JP2004012803A - 光伝送用プリント板ユニット及び実装方法 - Google Patents
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Abstract
【解決手段】発光(受光)素子をサブマウントチップ(4)に接合し、素子を基板側に向けてサブマウントチップを光導波路基板に接合するに際し、サブマウントチップと光導波路基板との間を半田バンプ(6)にて接合するとともに、発光(受光)素子と光導波路基板との間隙を規制するポスト(5)を設置したことを特徴とする、光伝送用プリント板ユニット。
【選択図】 図2
Description
【発明の属する技術分野】
本発明は光伝送装置、特に光伝送用レーザ光を発光又は受光する面発光(受光)半導体素子の光導波路基板への実装構造及び実装方法に関する。
【0002】
【従来の技術】
図1は、従来の面発光(受光)半導体素子の実装構造である。
【0003】
図1において、光導波路基板1はレーザ光の透過可能なガラス基板からなり、一方の面(図1の下面)には、光導波路10が形成されている。光導波路10は、レーザ光を通過させるコア11と、その周囲のクラッド12(アンダークラッド12a及びオーバークラッド12b)からなる。光導波路基板1はレーザ光を反射させるV溝ミラー13を有する。
【0004】
図1に示すように、従来は、発光(受光)素子20は、その発光部20bの側の面に設けられた電極20aと光導波路基板1側に設けられた基板パッド7bとを半田バンプ6により接合して、光導波路基板1上に搭載され、発光(受光)素子20の裏面(図1の上側の面)の電極をワイヤボンディング8により光導波路基板1の電極パッド9に接合するという手法が取られていた。
【0005】
発光(受光)素子20はその発光部20bからレーザ光を発光し、V溝ミラー部13により反射し、光導波路10のコア部11を通過する。素子20が受光素子である場合は、光導波路10のコア部11を通過したV溝ミラー部13にて反射し、当該反射したレーザ光が受光素子の受光部にて受光される。
【0006】
ところで、発光(受光)素子20の発光部21と光導波路10との間の距離は十分正確に規制されないと、レーザ光の伝達効率その他の特性に大きな影響を受けることとなる。即ち、発光(受光)20の発光部21から発光されたレーザ光は図示のようにある程度の広がりをもっている。このため、発光部21と光導波路10との間の距離があり過ぎると、広がりを持ったレーザ光22が十分にV溝ミラー部13にて全反射しないこととなり、レーザ光の伝達効率を低下させることとなる。従来は、発光部20の側と光導波路基板1側とを半田バンプ6により接合していたため、半田バンプの柔軟性、変形性等の理由で、発光部21と光導波路10との間の距離を十分正確に制御することはできなかった。
【0007】
また、発光部20bと光導波路10との間の距離を限りなく近づけることは不可能であるし、また、間隔が開き過ぎると前述のようにレーザ光の透過率を低下を招き、また、発光部21と光導波路基板1との間隙にホコリやゴミ等が詰まるという問題を生ずる。また、発光素子20と光導波路基板1とを密着させると、光導波路基板1の表面に発光素子20によるキズを付けるおそれがある。
【0008】
他の従来技術としては、次のようなものがある。
【0009】
特開平9−26530号公報では、表面発光(受光)型の光素子及び光ファイバが同一実装基板に平面的に配置され、前記光ファイバの固定溝側面で光路を変換する光結合系を有する光モジュールにおいて、特性の安定化、低価格化を図るため、表面発光素子(例えばLED)をまずサブ基板にバンプを介して一旦実装し、次にサブ基板を別のバンプを介して実装基板に実装するようにした光モジュールが開示されている。
【0010】
【発明が解決しようとする課題】
図1に示した従来方式では、発光(受光)素子と基板との間に必ず半田バンプ6の高さ分のギャップが開くことになり、素子発光(受光)部20bから基板直下の光導波路10までの距離が大きくなってしまうという課題があった。
【0011】
また、特開平9−26530号公報に記載された従来技術では、表面発光素子(例えばLED)をまずサブ基板に第1のバンプを介して一旦実装し、次にこのサブ基板を第2のバンプを介して実装基板に実装されるので、サブ基板と実装基板との間の間隔が、前記第2のバンプの大きさにより決まってしまうため、第2のバンプの大きさにバラツキがある場合は、各々の光モジュールごとにサブ基板と実装基板との間の間隔、ひいては発光(受光)素子と光ファイバとの間の距離にバラツキが生じ、発光ないし受光特性に変化が生ずることがあって、個々の光モジュールについて性能が安定しないという問題がある。また、発光(受光)素子と光導波路基板1との間の間隙にホコリやゴミ等が詰まるという問題があった。
