JP2004012932A5 - - Google Patents
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- 所望のパターンと、当該所望のパターンよりも寸法の小さな補助パターンとが配列されたマスクを、前記所望のパターンが解像され、かつ、前記補助パターンの解像が抑制されるように、複数種類の光で照明して前記マスクを経た光を被露光体に投影光学系を介して投影する露光方法であって、
焦点深度が許容範囲内となるように、前記被露光体を光軸方向に移動させながら複数回露光するステップを有することを特徴とする方法。 - 前記マスクは、前記補助パターンの中で前記所望のパターンに隣接するパターンの寸法が他の補助パターンの寸法よりも小さいことを特徴とする請求項1記載の方法。
- 所望のパターンと、当該所望のパターンよりも寸法の小さな補助パターンとが配列されたマスクを、前記所望のパターンが解像され、かつ、前記補助パターンの解像が抑制されるように、複数種類の光で照明して前記マスクを経た光を被露光体に投影光学系を介して投影する露光方法に適した前記マスクの製造方法であって、
前記所望のパターンの寸法を、第1の方向において当該第1の方向と直交する第2の方向の寸法よりも長く設定するステップと、
前記補助パターンの寸法を、前記第1の方向において当該第1の方向と直交する第2の方向の寸法よりも長く設定するステップとを有することを特徴とする方法。 - 所望のパターンと、当該所望のパターンよりも寸法の小さな補助パターンとが配列されたマスクを、前記所望のパターンが解像され、かつ、前記補助パターンの解像が抑制されるように、複数種類の光で照明して前記マスクを経た光を被露光体に投影光学系を介して投影する露光方法に適した前記マスクの製造方法であって、
複数種類の形状が異なる所望のパターンが存在する場合に2種類以上の形状の異なる前記補助パターンを配置することを特徴とする方法。 - 所望のパターンと、当該所望のパターンよりも寸法の小さな補助パターンとが配列されたマスクを、前記所望のパターンが解像され、かつ、前記補助パターンの解像が抑制されるように、複数種類の光で照明して前記マスクを経た光を被露光体に投影光学系を介して投影する露光方法に適した前記マスクの製造方法であって、
挿入される2つの補助パターンの重なった場合又は隣接した場合は、前記2つの補助パターンを設ける代わりに、前記2つの補助パターンの重心を重心とする補助パターンを配置することを特徴とする方法。 - 所望のパターンと、当該所望のパターンよりも寸法の小さな補助パターンとが配列されたマスクを、前記所望のパターンが解像され、かつ、前記補助パターンの解像が抑制されるように、複数種類の光で照明して前記マスクを経た光を被露光体に投影光学系を介して投影する露光方法に適したマスクの製造方法であって、
解像度をR、露光光の波長をλ、投影光学系の開口数をNA、k1=R/(λ/NA)とし、挿入される2つのダミーパターンの最小頂点間隔がk1換算で0.20以下になった場合に、前記2つの補助パターンを設ける代わりに、前記2つの補助パターンの重心を重心とする一の補助パターンを配置することを特徴とする方法。 - 所望のパターンと、当該所望のパターンよりも寸法の小さな補助パターンとが配列されたマスクを、前記所望のパターンが解像され、かつ、前記補助パターンの解像が抑制されるように、複数種類の光で照明して前記マスクを経た光を被露光体に投影光学系を介して投影する露光方法に適したマスクの製造方法であって、
前記所望のパターンを、直交2方向のいずれかの方向で整列する少なくとも2つのコンタクトホールを有する周期パターンと、前記直交2方向のいずれの方向においても整列する他のコンタクトホールを有しない孤立パターンとに分類するステップと、
前記周期パターンに対しては、前記少なくとも2つのコンタクトホールの間隔としての周期に基づいて前記補助パターンを前記整列している方向に配置するステップと、
前記孤立パターンに対しては任意の周期に基づいて前記補助パターンを配置する第2のステップとを有することを特徴とする方法。 - 前記孤立パターンに対して前記補助パターンを配置するステップは、
前記孤立パターンから所定の距離の範囲内に周期性パターンが存在するかどうかを判断するステップと、
前記判断ステップが存在すると判断した場合に前記周期性パターンの周期に合わせて前記補助パターンを配置することを特徴とするステップと、
前記判断ステップが存在しないと判断した場合に前記孤立パターンの寸法をハーフピッチにして前記補助パターンを配置するステップとを有することを特徴とする請求項7記載の方法。 - 前記周期パターンは、第1の方向に周期性を有する第1の周期パターンと、前記第1の方向に平行な第2の方向に周期性を有する第2のパターンを含み、前記第1及び第2の周期パターンを構成するコンタクトホールはいずれも前記第1及び第2の方向に垂直な方向に他のコンタクトホールが存在しない場合に、
前記第1及び第2の周期パターンの間に、前記第1及び第2の方向に垂直な方向に関する前記第1及び第2の周期パターン間隔を周期として、前記補助パターンを配置するステップを更に有することを特徴とする請求項7記載の方法。 - 前記周期パターンを構成するコンタクトホールはいずれも前記周期パターンが周期性を有する第1の方向に垂直な第2の方向に他のコンタクトホールが存在しない場合に、
前記周期パターンと前記孤立パターンの間に、前記第2の方向に関する前記第1の方向と当該第1の方向と平行で前記孤立パターンを通る第3の方向との間隔を周期として利用して、前記補助パターンを配置するステップを更に有することを特徴とする請求項7記載の方法。 - 請求項3乃至10のいずれか一項記載の方法を実行するためのプログラム。
- 第1の所望のパターンと、
前記第1の所望のパターンの近くに配置され、前記第1の所望のパターンよりも寸法が小さく、前記第1のパターンと略相似な形状を有する第1の補助パターンと、
前記第1の所望のパターンと形状が異なる第2の所望のパターンと、前記第2の所望のパターンの近くに配置され、前記第2の所望のパターンよりも寸法の小さく、前記第2のパターンと略相似な形状を有する第2の補助パターンと、を有し、
前記第1の補助パターンは、前記第1の所望のパターンの周辺に第1の周期で複数配列されており、前記第2の補助パターンは、前記第2の所望のパターンの周辺に第2の周期で複数配列されていることを特徴とするマスク。 - 請求項12記載のマスクを用いて前記被露光体を露光するステップと、
前記露光された被露光体に所定のプロセスを行うステップとを有するデバイス製造方法。
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