JP2003275576A - 紫外線照射装置 - Google Patents
紫外線照射装置Info
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Abstract
る紫外線の強度を容易に測定することができる紫外線照
射装置を提供すること。 【解決手段】 本発明の紫外線照射装置は、エキシマラ
ンプを収納し、このエキシマランプからの紫外線を照射
する光照射窓を有してなるランプハウスと、前記光照射
窓に沿って伸びる搬送路により、被処理物を搬送するた
めの搬送機構と、前記搬送路に関して前記ランプハウス
と反対側の領域に配置された、光照射窓よりの紫外線の
強度を検出するための紫外線モニタと、この紫外線モニ
タを、搬送路を越えて前記光照射窓に接近する方向に移
動させる移動機構とよりなることを特徴とする。この紫
外線照射装置は、前記搬送機構による搬送路上における
被処理物が存在しないことを検知する検知手段を備える
ことが好ましい。
Description
りの紫外線を被処理物に照射するための紫外線照射装置
に関する。
照射による洗浄工程、または光化学反応における紫外線
の照射工程などにおいては、エキシマ光として紫外線を
放射するエキシマランプを有してなる紫外線照射装置が
用いられている。
例えば図4に示すように、複数の棒状のエキシマランプ
42を並んだ状態で収納し、このエキシマランプ42か
ら放射される紫外線を外部に照射する光照射窓43を有
してなるランプハウス41の下方に、前記光照射窓43
に沿って伸びる搬送路Pを形成する搬送ローラ44によ
り、被処理物45を搬送する搬送機構が設けられてい
る。46は、この搬送機構の下方に設けられた処理室で
ある。
る、例えば波長が200nm以下のいわゆる真空紫外線
は、大気中の酸素により吸収されてしまうため、紫外線
照射装置40において、搬送路Pは、光照射窓43に近
接した状態で形成されており、通常、搬送路Pは、光照
射窓43までの距離Gが1〜5mmとなる態様で形成さ
れている。
は、被処理物45に対して、一定の強度で紫外線を照射
することが要求されることから、例えば当該紫外線照射
装置40の駆動開始時、または紫外線照射処理の終了時
などの適宜の時に、被処理物45に実際に照射される紫
外線の強度を測定し、この測定結果に応じて、エキシマ
ランプ42から放射される紫外線の強度を制御すること
が行われている。
は、空気中の酸素による影響を排除するために、光照射
窓43に紫外線検出器の受光部を近接または密接させた
状態で行う必要があり、このため、例えば図5に示すよ
うに、ランプハウス41の一端側を上方に持ち上げて変
移させ、これにより光照射窓43の下方に紫外線モニタ
47を進入させることのできる空間Sを形成し、この状
態で、紫外線モニタ47を光照射窓43に接近または密
着させて、紫外線の強度の測定が行われる。これは、紫
外線モニタ47は、相当の体積を有するものだからであ
る。
うな方法では、ランプハウスを変移させて光照射窓の下
方に空間Sを形成する操作が必要であり、しかも、ラン
プハウスを持ち上げた状態でエキシマランプを点灯状態
とすることから、当該紫外線照射装置の周囲に紫外線が
放射されることになり、作業員などに対する配慮が必要
となる、という問題があった。
エキシマランプを収納したランプハウスにおける光照射
窓から放射される紫外線の強度を容易に測定することが
できる紫外線照射装置を提供することを目的とする。
は、紫外線を放射するエキシマランプを収納し、このエ
キシマランプからの紫外線を外部に照射する光照射窓を
有してなるランプハウスと、前記光照射窓に沿って伸び
る搬送路により、被処理物を搬送するための搬送機構
と、前記搬送路に関して前記ランプハウスと反対側の領
域に配置された、前記ランプハウスの光照射窓よりの紫
外線の強度を検出するための紫外線モニタと、この紫外
線モニタを、前記搬送機構による搬送路を越えて前記ラ
ンプハウスの光照射窓に接近する方向に移動させる移動
機構とよりなることを特徴とする。また、紫外線照射装
置は、前記搬送機構による搬送路上における被処理物が
存在しないことを検知する検知手段を備えることが好ま
しい。
タを、搬送路を越えて移動させることにより、ランプハ
ウスの光照射窓に接近させることができるため、当該ラ
ンプハウスを変移させることなく、従って、容易に光照
射窓からの紫外線の強度を測定することができる。
する。図1は、本発明の一実施例に係る紫外線照射装置
の構成を示す説明用断面図、図2は、図1の紫外線照射
装置において紫外線モニタが測定位置にある状態を示す
説明用断面図である。この紫外線照射装置10は、例え
ば石英ガラスよりなる光照射窓13が下面に設けられた
