JP2004057942A - Application apparatus and application method - Google Patents
Application apparatus and application method Download PDFInfo
- Publication number
- JP2004057942A JP2004057942A JP2002220150A JP2002220150A JP2004057942A JP 2004057942 A JP2004057942 A JP 2004057942A JP 2002220150 A JP2002220150 A JP 2002220150A JP 2002220150 A JP2002220150 A JP 2002220150A JP 2004057942 A JP2004057942 A JP 2004057942A
- Authority
- JP
- Japan
- Prior art keywords
- coating
- regulating plate
- width regulating
- slide
- application
- Prior art date
- Legal status (The legal status is an assumption and is not a legal conclusion. Google has not performed a legal analysis and makes no representation as to the accuracy of the status listed.)
- Pending
Links
Images
Landscapes
- Coating Apparatus (AREA)
- Application Of Or Painting With Fluid Materials (AREA)
Abstract
Description
【0001】
【発明の属する技術分野】
本発明は、スライドビード塗布装置及び塗布方法に関し、特に低粘度塗布液の薄層且つ高速塗布化を実現する際の塗布面全幅にわたる塗布安定化技術に関する。
【0002】
【従来の技術】
スライドビード塗布方式はプラスチックフィルム、紙、ポリエチレンラミネート紙など連続帯状物(以下支持体と記す)に、1種類以上の塗布液を多層同時塗布できる塗布方式として当業者ではよく知られており、写真感光材料やインクジェット記録用紙、感熱記録用紙、感圧記録用紙等の生産に多用されており、米国特許2,681,294号、同2,761,491号、同2,761,791号等に開示されている。
【0003】
スライドビード塗布方式における最大の技術課題は如何に実用安定塗布速度を向上できるかということであり、従来からさまざまなアプローチによって技術開発がなされてきた。該塗布方式は、高速度・広幅化となるほど、また塗布厚みが薄くなるほど、先ず塗布両端部が不安定化する傾向となるが、近年益々生産性と経済性の向上を意図して高速、広幅、薄層化への要求が高まるにつれて、前記の塗布両端部の安定塗布技術が当業者の重要課題となっている。
【0004】
このような課題に対し例えば、特開昭55−3860号公報には塗布ビード幅方向両端部の減圧を強める技術、特開昭63−144347号公報にはスライド面両端部にチキソトロピー性の液体を流す技術、特開平5−4065号公報にはスライドホッパー先端部より支持体に近接又は接触する可撓性片を設ける技術、特開平6−055121号公報には塗布両端部に塗布に先立って液体を塗布する技術、特開2001−191001号公報には、塗布幅規制板の厚みを塗布液の最大厚みに対して規制し、塗布幅規制板を漸減させる技術、等が開示されている。
【0005】
しかしながら、上記特開昭55−3860号公報、特開昭63−144347号公報、特開平6−055121号公報は装置が複雑になるほか、特開平5−4065号公報も含めて上記開示技術では塗布速度200m/min以上且つ湿潤塗布量が30ml/m2以下で5mPa・s以下という低粘度塗布液という条件下では十分な効果が得られない問題があった。また、特開2001−191001号公報はある条件においては、上記低粘度塗布液においてかなり有用な方法であるが、長時間塗布での安定性、特に3mPa・s以下において欠けることがわかった。したがってかかる条件下でも長時間にわたり安定した塗布を可能とし、装置的にも複雑とならない技術が強く求められていた。
【0006】
【発明が解決しようとする課題】
上記の問題点に鑑み本発明の目的は、スライドビード塗布装置に於いて、高速、薄層、低粘度塗布液という条件でも塗布全幅にわたり、長時間安定塗布できる簡便な技術を提供することにある。
