JP2003282246A - デバイスの製造方法及び製造装置、有機エレクトロルミネッセンス装置の製造方法及び製造装置、デバイス及び有機エレクトロルミネッセンス装置、電子機器 - Google Patents
デバイスの製造方法及び製造装置、有機エレクトロルミネッセンス装置の製造方法及び製造装置、デバイス及び有機エレクトロルミネッセンス装置、電子機器Info
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- JP2003282246A JP2003282246A JP2002079525A JP2002079525A JP2003282246A JP 2003282246 A JP2003282246 A JP 2003282246A JP 2002079525 A JP2002079525 A JP 2002079525A JP 2002079525 A JP2002079525 A JP 2002079525A JP 2003282246 A JP2003282246 A JP 2003282246A
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- JP
- Japan
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- liquid material
- ink
- tank
- chamber
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Abstract
(57)【要約】
【課題】 インク中に含まれているガスを除いてノズル
抜けなどの発生を防止し、安定したインク吐出動作を実
現することにより所望の精度を有するデバイスを製造で
きるデバイスの製造装置を提供する。 【解決手段】 デバイス製造装置であるインクジェット
装置IJは、基板Pに対してインクを吐出可能なインク
ジェットヘッド20と、インクジェットヘッド20にパ
イプ81を介して接続可能に設けられ、インクを収容す
るタンク80と、タンク80を収容するチャンバ82
と、チャンバ82内を大気圧より減圧することにより、
タンク80に収容されているインク中に含まれているガ
スを除く脱気装置83とを備えている。
抜けなどの発生を防止し、安定したインク吐出動作を実
現することにより所望の精度を有するデバイスを製造で
きるデバイスの製造装置を提供する。 【解決手段】 デバイス製造装置であるインクジェット
装置IJは、基板Pに対してインクを吐出可能なインク
ジェットヘッド20と、インクジェットヘッド20にパ
イプ81を介して接続可能に設けられ、インクを収容す
るタンク80と、タンク80を収容するチャンバ82
と、チャンバ82内を大気圧より減圧することにより、
タンク80に収容されているインク中に含まれているガ
スを除く脱気装置83とを備えている。
Description
【0001】
【発明の属する技術分野】本発明は、液滴吐出ヘッドを
用いたデバイスの製造方法及び製造装置、有機エレクト
ロルミネッセンス装置の製造方法及び製造装置に関する
ものである。
用いたデバイスの製造方法及び製造装置、有機エレクト
ロルミネッセンス装置の製造方法及び製造装置に関する
ものである。
【0002】
【従来の技術】従来より、半導体集積回路等の微細な配
線パターンを有するデバイス製造方法としてフォトリソ
グラフィー法が多用されているが、近年において、イン
クジェット方式を用いたデバイスの製造方法が注目され
ている。特開平11−274671号公報にはインクジ
ェット方式を用いた電気回路の製造方法に関する技術が
開示されている。上記公報に開示されている技術は、パ
ターン形成面にパターン形成用材料を含んだ流動体をイ
ンクジェットヘッドから吐出することによって電気回路
を形成するものであり、少量多種生産に対応可能である
点などにおいて大変有効である。
線パターンを有するデバイス製造方法としてフォトリソ
グラフィー法が多用されているが、近年において、イン
クジェット方式を用いたデバイスの製造方法が注目され
ている。特開平11−274671号公報にはインクジ
ェット方式を用いた電気回路の製造方法に関する技術が
開示されている。上記公報に開示されている技術は、パ
ターン形成面にパターン形成用材料を含んだ流動体をイ
ンクジェットヘッドから吐出することによって電気回路
を形成するものであり、少量多種生産に対応可能である
点などにおいて大変有効である。
【0003】
【発明が解決しようとする課題】ところで、インク中に
微小な気泡があると、インクを流路を介してインクジェ
ットヘッドに送るときにこの気泡が流路抵抗となる場合
があり、吐出動作を不安定にする。また、インク吐出時
においてインクジェットヘッドは加圧及び減圧を多数回
繰り返すが、これによりインク中に含まれるガスがイン
クジェットヘッドに滞留する場合があるため、この滞留
したガスによりインクが所望の状態で吐出されない状態
(いわゆるノズル抜け)が発生する。この場合、所望の
精度を有するデバイスが製造できなくなる。
微小な気泡があると、インクを流路を介してインクジェ
ットヘッドに送るときにこの気泡が流路抵抗となる場合
があり、吐出動作を不安定にする。また、インク吐出時
においてインクジェットヘッドは加圧及び減圧を多数回
繰り返すが、これによりインク中に含まれるガスがイン
クジェットヘッドに滞留する場合があるため、この滞留
したガスによりインクが所望の状態で吐出されない状態
(いわゆるノズル抜け)が発生する。この場合、所望の
精度を有するデバイスが製造できなくなる。
【0004】本発明はこのような事情に鑑みてなされた
もので、インク中に含まれているガスを除いてノズル抜
けなどの発生を防止し、安定したインク吐出動作を実現
することにより所望の精度を有するデバイスを製造でき
るデバイスの製造方法及び製造装置、有機エレクトロル
ミネッセンス装置の製造方法及び製造装置を提供するこ
とを目的とする。
もので、インク中に含まれているガスを除いてノズル抜
けなどの発生を防止し、安定したインク吐出動作を実現
することにより所望の精度を有するデバイスを製造でき
るデバイスの製造方法及び製造装置、有機エレクトロル
ミネッセンス装置の製造方法及び製造装置を提供するこ
とを目的とする。
【0005】
【課題を解決するための手段】上記の課題を解決するた
め、本発明のデバイスの製造方法は、基板に対して液滴
吐出ヘッドより液体材料を吐出する工程を有するデバイ
スの製造方法において、前記液滴吐出ヘッドに供給する
液体材料をタンクに収容し、前記タンクをチャンバ内に
設け、該チャンバ内を大気圧より減圧することにより前
記液体材料中に含まれているガスを除いてから、該液体
材料を前記液滴吐出ヘッドに供給し、前記吐出を行うこ
とを特徴とする。
め、本発明のデバイスの製造方法は、基板に対して液滴
吐出ヘッドより液体材料を吐出する工程を有するデバイ
スの製造方法において、前記液滴吐出ヘッドに供給する
液体材料をタンクに収容し、前記タンクをチャンバ内に
設け、該チャンバ内を大気圧より減圧することにより前
記液体材料中に含まれているガスを除いてから、該液体
材料を前記液滴吐出ヘッドに供給し、前記吐出を行うこ
とを特徴とする。
【0006】本発明によれば、液体材料をタンクに収容
し、このタンクをチャンバ内に設け、チャンバ内を大気
圧より減圧することにより、液体材料中に含まれるガス
を取り除くことができる。そして、ガスを取り除かれた
液体材料を液滴吐出ヘッドから吐出することにより、ノ
ズル抜けなどといった不具合の発生を防止しつつ安定し
た吐出動作を実現できる。したがって、パターンを所望
の精度で形成できる。
し、このタンクをチャンバ内に設け、チャンバ内を大気
圧より減圧することにより、液体材料中に含まれるガス
を取り除くことができる。そして、ガスを取り除かれた
液体材料を液滴吐出ヘッドから吐出することにより、ノ
ズル抜けなどといった不具合の発生を防止しつつ安定し
た吐出動作を実現できる。したがって、パターンを所望
の精度で形成できる。
【0007】本発明のデバイスの製造方法において、前
記タンク内に多孔質無機材料を設け、前記減圧する構成
が採用される。これにより、多孔質無機材料の作用によ
って、液体材料中に含まれているガスを効果的に取り除
くことができる。ここで、多孔質無機材料としては、沸
騰石やモレキュラーシーブスなどが挙げられる。
記タンク内に多孔質無機材料を設け、前記減圧する構成
が採用される。これにより、多孔質無機材料の作用によ
って、液体材料中に含まれているガスを効果的に取り除
くことができる。ここで、多孔質無機材料としては、沸
