JP2004031455A - 光インタコネクション装置 - Google Patents
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Abstract
【課題】より一層の小型化が可能であり、回路の変更に容易に対応することができて、製品コストを低減できる光インタコネクション装置を提供する。
【解決手段】例えば、サブマウント基板20aを挟んで面発光半導体レーザ21とドライバIC22とを立体的に配置し、ドライバIC23の上にCPU等のLSI23を搭載する。面発光半導体レーザ21はエピタキシャルリフトオフ(ELO)プロセスにより形成されたものであり、厚さ約10μmである。サブマウント基板20a、面発光半導体レーザ21、ドライバIC22及びLSI23にはいずれも貫通孔が設けられており、これらの部品は貫通孔内の導電体を介して電気的に接続されている。
【選択図】 図1
【解決手段】例えば、サブマウント基板20aを挟んで面発光半導体レーザ21とドライバIC22とを立体的に配置し、ドライバIC23の上にCPU等のLSI23を搭載する。面発光半導体レーザ21はエピタキシャルリフトオフ(ELO)プロセスにより形成されたものであり、厚さ約10μmである。サブマウント基板20a、面発光半導体レーザ21、ドライバIC22及びLSI23にはいずれも貫通孔が設けられており、これらの部品は貫通孔内の導電体を介して電気的に接続されている。
【選択図】 図1
Description
【0001】
【発明の属する技術分野】
本発明は、サーバ及びクライアント等のコンピュータ並びにルータ等の装置内部に搭載し、CPU及びメモリなどのLSIと光電気混載基板との間のインタフェースとして使用する光インタコネクション装置に関する。
【0002】
【従来の技術】
情報通信技術及び情報処理技術の発達と共に、コンピュータや大容量交換機等の装置内の電子回路間を接続する電気配線が高密度化して、システムの大規模化及び高性能化を阻む要因となってきた。また、近年のLSIの著しい発達はLSIの入出力端子の高密度化とLSI内部における電気配線の高密度化をもたらし、性能向上の隘路となってきている。このような問題を解決するために、電子回路間を光で接続する光インタコネクション技術が注目されるようになった。
【0003】
光インタコネクション装置は、一般的に、面発光半導体レーザ(VCSEL:Vertical Cavity Surface Emitting Laser)等の発光素子、該発光素子を駆動するドライバIC、フォトダイオード等の受光素子及び該受光素子を駆動するレシーバIC等の部品(以下、インタコネクションモジュールという)をサブマウント基板上に2次元配置して構成されている。これらのインタコネクションモジュールと共にCPU回路又はメモリ回路等が形成されたLSIをサブマウント基板上に搭載する場合も多い。
【0004】
【発明が解決しようとする課題】
しかしながら、従来の光インタコネクション装置は、各インタコネクションモジュールが2次元的に配置されているので実装面積が大きくなり、小型化が難しいという欠点がある。また、各インタコネクションモジュール間を接続する電気配線の配線長が長くなるので、高速動作が阻害されたり、クロストーク雑音によりS/N比が劣化するという問題点もある。
【0005】
サブマウント基板としてシリコン基板を使用し、このシリコン基板にドライバ回路、レシーバ回路及びCPU回路等を形成して、シリコン基板上に発光素子及び受光素子を実装した光インタコネクション装置も開発されている。しかし、この種の光インタコネクション装置では、ドライバ回路、レシーバ回路及びCPU回路等がモノリシック集積されているため、回路を変更することが難しく、汎用性が低い。
【0006】
光インタコネクション装置を小型化するために、各インタコネクションモジュールを立体的(3D)に配置することが考えられる。例えばサブマウント基板の下に光素子(発光素子又は受光素子)を搭載し、サブマウント基板の上にドライバIC又はレシーバICを搭載する。しかし、インタコネクションモジュールを立体的に配置すると、各インタコネクションモジュール間を電気的に接続することができなくなる。
【0007】
また、例えば面発光半導体レーザでは光放出側の面とその反対側の面にそれぞれ電極があるため、一方の面側の電極はサブマウント基板に直接接続できるが、他方の面側の電極はワイヤボンディング等の方法によりサブマウント基板に接続する必要がある。このため、実装工程が煩雑であるという問題点もある。
【0008】
更に、従来の光インタコネクション装置では、サブマウント基板としてセラミック基板やシリコンPLC(Planar Lightwave Circuit)基板等の比較的高価な基板を用いているため、製品コストが高くなるという欠点もある。
【0009】
以上から、本発明の目的は、より一層の小型化が可能であり、回路の変更に容易に対応することができて、製品コストを低減できる光インタコネクション装置を提供することを目的とする。
【0010】
【課題を解決するための手段】
本発明の光インタコネクション装置は、エピタキシャルリフトオフ(以下、ELOという)プロセスにより形成された光素子モジュールと、前記光素子モジュールを駆動する光素子駆動モジュールとを有し、前記光素子モジュール及び前記光素子駆動モジュールは、いずれも一方の面から他方の面に貫通する貫通孔を有し、前記貫通孔内の導電体を介して電気的に接続されていることを特徴とする。
【0011】
本発明においては、光素子モジュール及び光素子駆動モジュールにはいずれも貫通孔が設けられている。そして、光素子モジュールと光素子駆動モジュールとは貫通孔内の導電体を介して電気的に接続されている。従って、光素子モジュールと光素子駆動モジュールとを立体的に配置して駆動することができる。これにより、光インタコネクション装置のより一層の小型化が可能になる。
【0012】
また、本発明においては、各モジュール間を貫通孔内の導電体を介して配線しているので、配線長が短く、S/N比等の特性が良好である。
【0013】
更に、各機能毎にモジュール化しておくことにより、回路の変更に容易に対応できる。更にまた、サブマウント基板として通常のプリント配線基板やフレキシブル基板を使用することが可能であり、サブマウント基板を使用しないことも可能であるので、従来に比べて製品コストを低減できる。
【0014】
更にまた、光素子モジュールがELOプロセスにより形成されたものであるため、厚さを極めて薄くできる。このため、例えば光素子駆動モジュールをメイン基板にはんだバンプで接合する場合に、光素子駆動モジュールのメイン基板側の面に光素子モジュールを搭載することができる。これにより、光素子モジュールと導波路との間隔が極めて短くなり、光結合効率が高なる。また、ELOプロセスでは光素子モジュールを極めて小型に形成できるので、1つの光素子駆動モジュールに複数の光素子モジュールを搭載することも可能であり、WDM(Wavelength Division Multiplexing:波長分割多重方式)に容易に対応することが可能である。
【0015】
【発明の実施の形態】
以下、本発明の実施の形態について、添付の図面を参照して説明する。
【0016】
(第1の実施の形態)
図1は本発明の第1の実施の形態の光コネクション装置の一例を示す模式図である。
【0017】
光電気混載基板(メイン基板)10には、光導波路11及び電気配線(図示せず)がそれぞれ所定のパターンで形成されている。本実施の形態では、光電気混載基板10として、ガラスエポキシプリント配線基板に高分子材料で形成されたシート状の光導波路を貼り付けたものを使用している。但し、本発明においてメイン基板はこれに限定されるものではない。
【0018】
光導波路11の所定の位置にはミラー11aが設けられており、後述する面発光半導体レーザ21から出射された光を光導波路11に導いたり、光導波路11を通る光を後述するフォトダイオード24に向けて反射するようになっている。
【0019】