【0007】
【課題を解決するための手段】
本発明の上記目的は、スライド面の両端に塗布幅規制板を有するスライドビード塗布装置に於いて、前記スライド面と前記塗布幅規制板との間に空隙を設けることを特徴とする塗布装置によって達成される。また、上記した本発明のスライドビード塗布装置は、粘度3mPa・s以下の塗布液を30ml/m2以下の湿潤塗布量で塗布する場合に好適である。
【0008】
【発明の実施形態】
以下に本発明を具体的に説明する。図4は、一般的なスライドビード塗布装置の一例を示す模式断面図である。1はスライドホッパーで2層式のものを例示した。塗布液は図示しないポンプなどによって適宜計量されながら塗布液供給口2より供給される。供給された塗布液はスライドホッパー1のスライド面3上を流下し、支持体4に衝突(架橋)し、塗布される。支持体4はバックアップロール5に巻回されながら矢印の方向に走行する。塗布ビード部8を安定維持する為に、該ビード部8の下側を減圧する減圧室6が設置され、吸引口7を経て図示しない例えばブロアー式の減圧装置に配管される。尚、減圧度は、図示しないが例えば減圧センサーを配管内に設置して測定することができる。
【0009】
スライドビード塗布装置は、通常、スライド面を流下する塗布液の流下幅を規制するため、スライド面両端部に塗布幅規制板が設けられている。図3は、塗布幅規制板が設けられたスライド面の平面図である。図3aに、従来から一般的に採用されている塗布幅規制板を示す。この塗布幅規制板9は矢印で示す塗布液の流下方向と平行に設けられている。図3bには、特開2001−191001号公報に記載され、本発明の好ましい態様である塗布幅規制板を示す。この塗布幅規制板9は、塗布液が矢印の方向に流下するにしたがって、流下幅が漸減するように設けられている。この漸減する角度(漸減角度)は、スライド面の先端(リップ先端部A)と垂直に交わる線Cに対する傾きの角度θで表される。本発明に於いて、塗布幅規制板の漸減角度は3〜15度の範囲が好ましく、5〜15度の範囲がより好ましく、更に6〜12度の範囲が好ましい。図3において、Eは設定塗布幅である。
【0010】
次に、スライド面との間に空隙を有する塗布幅規制板の形態について詳しく説明する。図1は本発明の塗布幅規制板をスライド面に設けたときの部分斜視図である。説明の便宜上、片方のみを図示した。図2は図1の塗布幅規制板9のX−Yの断面図である。塗布幅規制板9は、その一部が切り抜かれた形状になっている。この切り抜かれた部分がそのままスライド面と塗布幅規制板との間に空隙を形成する。すなわち、図2において、高さHと幅Lで示される部分が空隙部となる。この空隙を形成するにあたって、一枚の平板からなる塗布幅規制板の塗布液と接する面でかつスライド面に接する一部を切り取って空隙を形成してもよいし、また、二枚の平板を貼り合わせて塗布幅規制板を作製する際に二枚の平板の形状を異ならして空隙を形成することもできる。
【0011】
本発明に於いて、前記空隙部は少なくとも塗布幅規制板の先端部とスライド面先端部(リップ先端部A)の間に設ける。好ましくは、該先端部から流下方向の上流側に長さLの空隙が形成されるように設ける。この長さLは、5mm以上が好ましい。
【0012】
空隙部の高さHは、Hは0.01mm〜2mmが好ましく、更に好ましくは0.1mm〜1mmである。塗布幅規制板9の合計の厚みGは塗布液が塗布幅規制板を乗り越えない厚みであれば特に規制されるものではないが、通常1mm〜10mmの厚みのものが用いられる。また、図1に示したように空隙部の奥行きDは、0.5mm以上が好ましく、1mm以上がより好ましい。前記の寸法範囲は図示のようにスライド面の両端部の塗布幅規制板について共通である。尚、発明者らの研究結果から、塗布液が流出するスリット10にあっては、塗布幅規制板9によって塞がれる部分を最初に封止し、塗布液が流出しないようにしておくことで、塗布端部の安定塗布性と均一性がより好ましくなることがわかっている。
【0013】
また、本発明の塗布液の接するスライドホッパーのスライド面と塗布幅規制板との間に空隙を設けることにより、この空隙により毛管現象が生じ、塗布端部が毛管力により安定できることを見出した。また、図3bのように、塗布液が矢印の方向に流下するにしたがって、流下幅が漸減角度θのごとく漸減するように設けることで、塗布端部は部分的に塗布量が増大し、その結果、塗布端部の支持体への架橋が著しく安定する。漸減角度θを前述したような範囲で調整することで塗布端部の極端な厚塗りを回避でき、乾燥負荷への悪影響も少なくすることができる。特に本発明の効果は、塗布液の粘度が低く、湿潤塗布量が少ないほど顕著であった。具体的には塗布液の粘度が3mPa・s以下で湿潤塗布量が30ml/m2以下であり、好ましくは塗布液の粘度が2mPa・s以下で湿潤塗布量が20ml/m2以下の場合であった。
