JP2003332606A - Apparatus and method for manufacturing solar battery - Google Patents
Apparatus and method for manufacturing solar batteryInfo
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Abstract
Description
【０００１】[0001]
【発明の属する技術分野】本発明は、インクジェット方
式を用いた太陽電池の製造装置および製造方法に関し、
特に塗布ムラのない安定したドーパント液の塗布を可能
とする太陽電池の製造装置および製造方法に関する。BACKGROUND OF THE INVENTION 1. Field of the Invention The present invention relates to a solar cell manufacturing apparatus and manufacturing method using an ink jet method,
In particular, the present invention relates to an apparatus and method for manufacturing a solar cell, which enables stable application of a dopant liquid without unevenness in application.
【０００２】[0002]
【従来の技術】図６から図８を参照して、従来の太陽電
池の製造工程において用いられているスピン塗布法の一
例を説明する。図６は、従来のスピン塗布法で用いられ
る基板の模式的な断面図を示し、図７は従来のスピン塗
布法においてドーパント液を塗布した直後の基板の模式
的な斜視図を示す。また、図８は従来のスピン塗布法に
おける回転中の基板の模式的な斜視図を示し、図９は従
来のスピン塗布法における回転後の基板の模式的な断面
図を示す。2. Description of the Related Art An example of a spin coating method used in a conventional solar cell manufacturing process will be described with reference to FIGS. FIG. 6 shows a schematic cross-sectional view of a substrate used in a conventional spin coating method, and FIG. 7 shows a schematic perspective view of a substrate immediately after a dopant solution is coated in the conventional spin coating method. FIG. 8 shows a schematic perspective view of the substrate during rotation in the conventional spin coating method, and FIG. 9 shows a schematic sectional view of the substrate after rotation in the conventional spin coating method.
【０００３】まず、図６に示すように、基板１５の製造
時に生じる表面の加工変質層１５ａを除去するため、あ
るいは異方性エッチングによって基板１５の表面に微細
なピラミッド状の凹凸を含むテクスチャ表面を形成する
ため、基板１５を水酸化ナトリウムを含む溶液中に浸漬
することでエッチング処理を行なう。First, as shown in FIG. 6, in order to remove the work-affected layer 15a on the surface produced during the manufacture of the substrate 15 or by anisotropic etching, the surface of the substrate 15 has a textured surface containing fine pyramid-shaped irregularities. In order to form, the substrate 15 is immersed in a solution containing sodium hydroxide to perform an etching process.
【０００４】次に、図７に示すように静止した基板１５
の中央部に一定量のドーパント液１６が吐出され、次に
図８で示すように基板１５を約５０００ｒｐｍで高速回
転させ、テクスチャ表面が形成された基板１５の受光面
上全体にドーパント液１６を均一に広げる。Next, the stationary substrate 15 as shown in FIG.
A certain amount of the dopant liquid 16 is discharged to the central part of the substrate, and then the substrate 15 is rotated at a high speed at about 5000 rpm as shown in FIG. 8 so that the dopant liquid 16 is entirely deposited on the light receiving surface of the substrate 15 having the textured surface. Spread evenly.
【０００５】しかし、上記スピン塗布法は基板１５の回
転の加減速に時間を要するという問題があった。また、
回転モーメントにより、特に多結晶基板の場合には基板
１５の割れが生じ易く歩留まりが低下するという問題も
あった。さらに、スピン塗布法においては図９に示すよ
うに基板１５上に塗布されたドーパント液１６が基板１
５の側面および裏面に回り込み、無駄になる割合が多い
という問題もあった。However, the spin coating method has a problem that it takes time to accelerate and decelerate the rotation of the substrate 15. Also,
There is also a problem that due to the rotation moment, particularly in the case of a polycrystalline substrate, the substrate 15 is easily cracked and the yield is reduced. Further, in the spin coating method, as shown in FIG. 9, the dopant liquid 16 coated on the substrate 15 is the substrate 1
There was also a problem in that it often goes to the side surface and the back surface of No. 5 and is wasted.