騰石やモレキュラーシーブスなどが挙げられる。
【0008】本発明のデバイスの製造方法において、前
記チャンバ内を、前記液体材料に対して不活性なガスで
満たす構成が採用される。これにより、液体材料中に含
まれる物質の組成を変化させることなく、所望の性能を
有するデバイスを製造できる。
記チャンバ内を、前記液体材料に対して不活性なガスで
満たす構成が採用される。これにより、液体材料中に含
まれる物質の組成を変化させることなく、所望の性能を
有するデバイスを製造できる。
【0009】本発明のデバイスの製造方法において、前
記基板に対して有機エレクトロルミネッセンス装置形成
用材料を吐出する構成が採用される。これにより、有機
エレクトロルミネッセンス装置を精度良く製造できる。
記基板に対して有機エレクトロルミネッセンス装置形成
用材料を吐出する構成が採用される。これにより、有機
エレクトロルミネッセンス装置を精度良く製造できる。
【0010】本発明のデバイスの製造装置は、基板に対
して液体材料を吐出可能な液滴吐出ヘッドを有するデバ
イスの製造装置において、前記液滴吐出ヘッドに流路を
介して接続可能に設けられ、前記液体材料を収容するタ
ンクと、前記タンクを収容するチャンバと、前記チャン
バ内を大気圧より減圧することにより、前記タンクに収
容されている前記液体材料中に含まれているガスを除く
脱気装置とを備えることを特徴とする。
して液体材料を吐出可能な液滴吐出ヘッドを有するデバ
イスの製造装置において、前記液滴吐出ヘッドに流路を
介して接続可能に設けられ、前記液体材料を収容するタ
ンクと、前記タンクを収容するチャンバと、前記チャン
バ内を大気圧より減圧することにより、前記タンクに収
容されている前記液体材料中に含まれているガスを除く
脱気装置とを備えることを特徴とする。
【0011】本発明によれば、液体材料をタンクに収容
し、このタンクをチャンバ内に設け、チャンバ内を脱気
装置で大気圧より減圧することにより、液体材料中に含
まれるガスを取り除くことができる。そして、ガスを取
り除かれた液体材料を液滴吐出ヘッドから吐出すること
により、ノズル抜けなどといった不具合の発生を防止し
つつ安定した吐出動作を実現できる。したがって、パタ
ーンを所望の精度で形成できる。
し、このタンクをチャンバ内に設け、チャンバ内を脱気
装置で大気圧より減圧することにより、液体材料中に含
まれるガスを取り除くことができる。そして、ガスを取
り除かれた液体材料を液滴吐出ヘッドから吐出すること
により、ノズル抜けなどといった不具合の発生を防止し
つつ安定した吐出動作を実現できる。したがって、パタ
ーンを所望の精度で形成できる。
【0012】本発明のデバイスの製造装置において、前
記タンク内には多孔質無機材料が設けられている構成が
採用される。これにより、多孔質無機材料の作用によっ
て、液体材料中に含まれているガスを効果的に取り除く
ことができる。
記タンク内には多孔質無機材料が設けられている構成が
採用される。これにより、多孔質無機材料の作用によっ
て、液体材料中に含まれているガスを効果的に取り除く
ことができる。
【0013】本発明のデバイスの製造装置において、前
記チャンバ内に、前記液体材料に対して不活性なガスを
供給する不活性ガス供給装置を備える構成が採用され
る。これにより、液体材料中に含まれる物質の組成を変
化させることなく、所望の性能を有するデバイスを製造
できる。
記チャンバ内に、前記液体材料に対して不活性なガスを
供給する不活性ガス供給装置を備える構成が採用され
る。これにより、液体材料中に含まれる物質の組成を変
化させることなく、所望の性能を有するデバイスを製造
できる。
【0014】本発明のデバイスの製造装置において、前
記タンクは、有機エレクトロルミネッセンス装置形成用
材料を収容する構成が採用される。これにより、有機エ
レクトロルミネッセンス装置を精度良く製造できる。
記タンクは、有機エレクトロルミネッセンス装置形成用
材料を収容する構成が採用される。これにより、有機エ
レクトロルミネッセンス装置を精度良く製造できる。
【0015】本発明の有機エレクトロルミネッセンス装
置の製造方法は、基板に対して液滴吐出ヘッドより有機
エレクトロルミネッセンス材料を含む液体材料を吐出す
る工程を有する有機エレクトロルミネッセンス装置の製
造方法において、前記吐出する前に、前記液体材料中に
含まれているガスを除く脱気工程を有することを特徴と
する。
置の製造方法は、基板に対して液滴吐出ヘッドより有機
エレクトロルミネッセンス材料を含む液体材料を吐出す
る工程を有する有機エレクトロルミネッセンス装置の製
造方法において、前記吐出する前に、前記液体材料中に
含まれているガスを除く脱気工程を有することを特徴と
する。
【0016】本発明によれば、液滴吐出ヘッドから液体
材料を吐出する前に、液体材料中に含まれるガスを取り
除くことにより、液体材料を液滴吐出ヘッドから吐出す
る際、ノズル抜けなどといった不具合の発生を防止しつ
つ安定した吐出動作を実現できる。したがって、所望の
性能を有する有機エレクトロルミネッセンス装置を製造
できる。
材料を吐出する前に、液体材料中に含まれるガスを取り
除くことにより、液体材料を液滴吐出ヘッドから吐出す
る際、ノズル抜けなどといった不具合の発生を防止しつ
つ安定した吐出動作を実現できる。したがって、所望の
性能を有する有機エレクトロルミネッセンス装置を製造
できる。
【0017】本発明の有機エレクトロルミネッセンス装
置の製造装置は、基板に対して有機エレクトロルミネッ
センス材料を含む液体材料を吐出可能な液滴吐出ヘッド
を有する有機エレクトロルミネッセンス装置の製造装置
において、前記液体材料中に含まれているガスを除く脱
気装置を備えることを特徴とする。
置の製造装置は、基板に対して有機エレクトロルミネッ
センス材料を含む液体材料を吐出可能な液滴吐出ヘッド
を有する有機エレクトロルミネッセンス装置の製造装置
において、前記液体材料中に含まれているガスを除く脱
気装置を備えることを特徴とする。
【0018】本発明によれば、液滴吐出ヘッドから液体
材料を吐出する前に、液体材料中に含まれるガスを脱気
装置で取り除くことにより、液体材料を液滴吐出ヘッド
から吐出する際、ノズル抜けなどといった不具合の発生
を防止しつつ安定した吐出動作を実現できる。したがっ
て、所望の性能を有する有機エレクトロルミネッセンス
装置を製造できる。
材料を吐出する前に、液体材料中に含まれるガスを脱気
装置で取り除くことにより、液体材料を液滴吐出ヘッド
から吐出する際、ノズル抜けなどといった不具合の発生
を防止しつつ安定した吐出動作を実現できる。したがっ
て、所望の性能を有する有機エレクトロルミネッセンス
装置を製造できる。
【0019】本発明のデバイスは、上記記載のデバイス
の製造装置で製造されたことを特徴とする。また、本発
明の有機エレクトロルミネッセンス装置は、上記記載の
有機エレクトロルミネッセンス装置の製造装置で製造さ
れたことを特徴とする。本発明によれば、精度良いパタ
ーンで形成されたことにより所望の性能を有するデバイ
ス及び有機エレクトロルミネッセンス装置が提供でき
る。
の製造装置で製造されたことを特徴とする。また、本発
明の有機エレクトロルミネッセンス装置は、上記記載の
有機エレクトロルミネッセンス装置の製造装置で製造さ
れたことを特徴とする。本発明によれば、精度良いパタ
ーンで形成されたことにより所望の性能を有するデバイ
ス及び有機エレクトロルミネッセンス装置が提供でき
る。
【0020】本発明の電子機器は、上記記載のデバイス
を備えたことを特徴とする。また、本発明の電子機器
は、上記記載の有機エレクトロルミネッセンス装置を備
えたことを特徴とする。本発明によれば、所望の性能を
有した薄型の電子機器を得ることができる。
を備えたことを特徴とする。また、本発明の電子機器
は、上記記載の有機エレクトロルミネッセンス装置を備
えたことを特徴とする。本発明によれば、所望の性能を
有した薄型の電子機器を得ることができる。
【0021】ここで、液滴吐出ヘッドは、インクジェッ
トヘッドを含む。インクジェット方式としては、圧電体
素子の体積変化により液体材料を吐出させるピエゾジェ
ット方式であっても、エネルギー発生素子として電気熱
変換体を用いた方式であってもよい。パターンを形成す
る液滴吐出ヘッドとしてインクジェット方式を採用する
ことにより、安価な設備でパターン形成領域の任意の場
所に任意の厚さで液体材料を設けることができる。な
お、液滴吐出装置としてはディスペンサー装置でもよ
い。
トヘッドを含む。インクジェット方式としては、圧電体
素子の体積変化により液体材料を吐出させるピエゾジェ
ット方式であっても、エネルギー発生素子として電気熱