【0012】
そこで、本発明では、発光(受光)素子と光導波路基板との間の間隙にバラツキが生ぜず、当該間隔を正確に制御してレーザ光の伝達効率を向上すると共に、発光(受光)素子と光導波路基板との間の間隙にホコリやゴミ等が詰まらないようにした、面発光(受光)素子の光導波路基板への実装構造を提供することを目的とする。
【0013】
【課題を解決するための手段】
本発明における光伝送用素子の実装構造は、発光(受光)素子の裏面電極をサブマウントチップの電極に接合する。接合材料には導電性接着剤または半田を使用する。サブマウントチップの基板接続用パッドには位置決め用の半田バンプを形成しており、フリップチップ方式により基板にいわゆるフェースダウンC4接合をする。発光(受光)素子のパッドと基板パッドの接続には基板パッド上に形成された銅(Cu)ポストによる拡散接合を用いる。Cuポスト表面には半田バンプ融点と同等以下のメッキを形成している。
【0014】
本発明によると、面発光型の発光(受光)素子を光導波路基板をサブマウントチップを介して、一般的なフリップチップとして取り扱い、C4接合することが可能となる。接合においては、サブマウントチップに形成された位置決め用半田バンプ溶融時のセルフアライメント機能と基板パッド上に形成されたCuポストのスタンドオフ機能により、高精度の位置制御(5μm以下)と高さ制御(10μm以下)を同時に実現することができる。なお、位置決め用半田バンプは基板接続用の電極としても使用可能である。
【0015】
【発明の実施の形態】
以下、添付図面を参照して本発明の実施の形態について詳細に説明する。
【0016】
図2は本発明の実施形態に係る発光(受光)素子を光導波路基板上に実装した状態を示す断面図である。
【0017】
図2において、光導波路基板1自体の構造は図1に示す従来例と同様、レーザ光の透過可能なガラス基板からなり、一方の面(図2の下面)には、光導波路10が形成されている。光導波路10は、レーザ光を通過させるコア11と、その周囲のクラッド12(アンダークラッド12a及びオーバークラッド12b)からなる。光導波路10はレーザ光を反射させるV溝ミラー13を有する。光導波路基板1及び光導波路10はその光路の方向に延びた形状のものである。
【0018】
本発明では、後に詳述するように、光導波路基板1の他方の面(図2の上面)には、発光(受光)素子20の位置決め用の半田バンプ7bが矩形の各コーナーに相当する4箇所の位置に配置されている。また、発光(受光)素子20と光導波路10との間隔を規制するための剛性のポスト5が、接合されるべき発光(受光)素子20の電極20aに対応する位置を配置されている。
【0019】
発光(受光)素子20は、その発光部20bの側とは反対側の面(図2の上面)が導電性接着剤または半田3を介してサブマウントチップ4に搭載される。サブマウントチップ4には、発光(受光)素子20の位置決め用の半田バンプ接合パッド7aが、上述の半田バンプ7bに対応する位置、即ち矩形の角部に相当する4箇所の位置に配置されていて、これらの接合パッド7a上には、発光(受光)素子20の位置決め用の半田バンプ6が配置されている。
【0020】
この状態で、サブマウントチップ4は発光(受光)素子20の側を下側、即ち光導波路基板1側に向けてフェースダウン式にフリップチップ接合され、半田バンプ6の溶融によりサブマウントチップ4が光導波路基板1に接合される。このフリップチップ接合の際、めっきポスト5は発光(受光)素子20の発光部20bと同じ面にある電極20aに接合される。
【0021】
このフリップチップ接合により、光導波路基板1とサブマウントチップ4との間の機械的・物理的に結合と同時に、一方で、位置決め用半田バンプ6を介してパッド7aと7bとの間、他方でめっきポスト5を介して発光(受光)素子20の電極20bと光導波路基板1上のパッド5bとの間が電気的に接続され、例えば、一方がP極、他方N極として発光(受光)素子20に対して電源供給される。
【0022】
本発明では、ポスト5は後述のように、例えば銅のめっきにより形成され、十分な剛性を有すると共に、ポスト5の高さを比較的正確に規制できるので、フリップチップ接合後の完成体において、発光(受光)素子20と光導波路基板10との間の距離は十分正確に規制されることとなる。
