JP2004029815A - バッファされた光ファイバとその作製方法 - Google Patents
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Abstract
【解決手段】代表的なバッファされた光ファイバ10は、光信号がそれを通って伝搬可能な光ファイバ16、および光ファイバ16を取り巻いてかつマイクロベンドを生じる力から光ファイバ16のコアを保護する紫外線(UV)硬化可能なアクリレート材料を含む内層14を有する。
【選択図】 図1
Description
【発明の属する技術分野】
本発明は、概して、光ファイバの層に関し、さらに特定すると、光ファイバをバッファし、光ファイバのマイクロベンド抵抗性と低温度性能を高める1層または複数層の光ファイバ層に関する。
【0002】
【従来の技術】
現在、光ファイバは通信媒体として広範囲に使用されている。従来の光ファイバは通常、ガラスのコアおよびコアを取り巻く1層または複数層のコーティング層を有する。コーティング層を取り巻くのが一般的にバッファもしくは外層と称される少なくとも1層のさらなる材料層であり、それはファイバを損傷から保護し、適切な量の剛性をファイバに提供する。外層は通例では、ファイバが光ファイバ・コネクタに接続されるときに機械的にファイバから剥離される。普通、外層は熱可塑性のポリマー材料で構成され、それはコーティングされた光ファイバの上に直接に押し出し成型される。外層を形成するのに使用される一般的材料にはポリ塩化ビニル(PVC)、ナイロン、およびポリエステル、フロロポリマーなどが含まれる。
【0003】
多くのケースで、熱可塑性の外層は光ファイバのコーティングを損なうことなく除去可能でなければならない。これは、コーティングを剥がすことなく外側バッファ層の除去を可能にする内層の使用によって容易になる。内層はまた、硬い熱可塑性バッファ材料と光ファイバの間の順応層として役立つことによって、低温度でのさらに優れた温度性能をも容易にする。
【0004】
【発明が解決しようとする課題】
従来の二層化された密にバッファされた光ファイバはポリエチレン/エチレンエチルアクリレート(PE/EEA)共重合体で作製された内層を有する。しかしながら、この材料はいくつかの欠点を有する(米国特許第5,684,910号)。PE/EEAを使用することの1つの欠点は、熱可塑性であるため、外層が付着されるときにPE/EEA共重合体の粘度が低下し、それによってPE/EEA共重合体がはるかに低粘度になってさらに流体状になることである。このことの影響は、たとえ湿気でもあるいは低分子量成分であっても光ファイバのコーティングから生じるいかなる蒸発も内層中の気泡形成を引き起こしかねないことである。サイズと頻度に応じて気泡は光ファイバの減衰の増加を引き起こし、それは通常低温度(例えば、−20℃)で見受けられるであろう。気泡が深刻であるならば、減衰の増加は室温(〜21℃)で生じる可能性がある。
【0005】
材料によって引き起こされる付加的な問題は、光ファイバ・ケーブルの減衰が−20℃よりも低い温度で増進することである。−20℃よりも低い温度で増加する減衰はEEAの弾性率の増大のせいである可能性がある。したがって、−40℃から80℃の温度範囲にわたって弾性率の変動が最小限のとなる内層についての必要性をEEAは充足しない。
【0006】
さらに新しい、さらに大きな帯域幅のファイバ(例えば、差分モード分散を低減した50ミクロンのマルチモード・ファイバ)に応用されるとき、内層の重大な特性はなおさら明らかになる。これらのファイバその他はさらに大きな帯域幅を有するが、概してマイクロベンドにさらに弱い。
【0007】
従って、前述の欠陥および欠点に対処するために従来取り沙汰されなかった必要性が本産業分野に存在する。
【0008】
【課題を解決するための手段】
簡単に説明するように、本発明の実施形態がバッファされた光ファイバとその作製方法を提供する。本発明による代表的なバッファされた光ファイバは、光信号が伝搬され得る光ファイバと、光ファイバを取り巻きマイクロベンドを引き起こす力から光ファイバのコアを保護する紫外線(UV)硬化可能なアクリレート材料を含む層とを有する。
【0009】