光電気混載基板10の上にはサブマウント基板20a,20bがはんだバンプ12により実装されている。本実施の形態では、サブマウント基板20a,20bは、例えば有機ポリマーにより形成されたリジッド基板又はフレキシブル基板である。
【0020】
サブマウント基板20aの下には、ELOプロセスにより形成された厚さ10μm程度の面発光半導体レーザ21が搭載されている。この面発光半導体レーザ21から出射された光はミラー11aにより反射されて光導波路11内に導かれるようになっている。
【0021】
また、サブマウント基板20aの上には面発光半導体レーザ21を駆動する回路が形成されたドライバIC22が搭載されており、ドライバIC22の上にはCPU又はメモリ等の回路が形成されたLSI23が搭載されている。
【0022】
これらのサブマウント基板20a、面発光半導体レーザ21、ドライバIC22及びLSI23は、いずれも上面及び下面に電極が設けられている。また、これらのサブマウント基板20a、面発光半導体レーザ21、ドライバIC22及びLSI23には、上面から下面に貫通する貫通孔(図1中に破線で示す)が設けられており、一方の面側の電極は、貫通孔内の導電体を介して他方の面側の電極のうちの所定の電極と電気的に接続されている。
【0023】
すなわち、本実施の形態においては、面発光半導体レーザ21、ドライバIC22及びLSI23の間、及びこれらの部品とサブマウント基板20aとの間の電気的接続は、各部品及びサブマウント基板20aに設けられた貫通孔内の導電体を介して行われる。
【0024】
また、サブマウント基板20aの電気配線ははんだバンプ12を介して光電気混載基板10の電気配線に接続されており、これらの電気配線を介して面発光半導体レーザ21、ドライバIC22及びLSI23への電力の供給や電気信号の入出力が行われる。
【0025】
これと同様に、サブマウント基板20bの下にはELOプロセスにより形成された厚さ10μm程度のフォトダイオード24が搭載されており、サブマウント基板20bの上にはフォトダイオード24を駆動する回路が形成されたレシーバIC25が搭載されている。また、レシーバIC25の上にはCPU又はメモリ等の回路が形成されたLSI26が搭載されている。
【0026】
サブマウント基板20b、フォトダイオード24、レシーバIC25及びLSI26には、いずれも上面及び下面に電極が設けられている。また、これらのサブマウント基板20b、フォトダイオード24、レシーバIC25及びLSI26には上面から下面に貫通する貫通孔が設けられており、一方の面側の電極は、貫通孔内の導電体を介して他方の面側の電極のうちの所定の電極と電気的に接続されている。
【0027】
また、サブマウント基板20bの電気配線ははんだバンプ12を介して光電気混載基板10の電気配線に接続されており、これらの電気配線を介してフォトダイオード24、レシーバIC25及びLSI26への電力の供給及び電気信号の入出力が行われる。
【0028】
図2は面発光半導体レーザ21の模式断面図である。面発光半導体レーザ21では、光出射側の面にアノード電極31が設けられ、その裏面側にカソード電極32が設けられている。本実施の形態では、光放出側の面に設けられたアノード電極31は貫通孔30内の導電体膜35を介して裏面側の電極33と電気的に接続している。
【0029】
貫通孔30は、例えば反応性イオンエッチング(RIE)法により形成する。その後、CVD法等により貫通孔30内の壁面に絶縁膜34を被着形成し、更にスパッタ法又はCVD法等により絶縁膜34の上にPt(白金)又はAu(金)等の導電体膜35を形成する。
【0030】
図3はフォトダイオード24の模式断面図である。フォトダイオード24では、光受光面側にアノード電極41及びカソード電極42が設けられている。これらの電極41,42は、貫通孔40内の導電体膜44を介して裏面側の電極45,46と電気的に接続されている。なお、貫通孔40の壁面と導電体膜44との間には絶縁膜43が形成されている。
【0031】
図4はドライバIC22の模式断面図である。ドライバIC22も、一方の面から他方の面に貫通する貫通孔50が設けられている。この貫通孔50は、例えば反応性イオンエッチングにより形成する。そして、貫通孔50の内壁面を覆う絶縁膜51及び導電体膜52を順次形成した後、一方の面側に電極53を形成し、他方の面側に電極55を形成する。なお、図4ではドライバIC22には1つの貫通孔しか図示していないが、実際には電力の供給や信号の伝達に必要な数の貫通孔が設けられている。
【0032】
レシーバIC25、LSI23,26にも、ドライバIC22と同様に、複数の貫通孔が設けられている。また、図2〜図4では貫通孔30,40,50の内部が中空であるとしたが、貫通孔の内壁面に絶縁膜を形成した後に、貫通孔内に導電体を埋め込んでもよい。
【0033】
本実施の形態においては、面発光半導体レーザ21及びフォトダイオード24は、ELOプロセスにより形成され、サブマウント基板20a,20bに実装される。以下、ELOプロセスについて説明する(IEEE Photon Lett.,1991,3,(12).pp.1123−1126)。
【0034】
図5〜図7はELOプロセスの概要を示す模式図である。まず、図5(a)に示すように、GaAs半導体基板61上に例えばAlx Ga1−x As(但し、0.3≦x≦1)からなるエッチングストップ層62を形成する。そして、エッチングストップ層62上に、電子ビーム成長法(MBE)又は有機金属気相成長法(MOCVD)を使用してGaAs/AlAs系多層膜構造の面発光半導体レーザ(素子)64を形成する。この場合、レーザ光が基板61の下側に出射される構造とする。
【0035】
次に、図5(b)に示すように、反応性イオンエッチング法により各素子64間を分離する。このとき、本実施の形態では、素子64の表面からエッチングストップ層62に到達する貫通孔を形成する。そして、CVD法又はスパッタ法により、貫通孔の壁面を被覆する絶縁膜及び導電体膜を形成する(図2参照)。
【0036】
次に、図5(c)に示すように、素子64の上面に所定の電極65を形成する。
【0037】
次に、図6(a)に示すように、素子64をワックス66で覆う。そして、塩素系のガスを使用し、図6(b)に示すように、半導体基板61を裏面側からエッチングストップ層62までエッチングする。更に、ガス種を替えて反応性イオンエッチングを継続し、エッチングストップ層61を除去する。その後、素子64の裏面側に電極を形成する。
【0038】
次に、図6(c)に示すように、素子64を例えば半導体を使用して形成したダイアフラム67へ転写する。その後、ワックス66を除去する。
【0039】
次いで,図7に示すように、ダイアフラム67の裏側から所望の光素子64をピンで押し出し、光素子をサブマウント基板68上に搭載する。
【0040】
このようにしてELOプロセスで形成した光素子は厚さが10μm程度であり、従来の一般的な光素子(厚さが100μm程度)に比べて極めて薄くできる。
【0041】
なお、上記の例では図5(b)の工程で、光が基板61の下側に出射されるように素子64を構成するものとしたが、光が基板61の上側に出射されるように構成した場合は、2回のワックス工程を行って素子64の向きを反転させればよい。
【0042】
本実施の形態では、光インタコネクション装置を構成する面発光半導体レーザ21、サブマウント基板20a,20b、ドライバIC22、フォトダイオード24、レシーバIC25及びLSI23,26がいずれも貫通孔を有し、これらの貫通孔内の導電体を介して各部品間が電気的に接続されるので、各部品を立体的に配置して駆動することができる。これにより、光インタコネクション装置を従来に比べて小型化することができる。
【0043】
また、本実施の形態では、インタコネクションモジュールとサブマウント基板20a,20bとをワイヤボンディング等で接続する工程が不要であり、組み立てが容易である。
【0044】
更に、本実施の形態においては、各部品間を貫通孔内の導電体を介して接続するので、配線長が短縮される。これにより、従来に比べてより一層の高速動作が可能になるとともに、S/N比等の特性が向上する。更にまた、本実施の形態においては各機能を個別のモジュールとしているので、回路の変更に容易に対応することができると共に、製品の信頼性を向上させることができる。