【０００６】このようなスピン塗布法の問題を解決する
ため、インクジェット方式によってドーパント液を塗布
する方法がある。たとえば特開２０００−１８３３７９
公報には、太陽電池の製造にジェットプリンタを用いる
方法が開示されている。In order to solve the problem of the spin coating method, there is a method of coating the dopant liquid by an ink jet method. For example, Japanese Patent Laid-Open No. 2000-183379
The publication discloses a method of using a jet printer for manufacturing a solar cell.
【０００７】[0007]
【発明が解決しようとする課題】しかしながら、この方
法ではドーパント液の粘度に応じてインクジェットヘッ
ドのインク流路側からインク噴射側へのノズル径の減少
によって生じるインクジェットヘッドノズルの傾斜角で
あるテーパ角が定められていないため、ドーパント液の
粘度によっては塗布ムラのない安定したドーパント液の
塗布をすることができないことがあった。However, in this method, the taper angle, which is the inclination angle of the ink jet head nozzle, which is caused by the decrease in the nozzle diameter from the ink flow path side to the ink ejecting side of the ink jet head depending on the viscosity of the dopant liquid, is used. Since it is not specified, it may not be possible to apply a stable dopant liquid without uneven coating depending on the viscosity of the dopant liquid.
【０００８】上記事情に鑑みて、本発明は、塗布ムラの
ない安定したドーパント液の塗布を可能とする太陽電池
の製造装置および製造方法を提供することを目的とす
る。In view of the above circumstances, it is an object of the present invention to provide an apparatus and a method for manufacturing a solar cell which enables stable application of a dopant liquid without application unevenness.
【０００９】[0009]
【課題を解決するための手段】上記目的を達成するた
め、本発明者がインクジェット方式を用いて基板上にド
ーパント液を塗布する太陽電池の製造装置および製造方
法について検討した結果、ドーパント液の粘度に応じて
インクジェットヘッドのインク流路側からインク噴射側
へのノズル径の減少によって生じるテーパ角を規定する
ことにより、上記目的を達成できることを見出した。In order to achieve the above object, the present inventor has studied a solar cell manufacturing apparatus and a manufacturing method for coating a substrate with a dopant liquid by using an inkjet method, and as a result, the viscosity of the dopant liquid has been found. It has been found that the above object can be achieved by defining the taper angle caused by the reduction of the nozzle diameter from the ink flow path side of the inkjet head to the ink jetting side according to the above.
【００１０】すなわち、本発明は、インクジェット方式
によって基板上にドーパント液を塗布する手段を備えた
太陽電池の製造装置であって、ドーパント液の粘度ｎ
（ｍＮｓ／ｍ2）によってインクジェットヘッドノズル
の傾斜角であるテーパ角（°）ｄが式０．４８×ｎ−
０．０６≦ｄ≦０．８９×ｎ＋６．２７にて規定される
太陽電池の製造装置であることを特徴とする。That is, the present invention is an apparatus for manufacturing a solar cell provided with means for applying a dopant liquid onto a substrate by an ink jet system, wherein the viscosity of the dopant liquid is n.
(MNs / m 2 ), the taper angle (°) d, which is the inclination angle of the inkjet head nozzle, is expressed by the formula 0.48 × n−
It is characterized by being a solar cell manufacturing apparatus defined by 0.06 ≦ d ≦ 0.89 × n + 6.27.
【００１１】ここで、本発明の太陽電池の製造装置にお
いては、上記テーパ角ｄ（°）がドーパント液の粘度ｎ
（ｍＮｓ／ｍ2）によって、式０．４８×ｎ−０．０６
≦ｄ≦０．４８×ｎ＋２．５９にて規定されることが好
ましい。In the solar cell manufacturing apparatus of the present invention, the taper angle d (°) is the viscosity n of the dopant liquid.