【0014】
本発明に用いる塗布幅規制板9の材質には特に限定されるものではなく、例えば、ステンレスに代表される金属類のほかプラスチック類等が使用できる。また、塗布幅規制板の設置方法も特に限定されるものではなく、例えば、スライド面とのネジ止めによる方法、粘着物による貼り付け法等が挙げられる。
【0015】
【実施例】
以下に本発明を実施例により説明するが勿論本発明はこれだけに限定されるものではない。
【0016】
支持体として、ポリエチレン樹脂被覆紙にハロゲン化銀乳剤を塗布して乾燥させたものを用いて、物理現像核を含有する塗布液を塗布した。なお、支持体の幅は1500mm、設定塗布幅は1480mmである。塗布幅規制板はポリエチレンテレフタレート樹脂(厚みGは7mm)を用いて作製し、スライド面にネジにより止めて使用した。本実験に用いた塗布幅規制板の形状及び具体的寸法を以下に示す。
タイプI(本発明);図3aに示すような漸減角θが0度で、
空隙部のD=3mm、H=0.3mm、L=25mm
タイプII(本発明);図3bに示すような漸減角度θが8度で、
空隙部のD=3mm、H=0.3mm、L=25mm
タイプIII(比較);空隙部を有しない以外は、タイプIと同じ。
タイプIV(比較);空隙部を有しない以外は、タイプIIと同じ。
【0017】
本実験条件のような高速、薄層、及び低粘度塗布液の場合、スライドホッパー1の先端部と支持体4の空隙は狭い方が好ましいことが発明者らの実験で明らかになっているので、その空隙を0.12mmとして実験を行った。実験手順は減圧度250Paとし、液着性の良し悪しにより、減圧度を上下させ、塗布面を目視観察した。つまり、液着性良好の場合は、減圧度を下げて塗布面の目視観察を行い、最下限減圧度より20Pa高い減圧度で外的変動因子(支持体への振動)を加えて、塗布面への影響を目視観察した。液着性が悪い場合は、減圧度を上げて塗布面が均一になったところから20Pa高い減圧度で外的変動因子(支持体への振動)を加えて、塗布面への影響を目視観察した。尚、減圧度の高低の意味するところとしては、減圧度が低い状態を維持できるというは、外的因子等の影響を受けにくいこと、及び塗布の許容範囲が広く見積もれることである。
【0018】
実験結果を表1(実施例)及び表2(比較例)に示す。表1と表2を比較することで、本発明による高速、薄層領域において、従来にない良好な塗布性を示すことがわかる。すなわち、本実験条件のような高速、薄層領域において、従来の方式(比較例1、2)の塗布幅規制板(タイプIII)では塗布両端部を除く部分が均一に塗布できる減圧度は塗布両端部が塗布不可能(塗布液が架橋しなし、又はできない)又は架橋したとしても全幅に渡りたて筋が発生する。従来方式にθの角度をつけた塗布幅規制板(タイプIV)では従来方式の塗布幅規制板に比し、かなり改善効果は見られるが、外的変動因(振動)に対し塗布安定性を欠き、更なる低粘度、低湿潤塗布量では全幅に渡り縦筋が発生する。それに対して、本発明のタイプIの塗布幅規制板を用いた場合は、高速、低粘度、低湿潤塗布量の領域において、安定塗布でき、更に外的変動因に対しても安定塗布が可能であることが明らかとなった。更に、タイプIIの塗布幅規制板を用いることにより、より低い減圧度で安定した塗布性が得られることが明らかとなった。
【0019】
【表1】
【0020】
【表2】
【0021】
【発明の効果】
本発明により、スライドビード塗布において、高速・薄層・低粘度・低湿潤塗布量という条件でも塗布前幅にわたり、安定塗布できる技術を簡便に提供することができた。
【図面の簡単な説明】
【図1】本発明の塗布幅規制板の一例を示す部分斜視図
【図2】図1の塗布幅規制板のX−Y断面図
【図3】塗布幅規制板が設けられたスライド面の平面図
【図4】一般的なスライドビード塗布装置の模式断面図
【符号の説明】
1 スライドホッパー
3 スライド面
4 支持体
5 バックアップロール
8 塗布ビード部
9 塗布幅規制板
10 スリット[0001]
TECHNICAL FIELD OF THE INVENTION
The present invention relates to a slide bead coating apparatus and a coating method, and more particularly to a technique for stabilizing a coating over the entire width of a coating surface when realizing a thin layer and high-speed coating of a low-viscosity coating liquid.