【0045】
また、本実施の形態においては、セラミック基板やシリコンPLC基板等が不要であり、製品コストを削減することができる。
【0046】
なお、上記実施の形態では面発光半導体レーザ21とドライバIC22とがサブマウント基板20aを挟んで配置され、フォトダイオード24とレシーバIC25とがサブマウント基板20bを挟んで配置されている場合について説明したが、図8に示すように、電気配線が形成された基板15上に、ドライバIC22及び面発光半導体レーザ21を重ねて搭載したサブマウント基板20a、並びにレシーバIC25及びフォトダイオード24を重ねて搭載したサブマウント基板20bを実装してもよい。但し、図8に示す例では、基板15とは別に、導波路17aが設けられた基板17を用意する必要がある。また、図8に示す光インタコネクション装置の場合は、CPU及びメモリ等のLSI(図示せず)は基板15上に搭載されており、はんだバンプ12aを介してドライバIC22及びレシーバIC25に電気的に接続される。
【0047】
(第2の実施の形態)
図9は本発明の第2の実施の形態の光インタコネクション装置を示す模式図、図10は図9中に丸印で示す部分の拡大図である。
【0048】
光電気混載基板70には光導波路71及び電気配線(図示せず)がそれぞれ所定のパターンで形成されている。光導波路71の所定の位置にはミラー71aが設けられており、面発光半導体レーザ81から出射された光を光導波路71に導いたり、光導波路71を通る光をフォトダイオード83に向けて反射するようになっている。
【0049】
本実施の形態においては、面発光半導体レーザ81及びフォトダイオード83は光電気混載基板70の上に直接はんだバンプで接合されている。すなわち、図10に示すように、光電気混載基板70には面発光半導体レーザ81及びフォトダイオード83を接続するための電極70aが設けられており、面発光半導体レーザ81及びフォトダイオード83に設けられた電極80aとはんだバンプ73により接合されている。なお、面発光半導体レーザ81の光出射側の面に段差がある場合は、ポリイミド等により段差を無くすことが好ましい。
【0050】
面発光半導体レーザ81の上にはドライバIC82が搭載されており、フォトダイオード83の上にはレシーバIC84が搭載されている。これらの面発光半導体レーザ81、ドライバIC82、フォトダイオード83及びレシーバIC84にはいずれも貫通孔(図9に破線で示す)が設けられている。これらの貫通孔内の導電体を介して光電気混載基板70の電気配線と面発光半導体レーザ81、ドライバIC82、フォトダイオード83及びレシーバIC84の電極とが電気的に接続される。
【0051】
なお、本実施の形態では、CPU及びメモリ等のLSI(図示せず)は光電気混載基板70上に搭載され、光電気混載基板70の電気配線と面発光半導体レーザ81及びフォトダイオード83の貫通孔を介してドライバIC82及びレシーバIC84に接続されている。
【0052】
本実施の形態においては、サブマウント基板を使用せず、光電気混載基板70の上に各光コネクションモジュールが立体的に配置されているので、第1の実施の形態に比べて、光導波路71と面発光半導体レーザ81及びフォトダイオード83とのアライメントが自己整合的に行われ、アライメント工程が削減できるという利点がある。すなわち、図11に示すように、光電気混載基板70の電極70aと面発光半導体レーザ81(又は、フォトダイオード83)の電極80aとをはんだバンプ73で接合する場合に、光電気混載基板70に対し面発光半導体レーザ81(又はフォトダイオード83)の位置が若干ずれていたとしても、はんだバンプ73の表面張力により面発光半導体レーザ81(又はフォトダイオード83)の位置が自動的に所定の位置に修正される。これにより、面発光半導体レーザ81及びフォトダイオード83と光導波路とのアライメントを調整する工程が不要になり、製造コストが削減される。
【0053】
また、本実施の形態においては、サブマウント基板が不要であるため、第1の実施の形態に比べてより一層の低コスト化が可能である。
【0054】
なお、本実施の形態ではCPU又はメモリ等のLSIが光電気混載基板70上に搭載されている場合について説明したが、第1の実施の形態と同様に、ドライバIC82及びレシーバIC84の上にCPU又はメモリ等の回路が形成されたLSIを搭載するようにしてもよい。
【0055】
(第3の実施の形態)
図12は本発明の第3の実施の形態の光インタコネクション装置の構成を示す模式図である。
【0056】
本実施の形態においては、ドライバIC92がはんだバンプ73により光電気混載基板70の上に接合されている。このドライバIC92の下面側には、ELOプロセスにより形成された厚さが約10μmの面発光半導体レーザ91が搭載されている。
【0057】
これと同様に、レシーバIC94がはんだバンプ73により光電気混載基板70の上に接合されている。このレシーバIC94の下面側に、ELOプロセスにより形成された厚さが約10μmのフォトダイオード93が搭載されている。
【0058】
光電気混載基板70とドライバIC92及びレシーバIC94との間隔は例えば30μm程度であり、面発光半導体レーザ91及びフォトダイオード92は光導波路71から極めて近い位置に配置される。本実施の形態においても、他の実施の形態と同様の効果を得ることができる。
【0059】
なお、上記実施の形態ではいずれも1つのドライバIC又はレシーバICに1つの光素子モジュールが搭載されている場合について説明したが、1つのドライバIC又はレシーバICに複数の光素子モジュールを搭載してもよい。例えば、図13に示すように、ドライバIC95の上に出力光の波長λ1 ,λ2 ,λ3 が相互に異なる複数の面発光半導体レーザ96a,96b,96cを搭載してもよい。これにより、WDMに容易に対応することができる。
【0060】
(付記1)エピタキシャルリフトオフプロセスにより形成された光素子モジュールと、前記光素子モジュールを駆動する光素子駆動モジュールとを有し、前記光素子モジュール及び前記光素子駆動モジュールは、いずれも一方の面から他方の面に貫通する貫通孔を有し、前記貫通孔内の導電体を介して電気的に接続されていることを特徴とする光インタコネクション装置。
【0061】
(付記2)メイン基板と、前記メイン基板に実装されたサブマウント基板と、エピタキシャルリフトオフプロセスにより形成され、前記サブマウント基板の一方の面側に搭載された光素子モジュールと、前記サブマウント基板の他方の面側に搭載された光素子駆動モジュールとを有し、前記サブマウント基板、前記光素子モジュール及び前記光素子駆動モジュールは、いずれも一方の面から他方の面に貫通する貫通孔を有し、前記サブマウント基板の配線、前記光素子モジュール及び前記光素子駆動モジュールは、前記貫通孔内の導電体を介して電気的に接続されていることを特徴とする光インタコネクション装置。
【0062】
(付記3)メイン基板と、前記メイン基板に実装されたサブマウント基板と、前記サブマウント基板の一方の面側に搭載された光素子駆動モジュールと、エピタキシャルリフトオフプロセスにより形成され、前記光素子駆動モジュールに搭載された光素子モジュールとを有し、前記光素子モジュール及び前記光素子駆動モジュールは、いずれも一方の面から他方の面に貫通する貫通孔を有し、前記サブマウント基板の配線、前記光素子モジュール及び前記光素子駆動モジュールは、前記貫通孔内の導電体を介して電気的に接続されていることを特徴とする光インタコネクション装置。
【0063】
(付記4)前記サブマウント基板がはんだバンプにより前記メイン基板に実装されていることを特徴とする付記2又は3に記載の光インタコネクション装置。
【0064】