(MNs / m 2 ) gives the formula 0.48 × n−0.06
It is preferable to be defined as ≦ d ≦ 0.48 × n + 2.59.
【００１２】また、本発明の太陽電池の製造装置におい
ては、上記ドーパント液の粘度ｎ（ｍＮｓ／ｍ2）が１
以上５以下であることが推奨される。In the solar cell manufacturing apparatus of the present invention, the viscosity n (mNs / m 2 ) of the dopant liquid is 1
Above 5 is recommended.
【００１３】また、本発明の太陽電池の製造装置は、上
記インクジェットヘッドに加えて、基板を保持し基板を
進行させる基板チャックと、基板の外形寸法を測定して
インクジェットヘッドにその情報を伝達する基板形状測
定装置とを具備することが好ましい。In addition to the ink jet head, the solar cell manufacturing apparatus of the present invention further includes a substrate chuck for holding the substrate and advancing the substrate, and measuring the outer dimensions of the substrate to transmit the information to the ink jet head. It is preferable to provide a substrate shape measuring device.
【００１４】また、本発明は、上記太陽電池の製造装置
を用いて、基板上にドーパント液を塗布する工程を含む
太陽電池の製造方法であることを特徴とする。Further, the present invention is characterized by being a method of manufacturing a solar cell, which includes a step of applying a dopant liquid onto a substrate by using the above-described solar cell manufacturing apparatus.
【００１５】[0015]
【発明の実施の形態】以下、本発明の実施の形態につい
て説明する。BEST MODE FOR CARRYING OUT THE INVENTION Embodiments of the present invention will be described below.
【００１６】＜テーパ角＞本発明に用いられるインクジ
ェットヘッドのテーパ角ｄ（°）は、ドーパント液を塗
布する際のドーパント液の粘度ｎ（ｍＮｓ／ｍ2）によ
って、式０．４８×ｎ−０．０６≦ｄ≦０．８９×ｎ＋
６．２７にて規定される。これは本発明者がインクジェ
ット方式による基板上へのドーパント液の塗布の安定性
向上について鋭意検討した結果、ドーパント液の粘度ｎ
に対応してインクジェットヘッドのテーパ部の傾斜角ｄ
を上記の式を満たすように規定すればよいことを見い出
したためである。<Taper Angle> The taper angle d (°) of the ink jet head used in the present invention is determined by the formula 0.48 × n− depending on the viscosity n (mNs / m 2 ) of the dopant liquid when the dopant liquid is applied. 0.06 ≦ d ≦ 0.89 × n +
It is specified in 6.27. This is because as a result of the inventor's earnest study on improving the stability of the coating of the dopant liquid on the substrate by the inkjet method, the viscosity n of the dopant liquid was obtained.
Corresponding to the inclination angle d of the taper part of the inkjet head
This is because it has been found that it suffices to define s to satisfy the above equation.
【００１７】また、上記テーパ角ｄ（°）は、式０．４
８×ｎ−０．０６≦ｄ≦０．４８×ｎ＋２．５９にて規
定されることが好ましい。この場合には、ドーパント液
の塗布の安定性向上をより図ることができるようにな
る。The taper angle d (°) is given by the formula 0.4
It is preferable to be defined by 8 × n−0.06 ≦ d ≦ 0.48 × n + 2.59. In this case, it becomes possible to further improve the stability of the application of the dopant liquid.