[0002]
[Prior art]
The slide bead coating method is well known to those skilled in the art as a coating method capable of simultaneously coating one or more kinds of coating liquids on a continuous strip (hereinafter referred to as a support) such as a plastic film, paper, or polyethylene laminated paper. It is frequently used in the production of photosensitive materials, ink jet recording paper, heat-sensitive recording paper, pressure-sensitive recording paper, and the like, as described in U.S. Pat. Nos. 2,681,294, 2,761,491, and 2,761,791. It has been disclosed.
[0003]
The biggest technical problem in the slide bead coating method is how to improve the practical stable coating speed. Conventionally, technical development has been made by various approaches. As for the coating method, the higher the speed and the wider the width, and the thinner the coating thickness, the more the two ends of the coating tend to become unstable. As the demand for thinner layers increases, the technique of stably coating the above-mentioned both ends of the coating has become an important issue for those skilled in the art.
[0004]
To cope with such a problem, for example, Japanese Patent Application Laid-Open No. 55-3860 discloses a technique for increasing the pressure reduction at both ends in the width direction of the coating bead, and Japanese Patent Application Laid-Open No. 63-144347 discloses a method in which a thixotropic liquid is applied to both ends of the slide surface. Japanese Unexamined Patent Publication No. Hei 5-4065 discloses a technique in which a flexible piece is provided near or in contact with a support from the tip of a slide hopper. Japanese Patent Application Laid-Open No. 2001-191001 discloses a technique in which the thickness of a coating width regulating plate is regulated with respect to the maximum thickness of a coating solution, and the coating width regulating plate is gradually reduced.
[0005]
However, JP-A-55-3860, JP-A-63-144347 and JP-A-6-055511 complicate the apparatus, and the disclosed techniques including JP-A-5-4065 disclose the above-described techniques. There was a problem that a sufficient effect could not be obtained under the condition of a low-viscosity coating liquid having a coating speed of 200 m / min or more and a wet coating amount of 30 ml / m 2 or less and 5 mPa · s or less. In addition, Japanese Patent Application Laid-Open No. 2001-191001 is a method which is quite useful in the above-mentioned low-viscosity coating liquid under certain conditions, but it has been found that stability in long-time coating, particularly at 3 mPa · s or less, is lacking. Therefore, there has been a strong demand for a technique that enables stable coating over a long period of time under such conditions and that does not complicate the apparatus.
[0006]
[Problems to be solved by the invention]
In view of the above problems, an object of the present invention is to provide a simple technique capable of performing stable application for a long time in a slide bead application apparatus over the entire width of application even under the conditions of high speed, thin layer, and low viscosity coating solution. .
[0007]
[Means for Solving the Problems]
The object of the present invention is to provide a slide bead coating apparatus having coating width regulating plates at both ends of a slide surface, wherein a gap is provided between the slide surface and the coating width regulating plate. Achieved. Further, the above-described slide bead coating apparatus of the present invention is suitable for coating a coating liquid having a viscosity of 3 mPa · s or less with a wet coating amount of 30 ml / m 2 or less.
[0008]
DETAILED DESCRIPTION OF THE INVENTION
Hereinafter, the present invention will be specifically described. FIG. 4 is a schematic sectional view showing an example of a general slide bead coating device.
[0009]
In the slide bead coating device, coating width regulating plates are usually provided at both ends of the slide surface in order to regulate the flow width of the coating solution flowing down the slide surface. FIG. 3 is a plan view of a slide surface provided with a coating width regulating plate. FIG. 3A shows a coating width regulating plate generally used in the related art. The coating
[0010]
Next, the form of the coating width regulating plate having an air gap between the sliding surface and the sliding surface will be described in detail. FIG. 1 is a partial perspective view when the application width regulating plate of the present invention is provided on a slide surface. For convenience of explanation, only one is illustrated. FIG. 2 is a cross-sectional view of the coating
[0011]
In the present invention, the gap is provided at least between the tip of the coating width regulating plate and the tip of the slide surface (lip tip A). Preferably, a gap having a length of L is formed on the upstream side in the flow-down direction from the tip. This length L is preferably 5 mm or more.