【0023】
発光(受光)素子20はその発光部21からレーザ光を発光し、V溝ミラー部13により反射し、光導波路10のコア部11を通過する。素子20が受光素子である場合は、光導波路10のコア部11を通過したV溝ミラー部13にて反射し、当該反射したレーザ光が光導波路10(コア層11a)により伝送される。
【0024】
本発明では、上述のように、剛性のめっきポスト5により、発光(受光)素子20と光導波路基板10との間の距離は十分正確に規制されるので、発光(受光)20の発光部21から発光されたレーザ光は図示のようにある程度の広がりをもっているとしても、レーザ光22をV溝ミラー部13にて全反射させるような位置に設定でき、レーザ光の伝達効率を高めることができる。
【0025】
図3は、図2の線A−Aにおける断面図である。
【0026】
光導波路基板1の上面に設けられているポスト5は、この実施形態では、後述する発光(受光)素子20の4個の電極20bの配置に対応して、横方向に等間隔に4個並んでいる。なお、5aは半田めっき、5bは光導波路基板1上の電極ないし接合パッドである。また、7bは位置決め用半田バンプ6(図2)用の接合パッドである。
【0027】
光導波路基板1の下面に設けられている光導波路10は、この実施形態では、レーザ光を通過させるコア11が発光(受光)素子20の4個の発光(受光)部20b(図8)の位置に対応して、横方向に等間隔に4列並んでいる。各コア11間の領域及び各コア11の上下層はクラッド12である。また、4列のコア11の配置は、各発光(受光)素子20とそれに対応する電極20aとの配置関係が図8に示すようにずれていることから、互いに対応するポストの4の位置からオフセットしている。
【0028】
図4はサブマウントチップ4の製造工程を示す。
【0029】
サブマウントチップ4は基板の一方の面(図では上面)の中央位置に発光(受光)素子20を搭載するための矩形のステージ部24が形成され、このステージ部24から4つの角部に向けて導体パターン25が放射状に延びており、角部の近くに、位置決め用半田バンプ6用の略円形のパッド7bが形成されている。ステージ部24、導体パターン25及びパッド7bは一体的に形成されており互いに導通していて、それらの厚さを同一であってよい。
【0030】
図4(a)に示す最初の工程では、位置決め用半田バンプ6を基板の4箇所のパッド7b上に仮付けする。なお、位置決め用半田バンプ6は、めっきバンプ或いは転写バンプであって良い。
【0031】
図4(b)に示す次の工程では、発光(受光)素子20を基板のステージ部24上に固定する。この固定にあたっては、図2に示すように、発光(受光)素子20との間に導電接着剤又ははんだ3等の導電体を介在させる。
【0032】
図5は光導波路基板の製造工程を示す。
【0033】
まず、ガラス基板1を準備する(図5(a))。次に、ガラス基板1上の全面に後工程でめっきをする際の電極の機能を果たすためのシード層30を形成する(図5(b))。ついで、後工程でめっきをする部分以外の領域について、ドライフィルムレジスト(DFR)32をパターン形成する(図5(c))。そして、めっきすべき領域パターンについて、例えば銅(Cu)めっき34を施す(図5(d))。レジスト32を剥離した後、導体エッチングを施して導体パターンとする(図5(e))。次に、絶縁層36のパターニングをして受けランド5aの形成位置を除いた領域を絶縁層36で覆う(図5(f))。次に、絶縁層36をパターニングした領域を含む全域に、シード層38を形成する(図5(g))。次に、ポスト受けランド5aの形成位置以外の領域をドライフィルムレジスト(受けランドパターン)42で覆うと共に、シード層38を電極として電解銅めっきを施し、ポスト受けランド5aを形成する(図5(h))。次に、レジストを剥離した後、ポストの形成位置以外の領域をドライフィルムレジスト(銅ポストパターン)43で覆い、電解銅めっき及び接合金属めっきを施す(図5(i))。次に、レジストを剥離し、エッチングにより銅ポストを残し、前述のシード層38を剥離する(図5(j))。次に、基板1を上下逆転させて、ポスト5を形成した側とは反対側の基板面に導波路10を形成する。この導波路10は前述のようにコア層11及びクラッド層12からなるが、最初にアンダークラッド層12aを形成し、次にコア層11をパターニングし、最後にオーバークラッド層12bを形成する(図5(k))。最後の工程として、導波路10にV字形のミラー部13を形成する。