【００１８】図１にテーパ部の傾斜角ｄ（°）とドーパ
ント液の粘度ｎ（ｍＮｓ／ｍ2）との関係を示す。図１
において、直線ａは安定したドーパント液の塗布を可能
とするテーパ角の最小の角度を示し、直線ｂは最大の角
度を示す。さらに直線ｃはドーパント液の塗布の安定性
をより向上させることができたときの最大の角度を示
す。ここで、直線ａはｄ＝０．４８ｎ−０．０６で表わ
され、直線ｂはｄ＝０．８９ｎ＋６．２７で表わされ、
直線ｃはｄ＝０．４８ｎ＋２．５９で表わされる。FIG. 1 shows the relationship between the inclination angle d (°) of the taper portion and the viscosity n (mNs / m 2 ) of the dopant liquid. Figure 1
In, the straight line a indicates the minimum taper angle that enables stable application of the dopant liquid, and the straight line b indicates the maximum angle. Further, the straight line c indicates the maximum angle when the stability of the application of the dopant liquid can be further improved. Here, the straight line a is represented by d = 0.48n−0.06, the straight line b is represented by d = 0.89n + 6.27,
The straight line c is represented by d = 0.48n + 2.59.
【００１９】したがって、直線ａおよび直線ｂによって
囲まれた部分のテーパ角ｄ（°）がドーパント液を安定
して塗布することができることがわかり、上記関係式
０．４８×ｎ−０．０６≦ｄ≦０．８９ｎ＋６．２７を
導くことができた。Therefore, it can be seen that the taper angle d (°) of the portion surrounded by the straight line a and the straight line b allows the dopant liquid to be stably applied, and the above relational expression 0.48 × n−0.06 ≦ It was possible to derive d ≦ 0.89n + 6.27.
【００２０】さらに、直線ａおよび直線ｃによって囲ま
れた部分のテーパ角ｄ（°）がドーパント液の塗布の安
定性をより向上させることができることがわかり、上記
関係式０．４８×ｎ−０．０６≦ｄ≦０．４８ｎ＋２．
５９を導くことができた。Further, it was found that the taper angle d (°) of the portion surrounded by the straight line a and the straight line c can further improve the stability of the coating of the dopant liquid, and the above relational expression 0.48 × n-0. .06 ≦ d ≦ 0.48n + 2.
I was able to lead 59.
【００２１】図２に本発明に用いられるインクジェット
ヘッドの一例の模式的な断面図を示す。図２において、
インクジェットヘッドは、インキチャンバ１、圧電素子
板２およびノズル３を備えており、ノズル中心線Ｃに対
する傾斜角であるテーパ角４はｄ（°）である。ここ
で、ドーパント液の塗布は、インキチャンバ１中に注入
されたドーパント液がノズル３から吐出されることによ
り行なわれる。FIG. 2 shows a schematic sectional view of an example of the ink jet head used in the present invention. In FIG.
The ink jet head includes an ink chamber 1, a piezoelectric element plate 2 and a nozzle 3, and a taper angle 4 which is an inclination angle with respect to the nozzle center line C is d (°). Here, the application of the dopant liquid is performed by ejecting the dopant liquid injected into the ink chamber 1 from the nozzle 3.
【００２２】＜ドーパント液＞本発明で用いられるドー
パント液の粘度ｎ（ｍＮｓ／ｍ2）は１以上５以下であ
ることが好ましく、１以上３以下であることがより好ま
しい。ドーパント液の粘度ｎ（ｍＮｓ／ｍ2）がこの範
囲にある場合には、ドーパント液の塗布安定性をより向
上させることができるだけでなく、ドーパント液の速乾
性も向上させることができるようになるためである。<Dopant Liquid> The viscosity n (mNs / m 2 ) of the dopant liquid used in the present invention is preferably 1 or more and 5 or less, and more preferably 1 or more and 3 or less. When the viscosity n (mNs / m 2 ) of the dopant liquid is in this range, not only the coating stability of the dopant liquid can be further improved, but also the quick drying property of the dopant liquid can be improved. This is because.
【００２３】また、ドーパント液の材質はリン含有シリ
ケートガラス（ＰＳＧ）に限定されず、ホウ素含有シリ
ケートガラス（ＢＳＧ）等の従来から公知の材質も好適
に用いることができる。The material of the dopant liquid is not limited to phosphorus-containing silicate glass (PSG), and conventionally known materials such as boron-containing silicate glass (BSG) can be preferably used.