変換体を用いた方式であってもよい。パターンを形成す
る液滴吐出ヘッドとしてインクジェット方式を採用する
ことにより、安価な設備でパターン形成領域の任意の場
所に任意の厚さで液体材料を設けることができる。な
お、液滴吐出装置としてはディスペンサー装置でもよ
い。
【0022】液体材料(流動体)とは、液滴吐出ヘッド
のノズルから吐出可能な粘度を備えた媒体をいう。水性
であると油性であるとを問わない。ノズル等から吐出可
能な流動性(粘度)を備えていれば十分で、固体物質が
混入していても全体として流動体であればよい。また、
液体材料に含まれる固体物質は融点以上に加熱されて溶
解されたものでも、溶媒中に微粒子として分散させたも
のでもよく、溶媒の他に染料や顔料その他の機能性材料
を添加したものであってもよい。また、パターン形成領
域とは、フラット基板の表面を指す他、曲面状の基板で
あってもよい。さらにパターン形成面の硬度が硬い必要
はなく、フィルム、紙、ゴム等可撓性を有するものの表
面であってもよい。
のノズルから吐出可能な粘度を備えた媒体をいう。水性
であると油性であるとを問わない。ノズル等から吐出可
能な流動性(粘度)を備えていれば十分で、固体物質が
混入していても全体として流動体であればよい。また、
液体材料に含まれる固体物質は融点以上に加熱されて溶
解されたものでも、溶媒中に微粒子として分散させたも
のでもよく、溶媒の他に染料や顔料その他の機能性材料
を添加したものであってもよい。また、パターン形成領
域とは、フラット基板の表面を指す他、曲面状の基板で
あってもよい。さらにパターン形成面の硬度が硬い必要
はなく、フィルム、紙、ゴム等可撓性を有するものの表
面であってもよい。
【0023】
【発明の実施の形態】以下、本発明のデバイスの製造装
置について図面を参照しながら説明する。図1は本発明
のデバイスの製造装置の一実施形態を示す図であって、
インクジェットヘッド(液滴吐出ヘッド)を有するイン
クジェット装置(液滴吐出装置)を示す概略斜視図であ
る。
置について図面を参照しながら説明する。図1は本発明
のデバイスの製造装置の一実施形態を示す図であって、
インクジェットヘッド(液滴吐出ヘッド)を有するイン
クジェット装置(液滴吐出装置)を示す概略斜視図であ
る。
【0024】図1において、インクジェット装置IJ
は、ベース12と、ベース12上に設けられ、基板Pを
支持するステージSTと、ベース12とステージSTと
の間に介在し、ステージSTを移動可能に支持する第1
移動装置14と、ステージSTに支持されている基板P
に対して所定の材料を含むインク(液体材料、流動体)
を吐出可能なインクジェットヘッド20と、インクジェ
ットヘッド20を移動可能に支持する第2移動装置16
と、インクジェットヘッド20のインクの吐出動作を制
御する制御装置CONTとを備えている。本実施形態に
おいて、インクは有機エレクトロルミネッセンス材料と
所定の溶媒とバインダー樹脂とを合わせたものである。
更に、インクジェット装置IJは、ベース12上に設け
られている重量測定装置としての電子天秤(不図示)
と、キャッピングユニット22と、クリーニングユニッ
ト24とを有している。また、第1移動装置14及び第
2移動装置16を含むインクジェット装置IJの動作
は、制御装置CONTによって制御される。
は、ベース12と、ベース12上に設けられ、基板Pを
支持するステージSTと、ベース12とステージSTと
の間に介在し、ステージSTを移動可能に支持する第1
移動装置14と、ステージSTに支持されている基板P
に対して所定の材料を含むインク(液体材料、流動体)
を吐出可能なインクジェットヘッド20と、インクジェ
ットヘッド20を移動可能に支持する第2移動装置16
と、インクジェットヘッド20のインクの吐出動作を制
御する制御装置CONTとを備えている。本実施形態に
おいて、インクは有機エレクトロルミネッセンス材料と
所定の溶媒とバインダー樹脂とを合わせたものである。
更に、インクジェット装置IJは、ベース12上に設け
られている重量測定装置としての電子天秤(不図示)
と、キャッピングユニット22と、クリーニングユニッ
ト24とを有している。また、第1移動装置14及び第
2移動装置16を含むインクジェット装置IJの動作
は、制御装置CONTによって制御される。
【0025】第1移動装置14はベース12の上に設置
されており、Y軸方向に沿って位置決めされている。第
2移動装置16は、支柱16A,16Aを用いてベース
12に対して立てて取り付けられており、ベース12の
後部12Aにおいて取り付けられている。第2移動装置
16のX軸方向は、第1移動装置14のY軸方向と直交
する方向である。ここで、Y軸方向はベース12の前部
12Bと後部12A方向に沿った方向である。これに対
してX軸方向はベース12の左右方向に沿った方向であ
り、各々水平である。また、Z軸方向はX軸方向及びY
軸方向に垂直な方向である。
されており、Y軸方向に沿って位置決めされている。第
2移動装置16は、支柱16A,16Aを用いてベース
12に対して立てて取り付けられており、ベース12の
後部12Aにおいて取り付けられている。第2移動装置
16のX軸方向は、第1移動装置14のY軸方向と直交
する方向である。ここで、Y軸方向はベース12の前部
12Bと後部12A方向に沿った方向である。これに対
してX軸方向はベース12の左右方向に沿った方向であ
り、各々水平である。また、Z軸方向はX軸方向及びY
軸方向に垂直な方向である。
【0026】第1移動装置14は、例えばリニアモータ
によって構成され、ガイドレール40、40と、このガ
イドレール40に沿って移動可能に設けられているスラ
イダー42とを備えている。このリニアモータ形式の第
1移動装置14のスライダー42は、ガイドレール40
に沿ってY軸方向に移動して位置決め可能である。
によって構成され、ガイドレール40、40と、このガ
イドレール40に沿って移動可能に設けられているスラ
イダー42とを備えている。このリニアモータ形式の第
1移動装置14のスライダー42は、ガイドレール40
に沿ってY軸方向に移動して位置決め可能である。
【0027】また、スライダー42はZ軸回り(θZ)
用のモータ44を備えている。このモータ44は、例え
ばダイレクトドライブモータであり、モータ44のロー
タはステージSTに固定されている。これにより、モー
タ44に通電することでロータとステージSTとは、θ
Z方向に沿って回転してステージSTをインデックス
(回転割り出し)することができる。すなわち、第1移
動装置14は、ステージSTをY軸方向及びθZ方向に
移動可能である。
用のモータ44を備えている。このモータ44は、例え
ばダイレクトドライブモータであり、モータ44のロー
タはステージSTに固定されている。これにより、モー
タ44に通電することでロータとステージSTとは、θ
Z方向に沿って回転してステージSTをインデックス
(回転割り出し)することができる。すなわち、第1移
動装置14は、ステージSTをY軸方向及びθZ方向に
移動可能である。
【0028】ステージSTは基板Pを保持し、所定の位
置に位置決めするものである。また、ステージSTは吸
着保持装置50を有しており、吸着保持装置50が作動
することにより、ステージSTの穴46Aを通して基板
PをステージSTの上に吸着して保持する。
置に位置決めするものである。また、ステージSTは吸
着保持装置50を有しており、吸着保持装置50が作動
することにより、ステージSTの穴46Aを通して基板
PをステージSTの上に吸着して保持する。
【0029】第2移動装置16はリニアモータによって
構成され、支柱16A,16Aに固定されたコラム16
Bと、このコラム16Bに支持されているガイドレール
62Aと、ガイドレール62Aに沿ってX軸方向に移動
可能に支持されているスライダー60とを備えている。
スライダー60はガイドレール62Aに沿ってX軸方向
に移動して位置決め可能であり、インクジェットヘッド
20はスライダー60に取り付けられている。
構成され、支柱16A,16Aに固定されたコラム16
Bと、このコラム16Bに支持されているガイドレール
62Aと、ガイドレール62Aに沿ってX軸方向に移動
可能に支持されているスライダー60とを備えている。
スライダー60はガイドレール62Aに沿ってX軸方向
に移動して位置決め可能であり、インクジェットヘッド
20はスライダー60に取り付けられている。
【0030】インクジェットヘッド20は、揺動位置決
め装置としてのモータ62,64,66,68を有して
いる。モータ62を作動すれば、インクジェットヘッド
20は、Z軸に沿って上下動して位置決め可能である。