バッファされた光ファイバを作製するための代表的な方法は、垂直状態に配向されたコーティング・ヘッドを通してファイバのコアを進ませる工程であって、コーティング・ヘッドが光ファイバ上に内層を配置し、内層が紫外線(UV)硬化可能なアクリレート材料である工程と、垂直状態に配向されたUVオーブンを通して内層を上に有する光ファイバを進ませる工程であって、UVオーブンがUV硬化可能なアクリレート材料を硬化させる工程と、硬化した内層を上に有する光ファイバを水平処理システム内へと移動滑車を使用して進ませる工程とを含む。
【0010】
本発明の他の特徴および利点は、以下の図面と詳細な説明を吟味すると当業者には明白になるであろう。
【0011】
本発明の多くの態様は図面を参照してさらによく理解することができる。図中の部品類は必ずしも正確な縮尺で描かれておらず、代わりに本発明の原理を明確に例示することを重視している。さらに、図中で同じの参照番号はいくつかの図を通じて対応する部品類を表わす。
【0012】
【発明の実施の形態】
広義では、本発明の実施形態はバッファされた(例えば密もしくは準密の)光ファイバを指向しており、それらはその後にケーブルもしくはコードへと作製される可能性があり、向上したマイクロベンド抵抗性と向上した低温度性能を有する。バッファされた光ファイバは、例えば、単一ファイバ型バッファされた光ファイバ、多ファイバ型バッファされた光ファイバ束もしくはアレー、あるいはバッファされたリボンであってもよい。
【0013】
本発明のバッファされた光ファイバは、例えば、性能を最適化するために係数と厚みを変えることのできる紫外線(UV)硬化可能なアクリレート材料から成る内層および少なくとも1層のコーティング層を含むことがあり得る。
【0014】
UV硬化可能なアクリレート材料の内層および/またはコーティング層の形成は、光ファイバ・ケーブルがマイクロベンド抵抗性を有するのを可能にさせ、それは、ケーブル内の光ファイバの減衰を増加させることなく、光ファイバ・ケーブルもしくはコード(相互接続ケーブル)の製造時に遭遇する側方への力に対して光ファイバが耐えるのを可能にする。結果として得られるケーブルもしくはコードもまた、実用環境で敷設時に遭遇する側方の力にさらに良好に耐えることができ、それにより減衰の増加を回避する。付け加えると、結果として得られるケーブルおよび/またはコードは、ケーブルおよび/またはコードを形成する材料の熱膨張係数が理由となってケーブルおよび/またはコードを収縮させバッファ化ファイバ内でマイクロベンドを誘発させることになる低温度で、より優れた性能を有する。
【0015】
UV硬化可能なアクリレート材料は、実質的に熱可塑性材料(例えば熱可塑性プラスティック)の押し出し工程中に流れない硬化した(すなわち架橋した)物質であり、従来の構成の中で内層として使用される。その結果、硬化した材料を使用することは内層の中の気泡の形成を回避することを可能にする。付け加えると、UV硬化可能なアクリレートは約−40℃から約85℃の温度範囲にわたって弾性率の最小限の変動を示す。このため、内層が極めて広い温度範囲にわたって順応を保ち、それにより低温度での減衰損失を防止する。
【0016】
ここで、本発明の光ファイバを概括的に説明してきたので、本発明のバッファされた光ファイバのいくつかの可能な実施形態とそれに付随するその作製方法を示すために図1から5を説明する。バッファされた光ファイバの実施形態は図1から5およびそれに対応する本文との関連で説明されているが、光ファイバの実施形態をこれらの記述に限定する意図はない。対照的に、その意図は本発明の精神と範囲内に含まれるすべての代替品、改造品、および同等品を網羅することである。
【0017】
図を参照すると、図1は外層もしくはバッファ層12、内層14、および光ファイバ16を有するバッファされた光ファイバ10を例示している。光ファイバ16はガラスのコアおよびコアを取り巻く1層または複数層のコーティング層(図示せず)を含むことがあり得る。図1に例示した実施形態では、ガラスのコアを取り巻くコーティング層が当該技術で知られている材料で作製されることもあり得る。
【0018】
内層14は、例えば、UV硬化可能なウレタンアクリレート、UV硬化可能なシリコンアクリレート、および/またはUV硬化可能なシロキサンアクリレート材料といったUV硬化可能なアクリレート材料から作製されることがあり得る。
【0019】