【００２４】＜太陽電池の製造装置＞図３に本発明の太
陽電池の製造装置の一例を示す。図３において、基板５
は基板チャック７によって保持されており、この基板５
上には基板形状測定装置９およびインクジェットヘッド
８が設置されている。また、基板形状測定装置９とイン
クジェットヘッド８は基板５の進行方向に沿ってこの順
序に並んでいる。<Solar Cell Manufacturing Apparatus> FIG. 3 shows an example of the solar cell manufacturing apparatus of the present invention. In FIG. 3, the substrate 5
Is held by the substrate chuck 7, and the substrate 5
A substrate shape measuring device 9 and an inkjet head 8 are installed on the top. The substrate shape measuring device 9 and the inkjet head 8 are arranged in this order along the traveling direction of the substrate 5.
【００２５】また、インクジェットヘッド８および基板
形状測定装置９は固定されており、基板チャック７が矢
印の方向に進行することに伴い、それに保持された基板
５がその方向に進行する。基板５の進行速度としては一
例として２００ｍｍ／ｓである。Further, the ink jet head 8 and the substrate shape measuring device 9 are fixed, and as the substrate chuck 7 advances in the direction of the arrow, the substrate 5 held by it advances in that direction. The traveling speed of the substrate 5 is 200 mm / s, for example.
【００２６】基板５はまず基板形状測定装置９の下を通
過し、この通過中に基板５の外形寸法が測定される。次
に基板５はインクジェットヘッド８の下を通過し、基板
５上にインクジェットヘッド８からドーパント液６が塗
布される。この塗布の際には、あらかじめ基板形状測定
装置９によって測定された基板５の外形寸法をもとに、
基板５の側面または裏面にドーパント液６が回り込まな
いようにするため、一定の塗布領域に塗布される。The substrate 5 first passes under the substrate shape measuring device 9, and the external dimensions of the substrate 5 are measured during this passage. Next, the substrate 5 passes under the inkjet head 8, and the dopant liquid 6 is applied from the inkjet head 8 onto the substrate 5. At the time of this coating, based on the external dimensions of the substrate 5 previously measured by the substrate shape measuring device 9,
In order to prevent the dopant liquid 6 from flowing around the side surface or the back surface of the substrate 5, the dopant liquid 6 is applied to a certain application area.
【００２７】図４にドーパント液６が塗布された後の基
板５を示す。図４において、ドーパント液６が塗布され
る領域である塗布領域１０は基板５の端部から一例とし
て０．１ｍｍ離れた長さの位置に設定される。FIG. 4 shows the substrate 5 after the dopant liquid 6 has been applied. In FIG. 4, the application region 10 that is the region to which the dopant liquid 6 is applied is set at a position having a length of 0.1 mm away from the end of the substrate 5, for example.
【００２８】すなわち、図３に示す基板形状測定装置９
は基板５の外形寸法を測定し、その測定した基板５の外
形寸法の情報をインクジェットヘッド８に伝達し、その
伝達された情報に基づいてインクジェットヘッド８の塗
布幅が基板５の外形寸法に応じて伸縮するように制御さ
れる。したがって、ドーパント液６を塗布領域１０内に
容易に塗布することができる。That is, the substrate shape measuring device 9 shown in FIG.
Measures the outer dimensions of the substrate 5, transmits the measured outer dimension information of the substrate 5 to the ink jet head 8, and the coating width of the ink jet head 8 depends on the outer dimension of the substrate 5 based on the transmitted information. Is controlled to expand and contract. Therefore, the dopant liquid 6 can be easily applied in the application region 10.