このZ軸はX軸とY軸に対して各々直交する方向(上下
方向)である。モータ64を作動すると、インクジェッ
トヘッド20は、Y軸回りのβ方向に沿って揺動して位
置決め可能である。モータ66を作動すると、インクジ
ェットヘッド20は、X軸回りのγ方向に揺動して位置
決め可能である。モータ68を作動すると、インクジェ
ットヘッド20は、Z軸回りのα方向に揺動して位置決
め可能である。すなわち、第2移動装置16は、インク
ジェットヘッド20をX軸方向及びZ軸方向に移動可能
に支持するとともに、このインクジェットヘッド20を
θX方向(X軸回り)、θY方向(Y軸回り)、θZ方
向(Z軸回り)に移動可能に支持する。
め装置としてのモータ62,64,66,68を有して
いる。モータ62を作動すれば、インクジェットヘッド
20は、Z軸に沿って上下動して位置決め可能である。
このZ軸はX軸とY軸に対して各々直交する方向(上下
方向)である。モータ64を作動すると、インクジェッ
トヘッド20は、Y軸回りのβ方向に沿って揺動して位
置決め可能である。モータ66を作動すると、インクジ
ェットヘッド20は、X軸回りのγ方向に揺動して位置
決め可能である。モータ68を作動すると、インクジェ
ットヘッド20は、Z軸回りのα方向に揺動して位置決
め可能である。すなわち、第2移動装置16は、インク
ジェットヘッド20をX軸方向及びZ軸方向に移動可能
に支持するとともに、このインクジェットヘッド20を
θX方向(X軸回り)、θY方向(Y軸回り)、θZ方
向(Z軸回り)に移動可能に支持する。
【0031】このように、図1のインクジェットヘッド
20は、スライダー60において、Z軸方向に直線移動
して位置決め可能で、α、β、γに沿って揺動して位置
決め可能であり、インクジェットヘッド20のインク吐
出面20Pは、ステージST側の基板Pに対して正確に
位置あるいは姿勢をコントロールすることができる。な
お、インクジェットヘッド20のインク吐出面20Pに
はインクを吐出する複数のノズルが設けられている。
20は、スライダー60において、Z軸方向に直線移動
して位置決め可能で、α、β、γに沿って揺動して位置
決め可能であり、インクジェットヘッド20のインク吐
出面20Pは、ステージST側の基板Pに対して正確に
位置あるいは姿勢をコントロールすることができる。な
お、インクジェットヘッド20のインク吐出面20Pに
はインクを吐出する複数のノズルが設けられている。
【0032】図2はインクジェットヘッド20を示す分
解斜視図である。図2に示すように、インクジェットヘ
ッド20は、ノズル211が設けられたノズルプレート
210及び振動板230が設けられた圧力室基板220
を、筐体250に嵌め込んで構成されている。このイン
クジェットヘッド20の主要部構造は、図3の斜視図一
部断面図に示すように、圧力室基板220をノズルプレ
ート210と振動板230で挟み込んだ構造を備える。
ノズルプレート210は、圧力室基板220と貼り合わ
せられたときにキャビティ(圧力室)221に対応する
こととなる位置にノズル211が形成されている。圧力
室基板220には、シリコン単結晶基板等をエッチング
することにより、各々が圧力室として機能可能にキャビ
ティ221が複数設けられている。キャビティ221間
は側壁(隔壁)222で分離されている。各キャビティ
221は供給口224を介して共通の流路であるリザー
バ223に繋がっている。振動板230は、例えば熱酸
化膜等により構成される。振動板230にはインクタン
ク口231が設けられ、後述するタンク80から流路で
あるパイプ81を通して任意のインクを供給可能に構成
されている。振動板230上のキャビティ221に相当
する位置には、圧電体素子240が形成されている。圧
電体素子240は、PZT素子等の圧電性セラミックス
の結晶を上部電極および下部電極(図示せず)で挟んだ
構造を備える。圧電体素子240は、制御装置CONT
から供給される吐出信号に対応して体積変化を生ずるこ
とが可能に構成されている。
解斜視図である。図2に示すように、インクジェットヘ
ッド20は、ノズル211が設けられたノズルプレート
210及び振動板230が設けられた圧力室基板220
を、筐体250に嵌め込んで構成されている。このイン
クジェットヘッド20の主要部構造は、図3の斜視図一
部断面図に示すように、圧力室基板220をノズルプレ
ート210と振動板230で挟み込んだ構造を備える。
ノズルプレート210は、圧力室基板220と貼り合わ
せられたときにキャビティ(圧力室)221に対応する
こととなる位置にノズル211が形成されている。圧力
室基板220には、シリコン単結晶基板等をエッチング
することにより、各々が圧力室として機能可能にキャビ
ティ221が複数設けられている。キャビティ221間
は側壁(隔壁)222で分離されている。各キャビティ
221は供給口224を介して共通の流路であるリザー
バ223に繋がっている。振動板230は、例えば熱酸
化膜等により構成される。振動板230にはインクタン
ク口231が設けられ、後述するタンク80から流路で
あるパイプ81を通して任意のインクを供給可能に構成
されている。振動板230上のキャビティ221に相当
する位置には、圧電体素子240が形成されている。圧
電体素子240は、PZT素子等の圧電性セラミックス
の結晶を上部電極および下部電極(図示せず)で挟んだ
構造を備える。圧電体素子240は、制御装置CONT
から供給される吐出信号に対応して体積変化を生ずるこ
とが可能に構成されている。
【0033】インクジェットヘッド20からインクを吐
出するには、まず、制御装置CONTがインクを吐出さ
せるための吐出信号をインクジェットヘッド20に供給
する。インクはインクジェットヘッド20のキャビティ
221に流入しており、吐出信号が供給されたインクジ
ェットヘッド20では、その圧電体素子240がその上
部電極と下部電極との間に加えられた電圧により体積変
化を生ずる。この体積変化は振動板230を変形させ、
キャビティ221の体積を変化させる。この結果、その
キャビティ221のノズル穴211からインクの液滴が
吐出される。インクが吐出されたキャビティ221には
吐出によって減ったインクが新たにタンクから供給され
る。
出するには、まず、制御装置CONTがインクを吐出さ
せるための吐出信号をインクジェットヘッド20に供給
する。インクはインクジェットヘッド20のキャビティ
221に流入しており、吐出信号が供給されたインクジ
ェットヘッド20では、その圧電体素子240がその上
部電極と下部電極との間に加えられた電圧により体積変
化を生ずる。この体積変化は振動板230を変形させ、
キャビティ221の体積を変化させる。この結果、その
キャビティ221のノズル穴211からインクの液滴が
吐出される。インクが吐出されたキャビティ221には
吐出によって減ったインクが新たにタンクから供給され
る。
【0034】なお、上記インクジェットヘッドは圧電体
素子に体積変化を生じさせてインクを吐出させる構成で
あったが、発熱体によりインクに熱を加えその膨張によ
って液滴を吐出させるようなヘッド構成であってもよ
い。
素子に体積変化を生じさせてインクを吐出させる構成で
あったが、発熱体によりインクに熱を加えその膨張によ
って液滴を吐出させるようなヘッド構成であってもよ
い。
【0035】電子天秤(不図示)は、インクジェットヘ
ッド20のノズルから吐出されたインク滴の一滴の重量
を測定して管理するために、例えば、インクジェットヘ
ッド20のノズルから、5000滴分のインク滴を受け
る。電子天秤は、この5000滴のインク滴の重量を5
000の数字とノズル数で割ることにより、1ノズルあ
たり一滴のインク滴の重量を正確に測定することができ
る。このインク滴の測定量に基づいて、インクジェット
ヘッド20から吐出するインク滴の量を最適にコントロ
ールすることができる。
ッド20のノズルから吐出されたインク滴の一滴の重量
を測定して管理するために、例えば、インクジェットヘ
ッド20のノズルから、5000滴分のインク滴を受け
る。電子天秤は、この5000滴のインク滴の重量を5
000の数字とノズル数で割ることにより、1ノズルあ
たり一滴のインク滴の重量を正確に測定することができ
る。このインク滴の測定量に基づいて、インクジェット
ヘッド20から吐出するインク滴の量を最適にコントロ
ールすることができる。
【0036】クリーニングユニット24は、インクジェ
ットヘッド20のノズル等のクリーニングをデバイス製
造工程中や待機時に定期的にあるいは随時に行うことが
できる。キャッピングユニット22は、インクジェット
ヘッド20のインク吐出面20Pが乾燥しないようにす