(付記5)メイン基板と、前記メイン基板上に搭載された光素子駆動モジュールと、エピタキシャルリフトオフプロセスにより形成され、前記光素子駆動モジュールに搭載された光素子モジュールとを有し、前記光素子モジュール及び前記光素子駆動モジュールは、いずれも第1の面に設けられた第1の電極と、第2の面に設けられた第2の電極と、前記第1の面から前記第2の面に貫通する貫通孔と、前記貫通孔内に形成されて前記第1の電極と前記第2の電極とを電気的に接続する導電体とを有することを特徴とする光インタコネクション装置。
【0065】
(付記6)前記光素子駆動モジュールが、はんだバンプにより前記メイン基板に接続されていることを特徴とする付記5に記載の光インタコネクション装置。
【0066】
(付記7)メイン基板と、エピタキシャルリフトオフプロセスにより形成され、前記メイン基板上に搭載された光素子モジュールと、前記光素子モジュール上に搭載された光素子駆動モジュールとを有し、前記光素子モジュール及び前記光素子駆動モジュールは、いずれも第1の面に設けられた第1の電極と、第2の面に設けられた第2の電極と、前記第1の面から前記第2の面に貫通する貫通孔と、前記貫通孔内に形成されて前記第1の電極と前記第2の電極とを電気的に接続する導電体とを有することを特徴とする光インタコネクション装置。
【0067】
(付記8)前記光素子モジュールが、はんだバンプにより前記メイン基板に接続されていることを特徴とする付記7に記載の光インタコネクション装置。
【0068】
(付記9)1つの光素子駆動モジュールに対し、複数個の前記光素子モジュールを有することを特徴とする付記1乃至8のいずれか1項に記載の光インタコネクション装置。
【0069】
【発明の効果】
以上説明したように、本発明の光インタコネクション装置によれば、光素子モジュール及び光素子駆動モジュールに貫通孔が設けられており、各モジュール間が貫通孔内の導電体を介して接続するようになっているので、メイン基板又はサブマウント基板に光素子モジュール及び光素子駆動モジュールを立体的に搭載することができる。これにより、光インタコネクション装置を従来に比べて小型化できると共に、回路の変更に容易に対応することができる。また、サブマウント基板として通常のプリント配線基板を使用したり、サブマウント基板を使用しないことができるので、製品コストを低減できる。
【0070】
更に、本発明においては、光素子モジュールがELOプロセスにより形成されたものであるので、素子サイズが小さく、1つの光素子駆動モジュールに対し複数の素子を搭載することができる。これにより、WDMに容易に対応することができる。
【図面の簡単な説明】
【図1】図1は本発明の第1の実施の形態の光コネクション装置の一例を示す模式図である。
【図2】図2は第1の実施の形態で用いた面発光半導体レーザの模式断面図である。
【図3】図3は第1の実施の形態で用いたフォトダイオードの模式断面図である。
【図4】図4は第1の実施の形態で用いたドライバICの模式断面図である。
【図5】図5はELOプロセスの概要を示す模式図(その1)である。
【図6】図6はELOプロセスの概要を示す模式図(その2)である。
【図7】図7はELOプロセスの概要を示す模式図(その3)である。
【図8】図8は第1の実施の形態の他の変形例を示す模式図であり、サブマウント基板の一方の面側に2つの光インタコネクションモジュールを積み重ねて搭載した例を示している。
【図9】図9は本発明の第2の実施の形態の光インタコネクション装置を示す模式図である。
【図10】図10は図9中に丸印で示す部分の拡大図である。
【図11】図11は、はんだバンプの表面張力により面発光半導体レーザの位置が自動的に調整されるようすを示す模式図である。
【図12】図12は本発明の第3の実施の形態の光インタコネクション装置の構成を示す模式図である。
【図13】図13は、1つのドライバICに出力光の波長が相互に異なる複数の面発光半導体レーザを搭載した例を示す模式図である。
【符号の説明】
10,70…光電気混載基板、
11,17a,17b,71…光導波路、
11a,71a…ミラー、
12,73…はんだバンプ、
20a,20b,68…サブマウント基板、
21,81,91,96a,96b,96c…面発光半導体レーザ(VCSEL)、
22,82,92,95…ドライバIC,
23,26…LSI、
24,83,93…フォトダイオード、
25,84,94…レシーバIC,
30,40,50…貫通孔、
31,32,33,41,42,45,46,53,55,65,70a,80a…電極、
34,43,51…絶縁膜、
35,44,52…導電体膜、
61…GaAs基板、
62…エッチングストップ層、
66…ワックス、
67…ダイアフラム。
【発明の属する技術分野】
本発明は、サーバ及びクライアント等のコンピュータ並びにルータ等の装置内部に搭載し、CPU及びメモリなどのLSIと光電気混載基板との間のインタフェースとして使用する光インタコネクション装置に関する。
【0002】
【従来の技術】
情報通信技術及び情報処理技術の発達と共に、コンピュータや大容量交換機等の装置内の電子回路間を接続する電気配線が高密度化して、システムの大規模化及び高性能化を阻む要因となってきた。また、近年のLSIの著しい発達はLSIの入出力端子の高密度化とLSI内部における電気配線の高密度化をもたらし、性能向上の隘路となってきている。このような問題を解決するために、電子回路間を光で接続する光インタコネクション技術が注目されるようになった。
【0003】
光インタコネクション装置は、一般的に、面発光半導体レーザ(VCSEL:Vertical Cavity Surface Emitting Laser)等の発光素子、該発光素子を駆動するドライバIC、フォトダイオード等の受光素子及び該受光素子を駆動するレシーバIC等の部品(以下、インタコネクションモジュールという)をサブマウント基板上に2次元配置して構成されている。これらのインタコネクションモジュールと共にCPU回路又はメモリ回路等が形成されたLSIをサブマウント基板上に搭載する場合も多い。
【0004】
【発明が解決しようとする課題】
しかしながら、従来の光インタコネクション装置は、各インタコネクションモジュールが2次元的に配置されているので実装面積が大きくなり、小型化が難しいという欠点がある。また、各インタコネクションモジュール間を接続する電気配線の配線長が長くなるので、高速動作が阻害されたり、クロストーク雑音によりS/N比が劣化するという問題点もある。
【0005】
サブマウント基板としてシリコン基板を使用し、このシリコン基板にドライバ回路、レシーバ回路及びCPU回路等を形成して、シリコン基板上に発光素子及び受光素子を実装した光インタコネクション装置も開発されている。しかし、この種の光インタコネクション装置では、ドライバ回路、レシーバ回路及びCPU回路等がモノリシック集積されているため、回路を変更することが難しく、汎用性が低い。
【0006】
光インタコネクション装置を小型化するために、各インタコネクションモジュールを立体的(3D)に配置することが考えられる。例えばサブマウント基板の下に光素子(発光素子又は受光素子)を搭載し、サブマウント基板の上にドライバIC又はレシーバICを搭載する。しかし、インタコネクションモジュールを立体的に配置すると、各インタコネクションモジュール間を電気的に接続することができなくなる。
【0007】
また、例えば面発光半導体レーザでは光放出側の面とその反対側の面にそれぞれ電極があるため、一方の面側の電極はサブマウント基板に直接接続できるが、他方の面側の電極はワイヤボンディング等の方法によりサブマウント基板に接続する必要がある。このため、実装工程が煩雑であるという問題点もある。
【0008】
更に、従来の光インタコネクション装置では、サブマウント基板としてセラミック基板やシリコンPLC(Planar Lightwave Circuit)基板等の比較的高価な基板を用いているため、製品コストが高くなるという欠点もある。
【0009】
以上から、本発明の目的は、より一層の小型化が可能であり、回路の変更に容易に対応することができて、製品コストを低減できる光インタコネクション装置を提供することを目的とする。
【0010】
【課題を解決するための手段】