ランプハウス11と、このランプハウス11の下方にお
いて、光照射窓13に沿って伸びる搬送路Pによって、
例えば板状の被処理物20を搬送する搬送機構と、この
搬送機構の下方に設けられた、上面が開放された処理室
19とにより構成されている。
(図1の例においては5本)の棒状のエキシマランプ1
2が、例えばその管軸が搬送路Pの方向と垂直方向に伸
びるよう配設されて収納されており、このエキシマラン
プ12の上方には、エキシマランプ12から放射される
紫外線を反射する反射ミラー(図示せず)が設けられて
いる。また、ランプハウス11の内部には、例えば窒素
などの不活性ガスが連続して流入されて充填または、充
満されている。このエキシマランプ12としては、例え
ば主に波長が200nm以下の真空紫外線を放射する誘
電体バリア放電エキシマランプが用いられる。
の下方に配設された複数の搬送ローラ14により構成さ
れており、これらの搬送ローラ14により、光照射窓1
3に接近したレベルにおいて平行に伸びる搬送路Pが形
成されている。
る紫外線を遮蔽する作用を有するものであり、その内部
には、紫外線モニタ15が、搬送路Pに関してランプハ
ウス11と反対側の領域であって、互いに隣接する2つ
の搬送ローラ14の中間位置に配設されている。この紫
外線モニタ15は、全体が円筒状であって、その最上面
に受光部151が形成されており、この受光部151
が、搬送路Pを介して光照射窓13と対向した状態で配
設されている。また、紫外線モニタ15は、その下端部
において、コイルスプリングよりなる緩衝部材152を
介して支持台161に支持されており、この支持台16
1は、エアシリンダーよりなる昇降機構16により上下
方向に移動される構成とされている。
全体が、搬送路Pのレベルより下方において当該搬送路
Pに干渉しない「退避位置」と、昇降機構16の昇降動
作により搬送路Pのレベルから上方に越えて上昇し、受
光部151が光照射窓13に近接した「測定位置」との
間で移動自在とされている。
に制限されるものではなく、例えば紫外線を蛍光体によ
り可視光に変換し、当該可視光の検知を行うものなどを
利用することができる。このような紫外線検出器として
は、具体的には特開平8−136339号公報、特開平
9−210771号公報に開示されたもの、または、不
活性ガスを利用することにより、種々の紫外線吸収ガス
に起因した紫外線の吸収による影響を低減させた状態で
検知を行う、例えば特開平8−233650号公報に開
示された紫外線検出器などを利用することができる。
口側(図において左側)には、ランプハウス11に隣接
して入口側被処理物センサ17が配設されており、ま
た、搬送路Pにおける被処理物20の出口側には、ラン
プハウス11に隣接して出口側被処理物センサ18が配
設されている。これらの入口側被処理物センサ17およ
び出口側被処理物センサ18は、被処理物20を検知す
る検知手段であって、それらの間の搬送路P上に被処理
物20が存在しないことを確認するためのものである。
位置にある紫外線モニタ15は、その受光部151が光
照射窓13に密着する状態であることが好ましい。測定
位置において、受光部151が光照射窓13に密着する
状態であることにより、正確な測定を行うことができ
る。
が、光照射窓13から例えば少なくとも100mm以上
離間した位置であることが好ましく、特に100〜20
0mm離間した位置であることが好ましい。これによ
り、光照射窓13からの紫外線は、受光部151に到達
する前にその大部分が吸収されることとなるので、実質
上、当該退避位置にある紫外線モニタ15に紫外線が感
知されることがなく、従って、受光部151を紫外線か
ら保護する必要がない。
は、例えばその径が50〜80mmのものを挙げること
ができ、紫外線モニタ15が配設される相互に隣接した
2つの搬送ローラ14の間の離間距離dは、紫外線モニ
タ15が上下方向に移動するために十分な大きさ、例え
ば30mm以上、特に好ましくは30〜70mmとされ
る。
は、エキシマランプ12が点灯されると共に、紫外線モ
ニタ15が退避位置にある状態で搬送機構が駆動される
ことにより、被処理物20が搬送路Pに沿って搬送さ
れ、光照射窓13に対向する領域において、被処理物2
0に対して紫外線が照射されて所要の処理、例えば、液
晶表示パネルのガラスの紫外線照射による洗浄処理など
が行われる。
ては、入口側被処理物センサ17および出口側被処理物
センサ18よりなる検知手段により、両者間の搬送路P
上に被処理物20が存在しないことが確認され、その上
で、移動機構である昇降機構16が駆動されて紫外線モ
ニタ15が、搬送ローラ14の間に形成された間隙より
なる移動用空間を介して測定位置に到達し、受光部15