るために、デバイスを製造しない待機時にこのインク吐
出面20Pにキャップをかぶせるものである。
ットヘッド20のノズル等のクリーニングをデバイス製
造工程中や待機時に定期的にあるいは随時に行うことが
できる。キャッピングユニット22は、インクジェット
ヘッド20のインク吐出面20Pが乾燥しないようにす
るために、デバイスを製造しない待機時にこのインク吐
出面20Pにキャップをかぶせるものである。
【0037】インクジェットヘッド20が第2移動装置
16によりX軸方向に移動することで、インクジェット
ヘッド20を電子天秤、クリーニングユニット24ある
いはキャッピングユニット22の上部に選択的に位置決
めさせることができる。つまり、デバイス製造作業の途
中であっても、インクジェットヘッド20をたとえば電
子天秤側に移動すれば、インク滴の重量を測定できる。
またインクジェットヘッド20をクリーニングユニット
24上に移動すれば、インクジェットヘッド20のクリ
ーニングを行うことができる。インクジェットヘッド2
0をキャッピングユニット22の上に移動すれば、イン
クジェットヘッド20のインク吐出面20Pにキャップ
を取り付けて乾燥を防止する。
16によりX軸方向に移動することで、インクジェット
ヘッド20を電子天秤、クリーニングユニット24ある
いはキャッピングユニット22の上部に選択的に位置決
めさせることができる。つまり、デバイス製造作業の途
中であっても、インクジェットヘッド20をたとえば電
子天秤側に移動すれば、インク滴の重量を測定できる。
またインクジェットヘッド20をクリーニングユニット
24上に移動すれば、インクジェットヘッド20のクリ
ーニングを行うことができる。インクジェットヘッド2
0をキャッピングユニット22の上に移動すれば、イン
クジェットヘッド20のインク吐出面20Pにキャップ
を取り付けて乾燥を防止する。
【0038】つまり、これら電子天秤、クリーニングユ
ニット24、およびキャッピングユニット22は、ベー
ス12上の後端側で、インクジェットヘッド20の移動
経路直下に、ステージSTと離間して配置されている。
ステージSTに対する基板Pの搬入作業及び搬出作業は
ベース12の前端側で行われるため、これら電子天秤、
クリーニングユニット24あるいはキャッピングユニッ
ト22により作業に支障を来すことはない。
ニット24、およびキャッピングユニット22は、ベー
ス12上の後端側で、インクジェットヘッド20の移動
経路直下に、ステージSTと離間して配置されている。
ステージSTに対する基板Pの搬入作業及び搬出作業は
ベース12の前端側で行われるため、これら電子天秤、
クリーニングユニット24あるいはキャッピングユニッ
ト22により作業に支障を来すことはない。
【0039】図1に示すように、インクジェットヘッド
20には、パイプ(流路)81を介してインクを収容す
るタンク80が接続されている。タンク80の上部は開
口しており、パイプ81の一端は、この開口を介してタ
ンク80内のインクに接続し、他端はインクジェットヘ
ッド20に接続している。タンク80は、例えばステン
レス鋼など脱ガスの少ない材質によって形成されてい
る。
20には、パイプ(流路)81を介してインクを収容す
るタンク80が接続されている。タンク80の上部は開
口しており、パイプ81の一端は、この開口を介してタ
ンク80内のインクに接続し、他端はインクジェットヘ
ッド20に接続している。タンク80は、例えばステン
レス鋼など脱ガスの少ない材質によって形成されてい
る。
【0040】タンク80はチャンバ82に収容されてい
る。また、チャンバ82には、このチャンバ82内のガ
スを引いてチャンバ82内を大気圧より減圧可能な真空
ポンプ(脱気装置)83が設けられている。チャンバ8
2の天井部には開口部82aが形成されており、パイプ
81は、この開口部82aに嵌合する保持部材84に保
持されている。保持部材84と開口部82aとが嵌合す
ることによりチャンバ82内は略密閉される。
る。また、チャンバ82には、このチャンバ82内のガ
スを引いてチャンバ82内を大気圧より減圧可能な真空
ポンプ(脱気装置)83が設けられている。チャンバ8
2の天井部には開口部82aが形成されており、パイプ
81は、この開口部82aに嵌合する保持部材84に保
持されている。保持部材84と開口部82aとが嵌合す
ることによりチャンバ82内は略密閉される。
【0041】また、チャンバ82には、このチャンバ8
2内に、インクに含まれる所定の材料に対して不活性な
不活性ガスを供給する不活性ガス供給装置85が設けら
れている。本実施形態において、インクは有機エレクト
ロルミネッセンス材料を所定の溶媒で溶解、又は溶媒中
に分散したものであり、不活性ガス供給装置85から
は、チャンバ82内に対して有機エレクトロルミネッセ
ンス材料に対して不活性なガス、例えば窒素ガスが供給
されるようになっている。ここで、インクに用いられて
いる溶媒は、沸点が150℃以上の有機溶媒である。
2内に、インクに含まれる所定の材料に対して不活性な
不活性ガスを供給する不活性ガス供給装置85が設けら
れている。本実施形態において、インクは有機エレクト
ロルミネッセンス材料を所定の溶媒で溶解、又は溶媒中
に分散したものであり、不活性ガス供給装置85から
は、チャンバ82内に対して有機エレクトロルミネッセ
ンス材料に対して不活性なガス、例えば窒素ガスが供給
されるようになっている。ここで、インクに用いられて
いる溶媒は、沸点が150℃以上の有機溶媒である。
【0042】タンク80内には、多孔質無機材料である
沸騰石86が配置されている。この沸騰石86はインク
中に配置されている。
沸騰石86が配置されている。この沸騰石86はインク
中に配置されている。
【0043】次に、上述したインクジェット装置IJを
用いて、ステージSTに支持されている基板Pに対して
インクジェットヘッド20からインクを吐出することに
より、基板P上にパターンを形成する方法について説明
する。
用いて、ステージSTに支持されている基板Pに対して
インクジェットヘッド20からインクを吐出することに
より、基板P上にパターンを形成する方法について説明
する。
【0044】デバイス製造のためのインクを収容したタ
ンク80がチャンバ82内に設置される。ここで、タン
ク80のインク中には沸騰石86が設けられている。そ
して、図4に示すように、チャンバ82の開口部82a
に蓋87が設けられる。このとき、パイプ81を保持す
る保持部材84は開口部82aから取り外されている。
蓋87が開口部82aに設けられることによりチャンバ
82内は密閉される。
ンク80がチャンバ82内に設置される。ここで、タン
ク80のインク中には沸騰石86が設けられている。そ
して、図4に示すように、チャンバ82の開口部82a
に蓋87が設けられる。このとき、パイプ81を保持す
る保持部材84は開口部82aから取り外されている。
蓋87が開口部82aに設けられることによりチャンバ
82内は密閉される。
【0045】次いで、脱気装置としての真空ポンプ83
が駆動し、チャンバ82内のガス(エア)が排気され
る。真空ポンプ83の駆動により、チャンバ82内は大
気圧より減圧される。ここで、真空ポンプ83は、チャ
ンバ82内の圧力を例えば500Pa以下になるように
減圧する。
が駆動し、チャンバ82内のガス(エア)が排気され
る。真空ポンプ83の駆動により、チャンバ82内は大
気圧より減圧される。ここで、真空ポンプ83は、チャ
ンバ82内の圧力を例えば500Pa以下になるように
減圧する。
【0046】タンク80は開口しており、チャンバ82
内が減圧されることによって、インク中に含まれている
ガス(エア)が脱気される。ここで、インク中には沸騰
石86が配置されており、インクの脱気は効果的に行わ
れる。
内が減圧されることによって、インク中に含まれている
ガス(エア)が脱気される。ここで、インク中には沸騰
石86が配置されており、インクの脱気は効果的に行わ
れる。
【0047】真空ポンプ83によってチャンバ82内の
圧力が所定の圧力(例えば150Pa程度)まで低下さ
れたら、真空ポンプ83の駆動が停止される。ついで、
不活性ガス供給装置85からチャンバ82内に不活性ガ
スが供給される。不活性ガスがチャンバ82内に供給さ
れることにより、チャンバ82内は不活性ガスで満たさ
れる。
圧力が所定の圧力(例えば150Pa程度)まで低下さ
れたら、真空ポンプ83の駆動が停止される。ついで、
不活性ガス供給装置85からチャンバ82内に不活性ガ
スが供給される。不活性ガスがチャンバ82内に供給さ
れることにより、チャンバ82内は不活性ガスで満たさ
れる。