【００２９】＜基板＞図５に本発明で用いられる基板の
一例を示す。図５（ａ）に示すように、基板５として
は、たとえば基板５の製造時に生じる表面の加工変質層
５ａを除去するため、または異方性エッチングによって
基板５の表面に微細なピラミッド状の凹凸を含むテクス
チャ表面を形成するため、水酸化ナトリウムを含む溶液
中に基板５を浸漬してエッチング処理されている一辺約
１２５ｍｍの略正方形のｐ型多結晶シリコン半導体基板
等が用いられ得る。なお、基板５の材質としては、上記
ｐ型多結晶シリコン以外にも特に限定されず従来から公
知の材質も好適に用いることができる。また、基板５と
しては、上記一辺約１２５ｍｍの略正方形以外の寸法お
よび形状のものも用いることができるが、基板５の形状
としては、矩形または正方形を用いることが好ましい。
丸型基板等の場合には基板形状測定装置を備えた場合で
もインクジェットヘッドの制御が複雑になる傾向にある
ためである。<Substrate> FIG. 5 shows an example of the substrate used in the present invention. As shown in FIG. 5A, as the substrate 5, for example, fine pyramidal irregularities are formed on the surface of the substrate 5 in order to remove the work-affected layer 5a on the surface that occurs during the manufacture of the substrate 5 or by anisotropic etching. In order to form a textured surface containing p., A substantially square p-type polycrystalline silicon semiconductor substrate having a side of about 125 mm and being etched by immersing the substrate 5 in a solution containing sodium hydroxide can be used. The material of the substrate 5 is not particularly limited to the above p-type polycrystalline silicon, and conventionally known materials can be preferably used. The substrate 5 may have a size and shape other than the above-mentioned approximately square shape having a side of about 125 mm, but the shape of the substrate 5 is preferably rectangular or square.
This is because in the case of a round substrate or the like, control of the inkjet head tends to be complicated even when the substrate shape measuring device is provided.
【００３０】そして、図５（ｂ）に示すように、基板５
上にドーパント液６が塗布されることとなる。なお、基
板５の側面または裏面にドーパント液６が付着しないよ
うにマスクを用いることもできる。Then, as shown in FIG.
The dopant liquid 6 is applied on top. A mask may be used so that the dopant liquid 6 does not adhere to the side surface or the back surface of the substrate 5.
【００３１】なお、本願の太陽電池の構造、製造方法お
よび製造装置は特に基板表面にドーパント液を塗布する
構造、その製造方法およびその製造装置を特長とするも
のであり、これら以外のたとえば反射防止膜、電極等の
構造やその製造方法、製造装置を限定するものではな
い。The solar cell structure, manufacturing method and manufacturing apparatus according to the present invention are characterized by a structure for coating a substrate surface with a dopant solution, a manufacturing method therefor and a manufacturing apparatus therefor. The structure of the membrane, the electrode, etc., the manufacturing method thereof, and the manufacturing apparatus are not limited.
【００３２】[0032]
【実施例】以下、本発明について実施例を用いて説明す
るが、本発明はこれに限定されるものではない。EXAMPLES The present invention will be described below with reference to examples, but the present invention is not limited thereto.
【００３３】＜ドーパント液の塗布試験＞上述した太陽
電池の製造装置を用いて、ドーパント液の塗布試験を行
なった。ここで、ドーパント液としては、粘度ｎ（ｍＮ
ｓ／ｍ2）が１〜５に調整されたＰＳＧの液状前駆体を
用意して行なった。<Dopant Liquid Coating Test> A dopant liquid coating test was conducted using the above-described solar cell manufacturing apparatus. Here, as the dopant liquid, the viscosity n (mN
A liquid precursor of PSG having a s / m 2 ) adjusted to 1 to 5 was prepared.