1が光照射窓13に密着するよう接触される。このと
き、紫外線モニタ15は光照射窓13に当接することと
なるが、紫外線モニタ15が緩衝材152を介して支持
台161に支持されているので、衝撃が緩和される。
線モニタ15によって、点灯状態にあるエキシマランプ
12より放射され、光照射窓13から照射される紫外線
の強度が測定される。そして、当該測定が終了した後に
は、昇降機構16を駆動させて紫外線モニタ15を降下
させて退避位置に移動させることにより、再び紫外線の
照射処理を開始することが可能である。以上において、
紫外線モニタ15の移動は、搬送ローラ14における回
転駆動状態が維持された状態で行われても、停止された
状態で行われてもよい。
モニタが、退避位置から上昇して搬送機構に形成された
空間を介して搬送路を上方に越えて、その先端部に形成
された受光部が、紫外線が照射される光照射窓に接近し
た測定位置に移動することにより、当該光照射窓から照
射される紫外線の強度を測定することができ、従って、
その変動に応じてエキシマランプに対する供給電力を調
整する手段などにより、被処理物に対して照射される紫
外線の強度を常に一定に維持することができる。
明したが、本発明は、上述の例に限定されるものではな
く、種々の変更を加えることができる。例えば図3
(a)および図3(b)に示すように、搬送機構は、複
数の支持ローラ32と、これらの支持ローラ32に支持
され、その上面において被処理物34を担持する、複数
の開口部31が搬送方向に並ぶよう形成された搬送ベル
ト30とにより構成することができる。
おいては、搬送機構を、開口部31が紫外線モニタ33
の直上位置となった状態で停止させ、紫外線モニタ33
を、当該開口部31を介して上方に突出するように移動
させることにより、測定位置に到達させることができ
る。
物が搬送される搬送路を越えて紫外線モニタが移動する
ことができる構成であればよく、搬送機構は、紫外線モ
ニタのそのような移動を許容する移動空間を有するも
の、あるいは必要に応じて移動空間が形成されるもので
あればよい。例えば、既述のように、複数の搬送ローラ
14により搬送機構が構成されている場合には、隣接す
る搬送ローラ間の間隙により移動空間が形成され、搬送
ベルト30により搬送機構が構成される場合には、その
開口部31により移動空間が形成される。また、開口部
を有していない搬送ベルトにより搬送機構が構成されて
いる場合であって、当該搬送ベルト自体が側方にシフト
することにより移動空間が形成される構成であってもよ
い。
としては、エアシリンダーを用いたものに限定されず、
例えばモータにより駆動されるものであってもよい。紫
外線モニタは、非測定時に受光部を紫外線から保護する
ためのシャッター機構が設けられた構成であってもよ
い。
線モニタを、移動機構により、搬送機構において形成さ
れた、開口部を形成する空間を介して搬送路を越えて移
動させることにより、ランプハウスの光照射窓に接近さ
せることができるため、当該ランプハウスを変移させる
ことなく、容易に光照射窓からの紫外線の強度を測定す
ることができる。
置の構成を示す説明用断面図である。
モニタが測定位置にある状態を示す説明用断面図であ
る。
一部を示す説明用断面図である。
路に垂直な断面で示す説明用断面図である。
紫外線の強度の測定を行っている状態を示す説明用断面
図である。
Claims (2)
- 【請求項1】 紫外線を放射するエキシマランプを収納
し、このエキシマランプからの紫外線を外部に照射する
光照射窓を有してなるランプハウスと、 前記光照射窓に沿って伸びる搬送路により、被処理物を
搬送するための搬送機構と、 前記搬送路に関して前記ランプハウスと反対側の領域に
配置された、前記ランプハウスの光照射窓よりの紫外線
の強度を検出するための紫外線モニタと、 この紫外線モニタを、前記搬送機構による搬送路を越え
て前記ランプハウスの光照射窓に接近する方向に移動さ
せる移動機構とよりなることを特徴とする紫外線照射装
置。 - 【請求項2】 前記搬送機構による搬送路上における被
処理物が存在しないことを検知する検知手段を備えるこ
とを特徴とする請求項1に記載の紫外線照射装置。
Priority Applications (1)
Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
---|---|---|---|
JP2002083667A JP2003275576A (ja) | 2002-03-25 | 2002-03-25 | 紫外線照射装置 |
Applications Claiming Priority (1)
Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