【0048】そして、蓋87を開口部82aから外すと
ともに、この開口部82aにパイプ81を保持する保持
部材84を嵌合し、パイプ81の一端をタンク80内の
インクに接続する。
ともに、この開口部82aにパイプ81を保持する保持
部材84を嵌合し、パイプ81の一端をタンク80内の
インクに接続する。
【0049】制御装置CONTは、インクジェットヘッ
ド20を駆動し、脱気されたインクをステージSTに支
持されている基板Pに対して吐出する。
ド20を駆動し、脱気されたインクをステージSTに支
持されている基板Pに対して吐出する。
【0050】以上説明したように、インクをタンク80
に収容し、このタンク80をチャンバ82内に設け、チ
ャンバ82内を減圧することにより、インクを脱気する
ことができる。そして、脱気されたインクをインクジェ
ットヘッド20から吐出することにより、気泡やヘッド
に滞留するガスに起因するノズル抜けなどといった不具
合の発生を防止しつつ安定した吐出動作を実現できる。
に収容し、このタンク80をチャンバ82内に設け、チ
ャンバ82内を減圧することにより、インクを脱気する
ことができる。そして、脱気されたインクをインクジェ
ットヘッド20から吐出することにより、気泡やヘッド
に滞留するガスに起因するノズル抜けなどといった不具
合の発生を防止しつつ安定した吐出動作を実現できる。
【0051】また、脱気処理を行う際、インク中に沸騰
石86を配置することによって、効果的に脱気すること
ができる。ここで、インク中には脱気を促進するととも
にインク組成に影響を与えない多孔質無機材料であれば
よく、モレキュラーシーブスであってもよい。
石86を配置することによって、効果的に脱気すること
ができる。ここで、インク中には脱気を促進するととも
にインク組成に影響を与えない多孔質無機材料であれば
よく、モレキュラーシーブスであってもよい。
【0052】脱気処理としての減圧処理後、チャンバ8
2内を有機エレクトロルミネッセンス材料に対して不活
性な窒素ガスで満たすことにより、有機エレクトロルミ
ネッセンス材料の組成を変化させてしまうといった不具
合の発生を防止できる。なお、本実施形態において、真
空ポンプ83でチャンバ82内のガスを排気した後、不
活性ガス供給装置85からチャンバ82内に対して不活
性ガスを供給するようにしたが、チャンバ82内に不活
性ガスを供給しつつ、真空ポンプ83による排気動作を
行うようにしてもよい。
2内を有機エレクトロルミネッセンス材料に対して不活
性な窒素ガスで満たすことにより、有機エレクトロルミ
ネッセンス材料の組成を変化させてしまうといった不具
合の発生を防止できる。なお、本実施形態において、真
空ポンプ83でチャンバ82内のガスを排気した後、不
活性ガス供給装置85からチャンバ82内に対して不活
性ガスを供給するようにしたが、チャンバ82内に不活
性ガスを供給しつつ、真空ポンプ83による排気動作を
行うようにしてもよい。
【0053】本発明のインクジェット装置(デバイス製
造装置)IJは、有機エレクトロルミネッセンス装置
(有機EL装置)の製造に適用可能である。図5は、有
機EL素子の一例を示す断面図である。図5において、
有機EL素子301は、光を透過可能な基板302と、
基板302の一方の面側に設けられ一対の陰極(電極)
307及び陽極(電極)308に狭持された有機エレク
トロルミネッセンス材料からなる発光層305と正孔輸
送層306とからなる有機EL材料(発光素子)309
と、基板301と有機EL材料309との間に設けられ
ている封止層304とを備えている。
造装置)IJは、有機エレクトロルミネッセンス装置
(有機EL装置)の製造に適用可能である。図5は、有
機EL素子の一例を示す断面図である。図5において、
有機EL素子301は、光を透過可能な基板302と、
基板302の一方の面側に設けられ一対の陰極(電極)
307及び陽極(電極)308に狭持された有機エレク
トロルミネッセンス材料からなる発光層305と正孔輸
送層306とからなる有機EL材料(発光素子)309
と、基板301と有機EL材料309との間に設けられ
ている封止層304とを備えている。
【0054】ここで、図5に示す有機EL素子301
は、発光層305からの発光光を基板302側から装置
外部に取り出す形態であり、基板302の形成材料とし
ては、光を透過可能な透明あるいは半透明材料、例え
ば、透明なガラス、石英、サファイア、あるいはポリエ
ステル、ポリアクリレート、ポリカーボネート、ポリエ
ーテルケトンなどの透明な合成樹脂などが挙げられる。
特に、基板302の形成材料としては、安価なソーダガ
ラスが好適に用いられる。一方、基板と反対側から発光
光を取り出す形態の場合には、基板は不透明であっても
よく、その場合、アルミナ等のセラミック、ステンレス
等の金属シートに表面酸化などの絶縁処理を施したも
の、熱硬化性樹脂、熱可塑性樹脂などを用いることがで
きる。
は、発光層305からの発光光を基板302側から装置
外部に取り出す形態であり、基板302の形成材料とし
ては、光を透過可能な透明あるいは半透明材料、例え
ば、透明なガラス、石英、サファイア、あるいはポリエ
ステル、ポリアクリレート、ポリカーボネート、ポリエ
ーテルケトンなどの透明な合成樹脂などが挙げられる。
特に、基板302の形成材料としては、安価なソーダガ
ラスが好適に用いられる。一方、基板と反対側から発光
光を取り出す形態の場合には、基板は不透明であっても
よく、その場合、アルミナ等のセラミック、ステンレス
等の金属シートに表面酸化などの絶縁処理を施したも
の、熱硬化性樹脂、熱可塑性樹脂などを用いることがで
きる。
【0055】陽極308は、インジウム錫酸化物(IT
O:Indium Tin Oxide)等からなる透明電極であって光
を透過可能である。正孔輸送層306は、例えば、トリ
フェニルアミン誘導体(TPD)、ピラゾリン誘導体、
アリールアミン誘導体、スチルベン誘導体、トリフェニ
ルジアミン誘導体等からなる。このうち、トリフェニル
ジアミン誘導体が好ましく、中でも4,4’−ビス(N
(3−メチルフェニル)−N−フェニルアミノ)ビフェ
ニルが好適とされる。
O:Indium Tin Oxide)等からなる透明電極であって光
を透過可能である。正孔輸送層306は、例えば、トリ
フェニルアミン誘導体(TPD)、ピラゾリン誘導体、
アリールアミン誘導体、スチルベン誘導体、トリフェニ
ルジアミン誘導体等からなる。このうち、トリフェニル
ジアミン誘導体が好ましく、中でも4,4’−ビス(N
(3−メチルフェニル)−N−フェニルアミノ)ビフェ
ニルが好適とされる。
【0056】なお、正孔輸送層に代えて正孔注入層を形
成するようにしてもよく、さらに正孔注入層と正孔輸送
層を両方形成するようにしてもよい。その場合、正孔注
入層の形成材料としては、例えば銅フタロシアニン(C
uPc)や、ポリテトラヒドロチオフェニルフェニレン
であるポリフェニレンビニレン、1,1−ビス−(4−
N,N−ジトリルアミノフェニル)シクロヘキサン、ト
リス(8−ヒドロキシキノリノール)アルミニウム等が
挙げられるが、特に銅フタロシアニン(CuPc)を用
いるのが好ましい。
成するようにしてもよく、さらに正孔注入層と正孔輸送
層を両方形成するようにしてもよい。その場合、正孔注
入層の形成材料としては、例えば銅フタロシアニン(C
uPc)や、ポリテトラヒドロチオフェニルフェニレン
であるポリフェニレンビニレン、1,1−ビス−(4−
N,N−ジトリルアミノフェニル)シクロヘキサン、ト
リス(8−ヒドロキシキノリノール)アルミニウム等が
挙げられるが、特に銅フタロシアニン(CuPc)を用
いるのが好ましい。
【0057】発光層305の形成材料としては、低分子
の有機発光色素や高分子発光体、すなわち各種の蛍光物
質や燐光物質などの発光物質、Alq3(アルミキレー
ト錯体)などの有機エレクトロルミネッセンス材料が使
用可能である。発光物質となる共役系高分子の中ではア
リーレンビニレン又はポリフルオレン構造を含むものな
どが特に好ましい。低分子発光体では、例えばナフタレ
ン誘導体、アントラセン誘導体、ペリレン誘導体、ポリ
メチン系、キサテン系、クマリン系、シアニン系などの
色素類、8−ヒドロキノリンおよびその誘導体の金属錯
体、芳香族アミン、テトラフェニルシクロペンタジエン
誘導体等、または特開昭57−51781、同59−1
94393号公報等に記載されている公知のものが使用
可能である。陰極7はアルミニウム(Al)やマグネシ
ウム(Mg)、金(Au)、銀(Ag)等からなる金属
電極である。
の有機発光色素や高分子発光体、すなわち各種の蛍光物
質や燐光物質などの発光物質、Alq3(アルミキレー