【００３４】これらの粘度ｎ（ｍＮｓ／ｍ2）のドーパ
ント液６を用いた場合に塗布ムラなく安定して塗布する
ことができたときのテーパ角ｄ（°）の最小角度および
最大角度を表１に示し、さらに塗布ムラなく安定に塗布
することができたときのテーパ角ｄ（°）の最小角度お
よび最大角度を表２に示す。When the dopant liquid 6 having these viscosities n (mNs / m 2 ) is used, the minimum angle and the maximum angle of the taper angle d (°) when stable coating can be performed without coating unevenness are shown. Table 1 shows the minimum angle and the maximum angle of the taper angle d (°) when the coating can be performed in a stable manner without unevenness.
【００３５】[0035]
【表１】 [Table 1]
【００３６】[0036]
【表２】 [Table 2]
【００３７】＜試験結果＞表１に示された最小角度およ
び最大角度から、テーパ角ｄ（°）とドーパント液の粘
度ｎ（ｍＮｓ／ｍ2）とが０．４８×ｎ−０．０６≦ｄ
≦０．８９×ｎ＋６．２７の関係式を満たす場合には、
塗布ムラなく安定してドーパント液を塗布することがで
きることがわかった。<Test Results> From the minimum angle and the maximum angle shown in Table 1, the taper angle d (°) and the viscosity n (mNs / m 2 ) of the dopant liquid are 0.48 × n-0.06 ≦ d
When the relational expression ≦ 0.89 × n + 6.27 is satisfied,
It was found that the dopant liquid can be applied stably without uneven coating.
【００３８】また、表２に示された最小角度および最大
角度から、テーパ角ｄ（°）とドーパント液の粘度ｎ
（ｍＮｓ／ｍ2）とが０．４８×ｎ−０．０６≦ｄ≦
０．４８×ｎ＋２．５９の関係式を満たす場合には、さ
らに塗布ムラなく安定してドーパント液を塗布すること
ができることがわかった。From the minimum angle and the maximum angle shown in Table 2, the taper angle d (°) and the viscosity n of the dopant liquid are obtained.
(MNs / m 2 ) is 0.48 × n−0.06 ≦ d ≦
It has been found that when the relational expression of 0.48 × n + 2.59 is satisfied, the dopant liquid can be applied more stably without application unevenness.
【００３９】今回開示された実施の形態および実施例は
すべての点で例示であって制限的なものではないと考え
られるべきである。本発明の範囲は上記した説明ではな
くて特許請求の範囲によって示され、特許請求の範囲と
均等の意味および範囲内でのすべての変更が含まれるこ
とが意図される。The embodiments and examples disclosed this time must be considered as illustrative in all points and not restrictive. The scope of the present invention is shown not by the above description but by the claims, and is intended to include meanings equivalent to the claims and all modifications within the scope.
【００４０】[0040]
【発明の効果】上述したように本発明によれば、塗布ム
ラのない安定したドーパント液の基板上への塗布を可能
とすることができる。As described above, according to the present invention, it is possible to stably apply the dopant liquid onto the substrate without uneven coating.
【図１】 テーパ部の傾斜角とドーパント液の粘度との
相関図である。FIG. 1 is a correlation diagram between the inclination angle of a tapered portion and the viscosity of a dopant liquid.
【図２】 本発明で用いられるインクジェットヘッドの
一例の模式的な断面図である。FIG. 2 is a schematic cross-sectional view of an example of an inkjet head used in the present invention.
【図３】 本発明の太陽電池の製造装置の一例の模式的
な斜視図である。FIG. 3 is a schematic perspective view of an example of a solar cell manufacturing apparatus of the present invention.
【図４】 本発明の太陽電池の製造装置によってドーパ
ント液を塗布した後の基板の一例の模式的な上面図であ
る。FIG. 4 is a schematic top view of an example of a substrate after applying a dopant liquid by the solar cell manufacturing apparatus of the present invention.
【図５】 本発明で用いられる基板の一例の模式的な断
面図である。FIG. 5 is a schematic sectional view of an example of a substrate used in the present invention.