内層14がUV硬化可能なアクリレート材料から成るとき、バッファされた光ファイバ10のマイクロベンド抵抗性と低温度性能は向上するであろう。向上したマイクロベンド抵抗性は、バッファされた光ファイバ10がケーブルの製造および敷設時に遭遇する側方への力に耐えるのを可能にさせ、それによって光学損失を最小限にする。バッファされた光ファイバ10の向上した低温度性能は、1つまたは複数のバッファされた光ファイバ10で作製される光ファイバ・ケーブルが最小限の光学損失を生じるように形成されるのを可能にする。
【0020】
さらに、UV硬化可能なアクリレート材料を含む内層14は次の特性のうちの1つまたは複数を有し得る。第1に、内層14は−10℃よりも低いガラス転移温度を有し得る。低いガラス転移温度を備えた内層14を有するバッファされた光ファイバ10は低温度で向上した光学性能を有する。
【0021】
第2に、内層14は約0.5メガパスカル〜約10メガパスカル、約0.8メガパスカル〜約2.5メガパスカル、あるいは好ましくは約0.9メガパスカル〜約1.7メガパスカルの2.5%伸長の正割(sec)張力係数(2.5%張力係数)を有する。低い張力係数を備えた内層14を有するバッファされた光ファイバ10は向上した低温度光学性能と増進されたマイクロベンド抵抗性を有し、かつ剥離力は許容可能範囲内に保たれる。
【0022】
第3に、内層14は約70%、約70%〜約95%、または好ましくは約85%〜約95%よりも大きいゲル比を有する。工程内での脱ガスの低減は高いゲル比を備えた内層14を有する光ファイバ・ケーブル10を製造することで達成可能となり、それにより界面のボイド(空箇所)を減少させる。
【0023】
第4に、内層14は約2,000〜約10,000メガパスカル/秒、または好ましくは約3,300〜約6,200メガパスカル/秒の粘度を有する。工程ライン速度の増大は低い粘度を備えた内層14を有する光ファイバ・ケーブル10について達成可能となる。加えて、低粘度の内層14を有するバッファされた光ファイバ10は均一様式で光ファイバにコーティングを施す。
【0024】
内層14は約10μm〜約200μm、約20μm〜約125μm、または好ましくは約35μm〜約95μmの厚さを有することがあり得る。
【0025】
外層12は、例えば、ポリ塩化ビニル(PVC)、ポリアミド(ナイロン)、ポリプロピレン、ポリエステル(例えばPBT)、およびフロロポリマー(例えばPVDFもしくはFEP)といった高弾性材料であってもよい。付け加えると、外層12は1層または複数層を有してもよい。外層12は約200μm〜約350μmの厚さを有することが好ましい。
図2はバッファされた光ファイバ30の断面図を例示しており、図3はバッファされた光ファイバ30の透視図を例示している。この実施形態によると、バッファされた光ファイバ30は外層12、内層14、光ファイバ32、一次層コーティング36、二次層34を含む。一次層コーティング36はファイバ・コア38を取り巻き、二次層34は一次層を取り巻く。ファイバ・コア38はエネルギー(例えば光)を伝搬するための導管であり、ガラスもしくはプラスティックといった材料で作製されることがあり得る。
【0026】
一次層コーティング36はUV硬化可能なアクリレート材料を含んでもよい。一次層コーティング36は、例えば、UV硬化可能なウレタンアクリレート、UV硬化可能なシリコンアクリレート、および/またはUV硬化可能なシロキサンアクリレート材料といったUV硬化可能なアクリレート材料で作製されることが好ましい。一次層コーティング36がUV硬化可能なアクリレート材料から成るとき、バッファされた光ファイバ30のマイクロベンド抵抗性は増進される。上述したように、向上したマイクロベンド抵抗性は、バッファされた光ファイバ30がケーブルの製造および敷設時に遭遇する側方への力に耐えるのを可能にさせ、それにより最小限の光学損失が検出される。
【0027】
加えて、一次層コーティング36は次の特性のうちの1つまたは複数を有し得る。第1に、一次層コーティング36は−10℃よりも低いガラス転移温度を有し得る。低いガラス転移温度を備えた一次層コーティング36を有する光ファイバ・ケーブル30は低温度での向上した光学性能を有する。
【0028】
第2に、一次層コーティング36は約0.5メガパスカル〜約10メガパスカル、約0.8メガパスカル〜約2.5メガパスカル、あるいは好ましくは約0.9メガパスカル〜約1.7メガパスカルの2.5%正割(sec)張力係数(2.5%伸長の張力係数)を有する。低い張力係数を備えた一次層コーティング36を有するバッファされた光ファイバ30は低温度光学性能を高め、マイクロベンド抵抗性を高め、しかも許容可能範囲内に剥離力を保つ。