本発明の光インタコネクション装置は、エピタキシャルリフトオフ(以下、ELOという)プロセスにより形成された光素子モジュールと、前記光素子モジュールを駆動する光素子駆動モジュールとを有し、前記光素子モジュール及び前記光素子駆動モジュールは、いずれも一方の面から他方の面に貫通する貫通孔を有し、前記貫通孔内の導電体を介して電気的に接続されていることを特徴とする。
【0011】
本発明においては、光素子モジュール及び光素子駆動モジュールにはいずれも貫通孔が設けられている。そして、光素子モジュールと光素子駆動モジュールとは貫通孔内の導電体を介して電気的に接続されている。従って、光素子モジュールと光素子駆動モジュールとを立体的に配置して駆動することができる。これにより、光インタコネクション装置のより一層の小型化が可能になる。
【0012】
また、本発明においては、各モジュール間を貫通孔内の導電体を介して配線しているので、配線長が短く、S/N比等の特性が良好である。
【0013】
更に、各機能毎にモジュール化しておくことにより、回路の変更に容易に対応できる。更にまた、サブマウント基板として通常のプリント配線基板やフレキシブル基板を使用することが可能であり、サブマウント基板を使用しないことも可能であるので、従来に比べて製品コストを低減できる。
【0014】
更にまた、光素子モジュールがELOプロセスにより形成されたものであるため、厚さを極めて薄くできる。このため、例えば光素子駆動モジュールをメイン基板にはんだバンプで接合する場合に、光素子駆動モジュールのメイン基板側の面に光素子モジュールを搭載することができる。これにより、光素子モジュールと導波路との間隔が極めて短くなり、光結合効率が高なる。また、ELOプロセスでは光素子モジュールを極めて小型に形成できるので、1つの光素子駆動モジュールに複数の光素子モジュールを搭載することも可能であり、WDM(Wavelength Division Multiplexing:波長分割多重方式)に容易に対応することが可能である。
【0015】
【発明の実施の形態】
以下、本発明の実施の形態について、添付の図面を参照して説明する。
【0016】
(第1の実施の形態)
図1は本発明の第1の実施の形態の光コネクション装置の一例を示す模式図である。
【0017】
光電気混載基板(メイン基板)10には、光導波路11及び電気配線(図示せず)がそれぞれ所定のパターンで形成されている。本実施の形態では、光電気混載基板10として、ガラスエポキシプリント配線基板に高分子材料で形成されたシート状の光導波路を貼り付けたものを使用している。但し、本発明においてメイン基板はこれに限定されるものではない。
【0018】
光導波路11の所定の位置にはミラー11aが設けられており、後述する面発光半導体レーザ21から出射された光を光導波路11に導いたり、光導波路11を通る光を後述するフォトダイオード24に向けて反射するようになっている。
【0019】
光電気混載基板10の上にはサブマウント基板20a,20bがはんだバンプ12により実装されている。本実施の形態では、サブマウント基板20a,20bは、例えば有機ポリマーにより形成されたリジッド基板又はフレキシブル基板である。
【0020】
サブマウント基板20aの下には、ELOプロセスにより形成された厚さ10μm程度の面発光半導体レーザ21が搭載されている。この面発光半導体レーザ21から出射された光はミラー11aにより反射されて光導波路11内に導かれるようになっている。
【0021】
また、サブマウント基板20aの上には面発光半導体レーザ21を駆動する回路が形成されたドライバIC22が搭載されており、ドライバIC22の上にはCPU又はメモリ等の回路が形成されたLSI23が搭載されている。
【0022】
これらのサブマウント基板20a、面発光半導体レーザ21、ドライバIC22及びLSI23は、いずれも上面及び下面に電極が設けられている。また、これらのサブマウント基板20a、面発光半導体レーザ21、ドライバIC22及びLSI23には、上面から下面に貫通する貫通孔(図1中に破線で示す)が設けられており、一方の面側の電極は、貫通孔内の導電体を介して他方の面側の電極のうちの所定の電極と電気的に接続されている。
【0023】
すなわち、本実施の形態においては、面発光半導体レーザ21、ドライバIC22及びLSI23の間、及びこれらの部品とサブマウント基板20aとの間の電気的接続は、各部品及びサブマウント基板20aに設けられた貫通孔内の導電体を介して行われる。
【0024】
また、サブマウント基板20aの電気配線ははんだバンプ12を介して光電気混載基板10の電気配線に接続されており、これらの電気配線を介して面発光半導体レーザ21、ドライバIC22及びLSI23への電力の供給や電気信号の入出力が行われる。
【0025】
これと同様に、サブマウント基板20bの下にはELOプロセスにより形成された厚さ10μm程度のフォトダイオード24が搭載されており、サブマウント基板20bの上にはフォトダイオード24を駆動する回路が形成されたレシーバIC25が搭載されている。また、レシーバIC25の上にはCPU又はメモリ等の回路が形成されたLSI26が搭載されている。
【0026】
サブマウント基板20b、フォトダイオード24、レシーバIC25及びLSI26には、いずれも上面及び下面に電極が設けられている。また、これらのサブマウント基板20b、フォトダイオード24、レシーバIC25及びLSI26には上面から下面に貫通する貫通孔が設けられており、一方の面側の電極は、貫通孔内の導電体を介して他方の面側の電極のうちの所定の電極と電気的に接続されている。
【0027】
また、サブマウント基板20bの電気配線ははんだバンプ12を介して光電気混載基板10の電気配線に接続されており、これらの電気配線を介してフォトダイオード24、レシーバIC25及びLSI26への電力の供給及び電気信号の入出力が行われる。
【0028】
図2は面発光半導体レーザ21の模式断面図である。面発光半導体レーザ21では、光出射側の面にアノード電極31が設けられ、その裏面側にカソード電極32が設けられている。本実施の形態では、光放出側の面に設けられたアノード電極31は貫通孔30内の導電体膜35を介して裏面側の電極33と電気的に接続している。
【0029】
貫通孔30は、例えば反応性イオンエッチング(RIE)法により形成する。その後、CVD法等により貫通孔30内の壁面に絶縁膜34を被着形成し、更にスパッタ法又はCVD法等により絶縁膜34の上にPt(白金)又はAu(金)等の導電体膜35を形成する。
【0030】
図3はフォトダイオード24の模式断面図である。フォトダイオード24では、光受光面側にアノード電極41及びカソード電極42が設けられている。これらの電極41,42は、貫通孔40内の導電体膜44を介して裏面側の電極45,46と電気的に接続されている。なお、貫通孔40の壁面と導電体膜44との間には絶縁膜43が形成されている。
【0031】
図4はドライバIC22の模式断面図である。ドライバIC22も、一方の面から他方の面に貫通する貫通孔50が設けられている。この貫通孔50は、例えば反応性イオンエッチングにより形成する。そして、貫通孔50の内壁面を覆う絶縁膜51及び導電体膜52を順次形成した後、一方の面側に電極53を形成し、他方の面側に電極55を形成する。なお、図4ではドライバIC22には1つの貫通孔しか図示していないが、実際には電力の供給や信号の伝達に必要な数の貫通孔が設けられている。
【0032】
レシーバIC25、LSI23,26にも、ドライバIC22と同様に、複数の貫通孔が設けられている。また、図2〜図4では貫通孔30,40,50の内部が中空であるとしたが、貫通孔の内壁面に絶縁膜を形成した後に、貫通孔内に導電体を埋め込んでもよい。
【0033】
本実施の形態においては、面発光半導体レーザ21及びフォトダイオード24は、ELOプロセスにより形成され、サブマウント基板20a,20bに実装される。以下、ELOプロセスについて説明する(IEEE Photon Lett.,1991,3,(12).pp.1123−1126)。
【0034】