[0012]
The height H of the gap is preferably 0.01 mm to 2 mm, and more preferably 0.1 mm to 1 mm. The total thickness G of the coating
[0013]
In addition, it has been found that by providing a gap between the slide surface of the slide hopper in contact with the coating liquid of the present invention and the coating width regulating plate, a capillary phenomenon is caused by this gap, and the coating end can be stabilized by capillary force. Further, as shown in FIG. 3B, as the coating liquid flows down in the direction of the arrow, the flow width is provided so as to gradually decrease as in the gradually decreasing angle θ, so that the coating end part partially increases the coating amount, As a result, the cross-linking of the coated end to the support is significantly stabilized. By adjusting the gradually decreasing angle θ in the above-described range, it is possible to avoid an extremely thick coating at the application end portion, and it is possible to reduce the adverse effect on the drying load. In particular, the effect of the present invention was more remarkable as the viscosity of the coating liquid was lower and the wet coating amount was smaller. Specifically, when the viscosity of the coating liquid is 3 mPa · s or less and the wet coating amount is 30 ml / m 2 or less, preferably, the viscosity of the coating liquid is 2 mPa · s or less and the wet coating amount is 20 ml / m 2 or less. there were.
[0014]
The material of the coating
[0015]
【Example】
Hereinafter, the present invention will be described with reference to Examples, but it is needless to say that the present invention is not limited thereto.
[0016]
As a support, a coating solution containing a physical development nucleus was applied using a substrate obtained by applying a silver halide emulsion to a polyethylene resin-coated paper and then drying. The width of the support is 1500 mm and the set application width is 1480 mm. The coating width regulating plate was prepared using a polyethylene terephthalate resin (thickness G was 7 mm), and was used by being screwed to the slide surface. The shape and specific dimensions of the coating width regulating plate used in this experiment are shown below.
Type I (the present invention); the tapering angle θ as shown in FIG.
D = 3 mm, H = 0.3 mm, L = 25 mm
Type II (invention); the tapering angle θ is 8 degrees as shown in FIG.
D = 3 mm, H = 0.3 mm, L = 25 mm
Type III (comparative): same as type I except that it has no void.
Type IV (comparison): same as type II except that it has no void.
[0017]
In the case of a high-speed, thin-layer, and low-viscosity coating solution under the present experimental conditions, the experiments by the inventors have revealed that the gap between the tip of the
[0018]
The experimental results are shown in Table 1 (Example) and Table 2 (Comparative Example). By comparing Table 1 and Table 2, it can be seen that in the high-speed and thin-layer region according to the present invention, a better coating property than ever before is exhibited. In other words, in the high-speed, thin-layer region under the present experimental conditions, the coating width regulating plate (type III) of the conventional method (Comparative Examples 1 and 2) can uniformly apply the portions except for the both ends of the application. Both ends cannot be applied (the coating solution is not or cannot be cross-linked), or even if cross-linked, streaks occur over the entire width. The coating width regulating plate (Type IV) with an angle of θ in the conventional system has a considerable improvement effect compared to the conventional coating width regulating plate, but the coating stability against external fluctuation factors (vibration) is improved. Chipping, further low viscosity, and low wet application amount produce vertical streaks over the entire width. On the other hand, when the coating width regulating plate of the type I of the present invention is used, stable coating can be performed in a high-speed, low-viscosity, low-moisture coating area, and stable coating can be performed against external fluctuation factors. It became clear that it was. Furthermore, it has been clarified that the use of the type II coating width regulating plate enables a stable coating property to be obtained at a lower degree of reduced pressure.
[0019]
[Table 1]
[0020]
[Table 2]
[0021]
【The invention's effect】
According to the present invention, it was possible to easily provide a technique capable of performing a stable coating over a width before coating even under conditions of high speed, thin layer, low viscosity, and low wet coating amount in slide bead coating.