ト錯体)などの有機エレクトロルミネッセンス材料が使
用可能である。発光物質となる共役系高分子の中ではア
リーレンビニレン又はポリフルオレン構造を含むものな
どが特に好ましい。低分子発光体では、例えばナフタレ
ン誘導体、アントラセン誘導体、ペリレン誘導体、ポリ
メチン系、キサテン系、クマリン系、シアニン系などの
色素類、8−ヒドロキノリンおよびその誘導体の金属錯
体、芳香族アミン、テトラフェニルシクロペンタジエン
誘導体等、または特開昭57−51781、同59−1
94393号公報等に記載されている公知のものが使用
可能である。陰極7はアルミニウム(Al)やマグネシ
ウム(Mg)、金(Au)、銀(Ag)等からなる金属
電極である。
【0058】なお、陰極307と発光層305との間
に、電子輸送層や電子注入層を設けることができる。電
子輸送層の形成材料としては、特に限定されることな
く、オキサジアゾール誘導体、アントラキノジメタンお
よびその誘導体、ベンゾキノンおよびその誘導体、ナフ
トキノンおよびその誘導体、アントラキノンおよびその
誘導体、テトラシアノアンスラキノジメタンおよびその
誘導体、フルオレノン誘導体、ジフェニルジシアノエチ
レンおよびその誘導体、ジフェノキノン誘導体、8−ヒ
ドロキシキノリンおよびその誘導体の金属錯体等が例示
される。
に、電子輸送層や電子注入層を設けることができる。電
子輸送層の形成材料としては、特に限定されることな
く、オキサジアゾール誘導体、アントラキノジメタンお
よびその誘導体、ベンゾキノンおよびその誘導体、ナフ
トキノンおよびその誘導体、アントラキノンおよびその
誘導体、テトラシアノアンスラキノジメタンおよびその
誘導体、フルオレノン誘導体、ジフェニルジシアノエチ
レンおよびその誘導体、ジフェノキノン誘導体、8−ヒ
ドロキシキノリンおよびその誘導体の金属錯体等が例示
される。
【0059】封止層304は、基板302側の外部から
電極307,308を含む有機EL材料309に対して
大気が侵入するのを遮断するものであって、膜厚や材料
を適宜選択することにより光を透過可能となっている。
封止層304を構成する材料としては、例えばセラミッ
クや窒化珪素、酸化窒化珪素、酸化珪素などの透明な材
料が用いられ、中でも酸化窒化珪素が透明性、ガスバリ
ア性の観点から好ましい。なお、封止層304の厚さは
発光層305から射出される光の波長より小さくなるよ
うに設定されるこのが好ましい(例えば0.1μm)。
電極307,308を含む有機EL材料309に対して
大気が侵入するのを遮断するものであって、膜厚や材料
を適宜選択することにより光を透過可能となっている。
封止層304を構成する材料としては、例えばセラミッ
クや窒化珪素、酸化窒化珪素、酸化珪素などの透明な材
料が用いられ、中でも酸化窒化珪素が透明性、ガスバリ
ア性の観点から好ましい。なお、封止層304の厚さは
発光層305から射出される光の波長より小さくなるよ
うに設定されるこのが好ましい(例えば0.1μm)。
【0060】図示しないが、この有機EL素子301は
アクティブマトリクス型であり、実際には複数のデータ
線と複数の走査線とが格子状に配置され、これらデータ
線や走査線に区画されたマトリクス状に配置された各画
素毎に、スイッチングトランジスタやドライビングトラ
ンジスタ等の駆動用TFTを介して上記の有機EL材料
309が接続されている。そして、データ線や走査線を
介して駆動信号が供給されると電極間に電流が流れ、有
機EL材料309の発光層305が発光して基板302
の外面側に光が射出され、その画素が点灯する。
アクティブマトリクス型であり、実際には複数のデータ
線と複数の走査線とが格子状に配置され、これらデータ
線や走査線に区画されたマトリクス状に配置された各画
素毎に、スイッチングトランジスタやドライビングトラ
ンジスタ等の駆動用TFTを介して上記の有機EL材料
309が接続されている。そして、データ線や走査線を
介して駆動信号が供給されると電極間に電流が流れ、有
機EL材料309の発光層305が発光して基板302
の外面側に光が射出され、その画素が点灯する。
【0061】また、有機EL素子301のうち、有機E
L材料309を挟んで封止層304と反対側の表面に
も、電極307,308を含む有機EL材料309に対
して大気が侵入するのを遮断する封止部材310が形成
されている。
L材料309を挟んで封止層304と反対側の表面に
も、電極307,308を含む有機EL材料309に対
して大気が侵入するのを遮断する封止部材310が形成
されている。
【0062】以上説明した有機EL素子301の各材料
層305,306などの形成材料を所定の溶媒でインク
化し、このインクをタンク80に収容した後、チャンバ
82内に収容し、脱気処理を行うことにより、ノズル抜
けなどの不具合の発生を防止しつつ精度良く有機EL装
置を製造できる。
層305,306などの形成材料を所定の溶媒でインク
化し、このインクをタンク80に収容した後、チャンバ
82内に収容し、脱気処理を行うことにより、ノズル抜
けなどの不具合の発生を防止しつつ精度良く有機EL装
置を製造できる。
【0063】ここで、上記有機エレクトロルミネッセン
ス材料をインク化する際の溶媒としては、インクジェッ
トヘッドのノズル近傍で容易に乾燥して材料組成が変わ
るのを防ぐために、沸点の高い溶媒、例えば沸点が15
0℃以上の溶媒を用いることが好ましい。
ス材料をインク化する際の溶媒としては、インクジェッ
トヘッドのノズル近傍で容易に乾燥して材料組成が変わ
るのを防ぐために、沸点の高い溶媒、例えば沸点が15
0℃以上の溶媒を用いることが好ましい。
【0064】上記有機EL装置を備えた電子機器の例に
ついて説明する。図6は、携帯電話の一例を示した斜視
図である。図6において、符号1000は携帯電話本体
を示し、符号1001は上記の有機EL表示装置を用い
た表示部を示している。
ついて説明する。図6は、携帯電話の一例を示した斜視
図である。図6において、符号1000は携帯電話本体
を示し、符号1001は上記の有機EL表示装置を用い
た表示部を示している。
【0065】図7は、腕時計型電子機器の一例を示した
斜視図である。図7において、符号1100は時計本体
を示し、符号1101は上記の有機EL表示装置を用い
た表示部を示している。
斜視図である。図7において、符号1100は時計本体
を示し、符号1101は上記の有機EL表示装置を用い
た表示部を示している。
【0066】図8は、ワープロ、パソコンなどの携帯型
情報処理装置の一例を示した斜視図である。図8におい
て、符号1200は情報処理装置、符号1202はキー
ボードなどの入力部、符号1204は情報処理装置本
体、符号1206は上記の有機EL表示装置を用いた表
示部を示している。
情報処理装置の一例を示した斜視図である。図8におい
て、符号1200は情報処理装置、符号1202はキー
ボードなどの入力部、符号1204は情報処理装置本
体、符号1206は上記の有機EL表示装置を用いた表
示部を示している。
【0067】図6〜図8に示す電子機器は、上記実施の
形態の有機EL表示装置を備えているので、表示品位に
優れ、明るい画面の有機EL表示部を備えた電子機器を
実現することができる。
形態の有機EL表示装置を備えているので、表示品位に
優れ、明るい画面の有機EL表示部を備えた電子機器を
実現することができる。
【0068】次に、脱気処理の効果を確認するための実
験及び結果について説明する。実験では、180個×2
列で配列されたノズルを有するインクジェットヘッドか
ら基板に対してインク滴を吐出するに際し、脱気条件を
変更した場合の基板上におけるインク滴の抜け(ノズル
抜け)を評価した。
験及び結果について説明する。実験では、180個×2
列で配列されたノズルを有するインクジェットヘッドか
ら基板に対してインク滴を吐出するに際し、脱気条件を
変更した場合の基板上におけるインク滴の抜け(ノズル
抜け)を評価した。
【0069】使用したインクは、有機エレクトロルミネ
ッセンス材料のうちパラフェニレンビニレン誘導体であ
る以下の化合物1、2、3を混合したものを、溶媒(テ
トラメチルベンゼン(50%)+イソプロピルビフェニ
ル(50%))でインク化したものである。濃度は、
1.0wt/wt%に設定した。
ッセンス材料のうちパラフェニレンビニレン誘導体であ
る以下の化合物1、2、3を混合したものを、溶媒(テ
トラメチルベンゼン(50%)+イソプロピルビフェニ
ル(50%))でインク化したものである。濃度は、
1.0wt/wt%に設定した。
【0070】
【化1】
【0071】
【化2】
【0072】
【化3】
【0073】図9に実験結果を示す。脱気条件をNo.