図5〜図7はELOプロセスの概要を示す模式図である。まず、図5(a)に示すように、GaAs半導体基板61上に例えばAlx Ga1−x As(但し、0.3≦x≦1)からなるエッチングストップ層62を形成する。そして、エッチングストップ層62上に、電子ビーム成長法(MBE)又は有機金属気相成長法(MOCVD)を使用してGaAs/AlAs系多層膜構造の面発光半導体レーザ(素子)64を形成する。この場合、レーザ光が基板61の下側に出射される構造とする。
【0035】
次に、図5(b)に示すように、反応性イオンエッチング法により各素子64間を分離する。このとき、本実施の形態では、素子64の表面からエッチングストップ層62に到達する貫通孔を形成する。そして、CVD法又はスパッタ法により、貫通孔の壁面を被覆する絶縁膜及び導電体膜を形成する(図2参照)。
【0036】
次に、図5(c)に示すように、素子64の上面に所定の電極65を形成する。
【0037】
次に、図6(a)に示すように、素子64をワックス66で覆う。そして、塩素系のガスを使用し、図6(b)に示すように、半導体基板61を裏面側からエッチングストップ層62までエッチングする。更に、ガス種を替えて反応性イオンエッチングを継続し、エッチングストップ層61を除去する。その後、素子64の裏面側に電極を形成する。
【0038】
次に、図6(c)に示すように、素子64を例えば半導体を使用して形成したダイアフラム67へ転写する。その後、ワックス66を除去する。
【0039】
次いで,図7に示すように、ダイアフラム67の裏側から所望の光素子64をピンで押し出し、光素子をサブマウント基板68上に搭載する。
【0040】
このようにしてELOプロセスで形成した光素子は厚さが10μm程度であり、従来の一般的な光素子(厚さが100μm程度)に比べて極めて薄くできる。
【0041】
なお、上記の例では図5(b)の工程で、光が基板61の下側に出射されるように素子64を構成するものとしたが、光が基板61の上側に出射されるように構成した場合は、2回のワックス工程を行って素子64の向きを反転させればよい。
【0042】
本実施の形態では、光インタコネクション装置を構成する面発光半導体レーザ21、サブマウント基板20a,20b、ドライバIC22、フォトダイオード24、レシーバIC25及びLSI23,26がいずれも貫通孔を有し、これらの貫通孔内の導電体を介して各部品間が電気的に接続されるので、各部品を立体的に配置して駆動することができる。これにより、光インタコネクション装置を従来に比べて小型化することができる。
【0043】
また、本実施の形態では、インタコネクションモジュールとサブマウント基板20a,20bとをワイヤボンディング等で接続する工程が不要であり、組み立てが容易である。
【0044】
更に、本実施の形態においては、各部品間を貫通孔内の導電体を介して接続するので、配線長が短縮される。これにより、従来に比べてより一層の高速動作が可能になるとともに、S/N比等の特性が向上する。更にまた、本実施の形態においては各機能を個別のモジュールとしているので、回路の変更に容易に対応することができると共に、製品の信頼性を向上させることができる。
【0045】
また、本実施の形態においては、セラミック基板やシリコンPLC基板等が不要であり、製品コストを削減することができる。
【0046】
なお、上記実施の形態では面発光半導体レーザ21とドライバIC22とがサブマウント基板20aを挟んで配置され、フォトダイオード24とレシーバIC25とがサブマウント基板20bを挟んで配置されている場合について説明したが、図8に示すように、電気配線が形成された基板15上に、ドライバIC22及び面発光半導体レーザ21を重ねて搭載したサブマウント基板20a、並びにレシーバIC25及びフォトダイオード24を重ねて搭載したサブマウント基板20bを実装してもよい。但し、図8に示す例では、基板15とは別に、導波路17aが設けられた基板17を用意する必要がある。また、図8に示す光インタコネクション装置の場合は、CPU及びメモリ等のLSI(図示せず)は基板15上に搭載されており、はんだバンプ12aを介してドライバIC22及びレシーバIC25に電気的に接続される。
【0047】
(第2の実施の形態)
図9は本発明の第2の実施の形態の光インタコネクション装置を示す模式図、図10は図9中に丸印で示す部分の拡大図である。
【0048】
光電気混載基板70には光導波路71及び電気配線(図示せず)がそれぞれ所定のパターンで形成されている。光導波路71の所定の位置にはミラー71aが設けられており、面発光半導体レーザ81から出射された光を光導波路71に導いたり、光導波路71を通る光をフォトダイオード83に向けて反射するようになっている。
【0049】
本実施の形態においては、面発光半導体レーザ81及びフォトダイオード83は光電気混載基板70の上に直接はんだバンプで接合されている。すなわち、図10に示すように、光電気混載基板70には面発光半導体レーザ81及びフォトダイオード83を接続するための電極70aが設けられており、面発光半導体レーザ81及びフォトダイオード83に設けられた電極80aとはんだバンプ73により接合されている。なお、面発光半導体レーザ81の光出射側の面に段差がある場合は、ポリイミド等により段差を無くすことが好ましい。
【0050】
面発光半導体レーザ81の上にはドライバIC82が搭載されており、フォトダイオード83の上にはレシーバIC84が搭載されている。これらの面発光半導体レーザ81、ドライバIC82、フォトダイオード83及びレシーバIC84にはいずれも貫通孔(図9に破線で示す)が設けられている。これらの貫通孔内の導電体を介して光電気混載基板70の電気配線と面発光半導体レーザ81、ドライバIC82、フォトダイオード83及びレシーバIC84の電極とが電気的に接続される。
【0051】
なお、本実施の形態では、CPU及びメモリ等のLSI(図示せず)は光電気混載基板70上に搭載され、光電気混載基板70の電気配線と面発光半導体レーザ81及びフォトダイオード83の貫通孔を介してドライバIC82及びレシーバIC84に接続されている。
【0052】
本実施の形態においては、サブマウント基板を使用せず、光電気混載基板70の上に各光コネクションモジュールが立体的に配置されているので、第1の実施の形態に比べて、光導波路71と面発光半導体レーザ81及びフォトダイオード83とのアライメントが自己整合的に行われ、アライメント工程が削減できるという利点がある。すなわち、図11に示すように、光電気混載基板70の電極70aと面発光半導体レーザ81(又は、フォトダイオード83)の電極80aとをはんだバンプ73で接合する場合に、光電気混載基板70に対し面発光半導体レーザ81(又はフォトダイオード83)の位置が若干ずれていたとしても、はんだバンプ73の表面張力により面発光半導体レーザ81(又はフォトダイオード83)の位置が自動的に所定の位置に修正される。これにより、面発光半導体レーザ81及びフォトダイオード83と光導波路とのアライメントを調整する工程が不要になり、製造コストが削減される。
【0053】
また、本実施の形態においては、サブマウント基板が不要であるため、第1の実施の形態に比べてより一層の低コスト化が可能である。
【0054】
なお、本実施の形態ではCPU又はメモリ等のLSIが光電気混載基板70上に搭載されている場合について説明したが、第1の実施の形態と同様に、ドライバIC82及びレシーバIC84の上にCPU又はメモリ等の回路が形成されたLSIを搭載するようにしてもよい。
【0055】
(第3の実施の形態)
図12は本発明の第3の実施の形態の光インタコネクション装置の構成を示す模式図である。
【0056】
本実施の形態においては、ドライバIC92がはんだバンプ73により光電気混載基板70の上に接合されている。このドライバIC92の下面側には、ELOプロセスにより形成された厚さが約10μmの面発光半導体レーザ91が搭載されている。
【0057】
これと同様に、レシーバIC94がはんだバンプ73により光電気混載基板70の上に接合されている。このレシーバIC94の下面側に、ELOプロセスにより形成された厚さが約10μmのフォトダイオード93が搭載されている。
【0058】