【0029】
第3に、一次層コーティング36は約85%、約85%〜約95%、または好ましくは約90%〜約95%よりも大きいゲル比を有する。工程中の脱ガスの低減は高いゲル比を備えた一次層コーティング36を有するバッファされた光ファイバ30の製造によって達成可能となり、それにより界面のボイドを低減する。
【0030】
第4に、一次層コーティング36は約2,000〜約10,000メガパスカル/秒、または好ましくは約3,300〜約6,200メガパスカル/秒の粘度を有する。工程ライン速度の増大は低い粘度を備えたそれぞれの一次層36を有する光ファイバ32について達成可能となる。加えて、低粘度の内層14は均一様式で光ファイバ32にコーティングを施す。
【0031】
一次層コーティング36は約20μm〜約50μm、好ましくは約35μm〜約45μmの厚さを有することがあり得る。
【0032】
二次層34は、例えば、UV硬化可能なウレタンアクリレート、UV硬化可能なシリコンアクリレート、および/またはUV硬化可能なシロキサンアクリレート材料といった材料から作製されてもよい。二次層34の厚さは約10μm〜約40μmの範囲に及ぶことがあり、厚さは、例えば約250μmの外径を有する光ファイバ32を産出するように調節されることもあり得る。一次層コーティング36および二次層34の厚さは適切もしくは所望のマイクロベンド抵抗性と低温度性能を達成するように調節することができる。例えば、もしも一次層コーティング36と二次層34各々がそれぞれ約40μmと約22μmの厚さを有するならば、向上したマイクロベンド抵抗性と低温度性能が達成されるであろう。
【0033】
内層14と外側バッファ層12が図1を参照して説明されてきた。したがって、これら2つの層についてこれ以上の考察をここでは供給しない。UV硬化可能なアクリレート材料から作製された一次層コーティング36と内層14を有するバッファされた光ファイバ30が適切なマイクロベンド抵抗性を達成可能であることに留意すべきである。結果として得られるケーブルもしくはコードもやはり実用環境でのケーブルの敷設時に遭遇する側方への力にさらによく耐えることが可能であり、それにより減衰の増加を防止する。加えて、結果として得られるケーブルおよび/またはコードは低温度で優れた性能を示すことができる。上述したように、ケーブルおよび/またはコードを形成する材料の熱膨張係数が理由となって、ケーブルおよび/またはコードは収縮しバッファ化ファイバ内でマイクロベンドを誘発させる。これは、本発明による前述の材料を使用することによって回避される。
【0034】
図4は本発明のバッファされた光ファイバ10および/またはバッファされた光ファイバ30を作製するための代表的な装置40の概略図を例示する。装置40は垂直処理システム45と水平処理システム50を有する。ファイバ・コア16および/またはファイバ・コア38(これ以降はファイバ54)はスプール52上に設置される。ファイバ54は垂直状態に配向したコーティング・ヘッド56を通して進ませられ、それがファイバ57上に内層を設ける。
【0035】
ファイバ54上に内層が設けられると、その後、コーティングされたファイバ57は紫外線オーブン58を通して進ませられ、それが内層を硬化させる。垂直状態にあるコーティング・ヘッド56の配向は、コーティング・ヘッド56が水平に配向された場合よりも層の幾何学的制御と高いライン速度を可能にする。しかしながら、コーティング・ヘッド56および/または紫外線オーブン58が水平状態に配向されても光ファイバ・ケーブル10および30が作製され得ることに留意すべきである。
【0036】
その後、移動滑車60が、硬化した内層をコーティングされたファイバ57を水平処理システム50内へと導く。硬化した内層をコーティングされたファイバ57はクロスヘッド・押し出し機62を通して進ませられ、それが内層をコーティングされたファイバ上に熱可塑性材料を設ける。水槽64は熱可塑性コーティングを冷却し、固化させる。その後、ファイバは巻き取りロール66に巻き取られる。
【0037】
図5はバッファされた光ファイバ10および/またはバッファされた光ファイバ30を作製する工程70の代表的なフロー図を例示する。最初に、ブロック72に示したように、光ファイバ54が垂直処理システム45内へと供給される。その後、ブロック74に示したように、垂直に配向したコーティング・ヘッド56を通して光ファイバ54が進ませられ、そこで光ファイバ上に内層がコーティングされ、それにより内層をコーティングしたファイバ57を形成する。引き続いて、ブロック76に示したように、内層をコーティングしたファイバ57は層を硬化させるために紫外線オーブン58を通して進ませられる。