【0034】
図6はサブマウントチップ4を光導波路基板1に接合する状態を示す。図4に示す製造プロセスにより製造されたサブマウントチップ4を、図5に示す製造プロセスにより製造された光導波路基板1に接合するには、まず、位置決め用半田バンプ6が光導波路基板1のパッド7bに位置するように、位置決めされ、フリップチップ式に半田バンプ6をリフローさせることにより、半田バンプ6をリフローさせることにより光導波路基板1のパッド7bに接合させる。この時、ポスト5は発光(受光)素子20の電極20aの部位に整合しており、ポスト4上に設けた半田めっき5a(図3)も同時にリフローされ、両者が結合される。
【0035】
図7は光導波路基板及び発光(受光)素子の接合部の詳細斜視図である。上述のようにサブマウントチップ4を光導波路基板1に接合することにより、発光(受光)素子20が光導波路基板1に接合される。この状態では、光導波路基板1側のポスト5が発光(受光)素子20の電極20aの部位に整合し且つ結合されている。一方、発光(受光)素子20の発光(受光)部20bは光導波路10のV溝ミラー13の位置に正確に整合しており、発光素子20がその発光部20bからレーザ光を発光し、V溝ミラー部13により反射し、光導波路10のコア部11を通過するようにされる。
【0036】
図8は発光(受光)素子の概略斜視図(a)及びその一部を示す詳細図(b)である。図示のように、1つの発光(受光)素子2に対して、4つの発光(受光)部20bが等間隔に配置されている。一方、1つの発光(受光)素子2に対して、4つの電極20aも発光(受光)部20bと同ピッチで等間隔に配置されている。そして、発光(受光)部20bは電極20aに対して、電極20aの配列方向に関して斜めの位置にオフセットしており、発光(受光)部20bの位置がV溝ミラー部13の位置に整合するようになっている。
【0037】
図9は発光素子及び受光素子を具備した光伝送装置の断面図である。図9において、図の右側は図2に示した構造(発光側)と同一である。光導波路基板1は図の左方向に延びており、発光素子20の位置から離れた位置に受光素子20’が取り付けられている。
【0038】
受光素子20’も発光素子20と同様、サブマウントチップ4に接合される位置決め用半田バンプ6によりフリップチップ方式で光度導波路基板1にフリップチップ方式によりリフロー接合されている。受光素子20’の受光部21’は、発光素子20の発光部21に対して対称的に配置され、受光部21’が光導波路基板1の光導波路10の他方の側のV溝ミラー13’の位置に対応した位置に配置されている点は、発光素子20の場合と同様である。
【0039】
発光素子20の発光部21からのレーザ光は一方のV溝ミラー部13により反射し、光導波路10のコア部11を通過する。このレーザ光は他方のV溝ミラー部13’により反射し、受光素子20’の受光部20’によって受光される。
【0040】
図10は図9に示した光伝送装置に対応する構造を有する光伝送モジュールを示す斜視図である。図10において、1は光導波路基板、10は光導波路、20は発光素子、20’は受光素子、44、44’は配線、46、46’は端子である。
【0041】
以上添付図面を参照して本発明の実施の形態について説明したが、本発明は上記の実施の形態に限定されるものではわなく、本発明の精神ないし範囲内において種々の形態、変形、修正等が可能である。
【0042】
(付記1)発光又は受光素子を光導波路基板に実装する光伝送用半導体素子の実装構造において、発光又は受光素子をサブマウントチップに接合し、発光又は受光素子を基板側に向けてサブマウントチップを光導波路基板に接合するに際し、サブマウントチップと光導波路基板との間に接合手段を設け、発光又は受光素子と光導波路基板との間にこれらの間隙を規制するポストを設置したことを特徴とする、プリント板ユニット。(1)
(付記2)光導波路基板の表面の一方の側に発光素子が搭載され、他方の側に受光素子が搭載され、これらの発光素子及び受光素子の少なくとも一方又は両者がサブマウントチップを介して前記光導波路基板に接合されていることを特徴とする付記1に記載のプリント板ユニット。
【0043】
(付記3)サブマウントチップと光導波路基板との間に設けた接合手段は、発光又は受光素子と前記光導波路基板との位置決めを行う半田バンプであり、半田バンプ溶融時のセルフアライメント機能により高精度の位置制御を実現することを特徴とする付記1に記載のプリント板ユニット。
【0044】