光電気混載基板70とドライバIC92及びレシーバIC94との間隔は例えば30μm程度であり、面発光半導体レーザ91及びフォトダイオード92は光導波路71から極めて近い位置に配置される。本実施の形態においても、他の実施の形態と同様の効果を得ることができる。
【0059】
なお、上記実施の形態ではいずれも1つのドライバIC又はレシーバICに1つの光素子モジュールが搭載されている場合について説明したが、1つのドライバIC又はレシーバICに複数の光素子モジュールを搭載してもよい。例えば、図13に示すように、ドライバIC95の上に出力光の波長λ1 ,λ2 ,λ3 が相互に異なる複数の面発光半導体レーザ96a,96b,96cを搭載してもよい。これにより、WDMに容易に対応することができる。
【0060】
(付記1)エピタキシャルリフトオフプロセスにより形成された光素子モジュールと、前記光素子モジュールを駆動する光素子駆動モジュールとを有し、前記光素子モジュール及び前記光素子駆動モジュールは、いずれも一方の面から他方の面に貫通する貫通孔を有し、前記貫通孔内の導電体を介して電気的に接続されていることを特徴とする光インタコネクション装置。
【0061】
(付記2)メイン基板と、前記メイン基板に実装されたサブマウント基板と、エピタキシャルリフトオフプロセスにより形成され、前記サブマウント基板の一方の面側に搭載された光素子モジュールと、前記サブマウント基板の他方の面側に搭載された光素子駆動モジュールとを有し、前記サブマウント基板、前記光素子モジュール及び前記光素子駆動モジュールは、いずれも一方の面から他方の面に貫通する貫通孔を有し、前記サブマウント基板の配線、前記光素子モジュール及び前記光素子駆動モジュールは、前記貫通孔内の導電体を介して電気的に接続されていることを特徴とする光インタコネクション装置。
【0062】
(付記3)メイン基板と、前記メイン基板に実装されたサブマウント基板と、前記サブマウント基板の一方の面側に搭載された光素子駆動モジュールと、エピタキシャルリフトオフプロセスにより形成され、前記光素子駆動モジュールに搭載された光素子モジュールとを有し、前記光素子モジュール及び前記光素子駆動モジュールは、いずれも一方の面から他方の面に貫通する貫通孔を有し、前記サブマウント基板の配線、前記光素子モジュール及び前記光素子駆動モジュールは、前記貫通孔内の導電体を介して電気的に接続されていることを特徴とする光インタコネクション装置。
【0063】
(付記4)前記サブマウント基板がはんだバンプにより前記メイン基板に実装されていることを特徴とする付記2又は3に記載の光インタコネクション装置。
【0064】
(付記5)メイン基板と、前記メイン基板上に搭載された光素子駆動モジュールと、エピタキシャルリフトオフプロセスにより形成され、前記光素子駆動モジュールに搭載された光素子モジュールとを有し、前記光素子モジュール及び前記光素子駆動モジュールは、いずれも第1の面に設けられた第1の電極と、第2の面に設けられた第2の電極と、前記第1の面から前記第2の面に貫通する貫通孔と、前記貫通孔内に形成されて前記第1の電極と前記第2の電極とを電気的に接続する導電体とを有することを特徴とする光インタコネクション装置。
【0065】
(付記6)前記光素子駆動モジュールが、はんだバンプにより前記メイン基板に接続されていることを特徴とする付記5に記載の光インタコネクション装置。
【0066】
(付記7)メイン基板と、エピタキシャルリフトオフプロセスにより形成され、前記メイン基板上に搭載された光素子モジュールと、前記光素子モジュール上に搭載された光素子駆動モジュールとを有し、前記光素子モジュール及び前記光素子駆動モジュールは、いずれも第1の面に設けられた第1の電極と、第2の面に設けられた第2の電極と、前記第1の面から前記第2の面に貫通する貫通孔と、前記貫通孔内に形成されて前記第1の電極と前記第2の電極とを電気的に接続する導電体とを有することを特徴とする光インタコネクション装置。
【0067】
(付記8)前記光素子モジュールが、はんだバンプにより前記メイン基板に接続されていることを特徴とする付記7に記載の光インタコネクション装置。
【0068】
(付記9)1つの光素子駆動モジュールに対し、複数個の前記光素子モジュールを有することを特徴とする付記1乃至8のいずれか1項に記載の光インタコネクション装置。
【0069】
【発明の効果】
以上説明したように、本発明の光インタコネクション装置によれば、光素子モジュール及び光素子駆動モジュールに貫通孔が設けられており、各モジュール間が貫通孔内の導電体を介して接続するようになっているので、メイン基板又はサブマウント基板に光素子モジュール及び光素子駆動モジュールを立体的に搭載することができる。これにより、光インタコネクション装置を従来に比べて小型化できると共に、回路の変更に容易に対応することができる。また、サブマウント基板として通常のプリント配線基板を使用したり、サブマウント基板を使用しないことができるので、製品コストを低減できる。
【0070】
更に、本発明においては、光素子モジュールがELOプロセスにより形成されたものであるので、素子サイズが小さく、1つの光素子駆動モジュールに対し複数の素子を搭載することができる。これにより、WDMに容易に対応することができる。
【図面の簡単な説明】
【図1】図1は本発明の第1の実施の形態の光コネクション装置の一例を示す模式図である。
【図2】図2は第1の実施の形態で用いた面発光半導体レーザの模式断面図である。
【図3】図3は第1の実施の形態で用いたフォトダイオードの模式断面図である。
【図4】図4は第1の実施の形態で用いたドライバICの模式断面図である。
【図5】図5はELOプロセスの概要を示す模式図(その1)である。
【図6】図6はELOプロセスの概要を示す模式図(その2)である。
【図7】図7はELOプロセスの概要を示す模式図(その3)である。
【図8】図8は第1の実施の形態の他の変形例を示す模式図であり、サブマウント基板の一方の面側に2つの光インタコネクションモジュールを積み重ねて搭載した例を示している。
【図9】図9は本発明の第2の実施の形態の光インタコネクション装置を示す模式図である。
【図10】図10は図9中に丸印で示す部分の拡大図である。
【図11】図11は、はんだバンプの表面張力により面発光半導体レーザの位置が自動的に調整されるようすを示す模式図である。
【図12】図12は本発明の第3の実施の形態の光インタコネクション装置の構成を示す模式図である。
【図13】図13は、1つのドライバICに出力光の波長が相互に異なる複数の面発光半導体レーザを搭載した例を示す模式図である。
【符号の説明】
10,70…光電気混載基板、
11,17a,17b,71…光導波路、
11a,71a…ミラー、
12,73…はんだバンプ、
20a,20b,68…サブマウント基板、
21,81,91,96a,96b,96c…面発光半導体レーザ(VCSEL)、
22,82,92,95…ドライバIC,
23,26…LSI、
24,83,93…フォトダイオード、
25,84,94…レシーバIC,
30,40,50…貫通孔、
31,32,33,41,42,45,46,53,55,65,70a,80a…電極、
34,43,51…絶縁膜、
35,44,52…導電体膜、
61…GaAs基板、
62…エッチングストップ層、
66…ワックス、
67…ダイアフラム。
Claims (6)
- エピタキシャルリフトオフプロセスにより形成された光素子モジュールと、
前記光素子モジュールを駆動する光素子駆動モジュールとを有し、
前記光素子モジュール及び前記光素子駆動モジュールは、いずれも一方の面から他方の面に貫通する貫通孔を有し、前記貫通孔内の導電体を介して電気的に接続されていることを特徴とする光インタコネクション装置。 - メイン基板と、
前記メイン基板に実装されたサブマウント基板と、
エピタキシャルリフトオフプロセスにより形成され、前記サブマウント基板の一方の面側に搭載された光素子モジュールと、
前記サブマウント基板の他方の面側に搭載された光素子駆動モジュールとを有し、