【0038】
次に、ブロック78に示したように、硬化した内層をコーティングしたファイバ57は水平処理システム50を通して進ませられる。ブロック80に示したように、それから硬化した内層をコーティングしたファイバ57は熱可塑性材料押し出し機のクロスヘッド62内へと進ませられ、それが熱可塑性材料でファイバをコーティングし、その後、水槽64を通り、それが熱可塑性材料を冷却し、固化させる。その後、バッファされた光ファイバ10および/または30は巻き取りロール66に巻き取られる。
【0039】
本発明の上述した実施形態、特に、いかなる「好ましい」実施形態も単に本発明の実施の範例に過ぎず、ここでは本発明の原理の明確な理解を提供するために述べられることを重視すべきである。本発明の範囲および原理から逸脱することなく、本発明の上述の実施形態に多くの変形および改造が為され得る。例えば、上記で検討した内層コーティング工程は水平配向で達成することが可能であり、バッファ押し出し工程は垂直配向で達成することができる。そのような改造および変形のすべては本開示および本発明の範囲内である。
【図面の簡単な説明】
【図1】紫外線(UV)硬化可能なアクリレート材料から成る内層および外側の熱可塑性バッファ材料を有する代表的なバッファされた光ファイバを例示する図である。
【図2】光ファイバのガラスコア、一次層、二次層もしくはコーティング、UV硬化可能なアクリレート材料から成る内層、および熱可塑性の外側バッファ・コーティングもしくは層を有する代表的なバッファされた光ファイバを例示する図である。
【図3】図2に示した光ファイバ・ケーブルの透視図である。
【図4】図1および2に示した光ファイバを作製するための工程の概略を例示する図である。
【図5】図1および2に示したバッファされた光ファイバを作製する代表的な方法のフローを例示する図である。
Claims (10)
- 光信号が内部を伝搬可能でありコアを有する光ファイバと、
前記光ファイバを取り巻く紫外線(UV)硬化可能なアクリレート材料を含む内層とを含み、前記内層がマイクロベンドを生じる力から光ファイバを保護することを特徴とするバッファされた光ファイバ。 - 前記内層が、紫外線(UV)硬化可能なシリコンアクリレート材料を含むことを特徴とする請求項1に記載のバッファされた光ファイバ。
- 前記内層が、紫外線(UV)硬化可能なシロキサンウレタンアクリレート材料を含むことを特徴とする請求項1に記載のバッファされた光ファイバ。
- 前記内層が約10μm〜約200μmの厚さを有することを特徴とする請求項2に記載のバッファされた光ファイバ。
- 前記内層が約35μm〜約95μmの厚さを有することを特徴とする請求項1に記載のバッファされた光ファイバ。
- 垂直状態に配向したコーティング・ヘッドを通してファイバ・コアを進ませる工程であって、前記コーティング・ヘッドが、紫外線(UV)硬化可能なアクリレート材料である内層を光ファイバ上に設ける工程と、
前記内層を有する前記光ファイバを、垂直状態に配向したUVオーブンを通して進ませる工程であって、前記UVオーブンが前記UV硬化可能なアクリレート材料を硬化させる工程と、
前記硬化した内層を有する前記光ファイバを移動滑車を使用して水平処理システム内へと進ませる工程とを含む、バッファされた光ファイバを作製する方法。 - 前記硬化した内層を有する前記光ファイバを熱可塑性材料押し出し機のクロスヘッド内へと進ませ、前記熱可塑性材料押し出し機のクロスヘッドが熱可塑性材料で光ファイバをコーティングする工程をさらに含む、請求項6に記載の方法。
- 前記硬化した内層と前記熱可塑性材料を有する前記光ファイバを水槽内へと進ませ、前記水槽が前記熱可塑性材料を冷却および固化させる工程をさらに含む、請求項7に記載の方法。
- 前記UV硬化可能なアクリレート材料が、UV硬化可能なシリコンアクリレート材料およびUV硬化可能なシロキサンウレタンアクリレート材料のうちの1つであることを特徴とする請求項6に記載の方法。
- 前記内層が約10μm〜約200μmの厚さを有することを特徴とする請求項6に記載の方法。
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