(付記4)発光又は受光素子の電極を、位置決め用半田バンプを介して、サブマウントチップの電極と接合することにより、サブマウントチップに形成した位置決め用半田バンプを基板接続用の電極としても使用可能であることを特徴とする付記3に記載のプリント板ユニット。
【0045】
(付記5)発光又は受光素子と光導波路基板との間に設けた、これらの間隙を規制するポストは、銅めっき等の導電性金属めっきで形成した剛性のポストであることを特徴とする付記1に記載のプリント板ユニット。(3)
(付記6)サブマウントチップは光導波路基板にフリップチップ方式でフェ−スダウンC4接合することを特徴とする付記1に記載のプリント板ユニット。
【0046】
(付記7)発光又は受光素子と光導波路基板とを接続する銅ポスト表面には、サブマウントチップと基板を接続する半田バンプと同等以下の融点のメッキを形成し、半田バンプリフローと同等温度で拡散接合を行うことを特徴とするプリント板ユニット。
【0047】
(付記8)発光又は受光素子を光導波路基板に実装する光伝送用半導体素子の実装方法において、前記発光又は受光素子及び複数の半田バンプを予めサブマウントチップに接合し、前記光導波路基板の前記発光又は受光素子を接合する位置に予めポストを形成する工程と、前記発光又は受光素子を基板側に向けて前記サブマウントチップを光導波路基板にリフロー接合する工程と、からなることを特徴とする光伝送用半導体素子の実装方法。(4)
【0048】
【発明の効果】
以上説明したように、本発明によれば、面発光型の発光(受光)素子を一般的なフリップチップとして取り扱いC4接合することが可能となる。またサブマウントチップに形成された位置決め用半田バンプ溶融時のセルフアライメント機能と基板パッド上に形成された銅(Cu)ポストのスタンドオフ機能により、高精度の位置制御(5μm以下)と高さ制御(10μm以下)を同時に実現することができるため、発光(受光)素子から基板直下への光伝送距離を従来の半田バンプ使用時の約1/5程度以上短縮することができる。
【図面の簡単な説明】
【図1】従来の発光(受光)素子の光導波路基板への実装構造を示す断面図である。
【図2】サブマウントチップを使用した本発明の発光(受光)素子の光導波路基板への実装構造を示す断面図である。
【図3】図2の線A−Aに沿った概略断面図である。
【図4】サブマウントチップの製造工程を示す図である。
【図5】光導波路基板の製造工程を示す図である。
【図6】サブマウントチップを光導波路基板へ実装する状態を示す斜視図である。
【図7】光導波路基板及び発光(受光)素子の接合部の詳細斜視図である。
【図8】発光(受光)素子の概略斜視図及びその一部(B)を示す詳細図である。
【図9】発光素子及び受光素子を具備した光伝送装置の断面図である。
【図10】光伝送モジュールの一例を示す斜視図である。
【符号の説明】
1…光導波路基板
4…サブマウントチップ
5…ポスト
6…位置決め用半田バンプ
10…光導波路
13…V溝ミラー
20…発光(受光)素子
Claims (4)
- 発光又は受光素子を光導波路基板に実装する光伝送用素子の実装構造において、発光又は受光素子をサブマウントチップに接合し、発光又は受光素子を基板側に向けてサブマウントチップを光導波路基板に接合するに際し、サブマウントチップと光導波路基板との間に接合手段を設け、発光又は受光素子と光導波路基板との間隙を規制するポストを設置したことを特徴とする、プリント板ユニット。
- 前記サブマウントチップと前記光導波路基板との間に設けた接合手段は、発光又は受光素子と光導波路基板との位置決めを行う半田バンプであり、半田バンプ溶融時のセルフアライメント機能により高精度の位置制御を実現することを特徴とする請求項1に記載のプリント板ユニット。
- 前記発光又は受光素子と光導波路基板との間に設けた、これらの間隙を規制するポストは、導電性の金属めっきで形成した剛性のポストであることを特徴とする請求項1に記載のプリント板ユニット。
- 発光又は受光素子を光導波路基板に実装する光伝送用半導体素子の実装方法において、
前記発光又は受光素子及び複数の半田バンプを予めサブマウントチップに接合し、前記光導波路基板の前記発光又は受光素子の接合位置に予めポストを形成する工程と、
前記発光又は受光素子を基板側に向けて前記サブマウントチップを光導波路基板にリフロー接合する工程と、
からなることを特徴とする光伝送用素子の実装方法。
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