯を得た。この薄帯を内径25ミリメートル、外径40ミリメートルに打ち抜き、リング状の複合薄帯を得た。このリング状の複合薄帯を、窒素流通下、温度280℃、時間15秒の条件で加熱してイミド化した。次いで温度30℃、湿度60%の条件で1週間放置した。このリング状の複合薄帯を5枚重ね合わせ、窒素流通下、圧力10MPa、温度250℃、時間30分の条件で積層接着して積層体を得た。次いで窒素流通下、無加圧、温度420℃、時間60分の条件で、積層体を焼鈍した。焼鈍後の積層体の表面に膨れが見られた。
【0028】
【発明の効果】
本発明の非晶質合金薄帯は、片面または両面に耐熱樹脂層が形成された非晶質合金薄帯であり、積層接着および焼鈍して積層体を製造するに際し、積層体の表面に膨れが生じず、良好な積層体を製造することができる非晶質合金薄帯である。
Claims (4)
- 片面または両面に耐熱樹脂層が形成された非晶質合金薄帯において、該耐熱樹脂の吸水率が0.1重量%以下であることを特徴とする非晶質合金薄帯。
- 耐熱樹脂が、フッ素を含む樹脂であることを特徴とする請求項1記載の非晶質合金薄帯。
- 請求項1〜2記載の非晶質合金薄帯を積層させて製造される非晶質合金薄帯積層体。
- 請求項3記載の非晶質合金薄帯積層体を含んで構成される磁気応用部品。
Priority Applications (1)
Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
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JP2002254393A JP2004090390A (ja) | 2002-08-30 | 2002-08-30 | 樹脂層が形成された非晶質合金薄帯 |
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JP2002254393A Pending JP2004090390A (ja) | 2002-08-30 | 2002-08-30 | 樹脂層が形成された非晶質合金薄帯 |
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Cited By (1)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
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WO2007116937A1 (ja) | 2006-04-07 | 2007-10-18 | Hitachi Metals, Ltd. | 軟磁性金属薄帯積層体およびその製造方法 |
-
2002
- 2002-08-30 JP JP2002254393A patent/JP2004090390A/ja active Pending
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Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
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WO2007116937A1 (ja) | 2006-04-07 | 2007-10-18 | Hitachi Metals, Ltd. | 軟磁性金属薄帯積層体およびその製造方法 |
EP2006086A2 (en) * | 2006-04-07 | 2008-12-24 | Hitachi Metals, Limited | Soft magnetic metal strip laminate and process for production thereof |
US8118970B2 (en) | 2006-04-07 | 2012-02-21 | Hitachi Metals, Ltd. | Soft magnetic metal strip laminate and process for production thereof |
EP2006086A4 (en) * | 2006-04-07 | 2015-04-29 | Hitachi Metals Ltd | SOFT MAGNETIC METAL STRIP LAMINATE AND METHOD OF MANUFACTURING THEREOF |
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