---|---|---|---|
JP2002083667A JP2003275576A (ja) | 2002-03-25 | 2002-03-25 | 紫外線照射装置 |
Publications (1)
Publication Number | Publication Date |
---|---|
JP2003275576A true JP2003275576A (ja) | 2003-09-30 |
Family
ID=29206925
Family Applications (1)
Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
---|---|---|---|
JP2002083667A Pending JP2003275576A (ja) | 2002-03-25 | 2002-03-25 | 紫外線照射装置 |
Country Status (1)
Country | Link |
---|---|
JP (1) | JP2003275576A (ja) |
Cited By (3)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
JP2010214294A (ja) * | 2009-03-17 | 2010-09-30 | Ushio Inc | 紫外線照射装置 |
JP2011112463A (ja) * | 2009-11-25 | 2011-06-09 | Ushio Inc | エキシマランプ装置 |
WO2013067715A1 (zh) * | 2011-11-09 | 2013-05-16 | 深圳市华星光电技术有限公司 | Tft-lcd制程中多层uv烘烤炉的uv照度的检测方法及用于实施该方法的取片组合装置 |
-
2002
- 2002-03-25 JP JP2002083667A patent/JP2003275576A/ja active Pending
Cited By (3)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
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JP2010214294A (ja) * | 2009-03-17 | 2010-09-30 | Ushio Inc | 紫外線照射装置 |
JP2011112463A (ja) * | 2009-11-25 | 2011-06-09 | Ushio Inc | エキシマランプ装置 |
WO2013067715A1 (zh) * | 2011-11-09 | 2013-05-16 | 深圳市华星光电技术有限公司 | Tft-lcd制程中多层uv烘烤炉的uv照度的检测方法及用于实施该方法的取片组合装置 |
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Legal Events
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A621 | Written request for application examination |
Effective date: 20040903 Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A621 |
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A977 | Report on retrieval |
Effective date: 20060515 Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A971007 |
|
A131 | Notification of reasons for refusal |
Effective date: 20060523 Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A131 |
|
A521 | Written amendment |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A523 Effective date: 20060721 |
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A02 | Decision of refusal |
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