【図６】 従来のスピン塗布法で用いられる基板の模式
的な断面図である。FIG. 6 is a schematic sectional view of a substrate used in a conventional spin coating method.
【図７】 従来のスピン塗布法においてドーパント液を
塗布した直後の基板の模式的な斜視図である。FIG. 7 is a schematic perspective view of a substrate immediately after a dopant liquid is applied in a conventional spin coating method.
【図８】 従来のスピン塗布法における回転中の基板の
模式的な斜視図である。FIG. 8 is a schematic perspective view of a rotating substrate in a conventional spin coating method.
【図９】 従来のスピン塗布法における回転後の基板の
模式的な断面図である。FIG. 9 is a schematic cross-sectional view of a substrate after rotation in a conventional spin coating method.
１ インキチャンバ、２ 圧電素子板、３ ノズル、４
テーパ部の傾斜角、５,１５ 基板、６,１６ ドーパ
ント液、７ 基板チャック、８ インクジェットヘッ
ド、９ 基板形状測定装置、１０ 塗布領域。1 Ink chamber, 2 Piezoelectric element plate, 3 nozzles, 4
Inclination angle of taper part, 5,15 substrate, 6,16 dopant liquid, 7 substrate chuck, 8 inkjet head, 9 substrate shape measuring device, 10 coating area.
Claims (5)
ーパント液を塗布する手段を備えた太陽電池の製造装置
であって、前記ドーパント液を塗布する際のドーパント
液の粘度ｎ（ｍＮｓ／ｍ2）によってインクジェットヘ
ッドノズルの傾斜角であるテーパ角ｄ（°）が、式０．
４８×ｎ−０．０６≦ｄ≦０．８９×ｎ＋６．２７にて
規定されることを特徴とする太陽電池の製造装置。1. An apparatus for manufacturing a solar cell, which comprises means for applying a dopant solution onto a substrate by an inkjet method, wherein the inkjet method is based on the viscosity n (mNs / m 2 ) of the dopant solution when the dopant solution is applied. The taper angle d (°), which is the inclination angle of the head nozzle, is calculated by the equation 0.
48 × n−0.06 ≦ d ≦ 0.89 × n + 6.27 The solar cell manufacturing apparatus is characterized by the following.
の粘度ｎ（ｍＮｓ／ｍ2）によって、式０．４８×ｎ−
０．０６≦ｄ≦０．４８×ｎ＋２．５９にて規定される
ことを特徴とする請求項１に記載の太陽電池の製造装
置。2. The taper angle d (°) is determined by the equation 0.48 × n− depending on the viscosity n (mNs / m 2 ) of the dopant liquid.
The solar cell manufacturing apparatus according to claim 1, wherein 0.06 ≦ d ≦ 0.48 × n + 2.59.
2）が１以上５以下であることを特徴とする請求項１に
記載の太陽電池の製造装置。3. The viscosity n (mNs / m) of the dopant liquid
2 ) is 1 or more and 5 or less, The manufacturing apparatus of the solar cell of Claim 1 characterized by the above-mentioned.
持し基板を進行させる基板チャックと、基板の外形寸法
を測定してインクジェットヘッドにその情報を伝達する
基板形状測定装置とを具備することを特徴とする請求項
１に記載の太陽電池の製造装置。4. An inkjet head, a substrate chuck for holding the substrate and advancing the substrate, and a substrate shape measuring device for measuring an outer dimension of the substrate and transmitting the information to the inkjet head. The solar cell manufacturing apparatus according to claim 1.
用いて、基板上にドーパント液を塗布する工程を含むこ
とを特徴とする太陽電池の製造方法。5. A method of manufacturing a solar cell, comprising the step of applying a dopant liquid onto a substrate using the apparatus for manufacturing a solar cell according to claim 1.
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- 2002-05-16 JP JP2002141209A patent/JP2003332606A/en not_active Withdrawn
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