前記サブマウント基板、前記光素子モジュール及び前記光素子駆動モジュールは、いずれも一方の面から他方の面に貫通する貫通孔を有し、前記サブマウント基板の配線、前記光素子モジュール及び前記光素子駆動モジュールは、前記貫通孔内の導電体を介して電気的に接続されていることを特徴とする光インタコネクション装置。 - メイン基板と、
前記メイン基板に実装されたサブマウント基板と、
前記サブマウント基板の一方の面側に搭載された光素子駆動モジュールと、
エピタキシャルリフトオフプロセスにより形成され、前記光素子駆動モジュールに搭載された光素子モジュールとを有し、
前記光素子モジュール及び前記光素子駆動モジュールは、いずれも一方の面から他方の面に貫通する貫通孔を有し、前記サブマウント基板の配線、前記光素子モジュール及び前記光素子駆動モジュールは、前記貫通孔内の導電体を介して電気的に接続されていることを特徴とする光インタコネクション装置。 - メイン基板と、
前記メイン基板上に搭載された光素子駆動モジュールと、
エピタキシャルリフトオフプロセスにより形成され、前記光素子駆動モジュールに搭載された光素子モジュールとを有し、
前記光素子モジュール及び前記光素子駆動モジュールは、いずれも第1の面に設けられた第1の電極と、第2の面に設けられた第2の電極と、前記第1の面から前記第2の面に貫通する貫通孔と、前記貫通孔内に形成されて前記第1の電極と前記第2の電極とを電気的に接続する導電体とを有することを特徴とする光インタコネクション装置。 - メイン基板と、
エピタキシャルリフトオフプロセスにより形成され、前記メイン基板上に搭載された光素子モジュールと、
前記光素子モジュール上に搭載された光素子駆動モジュールとを有し、
前記光素子モジュール及び前記光素子駆動モジュールは、いずれも第1の面に設けられた第1の電極と、第2の面に設けられた第2の電極と、前記第1の面から前記第2の面に貫通する貫通孔と、前記貫通孔内に形成されて前記第1の電極と前記第2の電極とを電気的に接続する導電体とを有することを特徴とする光インタコネクション装置。 - 1つの光素子駆動モジュールに対し、複数個の前記光素子モジュールを有することを特徴とする請求項1乃至5のいずれか1項に記載の光インタコネクション装置。
Priority Applications (2)
Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
---|---|---|---|
JP2002182142A JP2004031455A (ja) | 2002-06-21 | 2002-06-21 | 光インタコネクション装置 |
US10/465,812 US6912333B2 (en) | 2002-06-21 | 2003-06-20 | Optical interconnection apparatus and interconnection module |
Applications Claiming Priority (1)
Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
---|---|---|---|
JP2002182142A JP2004031455A (ja) | 2002-06-21 | 2002-06-21 | 光インタコネクション装置 |
Publications (1)
Publication Number | Publication Date |
---|---|
JP2004031455A true JP2004031455A (ja) | 2004-01-29 |
Family
ID=31178778
Family Applications (1)
Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
---|---|---|---|
JP2002182142A Withdrawn JP2004031455A (ja) | 2002-06-21 | 2002-06-21 | 光インタコネクション装置 |
Country Status (1)
Country | Link |
---|---|
JP (1) | JP2004031455A (ja) |
Cited By (6)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
KR100776848B1 (ko) * | 2004-08-17 | 2007-11-16 | 가부시끼가이샤 도시바 | 전송선로 실장체 |
US7489514B2 (en) | 2004-08-17 | 2009-02-10 | Kabushiki Kaisha Toshiba | LSI package equipped with interface module, interface module and connection holding mechanism |
US7801396B2 (en) | 2004-02-26 | 2010-09-21 | Shinko Electric Industries Co., Ltd. | Optoelectric composite substrate and method of manufacturing the same |
US8159835B2 (en) | 2008-12-25 | 2012-04-17 | Mitsubishi Electric Corporation | Laser apparatus |
JP2013182990A (ja) * | 2012-03-01 | 2013-09-12 | Denso Corp | 半導体装置および基板組立体 |
JP2014038910A (ja) * | 2012-08-13 | 2014-02-27 | Toshiba Corp | 光電気集積パッケージモジュール |
-
2002
- 2002-06-21 JP JP2002182142A patent/JP2004031455A/ja not_active Withdrawn
Cited By (7)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
US7801396B2 (en) | 2004-02-26 | 2010-09-21 | Shinko Electric Industries Co., Ltd. | Optoelectric composite substrate and method of manufacturing the same |
US7873245B2 (en) | 2004-02-26 | 2011-01-18 | Shinko Electric Industries Co., Ltd. | Optoelectric composite substrate and method of manufacturing the same |
KR100776848B1 (ko) * | 2004-08-17 | 2007-11-16 | 가부시끼가이샤 도시바 | 전송선로 실장체 |
US7489514B2 (en) | 2004-08-17 | 2009-02-10 | Kabushiki Kaisha Toshiba | LSI package equipped with interface module, interface module and connection holding mechanism |
US8159835B2 (en) | 2008-12-25 | 2012-04-17 | Mitsubishi Electric Corporation | Laser apparatus |
JP2013182990A (ja) * | 2012-03-01 | 2013-09-12 | Denso Corp | 半導体装置および基板組立体 |
JP2014038910A (ja) * | 2012-08-13 | 2014-02-27 | Toshiba Corp | 光電気集積パッケージモジュール |
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