[Brief description of the drawings]
FIG. 1 is a partial perspective view showing an example of a coating width regulating plate of the present invention. FIG. 2 is an XY cross-sectional view of the coating width regulating plate of FIG. 1. FIG. Top view [Fig. 4] Schematic sectional view of a general slide bead coating device [Explanation of reference numerals]
REFERENCE SIGNS
Claims (4)
Priority Applications (1)
Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
---|---|---|---|
JP2002220150A JP2004057942A (en) | 2002-07-29 | 2002-07-29 | Application apparatus and application method |
Applications Claiming Priority (1)
Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
---|---|---|---|
JP2002220150A JP2004057942A (en) | 2002-07-29 | 2002-07-29 | Application apparatus and application method |
Publications (2)
Publication Number | Publication Date |
---|---|
JP2004057942A true JP2004057942A (en) | 2004-02-26 |
JP2004057942A5 JP2004057942A5 (en) | 2005-04-28 |
Family
ID=31940871
Family Applications (1)
Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
---|---|---|---|
JP2002220150A Pending JP2004057942A (en) | 2002-07-29 | 2002-07-29 | Application apparatus and application method |
Country Status (1)
Country | Link |
---|---|
JP (1) | JP2004057942A (en) |
Cited By (3)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
WO2009119226A1 (en) * | 2008-03-27 | 2009-10-01 | セントラル硝子株式会社 | Process for production of water-absorbing articles |
JP2009233579A (en) * | 2008-03-27 | 2009-10-15 | Central Glass Co Ltd | Production process of water-absorbing article |
JP2009233578A (en) * | 2008-03-27 | 2009-10-15 | Central Glass Co Ltd | Production process of water-absorbing article |
-
2002
- 2002-07-29 JP JP2002220150A patent/JP2004057942A/en active Pending
Cited By (6)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
WO2009119226A1 (en) * | 2008-03-27 | 2009-10-01 | セントラル硝子株式会社 | Process for production of water-absorbing articles |
JP2009233579A (en) * | 2008-03-27 | 2009-10-15 | Central Glass Co Ltd | Production process of water-absorbing article |
JP2009233578A (en) * | 2008-03-27 | 2009-10-15 | Central Glass Co Ltd | Production process of water-absorbing article |
CN101980795A (en) * | 2008-03-27 | 2011-02-23 | 中央硝子株式会社 | Process for production of water-absorbing articles |
KR101286786B1 (en) | 2008-03-27 | 2013-07-17 | 샌트랄 글래스 컴퍼니 리미티드 | Process for production of water-absorbing articles |
US8623464B2 (en) | 2008-03-27 | 2014-01-07 | Central Glass Company, Limited | Process for production of water-absorbing articles |
Similar Documents
Publication | Publication Date | Title |
---|---|---|
JPH0146186B2 (en) | ||
JP2581975B2 (en) | Coating device | |
JPS60238179A (en) | Coating apparatus | |
JPS6320069A (en) | Coater | |
JP4185999B2 (en) | Tension rising knife coating method | |
JP2009045513A (en) | Method and apparatus for applying coating liquid and method for manufacturing product having coating film | |
JPH03296464A (en) | Coating apparatus | |
JPH07116585A (en) | Coating liquid applying method | |
JP5491250B2 (en) | Extrusion coating device and coating film manufacturing method | |
JP2004057942A (en) | Application apparatus and application method | |
CN105983511A (en) | A coating device and a coating method | |
JPH07114997B2 (en) | Application method | |
JP2004174489A (en) | Extrusion type nozzle and coating apparatus using the same | |
WO1993014878A1 (en) | Method of and device for application | |
JP2009291737A (en) | Die coating method | |
JP2006255660A (en) | Coating method and coater | |
JPH11197576A (en) | Coater and coating method | |
JP2006272269A (en) | Coating method for coating liquid and optical film | |
JP2001191001A (en) | Coating device and coating method | |
JP2003200097A (en) | Application method and slot die | |
JP2001087695A (en) | Coating apparatus | |
JP2006272270A (en) | Coating method for coating liquid, coater for coating liquid and optical film | |
JP5899916B2 (en) | Thin film formation method | |
JPH0235959A (en) | Coating apparatus | |
JPH11147061A (en) | Coating equipment |
Legal Events
Date | Code | Title | Description |
---|---|---|---|
A521 | Written amendment |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A523 Effective date: 20040621 |
|
A621 | Written request for application examination |
Effective date: 20040621 Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A621 |
|
A977 | Report on retrieval |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A971007 Effective date: 20060428 |
|
A131 | Notification of reasons for refusal |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A131 Effective date: 20060523 |
|
A521 | Written amendment |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A523 Effective date: 20060710 |
|
A02 | Decision of refusal |
Effective date: 20061003 Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A02 |