1〜No.7のそれぞれに設定し、このときのノズル抜
けを評価した。ここで、「真空到達度」とは、脱気装置
としての真空ポンプでチャンバ内を減圧した際の圧力値
であり、単位は「Pa」である。そして、インク中に沸
騰石を配置したかどうかの違いも評価した。
1〜No.7のそれぞれに設定し、このときのノズル抜
けを評価した。ここで、「真空到達度」とは、脱気装置
としての真空ポンプでチャンバ内を減圧した際の圧力値
であり、単位は「Pa」である。そして、インク中に沸
騰石を配置したかどうかの違いも評価した。
【0074】そして、各脱気条件で基板に対してそれぞ
れ10回ずつ吐出動作を行い、それぞれのノズル抜け数
を数え、これの平均値を求めた。つまり、「ノズル抜け
数」の数値が大きいということは、インク中の気泡やイ
ンジェットヘッドに滞留するガスに起因して、インク滴
が基板に吐出されていないことを示す。
れ10回ずつ吐出動作を行い、それぞれのノズル抜け数
を数え、これの平均値を求めた。つまり、「ノズル抜け
数」の数値が大きいということは、インク中の気泡やイ
ンジェットヘッドに滞留するガスに起因して、インク滴
が基板に吐出されていないことを示す。
【0075】図9において、例えばNo.1〜No.5
から分かるように、真空ポンプによってチャンバ内の圧
力を十分に低下させたほうが、インクを十分に脱気で
き、ノズル抜け数が小さくなる。
から分かるように、真空ポンプによってチャンバ内の圧
力を十分に低下させたほうが、インクを十分に脱気で
き、ノズル抜け数が小さくなる。
【0076】また、No.1とNo.6、あるいはN
o.3とNo.7とから分かるように、インク中に沸騰
石を配置したほうが、インクを効果的に脱気でき、ノズ
ル抜け数が小さくなる。
o.3とNo.7とから分かるように、インク中に沸騰
石を配置したほうが、インクを効果的に脱気でき、ノズ
ル抜け数が小さくなる。
【0077】
【発明の効果】以上説明したように、液滴吐出ヘッドを
用いてデバイスあるは有機エレクトロルミネッセンス装
置を製造する際、吐出動作の前にインクの脱気処理を予
め行っておくことにより、インク中に存在する気泡に起
因するノズル抜けの発生を防止することができる。した
がって、安定した吐出動作を実現できるので、所望の性
能を有するデバイスあるいは有機エレクトロルミネッセ
ンス装置を製造することができる。
用いてデバイスあるは有機エレクトロルミネッセンス装
置を製造する際、吐出動作の前にインクの脱気処理を予
め行っておくことにより、インク中に存在する気泡に起
因するノズル抜けの発生を防止することができる。した
がって、安定した吐出動作を実現できるので、所望の性
能を有するデバイスあるいは有機エレクトロルミネッセ
ンス装置を製造することができる。
【図1】本発明のデバイス製造装置の一実施形態を示す
概略斜視図である。
概略斜視図である。
【図2】インクジェットヘッドの分解斜視図である。
【図3】インクジェットヘッドの主要部の斜視図一部断
面図である。
面図である。
【図4】脱気装置近傍の拡大斜視図である。
【図5】有機EL装置を示す概略断面図である。
【図6】有機EL装置が搭載された電子機器を示す図で
ある。
ある。
【図7】有機EL装置が搭載された電子機器を示す図で
ある。
ある。
【図8】有機EL装置が搭載された電子機器を示す図で
ある。
ある。
【図9】本発明のデバイスの製造方法の効果を確認する
ための実験結果を示す図である。
ための実験結果を示す図である。
20 インクジェットヘッド(液滴吐出ヘッド)
80 タンク
81 パイプ(流路)
82 チャンバ
83 真空ポンプ(脱気装置)
86 沸騰石(多孔質無機材料)
85 不活性ガス供給装置
CONT 制御装置
IJ インクジェット装置(液滴吐出装置、製造装
置) P 基板
置) P 基板
Claims (14)
- 【請求項1】 基板に対して液滴吐出ヘッドより液体材
料を吐出する工程を有するデバイスの製造方法におい
て、 前記液滴吐出ヘッドに供給する液体材料をタンクに収容
し、 前記タンクをチャンバ内に設け、該チャンバ内を大気圧
より減圧することにより前記液体材料中に含まれている
ガスを除いてから、該液体材料を前記液滴吐出ヘッドに
供給し、前記吐出を行うことを特徴とするデバイスの製
造方法。 - 【請求項2】 前記タンク内に多孔質無機材料を設け、
前記減圧することを特徴とする請求項1記載のデバイス
の製造方法。 - 【請求項3】 前記チャンバ内を、前記液体材料に対し
て不活性なガスで満たすことを特徴とする請求項1又は
2記載のデバイスの製造方法。 - 【請求項4】 前記基板に対して有機エレクトロルミネ
ッセンス装置形成用材料を吐出することを特徴とする請
求項1〜3のいずれか一項記載のデバイスの製造方法。 - 【請求項5】 基板に対して液体材料を吐出可能な液滴
吐出ヘッドを有するデバイスの製造装置において、 前記液滴吐出ヘッドに流路を介して接続可能に設けら
れ、前記液体材料を収容するタンクと、 前記タンクを収容するチャンバと、 前記チャンバ内を大気圧より減圧することにより、前記
タンクに収容されている前記液体材料中に含まれている
ガスを除く脱気装置とを備えることを特徴とするデバイ
スの製造装置。 - 【請求項6】 前記タンク内には多孔質無機材料が設け
られていることを特徴とする請求項5記載のデバイスの
製造装置。 - 【請求項7】 前記チャンバ内に、前記液体材料に対し
て不活性なガスを供給する不活性ガス供給装置を備える
ことを特徴とする請求項5又は6記載のデバイスの製造
装置。 - 【請求項8】 前記タンクは、有機エレクトロルミネッ
センス装置形成用材料を収容することを特徴とする請求
項5〜7のいずれか一項記載のデバイスの製造装置。 - 【請求項9】 基板に対して液滴吐出ヘッドより有機エ
レクトロルミネッセンス材料を含む液体材料を吐出する
工程を有する有機エレクトロルミネッセンス装置の製造
方法において、 前記吐出する前に、前記液体材料中に含まれているガス
を除く脱気工程を有することを特徴とする有機エレクト
ロルミネッセンス装置の製造方法。 - 【請求項10】 基板に対して有機エレクトロルミネッ
センス材料を含む液体材料を吐出可能な液滴吐出ヘッド
を有する有機エレクトロルミネッセンス装置の製造装置
において、 前記液体材料中に含まれているガスを除く脱気装置を備
えることを特徴とする有機エレクトロルミネッセンス装
置の製造装置。 - 【請求項11】 請求項5〜請求項8のいずれか一項記
載のデバイスの製造装置で製造されたことを特徴とする
デバイス。 - 【請求項12】 請求項10記載の有機エレクトロルミ
ネッセンス装置の製造装置で製造されたことを特徴とす
る有機エレクトロルミネッセンス装置。 - 【請求項13】 請求項11記載のデバイスを備えた
ことを特徴とする電子機器。 - 【請求項14】 請求項12記載の有機エレクトロル
ミネッセンス装置を備えたことを特徴とする電子機器。
Priority Applications (1)
Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
---|---|---|---|
JP2002079525A JP2003282246A (ja) | 2002-03-20 | 2002-03-20 | デバイスの製造方法及び製造装置、有機エレクトロルミネッセンス装置の製造方法及び製造装置、デバイス及び有機エレクトロルミネッセンス装置、電子機器 |
Applications Claiming Priority (1)
Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
---|---|---|---|
JP2002079525A JP2003282246A (ja) | 2002-03-20 | 2002-03-20 | デバイスの製造方法及び製造装置、有機エレクトロルミネッセンス装置の製造方法及び製造装置、デバイス及び有機エレクトロルミネッセンス装置、電子機器 |
Publications (1)
Publication Number | Publication Date |
---|---|
JP2003282246A true JP2003282246A (ja) | 2003-10-03 |
Family
ID=29228966
Family Applications (1)
Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
---|---|---|---|
JP2002079525A Withdrawn JP2003282246A (ja) | 2002-03-20 | 2002-03-20 | デバイスの製造方法及び製造装置、有機エレクトロルミネッセンス装置の製造方法及び製造装置、デバイス及び有機エレクトロルミネッセンス装置、電子機器 |
Country Status (1)
Country | Link |
---|---|
JP (1) | JP2003282246A (ja) |
Cited By (3)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
KR100824883B1 (ko) | 2006-06-09 | 2008-04-23 | 다이니폰 스크린 세이조우 가부시키가이샤 | 도포 장치 및 도포 방법 |
WO2016002168A1 (ja) * | 2014-06-30 | 2016-01-07 | 株式会社Joled | インクの成分管理方法、これを適用したインクジェットシステム、及び、インクジェットシステムを用いて有機el表示装置を製造する製造方法 |
US10547027B2 (en) | 2017-10-06 | 2020-01-28 | Joled Inc. | Organic EL display panel manufacturing method and sealing layer forming device |
-
2002
- 2002-03-20 JP JP2002079525A patent/JP2003282246A/ja not_active Withdrawn
Cited By (4)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
KR100824883B1 (ko) | 2006-06-09 | 2008-04-23 | 다이니폰 스크린 세이조우 가부시키가이샤 | 도포 장치 및 도포 방법 |
WO2016002168A1 (ja) * | 2014-06-30 | 2016-01-07 | 株式会社Joled | インクの成分管理方法、これを適用したインクジェットシステム、及び、インクジェットシステムを用いて有機el表示装置を製造する製造方法 |
JPWO2016002168A1 (ja) * | 2014-06-30 | 2017-04-27 | 株式会社Joled | インクの成分管理方法、これを適用したインクジェットシステム、及び、インクジェットシステムを用いて有機el表示装置を製造する製造方法 |
US10547027B2 (en) | 2017-10-06 | 2020-01-28 | Joled Inc. | Organic EL display panel manufacturing method and sealing layer forming device |
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